KR20230142464A - 전하 이동 착체 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 목적은 에폭시 수지 경화제로서 사용한 경우에 경화성과 저장 안정성의 밸런스가 뛰어난 경화성 수지 조성물이 얻어지는 전하 이동 착체를 제공하는 것에 있다. 본 발명은 전자 공여 부위로서 이미다졸 부위를 가지는 전하 이동 착체이다. 상기 전하 이동 착체는 이미다졸 부위를 가지는 화합물(a)에 포함되는 전자를, 전자 수용 부위를 가지는 화합물(b)가 수용한 것이어도 되고, 이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물에서 이미다졸 부위에 포함되는 전자를 전자 수용 부위가 수용한 것이어도 된다.
Description
본 발명은 전하 이동 착체에 관한 것이고, 상세하게는 이미다졸 부위를 가지는 전하 이동 착체, 상기 전하 이동 착체로 이루어지는 에폭시 수지 경화제, 및 상기 전하 이동 착체를 함유하는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
에폭시 수지는 도료, 접착제, 각종 성형 재료 등의 성분으로서 공업적으로 폭넓게 사용되고 있다.
에폭시 수지를 상기 용도로 사용하는 경우, 통상은 경화제와 조합하여 사용되고, 상기 경화제로는 산무수물계 경화제, 아민계 경화제, 페놀계 경화제 등의 다양한 경화제가 알려져 있다.
상기 경화제는 용도에 따라 구분하여 사용되고 있으며, 예를 들면, 이미다졸계 경화제는 부가 중합형 경화제와 달리 음이온 중합형 경화제이기 때문에 소량의 첨가로 경화가 가능하며, 또한 휘발성이 낮고 독성이 낮은 점도 유용하기 때문에, 전기·전자부품에 알맞게 사용할 수 있다.
그러나 에폭시 수지 경화제를 단독으로 사용한 경우, 경화성과 저장 안정성의 밸런스를 취하는 것이 어렵다. 저장 안정성을 향상시키기 위해, 예를 들면, 특허문헌 1에는 이미다졸 화합물과 에폭시 수지의 반응물을 에폭시 경화 시스템에 사용하는 것이 제안되어 있고, 특허문헌 2에는 변성 이미다졸, 변성 아민 및 페놀 화합물로 이루어지는 에폭시 수지용 경화제 조성물이 제안되어 있다.
그러나 이들 각종 변성을 실시한 경우, 변성물의 점도가 상승하여 핸들링, 작업성이 떨어지는 등 만족할 만한 것이 얻어지지 않았다.
JORNAL OF POLYMERSCIENCE, PART A POLYMERCHEMISTRY 2016, 54, 2680-2688
JORNAL OF POLYMERSCIENCE, PART A POLYMERCHEMISTRY 2018, 56, 471-474
Composits Part B 17(2019) 107380
Materials Leters 234(2019) 379-383
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 에폭시 수지 경화제로서 사용한 경우에 경화성과 저장 안정성의 밸런스가 뛰어난 경화성 수지 조성물이 얻어지는 전하 이동 착체를 제공하는 것이다.
본 발명자들은 예의 검토를 실시한 결과, 전자 공여체로서 이미다졸 부위를 가지는 전하 이동 착체가 에폭시 수지 경화제로서 유효한 것, 또한 이것을 에폭시 수지와 조합하여 얻어지는 수지 조성물이, 경화성과 저장 안정성의 밸런스가 뛰어난 경화성 수지 조성물임을 찾아내고, 본 발명에 도달했다.
즉, 본 발명은 전자 공여 부위로서 이미다졸 부위를 가지는 전하 이동 착체이다.
또한, 본 발명은 상기 전하 이동 착체로 이루어지는 에폭시 수지용 경화제이다.
또한, 본 발명은 에폭시 수지 및 상기 전하 이동 착체를 함유하는 경화성 수지 조성물이다.
