KR20230149790A - 표시 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 조작성이 뛰어난 신규 휴먼 인터페이스를 제공할 수 있다. 또는, 조작성이 뛰어난 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다. 또는, 신규 정보 처리 장치나 신규 표시 장치 등을 제공할 수 있다.
화상 정보를 공급받아 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 화상 정보를 공급하여 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는다. 입출력 장치는 표시 정보를 표시하는 복수의 표시부 및 하나의 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 검지부를 구비하고, 하나의 표시부 및 검지부가 배치되는 하나의 영역, 다른 표시부가 배치되는 다른 영역 및 하나의 영역과 다른 영역 사이에 끼워진 굴곡부를 구비한다. 또한, 연산 장치는 연산부와, 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 갖는 구성에 착상하였다.
화상 정보를 공급받아 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 화상 정보를 공급하여 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는다. 입출력 장치는 표시 정보를 표시하는 복수의 표시부 및 하나의 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 검지부를 구비하고, 하나의 표시부 및 검지부가 배치되는 하나의 영역, 다른 표시부가 배치되는 다른 영역 및 하나의 영역과 다른 영역 사이에 끼워진 굴곡부를 구비한다. 또한, 연산 장치는 연산부와, 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 갖는 구성에 착상하였다.
Description
본 발명의 일 형태는 화상 정보의 처리 및 표시 방법, 프로그램 및 프로그램이 기록된 기록 매체를 갖는 장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명의 일 형태는 표시부를 구비하는 정보 처리 장치에 처리된 정보를 포함하는 화상을 표시하는 화상 정보의 처리, 표시 방법 및 표시부를 구비하는 정보 처리 장치에 처리된 정보를 포함하는 화상을 표시시키는 프로그램 및 상기 프로그램이 기록된 기록 매체를 갖는 정보 처리 장치에 관한 것이다.
또한, 본 발명의 일 형태는 상기 기술 분야에 한정되지 않는다. 본 명세서 등에서 개시(開示)하는 발명의 일 형태의 기술 분야는 물건, 방법, 또는 제조 방법에 관한 것이다. 또는, 본 발명의 일 형태는 프로세스, 기계(machine), 제품(manufacture), 또는 조성물(composition of matter)에 관한 것이다. 더 구체적으로는, 본 명세서에서 개시하는 본 발명의 일 형태의 기술 분야로서는, 반도체 장치, 표시 장치, 발광 장치, 축전 장치, 기억 장치, 이들의 구동 방법, 또는 이들의 제조 방법을 일례로서 들 수 있다.
또한, 정보 전달 수단에 따른 사회 기반이 충실화되고 있다. 이로써, 다양하게 윤택한 정보를 직장이나 자택뿐만 아니라 출장지에서도 정보 처리 장치를 사용하여 취득, 가공 또는 발신할 수 있게 되었다.
이러한 배경에서 휴대 가능한 정보 처리 장치가 활발히 개발되고 있다.
예를 들어, 휴대 가능한 정보 처리 장치는 가지고 다니며 사용하는 경우가 많고, 낙하에 의하여 뜻밖의 힘이 정보 처리 장치 및 그것에 사용되는 표시 장치에 가해지는 경우가 있다. 파괴되기 어려운 표시 장치의 일례로서 발광층을 분리하는 구조체와 제 2 전극층의 밀착성을 높일 수 있는 구성이 알려져 있다(특허문헌 1).
예를 들어, 하우징의 정면 및 길이 방향의 상부에 표시 장치가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 휴대 전화기가 알려져 있다(특허문헌 2).
본 발명의 일 형태는 조작성이 뛰어난 신규 휴먼 인터페이스를 제공하는 것을 과제 중 하나로 한다. 또는, 조작성이 뛰어난 신규 정보 처리 장치를 제공하는 것을 과제 중 하나로 한다. 또는, 신규 정보 처리 장치나 신규 표시 장치 등을 제공하는 것을 과제 중 하나로 한다.
또한, 이들 과제의 기재는 다른 과제의 존재를 방해하는 것이 아니다. 또한, 본 발명의 일 형태는 이들 과제 모두를 해결할 필요는 없는 것으로 한다. 또한, 이들 외의 과제는 명세서, 도면, 청구항 등의 기재로부터 저절로 명확해지는 것이고 명세서, 도면, 청구항 등의 기재로부터 이들 외의 과제가 추출될 수 있다.
본 발명의 일 형태는 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급받아 제 1 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급하여 제 1 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는 정보 처리 장치이다.
그리고, 입출력 장치는 제 1 화상 정보를 공급받아 표시하는 제 1 표시부, 제 2 화상 정보를 공급받아 표시하는 제 2 표시부 및, 제 1 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 1 검지 정보를 공급하는 제 1 검지부 및, 제 1 표시부가 배치되는 제 1 영역, 제 2 표시부가 배치되는 제 2 영역 및, 제 1 영역과 제 2 영역 사이에 끼워진 제 1 굴곡부를 구비한다.
또한, 연산 장치는 연산부 및 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 구비하고, 연산부는 제 1 검지 정보에 기초하여 제 1 화상 정보 또는 제 2 화상 정보를 생성한다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 화상 정보를 공급받아 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 화상 정보를 공급하여 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는다. 입출력 장치는 표시 정보를 표시하는 복수의 표시부 및 하나의 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 검지부를 구비하고, 하나의 표시부 및 검지부가 배치되는 하나의 영역, 다른 표시부가 배치되는 다른 영역 및 하나의 영역과 다른 영역 사이에 끼워진 굴곡부를 구비한다. 또한, 연산 장치는 연산부와, 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 포함하여 구성된다. 이로써, 하나의 영역으로부터 공급된 검지 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 하나의 영역 및/또는 다른 영역에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 입출력 장치가 제 2 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 2 검지 정보를 공급하는 제 2 검지부를 구비하고, 연산 장치가 제 2 검지 정보를 공급받고, 연산부는 제 1 검지 정보 및/또는 제 2 검지 정보에 기초하여 제 1 화상 정보 및/또는 제 2 화상 정보를 생성하는, 상기의 정보 처리 장치이다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 상기의 구성에 더하여, 제 2 표시부와, 제 2 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 제 2 검지부와, 제 2 표시부 및 제 2 검지부가 배치된 제 2 영역을 포함하여 구성된다. 이로써, 한쪽의 영역으로부터 공급된 검지 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 입출력 장치에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 제 1 영역이 접힌 상태 또는 전개된 상태로 할 수 있는 상기의 정보 처리 장치이다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 접힌 상태 또는 전개된 상태로 할 수 있는 제 1 영역을 포함하여 구성된다. 이로써, 제 1 영역의 크기를 가반성이 뛰어난 상태 또는 일람성이 뛰어난 상태로 하여 사용할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급받아 제 1 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급하여 제 1 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는 정보 처리 장치이다.
그리고, 입출력 장치는 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급받는 단자부, 제 1 화상 정보를 공급받아 표시하는 제 1 표시부, 제 2 화상 정보를 공급받아 표시하는 제 2 표시부 및, 제 1 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 1 검지 정보를 공급하는 제 1 검지부 및, 제 1 표시부가 배치되는 제 1 영역, 제 2 표시부가 배치되는 제 2 영역, 단자부가 배치되는 제 3 영역, 제 1 영역과 제 2 영역 사이에 끼워진 제 1 굴곡부 및, 제 1 영역과 제 3 영역 사이에 끼워진 제 2 굴곡부를 구비하고, 제 3 영역은 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급하고, 제 1 영역은 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급받으며, 제 2 화상 정보를 공급하고, 제 2 영역은 제 2 화상 정보를 공급받는다.
또한, 연산부는 제 1 검지 정보에 기초하여 제 1 화상 정보 또는 제 2 화상 정보를 생성하는 정보 처리 장치이다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 제 1 표시부가 배치되는 제 1 영역, 제 2 표시부가 배치되는 제 2 영역, 단자부가 배치되는 제 3 영역, 제 1 영역과 제 2 영역 사이에 끼워진 제 1 굴곡부 및 제 1 영역과 제 3 영역 사이에 끼워진 제 2 굴곡부를 포함하여 구성된다. 이로써, 단자부는 제 1 화상 정보 및 제 2 화상 정보를 공급하고, 제 1 영역은 제 1 화상 정보를 표시하여 제 2 화상 정보를 공급하고, 제 2 영역은 제 2 화상 정보를 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 입출력 장치가 제 1 위치 정보 및 제 2 위치 정보를 공급하고, 연산 장치가 제 1 위치 정보 및 제 2 위치 정보를 공급받고, 입출력 장치는 제 1 위치 정보를 공급하는 제 1 위치 정보 입력부와, 제 2 위치 정보를 공급하는 제 2 위치 정보 입력부를 구비하고, 제 1 영역은 제 1 표시부와 중첩되는 위치에 제 1 위치 정보 입력부를 구비하고, 제 2 영역은 제 2 표시부와 중첩되는 위치에 제 2 위치 정보 입력부를 구비하는, 상기의 정보 처리 장치이다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 제 1 영역이 제 1 표시부에 중첩되는 제 1 위치 정보 입력부와, 제 2 영역이 제 2 표시부에 중첩되는 제 2 위치 정보 입력부를 포함하여 구성된다. 이로써, 하나의 정보 입력부로부터 공급된 위치 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 제 1 표시부 또는 제 2 표시부에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 프로그램이 스테이터스 정보를 포함하는 초기 정보를 취득하는 제 1 스텝과, 인터럽트 처리를 허가하는 제 2 스텝과, 소정의 정보를 취득하는 제 3 스텝과, 스테이터스 정보가 제 1 스테이터스인 경우에는 제 5 스텝으로 진행되고, 제 2 스테이터스인 경우에는 제 6 스텝으로 진행되는 제 4 스텝과, 정보에 기초하여 제 1 화상 정보를 생성하고, 제 1 화상 정보를 제 1 표시부에 표시하는 제 5 스텝과, 정보에 기초하여 제 2 화상 정보를 생성하고, 제 2 화상 정보를 제 2 표시부에 표시하는 제 6 스텝과, 인터럽트 처리에서, 종료 명령을 공급받은 경우에는 제 8 스텝으로 진행되고, 공급받지 못한 경우에는 제 3 스텝으로 진행되는 제 7 스텝과, 종료하는 제 8 스텝을 포함하는 상기의 정보 처리 장치이다.
그리고, 인터럽트 처리는 제 1 검지 정보 및 제 2 검지 정보를 취득하는 제 9 스텝과, 제 1 검지 정보 및 제 2 검지 정보에 기초하여 후보 정보를 결정하는 제 10 스텝과, 후보 정보가 스테이터스 정보와 상이한 경우에는 제 12 스텝으로 진행되고, 같은 경우에는 제 9 스텝으로 진행되는 제 11 스텝과, 스테이터스 정보를 후보 정보로 갱신하는 제 12 스텝과, 인터럽트 처리로부터 복귀하는 제 13 스텝을 구비한다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 프로그램이 제 1 검지 정보 및 제 2 검지 정보를 취득하여 후보 정보를 결정하는 스텝과, 스테이터스 정보가 후보 정보와 상이한 경우에는 스테이터스 정보를 후보 정보로 갱신하는 스텝과, 갱신된 스테이터스 정보에 기초하여 소정의 정보를 포함하는 화상 정보를 생성하여 표시하는 스텝을 포함하여 구성된다. 이로써, 소정의 정보를 포함하는 화상을, 스테이터스 정보에 기초하여 생성된 화상 정보를 설정된 영역에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 일 형태에 의하면, 조작성이 뛰어난 신규 휴먼 인터페이스를 제공할 수 있다. 또는, 조작성이 뛰어난 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다. 또는, 신규 정보 처리 장치나 신규 표시 장치 등을 제공할 수 있다. 또한, 이들 효과의 기재는 다른 효과의 존재를 방해하는 것이 아니다. 또한, 본 발명의 일 형태는 상술한 모든 효과를 반드시 가질 필요는 없다. 또한, 상술한 것들 이외의 효과는 명세서, 도면, 청구항 등의 기재로부터 저절로 명확해지는 것이며, 명세서, 도면, 청구항 등의 기재로부터 상술한 것들 이외의 효과를 추출하는 것이 가능하다.
도 1은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 블록도.
도 2는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 3은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 4는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 블록도.
도 5는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 6은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 7은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 기억부가 기억하는 프로그램을 설명하기 위한 플로 차트.
도 8은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 기억부가 기억하는 프로그램을 설명하기 위한 플로 차트.
도 9는 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 10은 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 11은 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 12는 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 13은 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 14는 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 15는 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 2는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 3은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 4는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 블록도.
도 5는 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 6은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 모식도.
도 7은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 기억부가 기억하는 프로그램을 설명하기 위한 플로 차트.
도 8은 실시형태에 따른 정보 처리 장치의 기억부가 기억하는 프로그램을 설명하기 위한 플로 차트.
도 9는 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 10은 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 11은 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 12는 실시형태에 따른 정보 처리 장치에 사용할 수 있는 터치 패널의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 13은 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 14는 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 15는 실시형태에 따른 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법을 설명하기 위한 도면.
본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 화상 정보를 공급받아 검지 정보를 공급하는 입출력 장치와, 화상 정보를 공급하여 검지 정보를 공급받는 연산 장치를 갖는다. 입출력 장치는 표시 정보를 표시하는 복수의 표시부 및 하나의 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 검지부를 구비하고, 하나의 표시부 및 검지부가 배치되는 하나의 영역, 다른 표시부가 배치되는 다른 영역 및 하나의 영역과 다른 영역 사이에 끼워진 굴곡부를 구비한다. 또한, 연산 장치는 연산부와, 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 포함하여 구성된다.
이로써, 제 1 영역으로부터 공급된 검지 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 제 1 영역 및/또는 제 2 영역에 표시할 수 있다. 그 결과, 조작성이 뛰어난 신규 휴먼 인터페이스를 제공할 수 있다. 또는, 조작성이 뛰어난 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다. 또는, 신규 정보 처리 장치나 신규 표시 장치 등을 제공할 수 있다.
실시형태에 대하여 도면을 사용하여 자세히 설명한다. 다만, 본 발명은 이하의 설명에 한정되지 않고, 본 발명의 형태 및 상세한 사항은 본 발명의 취지 및 범위에서 벗어남이 없이 다양하게 변경될 수 있다는 것은 당업자라면 용이하게 이해할 수 있다. 따라서, 본 발명은 이하에서 기재하는 실시형태의 내용에 한정되어 해석되는 것이 아니다. 또한, 아래에 설명하는 발명의 구성에 있어서 동일 부분 또는 같은 기능을 갖는 부분에는 동일한 부호를 다른 도면간에서 공통으로 사용하고, 그 반복 설명은 생략한다.
(실시형태 1)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치의 구성에 대하여 도 1 및 도 2를 참조하면서 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100)의 구성을 설명하기 위한 블록도이다.
도 2의 (A)는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100)의 외관을 설명하기 위한 모식도이며, 도 2의 (B)는 도 2의 (A)에 도시된 절단선(X1-X2)에서의 단면의 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2의 (C1)은 정보 처리 장치(100)에 적용할 수 있는 위치 정보 입력부 및 표시부의 외관을 설명하기 위한 모식도이다.
도 2의 (C2)는 위치 정보 입력부에 적용할 수 있는 근접 센서(142) 외관을 설명하기 위한 모식도이다.
도 2의 (D)는 도 2의 (C2)에 도시된 절단선(X3-X4)에서의 근접 센서(142)의 단면의 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
<정보 처리 장치의 구성예 1>
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100)는, 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받아 제 1 검지 정보(S1)를 공급하는 입출력 장치(120)와, 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하여 제 1 검지 정보(S1)를 공급받는 연산 장치(110)를 갖는다(도 1 참조).
