KR20240060025A - N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 - Google Patents
N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240060025A KR20240060025A KR1020220141218A KR20220141218A KR20240060025A KR 20240060025 A KR20240060025 A KR 20240060025A KR 1020220141218 A KR1020220141218 A KR 1020220141218A KR 20220141218 A KR20220141218 A KR 20220141218A KR 20240060025 A KR20240060025 A KR 20240060025A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- amide compound
- aryl amide
- aryl
- represented
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 118
- JEAMWPJHRQVNFY-UHFFFAOYSA-N dioxazolidin-4-one Chemical compound O=C1COON1 JEAMWPJHRQVNFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 107
- 150000001543 aryl boronic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 64
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 18
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 76
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 63
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 63
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 claims description 62
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 43
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 35
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 12
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 6
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical group ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 4
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 claims description 3
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 11
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 66
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 66
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 33
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 30
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 17
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 aryl boron Chemical compound 0.000 description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M nitrite group Chemical group N(=O)[O-] IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 4
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- SFJMFSWCBVEHBA-UHFFFAOYSA-M copper(i)-thiophene-2-carboxylate Chemical compound [Cu+].[O-]C(=O)C1=CC=CS1 SFJMFSWCBVEHBA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001499 aryl bromides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001503 aryl iodides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- FGTJJHCZWOVVNH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C(C)(C)C FGTJJHCZWOVVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006478 transmetalation reaction Methods 0.000 description 2
- FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzodioxole Chemical compound C1=CC=C2OCOC2=C1 FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQIBQILAMKZKFE-UHFFFAOYSA-N 2-(5-bromo-2-fluorophenyl)-3-fluoropyridine Chemical compound FC1=CC=C(Br)C=C1C1=NC=CC=C1F NQIBQILAMKZKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010499 C–H functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006644 Lossen rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000009815 homocoupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005897 peptide coupling reaction Methods 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/10—Preparation of carboxylic acid amides from compounds not provided for in groups C07C231/02 - C07C231/08
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/64—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/64—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C233/66—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C235/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
- C07C235/70—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C235/84—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D307/56—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D307/68—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D317/46—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
- C07D317/48—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
본 발명은 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 일면에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법은 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 포함하는 혼합용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다.
이러한 본 발명의 일면에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법은 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 포함하는 혼합용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다.
Description
본 발명은 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
치환된 아마이드(Substituted amide)는 중요한 구조적 모티프로 인지되어 왔고, 펩타이드(peptide), 약학(pharmaceuticals), 천연물(natural product), 기능성 물질(functional material) 및 고분자(polymer) 등에서 발견되고 있어 결과적으로 치환된 아마이드의 합성은 매우 중요한 과제로 여겨지고 있다.
일반적으로 치환된 아마이드는 펩타이드 커플링 에이전트(peptide coupling agent)를 이용한 아민과 카복실산의 축합반응을 통해 합성되었다. 그러나 이러한 합성방법은 많은 부산물을 발생시키고, 이로 인한 분리과정에서의 어려움을 발생시키는 단점이 있었다.
한편, 탄소-헤테로원자 결합(carbon-heteroatom bond)의 형성을 이끄는 전이금속에 대한 연구가 활발히 진행되고 있고, 아릴 브로마이드(aryl bromide)와 아릴 아이오다이드(aryl iodide)를 활용한 구리 염 탄소-질소 결합의 형성(Copper-catalyzed formation of the C-N bonds)이 널리 연구되어 왔다.
그러나 전술한 아릴 브로마이드와 아릴 아이오다이드를 활용한 구리 염 탄소-질소 결합의 형성은 아자이드와 같은 폭발성 기질(substrate)을 사용한다는 점에서 안전을 확보하기 어려운 문제가 있었다.
다이옥사졸론(Dioxazolone)은 다양한 친핵성물질과 반응하여 이소시아네이트로 쉽게 분해되는 것으로 알려져 있고, 금속 촉매를 이용한 탄소-수소 결합 활성화(C-H bond activation) 분야에서 상당한 이용가능성을 나타내는 것으로 알려져 있으나, 탄소-질소 결합 형성 반응에 대한 연구는 높은 독성을 가지고 비용이 비싼 귀금속 촉매를 이용하여야 함에 따라, 제한적으로 진행되고 있는 실정이다.
최근 구리 염하에서 다이옥사졸론을 이용한 N-아실 니트렌(N-Acyl Nitrene) 중간체를 경유하는 N-아실 아마이딘(N-acyl amidines)의 다성분 합성에 대한 연구가 보고되었다. 보고된 연구에 따르면 구리 염하에서 다이옥사졸론의 전환은 N-아실 니트렌이 구리 아세틸라이드 결합(Cu-Csp bond)에 삽입되어 N-아실 구리 니트렌 중간체 형성을 초래하였고, 추가적인 탈금속성수소화(protodemetalation)로 인해 N-알레닐 아마이드(N-allenyl amide)가 생성되었으며, 이차아민(secondary amine)의 첨가 후 원하는 구조의 N-아실 아미딘이 얻어진 것으로 확인되었다.
본 발명의 발명자들은 치환된 아마이드의 합성에 대해 연구하던 중 구리 염 존재하에 다이옥사졸론의 전환에 의해 N-아실 구리 니트렌 중간체가 형성되는 반응으로부터 원하는 구조를 갖는 N-아릴 아마이드 화합물(N-Aryl amide)을 제조할 수 있을 것으로 예상하였고, 이에 연구와 실험을 거듭한 결과 간편하고 안전하게 N-아릴 아마이드 화합물을 합성하는 방법을 완성하였다.
본 발명의 목적은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 간편하고 안전하게 N-아릴 아마이드 화합물을 합성할 수 있도록 구리 염 존재하에 다이옥사졸론과 보론산을 이용한 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
전술한 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 일면에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법은 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 포함하는 혼합용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계;를 포함한다.
상기한 구성에 의한 본 발명의 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 및 이로부터 제조된 N-아릴 아마이드 화합물은 아자이드와 같은 폭발성 기질(substrate)을 사용하지 않고, 부산물의 생성을 감소시키면서 상온에서 안전하고 간편하게 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하여 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 다른 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 N-아릴 아마이드 화합물 및 그 제조방법을 설명하도록 한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물은 본 발명의 다른 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법으로 제조되는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법은 제조단계(S100)를 포함할 수 있다
다이옥사졸론(Dioxazolone), 아릴 보론산(aryl boronic acid), 구리 염(copper salt) 및 용매를 포함하는 혼합용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물(N-aryl amide) 화합물을 제조한다(S100).