본 발명의 전하 이동 착체는 에폭시 수지와 조합함으로써 경화성과 저장 안정성이 뛰어난 경화성 수지 조성물을 제공할 수 있기 때문에, 에폭시 수지 경화제로서 유용한 것이다. 본 발명의 전하 이동 착체를 사용함으로써, 1액 경화형의 도료, 접착제 등의 용도에 알맞은 수지 조성물을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 전하 이동 착체의 UV 스펙트럼 측정 결과이다.
이하에 본 발명의 전하 이동 착체에 대해 설명한다.
전하 이동 착체는 전자 수용-공여 착체(Electron-donor-acceptor complex)라고도 불리는 것이며, 전하가 분자 간에서 이동할 수 있는 2개 이상의 다른 분자, 또는 분자 내에서 전자 수용 부위와 전자 공여 부위를 가져서 전자를 이동할 수 있는 1개의 분자로 이루어지는 회합체이다.
본 발명의 전하 이동 착체는 전자 공여 부위가 이미다졸 부위인 것을 특징으로 하는 것이다.
상기 전하 이동 착체로는 예를 들면, 이미다졸 부위를 가지는 화합물(a)에 포함되는 전자를, 전자 수용 부위를 가지는 화합물(b)가 수용함으로써 얻어지는 전하 이동 착체를 들 수 있다. 또한, 상기 전하 이동 착체는 이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물에서 이미다졸 부위에 포함되는 전자를 전자 수용체 부위가 수용한 것이어도 된다.
상기 전하 이동 착체의 (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물로는 예를 들면, 2-메틸이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-이소프로필이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 등의 알킬기를 가지는 이미다졸류; 1-벤질-2-이미다졸, 1-벤질-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-페닐메틸-2-페닐이미다졸 등의 방향족기를 가지는 이미다졸류; 2-아미노프로필이미다졸 등의 아미노알킬기를 가지는 이미다졸류; 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 1-시아노에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸 등의 시아노기를 가지는 이미다졸류; 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸 등의 하이드록시메틸기를 가지는 이미다졸류; 1-부톡시카르보닐에틸-2-메틸이미다졸, 1-부톡시카르보닐에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-부톡시카르보닐에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-2-메틸이미다졸, 1-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-2-페닐이미다졸, 1-옥틸옥시카르보닐에틸-2-메틸이미다졸, 1-옥틸옥시카르보닐에틸-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-옥틸옥시카르보닐에틸-2-페닐이미다졸, 헥산디올·비스(2-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 헥산디올·비스(2-에틸-4-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 헥산디올·비스(2-페닐이미다졸릴에탄산)에스테르, 데칸디올·비스(2-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 데칸디올·비스(2-에틸-4-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 데칸디올·비스(2-페닐이미다졸릴에탄산)에스테르, 트리시클로펜탄디메탄올·비스(2-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 트리시클로펜탄디메탄올·비스(2-에틸-4-메틸이미다졸릴에탄산)에스테르, 트리시클로펜탄디메탄올·비스(2-페닐이미다졸릴에탄산)에스테르, 1-(2-하이드록시나프틸메틸)-2-메틸이미다졸, 1-(2-하이드록시나프틸메틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-하이드록시나프틸메틸)-2-페닐이미다졸 등의 에스테르 결합을 가지는 이미다졸류; 2,3-디하이드로-1H-피롤로(1,2a)벤즈이미다졸, 1-도데실-2-메틸-3-벤질이미다졸륨클로라이드, 이미다졸실란, 2,4-디아미노-6-〔2'-메틸이미다졸릴-(1')〕-에틸-s-트리아진 등의 특수 이미다졸류를 들 수 있다. 또한 상기에 예시된 이미다졸 화합물은 에폭시 화합물, 폴리카르복실산 및 이소시아누르산 등에 의한 변성물이어도 된다.