그리고, 입출력 장치(120)는 제 1 화상 정보(V1)를 공급받아 표시하는 제 1 표시부(130(1)), 제 2 화상 정보(V2)를 공급받아 표시하는 제 2 표시부(130(2)), 제 1 표시부(130(1))의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 1 검지 정보(S1)를 공급하는 제 1 검지부(150(1))를 구비한다. 또한, 입출력 장치(120)는 제 1 표시부(130(1)) 및 제 1 검지부(150(1))가 배치되는 제 1 영역(120(1)), 제 2 표시부(130(2))가 배치되는 제 2 영역(120(2)) 및 제 1 영역(120(1))과 제 2 영역(120(2)) 사이에 끼워진 제 1 굴곡부(120c(1))를 구비한다(도 1, 도 2의 (A) 및 도 2의 (B) 참조).
또한, 연산 장치(110)는 연산부(111) 및 연산부(111)에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부(112)를 구비한다. 그리고, 연산부(111)는 제 1 검지 정보(S1)에 기초하여 제 1 화상 정보(V1) 또는 제 2 화상 정보(V2)를 생성한다(도 1 참조).
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 화상 정보를 공급받아 검지 정보를 공급하는 입출력 장치(120)와, 화상 정보를 공급하여 검지 정보를 공급받는 연산 장치(110)를 갖는다. 입출력 장치(120)는 표시 정보를 표시하는 복수의 표시부 및 하나의 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지하는 검지부를 구비하고, 하나의 표시부 및 검지부가 배치되는 하나의 영역, 다른 표시부가 배치되는 다른 영역 및 하나의 영역과 다른 영역 사이에 끼워진 굴곡부를 구비한다. 또한, 연산 장치는 연산부와, 연산부에 실행시키는 프로그램을 기억하는 기억부를 포함하여 구성된다. 따라서, 하나의 영역으로부터 공급된 검지 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 하나의 영역 및/또는 다른 영역에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 입출력 장치(120)가 제 1 위치 정보(L1) 및 제 2 위치 정보(L2)를 공급하고, 연산 장치(110)가 제 1 위치 정보(L1) 및 제 2 위치 정보(L2)를 공급받는 구성으로 하여도 좋다(도 1 참조).
또한, 입출력 장치(120)가 위치 정보를 공급할 수 있는 위치 정보 입력부(140)를 구비하여도 좋다. 예를 들어, 제 1 영역(120(1))은 제 1 표시부(130(1))에 중첩되는 제 1 위치 정보 입력부(140(1))를 구비하여도 좋고, 제 2 영역(120(2))은 제 2 표시부(130(2))에 중첩되는 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 구비하여도 좋다.
제 1 위치 정보 입력부(140(1))는 제 1 위치 정보(L1)를 공급하고, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))는 제 2 위치 정보(L2)를 공급하여도 좋다.
본 실시형태에서 예시하는 정보 처리 장치(100)는 위치 정보 입력부로부터 공급된 위치 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 제 1 표시부 또는 제 2 표시부에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 정보를 공급하고 공급받는 입출력부(145)와, 통신 정보(COM)를 공급하고 공급받는 통신부(160)를 구비하여도 좋다.
또한, 연산 장치(110)는 정보를 공급하고 공급받는 전송로(114)와, 정보를 공급하고 공급받는 입출력 인터페이스(115)를 가져도 좋다.
이하에 정보 처리 장치를 구성하는 개개의 요소에 대하여 설명한다. 또한, 이들 구성은 명확히 분리할 수 없고, 하나의 구성이 다른 구성을 겸하는 경우나 다른 구성의 일부를 포함하는 경우가 있다.
예를 들어 표시부에 터치 센서가 중첩된 터치 패널은 표시부(130)임과 동시에, 위치 정보 입력부(140)이기도 하다.
또한, 본 실시형태에서는 표시부(130)의 표시면 측에 위치 정보 입력부(140)가 중첩된 구성을 갖는 터치 센서를 예로 들어 설명하지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 구체적으로는, 위치 정보 입력부(140)의 검지면 측에 표시부(130)가 중첩된 구성이어도 좋고, 표시부(130)와 위치 정보 입력부(140)가 일체의 구조를 가져도 좋다. 바꿔 말하면, 온·셀형의 터치 패널이어도 좋고, 인·셀형의 터치 패널이어도 좋다.
《전체의 구성》
정보 처리 장치(100)는 입출력 장치(120)와 연산 장치(110)를 갖는다(도 1 참조).
《입출력 장치》
입출력 장치(120)는 표시부(130)와 검지부(150)를 구비한다. 입출력 장치(120)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)가 공급되고, 제 1 검지 정보(S1) 및 제 2 검지 정보(S2)를 공급한다.
또한, 입출력 장치(120)는 위치 정보 입력부(140)와, 입출력부(145)와, 통신부(160)를 구비하여도 좋다.
입출력 장치(120)는 제 1 영역(120(1)), 제 2 영역(120(2)), 제 1 굴곡부(120c(1)) 및 제 2 굴곡부(120c(2))를 구비한다(도 2의 (A) 및 도 2의 (B) 참조).
《굴곡부》
제 1 영역(120(1))과 제 2 영역(120(2))의 영역 사이에 있는 가장 크게 곡률이 변화되는 장소를 제 1 굴곡부(120c(1))로 한다. 예를 들어, 입출력 장치(120)가 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))을 포함하는 곡면을 갖고, 제 1 영역(120(1))과 제 2 영역(120(2))이 연속하는 경우, 제 1 굴곡부(120c(1))는 상기곡면의 절단면에 나타난 곡률 반경이 가장 작아지는 부분을 포함한다. 굴곡부의 곡률 반경은 10mm 이하, 바람직하게는 8mm 이하, 보다 바람직하게는 5mm 이하, 특히 바람직하게는 4mm 이하이다.
제 1 굴곡부(120c(1)) 및/또는 제 2 굴곡부(120c(2))에 표시부 및 상기 표시부에 중첩되어 위치 정보 입력부를 제공하여도 좋다. 이로써, 제 2 위치 정보(L2) 대신에 제 1 굴곡부(120c(1)) 및/또는 제 2 굴곡부(120c(2))가 공급하는 위치 정보를 사용하여도 좋다.
《제 1 영역》
제 1 영역(120(1))은 제 1 표시부(130(1)) 및 제 1 검지부(150(1))를 구비한다.
또한, 제 1 영역(120(1))은 제 1 위치 정보 입력부(140(1))를 구비하여도 좋다.
《제 2 영역》
제 2 영역(120(2))은 제 2 표시부(130(2))를 구비한다.
또한, 제 2 영역(120(2))은 제 2 영역의 표시를 차단하는 것을 검지하는 제 2 검지부(150(2)) 및/또는 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 구비하여도 좋다.
또한, 제 2 영역(120(2))을 2개 갖는 예를 도 2의 (B)에 도시하였지만, 이에 한정되지 않는다. 제 2 영역(120(2))을 하나만 구비하는 구성, 3개 이상 구비하는 구성도 입출력 장치(120)에 포함된다.
예를 들어, 서로 대향하도록 2개의 제 2 영역(120(2))을 배치하여도 좋다(도 2의 (B) 참조). 2개의 제 2 영역(120(2))이 이간하는 거리를, 예를 들어 17cm 이하, 바람직하게는 9cm 이하, 보다 바람직하게는 7cm 이하로 한다. 이간하는 거리가 짧으면, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))의 넓은 범위의 위치 정보를 파지하는 손의 엄지 손가락을 사용하여 특정할 수 있다.
《표시부》
표시부(130)는 공급되는 화상 정보를 표시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다(도 2의 (C1) 참조).
표시부(130)는 제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 구비한다.
제 1 표시부(130(1))는 공급되는 제 1 화상 정보(V1)를 표시하고, 제 2 표시부(130(2))는 공급되는 제 2 화상 정보(V2)를 표시한다.
제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 일체의 표시부로서 구동하여도 좋다. 예를 들어, 하나의 구동 회로가 주사선을 선택하는 신호를 공급하는 구성으로 하여도 좋다.
제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 상이한 표시부로서 구동하여도 좋다. 예를 들어, 구동 회로를 각각의 표시부에 제공하고, 각각의 구동 회로가 각각의 표시부에 주사선을 선택하는 신호를 공급하는 구성으로 하여도 좋다.
예를 들어, 정보 처리 장치(100)의 대기 상태에서, 제 2 표시부(130(2))만을 구동하여, 제 1 표시부(130(1))의 구동을 정지하여도 좋다. 제 1 표시부(130(1))의 구동을 정지함으로써 소비 전력을 저감할 수 있다.
또한, 제 1 굴곡부(120c(1))와 중첩되는 위치에서 절곡할 수 있는 가요성을 갖는 표시부를 표시부(130)에 사용할 수 있다. 또한, 표시부(130)에 적용 가능한 구체적인 구성예를 실시형태 4, 실시형태 5 및 실시형태 6에 기재하여 설명한다.
《검지부》
검지부(150)는 정보 처리 장치(100) 및 그 주위의 상태를 검지하여 검지 정보를 공급한다(도 1 참조).
검지부(150)는 제 1 검지부(150(1))를 구비하고, 제 1 검지부는 제 1 표시부(130(1))의 표시를 차단하는 것을 검지한다. 그리고 제 1 검지부(150(1))는 제 1 표시부(130(1))의 표시가 차단되는 상태인지 아닌지의 정보를 포함하는 제 1 검지 정보(S1)를 공급한다.
예를 들어, 광전 변환 소자, 촬영 소자, 자기 센서, 근접 센서 등 다양한 검지 소자를 제 1 검지부(150(1))에 적용할 수 있다.
구체적으로는, 제 1 표시부(130(1))가 화상 정보를 표시하는 측으로부터 입사하는 광의 강도를 검지하도록, 광전 변환 소자(150PD)를 제 1 영역(120(1))에 배치한다(도 2의 (A) 참조).
이로써, 광전 변환 소자(150PD)는 제 1 영역이 정보 처리 장치(100)를 보호하는 케이스, 커버 또는 양복 등에 덮인 것을 검지할 수 있다.
또한, 제 1 검지부(150(1))를 배치하는 장소는 제 1 영역(120(1))에 한정되지 않고, 제 1 표시부(130(1))의 표시를 차단하는 것을 검지할 수 있는 배치이면, 다른 장소라도 좋다. 예를 들어, 제 2 영역에 배치하여도 좋고, 다른 장치가 공급하는 정보를 제 1 검지 정보(S1)에 사용하여도 좋다.
구체적으로는, 어안 렌즈(fish-eye lens)를 사용하여 충분히 검지 범위가 넓혀진 검지 소자를 제 2 영역에 배치하여, 제 1 검지부(150(1))에 사용하여도 좋다. 또는, 감시 카메라로 촬영한 영상을 통신망으로부터 취득하여 제 1 검지 정보(S1)에 사용하여도 좋다.
또한, 검지부(150)는, 예를 들어 가속도, 방위, 압력, GPS(Global positioning System) 신호, 온도 또는 습도 등을 검지하여 그 정보를 공급하여도 좋다.
《위치 정보 입력부》
위치 정보 입력부(140)는 근접하는 것을 검지하여 근접하는 것의 위치 정보를 연산 장치(110)에 공급한다. 또한, 위치 정보 입력부(140)가 표시부(130)로부터 사용자 측에 배치되는 경우에는, 위치 정보 입력부(140)는 투광성을 갖는다.
예를 들어, 정보 처리 장치(100)의 사용자는 손가락이나 손바닥 등을 위치 정보 입력부(140)에 근접시킴으로써, 다양한 조작 명령을 정보 처리 장치(100)로 할 수 있다. 예를 들어, 종료 명령(프로그램을 종료하는 명령)을 포함하는 조작 명령을 공급할 수 있다.
예를 들어, 근접 센서(142)를 매트릭스상으로 가요성의 기판(141)에 배치하여, 위치 정보 입력부(140)를 구성하여도 좋다(도 2의 (C1), 도 2의 (C2) 및 도 2의 (D) 참조).
위치 정보 입력부(140)는 제 1 위치 정보 입력부(140(1))와 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 구비한다.
제 1 위치 정보 입력부(140(1))는 제 1 위치 정보(L1)를 공급하고, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))는 제 2 위치 정보(L2)를 공급한다.
제 1 위치 정보 입력부(140(1))와 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 일체의 위치 정보 입력부로서 구동하여도 좋다.
위치 정보 입력부(140)를 제 1 위치 정보 입력부(140(1))와 제 2 위치 정보 입력부(140(2))로 분할하고, 각각을 부분적으로 구동하여도 좋다. 바꿔 말하면, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 제 1 위치 정보 입력부(140(1))로부터 독립하여 구동하여도 좋다.
X1-X2 방향을 행 방향으로 하고, 행 방향과 교차하는 방향을 열 방향으로 한다. 제 1 위치 정보 입력부(140(1)) 및 제 2 위치 정보 입력부(140(2))를 횡단하도록, 행 방향으로 연장되는 복수의 주사선과, 열 방향으로 연장되는 복수의 신호선과, 하나의 주사선과 하나의 신호선에 전기적으로 접속된 근접 센서(142)가 매트릭스상으로 설치되어 있다.
제 1 위치 정보 입력부(140(1))에 설치되는 제 1 신호선에 접속된 근접 센서와, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))에 설치되는 제 2 신호선에 접속되는 근접 센서를 독립하여 구동하고, 위치 정보 입력부(140)를 부분적으로 구동하여도 좋다.
구체적으로는, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))만 사용하는 경우에는, 거기에 설치되는 제 1 신호선에 접속되어 있는 근접 센서만을 구동한다.
구체적으로는, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))만 사용하는 경우에는, 거기에 설치되는 제 2 신호선에 접속되어 있는 근접 센서만을 구동한다.
또한, 주사선은 제 1 위치 정보 입력부(140(1))와 제 2 위치 정보 입력부(140(2))에 공유되기 때문에, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))에 설치되는 근접 센서와, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))에 설치되는 근접 센서를 상이한 시간에 구동한다.
예를 들어, 정보 처리 장치(100)의 하우징(101)을 손으로 파지하여 사용하는 경우에 있어서, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))만을 구동하여 제 2 위치 정보 입력부의 구동을 정지하여도 좋다. 제 2 위치 정보 입력부(140(2))의 구동을 정지함으로써, 정보 처리 장치(100)를 파지하는 손을 검지한 제 2 위치 정보 입력부(140(2))가 공급하는 제 2 위치 정보(L2)에 의한 오동작을 저감할 수 있다.
예를 들어, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))가 소비하는 전력 및 제 2 위치 정보 입력부(140(2))가 소비하는 전력의 합계가 제 1 위치 정보 입력부(140(1))가 소비하는 전력보다 클 경우, 정보 처리 장치(100)의 대기 상태에서, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))만을 구동하여, 제 1 위치 정보 입력부의 구동을 정지하여도 좋다. 제 1 위치 정보 입력부(140(1))의 구동을 정지함으로써 소비 전력을 저감할 수 있다.
근접 센서(142)는 근접 또는 접촉하는 것(예를 들어 손가락이나 손바닥)을 검지할 수 있는 센서이면 좋고, 예를 들어 용량 소자나 촬영 소자를 적용할 수 있다. 또한, 용량 소자를 매트릭스상으로 갖는 기판을 용량식의 터치 센서라고 할 수 있고, 촬영 소자를 갖는 기판을 광학식의 터치 센서라고 할 수 있다.
가요성의 기판(141)으로서는 가요성을 갖는 정도의 두께 수지를 적용할 수 있다. 수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리아미드(나일론, 아라미드 등), 폴리이미드, 폴리카보네이트 또는 아크릴 수지 등을 들 수 있다.
또한, 가요성을 갖지 않는 통상의 기판으로서는 유리 기판, 석영 기판, 반도체 기판 등을 사용할 수 있다.
또한, 제 1 굴곡부(120c(1))와 중첩되는 위치에서 절곡할 수 있는 가요성을 갖는 위치 정보 입력부를 위치 정보 입력부(140)에 사용할 수 있다. 위치 정보 입력부(140)에 적용 가능한 구체적인 구성예를 실시형태 4, 실시형태 5 및 실시형태 6에 기재하여 설명한다.