제조단계(S100)에서 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 사용되는 다이옥사졸론은 아릴 보론산과 반응하여 N-아릴 아마이드 화합물을 생성하는 것일 수 있고, 아래 화학식 1로 나타내는 것일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 3인 알콕시기(alkoxy group), 탄소수가 1 내지 4인 알킬기(alkyl group), 할로겐기(halogen group), 아질산기(nitrite group) 및 실릴에테르(sily ether) 중 적어도 하나가 결합된 페닐기(phenyl group)와, 헤테로 고리 방향족 탄화수소(heterocyclic aromatic hydrocarbon)와, 여러고리 방향족 탄화수소(polycyclic aromatic hydrocarbon)와, 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 결합된 알킬기와, 탄소수가 1 내지 3이고 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기 중 적어도 하나일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 3인 알콕시기가 결합된 페닐기일 수 있다. R1이 탄소수가 1 내지 3인 알콕시기가 결합된 페닐기인 경우 벤젠 고리에 결합되는 탄소수가 1 내지 3인 알콕시기는 C2NO3 고리와 파라(para) 또는 메타(meta)에 대응되는 위치에 결합될 수 있다. 바람직하게, 화학식 1에서 R1은 메톡시기가 벤젠 고리에 결합된 페닐기일 수 있다.
화학식 1에서 R1에서 페닐기에 알콕시기가 결합된 경우 결합된 알콕시기의 탄소수가 3을 초과하면 입체적 방해(steric hindrance)로 인해 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.
화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 4인 알킬기가 결합된 페닐기일 수 있고, R1이 탄소수가 1 내지 4인 알킬기가 결합된 페닐기인 경우 벤젠 고리에 결합되는 탄소수가 1 내지 4인 알킬기는 C2NO3 고리에 대해 오쏘(ortho), 메타(meta) 및 파라(para) 중 어느 하나에 대응되는 위치에 결합될 수 있다. 바람직하게, 화학식 1에서 R1은 메틸기, tert-뷰틸기 중 어느 하나가 벤젠 고리에 결합된 페닐기일 수 있다.
화학식 1에서 R1에서 페닐기에 알킬기가 결합된 경우 결합된 알킬기의 탄소수가 4를 초과하면 입체적 방해(steric hindrance)로 인해 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.
더욱 바람직하게, 화학식 1에서 R1은 메틸기, tert-뷰틸기 중 어느 하나가 벤젠 고리에 결합되되, C2NO3 고리에 대해 파라에 대응되는 위치에 결합된 것일 수 있고, 메틸기, tert-뷰틸기 중 어느 하나가 파라에 대응되는 위치에 결합되면 다이옥사졸론의 질소 원자가 입체적으로 혼잡한 환경(sterically congested enviorment)에 놓이지 않게 되어 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 더욱 원활하게 이루어질 수 있다.
화학식 1에서 R1은 할로겐기가 결합된 페닐기일 수 있고, 이때, 할로겐기는 플루오린, 클로린, 브로민 및 아이오딘 중 어느 하나일 수 있다. 화학식 1에서 R1이 할로겐기가 결합된 페닐기인 경우 할로겐기는 C2NO3 고리와 파라에 대응되는 위치에 결합될 수 있다. 바람직하게, 화학식 1에서 R1은 플루오린, 클로린 및 브로민 중 어느 하나가 벤젠 고리에 결합된 페닐기일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 실릴 에테르(sily ether)가 결합된 페닐기일 수 있다. 화학식 1에서 R1이 실릴 에테르가 결합된 페닐기인 경우 실릴 에테르기는 C2NO3 고리와 파라에 대응되는 위치에 결합될 수 있다. 바람직하게, 화학식 1에서 R1은 tert-뷰틸디메틸실릴 에테르(tert-Butyldimethylsilyl ether, TBSO)가 벤젠 고리에 결합된 페닐기일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 아질산기가 결합된 페닐기일 수 있고, 화학식 1에서 R1이 아질산기가 결합된 페닐기일 경우 아질산기는 C2NO3 고리에 대해 파라에 대응되는 위치에 결합될 수 있다.
화학식 1에서 R1은 헤테로 고리 방향족 탄화수소일 수 있고, 이때, 헤테로 고리 방향족 탄화수소는 1,3-벤조다이옥솔(1,3-Benzodioxole) 및 퓨란(furan) 중 어느 하나일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 여러고리 방향족 탄화수소일 수 있고, 이때, 여러고리 방향족 탄화수소는 벤젠과 나프탈렌 중 어느 하나일 수 있다.
화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 3이고, 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 결합된 알킬기일 수 있으며, 이때, 알킬기에 결합된 페닐기에는 플루오린, 클로린 및 브로민 중 어느 하나가 치환될 수 있고, 플루오린, 클로린 및 브로민 중 어느 하나가 치환된 경우 알킬기로부터 파라에 대응되는 위치에 치환될 수 있다.
화학식 1에서 R1은 화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 3이고, 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기일 수 있으며, 예를 들어, 화학식 1에서 R1은 알파에 대응되는 위치에 아다만틸기(adamantyl group)와, 적어도 하나의 메틸기 중 적어도 하나가 치환된 알킬기일 수 있다.
제조단계(S100)에서 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 사용되는 아릴 보론산은 다이옥사졸론과 반응하여 N-아릴 아마이드 화합물을 생성하는 것일 수 있고, 아래 화학식 2로 나타내는 것일 수 있고, N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 화학식 1로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 2로 나타내는 아릴 보론산을 이용하는 경우 제조되는 N-아릴 아마이드 화합물은 화학식 3으로 나타내는 것일 수 있다.
화학식 2 내지 3에서 X1과 X2 중 적어도 하나는 각각 수소, 할로겐기 및 실릴 에테르 중 어느 하나일 수 있고, 이때, 할로겐기는 플루오린일 수 있다. 화학식 2에서 X1과 X2 중 적어도 하나에 대응되는 실릴 에테르는 tert-뷰틸디메틸실릴 에테르일 수 있다.
화학식 3에서 R1은 화학식 1에서 R1과 서로 대응되는 것일 수 있다.
즉, 사용자의 필요에 따라 화학식 1로 나타내는 다이옥사졸론의 C2NO3 고리에 결합된 R1을 변경함에 따라, 원하는 구조를 갖는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있다. 또한, 화학식 2로 나타내는 아릴 보론산의 붕소에 결합된 페닐기의 X1과 X2를 변경함에 따라, 원하는 구조를 갖는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있다.
제조단계(S100)에서 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 사용되는 아릴 보론산은 아래 화학식 4로 나타내는 것일 수 있고, N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 화학식 1로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 4로 나타내는 아릴 보론산을 이용하는 경우 제조되는 N-아릴 아마이드 화합물은 화학식 5로 나타내는 것일 수 있다.
화학식 4 내지 5에서 R2와 R3은 탄소수가 1 내지 3인 알킬기일 수 있다.
화학식 5에서 R1은 화학식 1에서 R1과 서로 대응되는 것일 수 있다.
즉, 사용자의 필요에 따라 화학식 4로 나타내는 아릴 보론산의 붕소에 결합된 페닐기의 R2와 R3를 변경함에 따라, 원하는 구조를 갖는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있다.
제조단계(S100)에서 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 사용되는 아릴 보론산은 아래 화학식 6으로 나타내는 것일 수 있고, N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 화학식 1로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 6으로 나타내는 아릴 보론산을 이용하는 경우 제조되는 N-아릴 아마이드 화합물은 화학식 7로 나타내는 것일 수 있다.