상기 에폭시 화합물로는 예를 들면, 하이드로퀴논, 레조르신, 피로카테콜 및 플로로글루시놀 등의 단핵 다가 페놀 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 디하이드록시나프탈렌, 비페놀, 메틸렌비스페놀(비스페놀F), 메틸렌비스(오르토크레졸), 에틸리덴비스페놀, 이소프로필리덴비스페놀(비스페놀A), 이소프로필리덴비스(오르토크레졸), 테트라브로모비스페놀A, 1,3-비스(4-하이드록시쿠밀벤젠), 1,4-비스(4-하이드록시쿠밀벤젠), 1,1,3-트리스(4-하이드록시페닐)부탄, 1,1,2,2-테트라(4-하이드록시페닐)에탄, 티오비스페놀, 술포비스페놀, 옥시비스페놀, 페놀노볼락, 오르토크레졸노볼락, 에틸페놀노볼락, 부틸페놀노볼락, 옥틸페놀노볼락, 레조르신노볼락 및 테르펜페놀 등의 다핵 다가 페놀 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 티오글리콜, 디시클로펜타디엔디메탄올, 2,2-비스(4-하이드록시시클로헥실)프로판(수소화비스페놀A), 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 소르비톨 및 비스페놀A-알킬렌옥사이드 부가물 등의 다가 알코올 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 석신산, 글루타르산, 수베르산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 다이머산, 트리머산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 피로멜리트산, 테트라하이드로프탈산 및 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산 등의 지방족, 방향족 또는 지환족 다염기산의 글리시딜에스테르화물 및 글리시딜메타크릴레이트의 단독 중합체 또는 공중합체; N,N-디글리시딜아닐린, 비스(4-(N-메틸-N-글리시딜아미노)페닐)메탄, 디글리시딜오르토톨루이딘, N,N-비스(2,3-에폭시프로필)-4-(2,3-에폭시프로폭시)-2-메틸아닐린, N,N-비스(2,3-에폭시프로필)-4-(2,3-에폭시프로폭시)아닐린 및 N,N,N',N'-테트라(2,3-에폭시프로필)-4,4-디아미노디페닐메탄 등의 글리시딜아미노기를 가지는 에폭시 화합물; 비닐시클로헥센디에폭사이드, 시클로펜타디엔디에폭사이드, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-6-메틸시클로헥산카르복실레이트 및 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트 등의 환상 올레핀 화합물의 에폭시화물; 에폭시화폴리부타디엔 및 에폭시화스티렌-부타디엔 공중합물 등의 에폭시화 공역디엔 중합체; 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환 화합물을 들 수 있다.
상기 폴리카르복실산으로는 예를 들면, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 석신산, 글루타르산, 수베르산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 다이머산, 트리머산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 피로멜리트산, 테트라하이드로프탈산 및 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산 등을 들 수 있다.
상기 이미다졸 화합물 중에서도, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 미변성 화합물이, 비교적 소량을 첨가함으로써 경화가 가능하면서 다른 경화제와 조합함으로써 경화 촉진제로서의 효과도 발휘할 수 있기 때문에 보다 바람직하다.
상기 전하 이동 착체의 (b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물은 상기 (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물의 존재하에서, (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물에 포함되는 전자를 수용 가능한 화합물이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 이미드 화합물, 방향족 화합물 등을 들 수 있다.
전자 수용 부위를 가지는 화합물 중에서도 이미드 화합물은 합성 원료가 다양하고, 분자 설계의 자유도가 높으면서 상용성이 뛰어나기 때문에, 얻어지는 경화성 수지 조성물의 물성에 악영향을 끼치기 어려운 것을 선택하는 것이 용이하기 때문에 바람직하다. 특히 방향족 골격을 분자 중에 가지는 이미드 화합물이 저장 안정성과 경화성의 밸런스가 뛰어난 경화성 수지 조성물이 얻어지기 때문에 바람직하다.
또한, (b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물은 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)가 -1eV 이하인 것이, 이것을 에폭시 수지와 함께 배합하여 경화성 수지 조성물로 한 경우에 저장 안정성 및 경화성이 뛰어난 것이 얻어지기 때문에 바람직하다. 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)는 예를 들면, 전자구조 계산에 의해 얻어진 것이다.
(b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물의 구체예를 이하에 나타낸다.
