KR20240043092A - 가변색 점착 시트 - Google Patents

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KR20240043092A
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다이스케 미즈노
신 나카무라
준이치 나카야마
마유 오자키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

피착체에 대한 접합 후에 적어도 일부가 변색 가능함과 함께, 양호한 투명 안정성을 실현하는 데 적합한 가변색 점착 시트를 제공한다.
점착 시트 X는, 점착제층(21)을 구비한다. 점착 시트 X는, 점착제층(21)을 지지하는 기재(10)를 더 구비하는 기재 구비 가변색 점착 시트, 또는 무기재의 가변색 점착 시트이다. 기재(10) 또는 점착제층(21)은, 가변색층(12)을 포함한다. 가변색층(12)은, 폴리머 성분과, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제를 포함한다. 광 산 발생제는, 트리페닐술포늄에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 적어도 하나 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물이다. 수식 트리페닐술포늄 화합물은, 적어도 하나의 수식 페닐기를 갖는다.

Description

가변색 점착 시트{COLOR-CHANGEABLE ADHESIVE SHEET}
본 발명은 가변색 점착 시트에 관한 것이다.
유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널은, 화소 패널 및 커버 부재 등의 요소를 포함하는 적층 구조를 갖는다. 그러한 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 적층 구조에 포함되는 요소끼리의 접합을 위해, 예를 들어 투명한 점착 시트가 사용된다. 그러한 투명 점착 시트로서는, 무기재의 점착 시트, 및 기재를 갖는 양면 점착 시트를 들 수 있다.
또한, 디스플레이 패널에서의 화소 패널의 광 출사 측(화상 표시 측)에 배치되는 투명 점착 시트로서, 동 시트의 소정 개소에 착색 부분이 미리 마련되어 있는 점착 시트가 알려져 있다. 착색 부분은, 예를 들어 의장성, 차폐성, 또는 반사 방지성의 관점에서 마련된다. 착색 부분은, 예를 들어 카본 블랙 안료를 포함한다. 그러나, 디스플레이 패널의 제조 과정에 있어서, 착색 부분이 미리 마련되어 있는 점착 시트를 사용하는 경우, 피착체에 대한 당해 점착 시트의 접합 후에, 피착체와 점착 시트의 착색 부분의 사이에서의 이물 및 기포의 유무를 적절하게 검사할 수 없다.
이에 따라, 피착체에 대한 접합 후에 착색시키는 것이 가능한 투명 점착 시트(가변색 점착 시트)가 제안되어 있다. 가변색 점착 시트는, 예를 들어 사후적으로 착색 가능한 점착제층을 갖는다. 그러한 가변색 점착 시트는, 예를 들어 하기의 특허문헌 1에 기재되어 있다.
일본 특허 공개 제2022-086976호 공보
특허문헌 1의 가변색 점착 시트의 점착제층은, 베이스 폴리머와, 트리페닐술포늄(TPS) 화합물과, 산과의 반응에 의해 발색하는 색소를 포함한다. TPS 화합물은, TPS와 음이온의 염이며, 자외 영역의 광 조사(자외선 조사)를 받아서 산을 발생시키는 광 산 발생제이다. TPS 화합물에서는, 황 원자(S)와 결합하고 있는 페닐기의 탄소 원자(C)와 S 사이의 결합(S-C 결합)이 자외선 조사에 의해 절단되어, 라디칼(황 라디칼)이 발생한다. 이 라디칼이, 산 발생 반응을 야기한다. 특허문헌 1의 가변색 점착 시트에서는, 점착제층에서의 자외선 조사를 받은 부분에서, 광 산 발생제(TPS 화합물)로부터 산이 발생하고, 당해 산과의 반응에 의해 색소가 발색한다. 이에 의해, 점착제층에 착색 부분이 형성된다.
그러나, 특허문헌 1의 가변색 점착 시트는, 자연광에 의한 착색이 생기기 어려운 성질(투명 안정성)이 충분하지 않다. 이러한 가변색 점착 시트에서는, 디스플레이 패널에 내장되기 전, 및 디스플레이 패널에 내장된 후에, 자연광에 의한 의도적이지 않은 변색이 생기기 쉽다.
본 발명은 피착체에 대한 접합 후에 적어도 일부가 변색 가능함과 함께, 양호한 투명 안정성을 실현하는 데 적합한 가변색 점착 시트를 제공한다.
본 발명 [1]은, 점착제층을 구비하는 가변색 점착 시트이며, 상기 가변색 점착 시트가, 상기 점착제층을 지지하는 기재를 더 구비하는 기재 구비 가변색 점착 시트, 또는 무기재의 가변색 점착 시트이며, 상기 기재 또는 상기 점착제층이 가변색층을 포함하고, 상기 가변색층이, 폴리머 성분과, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제를 포함하고, 상기 광 산 발생제가, 적어도 하나의 수식 페닐기를 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물이며, 트리페닐술포늄에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 적어도 하나 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물인, 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명 [2]는, 상기 수식 페닐기가, 적어도 하나의 전자 공여성 치환기를 갖는 페닐기인, 상기 [1]에 기재된 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명 [3]은, 상기 전자 공여성 치환기가 상기 수식 페닐기에서의 파라 위치에 위치하는, 상기 [2]에 기재된 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명 [4]는, 상기 수식 페닐기가, 알킬기, 시클로알킬기, 히드록시기, 알콕시기, 아미노기 및 알킬실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를, 상기 적어도 하나의 전자 공여성 치환기로서 갖는, 상기 [2] 또는 [3]에 기재된 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명 [5]는, 상기 수식 트리페닐술포늄 화합물이 2 이상의 상기 수식 페닐기를 갖는, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명 [6]은, 상기 기재가 기재 필름을 더 구비하고, 당해 기재 필름과 상기 가변색층을 포함하는 다층 구조를 갖는, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 가변색 점착 시트를 포함한다.
본 발명의 가변색 점착 시트는, 상기한 바와 같이, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제로서의 수식 트리페닐술포늄 화합물을 포함하는 가변색층을 갖는다. 그 때문에, 가변색 점착 시트를 피착체에 접합한 후, 동 시트에서의 변색 예정 부분(동 시트의 평면에서 보았을 때의 적어도 일부)에 대한 광 조사에 의해, 당해 부분을 국소적으로 변색시킬 수 있다. 이러한 가변색 점착 시트에서는, 접합 후이며 변색 부분 형성 전에, 동 시트와 피착체 사이에서의 이물 및 기포의 유무를 검사할 수 있다.
또한, 가변색 점착 시트의 가변색층은, 광 산 발생제로서 상기의 수식 트리페닐술포늄 화합물을 포함한다. 이 수식 트리페닐술포늄 화합물은, 트리페닐술포늄(TPS: 치환기를 갖지 않는 3개의 페닐기가 S와 결합하고 있음)에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 적어도 하나 갖는 수식 트리페닐술포늄의 염이다. 이러한 수식 트리페닐술포늄 화합물은, TPS 화합물보다, 자연광에 의한 분해(산의 발생)를 일으키기 어렵다. 이러한 수식 트리페닐술포늄 화합물을 광 산 발생제로서 가변색층에 포함하는 가변색 점착 시트는, 양호한 투명 안정성을 실현하는 데 적합하다.
도 1은 본 발명의 가변색 점착 시트의 일 실시 형태의 단면 모식도이다.
도 2는 본 발명의 가변색 점착 시트의 사용 방법의 일 예를 나타낸다. 도 2a는 가변색 점착 시트 및 부재(피착체)를 준비하는 공정을 나타낸다. 도 2b는 가변색 점착 시트를 개재시켜 부재끼리를 접합하는 공정을 나타낸다. 도 2c는 가변색 점착 시트의 기재에 변색 부분을 형성하는 공정을 나타낸다.