화학식 6 내지 7에서 R4는 탄소수가 1 내지 3인 알킬기가 적어도 하나 치환된 실릴기일 수 있다.
화학식 7에서 R1은 화학식 1에서 R1과 서로 대응되는 것일 수 있다.
즉, 사용자의 필요에 따라 화학식 6으로 나타내는 아릴 보론산의 붕소에 결합된 페닐기의 R4를 변경함에 따라, 원하는 구조를 갖는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법은 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 사용되는 다이옥사졸론과 아릴 보론산의 종류를 사용자의 필요에 따라 변경함으로써, 사용자가 원하는 화학적 구조를 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있다.
제조단계(S100)는 혼합용액 제조단계(S110)와 합성단계(S120)를 포함할 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)는 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 포함하는 혼합용액을 제조하는 단계일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)는 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 혼합하여 혼합용액을 제조하는 단계일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 용매는 클로로벤젠, 클로로포름 및 디클로로에탄 중 적어도 하나일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 구리 염은 구리의 할로겐염일 수 있고, 예를 들어, 염화 제1구리(Copper(I) chloride), 염화 제2구리(Copper(II) chloride), 브롬화 구리(Copper(I) bromide) 및 요오드화 구리(Copper(I) iodide) 중 적어도 하나일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매와 함께 염기성 물질, 반응촉진제 및 황산염을 더 혼합하여 혼합용액을 제조할 수 있다.
즉, 혼합용액 제조단계(S110)는 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염, 용매, 염기성 물질, 반응촉진제 및 황산염을 혼합하여 혼합용액을 제조하는 단계일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 염기성 물질은 피리딘(pyridine)일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 반응촉진제는 세슘 플로라이드(cesium fluoride)와 포타슘 플로라이드(potassium fluoride) 중 적어도 하나일 수 있고, 바람직하게는 세슘 플로라이드일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 황산염은 황산나트륨(sodium sulfate)일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)는 다이옥사졸론 100 몰부, 아릴 보론산 200 내지 400 몰부, 구리 염 90 내지 110 몰부, 염기성 화합물 200 내지 500 몰부, 반응촉진제 300 내지 1000 몰부, 황산염 400 내지 500 몰부 및 용매를 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 사용되는 아릴 보론산은 혼합 용액 내에서 호모커플링(homocoupling)을 통해 서로 결합되어 디페닐 화합물(diphenyl compound)을 생성할 수 있고, 이에 따라, 다이옥사졸론과 반응하기 위한 아릴 보론산이 부족할 수 있다. 이를 방지하기 위해 혼합 용액의 제조시 아릴 보론산은 다이옥사졸론과 비교하여 과량을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 아릴 보론산의 양이 200 몰부 미만이면 아릴 보론산이 부족하여 N-아릴 아마이드 화합물의 원활한 제조가 어려울 수 있고, 400 몰부를 초과하면 혼합되는 아릴 보론산의 양이 과하여 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합용액의 제조시 사용되는 구리 염은 합성단계(S120)에서 아릴 보론산과 금속 교환(transmetalation) 반응하여 구리 착물(complex)을 형성함으로써 원활하게 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 이루어지도록 하기 위해 첨가되는 것일 수 있다. 합성단계(S120)에서 아릴 보론산과 금속 교환(transmetalation) 반응하여 형성되는 구리 착물은 다이옥사졸론과 반응하여 N-아릴 아마이드 화합물의 합성이 원활하게 이루어지도록 하는 것일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 구리 염의 양이 90 몰부 미만이거나 110 몰부를 초과하면 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 염기성 화합물이 200 몰부 미만이면 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있고, 500 몰부를 초과하면 다이옥사졸론의 환원반응이 일어나 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 반응촉진제는 합성단계(S120)에서 구리 염과 아릴 보론산 사이에 발생하는 금속 교환 반응을 촉진함으로써 보다 원활한 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 이루어지도록 하기 위해 첨가되는 것일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 반응촉진제가 300 몰부 미만이면 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있고, 1000 몰부를 초과하는 것도 제한되지 않으나, 1000 몰부를 초과하는 경우 N-아릴 아마이드 화합물의 수율 향상이 더 이상 이루어지지 않아 반응촉진제의 낭비로 이어질 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 황산염은 합성단계(S120)에서 아릴 보론산을 보다 반응성이 뛰어난 아릴 보론 무수물로 전환시킴으로써 N-아릴 아마이드 화합물의 수율을 향상시키기 위해 첨가되는 것일 수 있다.
혼합용액 제조단계(S110)에서 혼합되는 황산염이 400 몰부 미만이거나 500 몰부를 초과하면 N-아릴 아마이드 화합물의 수율이 저하될 수 있다.
합성단계(S120)는 혼합용액 제조단계(S110)에서 제조된 혼합 용액을 -20 내지 80℃에서 1.5 내지 18시간동안 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계일 수 있다.
합성단계(S120)에서 혼합 용액을 교반할 때 온도가 -20℃ 미만이면 혼합 용액의 온도가 너무 낮아 혼합 용액의 유동성이 떨어져 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지지 않을 수 있고, 80℃를 초과하면 혼합 용액이 끓게 될 수 있음에 따라, N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지지 않을 수 있다.
바람직하게, 합성단계(S120)는 혼합용액 제조단계(S110)에서 제조된 혼합 용액을 상온에서 1.5 내지 18시간동안 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계일 수 있다.
합성단계(S120)는 혼합용액 제조단계(S110)에서 제조된 혼합 용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 생성하고, 생성된 N-아릴 아마이드 화합물을 혼합 용액으로부터 수득하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계일 수 있다.
<실시예 1>
5ml 바이알을 준비하고, 준비된 바이알에 아릴 보론산 0.9mmol, 용매로 1,2-디클로로에탄 1.0ml, 구리 염으로 염화 제1구리 0.3mmol, 황산나트륨 200mg, 세슘플로라이드 0.900mmol을 투입하였다. 그 후 바이알에 피리딘 0.900mmol을 주사기를 이용해 투입하고, 다이옥사졸론 0.3mmol을 투입하여 혼합용액을 제조하였다. 혼합용액의 제조는 대기 분위기(general atmosphere) 하에서 이루어졌다.
고무막을 이용해 바이알을 폐쇄하고, 반응이 진행되는 도중에 바이알 내부에 환기가 이루어질 수 있도록 바이알을 폐쇄하는 고무막에 바늘을 이용해 복수 개의 기공을 형성하였다. 혼합용액을 상온에서 1.5시간동안 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다. 혼합용액의 교반을 통한 N-아릴 아마이드 화합물의 생성은 대기 분위기 하에서 이루어졌다.
그 후 혼합 용액을 여과하여 혼합용액으로부터 N-아릴 아마이드를 포함한 여과물을 수득하고, 수득된 여과물을 진공하에서 농축한 후 플래시 크로마토그래피(Flash chromatography)를 이용해 정제하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
실시예 1에서, 다이옥사졸론과 아릴 보론산으로 각각 화학식 8과 화학식 9로 나타나는 것을 사용하여 화학식 10으로 나타나는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 10으로 나타나는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.85 (d, J = 8.9 Hz, 2H), 7.73 (brs, 1H), 7.63 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.37 (t, J = 8.4 Hz, 2H), 7.17 - 7.11 (m, 1H), 6.98 (d, J = 8.9 Hz, 2H), 3.88 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.2, 162.4, 138.0, 129.0, 128.8, 127.1, 124.3, 120.1, 113.9, 55.4.