《통신부》
통신부(160)는 연산 장치(110)가 공급하는 정보(COM)를 정보 처리 장치(100)의 외부 기기 또는 통신망에 공급한다. 또한, 정보(COM)를 외부 기기 또는 통신망으로부터 취득하여 공급한다.
정보(COM)는 음성 정보, 화상 정보 등 외에 다양한 명령 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 화상 정보(V1), 제 2 화상 정보(V2)를 연산부(111)에 생성 또는 소거시키는 등 조작 명령을 포함할 수 있다.
외부 기기 또는 통신망에 접속하기 위한 통신 수단, 예를 들어 허브, 라우터 또는 모뎀 등을 통신부(160)에 적용할 수 있다. 또한, 접속 방법은 유선에 의한 방법만이 아니라, 무선(예를 들어 전파 또는 적외선 등)을 사용하여도 좋다.
《입출력부》
예를 들어 카메라, 마이크, 판독 전용의 외부 기억부, 외부 기억부, 스캐너, 스피커, 프린터 등을 입출력부(145)에 사용할 수 있다(도 1 참조).
구체적으로는, 디지털 카메라 및 디지털 비디오 카메라 등을 카메라에 사용할 수 있다.
하드 디스크 또는 리무버블 메모리 등을 외부 기억부에 사용할 수 있다. 또한, CDROM, DVDROM 등을 판독 전용의 외부 기억부에 사용할 수 있다.
《연산 장치》
연산 장치(110)는 연산부(111) 및 기억부(112)를 구비한다. 연산 장치(110)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 1 검지 정보(S1) 및 제 2 검지 정보(S2)를 공급받는다(도 1 참조).
예를 들어, 연산 장치(110)는 정보 처리 장치(100)의 조작용으로 사용하는 화상을 포함하는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급한다.
또한, 제 1 화상 정보(V1)는 제 1 표시부(130(1))에 표시되고, 제 2 화상 정보(V2)는 제 2 표시부(130(2))에 표시된다.
또한, 연산 장치(110)는 제 1 위치 정보(L1) 및 제 2 위치 정보(L2)를 공급받는 구성을 가져도 좋다. 예를 들어, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))의 제 1 표시부(130(1))에 표시된 조작용으로 사용하는 화상과 중첩되는 위치를 손가락 등으로 터치함으로써, 사용자는 상기 화상에 관련된 조작 명령을 연산 장치(110)에 공급할 수 있다. 마찬가지로, 제 2 위치 정보 입력부(140(2))의 제 2 표시부(130(2))에 표시된 조작용으로 사용하는 화상과 중첩되는 위치를 손가락 등으로 터치함으로써, 사용자는 상기 화상에 관련진 조작 명령을 연산 장치(110)에 공급할 수 있다.
또한, 연산 장치(110)는 전송로(114)와, 입출력 인터페이스(115)를 가져도 좋다.
《연산부》
연산부(111)는 기억부(112)가 기억하는 프로그램을 실행한다. 예를 들어, 조작용으로 사용하는 화상을 표시한 위치에 관련진 위치 정보가 공급된 경우에, 연산부(111)는 상기 화상에 미리 관련진 프로그램을 실행한다.
《기억부》
기억부(112)는 연산부(111)에 실행시키는 프로그램을 기억한다.
또한, 연산 장치(110)에 실행시키는 프로그램의 일례를 실시형태 3에 기재하여 설명한다.
《입출력 인터페이스·전송로》
입출력 인터페이스(115)는 정보를 공급하고, 정보가 공급된다.
전송로(114)는 정보를 공급할 수 있고, 연산부(111), 기억부(112) 및 입출력인터페이스(115)는 정보를 공급받는다. 또한, 연산부(111), 기억부(112) 및 입출력 인터페이스(115)는 정보를 공급할 수 있고, 전송로(114)는 정보를 공급받는다.
또한, 정보 처리 장치(100)는 연산 장치(110)와, 입출력 장치(120)와, 하우징(101)을 갖는다(도 2의 (B) 참조).
《하우징》
하우징(101)은 연산 장치(110) 등을 외부로부터 가해지는 응력으로부터 보호한다.
금속, 플라스틱, 유리 또는 세라믹스 등을 하우징(101)에 사용할 수 있다.
<정보 처리 장치의 구성예 2.>
본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치의 다른 구성에 대하여 도 3을 참조하면서 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100B)의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 3의 (A1) 및 도 3의 (A2)는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100B)의 사시도이고, 도 3의 (A2)는 도 3의 (A1)의 배면측에서 본 사시도이다. 도 3의 (A3)은 상면도이다.
도 3의 (B)는 정보 처리 장치(100B)에 적용할 수 있는 위치 정보 입력부(140) 및 표시부(130)의 외관을 설명하기 위한 모식도이다.
도 3의 (C)는 정보 처리 장치(100B)의 사용 상태를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100B)는 제 2 표시부(130(2))의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 2 검지 정보(S2)를 공급하는 제 2 검지부(150(2))를 갖는 점이, 도 2를 참조하면서 설명하는 정보 처리 장치(100)와는 상이하다. 여기에서는 상이한 구성에 대하여 상세하게 설명하고, 동일한 구성을 사용할 수 있는 부분은 상기의 설명을 원용한다.
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100B)는 입출력 장치(120)가 제 2 표시부(130(2))의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 2 검지 정보(S2)를 공급하는 제 2 검지부(150(2))를 구비한다.
또한, 연산 장치(110)가 제 2 검지 정보(S2)를 공급받는다.
또한, 연산부(111)는 제 1 검지 정보(S1) 및/또는 제 2 검지 정보(S2)에 기초하여, 제 1 화상 정보(V1) 및/또는 제 2 화상 정보(V2)를 생성한다.
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100B)는 한쪽의 영역으로부터 공급된 검지 정보에 기초하여 화상 정보를 생성하여, 입출력 장치에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
제 2 영역(120(2))을 상부를 향하여 양복의 가슴 포켓에 수납하면, 사용자는 제 2 영역(120(2))에 표시된 문자나 화상 정보를 포켓에 수납된 채로의 상태에서 용이하게 확인할 수 있다(도 3의 (C) 참조).
예를 들어, 착신한 전화 발신자의 전화 번호 또는 성명 등이 표시된 제 2 영역(120(2))을 윗쪽에서 관찰할 수 있다.
또한, 정보 처리 장치(100B)는 진동 센서 등과, 상기 진동 센서 등에 검지된 진동에 기초하여, 착신을 거부하는 모드로 이행하는 프로그램을 기억한 기억 장치를 구비할 수 있다. 이로써, 사용자는 정보 처리 장치(100B)를 양복 위에서 가볍게 두드려서 진동을 부여함으로써 착신을 거부하는 모드로 이행시킬 수 있다.
《표시부》
표시부(130)는 공급되는 화상 정보를 표시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다(도 3의 (B) 참조). 예를 들어, 정보 처리 장치(100)에 적용할 수 있는 표시부를 정보 처리 장치(100B)에 적용할 수 있다.
표시부(130)는 제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 구비한다. 또한, 복수의 제 2 표시부(130(2))를 구비하여도 좋다.
제 1 표시부(130(1))는 공급되는 제 1 화상 정보(V1)를 표시하고, 제 2 표시부(130(2))는 공급되는 제 2 화상 정보(V2)를 표시한다.
제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 일체의 표시부로서 구동하여도 좋다. 예를 들어, 하나의 구동 회로가 주사선을 선택하는 신호를 공급하는 구성으로 하여도 좋다.
제 1 표시부(130(1))와 제 2 표시부(130(2))를 상이한 표시부로서 구동하여도 좋다. 예를 들어, 구동 회로를 각각의 표시부에 제공하고, 각각의 구동 회로가 각각의 표시부에 주사선을 선택하는 신호를 공급하는 구성으로 하여도 좋다.
예를 들어, 정보 처리 장치(100B)의 대기 상태에서, 제 2 표시부(130(2))만을 구동하여, 제 1 표시부(130(1))의 구동을 정지하여도 좋다. 제 1 표시부(130(1))의 구동을 정지함으로써 소비 전력을 저감할 수 있다.
또한, 제 1 굴곡부(120c(1)) 및 제 2 굴곡부(120c(2))와 중첩되는 위치에서 절곡할 수 있는 가요성을 갖는 표시부를 표시부(130)에 사용할 수 있다. 표시부(130)에 적용 가능한 구체적인 구성예를 실시형태 4, 실시형태 5 및 실시형태 6에 기재하여 설명한다.
《검지부》
검지부(150)는 정보 처리 장치(100B) 및 그 주위의 상태를 검지하여 검지 정보를 공급한다(도 1, 도 3의 (A1) 및 도 3의 (A2) 참조).
검지부(150)는 제 1 검지부(150(1)) 및 제 2 검지부(150(2))를 구비하고, 제 1 검지부는 제 1 표시부(130(1))의 표시를 차단하는 것을 검지하고, 제 2 검지부는 제 2 표시부(130(2))의 표시를 차단하는 것을 검지한다. 그리고 제 1 검지부(150(1))는 제 1 표시부(130(1))의 표시가 차단되는 상태인지 아닌지의 정보를 포함하는 제 1 검지 정보(S1)를 공급하고, 제 2 검지부(150(2))는 제 2 표시부(130(2))의 표시가 차단되는 상태인지 아닌지의 정보를 포함하는 제 2 검지 정보(S2)를 공급한다. 또한, 복수의 제 2 표시부를 구비하는 경우에는, 어느 하나의 제 2 표시부의 표시가 차단되는 상태인지 아닌지의 정보를 포함한다.
제 1 검지부(150(1))에 적용할 수 있는 검지 소자를 제 2 검지부(150(2))에 적용할 수 있다. 예를 들어, 제 2 표시부(130(2))의 표시를 차단하는 것을 검지하도록 배치된 광전 변환 소자를 제 2 검지부(150(2))에 적용할 수 있다.
구체적으로는, 제 1 영역(120(1))이 표시하는 측으로부터 입사하는 광의 강도를 검지하도록 광전 변환 소자(150PD(1))를 제 1 영역(120(1))에 배치하고, 제 2 표시부(130(2))가 표시하는 측으로부터 입사하는 광의 강도를 검지하도록 광전 변환 소자(150PD(2))를 제 2 영역(120(2))에 배치한다(도 3의 (A1) 또는 도 3의 (A2) 참조).
이로써, 정보 처리 장치(100B)의 광전 변환 소자(150PD(1))를 포함하는 제 1 영역 및/또는 광전 변환 소자(150PD(2))를 포함하는 제 2 영역이, 정보 처리 장치(100B)를 보호하는 케이스, 커버 또는 양복 등에 의하여 덮인 것을 검지할 수 있다.
또한, 검지부(150)는 다른 표시부의 표시를 차단하는 것도 검지하는 구성으로 하여도 좋다.
《위치 정보 입력부》
위치 정보 입력부(140)는 위치 정보를 공급할 수 있는 것이면 특별히 한정 되지 않는다(도 3의 (B) 참조). 예를 들어, 정보 처리 장치(100)에 적용할 수 있는 위치 정보 입력부를 정보 처리 장치(100B)에 적용할 수 있다.
또한, 제 1 굴곡부(120c(1))와 중첩되는 위치에서 절곡할 수 있는 가요성을 갖는 위치 정보 입력부를 위치 정보 입력부(140)에 사용할 수 있다. 위치 정보 입력부(140)에 적용 가능한 구체적인 구성예를 실시형태 4, 실시형태 5 및 실시형태 6에 기재하여 설명한다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 2)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치의 구성에 대하여 도 4 및 도 5를 참조하면서 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100C)가 구비되는 표시부(130), 위치 정보 입력부(140) 및 검지부(150)가, 도 1에서 설명하는 정보 처리 장치(100)와 다른 취지를 설명하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치(100C)의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 5의 (A1)은 전개된 상태의 정보 처리 장치(100C)의 상면도이며, 도 5의 (A2)는 전개된 상태의 정보 처리 장치(100C)의 저면도이다.
도 5의 (B)는 정보 처리 장치(100C)의 측면도이며, 도 5의 (C)는 도 5의 (A)의 절단선(Y1-Y2)에서의 단면을 포함하는 측면도이다.
도 6은 둘로 접힌 상태의 정보 처리 장치(100C)를 설명하는 도면이며, 도 6의 (A1) 및 도 6의 (A2)는 제 1 영역(120(1))의 표시부가 내측이 되도록 접힌 상태를 설명하는 측면도이며, 도 6의 (B1) 및 도 6의 (B2)는 제 1 영역(120(1))의 표시부가 외측이 되도록 접힌 상태를 설명하는 측면도이다.
<정보 처리 장치의 구성예 3.>
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100C)는 (도 4 참조), 입출력 장치(120)가 제 1 화상 정보(V1)(V1은 V1a 및 V1b를 포함함) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받고, 제 1 위치 정보(L1)(L1은 L1a 및 L1b를 포함함) 및 제 2 위치 정보(L2), 제 1 검지 정보(S1)(S1은 S1a 및 S1b를 포함함) 및 제 2 검지 정보(S2)를 공급하는 점, 제 1 표시부(130(1))가 표시부(130(1a)) 및 표시부(130(1b))를 구비하는 점, 제 1 위치 정보 입력부(140(1))가 위치 정보 입력부(140(1a)) 및 위치 정보 입력부(140(1b))를 구비하는 점, 제 1 검지부(150(1))가 검지부(150(1a)) 및 검지부(150(1b))를 구비하는 점, 제 1 영역(120(1))이 접힌 상태 또는 전개된 상태로 할 수 있는 입출력 장치를 갖는 점이, 도 1을 참조하면서 실시형태 1에서 설명한 정보 처리 장치(100)와는 상이하다. 여기에서는 상이한 구성에 대하여 상세하게 설명하고, 동일한 구성을 사용할 수 있는 부분은 상기의 설명을 원용한다.
입출력 장치(120)는 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))을 구비한다. 제 1 영역(120(1))은 영역(120(1a))과 영역(120(1b))을 구비한다. 제 1 영역(120(1))은 영역(120(1a))과 영역(120(1b)) 사이에서 접을 수 있다(도 4 참조).
영역(120(1a))은 표시부(130(1a))와 위치 정보 입력부(140(1a))를 포함하고, 영역(120(1b))은 표시부(130(1b))와 위치 정보 입력부(140(1b))를 포함한다(도 4 및 도 5의 (C) 참조).
또한, 제 2 영역(120(2))은 표시부(130(2))와 위치 정보 입력부(140(2))를 포함한다.
검지부(150)는 검지부(150(1a)), 검지부(150(1b)) 및 검지부(150(2))를 포함한다. 검지부(150(1a))는 영역(120(1a))에 있는 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지할 수 있게 하우징(15a)에 제공되고, 검지부(150(1b))는 영역(120(1b))에 있는 표시부의 표시를 차단하는 것을 검지할 수 있게 하우징(15b)에 제공되어 있다(도 5의 (A1) 참조).
검지부(150(1a))가 내측이 되도록 둘로 접힌 상태의 정보 처리 장치(100C)의 측면도를 도 6의 (A1) 및 도 6의 (A2)에 도시하였다. 영역(120(1a))은 영역(120(1b))과 마주 보고, 영역(120(1a))의 표시는 영역(120(1b))으로 차단되어 있다. 또한, 영역(120(1b))의 표시는 영역(120(1a))으로 차단되어 있다.
이렇게 접힌 상태의 정보 처리 장치(100C)의 제 2 영역(120(2))은 도 6의 (A1)에 화살표로 나타낸 하나의 방향을 향하여 표시할 수 있다.
제 1 영역(120(1))이 내측으로 접힌 것을, 검지부(150(1a))가 공급하는 검지 정보(S1a) 및/또는 검지부(150(1b))가 공급하는 검지 정보(S1b)에 기초하여 알 수 있다. 그리고, 제 1 표시부(130(1))의 표시가 차단된 부분의 구동을 정지하여도 좋다. 이로써, 소비 전력을 저감할 수 있다.