도 3은 본 발명의 가변색 점착 시트의 일 변형예의 단면 모식도이다. 본 변형예의 가변색 점착 시트는, 기재를 구비한 편면 점착 시트이다. 본 변형예에 있어서, 가변색층은, 기재에서의 점착제층과는 반대 측에 배치되어 있다.
도 4는 본 발명의 가변색 점착 시트의 다른 변형예의 단면 모식도이다. 본 변형예의 가변색 점착 시트는, 기재를 구비한 편면 점착 시트이다. 본 변형예에 있어서, 가변색층은, 기재에서의 점착제층 측에 배치되어 있다.
도 5는 본 발명의 가변색 점착 시트의 다른 변형예의 단면 모식도이다. 본 변형예의 가변색 점착 시트는, 가변색 기재를 구비한 양면 점착 시트이다.
도 6은 본 발명의 가변색 점착 시트의 다른 변형예의 단면 모식도이다. 본 변형예의 가변색 점착 시트는, 무기재의 점착 시트이다.
본 발명의 가변색 점착 시트의 일 실시 형태로서의 점착 시트 X는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 기재(10)와, 점착제층(21, 22)을 구비한다. 점착 시트 X는, 구체적으로는, 점착제층(21)(제1 점착제층)과, 기재(10)와, 점착제층(22)(제2 점착제층)을 두께 방향 H로 이 순으로 구비한다. 즉, 점착 시트 X는, 본 실시 형태에서는, 점착제층(21, 22)을 지지하는 기재(10)를 구비하는 기재 구비 가변색 점착 시트이다. 또한, 점착 시트 X는, 두께 방향 H와 직교하는 방향(면 방향)으로 펼쳐진다.
기재(10)는, 제1 면(10a)과, 당해 제1 면(10a)과는 반대 측의 제2 면(10b)을 갖는다. 점착제층(21)은, 기재(10)의 제1 면(10a) 측에 배치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 점착제층(21)은 제1 면(10a) 상에 배치되어 있다. 즉, 점착제층(21)은 제1 면(10a)에 접한다. 점착제층(21)은, 기재(10)와는 반대 측에 점착면(21a)을 갖는다. 점착제층(22)은, 기재(10)의 제2 면(10b) 측에 배치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 점착제층(22)은 제2 면(10b) 상에 배치되어 있다. 즉, 점착제층(22)은 제2 면(10b)에 접한다. 점착제층(22)은, 기재(10)와는 반대 측에 점착면(22a)을 갖는다. 또한, 기재(10)는, 본 실시 형태에서는, 기재 필름(11)과 가변색층(12)을 포함하는 다층 구조를 갖는다. 기재(10)는, 바람직하게는 기재 필름(11)과, 당해 기재 필름(11) 상에 배치되어 있는 가변색층(12)을 구비한다. 이러한 기재(10)에서는, 기재 필름(11)과 가변색층(12)은 접하고 있다. 도 1은 가변색층(12)이 점착제층(22) 측에 배치되어 있는 기재(10)를 예시적으로 나타낸다. 이 경우, 점착 시트 X는, 점착제층(21)과, 기재 필름(11)과, 가변색층(12)과, 점착제층(22)을, 두께 방향 H로 차례로 구비한다. 이러한 점착 시트 X는, 예를 들어 디스플레이 패널(화소 패널 및 커버 부재 등의 요소를 포함하는 적층 구조를 가짐)에서의 화소 패널의 화상 표시 측에 배치되는 광학적으로 투명한 점착 시트(광학 점착 시트)로서 사용된다. 즉, 점착 시트 X는, 광학 용도의 가변색 점착 시트이다. 디스플레이 패널로서는, 예를 들어 유기 EL 패널 및 액정 패널을 들 수 있다.
기재 필름(11)은, 지지 기능을 갖는 필름이다. 기재 필름(11)은, 예를 들어 가요성을 갖는 투명한 수지 필름이다. 기재 필름(11)의 재료로서는, 예를 들어 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 셀룰로오스 수지 및 폴리스티렌 수지를 들 수 있다. 폴리에스테르 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트를 들 수 있다. 폴리올레핀 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 시클로올레핀 폴리머(COP)를 들 수 있다. 기재 필름(11)의 재료로서는, 투명성 및 강도의 관점에서, 바람직하게는 폴리에스테르 수지 또는 폴리카르보네이트 수지가 사용된다. 폴리에스테르 수지가 사용되는 경우, 보다 바람직하게는 PET가 사용된다.
기재 필름(11)은, 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 벤조트리아졸 자외선 흡수제, 히드록시페닐트리아진 자외선 흡수제, 벤조페논 자외선 흡수제, 살리실산에스테르 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트 자외선 흡수제 및 니켈 착염 자외선 흡수제를 들 수 있다. 자외선 흡수제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 자외선 흡수제가 배합된 수지 필름의 시판품으로서는, 예를 들어 코니카 미놀타사제의 「KC4UYW」 및 「KC2UA」를 들 수 있다(모두 트리아세틸셀룰로오스 필름임). 또한, 기재 필름(11)은, 자외선 흡수제가 배합되어 있지 않아도 자외선 흡수성을 갖는 재료로 형성된 필름이어도 된다. 그러한 자외선 흡수성 필름으로서는, 예를 들어 폴리이미드 필름을 들 수 있다. 폴리이미드 필름의 시판품으로서는, 예를 들어 도레이 듀퐁사제의 「캡톤 200H」를 들 수 있다.
기재 필름(11)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 15㎛ 이상이다. 기재 필름(11)의 두께는, 점착 시트 X의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 150㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 80㎛ 이하이다.
가변색층(12)은, 폴리머 성분과, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제를 포함한다. 가변색층(12)은, 예를 들어 폴리머 성분과, 발색성 화합물과, 광 산 발생제를 함유하는 가변색 수지 조성물로 형성된 수지 경화층이다.
폴리머 성분은, 가변색층(12)의 성형 재료이다. 폴리머 성분으로서는, 예를 들어, 열경화성 수지 및 열가소성 수지를 들 수 있다. 열경화성 수지로서는, 예를 들어 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지 및 페놀 수지를 들 수 있다. 열가소성 수지로서는, 예를 들어 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리염화비닐 수지 및 셀룰로오스 수지를 들 수 있다. 폴리머 성분은, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
아크릴 수지로서는, 예를 들어 폴리(메트)아크릴산메틸, 폴리(메트)아크릴산에틸, 폴리(메트)아크릴산프로필, 폴리(메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산메틸·(메트)아크릴산부틸공중합체, (메트)아크릴산에틸·(메트)아크릴산부틸공중합체, 에틸렌·(메트)아크릴산메틸공중합체 및 스티렌·(메트)아크릴산메틸공중합체를 들 수 있다. 아크릴 수지로서는, 투명성 및 내후성의 관점에서, 폴리메타크릴산메틸(PMMA)이 바람직하다.
폴리에스테르 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 및 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 호모폴리에스테르 수지를 들 수 있다. 폴리에스테르 수지로서는, 포화 공중합 폴리에스테르 수지도 들 수 있다. 포화 공중합 폴리에스테르 수지란, 호모폴리에스테르 수지(PET, PBT, PEN 등)를 형성하기 위한 디카르복실산 및 디올과, 이들과는 다른 디카르복실산(이종 디카르복실산) 및/또는 디올(이종 디올)을 포함하는 모노머 성분의 중축합 반응에 의해 생기는 폴리에스테르 수지 중, 탄소-탄소 불포화 결합을 실질적으로 포함하지 않는 수지이다. 이종 디카르복실산으로서는, 예를 들어 숙신산, 아디프산, 테레프탈산 및 이소프탈산을 들 수 있다. 이종 디올로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 1,4-부탄디올, 디에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디메탄올 및 시클로헥산글리콜을 들 수 있다.
