KR880002720A - 회전식 중량 충전장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는본 발명의 일시시예를 나타내는 단면도.
제2도는 제1도와 다른 부분에서의 단면도.
제3도는 원심력에 의하여 로바 바루형 중량계에 상방향의 분력이 가하여지는 것을 설명하는 원리도
Claims (9)
- 일방향으로 회전구동되는 회전체와, 수평방향으로 배설한 비임의 일단을 상기 회전체로 연결하여, 타단의 자유단에 용기를 지지하는 지지테이블을 연결한 로바바루형 중량계와, 상기 지지테이블의 상방에 배설되어서 그의 지지테이블 위에 공급되는 용기내에 충전물을 충전하는 충전밸브와, 상기 로바바루형 중량계로 부터의 계량신호를 입력하는 동시에 상기 충전밸브의 개폐를 제어하는 제어장치를 갖추어서, 본 제어장치에 의해 상기 로바바루형 계량계로 계산한 중량이 소정중량으로 되면 충전밸브를 폐쇄시키도록한 회전식 중량 충전장치에 있어서, 상기 회전체의 회전을 검출하는 회전검출기를 설치하여 그 검출신호를 상기 제어장치에 입력시켜 본 제어장치에 의해 상기 로바바루형 중량계로부터의 계량신호와 상기 검출기로부터의 검출신호에 의거하여 상기 로바바루형 중량계로 계량한 중량에서 상기 용기 및 충전물에 가하여지는 원심력에 의하여 생기는 상방향의 분력을 보정하여 진(眞)의 중량을 구하게하여 그의 진의 중량이 소정중량으로 되면 상기 충전밸브를 폐쇄시키는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 로바바루형 중량계로부터의 계량신호와 상기 회전 검출기로부터의 검출신호에 의거하여 진의 중량을 연산에 의하여 산출하는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 소정중량과 회전체의 여러가지의 회전수로부터 미리 보정치를 산출 기억하여두고, 로바바루형 중량계로부터의 검출중량에 그때의 회전수에 대응한 상기 보정치를 가산하여 진의 중량을 산출하는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치
- 제1항에 있어서, 상기 제어장치는 상기 소정중량과 회전체의 여러가지의 회전수로부터 미리 보정치를 산출하는 동시에 상기 소정중량으로부터 그의 산출한 보정치를 감산하여 소정중량에 대응하는 검출할 소정검출중량을 산출 기억하여두고, 로바바루형 중량계로부터의 검출신호가 그의 소정검출중량으로 되면 충전을 종료시키는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제어장치가 복수의 제어장치로 구성되어 있으며, 각 제어장치가 하나 또는 2 이상의 충전 밸브의 개폐를 제어하는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제어장치가 주제어장치와 각 로바바루형 중량계마다에 설치한 부제어장치로 구성되어 있으며, 각 부 제어장치가 각 로바바루형 중량계마다에 전용으로 중량에 대한 연산을 행하고, 주제어장치가 각부 제어장치로부터의 신호를 받아서 각 충전밸브의 개폐를 제어하는 것을 특징으로 하는 회전식중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 지지테이블을 회전체의 외부에 배설하는 동시에 상기 로바바루형 중량계를 회전체의 내부에 배설하여 지지테이블과 로바바루형 중량계를 회전체의 외주벽을 끼고 거의 수평방향으로 대향시켜, 또한 상기 외주벽에 뚫어 설치한 관통구멍내에 관통시킨 연결부재를 통하여 상기 지지테이블과 로바바루형 중량계를 연결한 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제7항에 있어서, 상기 로바바루형 중량계의 하방에 소형의 로바바루형 중량계가 배설되어, 이하방의 로바바루형 중량계는 수평방향으로 배설한 비임의 일단이 상기 회전체에 연결되어 타단의 자유단이 상방의 로바바루형 중량계에 연동되어, 이 하방의 로바바루형 중량계가 상방의 로바바루형 중량계에 연결한 상기지지테이블에 가하여주는 중량을 검출하는 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.
- 제1항에 있어서, 상기 회전체에 승강자유로이 설치한 승강부재와, 상기 회전체의 외부에 있어서 승강부재에 부착한 상기 충전밸브와, 이 충전밸브에 연동되어서 충전밸브를 개폐시키는 실린더 장치와 상기 승강부재를 승강시키는 승강기구를 갖추어, 상기 실린더 장치에 작동압력을 공급하는 공급통로를 상기 승강부재내에 형성하여 상기 회전체의 내부에 끌어넣어 그 회전체의 내부에 있어서의 상기 공급통로에 도관을 접속하여 또한 이 도관을 통하여 상기 공급통로를 압력원에 연통시킨 것을 특징으로 하는 회전식 중량충전장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61194151A JPH0798521B2 (ja) | 1986-08-20 | 1986-08-20 | 回転式重量充填装置 |
JP61-194151 | 1986-08-20 | ||
JP194151 | 1986-08-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR880002720A true KR880002720A (ko) | 1988-05-10 |
KR900004982B1 KR900004982B1 (ko) | 1990-07-16 |
Family
ID=16319764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870009117A KR900004982B1 (ko) | 1986-08-20 | 1987-08-20 | 회전식 중량 충전장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4832092A (ko) |
JP (1) | JPH0798521B2 (ko) |
KR (1) | KR900004982B1 (ko) |
DE (1) | DE3727866A1 (ko) |
FR (1) | FR2603017B1 (ko) |
GB (1) | GB2195779B (ko) |
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- 1987-08-07 US US07/083,572 patent/US4832092A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-12 GB GB8719067A patent/GB2195779B/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-14 US US07/085,157 patent/US4824546A/en not_active Ceased
- 1987-08-19 FR FR878711729A patent/FR2603017B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-20 DE DE19873727866 patent/DE3727866A1/de active Granted
- 1987-08-20 KR KR1019870009117A patent/KR900004982B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-04-23 US US07/690,541 patent/USRE34106E/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900004982B1 (ko) | 1990-07-16 |
US4824546A (en) | 1989-04-25 |
FR2603017A1 (fr) | 1988-02-26 |
DE3727866A1 (de) | 1988-02-25 |
JPS6355002A (ja) | 1988-03-09 |
USRE34106E (en) | 1992-10-20 |
DE3727866C2 (ko) | 1989-05-11 |
GB2195779B (en) | 1991-03-13 |
JPH0798521B2 (ja) | 1995-10-25 |
GB8719067D0 (en) | 1987-09-16 |
US4832092A (en) | 1989-05-23 |
FR2603017B1 (fr) | 1990-08-31 |
GB2195779A (en) | 1988-04-13 |
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G160 | Decision to publish patent application | ||
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