<실시예 2>
혼합용액의 제조시 황산나트륨을 바이알에 투입하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 3>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 4>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로벤젠을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 5>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것과 세슘 플로라이드 대신 포타슘 플로라이드를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 6>
혼합용액의 제조시 혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 7>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 대신 브롬화 제1구리를 사용한 것과 혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 8>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 대신 요오드화 제1구리를 사용한 것과 혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 9>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 대신 염화 제2구리를 사용한 것과 혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 10>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 0.3mmol 대신 0.12mmol을 사용한 것과 혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 11>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 11로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 12로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 12로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 다음과 같다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.85 (brs, 1H), 7.64 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.44 (s, 1H), 7.41 - 7.33 (m, 4H), 7.16 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.08 (dt, J = 5.6, 2.8 Hz, 1H), 3.87 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.5, 159.9, 137.8, 136.4, 129.7, 129.0, 124.5, 120.1, 118.6, 118.0, 112.4, 55.4.
<실시예 12>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 11로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 12로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 13>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 13으로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 14로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 14로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.89 - 7.86 (m, 2H), 7.83 (brs, 1H), 7.65 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.56 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.49 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 7.38 (t, J = 8.0 Hz, 2H), 7.16 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.8, 137.9, 135.0, 131.9, 129.1, 128.8, 127.1, 124.6, 120.2
<실시예 14>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 13으로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 14로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 15>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 15으로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 16으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 16으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.89 (brs, 1H), 7.81 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.65 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.36 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.14 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 1.35 (s, 9H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.6, 155.4, 138.0, 132.0, 129.0, 126.8, 125.7, 124.3, 120.1, 34.9, 31.1.
<실시예 16>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 18로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 18로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.95 (brs, 1H), 7.76 (d, J = 8.2 Hz, 3H), 7.64 (d, J = 7.6 Hz, 3H), 7.35 (t, J = 8.0 Hz, 3H), 7.25 (d, J = 7.5 Hz, 3H), 7.14 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 163.1, 139.7, 135.4, 129.5, 126.8, 126.4, 124.4, 121.8, 117.6, 18.9
<실시예 17>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 18로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 18>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 19로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 20으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 20으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.98 (brs, 1H), 7.72 - 7.59 (m, 4H), 7.39-7.31 (m, 4H), 7.14 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 2.40 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 166.0, 138.6, 138.0, 134.9, 132.5, 129.0, 128.5, 127.8, 124.4, 123.9, 120.2, 21.3
<실시예 19>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 21로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 22로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 22로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.62 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.37 (t, J = 7.9 Hz, 3H), 7.26 (t, J = 8.8 Hz, 2H), 7.16 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 2.51 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 168.0, 137.9, 136.4, 131.2, 130.2, 129.1, 128.9, 126.5, 125.9, 124.5, 119.8, 19.8
<실시예 20>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 23으로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 24로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 24로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 8.00 (brs, 1H), 7.78 (t, J = 5.7 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.33 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.12 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 6.89 - 6.83 (m, 2H), 1.00 (s, 9H), 0.23 (s, 6H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.5, 159.0, 138.1, 128.99, 128.91, 127.7, 124.3, 120.3, 120.1, 25.6, 18.2
<실시예 21>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 25로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 26으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 26으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)
δ 10.24 (brs, 1H), 8.02 (dd, J = 8.6, 5.6 Hz, 2H), 7.74 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.34 (dd, J = 15.0, 8.2 Hz, 4H), 7.08 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
δ 164.8, 164.4 (d, J = 249.4 Hz), 139.4, 131.8 (d, J = 2.9 Hz), 130.8 (d, J = 9.0 Hz), 129.0, 124.1, 120.8, 115.7 (d, J = 21.8 Hz)
<실시예 22>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 25로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 26으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 23>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 27로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 28로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 28로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)
δ 10.29 (brs, 1H), 7.97 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.75 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.59 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.39 - 7.28 (m, 2H), 7.09 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
δ 164.8, 139.4, 136.8, 134.0, 130.0, 129.0, 128.8, 124.2, 120.8
<실시예 24>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 29로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 30으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 30으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)
δ 10.29 (brs, 1H), 7.90 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.74 (t, J = 7.6 Hz, 4H), 7.34 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
δ 164.9, 139.3, 134.4, 131.8, 130.2, 129.0, 125.7, 124.2, 120.8
<실시예 25>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 31로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 32로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 32로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)
δ 10.55 (brs, 1H), 8.35 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 8.17 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.76 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.36 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.12 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
δ 164.3, 149.5, 141.0, 139.1, 129.6, 129.1, 124.6, 123.9, 120.9
<실시예 26>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 31로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 32로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 27>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 33로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 34로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 34로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, acetone-d6)
δ 9.36 (brs, 1H), 7.82 (d, J = 81 Hz, 2H), 7.60 (d, J = 82 Hz, 1H), 7.48 (s, 1H), 7.34 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.09 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 6.95 (d, J = .81 Hz, 1H), 6.11 (s, 2H)
13C-NMR (101 MHz, acetone-d6)
δ 164.4, 150.4, 147.9, 139.5, 129.3, 128.5, 123.4, 122.3, 120.0, 107.6, 107.5, 101.9
<실시예 28>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 35로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 36로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 36으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 8.37 (s, 1H), 8.02 (brs, 1H), 7.97 - 7.85 (m, 4H), 7.70 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.58 (pd, J = 6.9, 1.4 Hz, 2H), 7.42 - 7.36 (m, 2H), 7.17 (t, J = 7.4 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.7, 137.9, 134.8, 132.5, 132.1, 129.1, 128.9, 128.7, 127.9, 127.8, 127.5, 126.9, 124.5, 123.5, 120.2
<실시예 29>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 37로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 38로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 38로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 8.03 (s, 1H), 7.86 (brs, 1H), 7.59 (d, J = 7.6 Hz, 2H), 7.44 (t, J = 1.7 Hz, 1H), 7.32 (t, J = 8.0 Hz, 2H), 7.12 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 6.74 (d, J = 1.1 Hz, 1H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 160.9, 145.2, 143.9, 137.5, 129.0, 124.6, 123.0, 120.4, 108.4
<실시예 30>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 39로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 40으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 40으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.40 (t, J = 7.8 Hz, 4H), 7.34(dd, J = 6.8, 3.7 Hz, 3H), 7.31 - 7.24 (m, 2H), 7.15 (brs, 1H), 7.08 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 3.74 (s, 2H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.0, 137.5, 134.4, 129.5, 129.2, 128.9, 127.6, 124.4, 119.7, 44.8
<실시예 31>
화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 39로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 40으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 32>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 41로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 42로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 42로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.43 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.30 (dt, J = 8.3, 3.4 Hz, 4H), 7.23 (dt, J = 9.5, 6.2 Hz, 3H), 7.09 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 3.06 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.66 (t, J = 7.6 Hz, 2H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 170.3, 140.6, 137.6, 128.9, 128.6, 128.3, 126.3, 124.2, 119.8, 39.4, 31.5
<실시예 33>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 43으로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 44로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 44로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6)
δ 9.86 (brs, 1H), 7.58 (d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.30 - 7.23 (m, 4H), 7.18 (dd, J = 15.6, 7.2 Hz, 3H), 7.00 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 2.62 - 2.58 (m, 2H), 2.31 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.92 - 1.85 (m, 2H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
δ 173.5, 144.3, 141.9, 131.2, 130.96, 130.93, 128.4, 125.5, 121.6, 38.3, 37.2, 29.3
<실시예 34>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 45로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 46으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 46으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.43 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.36 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.32 - 7.24 (m, 4H), 7.15 (brs, 1H), 7.10 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 3.69 (s, 2H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 168.4, 137.4, 133.6, 132.8, 130.8, 129.2, 128.9, 124.6, 119.8, 44.0
<실시예 35>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 47로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 48로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 48로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.52 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.31 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.15 (brs, 1H), 7.09 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 2.09 (s, 2H), 1.96 (d, J = 2.07 Hz, 3H), 1.78 - 1.59 (m, 12H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.3, 137.8, 128.9, 124.1, 119.8, 52.9, 42.6, 36.6, 33.3, 28.6
<실시예 36>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 49로 나타내는 다이옥사졸론을 사용하여 화학식 50으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 50으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR (400 MHz, CDCl3)
δ 7.54 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.42 (brs, 1H), 7.30 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.09 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 2.52 (dt, J = 1.37, 6.9 Hz, 1H), 1.24 (d, J = 6.9 Hz, 6H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 175.2, 138.0, 128.9, 124.1, 119.7, 36.6, 19.6.