발색성 화합물로서는, 예를 들어 류코 색소, 트리아릴메탄 색소, 디페닐메탄 색소, 플루오란 색소, 스피로피란 색소 및 로다민 색소를 들 수 있다. 발색성 화합물은, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
류코 색소로서는, 예를 들어 2'-아닐리노-6'-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-3'-메틸스피로[프탈라이드-3,9'-[9H]크산텐], 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디프로필아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디메틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-크실리디노플루오란, 및 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-4-아자프탈라이드를 들 수 있다.
트리아릴메탄 색소로서는, 예를 들어 p,p',p"-트리스-디메틸아미노트리페닐메탄을 들 수 있다. 디페닐메탄 색소로서는, 예를 들어 4,4-비스-디메틸아미노페닐벤즈히드릴벤질에테르를 들 수 있다. 플루오란 색소로서는, 예를 들어 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란을 들 수 있다. 스피로피란 색소로서는, 예를 들어 3)-메틸스피로디나프토피란을 들 수 있다. 로다민 색소로서는, 예를 들어 로다민-B-아닐리노락탐을 들 수 있다.
가변색층(12)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 발색성 화합물로서는, 바람직하게는 류코 색소, 보다 바람직하게는 2'-아닐리노-6'-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-3'-메틸스피로[프탈라이드-3,9'-[9H]크산텐]이 사용된다.
폴리머 성분 100질량부에 대한 발색성 화합물의 배합량은, 가변색층(12)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 1질량부 이상, 더욱 바람직하게는 1.5질량부 이상이다. 동 배합량은, 폴리머 성분에 대한 발색성 화합물의 양호한 용해성·분산성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 7질량부 이하, 더욱 바람직하게는 5질량부 이하이다.
광 산 발생제는, 소정의 파장 또는 파장 범위의 광이 조사됨으로써 여기되어, 분해되어 산 발생 반응을 야기하여, 산을 발생시킨다. 가변색층(12)은, 그러한 광 산 발생제로서, 적어도 하나의 수식 페닐기를 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물(수식 TPS 화합물)을 포함한다. 수식 페닐기는, 적어도 하나의 치환기를 갖는 페닐기이다. 수식 TPS 화합물은, 수식 트리페닐술포늄(수식 TPS)과 음이온의 염이다. 이 화합물의 수식 TPS(수식 TPS 화합물의 양이온 부분)는 트리페닐술포늄(TPS: 치환기를 갖지 않는 3개의 페닐기가 S와 결합하고 있음)에서의 S-C 결합(제1 S-C 결합)보다 짧은 S-C 결합(제2 S-C 결합)을 적어도 하나 갖는다. 제1 S-C 결합은, 구체적으로는, TPS에 있어서, 황 원자와 결합하고 있는 비수식(비치환) 페닐기의 탄소와, 황 원자의 결합이다. 제2 S-C 결합은, 구체적으로는, 수식 TPS에 있어서, 황 원자와 결합하고 있는 수식(치환) 페닐기의 탄소와, 황 원자의 결합이다. S-C 결합이 짧을수록, 당해 S-C 결합의 결합력은 강하다. 상기 수식 TPS의 S-C 결합(제2 S-C 결합)의 길이는, 1.804Å　미만이고, 바람직하게는 1.800Å　이하, 보다 바람직하게는 1.790Å　이하이다.
이러한 수식 TPS 화합물은, TPS 화합물보다, 자연광에 의한 분해를 일으키기 어렵다. 수식 페닐기와 황 원자 사이의 S-C 결합을 짧게 하는 관점에서, 당해 수식 페닐기가 갖는 치환기는, 바람직하게는 전자 공여성 치환기이다. 즉, 수식 페닐기는, 바람직하게는 전자 공여성 치환기를 갖는 페닐기이다. 또한, 수식 TPS 화합물에서의 수식 페닐기의 수는, 1, 2 또는 3이다. 자연광에 의한 수식 TPS 화합물의 분해를 억제하는 관점에서, 수식 TPS 화합물은, 바람직하게는 2 이상의 수식 페닐기를 갖는다. 치환기를 하나 갖는 수식 페닐기를 3개 갖는 수식 TPS를, 화학식 (1)로서 하기에 나타낸다.
화학식 (1)에 있어서, R1, R2, R3은, 각각, 바람직하게는 전자 공여성 치환기이다. 전자 공여성 치환기는, 바람직하게는 알킬기(시클로알킬기를 제외함), 시클로알킬기, 히드록시기, 알콕시기, 아미노기 및 알킬실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나이다. 즉, 수식 페닐기는, 알킬기(시클로알킬기를 제외함), 시클로알킬기, 히드록시기, 알콕시기, 아미노기 및 알킬실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를, 전자 공여성 치환기로서 갖는다.
알킬기는, 예를 들어 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다. 탄소수 1 내지 5의 알킬기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, s-펜틸기 및 t-펜틸기를 들 수 있다. 알킬기로서는, 양호한 전자 공여성의 관점에서, t-부틸기(t-Bu)가 바람직하다.
시클로알킬기는, 예를 들어 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기이다. 그러한 시클로알킬기로서는, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기를 들 수 있다.
알콕시기는, 예를 들어 탄소수 1 내지 5의 알콕시기이다. 그러한 알콕시기로서는, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, s-부톡시기 및 t-부톡시기를 들 수 있다. 알콕시기로서는, 양호한 전자 공여성 및 합성의 용이성의 관점에서, 메톡시기(OMe)가 바람직하다.
아미노기로서는, 예를 들어 모노알킬아미노기 및 디알킬아미노기를 들 수 있다. 모노알킬아미노기로서는, 예를 들어 N-메틸아미노기 및 N-에틸아미노기를 들 수 있다. 디알킬아미노기로서는, 예를 들어 N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기 및 N-메틸-N-에틸아미노기를 들 수 있다.
알킬실릴기로서는, 예를 들어 각 알킬기의 탄소수가 1 내지 5인 알킬실릴기를 들 수 있다. 그러한 알킬실릴기로서는, 예를 들어 트리메틸실릴기 및 트리이소프로필실릴기를 들 수 있다.
화학식 (1)에 있어서, R1, R2, R3은, 서로, 달라도 되고, 동일해도 된다. 수식 TPS 화합물의 합성의 용이성의 관점에서, R1, R2, R3은, 모두 동일한 것이 바람직하다.
수식 페닐기가 하나의 전자 공여성 치환기를 갖는 경우, 당해 전자 공여성 치환기는, 페닐기에 대한 전자 공여 기능을 효과적으로 발휘하여 S-C 결합을 짧게 하는 관점에서, 수식 페닐기에서의 파라 위치에 위치하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 수식 페닐기와 결합하고 있는 황 원자와, 전자 공여성 치환기가, 파라 위치에 위치하는 것이 바람직하다. 수식 TPS가 복수의 수식 페닐기를 갖는 경우, 모든 수식 페닐기에 있어서, 전자 공여성 치환기가 파라 위치에 위치하는 것이 바람직하다. 수식 페닐기는, 바람직하게는, 파라 위치의 전자 공여성 치환기에 더하여, 오르토 위치의 전자 공여성 치환기와 메타 위치의 전자 공여성 치환체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 더 갖는다. 하나의 수식 페닐기가 갖는 복수의 전자 공여성 치환기는, 모두 동일한 것이 바람직하다.
수식 TPS는, 바람직하게는, 하기의 화학식 (2)로 나타내어지는 트리스(4-tert-부틸페닐)술포늄, 하기의 화학식 (3)으로 나타내어지는 트리스(4-메톡시페닐)술포늄, 하기의 화학식 (4)로 나타내어지는 트리스(3,4-디메톡시페닐)술포늄, 및 하기의 화학식 (5)로 나타내어지는 트리스(2,3,4-트리메톡시페닐)술포늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이다.