또한, 검지부(150(1a))가 외측이 되도록 둘로 접힌 상태의 정보 처리 장치(100C)를 도 6의 (B1) 및 도 6의 (B2)에 도시하였다. 영역(120(1a))의 배면은 영역(120(1b))의 배면과 마주 보고, 영역(120(1a)) 또는 영역(120(1b))의 표시가 다른 쪽의 영역으로 차단되는 일은 없다.
이렇게 접힌 상태의 정보 처리 장치(100C)의 제 1 영역(120(1))은 도 6의 (B2)에 화살표로 나타낸 3개의 방향을 향하여 표시할 수 있다. 또한, 제 2 영역(120(2))을 사용하여 다른 하나의 방향에 표시할 수 있다.
검지부(150(1a))가 공급하는 검지 정보(S1a), 검지부(150(1b))가 공급하는 검지 정보(S1b) 또는 중력 센서 또는 자이로 센서가 공급하는 검지 정보에 기초하여 정보 처리 장치(100C)의 자세 등을 알 수 있다. 그리고, 이들 검지 정보의 조합에 기초하여 제 1 영역(120(1))의 표시에 불필요한 부분을 결정하고, 그 구동을 정지하여도 좋다. 이로써, 소비 전력을 저감할 수 있다.
정보 처리 장치(100C)는 접힌 상태 또는 전개된 상태로 할 수 있는 제 1 영역(120(1))을 포함하여 구성된다. 이로써, 제 1 영역의 크기를 가반성이 뛰어난 상태 또는 일람성이 뛰어난 상태로 하여 사용할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 정보 처리 장치(100C)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받아 제 1 검지 정보(S1)를 공급하는 입출력 장치(120)와, 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하여 제 1 검지 정보(S1)를 공급받는 연산 장치(110)를 갖는다(도 4 참조).
입출력 장치(120)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받는 단자부(125), 제 1 화상 정보(V1)를 공급받아 표시하는 제 1 표시부(130(1)), 제 2 화상 정보(V2)를 공급받아 표시하는 제 2 표시부(130(2)) 및, 제 1 표시부(130(1))의 표시를 차단하는 것을 검지하여 제 1 검지 정보(S1)를 공급하는 제 1 검지부(150(1))를 구비한다(도 4, 도 5의 (C)).
또한, 입출력 장치(120)는 제 1 표시부(130(1))가 배치되는 제 1 영역(120(1)), 제 2 표시부(130(2))가 배치되는 제 2 영역(120(2)), 단자부(125)가 배치되는 제 3 영역(120(3)), 제 1 영역(120(1))과 제 2 영역(120(2)) 사이에 끼워진 제 1 굴곡부(120c(1)) 및, 제 1 영역(120(1))과 제 3 영역(120(3)) 사이에 끼워진 제 2 굴곡부(120c(2))를 구비한다(도 5의 (C)).
제 3 영역(120(3))은 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 1 영역(120(1))은 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받으며, 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 2 영역(120(2))은 제 2 화상 정보(V2)를 공급받는다(도 5의 (D)).
연산부(111)는 제 1 검지 정보(S1)에 기초하여 제 1 화상 정보(V1) 또는 제 2 화상 정보(V2)를 생성한다.
정보 처리 장치(100C)는 제 1 표시부(130(1))가 배치되는 제 1 영역(120(1)), 제 2 표시부(130(2))가 배치되는 제 2 영역(120(2)), 단자부(125)가 배치되는 제 3 영역(120(3)), 제 1 영역(120(1))과 제 2 영역(120(2)) 사이에 끼워진 제 1 굴곡부(120c(1)) 및 제 1 영역(120(1))과 제 3 영역(120(3)) 사이에 끼워진 제 2 굴곡부(120c(2))를 포함하여 구성된다. 이로써, 단자부(125)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 1 영역(120(1))은 제 1 화상 정보(V1)를 표시하여 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 2 영역(120(2))은 제 2 화상 정보(V2)를 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
이하에 정보 처리 장치(100C)를 구성하는 개개의 요소에 대하여 설명한다. 또한, 이들 구성은 명확하게 분리할 수 없고, 하나의 구성이 다른 구성을 겸하는 경우나 다른 구성의 일부를 포함하는 경우가 있다.
또한, 정보 처리 장치(100C)는 접을 수 있는 하우징을 갖는 점, 제 1 영역(120(1))을 접을 수 있는 점이 실시형태 1에서 설명하는 정보 처리 장치와는 상이하다. 여기에서는 상이한 구성에 대하여 상세하게 설명하고, 동일한 구성을 사용할 수 있는 부분은 상기의 설명을 원용한다.
《전체의 구성》
정보 처리 장치(100C)는 입출력 장치(120)를 갖고, 입출력 장치(120)는 전개된 상태 및 접힌 상태로 할 수 있는 제 1 영역(120(1))을 구비한다. 또한, 입출력장치(120)는 제 1 영역(120(1))과의 사이에 제 1 굴곡부(120c(1))를 끼운 제 2 영역(120(2))을 구비하고, 제 1 영역(120(1))과의 사이에 제 2 굴곡부(120c(2))를 끼운 제 3 영역(120(3))을 구비한다(도 4 및 도 5 참조). 또한, 신호선이 제 1 영역(120(1)), 제 2 영역(120(2)) 및 제 3 영역(120(3))에 설치되고, 제 1 영역(120(1))은 제 2 영역(120(2)) 및 제 3 영역(120(3))과 전기적으로 접속되어 있다.
또한, 제 1 영역(120(1))은 전개된 상태 및 접힌 상태로 할 수 있고, 접이 가능한 하우징에 유지되어 있다.
또한, 검지부(150(1a)) 및 검지부(150(1b))를 가져도 좋다.
《하우징》
하우징은 제 1 영역(120(1))을 전개 또는 접을 수 있다.
예를 들어, 정보 처리 장치(100C)는 가요성을 갖는 하우징들(13a 및 13b)과 하우징들(13a 및 13b)보다 가요성이 낮은 하우징들(15a 및 15b)을 갖는다.
가요성을 갖는 부재 또는 힌지를 접을 수 있는 하우징에 사용할 수 있다. 또한, 사용자의 손 등을 사용하는 방법 외에, 스프링, 모터 등의 전동기, 피에조 소자 등을 사용하는 방법으로 하우징의 개폐를 수행하는 구성으로 하여도 좋다.
구체적으로는, 수지, 고무, 실리콘 고무 등을 가요성을 갖는 부재에 사용할 수 있다. 또는, 금속, 합금, 엔지니어링 플라스틱 등을 힌지에 사용할 수 있다.
또한, 정보 처리 장치(100C)는 접을 수 있는 하우징보다 강직한 하우징을 포함하여도 좋다.
하우징(13a)은 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))의 표시를 차단하지 않는 형상을 갖고(도 5의 (A1) 참조), 표시부(130) 및 위치 정보 입력부(140)를 하우징(13a) 및 하우징(13b) 사이에 배치한다(도 5의 (B) 참조).
하우징(13a) 및 하우징(13b)은 하우징(15a)과 하우징(15b)을 연결한다(도 5의 (A1) 및 도 5의 (A2) 참조).
하우징(15a)은 제 1 영역(120(1))의 표시를 차단하지 않는 형상을 갖는다(도 5의 (A1) 및 도 5의 (C) 참조).
하우징(15a)은 연산 장치(110)를 수납한다. 연산 장치(110)는 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급하고, 제 1 검지 정보(S1)를 공급받는 단자부를 갖는다.
하우징(15b)은 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))의 표시를 차단하지 않도록 개구부를 갖는다. 구체적으로는, 하우징(15a)은 제 1 영역(120(1))의 표시를 차단하지 않도록 개구부를 갖고, 하우징(15b)은 제 2 영역(120(2))의 표시를 차단하지 않도록 오른쪽 측의 측면에 개구부를 갖는다.
또한, 정보 처리 장치(100C)의 사용자는 제 2 영역(120(2))의 표시를 왼쪽 측의 측면에 배치하도록 정보 처리 장치(100C)를 바꿔 잡을 수 있다.
또한, 검지부(150)가 공급하는 정보 처리 장치(100C)의 방향에 따른 검지 정보에 기초하여, 제 1 화상 정보(V1) 또는 제 2 화상 정보(V2)를 생성하여도 좋다. 이로써, 정보 처리 장치(100C)를 파지하는 손의 방향에 따른 적합한 표시를 할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 왼손으로 하우징(15a)을 파지하고, 오른손으로 제 2 영역(120(2))에 있는 위치 정보 입력부(140(2))로부터 위치 정보를 공급할 수 있다.
《표시부 및 위치 정보 입력부》
입출력 장치(120)는 접을 수 있는 제 1 영역(120(1))을 구비한다. 또한, 제1 영역(120(1))은 제 1 표시부(130(1)) 및 제 1 검지부(150(1))를 구비한다.
예를 들어, 가요성을 갖는 기재와 가요성을 갖는 기재에 형성된 박막 소자로 구성된 입출력 장치를 입출력 장치(120)에 사용할 수 있다.
접을 수 있는 입출력 장치를 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))에 적용하면, 제 1 영역(120(1)) 및 제 2 영역(120(2))을 일체로 형성할 수 있다. 또한, 접을 수 있는 입출력 장치(120)에 적용 가능한 구체적인 구성예를 실시형태 4, 실시형태 5 및 실시형태 6에 기재하여 설명한다.
입출력 장치(120)는 제 3 영역(120(3))에 단자부(125)를 갖는다. 제 3 영역(120(3))은 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 공급받고, 제 1 검지 정보(S1)를 공급하는 단자부(125)를 갖는다(도 5의 (D) 참조).
입출력 장치(120)는 복수의 배선을 갖는다. 예를 들어, 배선(126)은 단자부(125)와 전기적으로 접속되고, 단자부에 공급되는 신호 또는 전원 전위 등을 공급할 수 있다.
구체적으로는, 제 3 영역(120(3))에 있는 배선은 공급된 제 1 화상 정보(V1) 및 제 2 화상 정보(V2)를 제 1 영역(120(1))에 공급한다. 제 1 영역(120(1))에 있는 배선은 공급된 제 2 화상 정보(V2)를 제 2 영역(120(2))에 공급한다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 3)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치의 구성에 대하여 도 7 및 도 8을 참조하면서 설명한다.
도 7은 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치의 프로그램을 설명하기 위한 플로 차트이다. 도 8은 도 7을 사용하여 설명하는 프로그램의 인터럽트 처리를 설명하기 위한 플로 차트이다.
<정보 처리 장치의 구성예 1.>
본 실시형태에서 설명하는 정보 처리 장치(100) 내지 정보 처리 장치(100C)는 이하의 스텝을 구비하는 프로그램을 기억하는 기억부(112)를 구비한다.
《제 1 스텝》
제 1 스텝에서, 스테이터스 정보를 포함하는 초기 정보를 취득한다(도 7의 (S1)).
나중의 스텝에서 사용하는 초기 정보를 취득한다. 예를 들어, 스테이터스 정보에 소정의 정보를 사용하여도 좋고, 검지부가 공급하는 검지 정보를 사용하여도 좋다.
《제 2 스텝》
제 2 스텝에서, 인터럽트 처리를 허가한다(도 7의 (S2)). 또한, 인터럽트 처리가 허가된 연산부(111)는 인터럽트 처리에 대한 실행 명령을 접수할 수 있다. 그리고, 인터럽트 처리에 대한 실행 명령을 접수한 연산부(111)는 주된 처리를 중단하고, 인터럽트 처리를 실행한다. 예를 들어, 인터럽트 처리에 대한 실행 명령에 관련진 이벤트를 공급받은 연산부(111)는 인터럽트 처리를 실행하고, 실행 결과를 기억부에 격납한다. 그 후에 인터럽트 처리로부터 주된 처리로 복귀한 연산부(111)는, 주된 처리를 인터럽트 처리의 실행 결과에 기초하여 재개할 수 있다.
《제 3 스텝》
제 3 스텝에서, 소정의 정보를 취득한다(도 7의 (S3)).
나중의 스텝에서 생성하는 제 1 화상 정보 또는 제 2 화상 정보의 기초가 되는 소정의 정보를 취득한다. 예를 들어, 크기가 제 1 영역(120(1)) 또는 제 2 영역(120(2))에 최적화되기 전의 화상 정보나 문자 정보를 취득한다. 또한, 인터럽트 처리로 공급된 조작 명령 또는 공급된 정보는 제 3 스텝 이후의 스텝에 반영된다.
《제 4 스텝》
제 4 스텝에서, 스테이터스 정보가 제 1 스테이터스인 경우에는, 제 5 스텝으로 진행되고, 제 2 스테이터스인 경우에는 제 6 스텝으로 진행된다(도 7의 (S4)).
예를 들어, 제 1 검지부(150(1))가 공급하는 제 1 검지 정보(S1)에 기초하여 결정된 스테이터스 정보가, 제 1 영역(120(1))의 표시가 차단되지 않는 상태에 있는 경우에는 제 5 스텝으로 진행되고, 제 1 영역(120(1))의 표시가 차단되는 상태에 있는 경우에는 제 6 스텝으로 진행된다.
《제 5 스텝》
제 5 스텝에서, 제 3 스텝에서 취득한 정보에 기초하여 제 1 화상 정보(V1)를 생성하고, 제 1 화상 정보(V1)를 제 1 표시부(130(1))에 표시한다(도 7의 (S5)).
예를 들어, 문자 정보가 단수 또는 복수의 행으로 나누어 표시되도록 배치된 제 1 화상 정보(V1)를 생성한다. 제 1 표시부(130(1))의 방향 또는 크기 또는 설정된 사용자의 원하는 의장에 기초하여 생성할 수도 있다.
《제 6 스텝》
제 6 스텝에서, 3의 스텝에서 취득한 정보에 기초하여 제 2 화상 정보(V2)를 생성하고, 제 2 화상 정보(V2)를 제 2 표시부(130(2))에 표시한다(도 7의 (S6)).
예를 들어, 문자 정보가 흘러서 표시되도록 제 2 화상 정보(V2)를 생성한다. 제 2 표시부(130(2))의 방향, 크기 또는 설정된 사용자의 원하는 속도로 생성할 수도 있다.
《제 7 스텝》
제 7 스텝에서, 종료 명령을 인터럽트 처리에서 공급된 경우에는 제 8 스텝으로 진행되고, 공급되지 않은 경우에는 제 3 스텝으로 진행된다(도 7의 (S7)).
《제 8 스텝》
제 8 스텝에서, 종료한다(도 7의 (S8)).
《인터럽트 처리》
또한, 인터럽트 처리는 이하의 스텝을 구비한다.
《제 9 스텝》
제 9 스텝에서, 제 1 검지 정보(S1) 및 제 2 검지 정보(S2)를 취득한다(도 8의 (T9)).
구체적으로는, 타이머 등을 사용하여 제 1 검지부(150(1))가 공급하는 제 1 검지 정보(S1) 및 제 2 검지부(150(2))가 공급하는 제 2 검지 정보(S2)를 취득한다.
《제 10 스텝》
제 10 스텝에서, 제 1 검지 정보(S1)에 기초하여 후보 정보를 결정한다(도 8의 (T10)).
《제 11 스텝》
제 11 스텝에서, 후보 정보가 스테이터스 정보와 상이한 경우에는 제 12 스텝으로 진행되고, 같은 경우에는 제 9 스텝으로 진행된다(도 8의 (T11)).
《제 12 스텝》
제 12 스텝에서, 스테이터스 정보를 후보 정보로 갱신한다(도 8의 (T12)).
예를 들어, 제 1 검지 정보(S1)에 변화가 있는 경우, 스테이터스 정보가 갱신된다.
《제 13 스텝》
제 13 스텝에서, 인터럽트 처리로부터 복귀한다(도 8의 (T13)).
또한, 인터럽트 처리에서, 갱신된 스테이터스 정보는 제 3 스텝 이후에 반영되게 된다. 또한, 인터럽트 처리에서, 종료 명령이 공급된 경우에는 제 8 스텝으로 진행되어 종료한다.