<실시예 37>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 51로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 52로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 52로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, acetone-d6)
δ 9.46 (brs, 1H), 7.98 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.85 (dd, J = 9.0, 5.0 Hz, 2H), 7.11 (t, J = 8.8 Hz, 2H), 7.03 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 3.87 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, acetone-d6)
δ 164.7, 162.4, 158.7 (d, J = 240.4 Hz), 135.9, 129.2, 127.2, 121.8 (d, J = 7.7 Hz), 114.9 (d, J = 2.24 Hz), 113.5, 54.9.
<실시예 38>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 53으로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 54로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 54로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, acetone-d6)
δ 9.58 (brs, 1H), 8.07 - 7.87 (m, 3H), 7.53 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.28 (dd, J = 19.2, 9.4 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 3.87 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, acetone-d6)
δ 165.0, 162.6, 149.9 (dd, J = 250.4, 13.1 Hz), 145.6 (dd, J = 229.2, 13.1 Hz), 136.5, 129.3, 126.8, 116.9 (d, J = 17.9 Hz), 116.0 (dd, J = 5.9, 3.4 Hz), 113.6, 109.1 (d, J = 22.1 Hz), 54.9
<실시예 39>
화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 53으로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 54로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<실시예 40>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 55로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 56으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 56으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 9.58 (brs, 1H), 8.07 - 7.87 (m, 3H), 7.53 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 7.28 (dd, J = 19.2, 9.4 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 3.87 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.2, 162.3, 138.6, 137.9, 128.8, 127.2, 126.0, 117.9, 113.8, 55.4, 21.3
<실시예 41>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 57로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 58로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 58로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.88 - 7.81 (m, 3H), 7.63 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.50 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 6.95 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 3.86 (s, 4H), 0.26 (s, 9H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.2, 162.4, 138.6, 136.0, 134.1, 128.9, 127.1, 119.3, 113.9, 55.4
<실시예 42>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 51로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 59로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 59로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, DMSO-d6)
δ 10.20 (s, 1H), 7.85 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.78 (dd, J = 9.0, 5.1 Hz, 2H), 7.32 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.17 (t, J = 8.9 Hz, 2H), 2.36 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6)
165.6, 158.6 (d, J = 240.1 Hz), 142.0, 136.0 (d, J = 2.6 Hz), 132.3, 129.3, 128.0, 122.5 (d, J = 7.8 Hz), 115.5 (d, J = 2.21 Hz), 214
<실시예 43>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 53으로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 60으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 60으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 8.03 (brs, 1H), 7.71 (dd, J = 12.4, 5.3 Hz, 3H), 7.29 - 7.16 (m, 3H), 7.09 (dd, J = 18.5, 8.9 Hz, 1H), 2.41 (s, 3H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.8, 150.5, 147.02 (dd, J = 245.6, 12.8 Hz), 142.7, 134.5, 130.4 (d, J = 196.2 Hz), 127.0, 117.2 (d, J = 1.3 Hz), 1170 (d, J = 1.3 Hz), 115.9 (dd, J = 5.9, 3.6 Hz), 110.0 (d, J = 21.7 Hz), 21.4
<실시예 44>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 55로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 61로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 61로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.91 (brs, 1H), 7.75 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.28 (s, 2H), 7.24 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 6.78 (s, 1H), 2.40 (s, 3H), 2.30 (s, 6H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.6, 142.1, 138.6, 137.9, 132.2, 129.3, 127.0, 126.1, 118.0, 21.4, 21.3
<실시예 45>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 17로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 57로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 62로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 62로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.87 (s, 1H), 7.77 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.51 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.27 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 2.42 (s, 3H), 0.27 (s, 9H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 165.6, 142.3, 138.5, 136.1, 134.1, 132.0, 129.4, 127.0, 119.3, 21.4, -1.0
<실시예 46>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 47로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 51로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 63으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 63으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.87 (s, 1H), 7.77 (d, J = 8.2 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.51 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.27 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 2.42 (s, 3H), 0.27 (s, 9H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.4, 159.2 (d, J = 243.3 Hz), 133.8 (d, J = 2.8 Hz), 121.7 (d, J = 7.8 Hz), 115.5 (d, J = 22.4 Hz), 52.6, 42.6, 36.6, 33.2, 28.5
<실시예 47>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 47로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 53으로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 64로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 64로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.67 - 7.56 (m, 1H), 7.21 (s, 1H), 7.12 - 7.02 (m, 1H), 2.08 (s, 1H), 1.98 (s, 2H), 1.75 - 1.55 (m, 6H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.4, 149.9 (d, J = 247.1 Hz), 146.9 (d, J = 245.2 Hz), 134.3, 117.0 (d, J = 16.8 Hz), 115.3 (dd, J = 5.8, 3.7 Hz), 109.69 (d, J = 21.7 Hz), 52.6, 42.6, 36.6, 33.3, 28.5
<실시예 48>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 47로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 55로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 65로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 65로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.16 (s, 2H), 7.04 (brs, 1H), 6.74 (s, 1H), 2.28 (s, 6H), 2.07 (s, 2H), 1.98 (s, 3H), 1.73 - 1.61 (m, 12H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.3, 138.6, 137.7, 125.8, 117.4, 52.9, 42.6, 36.7, 33.2, 28.6, 21.3
<실시예 49>
혼합용액의 교반을 1.5시간 대신 18시간을 진행한 것과, 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 10으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것 대신 화학식 47로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 57로 나타내는 아릴 보론산을 사용하여 화학식 66으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
화학식 66으로 나타내는 N-아릴 아마이드 화합물의 1H-NMR과 13C-NMR 측정결과는 아래와 같이 나타났다.