수식 TPS 화합물의 음이온으로서는, 예를 들어 Cl-, Br-, I-, ZnCl3 -, HSO3 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, CH3SO3 -, CF3SO3 -, C4F9SO3 -, (C6F5)4B-, (C4H9)4B-, 및 (C4F9SO2)2N-를 들 수 있다. 음이온으로서는, 바람직하게는 C4F9SO3 -(퍼플루오로-1-부탄술포네이트), 및 (C4F9SO2)2N-(비스((퍼플루오로부틸)술포닐)아미드 음이온)을 들 수 있다.
수식 TPS 화합물은, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 수식 TPS 화합물은, 바람직하게는 트리스(4-tert-부틸페닐)술포늄·퍼플루오로-1-부탄술포네이트, 트리스(4-tert-부틸페닐)술포늄·비스((퍼플루오로부틸)술포닐)아미드, 트리스(4-메톡시페닐)술포늄·퍼플루오로-1-부탄술포네이트, 트리스(3,4-디메톡시페닐)술포늄·트리플루오로메탄술폰산, 및 트리스(2,3,4-트리메톡시페닐)술포늄·트리플루오로메탄술폰산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이다.
발색성 화합물 100질량부에 대한 광 산 발생제의 배합량은, 가변색층(12)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 100질량부 이상, 보다 바람직하게는 300질량부 이상, 더욱 바람직하게는 500질량부 이상이다. 동 배합량은, 점착 시트 X의 색상의 내구성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 1000질량부 이하, 보다 바람직하게는 900질량부 이하, 더욱 바람직하게는 800질량부 이하이다.
폴리머 성분 100질량부에 대한 광 산 발생제의 배합량은, 가변색층(12)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 1질량부 이상, 보다 바람직하게는 2질량부 이상, 더욱 바람직하게는 3질량부 이상이다. 동 배합량은, 점착 시트 X의 내구성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 20질량부 이하, 보다 바람직하게는 15질량부 이하, 더욱 바람직하게는 12질량부 이하이다.
가변색 수지 조성물은, 필요에 따라 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들어, 용제, 산화 방지제, 대전 방지제 및 증감제를 들 수 있다.
용제로서는, 예를 들어 아세트산에틸, 메틸에틸케톤 및 톨루엔이 사용된다. 용제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
산화 방지제로서는, 예를 들어 페놀계 산화 방지제, 포스파이트계 산화 방지제 및 아민계 산화 방지제를 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로서는, 예를 들어 힌더드 페놀계 산화 방지제를 들 수 있다. 산화 방지제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
가변색층(12)은, 예를 들어 상술한 가변색 수지 조성물(바니시)을 기재 필름(11) 상에 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조 및 경화시킴으로써, 형성할 수 있다. 폴리머 성분으로서 열가소성 수지를 사용하는 경우, 당해 폴리머 성분과, 착색제와, 필요에 따라 배합되는 다른 성분을, 용제에 용해 및 분산시킴으로써, 가변색 수지 조성물을 조제할 수 있다. 폴리머 성분으로서 열경화성 수지를 사용하는 경우, 당해 폴리머 성분을 형성하는 모노머 성분과, 착색제와, 필요에 따라 배합되는 다른 성분을, 용제에 용해 및 분산시킴으로써, 가변색 수지 조성물을 조제할 수 있다.
가변색층(12)의 두께는, 가변색층(12)에 있어서 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 3㎛ 이상, 보다 바람직하게는 7㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이상이다. 가변색층(12)의 두께는, 점착 시트 X의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 30㎛ 이하이다.
가변색층(12)의 유리 전이 온도는, 저분자량 성분으로서의 발색성 화합물 및 수식 TPS 화합물의 가변색층(12) 내에서의 열확산을 억제하는 관점에서, 바람직하게는 40℃ 이상, 보다 바람직하게는 60℃ 이상, 더욱 바람직하게는 80℃ 이상이다. 가변색층(12)의 유리 전이 온도는, 기재 필름(11)의 양호한 가공성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 120℃ 이하, 보다 바람직하게는 100℃ 이하, 더욱 바람직하게는 90℃ 이하이다. 가변색층(12)의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 점착제층(21, 22)의 유리 전이 온도보다 높다.
기재(10)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 8㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 기재(10)의 두께는, 점착 시트 X의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 150㎛ 이하, 특히 바람직하게는 100㎛ 이하이다.
점착제층(21)은, 점착제 조성물(제1 점착제 조성물)로 형성된 감압 접착제층이다. 점착제 조성물은, 베이스 폴리머를 포함한다. 베이스 폴리머로서는, 점착성을 발현시키는 점착 성분이다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들어 아크릴 폴리머, 폴리우레탄 폴리머, 폴리아미드 폴리머 및 폴리비닐에테르 폴리머를 들 수 있다. 베이스 폴리머는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 점착제층(21)에 있어서 양호한 점착성 및 투명성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는, 아크릴 폴리머가 바람직하다.
아크릴 폴리머는, (메트)아크릴산에스테르를 50질량％ 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 「(메트)아크릴」은, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다. (메트)아크릴산에스테르로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산알킬에스테르가 사용되고, 보다 바람직하게는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 20인 (메트)아크릴산알킬에스테르가 사용된다.
(메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 직쇄상 또는 분지상의 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있다. 그러한 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산이소프로필, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산네오펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실, (메트)아크릴산이소트리데실 및 (메트)아크릴산테트라데실을 들 수 있다. (메트)아크릴산알킬에스테르는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
모노머 성분에서의 (메트)아크릴산알킬에스테르의 비율은, 점착제층(21)에 있어서 점착성 등의 기본 특성을 적절하게 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량％ 이상, 보다 바람직하게는 60질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 70질량％ 이상이다. 동 비율은, 예를 들어 99질량％ 이하이다.
모노머 성분은, (메트)아크릴산알킬에스테르와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들어 수산기 함유 모노머, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머, 및 카르복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머에의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다.
공중합성 모노머는, 바람직하게는 수산기 함유 모노머, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머, 및 카르복시기 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함한다. 보다 바람직하게는, 공중합성 모노머는, 수산기 함유 모노머 및/또는 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머를 포함한다.
수산기 함유 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시부틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필및 (메트)아크릴산4-히드록시부틸을 들 수 있다. 수산기 함유 모노머로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산2-히드록시에틸이 사용되고, 보다 바람직하게는 아크릴산2-히드록시에틸이 사용된다.
모노머 성분에서의 수산기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머에의 가교 구조의 도입, 및 점착제층(21)에서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 1질량％ 이상, 보다 바람직하게는 3질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 5질량％ 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(21)에서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련됨)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 30질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20질량％ 이하이다.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 예를 들어 N-비닐-2-피롤리돈, N-메틸비닐피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘 및 N-비닐피페라진을 들 수 있다. 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 바람직하게는 N-비닐-2-피롤리돈이 사용된다.
모노머 성분에서의, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 비율은, 점착제층(21)에서의 응집력의 확보, 및 점착제층(21)에서의 피착체에 대한 밀착력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 1질량％ 이상, 보다 바람직하게는 3질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 5질량％ 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(21)에서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관련됨)의 조정의 관점에서, 바람직하게는 30질량％ 이하, 보다 바람직하게는 20질량％ 이하이다.
모노머 성분은, 다른 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 산 무수물 모노머, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 시아노기 함유 모노머, 알콕시기 함유 모노머 및 방향족 비닐화합물을 들 수 있다.
공중합성 모노머는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
아크릴 폴리머는, 상술한 모노머 성분을 중합시킴으로써 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 괴상 중합 및 유화 중합을 들 수 있고, 바람직하게는 용액 중합을 들 수 있다. 중합의 개시제로서는, 예를 들어 열중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대하여 예를 들어 0.05질량부 이상이며 또한 예를 들어 1질량부 이하이다.
열중합 개시제로서는, 예를 들어 아조 중합 개시제 및 과산화물 중합 개시제를 들 수 있다. 아조 중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 및 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸을 들 수 있다. 과산화물 중합 개시제로서는, 예를 들어 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼말레에이트 및 과산화 라우로일을 들 수 있다.