상기 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치는 프로그램이 제 1 검지 정보를 취득하여 후보 정보를 결정하는 스텝과, 스테이터스 정보가 후보 정보와 상이한 경우에는 스테이터스 정보를 후보 정보로 갱신하는 스텝과, 갱신된 스테이터스 정보에 기초하여 소정의 정보를 포함하는 화상 정보를 생성하여 표시하는 스텝을 포함하여 구성된다. 이로써, 소정의 정보를 포함하는 화상을 스테이터스 정보에 기초하여 설정된 영역에 표시할 수 있다. 그 결과, 신규 정보 처리 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 4)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치 표시부(130) 및 위치 정보 입력부(140)에 적용할 수 있는 절곡 가능한 터치 패널의 구성에 대하여 도 9를 참조하면서 설명한다.
도 9의 (A)는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치에 적용 가능한 터치 패널의 구조를 설명하는 상면도이다.
도 9의 (B)는 도 9의 (A)의 절단선(A-B) 및 절단선(C-D)에서의 단면도이다.
도 9의 (C)는 도 9의 (A)의 절단선(E-F)에서의 단면도이다.
<상면도의 설명>
본 실시형태에서 예시하는 터치 패널(300)은 표시부(301)를 갖는다(도 9의 (A) 참조).
표시부(301)는 복수의 화소(302)와 복수의 촬영 화소(308)를 구비한다. 촬영 화소(308)는 표시부(301)에 터치하는 손가락 등을 검지할 수 있다. 이로써, 촬영 화소(308)를 사용하여 터치 센서를 구성할 수 있다.
화소(302)는 복수의 부화소(예를 들어 부화소(302R))를 구비하고, 부화소는 발광 소자 및 발광 소자를 구동하는 전력을 공급할 수 있는 화소 회로를 구비한다.
화소 회로는 선택 신호를 공급할 수 있는 배선 및 화상 신호를 공급할 수 있는 배선과 전기적으로 접속된다.
또한, 터치 패널(300)은 선택 신호를 화소(302)에 공급할 수 있는 주사선 구동 회로(303g(1))와, 화상 신호를 화소(302)에 공급할 수 있는 화상 신호선 구동 회로(303s(1))를 구비한다.
촬영 화소(308)는 광전 변환 소자 및 광전 변환 소자를 구동하는 촬영 화소 회로를 구비한다.
촬영 화소 회로는 제어 신호를 공급할 수 있는 배선 및 전원 전위를 공급할 수 있는 배선과 전기적으로 접속된다.
제어 신호로서는 예를 들어 기록된 촬영 신호를 판독하는 촬영 화소 회로를 선택할 수 있는 신호, 촬영 화소 회로를 초기화할 수 있는 신호, 및 촬영 화소 회로가 광을 검출하는 시간을 결정할 수 있는 신호 등을 들 수 있다.
터치 패널(300)은 제어 신호를 촬영 화소(308)에 공급할 수 있는 촬영 화소구동 회로(303g(2))와, 촬영 신호를 판독하는 촬영 신호선 구동 회로(303s(2))를 구비한다.
<단면도의 설명>
터치 패널(300)은 기판(310) 및 기판(310)에 대향하는 대향 기판(370)을 갖는다(도 9의 (B) 참조).
기판(310) 및 대향 기판(370)에 가요성을 갖는 재료를 적용함으로써 가요성을 터치 패널(300)에 부여할 수 있다.
또한, 가요성을 갖는 터치 패널(300)을 변형하면, 터치 패널(300)에 제공된 기능 소자는 응력을 받는다. 기능 소자를 기판(310)과 대향 기판(370)의 대략 중앙에 배치하면 기능 소자의 변형을 억제할 수 있어 바람직하다.
또한, 선팽창률이 대략 같은 재료를 기판(310) 및 대향 기판(370)에 사용하면 바람직하다. 예를 들어, 재료의 선팽창률이 1×10-3/K 이하, 바람직하게는 5×10-5/K 이하, 보다 바람직하게는 1×10-5/K 이하이면 좋다.
예를 들어, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리아미드(나일론, 아라미드 등), 폴리이미드, 폴리카보네이트 또는 아크릴, 우레탄, 에폭시 또는 실록산 결합을 갖는 수지 포함 재료를 기판(310) 및 대향 기판(370)에 사용할 수 있다.
기판(310)은 가요성을 갖는 기판(310b), 의도하지 않은 불순물의 발광 소자로의 확산을 방지하는 배리어막(310a) 및 기판(310b)과 배리어막(310a)을 접합하는 수지층(310c)이 적층된 적층체이다.
대향 기판(370)은 가요성을 갖는 기재(370b), 의도하지 않은 불순물의 발광 소자로의 확산을 방지하는 배리어막(370a) 및 기재(370b)와 배리어막(370a)을 접합하는 수지층(370c)의 적층체이다(도 9의 (B) 참조).
밀봉재(360)는 대향 기판(370)과 기판(310)을 접합하고 있다. 또한, 밀봉재(360)는 공기보다 큰 굴절율을 구비하고, 광학 접합층을 겸한다. 화소 회로 및 발광 소자(예를 들어 제 1 발광 소자(350R))는 기판(310)과 대향 기판(370) 사이에 있다.
《화소의 구성》
화소(302)는 부화소(302R), 부화소(302G) 및 부화소(302B)를 갖는다(도 9의 (C) 참조). 또한, 부화소(302R)는 발광 모듈(380R)을 구비하고, 부화소(302G)는 발광 모듈(380G)을 구비하고, 부화소(302B)는 발광 모듈(380B)을 구비한다.
예를 들어 부화소(302R)는 제 1 발광 소자(350R) 및 제 1 발광 소자(350R)에 전력을 공급할 수 있는 트랜지스터(302t)를 포함하는 화소 회로를 구비한다(도 9의 (B) 참조). 또한, 발광 모듈(380R)은 제 1 발광 소자(350R) 및 광학 소자(예를 들어 제 1 착색층(367R))를 구비한다.
제 1 발광 소자(350R)는 제 1 하부 전극(351R), 상부 전극(352), 제 1 하부 전극(351R)과 상부 전극(352) 사이에 발광성의 유기 화합물을 포함하는 층(353)을 갖는다(도 9의 (C) 참조).
발광성의 유기 화합물을 포함하는 층(353)은 발광 유닛(353a), 발광 유닛(353b) 및 발광 유닛(353a)과 발광 유닛(353b) 사이에 중간층(354)을 구비한다.
발광 모듈(380R)은 제 1 착색층(367R)을 대향 기판(370)에 갖는다. 착색층은 특정한 파장을 갖는 광을 투과하는 것이면 좋고, 예를 들어 적색, 녹색 또는 청색 등을 띠는 광을 선택적으로 투과하는 것을 사용할 수 있다. 또는, 발광 소자가 발하는 광을 그대로 투과하는 영역을 제공하여도 좋다.
예를 들어, 발광 모듈(380R)은 제 1 발광 소자(350R)와 제 1 착색층(367R)에 접하는 밀봉재(360)를 갖는다.
제 1 착색층(367R)은 제 1 발광 소자(350R)와 중첩되는 위치에 있다. 이로써, 제 1 발광 소자(350R)가 발하는 광의 일부는 광학 접합층을 겸하는 밀봉재(360) 및 제 1 착색층(367R)을 투과하여, 도면 중의 화살표로 나타낸 바와 같이 발광 모듈(380R)의 외부에 사출된다.
《표시 패널의 구성》
터치 패널(300)은 차광층(367BM)을 대향 기판(370)에 갖는다. 차광층(367BM)은 착색층(예를 들어 제 1 착색층(367R))을 둘러싸도록 제공되어 있다.
터치 패널(300)은 반사 방지층(367p)을 표시부(301)에 중첩되는 위치에 구비한다. 반사 방지층(367p)으로서, 예를 들어 원편광판을 사용할 수 있다.
터치 패널(300)은 절연막(321)을 구비한다. 절연막(321)은 트랜지스터(302t)를 덮고 있다. 또한, 절연막(321)은 화소 회로에 기인하는 요철을 평탄화하기 위한 층으로서 사용할 수 있다. 또한, 불순물의 트랜지스터(302t) 등으로의 확산을 억제할 수 있는 층이 적층된 절연막을 절연막(321)에 적용할 수 있다.
터치 패널(300)은 발광 소자(예를 들어 제 1 발광 소자(350R))를 절연막(321) 위에 갖는다.
터치 패널(300)은 제 1 하부 전극(351R)의 단부에 중첩되는 격벽(328)을 절연막(321) 위에 갖는다(도 9의 (C) 참조). 또한, 기판(310)과 대향 기판(370)의 간격을 제어하는 스페이서(329)를 격벽(328) 위에 갖는다.
《화상 신호선 구동 회로의 구성》
화상 신호선 구동 회로(303s(1))는 트랜지스터(303t) 및 용량(303c)을 포함한다. 또한, 구동 회로는 화소 회로와 동일한 공정으로 동일 기판 위에 형성할 수 있다.
《촬영 화소의 구성》
촬영 화소(308)는 광전 변환 소자(308p) 및 광전 변환 소자(308p)에 조사된 광을 검지하기 위한 촬영 화소 회로를 구비한다. 또한, 촬영 화소 회로는 트랜지스터(308t)를 포함한다.
예를 들어 pin형의 포토다이오드를 광전 변환 소자(308p)에 사용할 수 있다.
《다른 구성》
터치 패널(300)은 신호를 공급할 수 있는 배선(311)을 구비하고, 단자(319)가 배선(311)에 제공되어 있다. 또한, 화상 신호 및 동기 신호 등의 신호를 공급할 수 있는 FPC(309(1))가 단자(319)에 전기적으로 접속되어 있다.
또한, FPC(309(1))에는 프린트 배선 기판(PWB)이 부착되고 있어도 좋다.
동일한 공정으로 형성된 트랜지스터를 트랜지스터(302t), 트랜지스터(303t), 트랜지스터(308t) 등의 트랜지스터에 적용할 수 있다.
보텀 게이트형, 탑 게이트형 등의 구조를 갖는 트랜지스터를 적용할 수 있다.
다양한 반도체를 트랜지스터에 적용할 수 있다. 예를 들어, 산화물 반도체, 단결정 실리콘, 폴리실리콘 또는 비정질 실리콘 등을 적용할 수 있다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 5)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치에 적용할 수 있는 절곡 가능한 터치 패널의 구성에 대하여 도 10 및 도 11을 참조하면서 설명한다.
도 10의 (A)는 본 실시형태에서 예시하는 터치 패널(500)의 사시도이다. 또한 명료화를 위하여, 대표적인 구성 요소를 도 10에 도시하였다. 도 10의 (B)는 터치 패널(500)의 사시도이다.
도 11은 도 10의 (A)에 도시된 터치 패널(500)의 Ｘ1-X2에서의 단면도이다.
터치 패널(500)은 표시부(501)와 터치 센서(595)를 구비한다(도 10의 (B) 참조). 또한, 터치 패널(500)은 기판(510), 기판(570) 및 기판(590)을 갖는다. 또한, 기판(510), 기판(570) 및 기판(590)은 모두 가요성을 갖는다.
표시부(501)는 기판(510), 기판(510) 위에 복수의 화소 및 상기 화소에 신호를 공급할 수 있는 복수의 배선(511), 및 화상 신호선 구동 회로(503s(1))를 구비한다. 복수의 배선(511)은 기판(510)의 외주부까지 리드(lead)되고, 그 일부가 단자(519)를 구성한다. 단자(519)는 FPC(509(1))와 전기적으로 접속한다.
<터치 센서>
기판(590)에는 터치 센서(595)와, 터치 센서(595)와 전기적으로 접속하는 복수의 배선(598)을 구비한다. 복수의 배선(598)은 기판(590)의 외주부로 리드되고, 그 일부는 단자를 구성한다. 그리고, 상기 단자는 FPC(509(2))와 전기적으로 접속된다. 또한, 도 10의 (B)에서는 명료화를 위하여, 기판(590)의 이면측(기판(510)과 대향하는 면측)에 제공되는 터치 센서(595)의 전극이나 배선 등을 실선으로 나타내었다.
터치 센서(595)로서, 예를 들어 정전 용량 방식의 터치 센서를 적용할 수 있다. 정전 용량 방식으로서는 표면형 정전 용량 방식, 투영형 정전 용량 방식 등이 있다.
투영형 정전 용량 방식으로서는 주로 구동 방식의 차이로 자기 용량 방식, 상호 용량 방식 등이 있다. 상호 용량 방식을 사용하면 동시 다점 검출이 가능하기 때문에 바람직하다.
이하에서는 투영형 정전 용량 방식의 터치 센서를 적용하는 경우에 대하여 도 10의 (B)를 사용하여 설명한다.
또한, 손가락 등의 검지 대상의 근접 또는 접촉을 검지할 수 있는 다양한 센서를 적용할 수 있다.
투영형 정전 용량 방식의 터치 센서(595)는 전극(591)과 전극(592)을 갖는다. 전극(591)은 복수의 배선(598) 중 어느 하나와 전기적으로 접속하고, 전극(592)은 복수의 배선(598)의 다른 어느 하나와 전기적으로 접속한다.
전극(592)은 도 10의 (A) 및 (B)에 도시된 바와 같이 한 방향으로 반복하여 배치된 복수의 사변형이 각부(角部)에서 접속된 형상을 갖는다.
전극(591)은 사변형이며, 전극(592)이 연장되는 방향과 교차하는 방향으로 반복하여 배치되어 있다.
배선(594)은 전극(592)을 끼운 2개의 전극(591)을 전기적으로 접속한다. 이 때, 전극(592)과 배선(594)의 교차부 면적이 가능한 한 작아지는 형상이 바람직하다. 이로써, 전극이 제공되지 않은 영역의 면적을 저감할 수 있고, 투과율의 불균일을 저감할 수 있다. 그 결과, 터치 센서(595)를 투과하는 광의 휘도 불균일을 저감할 수 있다.
또한, 전극(591), 전극(592)의 형상은 이것에 한정되지 않고, 다양한 형상을 취할 수 있다. 예를 들어, 복수의 전극(591)을 가능한 한 틈이 생기지 않도록 배치하고, 절연층을 통하여 전극(592)을, 전극(591)과 중첩되지 않는 영역이 가능하도록 이간하여 복수 제공하는 구성으로 하여도 좋다. 이 때, 인접하는 2개의 전극(592) 사이에 이들과는 전기적으로 절연된 더미 전극을 제공하면, 투과율이 상이한 영역의 면적을 저감할 수 있기 때문에 바람직하다.
터치 센서(595)의 구성을 도 11을 사용하여 설명한다.
터치 센서(595)는 기판(590), 기판(590) 위에 엇갈리게 배치된 전극(591) 및 전극(592), 전극(591) 및 전극(592)을 덮는 절연층(593) 및 이웃하는 전극(591)을 전기적으로 접속하는 배선(594)을 구비한다.
수지층(597)은 터치 센서(595)가 표시부(501)에 중첩되도록 기판(590)을 기판(570)에 접합하고 있다.
전극(591) 및 전극(592)은 투광성을 갖는 도전 재료를 사용하여 형성한다. 투광성을 갖는 도전성 재료로서는 산화 인듐, 인듐 주석 산화물, 인듐 아연 산화물, 산화 아연, 갈륨을 첨가한 산화 아연 등의 도전성 산화물을 사용할 수 있다. 또한, 그래핀을 포함하는 막을 사용할 수도 있다. 그래핀을 포함하는 막은 예를 들어 막 형상으로 형성된 산화 그래핀을 포함하는 막을 환원하여 형성할 수 있다. 환원하는 방법으로서는 열을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.
투광성을 갖는 도전성 재료를 기판(590) 위에 스퍼터링법에 의하여 성막한 후, 포토리소그래피법 등 다양한 패터닝 기술에 의하여 불필요한 부분을 제거하여, 전극(591) 및 전극(592)을 형성할 수 있다.
또한, 절연층(593)에 사용하는 재료로서는, 예를 들어, 아크릴, 에폭시 등의 수지, 실록산 결합을 갖는 수지 외에, 산화 실리콘, 산화질화 실리콘, 산화 알루미늄 등의 무기 절연 재료를 사용할 수도 있다.
