KR880006217A - 치환된 아미노 메탄디포스폰산 - Google Patents
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Abstract
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (29)
- 일반식(I)의 헤테로 아릴아미노 메탄디포스폰산및 그의 염.상기식에서, R1은 헤테로 원자(들)로서 2내지 4개의 질소원자, 또는 1또는 2개의 질소원자 및 하나의 산소원자 또는 황원자를 함유하며, 비치환되거나, 저급알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐:저급알콕시:하이드록시:디-저급 알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 탄소-치환되고/되거나 저급 알킬:저급알킬, 저급 알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐-저급 알킬에 의해 질소-치환된, 임의로 벤조-또는 사이클로헥세노-융합된 5-원 헤테로 아릴 라디칼이고,R2는 수소 또는 저급 알킬이며, 단 R1이 알킬 및/또는 할로겐으로 임의 치환된 피라졸-3-일 또는 이속사졸-3-일 라디칼인 경우 R2는 수소가 아니다.
- R1이 탄소-비치환되거나, 저급 알킬: 저급 알콕시:저급 알킬, 저급 알콕시 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치한된 페닐:하이드록시:디-저급 알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 탄소-모노 또는 탄소-디 치환되고, 임의로 존재할 수 있는 치환가능한 질소원자가 비치환되거나 바람직하게는 저급 알킬:저급 알킬, 저급 알콕시 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치환된 페닐-저급알킬로 질소-모노 치환된 이미다졸일, 벤즈 이미다졸일, 2H-1,2,3- 또는 4H-1,2,4-트리아졸일, 테트라졸일, 옥사졸일, 벤즈옥사졸일, 옥사디아졸일, 티아졸일, 벤조티아졸일 또는 티아디아졸일 라이칼이며, R2는 수소 또는 저급알킬인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- R1은 비치환되거나, 저급알킬:저급알콕시:저급 알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치환된 페닐:하이드록시;디-저급 알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환된 이미다졸일, 벤즈이미다졸일, 2H-1,2,3- 또는 4H-1,2,4-트리아졸일, 테트라졸일, 옥사졸일, 벤즈옥사졸일, 옥사디아졸일, 티아졸일, 벤조티아졸일 또는 티아디아졸일 라디칼이며, R2는 수소 또는 저급 알킬인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- R1은 각각 비치환되거나 C1-C4알킬, 또는 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치환된 페닐 라디칼로 탄소-치환된 티아졸일 라디칼, 벤조티아졸-2-일 라디칼, 티아디아졸일 라디칼, 옥사졸일 라디칼 또는 벤즈 옥사졸-2-일 라디칼이거나:각각 비치환되거나 C1-C4-알킬, 또는 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및/또느 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치환된 페닐 라디칼로 탄소-치환되고/되거나 각각 C1-C4-알킬, 또는 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환되거나 비치환된 페닐-C1-C4-알킬 라디칼로 질소-치환된 이미다졸-2-일 라디칼 또는 벤즈 이미다졸-2-일 라디칼이고:R2는 수소인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- R1은 비치환되거나 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 페닐, 하이드록시, 디-C1-C4-알킬아미노, C1-C4-알킬티오 또는 원자번호가 35 이하인 할로겐으로 치환된 티아졸일 라디칼이고, R2는 수소인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- R1은 각각 비치환되거나 C1-C4-아킬, C1-C4-알콕시, 페닐, 하이드록시, 디-C1-C4-알킬아미노, C1-C4-알킬티오 또는 원자번호 35 이하인 할로겐으로 탄소-치환된 티아졸일 라디칼, 1-C1-C4-알킬이미다졸-2-일 또는 -4-일 라디칼, 페닐-C1-C4-아킬이미다졸-2-일 또는 -4-일 라디칼이고, R2는 수소인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- R1은 비치환되거나 C1-C4-알킬 또는 페닐로 모노-또는 디-치환된 티아졸-2-일 라디칼이거나, 또는 1-위치에서 각기 C1-C4-알킬 또는 페닐-C1-C4-알킬로 모노-치환되거나 비치환된 이미다졸-2-일 또는 벤즈 이미다졸-2-일 라디칼 이거나, 또는 비치환된 벤즈옥사졸-2-일 또는 벤조티아졸-2-일 라디칼이며, R2는 수소인 일반식(I)의 화합물 및 그의 염.
- 1-(티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(5-메틸-1,3,4-티아디아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(1,3,4-티아디아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(1-메틸이미다졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(옥사졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(3-페닐-1,2,4-티아디아졸-5-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(벤즈 이미다졸-2일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(벤조티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(벤즈옥사졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(4-메틸티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(5-메틸티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(5-페닐티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 1-(4-메틸티아졸-2-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 염.
- 일반식(I)의 화합물 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염을 통상적인 약제학적 보조제와 함께 함유하는 약제학적 제제.상기식에서, R1은 헤테로원자(들)로서 2내지 4개의 질소원자, 또느 1또는 2개의 질소원자 및 하나의 산소원자 또는 황원자를 함유하며, 비치환되거나, 저급알킬 저급알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐:저급알콕시:하이드록시:디-저급 알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 탄소-치환되고/되거나 저급알킬:저급알킬, 저급알콕시, 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비 치환된 페닐-저급 알킬에 의해 질소-치환된, 임의로 벤조-또는 사이클로헥세노-융합된 5-원 헤테로 아릴 라디칼이고, R2는 수소 또는 저급알킬이다.