베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(21)에서의 응집력의 확보의 관점에서, 바람직하게는 100000 이상, 보다 바람직하게는 300000 이상, 더욱 바람직하게는 500000 이상이다. 동 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 5000000 이하, 보다 바람직하게는 3000000 이하, 더욱 바람직하게는 2000000 이하이다. 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔·투과·크로마토그래프(GPC)에 의해 측정하여 폴리스티렌 환산에 의해 산출된다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더욱 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들어 -80℃ 이상이다.
점착제 조성물은, 베이스 폴리머에의 가교 구조의 도입의 관점에서, 가교제를 함유해도 된다. 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 옥사졸린 가교제, 아지리딘 가교제, 카르보디이미드 가교제 및 금속킬레이트 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
이소시아네이트 가교제로서는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 및 디페닐메탄디이소시아네이트를 들 수 있다. 또한, 이소시아네이트 가교제로서는, 이들이소시아네이트의 유도체도 들 수 있다. 당해 이소시아네이트 유도체로서는, 예를 들어 이소시아누레이트 변성체 및 폴리올 변성체를 들 수 있다. 이소시아네이트 가교제의 시판품으로서는, 예를 들어 코로네이트 L(톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 도소제) 및 타케네이트 D110N(크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 미쓰이 가가쿠제)을 들 수 있다.
에폭시 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로히드린형의 에폭시 수지, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올글리시딜에테르 및 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르를 들 수 있다.
가교제의 배합량은, 점착제층(21)의 응집력을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.05질량부 이상, 더욱 바람직하게는 0.07질량부 이상이다. 점착제층(21)에 있어서 양호한 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 가교제의 배합량은, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 5질량부 이하, 더욱 바람직하게는 3질량부 이하이다.
점착제 조성물은, 필요에 따라 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들어, 실란 커플링제, 자외선 흡수제, 점착성 부여제, 가소제, 연화제, 산화 방지제, 계면 활성제 및 대전 방지제를 들 수 있다.
자외선 흡수제로서는, 예를 들어 벤조트리아졸 자외선 흡수제, 히드록시페닐트리아진 자외선 흡수제, 벤조페논 자외선 흡수제, 살리실산에스테르 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트 자외선 흡수제 및 니켈 착염 자외선 흡수제를 들 수 있다. 자외선 흡수제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
점착제층(21)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 점착제층(21)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성 및 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
점착제층(22)은, 점착제 조성물(제2 점착제 조성물)로 형성된 감압 접착제층이다. 제2 점착제 조성물은, 베이스 폴리머와, 필요에 따라 다른 성분을 포함한다. 제2 점착제 조성물의 조성과 상술한 제1 점착제 조성물의 조성은, 동일해도 되고, 달라도 된다. 점착제층(21, 22)에 있어서 서로 동질·동등인 특성을 확보하는 관점에서, 제2 점착제 조성물의 조성과 제1 점착제 조성물의 조성은, 동일한 것이 바람직하다. 점착제층(21, 22)의 특성이 동질·동등인 것은, 양면 점착 시트로서의 점착 시트 X를 표리의 구별을 하지 않고 작업 효율적으로 사용할 수 있다는 점에서 바람직하다.
점착제층(22)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 점착제층(22)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성 및 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
점착 시트 X의, CIE-XYZ 표색계에서의 파장 380nm 내지 780nm의 시감 투과율(Y값)은 점착 시트 X의 투명성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 80％ 이상, 보다 바람직하게는 85％ 이상, 더욱 바람직하게는 90％ 이상이다. 이러한 구성은, 구체적으로는, 점착 시트 X를 피착체에 접합한 후에 점착 시트 X와 피착체 사이에서의 이물 및 기포의 유무를 검사하는 데 적합하다. 동 시감 투과율(Y값)은 예를 들어 100％ 이하이다.
점착 시트 X를, 파장 320 내지 390nm의 자외선에 의해 조사 적산 광량 6000mJ/cm2의 조건에서 조사한 후, 당해 점착 시트 X의 상기 시감 투과율(Y값)은 점착 시트 X의 충분한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 50％ 이하, 보다 바람직하게는 40％ 이하, 더욱 바람직하게는 30％ 이하, 한층 바람직하게는 25% 이하, 한층 더 바람직하게는 22% 이하, 특히 바람직하게는 19% 이하이다. 동 시감 투과율(Y값)은 예를 들어 1％ 이상이다.
점착 시트 X는, 예를 들어 다음과 같이 하여 제조할 수 있다.
먼저, 기재(10)와, 점착제층(21)과, 점착제층(22)을, 각각 준비한다. 기재(10)는, 상술한 바와 같이 기재 필름(11) 상에 가변색층(12)을 형성함으로써, 제작할 수 있다. 점착제층(21)은, 제1 박리 라이너 상에 제1 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 점착제층(22)은, 제2 박리 라이너 상에 제2 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다.
다음으로, 기재(10)의 제1 면(10a)에 점착제층(21)을 접합하고, 제2 면(10b)에 점착제층(22)을 접합한다. 이에 의해, 제1·제2 박리 라이너 사이에 끼인 점착 시트 X가 얻어진다. 박리 라이너는, 점착 시트 X를 사용할 때 필요에 따라 점착 시트 X로부터 박리된다.
점착제층(21)은, 기재(10)의 제1 면(10a) 상에 제1 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성해도 된다. 점착제층(22)은, 기재(10)의 제2 면(10b) 상에 제2 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 이러한 방법에 의해서도 점착 시트 X를 제조할 수 있다.
도 2a 내지 도 2c는 점착 시트 X의 사용 방법의 일 예를 나타낸다. 본 방법은, 준비 공정과, 접합 공정과, 변색 부분 형성 공정을 포함한다.
먼저, 준비 공정에서는, 도 2a에 나타내는 바와 같이, 점착 시트 X와, 제1 부재(31)와, 제2 부재(32)를 준비한다. 제1 부재(31)는, 예를 들어 유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널이다. 제1 부재(31)는, 다른 전자 디바이스, 및 광학 디바이스여도 된다. 제2 부재(32)는, 예를 들어 투명 기재이다. 투명 기재로서는, 투명 플라스틱 기재 및 투명 유리 기재를 들 수 있다.
다음으로, 접합 공정에서는, 도 2b에 나타내는 바와 같이, 점착 시트 X를 개재시켜 제1 부재(31) 및 제2 부재(32)를 접합한다. 이에 의해, 적층체 Z가 얻어진다. 적층체 Z에 있어서, 점착 시트 X는, 제1 부재(31)의 두께 방향의 한쪽 면에 접촉하도록 배치되고, 제2 부재(32)는, 그 점착 시트 X의 두께 방향의 한쪽 면에 접촉하도록 배치된다.
접합 공정 후, 필요에 따라, 부재(31, 32)와 점착 시트 X 사이에서의 이물 및 기포의 유무를 검사한다.
다음으로, 변색 부분 형성 공정에서는, 도 2c에 나타내는 바와 같이, 적층체 Z에서의 가변색층(12)의 소정 개소에 대하여 소정의 파장 또는 파장 범위의 광을 조사하여, 가변색층(12)에 있어서 변색 부분(12a)을 형성한다. 예를 들어, 투명한 제2 부재(32) 측으로부터, 가변색층(12)에서의 소정 영역을 마스크하기 위한 마스크 패턴(도시 생략)을 통해, 가변색층(12)에 대하여 광 조사한다. 가변색층(12)에 있어서 광 조사를 받은 부분에서는, 광 산 발생제로서의 수식 TPS 화합물로부터 산이 발생하고, 당해 산과의 반응에 의해 발색성 화합물이 발색한다. 이에 의해, 가변색층(12)에 변색 부분(12a)이 형성된다.
본 공정에서의 광 조사용의 광원으로서는, 예를 들어 자외선 LED 램프, 고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프를 들 수 있다. 또한, 본 공정의 광 조사에 있어서는, 광원으로부터 출사되는 광의 일부의 파장 영역을 커트하기 위한 파장 커트 필터를, 필요에 따라 사용해도 된다.