또한, 전극(591)에 도달하는 개구가 절연층(593)에 제공되고, 배선(594)이 인접하는 전극(591)을 전기적으로 접속한다. 투광성의 도전성 재료는 터치 패널의 개구율을 높일 수 있기 때문에, 배선(594)에 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 전극(591) 및 전극(592)보다 도전성이 높은 재료는 전기 저항을 저감할 수 있기 때문에 배선(594)에 적합하게 사용할 수 있다.
하나의 전극(592)은 한 방향으로 연장되고, 복수의 전극(592)이 스트라이프 형상으로 제공되어 있다.
배선(594)은 전극(592)과 교차하여 제공되어 있다.
한 쌍의 전극(591)이 하나의 전극(592)을 끼워 제공되고, 배선(594)은 한 쌍의 전극(591)을 전기적으로 접속하고 있다.
또한, 복수의 전극(591)은 하나의 전극(592)과 반드시 직교하는 방향으로 배치될 필요는 없고, 90도 미만의 각도를 이루도록 배치되어도 좋다.
하나의 배선(598)은 전극(591) 또는 전극(592)과 전기적으로 접속된다. 배선(598)의 일부는 단자로서 기능한다. 배선(598)으로서는 예를 들어, 알루미늄, 금, 백금, 은, 니켈, 티타늄, 텅스텐, 크롬, 몰리브덴, 철, 코발트, 구리, 또는 팔라듐 등의 금속 재료나, 상기 금속 재료를 포함하는 합금 재료를 사용할 수 있다.
또한, 절연층(593) 및 배선(594)을 덮는 절연층을 제공하여 터치 센서(595)를 보호할 수 있다.
또한, 접속층(599)은 배선(598)과 FPC(509(2))를 전기적으로 접속한다.
접속층(599)으로서는, 다양한 이방성 도전 필름(ACF: Anisotropic Conductive film)이나, 이방성 도전 페이스트(ACP: Anisotropic Conductive Paste) 등을 사용할 수 있다.
수지층(597)은 투광성을 갖는다. 예를 들어, 열경화성 수지나 자외선 경화 수지를 사용할 수 있고, 구체적으로는 아크릴, 우레탄, 에폭시, 또는 실록산 결합을 갖는 수지 등의 수지를 사용할 수 있다.
<표시부>
표시부(501)는 매트릭스상으로 배치된 복수의 화소를 구비한다. 화소는 표시 소자와 표시 소자를 구동하는 화소 회로를 구비한다.
본 실시형태에서는 백색의 광을 사출하는 유기 일렉트로루미네선스 소자를 표시 소자에 적용하는 경우에 대하여 설명하지만, 표시 소자는 이것에 한정되지 않는다.
예를 들어, 부화소마다 사출하는 광의 색이 상이하도록 발광색이 상이한 유기 일렉트로루미네선스 소자를 부화소마다 적용하여도 좋다.
또한, 유기 일렉트로루미네선스 소자 외에, 전기 영동 방식이나 전자분 유체방식이나 일렉트로웨팅 방식 등에 의하여 표시하는 표시 소자(전자 잉크라고도 함), 셔터 방식의 MEMS 표시 소자, 광간섭 방식의 MEMS 표시 소자, 액정 소자 등 다양한 표시 소자를 표시 소자에 사용할 수 있다. 또한, 투과형 액정 디스플레이, 반투과형 액정 디스플레이, 반사형 액정 디스플레이, 직시형 액정 디스플레이 등에도 적용할 수 있다. 또한, 반투과형 액정 디스플레이나 반사형 액정 디스플레이를 실현하는 경우에는, 화소 전극의 일부 또는 전부가 반사 전극으로서의 기능을 갖도록 하면 좋다. 예를 들어, 화소 전극의 일부 또는 전부가 알루미늄, 은 등을 갖도록 하면 좋다. 또한, 이 경우, 반사 전극 아래에, SRAM 등의 기억 회로를 제공하는 것도 가능하다. 이로써, 소비 전력을 더욱 저감할 수 있다. 또한, 적용하는 표시 소자에 적합한 구성을 다양한 화소 회로로부터 선택하여 사용할 수 있다.
또한, 표시부에서, 화소에 능동 소자를 갖는 액티브 매트릭스 방식, 또는 화소에 능동 소자를 갖지 않는 패시브 매트릭스 방식을 사용할 수 있다.
액티브 매트릭스 방식에서는 능동 소자(액티브 소자, 비선형 소자)로서 트랜지스터뿐만 아니라, 다양한 능동 소자(액티브 소자, 비선형 소자)를 사용할 수 있다. 예를 들어, MIM(Metal Insulator Metal), 또는 TFD(Thin Film Diode) 등을 사용하는 것도 가능하다. 이들 소자는 제조 공정이 적기 때문에 제조 비용의 저감, 또는 제조 수율의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 이들 소자는 소자의 사이즈가 작기 때문에 개구율을 향상시킬 수 있고, 저소비 전력화나 고휘도화를 도모할 수 있다.
액티브 매트릭스 방식 이외의 것으로서, 능동 소자(액티브 소자, 비선형 소자)를 사용하지 않는 패시브 매트릭스형을 사용하는 것도 가능하다. 능동 소자(액티브 소자, 비선형 소자)를 사용하지 않고 제조 공정이 적기 때문에, 제조 비용의 저감, 또는 제조 수율의 향상을 도모할 수 있다. 또는, 능동 소자(액티브 소자, 비선형 소자)를 사용하지 않기 때문에 개구율을 향상시킬 수 있고, 저소비 전력화나 고휘도화 등을 도모할 수 있다.
가요성을 갖는 재료를 기판(510) 및 기판(570)에 적합하게 사용할 수 있다.
의도하지 않은 불순물의 투과가 억제된 재료를 기판(510) 및 기판(570)에 적합하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 수증기의 투과율이 10-5g/m2·day 이하, 바람직하게는 10-6g/m2·day 이하인 재료를 적합하게 사용할 수 있다.
선팽창률이 대략 같은 재료를 기판(510) 및 기판(570)에 적합하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 선팽창률이 1×10-3/K 이하, 바람직하게는 5×10-5/K 이하, 보다 바람직하게는 1×10-5/K 이하인 재료를 적합하게 사용할 수 있다.
기판(510)은 가요성을 갖는 기판(510b), 의도하지 않은 불순물의 발광 소자로의 확산을 방지하는 배리어막(510a) 및 기판(510b)과 배리어막(510a)을 접합하는 수지층(510c)이 적층된 적층체이다.
예를 들어, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 폴리아미드(나일론, 아라미드 등), 폴리이미드, 폴리카보네이트 또는 아크릴, 우레탄, 에폭시 또는 실록산 결합을 갖는 수지 포함 재료를 수지층(510c)에 사용할 수 있다.
기판(570)은 가요성을 갖는 기판(570b), 의도하지 않은 불순물의 발광 소자로의 확산을 방지하는 배리어막(570a) 및 기판(570b)과 배리어막(570a)을 접합하는 수지층(570c)의 적층체이다.
밀봉재(560)는 기판(570)과 기판(510)을 접합하고 있다. 밀봉재(560)는 공기보다 큰 굴절율을 갖는다. 또한, 밀봉재(560) 측으로 광을 추출하는 경우에, 밀봉재(560)는 광학 접합층을 겸한다. 화소 회로 및 발광 소자(예를 들어 제 1 발광 소자(550R))는 기판(510)과 기판(570) 사이에 있다.
《화소의 구성》
화소는 부화소(502R)를 포함하고, 부화소(502R)는 발광 모듈(580R)을 구비한다.
부화소(502R)는 제 1 발광 소자(550R) 및 제 1 발광 소자(550R)에 전력을 공급할 수 있는 트랜지스터(502t)를 포함하는 화소 회로를 구비한다. 또한, 발광 모듈(580R)은 제 1 발광 소자(550R) 및 광학 소자(예를 들어 제 1 착색층(567R))를 구비한다.
제 1 발광 소자(550R)는 하부 전극, 상부 전극, 하부 전극과 상부 전극 사이에 발광성의 유기 화합물을 포함하는 층을 갖는다.
발광 모듈(580R)은 광을 추출하는 방향으로 제 1 착색층(567R)을 갖는다. 착색층은 특정한 파장을 갖는 광을 투과하는 것이면 좋고, 예를 들어 적색, 녹색 또는 청색 등을 띠는 광을 선택적으로 투과하는 것을 사용할 수 있다. 또한, 다른 부화소에서, 발광 소자가 발하는 광을 그대로 투과하는 영역을 제공하여도 좋다.
또한, 밀봉재(560)가 광을 추출하는 측에 제공되어 있는 경우, 밀봉재(560)는 제 1 발광 소자(550R)와 제 1 착색층(567R)에 접한다.
제 1 착색층(567R)은 제 1 발광 소자(550R)와 중첩되는 위치에 있다. 이로써, 제 1 발광 소자(550R)가 발하는 광의 일부는 제 1 착색층(567R)을 투과하여, 도면 중에 나타낸 화살표 방향의 발광 모듈(580R)의 외부에 사출된다.
《표시부의 구성》
표시부(501)는 광을 사출하는 방향으로 차광층(567BM)을 갖는다. 차광층(567BM)은 착색층(예를 들어 제 1 착색층(567R))을 둘러싸도록 제공되어 있다.
표시부(501)는 반사 방지층(567p)을 화소에 중첩되는 위치에 구비한다. 반사 방지층(567p)으로서, 예를 들어 원편광판을 사용할 수 있다.
표시부(501)는 절연막(521)을 구비한다. 절연막(521)은 트랜지스터(502t)를 덮고 있다. 또한, 절연막(521)은 화소 회로에 기인하는 요철을 평탄화하기 위한 층으로서 사용할 수 있다. 또한, 불순물의 확산을 억제할 수 있는 층을 포함하는 적층막을 절연막(521)에 적용할 수 있다. 이로써, 예기치 않은 불순물의 확산에 의한 트랜지스터(502t) 등의 신뢰성 저하를 억제할 수 있다.
표시부(501)는 발광 소자(예를 들어 제 1 발광 소자(550R))를 절연막(521) 위에 갖는다.
표시부(501)는 하부 전극의 단부에 중첩되는 격벽(528)을 절연막(521) 위에 갖는다. 또한, 기판(510)과 기판(570)의 간격을 제어하는 스페이서를 격벽(528) 위에 갖는다.
《주사선 구동 회로의 구성》
주사선 구동 회로(503g(1))는 트랜지스터(503t) 및 용량(503c)을 포함한다. 또한, 구동 회로를 화소 회로와 동일한 공정으로 동일 기판 위에 형성할 수 있다.
《다른 구성》
표시부(501)는 신호를 공급할 수 있는 배선(511)을 구비하고, 단자(519)가 배선(511)에 제공되어 있다. 또한, 화상 신호 및 동기 신호 등의 신호를 공급할 수 있는 FPC(509(1))가 단자(519)에 전기적으로 접속되어 있다.
또한, FPC(509(1))에는 프린트 배선 기판(PWB)이 부착되고 있어도 좋다.
표시부(501)는 주사선, 신호선 및 전원선 등의 배선을 갖는다. 다양한 도전막을 배선에 사용할 수 있다.
구체적으로는, 알루미늄, 크롬, 구리, 탄탈, 티타늄, 몰리브덴, 텅스텐, 니켈, 이트륨, 지르코늄, 은 또는 망간으로부터 선택된 금속 원소, 상술한 금속 원소를 성분으로 하는 합금 또는 상술한 금속 원소를 조합한 합금 등을 사용할 수 있다. 특히, 알루미늄, 크롬, 구리, 탄탈, 티타늄, 몰리브덴, 텅스텐 중에서 선택되는 하나 이상의 원소를 포함하면 바람직하다. 특히, 구리와 망간의 합금이 웨트 에칭법을 사용한 미세 가공에 적합하다.
구체적으로는, 알루미늄막 위에 티타늄막을 적층하는 2층 구조, 질화 티타늄막 위에 티타늄막을 적층하는 2층 구조, 질화 티타늄막 위에 텅스텐막을 적층하는 2층 구조, 질화 탄탈막 또는 질화 텅스텐막 위에 텅스텐막을 적층하는 2층 구조, 티타늄막과, 그 티타늄막 위에 알루미늄막을 적층하고, 또한 그 위에 티타늄막을 형성하는 3층 구조 등을 사용할 수 있다.
구체적으로는, 알루미늄막 위에 티타늄, 탄탈, 텅스텐, 몰리브덴, 크롬, 네오디뮴, 스칸듐으로부터 선택된 하나 또는 복수를 조합한 합금막, 또는 질화막을 적층하는 적층 구조를 사용할 수 있다.
또한, 산화 인듐, 산화 주석 또는 산화 아연을 포함하는 투광성을 갖는 도전 재료를 사용하여도 좋다.
<표시부의 변형예 1>
다양한 트랜지스터를 표시부(501)에 적용할 수 있다.
보텀 게이트형의 트랜지스터를 표시부(501)에 적용하는 경우의 구성을 도 1 1의 (A) 및 도 11의 (B)에 도시하였다.
예를 들어, 산화물 반도체, 비정질 실리콘 등을 포함하는 반도체층을 도 11의 (A)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다.
예를 들어, 적어도 인듐(In), 아연(Zn) 및 M(Al, Ga, Ge, Y, Zr, Sn, La, Ce 또는 Hf 등의 금속)을 포함하는 In-M-Zn 산화물로 표기되는 막을 포함하는 것이 바람직하다. 또는, In과 Zn의 쌍방을 포함하는 것이 바람직하다.
스테빌라이저로서는 갈륨(Ga), 주석(Sn), 하프늄(Hf), 알루미늄(Al), 또는 지르코늄(Zr) 등이 있다. 또한, 다른 스테빌라이저로서는 란타노이드인 란탄(La), 세륨(Ce), 프라세오디뮴(Pr), 네오디뮴(Nd), 사마륨(Sm), 유로퓸(Eu), 가돌리늄(Gd), 테르븀(Tb), 디스프로슘(Dy), 홀뮴(Ho), 에르븀(Er), 툴륨(Tm), 이테르븀(Yb), 루테튬(Lu) 등이 있다.
산화물 반도체막을 구성하는 산화물 반도체로서, 예를 들어, In-Ga-Zn계 산화물, In-Al-Zn계 산화물, In-Sn-Zn계 산화물, In-Hf-Zn계 산화물, In-La-Zn계 산화물, In-Ce-Zn계 산화물, In-Pr-Zn계 산화물, In-Nd-Zn계 산화물, In-Sm-Zn계 산화물, In-Eu-Zn계 산화물, In-Gd-Zn계 산화물, In-Tb-Zn계 산화물, In-Dy-Zn계 산화물, In-Ho-Zn계 산화물, In-Er-Zn계 산화물, In-Tm-Zn계 산화물, In-Yb-Zn계 산화물, In-Lu-Zn계 산화물, In-Sn-Ga-Zn계 산화물, In-Hf-Ga-Zn계 산화물, In-Al-Ga-Zn계 산화물, In-Sn-Al-Zn계 산화물, In-Sn-Hf-Zn계 산화물, In-Hf-Al-Zn계 산화물, In-Ga계 산화물을 사용할 수 있다.
또한, 여기서 In-Ga-Zn계 산화물이란 In과 Ga와 Zn을 주성분으로서 갖는 산화물이라는 의미이며, In과 Ga와 Zn의 비율은 불문하다. 또한, In과 Ga와 Zn 이외의 금속 원소가 들어가도 좋다.
예를 들어, 레이저 어닐 등의 처리에 의하여 결정화시킨 다결정 실리콘을 포함하는 반도체층을, 도 11의 (B)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다.
탑 게이트형의 트랜지스터를 표시부(501)에 적용하는 경우의 구성을 도 11의 (C)에 도시하였다.
예를 들어, 다결정 실리콘 또는 단결정 실리콘 기판 등으로부터 전치(轉置)된 단결정 실리콘막 등을 포함하는 반도체층을, 도 11의 (C)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 6)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치에 적용할 수 있는 절곡 가능한 터치 패널의 구성에 대하여 도 12를 참조하면서 설명한다.