- 제2,4,6,7,9,11 내지 14 및 17내지 20항중 어느 한 항에 따른 화합물과 통상적인 약제학적 보조제를 함유하는 약제학적 제제.
- 제3,5,8,10,15,16 및 22항중 어느 한 항에 따른 화합물과 통상적인 약제학적 보조제를 함유하는 약제학적 제제.
- 1-(이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(메틸-이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1.-디포스폰산, 1-(5-메틸이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(피라졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(4-메틸피라졸-3-일아미노)메탄 -1.1-디포스폰산 또는 1-(5-메틸피라졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염을 통상적인 약제학적 보조제와 함께 함유하는 약제학적 제제.
- a) 임의로 라디칼R1의 치환가능한 질소원자를 중간에 보호시킨 일반식(Ⅱ)의 화합물에서 그룹X를 유리 포스포노 그룹으로 전환시키거나, 또는 b) 임의로 라디칼R1의 치환가능한 질소 원자를 중간에 보호시킨 일반식(Ⅲ)의 화합물을 삼산화인 및 물과 차례로 반응시키고, 경우에 따라서 각각의 경우에, 생성된 화합물을 일반식(I)의 다른 화합물로 전환시키고/시키거나, 생성된 유리화합물을 염으로 전환시키거나, 생성된 염을 유리화합물 또는 다른 염으로 전환시킴을 특징으로 하여 일반식(I)의 헤테로 아릴아미노메탄 디포스폰산 및 그의 염을 제조하는 방법.상기식에서, R1은 헤테로 원자(들)로서 2내지 4의 질소원자, 또는 1또는 2의 질소원자 및 하나의 산소원자 또는 황원자르 함유하며,비치환되거나, 저급알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐:저급알콕시:하이드록시:디-저급 알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 탄소-치환되고/되거나, 저급알킬:또는 저급알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐-저급알킬로 질소-치환된, 임의로 벤조-또는 사이클로헥세노-융합된 5-원 헤테로 아릴 라디칼이고, R2는 수소 또는 저급알킬이나, 단 R1이 알킬 및/또는 할로겐으로 임의 치환된 피라졸-3-일 또는 이속사졸-3-일 라디칼인 경유, R2는 수소가 아니며:X1은 작용기가 변형된 포스포노 그룹X이고:X2는 포스포노 그룹이거나, 유사하게는 작용기가 변형된 포스포노 그룹X이다.
- 일반식(Ⅱ´)의 화합물에서, 그룹 X3를 유리 포스포노 그룹으로 전환시키고, 경우에 따라, 생성된 화합물을 일반식(I)의 다른 화합물로 전환시키고/전환시키거나 생성된 유리 화합물을 염으로 전환시키거나, 생성된 염을 유리화합물 또는 다른염으로 전환시킴을 특징으로 하여 일반식(I)의 헤테로 아릴아미노메탄디포스산 및 그의 염을 제조하는 방법.상기식에서, R1은 비치환되거나, 저급알킬:저급알킬, 저급알콕시, 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐:저급알콕시;하이드록시:디-저급알킬아미노:저급 알킬티오 및/또는 할로겐으로 모노-또는 디-치환된 이미다졸일, 벤즈이미다졸일, 2H-1,2,3-또는 4H-1,2,4-트리아졸일, 테트라졸일, 옥사졸일, 벤즈옥사졸일, 옥사디아졸일, 티아졸일, 벤조 티아졸일 또는 티아디아졸일 라디칼이고, R2는 수소 또는 저급알킬이며, X는 일반식-CH(X1)(X2)(Ⅱa)의 그룹이고, 여기에서, X1는 작용기가 변형된 포스포노 그룹 X3이며 X2는 포스포노이거나, 유사하게는 작용기가 변형된 프스포노 그룹X3이다.
- 제25항에 있어서, 실시예 3내지 10중 어느 하나에 설명한 방법.
- 제26항에 있어서, 실시예1,2및 10중 어느 하나에 설명한 방법.
- 일반식(I)의 화합물, 예를 들어 제1내지 20항중 어느 한 항에 따른 화합물 또는 1-(이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰사, 1-(4-메틸이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(5-메틸이속사졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(파라졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산, 1-(4-메틸피라졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 1-(5-메틸피라졸-3-일아미노)메탄-1.1-디포스폰산 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염과 통상적인 약제학적 보조제를 혼합함을 특징으로 하는 약제학적 제제의 제조방법.상기식에서, R1은 헤테로 원자(들)로서, 2내지 4개의 질소원자 또는 1또는 2개의 질소원자 및 하나의 산소 원자 또느 황원자를 함유하며 비치환되거나, 저급알킬:저급일킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐:저급 알콕시;하이드록시:디-저급알킬아미노:저급알킬티오 및/또는 할로겐으로 탄소-치환되고/되거나, 저급알킬:저급알킬, 저급알콕시 및/또는 할로겐으로 치환되거나 비치환된 페닐-저급알킬로 질소-치환된 임의로 벤조-또는 사이클로헥세노-융합된 5-원의 헤테로 아릴 라디칼이고, R2는 수소 또는 저급알킬이다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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