예를 들어 이상과 같이 하여, 부재 간의 접합에 점착 시트 X를 사용할 수 있다. 제1 부재(31)가 유기 EL 패널 등의 디스플레이 패널인 경우, 당해 패널이 구비하는 화소 패널 상에 형성된 금속 배선에 대응하는(즉 대면하는) 패턴 형상으로 변색 부분(12a)을 마련함으로써, 당해 금속 배선에서의 외광 반사를 억제할 수 있다.
점착 시트 X는, 상술한 바와 같이, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제로서의 수식 TPS 화합물을 포함하는 가변색층(12)을 갖는다. 그 때문에, 점착 시트 X를 피착체에 접합한 후, 점착 시트 X에서의 변색 예정 부분(동 시트의 평면에서 보았을 때의 적어도 일부)에 대한 광 조사에 의해, 당해 부분을 국소적으로 변색시킬 수 있다. 이러한 점착 시트 X에서는, 접합 후이며 변색 부분 형성 전에, 점착 시트 X와 피착체 사이에서의 이물 및 기포의 유무를 검사할 수 있다.
또한, 점착 시트 X의 가변색층(12)은, 광 산 발생제로서 상술한 수식 TPS 화합물을 포함한다. 이 수식 TPS 화합물은, TPS(치환기를 갖지 않는 3개의 페닐기가 S와 결합하고 있음)에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 적어도 하나 갖는다. 이러한 수식 TPS 화합물은, TPS 화합물보다, 자연광에 의한 분해(산의 발생)를 일으키기 어렵다. 이러한 수식 TPS 화합물을 광 산 발생제로서 가변색층(12)에 포함하는 점착 시트 X는, 양호한 투명 안정성을 실현하는 데 적합하다.
이상과 같이, 점착 시트 X는, 피착체에 대한 접합 후에 적어도 일부가 변색 가능함과 함께, 양호한 투명 안정성을 실현하는 데 적합하다.
점착 시트 X는, 도 3에 나타내는 바와 같은 편면 점착 시트여도 된다. 도 3에 나타내는 점착 시트 X는, 점착제층(22)을 구비하지 않는 것 이외에는, 도 1에 나타내는 점착 시트 X와 마찬가지이다. 구체적으로는, 도 3의 점착 시트 X는, 기재(10)와, 당해 기재(10)의 제1 면(10a) 측에 배치된 점착제층(21)을 구비한다. 또한, 점착 시트 X는, 도 4에 나타내는 바와 같은 편면 점착 시트여도 된다. 도 4에 나타내는 점착 시트 X는, 점착제층(21)을 구비하지 않는 것 이외에는, 도 1에 나타내는 점착 시트 X와 마찬가지이다. 구체적으로는, 도 4의 점착 시트 X는, 기재(10)와, 당해 기재(10)의 제2 면(10b) 측에 배치된 점착제층(22)을 구비한다. 이들과 같은 편면 점착 시트로서의 점착 시트 X는, 예를 들어 마킹 전사 시트로서 사용할 수 있다.
점착 시트 X는, 도 5에 나타내는 바와 같이, 기재(10) 대신에 가변색 기재(10A)를 구비해도 된다. 가변색 기재(10A)는, 상술한 기재 필름(11)의 지지 기능과, 상술한 가변색층(12)의 변색 기능을 겸비한다. 이러한 가변색 기재(10A)는, 예를 들어 폴리머 성분과, 발색성 화합물과, 수식 TPS 화합물(광 산 발생제)과, 필요에 따라 배합되는 다른 성분을 함유하는 가변색 수지 조성물의 압출 성형에 의해 제작할 수 있다. 폴리머 성분, 발색성 화합물, 수식 TPS 및 다른 성분에 대해서는, 가변색층(12)에 관하여 상술한 폴리머 성분, 발색성 화합물, 수식 TPS 화합물 및 다른 성분과 마찬가지이다.
가변색 기재(10A)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성과 가변색 기재(10A)의 양호한 착색성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 8㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 기재(10)의 두께는, 점착 시트 X의 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 150㎛ 이하, 특히 바람직하게는 100㎛ 이하이다.
점착 시트 X는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 기재(10)를 갖지 않고 가변색 점착제층(23)을 갖는 무기재의 가변색 점착 시트여도 된다. 가변색 점착제층(23)은, 두께 방향 H의 한쪽에 점착면(23a)을 갖고, 두께 방향 H의 다른 쪽에 점착면(23b)을 갖는다. 즉, 도 6에 나타내는 점착 시트 X는, 무기재의 양면 점착 시트이다. 가변색 점착제층(23)은, 상술한 가변색층(12)의 변색 기능과, 상술한 점착제층(21) 또는 점착제층(22)의 점착 기능을 겸비한다. 이러한 가변색 점착제층(23)은, 예를 들어 점착제 조성물(제3 점착제 조성물)로 형성된 감압 접착제층이다. 제3 점착제 조성물은, 베이스 폴리머와, 상술한 발색성 화합물과, 상술한 수식 TPS 화합물과, 필요에 따라 다른 성분을 포함한다. 가변색 점착제층(23)은, 박리 라이너 상에 제3 점착제 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 제3 점착제 조성물의 베이스 폴리머 및 다른 성분에 대해서는, 제1 점착제 조성물에 관하여 상술한 베이스 폴리머 및 다른 성분과 마찬가지이다. 제3 점착제 조성물의 발색성 화합물 및 수식 TPS 화합물에 대해서는, 가변색층(12)에 관하여 상술한 발색성 화합물 및 수식 TPS 화합물과 마찬가지이다.
가변색 점착제층(23)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성과 충분한 착색성의 관점에서, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이상이다. 가변색 점착제층(23)의 두께는, 점착 시트 X의 취급성 및 박형화의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하이다.
또한, 점착 시트 X는, 소정의 기재 필름과, 당해 기재 필름의 편면 상에 배치된 가변 점착제층(23)을 갖는 편면 점착 시트여도 된다. 점착 시트 X는, 소정의 기재 필름과, 당해 기재 필름의 한쪽 면 상에 배치된 가변 점착제층(23)과, 기재 필름의 다른 쪽 면 상에 배치된 추가의 가변색 점착제층(23)을 갖는 기재를 구비한 양면 점착 시트여도 된다.
[실시예]
본 발명에 대하여, 이하에 실시예를 나타내어 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 실시예에 한정되지는 않는다. 또한, 이하에 기재되어 있는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상술한 「발명을 실시하기 위한 형태」에 있어서 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 상한(「이하」 또는 「미만」으로 정의되어 있는 수치) 또는 하한(「이상」 또는 「초과하는」으로 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다.
〔실시예 1〕
<기재의 제작>
먼저, 폴리메타크릴산메틸수지(품명 「다이아날 BR-83」, PMMA 수지, 미쓰비시 케미컬사제)를 아세트산에틸에 용해하여, 수지 용액을 얻었다. 수지 용액은, 29질량％의 PMMA 수지를 함유한다. 다음으로, 수지 용액에 대하여 PMMA 수지 100질량부당, 발색성 화합물로서의 류코 색소(품명 「S-205」, 야마다 가가쿠 고교사제) 2질량부와, 제1 광 산 발생제로서의 트리스(4-tert-부틸페닐)술포늄염(Sigma-Aldrich사제의 트리스(4-tert-부틸페닐)술포늄·퍼플루오로-1-부탄술포네이트, 그 양이온은 상기의 화학식 (2)로 나타내어짐) 4질량부와, 산화 방지제(품명 「아데카스탭 AO-60」, 힌더드 페놀계 산화 방지제, ADEKA사제) 6질량부를 더하고 혼합하여, 가변색 수지 조성물을 조제하였다.