1H-NMR(400 MHz, CDCl3)
δ 7.49 (dd, J = 19.7, 8.3 Hz, 4H), 7.09 (s, 1H), 2.09 (s, 2H), 1.98 (s, 3H), 1.77 - 1.56 (m, 13H), 0.25 (d, J = 3.0 Hz, 8H)
13C-NMR (101 MHz, CDCl3)
δ 169.3, 138.3, 135.8, 134.0, 118.9, 52.9, 42.6, 36.6, 33.3, 28.6, -1.09
<비교예 1>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 메탄올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 2>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것과, 혼합용액의 제조시 세슘 플로라이드를 투입하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 3>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것과, 세슘 플로라이드를 투입하지 않은 것, 피리딘 대신 4-CF3-피리딘을 투입한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 4>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것과, 세슘 플로라이드를 투입하지 않은 것, 혼합용액의 제조와 혼합용액의 교반을 통한 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 대기 분위기 대신 아르곤 분위기(Ar atmosphere) 하에서 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 5>
혼합용액의 제조시 용매로 1,2-디클로로에탄 대신 클로로포름을 사용한 것과, 세슘 플로라이드와 피리딘을 투입하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 6>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 대신 CuTC(Copper(I) thiophene-2-carboxylate)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 7>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 대신 아세트산 구리(Cu(CH3COO)2)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
<비교예 8>
혼합용액의 제조시 구리 염으로 염화 제1구리 0.3mmol 대신 0.06mmol을 사용한 것과, Zn(0) 0.3mmol을 더 투입한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하였다.
실시예 1 내지 49와 비교예 1 내지 8에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 때 사용된 다이옥사졸론을 나타내는 화학식, 아릴 보론산을 나타내는 화학식, 용매, 구리 염 및 반응촉진제의 종류와, 혼합용액의 교반시간과, N-아릴 아마이드 화합물의 수득률을 아래 표 1 내지 4에 정리하여 나타내었다.
| 다이옥사졸론 | 아릴 보론산 | N-아릴 아마이드 화합물 | 구리 염 | 용매 | 반응촉진제 | 교반 시간 | 수득률 | 비고 | |
| 실시예 1 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 71 | |
| 실시예 2 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 61 | 황산나트륨 혼합 X |
| 실시예 3 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | CsF | 1.5 | 69 | |
| 실시예 4 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로벤젠 | CsF | 1.5 | 66 | |
| 실시예 5 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | KF | 1.5 | 59 | |
| 실시예 6 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 89 | |
| 실시예 7 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 브롬화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 76 | |
| 실시예 8 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 요오드화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 35 | |
| 실시예 9 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제2구리 | DCE | CsF | 18 | 30 | |
| 실시예 10 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 35 | 구리 염 0.12mmol |
| 다이옥사졸론 | 아릴 보론산 | N-아릴 아마이드 화합물 | 구리 염 | 용매 | 반응촉진제 | 교반 시간(hr) | 수득률 | |
| 실시예 11 | 화학식 11 | 화학식 9 | 화학식 12 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 80 |
| 실시예 12 | 화학식 11 | 화학식 9 | 화학식 12 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 57 |
| 실시예 13 | 화학식 13 | 화학식 9 | 화학식 14 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 78 |
| 실시예 14 | 화학식 13 | 화학식 9 | 화학식 14 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 57 |
| 실시예 15 | 화학식 15 | 화학식 9 | 화학식 16 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 53 |
| 실시예 16 | 화학식 17 | 화학식 9 | 화학식 18 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 83 |
| 실시예 17 | 화학식 17 | 화학식 9 | 화학식 18 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 64 |
| 실시예 18 | 화학식 19 | 화학식 9 | 화학식 20 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 46 |
| 실시예 19 | 화학식 21 | 화학식 9 | 화학식 22 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 41 |
| 실시예 20 | 화학식 23 | 화학식 9 | 화학식 24 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 72 |
| 실시예 21 | 화학식 25 | 화학식 9 | 화학식 26 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 67 |
| 실시예 22 | 화학식 25 | 화학식 9 | 화학식 26 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 59 |
| 실시예 23 | 화학식 27 | 화학식 9 | 화학식 28 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 45 |
| 실시예 24 | 화학식 29 | 화학식 9 | 화학식 30 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 71 |
| 실시예 25 | 화학식 31 | 화학식 9 | 화학식 32 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 50 |
| 실시예 26 | 화학식 31 | 화학식 9 | 화학식 32 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 40 |
| 실시예 27 | 화학식 33 | 화학식 9 | 화학식 34 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 72 |
| 실시예 28 | 화학식 35 | 화학식 9 | 화학식 36 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 73 |
| 실시예 29 | 화학식 37 | 화학식 9 | 화학식 38 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 58 |
| 실시예 30 | 화학식 39 | 화학식 9 | 화학식 40 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 45 |
| 실시예 31 | 화학식 39 | 화학식 9 | 화학식 40 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 30 |
| 실시예 32 | 화학식 41 | 화학식 9 | 화학식 42 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 46 |
| 실시예 33 | 화학식 43 | 화학식 9 | 화학식 44 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 51 |
| 실시예 34 | 화학식 45 | 화학식 9 | 화학식 46 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 35 |
| 실시예 35 | 화학식 47 | 화학식 9 | 화학식 48 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 66 |
| 실시예 36 | 화학식 49 | 화학식 9 | 화학식 50 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 57 |
표 1 내지 2를 참조하면 실시예 1 내지 12에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다. 이는 화학식 8로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용할 때와, 화학식 11로 나타내는 다이옥사졸론과 화학식 9로 나타내는 아릴 보론산을 사용할 때 N-아릴 아미이드 화합물의 제조가 원활하게 이루어지는 것을 확인할 수 있는 결과이다. 즉, 화학식 1에서 R1이 탄소수가 1 내지 3인 알콕시기가 결합된 페닐기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 13 내지 14, 28에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 여러고리 방향족 탄화수소이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 15 내지 19에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 탄소수가 1 내지 4인 알킬기가 결합된 페닐기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 20에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 실릴 에테르가 결합된 페닐기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 21 내지 24에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 할로겐기가 결합된 페닐기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 25 내지 26에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 아질산기가 결합된 페닐기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 27, 29에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 헤테로 고리 방향족이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 30 내지 33에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 치환된 알킬기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 34에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1이 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 치환되되, 치환된 페닐기에 할로겐기가 치환된 알킬기이고, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 35 내지 36에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 1에서 R1은 화학식 1에서 R1은 탄소수가 1 내지 3이고 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기이며, 화학식 2에서 X1과 X2가 수소일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있다.