(b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물의 사용량은 (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물 1몰에 대하여 0.01~20몰, 바람직하게는 0.1~10몰, 더 바람직하게는 0.2~8몰이다. 전자 수용 부위를 가지는 화합물의 사용량이 0.01몰 미만에서는 이들로부터 얻어지는 전하 이동 착체를 에폭시 수지 경화제로서 사용한 경우에 경화성 수지 조성물의 안정성 부여 효과를 얻을 수 없을 우려가 있고, 20몰을 초과한 경우에는 경화성 수지 조성물의 경화성에 악영향을 끼칠 우려가 있다.
상기 전하 이동 착체를 제조하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 상기 (a)성분 및 (b)성분을 혼합함으로써 제조할 수 있다. 양 성분이 액상인 것은 상온에서 혼합함으로써 전하 이동 착체가 얻어지는데, 적어도 하나가 고체인 경우에는 가열해서 용융하여 혼합하거나, 용매를 사용하여 용액으로 하여 혼합할 수도 있다.
본 발명의 전하 이동 착체가 이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물에서 이미다졸 부위에 포함되는 전자를 전자 수용 부위가 수용한 것인 경우, 상기 전자 수용 부위는 이미다졸 부위에서 얻어지는 전자를 수용할 수 있는 부위이면 되고, 예를 들면 이미드 부위, 방향족 부위 등을 들 수 있다. 특히 이미드 부위인 것이 합성 원료가 다양하고, 분자 설계의 자유도가 높으면서 상용성이 뛰어나고, 얻어지는 경화성 수지 조성물의 물성에 악영향을 끼치기 어려운 화합물이 얻어지기 때문에 바람직하다.
이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물로는 예를 들면, 하기의 일반식(1)로 표현되는 화합물을 들 수 있다.
일반식(1) 중 R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수가 1~20인 탄화수소기를 나타내고, R4는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1~10의 2가의 탄화수소기를 나타내며, 환 A는 치환기를 가져도 되는 벤젠환, 치환기를 가져도 되는 시클로헥산환, 또는 치환기를 가져도 되는 노르보르넨환을 나타낸다.
상기 식(1) 중 R6, R7 및 R8로 표현되는, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1~20의 탄화수소기를 구성하는 탄화수소기로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, 제2 부틸기, 제3 부틸기, 아밀기, 이소아밀기, 제2 아밀기, 제3 아밀기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 이소옥틸기, 제3 옥틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기, 이소데실기, 운데실기, 도데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 노나데실기 및 에이코실기 등의 알킬기; 페닐기, 나프틸기 및 안트라세닐기 등의 아릴기; 시클로헥실기 등의 지환식 기 등을 들 수 있다.
또한, R9로 표현되는, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1~10의 2가의 탄화수소기를 구성하는 탄화수소기로는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기, 옥틸렌기, 노닐렌기 및 데실렌기 등을 들 수 있다.
또한, R6~R9에서의 치환기로는 알킬기, 알콕시기, 할로알킬기, 할로알콕시기, 할로겐 원자, 니트로기, 니트릴기, 아미노기 및 글리시딜에테르기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(1)로 표현되는 화합물에서의 이미다졸 골격으로는 예를 들면, 2-메틸이미다졸-1-일, 2-에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-이소프로필이미다졸-1-일, 2-운데실이미다졸-1-일, 2-헵타데실이미다졸-1-일, 2-페닐이미다졸-1-일 및 2-페닐-4-메틸이미다졸-1-일 등의 알킬기를 가지는 이미다졸 골격; 2-벤질이미다졸-1-일, 2-벤질-4-메틸이미다졸-1-일 및 2-페닐메틸-4-페닐이미다졸-1-일 등의 방향족기를 가지는 이미다졸 골격; 2-아미노프로필이미다졸-1-일 등의 아미노알킬기를 가지는 이미다졸 골격; 2-시아노에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-시아노에틸-4-운데실이미다졸-1-일, 2-시아노에틸-메틸이미다졸-1-일 및 2-시아노에틸-4-페닐이미다졸-1-일 등의 시아노기를 가지는 이미다졸 골격; 2-페닐-4,5-디하이드록시메틸이미다졸-1-일 및 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸-1-일 등의 하이드록시메틸기를 가지는 이미다졸 골격; 2-부톡시카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-부톡시카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-부톡시카르보닐에틸-4-페닐이미다졸-1-일, 2-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-(2-에틸헥실)카르보닐에틸-4-페닐이미다졸-1-일, 2-옥틸옥시카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일, 2-옥틸옥시카르보닐에틸-4-메틸이미다졸-1-일 및 2-옥틸옥시카르보닐에틸-4-페닐이미다졸-1-일 등의 에스테르 결합을 가지는 이미다졸 골격 등을 들 수 있다.