다음으로, 기재 필름으로서의 폴리카르보네이트(PC) 필름(품명 「DURABIO」, 두께 70㎛, 미쓰비시 케미컬사제) 상에, 가변색 수지 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 다음으로, 이 도막을, 130℃에서 3분간의 가열에 의해, 건조 및 경화시켰다. 이에 의해, 기재 필름 상에 두께 25㎛의 가변색층을 형성하였다. 이에 의해, 기재(기재 필름/가변색층)를 얻었다.
<가변색 점착 시트의 제작>
먼저, 양면 박리 라이너를 구비한 투명 점착 시트(품명 「LUCIACS CS9862UAS」, 베이스 폴리머로서 아크릴 폴리머를 함유하는 무기재의 투명 양면 점착 시트, 두께 50㎛, 닛토 덴코사제)로부터 한쪽의 박리 라이너를 박리하였다. 다음으로, 이 박리에 의해 노출된 점착 시트를, 상술한 기재의 가변색층 측에 접합하였다. 이상과 같이 하여, 실시예 1의 가변색 점착 시트를 제작하였다. 실시예 1의 가변색 점착 시트는, 기재(기재 필름/가변색층)와, 기재 필름 상의 점착제층(점착 시트)을 갖고, 점착제층 측 표면이 박리 라이너로 피복되어 있다.
〔실시예 2〕
기재의 제작에 있어서, 가변색층의 광 산 발생제로서, 제2 광 산 발생제로서의 트리스(4-메톡시페닐)술포늄염(산와 케미파사제의 트리스(4-메톡시페닐)술포늄·비스((퍼플루오로부틸)술포닐)아미드, 그 양이온은 상기의 화학식 (3)으로 나타내어짐) 4질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1의 가변색 점착 시트와 마찬가지로 하여, 실시예 2의 가변색 점착 시트(박리 라이너를 구비한 가변색 점착 시트)를 제작하였다.
〔실시예 3〕
기재의 제작에 있어서, 가변색층의 광 산 발생제로서, 제3 광 산 발생제로서의 트리스(3,4-메톡시페닐)술포늄염(그 양이온은 상기의 화학식 (4)로 나타내어짐) 4질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1의 가변색 점착 시트와 마찬가지로 하여, 실시예 3의 가변색 점착 시트(박리 라이너를 구비한 가변색 점착 시트)를 제작하였다. 제3 광 산 발생제는 다음과 같이 하여 얻었다.
먼저, 원료로서 3,4-디메톡시브로모톨루엔과 마그네슘을 사용하고, 또한 용매로서 테트라히드로푸란(THF)을 사용한 통상의 방법에 의해, 3,4-디메톡시페닐글리냐르 시약(0.5mol, 5.0등량)을 조제하였다. 또한, 염화티오닐(1당량)과 클로로트리메틸실란(2.5등량)을 THF에 용해시켜, THF 용액을 조제하였다. 그리고, 3,4-디메톡시페닐글리냐르 시약에 대하여, THF 용액을 0℃ 내지 실온의 온도 조건에서 첨가하여, 반응액을 얻었다. 다음으로, 이 반응액을 실온에서 1시간 교반하여 반응시켰다. 다음으로, 반응액에 진한 염산(농도: 약 35질량%)을 첨가한 후, 생성물을 디클로로메탄에 의해 2회 추출하였다. 생성물로서 얻어진 트리스(3,4-디메톡시페닐)술포늄·클로라이드를 세정한 후, 메탄올 중에서 트리플루오로메탄술폰산은(AgOTF)과 음이온의 이온 교환을 하게 하였다. 이로부터, 제3 광 산 발생제로서의 트리스(3,4-디메톡시페닐)술포늄·트리플루오로메탄술폰산을 얻었다.
〔실시예 4〕
기재의 제작에 있어서, 가변색층의 광 산 발생제로서, 제4 광 산 발생제로서의 트리스(2,3,4-메톡시페닐)술포늄염(그 양이온은 상기의 화학식 (5)로 나타내어짐) 4질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1의 가변색 점착 시트와 마찬가지로 하여, 실시예 4의 가변색 점착 시트(박리 라이너를 구비한 가변색 점착 시트)를 제작하였다. 제4 광 산 발생제는 다음과 같이 하여 얻었다.
먼저, 원료로서 2,3,4-트리메톡시브로모톨루엔과 마그네슘을 사용하고, 또한 용매로서 테트라히드로푸란(THF)을 사용한 통상의 방법에 의해, 2,3,4-트리메톡시페닐글리냐르 시약(0.5mol, 5.0등량)을 조제하였다. 또한, 염화티오닐(1당량)과 클로로트리메틸실란(2.5 등량)을 THF에 용해시켜, THF 용액을 조제하였다. 그리고, 2,3,4-트리메톡시페닐글리냐르 시약에 대하여, THF 용액을 0℃ 내지 실온의 온도 조건에서 첨가하여, 반응액을 얻었다. 다음으로, 반응액을 실온에서 1시간 교반하여 반응시켰다. 다음으로, 반응액에 진한 염산(농도: 약 35질량%)을 첨가한 후, 생성물을 디클로로메탄에 의해 2회 추출하였다. 생성물로서 얻어진 트리스(2,3,4-트리메톡시페닐)술포늄·클로라이드를 세정한 후, 메탄올 중에서 트리플루오로메탄술폰산은(AgOTF)과 음이온의 이온 교환을 하게 하였다. 이로부터, 제4 광 산 발생제로서의 트리스(2,3,4-디메톡시페닐)술포늄·트리플루오로메탄술폰산을 얻었다.
〔비교예 1〕
기재의 제작에 있어서, 가변색층의 광 산 발생제로서, 제5 광 산 발생제로서의 트리페닐술포늄 화합물(품명 「아데카 아클즈 SP-056」, 트리페닐술포늄·퍼플루오로-1-부탄술포네이트, ADEKA사제) 4질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1의 가변색 점착 시트와 마찬가지로 하여, 비교예 1의 가변색 점착 시트(박리 라이너를 구비한 가변색 점착 시트)를 제작하였다.
<광 산 발생제에서의 S-C 결합의 길이>
상술한 제1 내지 제5 광 산 발생제 각각에 대하여, 황 원자(S)와 결합하고 있는 탄소 원자(C)와 S의 결합(S-C 결합)의 길이를 조사하였다. 구체적으로는, Gaussian사제의 양자화학 계산 프로그램 Gaussian16에 의해, 밀도 범함수법(DFT)에 있어서, 광 산 발생제의 구조 최적화 계산을 실시하였다. 이에 의해, 광 산 발생제의 구조를 구하였다. 동 계산에서는, 범함수로서 B3LYP-3D(Grimme 분산력 보정된 B3LYP)를 사용하고, 기저함수계로서 6-31G(d,p)를 사용하였다. 광 산 발생제에서의 S-C 결합의 길이를 표 1에 나타낸다.
<광 조사 전의 투명성>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1의 가변색 점착 시트에 대하여, 다음과 같이 하여, 파장 380nm 내지 780nm에서의 시감 투과율(Y값)을 조사하였다.
먼저, 측정용 샘플을 제작하였다. 구체적으로는, 가변색 점착 시트(기재 필름/가변색층/점착제층/박리 라이너)에서의 점착제층으로부터 박리 라이너를 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층을 무알칼리 유리판(두께 0.55mm, 이글 유리, 마쯔나미 가라스사제)에 접합하고, 이에 의해 측정용 샘플을 얻었다. 그리고, 측정용 샘플에 대하여, 투과율 측정 장치(품명 「U4150형 분광 광도계」, 히타치 하이테크 사이언스사제)에 의해, 시감 투과율을 측정하였다(제1 투과율 측정). 이 투과율은, 구체적으로는, 측정용 샘플에 대한 파장 380nm 내지 780nm의 투과광의, CIE-XYZ 표색계에서의 투과율(Y값)이다. 본 측정에서는, 측정용 샘플에 대하여 그 무알칼리 유리 측으로부터 빛이 닿도록 측정용 샘플을 장치 내에 설치하였다. 또한, 본 측정에서는, 무알칼리 유리판에 대해서만 동일 조건에서 측정하여 얻어진 측정 결과(투과율 스펙트럼)를 베이스 라인으로서 사용하였다. 측정된 시감 투과율을, UV 조사 전의 초기의 Y값(％)으로서 표 1에 나타낸다.