| 다이옥사졸론 | 아릴 보론산 | N-아릴 아마이드 화합물 | 구리 염 | 용매 | 반응촉진제 | 교반 시간 | 수득률 | |
| 실시예 37 | 화학식 8 | 화학식 51 | 화학식 52 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 63 |
| 실시예 38 | 화학식 8 | 화학식 53 | 화학식 54 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 53 |
| 실시예 39 | 화학식 8 | 화학식 53 | 화학식 54 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 1.5 | 41 |
| 실시예 40 | 화학식 8 | 화학식 55 | 화학식 56 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 44 |
| 실시예 41 | 화학식 8 | 화학식 57 | 화학식 58 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 43 |
| 실시예 42 | 화학식 17 | 화학식 51 | 화학식 59 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 74 |
| 실시예 43 | 화학식 17 | 화학식 53 | 화학식 60 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 73 |
| 실시예 44 | 화학식 17 | 화학식 55 | 화학식 61 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 77 |
| 실시예 45 | 화학식 17 | 화학식 57 | 화학식 62 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 47 |
| 실시예 46 | 화학식 47 | 화학식 51 | 화학식 63 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 37 |
| 실시예 47 | 화학식 47 | 화학식 53 | 화학식 64 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 28 |
| 실시예 48 | 화학식 47 | 화학식 55 | 화학식 65 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 25 |
| 실시예 49 | 화학식 47 | 화학식 57 | 화학식 66 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 18 |
표 3을 참조하면 실시예 37, 38, 42, 43, 46, 47에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 2에서 X1과 X2가 각각 수소와 할로겐기 중 어느 하나일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 39, 44, 48에 따른 제조방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 화학식 4에서 R2와 R3이 탄소수가 1 내지 3인 알킬기일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 40, 45, 49에 따른 방법으로 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있고, 이는 R4는 탄소수가 1 내지 3인 알킬기가 적어도 하나 치환된 실릴기일 때 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
| 다이옥사졸론 | 아릴 보론산 | N-아릴 아마이드 화합물 | 구리 염 | 용매 | 반응촉진제 | 교반 시간 | 수득률 | 비고 | |
| 비교예 1 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 메탄올 | CsF | 1.5 | 4 | |
| 비교예 2 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | 혼합 X | 1.5 | 35 | |
| 비교예 3 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | 혼합 X | 1.5 | 30 | 피리딘 대신 4-CF3-피리딘 투입 |
| 비교예 4 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | 혼합 X | 1.5 | 11 | 대기 대신 아르곤 환경 |
| 비교예 5 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | 클로로포름 | 혼합 X | 1.5 | 0 | 피리딘 혼합 X |
| 비교예 6 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | CuTC | DCE | CsF | 18 | 6 | |
| 비교예 7 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 아세트산 구리 | DCE | CsF | 18 | 13 | |
| 비교예 8 | 화학식 8 | 화학식 9 | 화학식 10 | 염화 제1구리 | DCE | CsF | 18 | 19 | 구리 염 0.06mmol |
실시예 1과 비교예 1을 살펴보면 비교예 1에 따라 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 실시예 1에 따라 제조할 때보다 수득률이 낮은 것을 확인할 수 있고, 이는 혼합용액의 제조시 용매로 클로로벤젠, 클로로포름 및 디클로로에탄 중 적어도 하나를 사용하지 않으면 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 유효하게 이루어지지 않는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
또한, 실시예 3과 비교예 2를 살펴보면 비교예 1에 따라 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 실시예 3에 따라 제조할 때보다 수득률이 낮은 것을 확인할 수 있고, 이는 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 때 반응촉진제로 세슘 플로라이드를 혼합하는 것이 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률 향상에 보다 유효한 것을 확인할 수 있는 결과이다.
비교예 2와 비교예 4를 살펴보면 비교예 4에 따라 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 비교예 2에 따라 제조할 때보다 수득률이 낮은 것을 확인할 수 있고, 이는 혼합용액을 제조하고, 교반할 때 대기 환경보다 불활성 기체인 아르곤 분위기에서 수행하면 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률이 저하되는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
비교예 2와 비교예 5를 살펴보면 비교예 5에 따라 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하면 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 이루어지지 않는 것을 확인할 수 있는데 이는 N-아릴 아마이드 화합물의 합성시 염기성 물질인 피리딘을 혼합해야 하는 것이 중요한 것임을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 1과 비교예 6 내지 7을 살펴보면 비교예 6 내지 7에 따라 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하면 실시예 1에 따라 제조할 때보다 수득률이 낮은 것을 확인할 수 있는데, 이는 구리 염이 할로겐염이면 N-아릴 아마이드 화합물의 제조가 보다 원활하게 이루어지는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 1과 비교예 8을 살펴보면 비교예 8에 따라 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 때 보다 실시예 1에 따라 제조할 때 수득률이 높은 것을 확인할 수 있는데 이는 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 혼합되는 구리 염의 양이 충분하여야 하는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 1과 실시예 6, 실시예 11과 실시예 12 등을 각각 살펴보면 반응시간이 길어짐에 따라 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률이 향상되는 것을 확인할 수 있으나, 그 차이가 크지 않은 것을 확인할 수 있고, 이는 반응 초기에 대부분의 N-아릴 아마이드 화합물이 제조되는 것을 확인할 수 있는 결과이다.
실시예 6 내지 8을 살펴보면 실시예 6, 7, 8 순으로 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률이 높은 것을 확인할 수 있다. 다만, 구리 염으로 요오드화 제1구리를 사용하는 실시예 8의 경우 실시예 6 내지 7보다 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률이 다소 떨어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 3과 실시예 5를 살펴보면 반응촉진제로 세슘 플로라이드 대신 포타슘 플로라이드를 사용하여도 N-아릴 아마이드 화합물의 합성이 이루어지는 것을 확인할 수 있다. 다만, 세슘 플로라이드 대신 포타슘 플로라이드를 사용하면 N-아릴 아마이드 화합물의 수득률이 다소 떨어지는 것을 확인할 수 있다.
실시예 1과 실시예 9를 살펴보면 N-아릴 아마이드 화합물의 제조시 구리 염으로 구리 1가 이온과 할로겐 이온이 결합되어 형성되는 것을 사용하는 것이 구리 2가 이온과 할로겐 이온이 결합되어 형성되는 것보다 높은 수득률로 N-아릴 아마이드 화합물을 제조할 수 있는 것을 확인할 수 있다.
본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
S100: 제조단계,
S110: 혼합용액 제조단계, S120: 합성단계.
S110: 혼합용액 제조단계, S120: 합성단계.
Claims (11)
- 다이옥사졸론, 아릴 보론산, 구리 염 및 용매를 포함하는 혼합용액을 교반하여 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계;를 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 1항에 있어서,
상기 다이옥사졸론은 하기 화학식 1로 나타내는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법.