도 12는 터치 패널(500B)의 단면도이다.
본 실시형태에서 설명하는 터치 패널(500B)은 공급된 화상 정보를 트랜지스터가 제공되어 있는 측에 표시하는 표시부(501)를 구비하는 점 및 터치 센서가 표시부의 기판(510) 측에 제공되어 있는 점이, 실시형태 5에서 설명하는 터치 패널(500)과는 상이하다. 여기에서는 상이한 구성에 대하여 상세하게 설명하고, 동일한 구성을 사용할 수 있는 부분은 상기의 설명을 원용한다.
<표시부>
표시부(501)는 매트릭스상으로 배치된 복수의 화소를 구비한다. 화소는 표시 소자와 표시 소자를 구동하는 화소 회로를 구비한다.
《화소의 구성》
화소는 부화소(502R)를 포함하고, 부화소(502R)는 발광 모듈(580R)을 구비한다.
부화소(502R)는 제 1 발광 소자(550R) 및 제 1 발광 소자(550R)에 전력을 공급할 수 있는 트랜지스터(502t)를 포함하는 화소 회로를 구비한다.
발광 모듈(580R)은 제 1 발광 소자(550R) 및 광학 소자(예를 들어 제 1 착색층(567R))를 구비한다.
제 1 발광 소자(550R)는 하부 전극, 상부 전극, 하부 전극과 상부 전극 사이에 발광성의 유기 화합물을 포함하는 층을 갖는다.
발광 모듈(580R)은 광을 추출하는 방향으로 제 1 착색층(567R)을 갖는다. 착색층은 특정한 파장을 갖는 광을 투과하는 것이면 좋고, 예를 들어 적색, 녹색 또는 청색 등을 띠는 광을 선택적으로 투과하는 것을 사용할 수 있다. 또한, 다른 부화소에서, 발광 소자가 발하는 광을 그대로 투과하는 영역을 제공하여도 좋다.
제 1 착색층(567R)은 제 1 발광 소자(550R)와 중첩되는 위치에 있다. 또한, 도 12의 (A)에 도시된 발광 소자(550R)는 트랜지스터(502t)가 제공되어 있는 측에 광을 사출한다. 이로써, 제 1 발광 소자(550R)가 발하는 광의 일부는 제 1 착색층(567R)을 투과하여, 도면 중에 나타낸 화살표 방향의 발광 모듈(580R)의 외부에 사출된다.
《표시부의 구성》
표시부(501)는 광을 사출하는 방향으로 차광층(567BM)을 갖는다. 차광층(567BM)은 착색층(예를 들어 제 1 착색층(567R))을 둘러싸도록 제공되어 있다.
표시부(501)는 절연막(521)을 구비한다. 절연막(521)은 트랜지스터(502t)를 덮고 있다. 또한, 절연막(521)은 화소 회로에 기인하는 요철을 평탄화하기 위한 층으로서 사용할 수 있다. 또한, 불순물의 확산을 억제할 수 있는 층을 포함하는 적층막을 절연막(521)에 적용할 수 있다. 이로써, 예를 들어 제 1 착색층(567R)으로부터 확산하는 예기치 않은 불순물에 의한 트랜지스터(502t) 등의 신뢰성 저하를 억제할 수 있다.
<터치 센서>
터치 센서(595)는 표시부(501)의 기판(510) 측에 제공되어 있다(도 12의 (A) 참조).
수지층(597)은 기판(510)과 기판(590) 사이에 있고, 표시부(501)와 터치 센서(595)를 접합한다.
<표시부의 변형예 1>
다양한 트랜지스터를 표시부(501)에 적용할 수 있다.
보텀 게이트형의 트랜지스터를 표시부(501)에 적용하는 경우의 구성을 도 12의 (A) 및 도 12의 (B)에 도시하였다.
예를 들어, 산화물 반도체, 비정질 실리콘 등을 포함하는 반도체층을 도 12 (A)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다. 또한, 한 쌍의 게이트 전극을 트랜지스터의 채널이 형성되는 영역을 상하에 끼도록 제공하여도 좋다. 이로써, 트랜지스터의 특성 변동을 억제하여 신뢰성을 높일 수 있다.
예를 들어, 다결정 실리콘 등을 포함하는 반도체층을 도 12의 (B)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다.
탑 게이트형의 트랜지스터를 표시부(501)에 적용하는 경우의 구성을 도 12의 (C)에 도시하였다.
예를 들어, 다결정 실리콘 또는 전사된 단결정 실리콘막 등을 포함하는 반도체층을 도 12의 (C)에 도시된 트랜지스터(502t) 및 트랜지스터(503t)에 적용할 수 있다.
또한, 본 실시형태는 본 명세서에서 기재하는 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다.
(실시형태 7)
본 실시형태에서는 본 발명의 일 형태의 정보 처리 장치나 전자 기기 등에 적용할 수 있는 절곡 가능한 장치를 제작하는 방법에 대하여 도 13 내지 도 15를 참조하면서 설명한다. 또한, 절곡 가능한 장치의 예로서는 표시 장치, 발광 장치, 입력 장치 등을 들 수 있다. 입력 장치의 예로서는 터치 센서, 터치 패널 등을 들 수 있다. 발광 장치의 예로서는 유기 EL 패널, 조명 장치 등을 들 수 있다. 표시 장치의 예로서는 발광 장치, 유기 EL 패널, 액정 표시 장치 등을 들 수 있다. 또한, 표시 장치나 발광 장치의 내부에 터치 센서 등의 입력 장치의 기능이 제공되어 있는 경우도 있다. 예를 들어, 표시 장치나 발광 장치가 갖는 대향 기판(예를 들어, 트랜지스터가 제공되지 않은 기판)에, 터치 센서가 제공되어 있는 경우가 있다. 또는, 표시 장치나 발광 장치가 갖는 소자 기판(예를 들어, 트랜지스터가 설치되어 있는 기판)에 터치 센서가 설치되어 있는 경우가 있다. 또는, 표시 장치나 발광 장치가 갖는 대향 기판과, 표시 장치나 발광 장치가 갖는 소자 기판에 터치 센서가 제공되어 있는 경우가 있다.
우선, 제작 기판(701) 위에 박리층(703)을 형성하고, 박리층(703) 위에 피박리층(705)을 형성한다(도 13의 (A)). 또한, 제작 기판(721) 위에 박리층(723)을 형성하고, 박리층(723) 위에 피박리층(725)을 형성한다(도 13의 (B)).
예를 들어, 박리층으로서 텅스텐막을 사용하였을 때에, 텅스텐막 위에 N2O 등의 산소를 포함하는 가스로 플라스마 처리를 수행하는 것이나, 산소를 포함하는 가스 분위기중에서 어닐링하는 것이나, 산소를 포함하는 가스 분위기중에서 스퍼터링 등의 방법으로 산화 텅스텐막을 형성하는 것 등의 산화 방법을 사용하여, 텅스텐막과 피박리층 사이에 산화 텅스텐막을 형성할 수 있다.
산화 텅스텐막은 박리 전치 공정을 수행하는 시점에서, 산화 텅스텐의 조성에서, 텅스텐에 대한 산소의 비가 3보다 작은 조성을 많이 포함하는 것이 바람직하다. 산화 텅스텐에는 WnO(3n-1), WnO(3n-2)라는 호모로가스 계열의 경우 결정 광학적 전단(剪斷)면이 존재하고, 과열함으로써 전단이 일어나기 쉬워진다. N2O 플라스마 처리를 수행하여 산화 텅스텐막을 형성함으로써, 작은 힘으로 피박리층을 기판으로부터 박리할 수 있다.
또는, 텅스텐막을 형성하지 않고, 산화 텅스텐막을 직접 형성할 수 있다. 예를 들어, 충분히 엷은 텅스텐막에 대하여, 산소를 포함하는 가스로 플라스마 처리를 수행하는 것이나, 산소를 포함하는 가스 분위기중에서 어닐링 처리를 수행하는 것이나, 산소를 포함하는 가스 분위기중에서 스퍼터링 등의 방법으로 산화 텅스텐막을 형성함으로써, 산화 텅스텐막만을 박리층으로서 형성하여도 좋다.
이 때, 텅스텐막과 산화 텅스텐막의 계면 또는 산화 텅스텐막의 내부에서 분리함으로써, 피박리층 측에 산화 텅스텐막이 잔존하는 경우가 있다. 그리고, 산화 텅스텐막이 잔존함으로써, 트랜지스터의 특성에 악영향을 끼치는 경우가 있다. 따라서, 박리층과 피박리층의 분리 공정 후에, 산화 텅스텐막을 제거하는 공정을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 상술한 기판으로부터의 박리 방법에서는 반드시 N2O 플라스마 처리를 수행하지 않아도 좋기 때문에, 산화 텅스텐막을 제거하는 공정도 삭감하는 것이 가능하다. 이 경우, 보다 간편하게 장치의 제작을 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태는 기판 위에 두께 0.1nm 이상 200nm 미만의 텅스텐막을 사용한다.
박리층에는, 텅스텐막 이외에 몰리브덴, 티타늄, 바나듐, 탄탈, 실리콘, 알루미늄이나, 이들 합금을 포함하는 막을 사용하여도 좋다. 또한, 이들 막과, 그 산화막과의 적층 구조를 사용하여도 좋다. 박리층은 무기막에 한정되지 않고, 폴리이미드 등의 유기막을 사용하여도 좋다.
박리층에 유기 수지를 사용한 경우에, 저온 폴리실리콘을 활성층으로서 사용하려고 하면, 350℃ 이하에서 프로세스를 처리할 필요가 있다. 그러므로, 실리콘 결정화를 위한 탈수소 베이크(bake), 실리콘 중 결함 종단을 위한 수소화, 도핑된 영역의 활성화 등을 충분히 할 수 없고, 성능이 제한된다. 한편, 무기막을 사용한 경우에 성막 온도는 350℃로 제한되지 않고, 뛰어난 특성을 발휘할 수 있다.
박리층에 유기 수지를 사용한 경우에는, 결정화시의 레이저 조사에 의하여 유기 수지나 기능 소자에 손상이 생기는 경우가 있지만, 박리층에 무기막을 사용한 경우에는 그러한 문제는 발생하지 않으므로 바람직하다.
또한, 박리층에 유기 수지를 사용한 경우에는, 수지의 박리를 위한 레이저 조사에 의하여 유기 수지가 수축하여, FPC 등 단자의 접점부에 접촉 불량을 발생시키는 경우가 있어, 고선명 디스플레이 등 단자수가 많은 기능 소자를 수율 좋게 박리 전치하는 것이 어려운 경우가 있다. 박리층에 무기막을 사용한 경우에는 그러한 제한은 없고, 고선명 디스플레이 등 단자수가 많은 기능 소자에 대하여도 수율 좋게 박리 전치할 수 있다.
본 발명의 일 형태의 기판으로부터의 기능 소자의 박리 방법에서는 제작 기판 위에 절연층이나 트랜지스터를 600℃ 이하에서 형성할 수 있다. 이 경우, 고온 폴리실리콘을 반도체층에 사용할 수 있다. 이 경우, 종래의 고온 폴리실리콘의 라인을 사용하여 디바이스 동작 속도가 빠르며, 가스 배리어성이 높고, 신뢰성도 높은 반도체 장치를 대량 생산할 수 있다. 이 경우, 600℃ 이하의 프로세스로 형성된 절연층 및 트랜지스터를 사용함으로써, 유기 EL 소자의 상하에 600℃ 이하의 성막 조건으로 형성한 가스 배리어성이 높은 절연층을 배치할 수 있다. 이로써, 유기 EL 소자나 반도체층에 수분 등의 불순물이 혼입하는 것을 억제하고, 박리층에 유기 수지 등을 사용한 경우에 비하여 월등하게 신뢰성이 높은 발광 장치를 실현할 수 있다.
또는 제작 기판 위에 절연층이나 트랜지스터를 500℃ 이하에서 형성할 수 있다. 이 경우, 저온 폴리실리콘이나 산화물 반도체를 반도체층에 사용할 수 있고, 종래의 저온 폴리실리콘 생산 라인을 사용하여 대량 생산이 가능하다. 이 경우도, 500℃ 이하의 프로세스로 형성된 절연층 및 트랜지스터를 사용함으로써, 유기 EL 소자의 상하에 500℃ 이하의 성막 조건으로 형성한 가스 배리어성이 높은 절연층을 배치할 수 있다. 이로써, 유기 EL 소자나 반도체층에 수분 등의 불순물이 혼입하는 것을 억제하고, 박리층에 유기 수지 등을 사용한 경우에 비하여 매우 신뢰성이 높은 발광 장치를 실현할 수 있다.
또는 제작 기판 위에 절연층이나 트랜지스터를 400℃ 이하에서 형성할 수 있다. 이 경우, 비정질 실리콘이나 산화 입자 반도체를 반도체층에 사용할 수 있고, 종래의 비정질 실리콘의 생산 라인을 사용하여 대량 생산이 가능하다. 이 경우도, 400℃ 이하의 프로세스로 형성된 절연층 및 트랜지스터를 사용함으로써, 유기 EL 소자의 상하에 400℃ 이하의 성막 조건으로 형성한 가스 배리어성이 높은 절연층을 배치할 수 있다. 이로써, 유기 EL 소자나 반도체층에 수분 등의 불순물이 혼입하는 것을 억제하고, 박리층에 유기 수지 등을 사용한 경우에 비하여 신뢰성이 높은 발광 장치를 실현할 수 있다.
다음에, 제작 기판(701)과 제작 기판(721)을 각각의 피박리층이 형성된 면이 대향하도록, 접합층(707) 및 프레임 형상의 접합층(711)을 사용하여 접합하고, 접합층(707) 및 프레임 형상의 접합층(711)을 경화시킨다(도 13의 (C)). 여기에서는, 피박리층(725) 위에 프레임 형상의 접합층(711)과, 프레임 형상의 접합층(711) 내측의 접합층(707)을 제공한 후, 제작 기판(701)과 제작 기판(721)을 대향시켜 접합한다.
또한, 제작 기판(701)과 제작 기판(721)의 접합은 감압 분위기하에서 수행하는 것이 바람직하다.
또한, 도 13의 (C)에서는 박리층(703)과의 박리층(723) 크기가 상이한 경우를 도시하였지만, 도 13의 (D)에 도시된 바와 같이, 같은 크기의 박리층을 사용하여도 좋다.
접합층(707)은 박리층(703), 피박리층(705), 피박리층(725), 및 박리층(723)과 중첩되도록 배치한다 그리고, 접합층(707)의 단부는 박리층(703) 또는 박리층(723)의 적어도 한쪽(먼저 기판으로부터 박리하고 싶은 쪽) 단부보다 내측에 위치하는 것이 바람직하다. 이로써, 제작 기판(701)과 제작 기판(721)이 강하게 밀착하는 것을 억제할 수 있고, 나중의 박리 공정 수율이 저하하는 것을 억제할 수 있다.
다음에, 레이저광의 조사에 의하여 기판으로부터의 제 1 박리의 기점(741)을 형성한다(도 14의 (A) 및 (B)).
제작 기판(701) 및 제작 기판(721)은 어느 쪽으로부터 박리하여도 좋다. 박리층의 크기가 상이한 경우, 큰 박리층을 형성한 기판으로부터 박리하여도 좋고, 작은 박리층을 형성한 기판으로부터 박리하여도 좋다. 한쪽 기판 위에만 반도체 소자, 발광 소자, 표시 소자 등의 소자를 제작한 경우, 소자를 형성한 측의 기판으로부터 박리하여도 좋고, 다른 쪽 기판으로부터 박리하여도 좋다. 여기에서는, 제작 기판(701)을 먼저 박리하는 예를 게시한다.