또한, 상기 일반식(1)로 표현되는 화합물은 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)가 -1eV 이하인 것이, 이것과 에폭시 수지를 배합하여 경화성 수지 조성물로 한 경우에 저장 안정성 및 경화성이 뛰어난 것이 얻어지기 때문에 바람직하다. 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)는 예를 들면, 전자구조 계산에 의해 얻어진 것이다.
이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물의 구체예를 이하에 나타낸다.
전하 이동 착체는 전자를 공여하는 전자 공여 부위와, 전자를 수용하는 전자 수용 부위가 착체를 형성하고 있는 것이다. 전하 이동 착체는 여기(勵起) 상태에서 전하 이동 전이를 일으킨다. 이 현상으로부터, 전자 공여 부위 및 전자 수용 부위가 전하 이동 착체를 형성하고 있는 것은 착체 형성 후의 UV-vis 흡수 스펙트럼이 착체 형성 전의 각 원료의 UV-vis 스펙트럼에서의 흡수대보다도 장파장 측에 새로운 흡수대를 가짐으로써 확인할 수 있다.
본 발명의 에폭시 수지 경화제는 상기 전하 이동 착체로 이루어지는 것이다. 본 발명의 전하 이동 착체는 에폭시 수지의 존재하에서 안정적이고, 에폭시 수지의 경화제로서 양호한 것이다.
다음으로, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 에폭시 수지 및 상기 전하 이동 착체를 함유하는 것이다.
본 발명에 사용되는 에폭시 수지는 분자 중에 에폭시기를 적어도 2개 가지는 것이면 되고, 분자 구조, 분자량 등에 특별히 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 에폭시 수지로는 하이드로퀴논, 레조르신, 피로카테콜 및 플로로글루크시놀 등의 단핵 다가 페놀 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 디하이드록시나프탈렌, 비페놀, 메틸렌비스페놀(비스페놀F), 메틸렌비스(오르토크레졸), 에틸리덴비스페놀, 이소프로필리덴비스페놀(비스페놀A), 이소프로필리덴비스(오르토크레졸), 테트라브로모비스페놀A, 1,3-비스(4-하이드록시쿠밀벤젠), 1,4-비스(4-하이드록시쿠밀벤젠), 1,1,3-트리스(4-하이드록시페닐)부탄, 1,1,2,2-테트라(4-하이드록시페닐)에탄, 티오비스페놀, 술포비스페놀, 옥시비스페놀, 페놀노볼락, 오르토크레졸노볼락, 에틸페놀노볼락, 부틸페놀노볼락, 옥틸페놀노볼락, 레조르신노볼락 및 테르펜페놀 등의 다핵 다가 페놀 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 티오글리콜, 디시클로펜타디엔디메탄올, 2,2-비스(4-하이드록시시클로헥실)프로판(수소화비스페놀A), 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 소르비톨 및 비스페놀A-알킬렌옥사이드 부가물 등의 다가 알코올 화합물의 폴리글리시딜에테르화물; 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 석신산, 글루타르산, 수베르산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 다이머산, 트리머산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 피로멜리트산, 테트라하이드로프탈산 및 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산 등의 지방족, 방향족 또는 지환족 다염기산의 글리시딜에스테르화물 및 글리시딜메타크릴레이트의 단독 중합체 또는 공중합체; N,N-디글리시딜아닐린, 비스(4-(N-메틸-N-글리시딜아미노)페닐)메탄, 디글리시딜오르토톨루이딘, N,N-비스(2,3-에폭시프로필)-4-(2,3-에폭시프로폭시)-2-메틸아닐린, N,N-비스(2,3-에폭시프로필)-4-(2,3-에폭시프로폭시)아닐린 및 