(화학식 1)
상기 화학식 1에서 R1은
탄소수가 1 내지 3인 알콕시기, 탄소수가 1 내지 4인 알킬기, 할로겐기, 아질산기 및 실릴에테르 중 적어도 하나가 결합된 페닐기, 헤테로 고리 방향족 탄화수소, 여러고리 방향족 탄화수소, 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 결합된 알킬기 및 탄소수가 1 내지 3이고 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기 중 적어도 하나이다. - 제 2항에 있어서,
상기 아릴 보론산은 하기 화학식 2로 나타내는 것이고, 상기 N-아릴 아마이드 화합물은 하기 화학식 3으로 나타내는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법.
(화학식 2)
(화학식 3)
상기 화학식 2 내지 3에서
상기 X1과 X2는 수소, 할로겐기 및 실릴에테르 중 어느 하나이다.
상기 화학식 3에서
상기 화학식 1에서 R1은
탄소수가 1 내지 3인 알콕시기, 탄소수가 1 내지 4인 알킬기, 할로겐기, 아질산기 및 실릴에테르 중 적어도 하나가 결합된 페닐기, 헤테로 고리 방향족 탄화수소, 여러고리 방향족 탄화수소, 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 결합된 알킬기 및 탄소수가 1 내지 3이고 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기 중 적어도 하나이다. - 제 2항에 있어서,
상기 아릴 보론산은 하기 화학식 4로 나타내는 것이고, 상기 N-아릴 아마이드 화합물은 하기 화학식 5로 나타내는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법.
(화학식 4)
(화학식 5)
상기 화학식 4 내지 5에서
상기 R2와 R3은 탄소수가 1 내지 3인 알킬기이다.
상기 화학식 5에서 R1은
탄소수가 1 내지 3인 알콕시기, 탄소수가 1 내지 4인 알킬기, 할로겐기, 아질산기 및 실릴에테르 중 적어도 하나가 결합된 페닐기, 헤테로 고리 방향족 탄화수소, 여러고리 방향족 탄화수소, 탄소수가 1 내지 3이고 알파와 베타 및 감마 중 어느 하나의 위치에 페닐기가 결합된 알킬기 및 탄소수가 1 내지 3이고 알파에 대응되는 위치에 알킬기가 치환된 알킬기 중 적어도 하나이다. - 제 1항에 있어서,
상기 구리 염은 염화 제1구리, 염화 제2구리, 브롬화 구리 및 요오드화 구리 중 적어도 하나를 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 1항에 있어서,
상기 용매는 클로로벤젠, 클로로포름 및 디클로로에탄 중 적어도 하나를 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 6항에 있어서,
상기 혼합용액은 상기 다이옥사졸론 100 몰부에 대해 황산염 400 내지 500 몰부를 더 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 6항에 있어서,
상기 혼합용액은
상기 다이옥사졸론 100 몰부에 대해 염기성 화합물 200 내지 500 몰부를 더 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 6항에 있어서,
상기 혼합용액은
상기 다이옥사졸론 100 몰부에 대해 세슘 플로라이드 300 내지 1000 몰부를 더 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 1항에 있어서,
상기 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계는
상기 다이옥사졸론 100 몰부, 상기 보론산 200 내지 400 몰부 및 상기 구리 염 90 내지 110몰부를 포함하는 상기 혼합용액을 교반하여 상기 N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법. - 제 1항에 있어서,
N-아릴 아마이드 화합물을 제조하는 단계는
상기 혼합용액을 제조하는 단계; 및
상기 혼합용액을 -20 내지 80℃에서 1.5 내지 18시간동안 교반하는 단계;를 포함하는 것
인 N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220141218A KR20240060025A (ko) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220141218A KR20240060025A (ko) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240060025A true KR20240060025A (ko) | 2024-05-08 |
Family
ID=91074083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020220141218A KR20240060025A (ko) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20240060025A (ko) |
-
2022
- 2022-10-28 KR KR1020220141218A patent/KR20240060025A/ko unknown
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| (비특허문헌 1) Beck, Gerhard. "Notiz uber 2-Alkyl (Aryl)-1.3. 4-dioxazolone-(5)." Chemische Berichte 84.8 (1951): 688-689. |
| (비특허문헌 2) Dube, Pascal, et al. "Carbonyldiimidazole-mediated Lossen rearrangement." Organic Letters 11.24 (2009): 5622-5625. |
| (비특허문헌 3) van Vliet, Kaj M., et al. "Efficient copper-catalyzed multicomponent synthesis of N-acyl amidines via acyl nitrenes." Journal of the American Chemical Society 141.38 (2019): 15240-15249. |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6878460B2 (ja) | 複素環カルボン酸アミド配位子および銅触媒によるハロゲン化アリールのカップリング反応におけるその使用 | |
| JPWO2013042695A1 (ja) | 金属ポルフィリン錯体、その製造方法及びそれからなる二酸化炭素固定化触媒、並びに、環状炭酸エステルの製造方法 | |
| JP4014856B2 (ja) | ジハロゲン化アダマンタンの製造方法 | |
| CN1582270A (zh) | 芳基胺的制备方法 | |
| WO2006026400A1 (en) | Chemical production processes and systems | |
| JP2006022105A (ja) | 含フッ素環芳香環の改善された製造方法 | |
| JP5248322B2 (ja) | 環状オレフィンの製造方法 | |
| JP2003064033A (ja) | 核フッ素化芳香族の改良製法 | |
| KR20240060025A (ko) | N-아릴 아마이드 화합물의 제조방법 | |
| JP4360096B2 (ja) | 光学活性四級アンモニウム塩、その製造方法、及びこれを相間移動触媒として用いた光学活性α−アミノ酸誘導体の製造方法 | |
| EP0189694B1 (fr) | Procédé de synthèse d'isocyanates et de dérivés d'isocyanates | |
| JP6275378B2 (ja) | カルバゾール類の製造方法およびこの方法により製造されたカルバゾール類。 | |
| JP5219086B2 (ja) | トリフルオロメチルアレーン類の製造方法 | |
| JP2001072630A (ja) | ハロヒドリンの製造方法 | |
| JP7081698B2 (ja) | カップリング化合物の製造方法 | |
| JP4635251B2 (ja) | 有機ビスマス化合物およびその製法 | |
| JP7228155B2 (ja) | 電荷輸送性ポリマーの製造方法 | |
| CN115108932B (zh) | 一种芳香酰胺类化合物的制备方法 | |
| CN111909065B (zh) | 一种芳基苄基砜类化合物α位甲基化的方法 | |
| CN109810056B (zh) | S-烷基-s-喹啉基-n-磺酰基氮硫叶立德化合物及其制备和应用 | |
| JP7299795B2 (ja) | アミノ芳香族化合物の製造方法 | |
| JP4839678B2 (ja) | ジハロゲン化ビアリール誘導体の製造方法 | |
| JP2008174519A (ja) | テトラヒドロピランを溶媒とする対称ビフェニル化合物の製造方法 | |
| JPS6026097B2 (ja) | キシリレンジハロゲン化合物誘導体の製造方法 | |
| WO2019151419A1 (ja) | ポリカルボニル化合物、その誘導体及びそれらの製造方法 |