레이저광은 경화 상태의 접합층(707) 또는 경화 상태의 프레임 형상의 접합층(711)과, 피박리층(705)과, 박리층(703)이 중첩되는 영역에 대하여 조사한다. 여기에서는, 접합층(707)이 경화 상태이며, 프레임 형상의 접합층(711)이 경화 상태가 아닌 경우를 예로 나타내고, 경화 상태의 접합층(707)에 레이저광을 조사한다(도 14의 (A)의 화살표 P3 참조).
피박리층(705)의 일부를 제거함으로써 기판으로부터의 제 1 박리 기점(741)을 형성할 수 있다(도 14의 (B)의 점선으로 둘러싼 영역 참조). 이 때, 피박리층(705)뿐만 아니라, 피박리층(705)의 다른 층이나, 박리층(703), 접합층(707)의 일부를 제거하여도 좋다.
레이저광은 박리하고 싶은 박리층이 제공된 기판 측으로부터 조사하는 것이 바람직하다. 박리층(703)과 박리층(723)이 중첩되는 영역에 레이저광을 조사하는 경우에는, 피박리층(705) 및 피박리층(725) 중 피박리층(705)에만 크랙(crack)을 생기게 하여, 선택적으로 제작 기판(701) 및 박리층(703)을 박리할 수 있다(도 14의 (B) 점선으로 둘러싼 영역 참조).
박리층(703)과 박리층(723)이 중첩되는 영역에 레이저광을 조사하는 경우, 박리층(703) 측의 피박리층(705)과 박리층(723) 측의 피박리층(725) 양쪽에 기판으로부터의 박리 기점을 형성하면, 한쪽의 제작 기판을 선택적으로 박리하는 것이 어렵게 될 우려가 있다. 따라서, 한쪽의 피박리층에만 크랙이 생기도록 레이저광의 조사 조건이 제한되는 경우가 있다. 제 1 기판으로부터의 박리의 제 1 박리 기점(741)의 형성 방법은 레이저광의 조사에 한정되지 않고, 커터 등 예리한 칼에 의하여 형성되어도 좋다.
그리고, 형성한 기판으로부터의 제 1 박리 기점(741)으로부터, 피박리층(705)과 제작 기판(701)을 분리한다(도 14의 (C) 및 (D)). 이로써, 피박리층(705)을 제작 기판(701)으로부터 제작 기판(721)으로 전치할 수 있다.
도 14의 (D)에 도시된 공정에서 제작 기판(701)으로부터 분리된 피박리층(705)과, 기판(731)을 접합층(733)을 사용하여 접합하고, 접합층(733)을 경화시킨다(도 15의 (A)).
다음에, 커터 등 예리한 칼에 의하여, 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)을 형성한다(도 15의 (B) 및 (C)). 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)의 형성 방법은 커터 등 예리한 칼에 한정되지 않고, 레이저광 조사 등에 의하여 형성되어도 좋다.
박리층(723)이 제공되지 않은 측의 기판(731)이 칼 등으로 절단 가능한 경우, 기판(731), 접합층(733), 및 피박리층(725)에 칼자국을 내어도 좋다(도 15의 (B) 화살표 P5 참조). 이로써, 피박리층(725)의 일부를 제거하고, 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)을 형성할 수 있다(도 15의 (C) 점선으로 둘러싼 영역 참조).
도 15의 (B) 및 (C)에 도시된 바와 같이, 제작 기판(721) 및 기판(731)이 박리층(723)과 중첩되지 않는 영역에서 접합층(733)에 의하여 접합되어 있는 경우, 제작 기판(721) 측과 기판(731) 측의 밀착성 높이에 의하여, 그 후의 기판으로부터의 박리 공정 수율이 저하되는 경우가 있다. 따라서, 경화 상태의 접합층(733)과 박리층(723)이 중첩되는 영역에 프레임 형상으로 칼자국을 내고, 실선 형상으로 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)을 형성하는 것이 바람직하다. 이로써, 기판으로부터의 박리 공정 수율을 높일 수 있다.
그리고, 형성한 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)으로부터 피박리층(725)과 제작 기판(721)을 분리한다(도 15의 (D)). 이로써, 피박리층(725)을 제작 기판(721)으로부터 기판(731)으로 전치할 수 있다.
예를 들어 텅스텐막 등의 무기막 위에 N2O 플라스마 등으로 확실히 앵커링된 산화 텅스텐막을 형성하는 경우, 성막시에는 밀착성을 비교적 높게 하는 것이 가능하다. 그 후 박리의 기점을 형성하면, 거기에서 벽개(cleavage)가 발생하고, 용이하게 피박리층을 박리하여 제작 기판으로부터 기판으로 전치하는 것이 가능하다.
또한, 박리층(723)과 피박리층(725)의 계면에 물 등의 액체를 침투시켜 제작 기판(721)과 피박리층(725)을 분리하여도 좋다. 모세관 현상에 의하여 액체가 박리층(723)과 피박리층(725) 사이에 배어듦으로써 기판으로부터의 박리시에 발생하는 정전기가, 피박리층(725)에 포함되는 FET 등의 기능 소자에 악영향을 끼치는 것(반도체 소자가 정전기에 의하여 파괴되는 등)을 억제할 수 있다.
또한, M-O-W라는 결합(M은 임의의 원소)에 물리적 힘을 가하여 결합을 분단하는 경우, 그 틈에 액체가 배어듦으로써 M-OH HO-W라는 결합이 된 쪽이 결합 거리가 멀어지기 때문에 분리를 촉진할 수 있다.
또한, 액체를 안개 형상 또는 증기로 하여 분무하여도 좋다. 액체로서는 순수나 유기 용제 등을 사용할 수 있고, 중성, 알칼리성, 또는 산성의 수용액이나, 염이 녹아 있는 수용액 등을 사용하여도 좋다.
또한, 역학적으로 박리할 때의 액체 및 기판의 온도는 실온에서부터 120℃ 사이, 바람직하게는 60℃ 이상 90℃ 이하로 하는 것이 좋다.
이상에 게시한 본 발명의 일 형태의 기판으로부터의 박리 방법에서는, 예리한 칼 등에 의하여 기판으로부터의 제 2 박리 기점(743)을 형성하고, 박리층과 피박리층을 박리하기 쉬운 상태로 하고 나서, 제작 기판의 박리를 수행한다. 이로써, 기판으로부터의 박리 공정 수율을 향상시킬 수 있다.
또한, 각각 피박리층이 형성된 한 쌍의 제작 기판을 미리 접합한 후에, 각각의 제작 기판을 박리하고, 제작하고 싶은 장치를 구성하는 기판을 접합할 수 있다. 따라서, 피박리층의 접합시에 가요성이 낮은 제작 기판들을 접합할 수 있고, 가요성 기판들을 접합하였을 때보다 접합의 위치 맞춤 정밀도를 향상시킬 수 있다.
본 발명의 일 형태의 기판으로부터의 박리 방법은 산화물층의 상층에 제공되는 피박리층에, 가열에 의하여 수소를 방출하는 제 1 층 및 제 2 층을 제공한다. 또한 가열 처리에 의하여 상기 피박리층으로부터 방출된 수소에 의하여 산화물층 내의 WO3을 환원하여, WO2를 많이 함유하는 산화물층을 형성할 수 있다. 그 결과, 기판으로부터의 박리성을 향상시킬 수 있다.
본 실시형태는 본 명세서 중에 기재하는 다른 실시형태 및 실시예와 적절히 조합하여 실시할 수 있다.
L1: 제 1 위치 정보
L2: 제 2 위치 정보
S1: 제 1 검지 정보
S1a: 검지 정보
S1b: 검지 정보
S2: 제 2 검지 정보
V1: 제 1 화상 정보
V2: 제 2 화상 정보
13a: 하우징
13b: 하우징
15a: 하우징
15b: 하우징
100: 정보 처리 장치
100B: 정보 처리 장치
100C: 정보 처리 장치
101: 하우징
110: 연산 장치
111: 연산부
112: 기억부
114: 전송로
115: 입출력 인터페이스
120: 입출력 장치
120(1): 제 1 영역
120(1a): 영역
120(1b): 영역
120(2): 제 2 영역
120(3): 제 3 영역
120c: 굴곡부
125: 단자부
126: 배선
130: 표시부
140: 위치 정보 입력부
141: 기판
142: 근접 센서
145: 입출력부
150: 검지부
150PD: 광전 변환 소자
160: 통신부
300: 터치 패널
301: 표시부
302: 화소
302B: 부화소
302G: 부화소
302R: 부화소
302t: 트랜지스터
303c: 용량
303g(1): 주사선 구동 회로
303g(2): 촬영 화소 구동 회로
303s(1): 화상 신호선 구동 회로
303s(2): 촬영 신호선 구동 회로
303t: 트랜지스터
308: 촬영 화소
308p: 광전 변환 소자
308t: 트랜지스터
309: FPC
310: 기판
310a: 배리어막
310b: 기판
310c: 수지층
311: 배선
319: 단자
321: 절연막
328: 격벽
329: 스페이서
350R: 발광 소자
351R: 하부 전극
352: 상부 전극
353: 층
353a: 발광 유닛
353b: 발광 유닛
354: 중간층
360: 밀봉재
367BM: 차광층
367p: 반사 방지층
367R: 착색층
370: 대향 기판
370a: 배리어막
370b: 기재
370c: 수지층
380B: 발광 모듈
380G: 발광 모듈
380R: 발광 모듈
500: 터치 패널
500B: 터치 패널
501: 표시부
502R: 부화소
502t: 트랜지스터
503c: 용량
503g: 주사선 구동 회로
503t: 트랜지스터
509: FPC
510: 기판
510a: 배리어막
510b: 기판
510c: 수지층
511: 배선
519: 단자
521: 절연막
528: 격벽
550R: 발광 소자
560: 밀봉재
567BM: 차광층
567p: 반사 방지층
567R: 착색층
570: 기판
570a: 배리어막
570b: 기판
570c: 수지층
580R: 발광 모듈
590: 기판
591: 전극
592: 전극
593: 절연층
594: 배선
595: 터치 센서
597: 수지층
598: 배선
599: 접속층
701: 제작 기판
703: 박리층
705: 피박리층
707: 접합층
711: 프레임 형상의 접합층
721: 제작 기판
723: 박리층
725: 피박리층
731: 기판
733: 접합층
741: 제 1 박리 기점
743: 제 2 박리 기점
L2: 제 2 위치 정보
S1: 제 1 검지 정보
S1a: 검지 정보
S1b: 검지 정보
S2: 제 2 검지 정보
V1: 제 1 화상 정보
V2: 제 2 화상 정보
13a: 하우징
13b: 하우징
15a: 하우징
15b: 하우징
100: 정보 처리 장치
100B: 정보 처리 장치
100C: 정보 처리 장치
101: 하우징
110: 연산 장치
111: 연산부
112: 기억부
114: 전송로
115: 입출력 인터페이스
120: 입출력 장치
120(1): 제 1 영역
120(1a): 영역
120(1b): 영역
120(2): 제 2 영역
120(3): 제 3 영역
120c: 굴곡부
125: 단자부
126: 배선
130: 표시부
140: 위치 정보 입력부
141: 기판
142: 근접 센서
145: 입출력부
150: 검지부
150PD: 광전 변환 소자
160: 통신부
300: 터치 패널
301: 표시부
302: 화소
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302G: 부화소
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303s(2): 촬영 신호선 구동 회로
303t: 트랜지스터
308: 촬영 화소
308p: 광전 변환 소자
308t: 트랜지스터
309: FPC
310: 기판
310a: 배리어막
310b: 기판
310c: 수지층
311: 배선
319: 단자
321: 절연막
328: 격벽
329: 스페이서
350R: 발광 소자
351R: 하부 전극
352: 상부 전극
353: 층
353a: 발광 유닛
353b: 발광 유닛
354: 중간층
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367BM: 차광층
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370: 대향 기판
370a: 배리어막
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380B: 발광 모듈
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500: 터치 패널
500B: 터치 패널
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503g: 주사선 구동 회로
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509: FPC
510: 기판
510a: 배리어막
510b: 기판
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519: 단자
521: 절연막
528: 격벽
550R: 발광 소자
560: 밀봉재
567BM: 차광층
567p: 반사 방지층
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570: 기판
570a: 배리어막
570b: 기판
570c: 수지층
580R: 발광 모듈
590: 기판
591: 전극
592: 전극
593: 절연층
594: 배선
595: 터치 센서
597: 수지층
598: 배선
599: 접속층
701: 제작 기판
703: 박리층
705: 피박리층
707: 접합층
711: 프레임 형상의 접합층
721: 제작 기판
723: 박리층
725: 피박리층
731: 기판
733: 접합층
741: 제 1 박리 기점
743: 제 2 박리 기점
Claims (3)
- 표시면을 내측으로 하여 절곡이 가능한 표시 패널을 구비한 표시 장치로서,
상기 표시 패널을 지지하는 제 1 지지체와, 제 2 지지체와, 제 3 지지체를 갖고,
상기 표시 패널은, 상기 제 1 지지체가 이면측에 중첩하여 배치된 제 1 영역과, 상기 제 2 지지체가 이면측에 중첩하여 배치된 제 2 영역과, 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역 사이에 위치하는 제 3 영역과, 상기 제 1 영역의 이면측에 위치하고, 또한 상기 제 1 영역과의 중첩을 갖는 제 4 영역과, 상기 제 1 영역과 상기 제 4 영역 사이에 위치하는 제 5 영역을 갖고,
상기 제 3 지지체는 가요성을 갖고, 또한 상기 표시 패널의 이면측에 배치되고,
상기 제 1 지지체와 상기 제 3 지지체는 접합되고,
상기 제 2 지지체와 상기 제 3 지지체는 접합되고,
상기 표시 장치를 전개한 상태에서, 상기 제 3 지지체는 상기 제 1 영역과 중첩하는 영역과, 상기 제 2 영역과 중첩하는 영역과, 상기 제 3 영역과 중첩하는 영역을 갖고,
상기 제 5 영역은 상기 제 3 지지체와 중첩하지 않는 영역을 갖고,
상기 표시 장치를 절곡한 상태에서, 상기 제 3 영역과 상기 제 5 영역은 각각 곡면을 갖고,
상기 표시 장치를 전개한 상태에서, 상기 제 5 영역은 곡면을 갖는, 표시 장치. - 표시면을 내측으로 하여 절곡이 가능한 표시 패널을 구비한 표시 장치로서,
상기 표시 패널을 지지하는 제 1 지지체와, 제 2 지지체와, 제 3 지지체를 갖고,
상기 표시 패널은, 상기 제 1 지지체가 이면측에 중첩하여 배치된 제 1 영역과, 상기 제 2 지지체가 이면측에 중첩하여 배치된 제 2 영역과, 상기 제 1 영역과 상기 제 2 영역 사이에 위치하는 제 3 영역과, 상기 제 1 영역의 이면측에 위치하고, 또한 상기 제 1 영역과의 중첩을 갖는 제 4 영역과, 상기 제 1 영역과 상기 제 4 영역 사이에 위치하는 제 5 영역을 갖고,
상기 제 3 지지체는 가요성을 갖고, 또한 상기 표시 패널의 이면측에 배치되고,
상기 제 1 지지체와 상기 제 3 지지체는 접합되고,
상기 제 2 지지체와 상기 제 3 지지체는 접합되고,
상기 표시 장치를 전개한 상태에서, 상기 제 3 지지체는 상기 제 1 영역과 중첩하는 영역과, 상기 제 2 영역과 중첩하는 영역과, 상기 제 3 영역과 중첩하는 영역을 갖고,
상기 제 5 영역은 상기 제 3 지지체와 중첩하지 않는 영역을 갖고,
상기 표시 장치를 절곡한 상태에서, 상기 제 3 영역과 상기 제 5 영역은 각각 곡면을 갖고,
상기 표시 장치를 절곡한 상태에서, 상기 제 3 영역의 곡률 중심은 표시면측에 위치하고,
상기 표시 장치를 절곡한 상태에서, 상기 제 5 영역의 곡률 중심은 이면측에 위치하고,
상기 표시 장치를 전개한 상태에서, 상기 제 5 영역은 곡면을 갖는, 표시 장치. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 4 영역은 단자부를 갖는, 표시 장치.
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