<착색성>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1의 각 가변색 점착 시트의 가변색층에 대하여, 이하와 같이 하여, 자외선 조사에 의한 착색성을 조사하였다.
먼저, 가변색 점착 시트(기재 필름/가변색층/점착제층/박리 라이너)에 대하여 자외선(UV)을 조사하였다. 구체적으로는, 23℃ 및 상대 습도 50％의 환경하에서, 가변색 점착 시트에 대하여 가변색층 측으로부터 UV를 조사하였다. 이에 의해, 가변색층 중의 류코 색소와 광 산 발생제를 반응시켜, 당해 가변색층을 착색시켰다. UV 조사에서는, HOYA사제의 램프식 UV 조사 시스템(모델 번호 「UL-750」)에서의 고압 수은 램프를 자외 광원으로서 사용하고, 파장 320 내지 390nm의 범위에서의 조사 적산 광량을 6000mJ/cm2로 하였다.
다음으로, 측정용 샘플을 제작하였다. 구체적으로는, 자외선 조사 후의 상술한 가변색 점착 시트(기재 필름/가변색층/점착제층/박리 라이너)에서의 점착제층으로부터 박리 라이너를 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층을 무알칼리 유리판(두께 0.55mm, 이글 유리, 마쯔나미 가라스사제)에 접합하고, 이에 의해 측정용 샘플을 얻었다. 그리고, 측정용 샘플에 대하여, 투과율 측정 장치(품명 「U4150형 분광 광도계」, 히타치 하이테크 사이언스사제)에 의해, 시감 투과율을 측정하였다(제2 투과율 측정). 본 측정의 방법 및 조건은, 제1 투과율 측정의 방법 및 조건과 동일하다. 측정된 시감 투과율을, UV 조사 후의 Y값(％)으로서 표 1에 나타낸다. 실시예 1 내지 4 및 비교예 1의 가변색 점착 시트는, 자외선 조사에 의해 시감 투과율이 저하되었다(동일 정도의 착색성을 갖고 있었다).
<내광성 시험>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1의 각 가변색 점착 시트에 대하여, 이하와 같이 하여, 내광성 시험을 실시하였다.
먼저, 시험용 샘플을 제작하였다. 구체적으로는, 먼저, 가변색 점착 시트(기재 필름/가변색층/점착제층/박리 라이너)에서의 점착제층으로부터 박리 라이너를 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층을 무알칼리 유리판(두께 0.55mm, 이글 유리, 마쯔나미 가라스사제)에 접합하였다. 다음으로, 무알칼리 유리판 상의 가변색 점착 시트의 기재 상에, 두께 50㎛의 투명 점착 시트(품명 「LUCIACS CS9862UAS」, 무기재의 투명 양면 점착 시트, 닛토 덴코제)를 통해, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(품명 「KC4UYW」, 두께 40㎛, 코니카 미놀타사제)을 접합하였다. 다음으로, 이 TAC 필름 상에, 편면 점착제층을 구비한 UV 컷 유리 필름(품명 「U4-400CL」, NEXFILM사제)의 점착제층 측을 접합하였다. 이 유리 필름은, 파장 400nm까지의 자외 영역의 광을 커트하는 밴드 컷 필터 기능을 갖는다. 이상과 같이 하여, 시험용 샘플을 제작하였다. 이 시험용 샘플은, 무알칼리 유리판과, 가변색 점착 시트(점착제층/가변색층/기재 필름)와, 점착제층과, TAC 필름과, UV 컷 유리 필름을, 두께 방향으로 이 순으로 갖는다.
다음으로, 내광성 시험기(품명 「수퍼 크세논 웨더 미터 SX75」, 스가 시껭끼사제)에 의해, 시험용 샘플에 대하여 UV 컷 유리 필름 측으로부터 의사 태양광(단, 조도는 약 3배)을 조사하였다(내광성 시험). 본 시험에서는, 파장 300nm 내지 400nm에서의 조도가 120W인 크세논 램프를 광원으로서 사용하고, 조사 시간을 120시간으로 하였다.
그리고, 내광성 시험 후의 측정용 샘플에 대하여, 투과율 측정 장치(품명 「U4150형 분광 광도계」, 히타치 하이테크 사이언스사제)에 의해, 시감 투과율을 측정하였다(제3 투과율 측정). 본 측정의 방법 및 조건은, 제1 투과율 측정의 방법 및 조건과 동일하다. 측정된 시감 투과율을, 내광성 시험 후의 Y값(％)으로서 표 1에 나타낸다. 내광성 시험 전후의 Y값의 차 ΔY값(시험 전의 Y값-시험 후의 Y값)도, 표 1에 나타낸다.
비교예 1의 가변색 점착 시트의 가변색층은, 광 산 발생제로서 트리페닐술포늄 염(트리페닐술포늄 화합물)을 함유한다. 이러한 비교예 1의 가변색 점착 시트에서의 ΔY값은, 38.1％이며, 컸다. 이에 반해, 실시예 1 내지 4의 각 가변색 점착 시트의 가변색층은, 트리페닐술포늄에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 갖는 수식 트리페닐술포늄의 염(수식 트리페닐술포늄 화합물)을 광 산 발생제로서 함유한다. 이러한 실시예 1 내지 4의 각 가변색 점착 시트에서의 ΔY값은, 10.9%(실시예 1), 3.9％(실시예 2), 6.4%(실시예 3) 또는 1.8％(실시예 4)이며, 비교예 1의 가변색 점착 시트에서의 ΔY값보다, 상당 정도로 작았다.
[표 1]
Figure pat00006
X: 점착 시트(가변색 점착 시트)
H: 두께 방향
10: 기재
10a: 제1 면
10b: 제2 면
11: 기재 필름
12: 가변색층
12a: 변색 부분
21, 22: 점착제층
21a: 변색 부분
31: 제1 부재
32: 제2 부재

Claims (6)

  1. 점착제층을 구비하는 가변색 점착 시트이며,
    상기 가변색 점착 시트가, 상기 점착제층을 지지하는 기재를 더 구비하는 기재 구비 가변색 점착 시트, 또는 무기재의 가변색 점착 시트이며,
    상기 기재 또는 상기 점착제층이 가변색층을 포함하고,
    상기 가변색층이, 폴리머 성분과, 산과의 반응에 의해 발색하는 발색성 화합물과, 광 산 발생제를 포함하고,
    상기 광 산 발생제가, 적어도 하나의 수식 페닐기를 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물이며, 트리페닐술포늄에서의 S-C 결합보다 짧은 S-C 결합을 적어도 하나 갖는 수식 트리페닐술포늄 화합물인, 가변색 점착 시트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수식 페닐기가, 적어도 하나의 전자 공여성 치환기를 갖는 페닐기인, 가변색 점착 시트.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 전자 공여성 치환기가 상기 수식 페닐기에서의 파라 위치에 위치하는, 가변색 점착 시트.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 수식 페닐기가, 알킬기, 시클로알킬기, 히드록시기, 알콕시기, 아미노기 및 알킬실릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를, 상기 적어도 하나의 전자 공여성 치환기로서 갖는, 가변색 점착 시트.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 수식 트리페닐술포늄 화합물이 2 이상의 상기 수식 페닐기를 갖는, 가변색 점착 시트.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기재가 기재 필름을 더 구비하고, 당해 기재 필름과 상기 가변색층을 포함하는 다층 구조를 갖는, 가변색 점착 시트.
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