N,N,N',N'-테트라(2,3-에폭시프로필)-4,4-디아미노디페닐메탄 등의 글리시딜아미노기를 가지는 에폭시 화합물; 비닐시클로헥센디에폭사이드, 시클로펜타디엔디에폭사이드, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-6-메틸시클로헥산카르복실레이트 및 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트 등의 환상 올레핀 화합물의 에폭시화물; 에폭시화폴리부타디엔 및 에폭시화스티렌-부타디엔 공중합물 등의 에폭시화 공역디엔 중합체; 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환 화합물을 들 수 있다. 또한, 이들 에폭시 수지는 말단 이소시아네이트의 프레폴리머에 의해 내부 가교된 형태, 또한 다가의 활성 수소 화합물(다가 페놀, 폴리아민, 카르보닐기 함유 화합물, 폴리인산에스테르 등)로 고분자량화된 형태로 사용할 수도 있다. 에폭시 수지는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 에폭시 수지 및 상기 전하 이동 착체를 함유하는 것이다. (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물과 (b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물로부터 얻어지는 전하 이동 착체를 사용하는 경우에는 에폭시 수지와 전하 이동 착체를 혼합함으로써 제조할 수도 있지만, (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물과 (b)성분인 전자 수용 부위를 가지는 화합물을 에폭시 수지에 각각 별도로 배합하고, 경화성 수지 조성물 중에서 전하 이동 착체를 형성시킴으로써 목적으로 하는 경화성 수지 조성물을 제조할 수도 있다.
본 발명의 경화성 수지 조성물에서 상기 전하 이동 착체의 사용량은 특별히 제한되는 것은 아닌데, 에폭시 수지 100질량부에 대하여, 0.01~500질량부인 것이 바람직하고, 0.1~100질량부인 것이 보다 바람직하다. 0.01질량부보다 적은 경우에는 경화성 및 안정성에 대한 개선 효과가 얻어지지 않을 우려가 있고, 500질량부를 초과하여 사용한 경우에는 경화물의 물성에 악영향을 끼칠 우려가 있다.
또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 상기 전하 이동 착체에 추가로, 통상의 에폭시 수지 경화제를 사용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제로는 예를 들면, 산무수물계 경화제, 페놀계 경화제, 아민계 경화제 및 폴리티올계 경화제 등을 들 수 있다.
상기 산무수물계 경화제로는 예를 들면, 무수하이믹산, 무수프탈산, 무수말레산, 무수메틸하이믹산, 무수석신산, 테트라하이드로무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 메틸헥사하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 벤조페논테트라카르복실산무수물, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산 및 수소화메틸나딕산무수물 등을 들 수 있다.
상기 페놀계 경화제로는 예를 들면, 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 방향족 탄화수소포름알데히드 수지변성 페놀 수지, 디시클로펜타디엔페놀 부가형 수지, 페놀아르알킬 수지(자일록 수지), 나프톨아르알킬 수지, 트리스페닐올메탄 수지, 테트라페닐올에탄 수지, 나프톨 노볼락 수지, 나프톨-페놀 공축합 노볼락 수지, 나프톨-크레졸 공축합 노볼락 수지, 비페닐변성 페놀 수지(비스메틸렌기로 페놀핵이 연결된 다가 페놀 화합물), 비페닐변성 나프톨수지(비스메틸렌기로 페놀핵이 연결된 다가 나프톨 화합물), 아미노트리아진변성 페놀 수지(페놀 골격, 트리아진환 및 1급 아미노기를 분자 구조 중에 가지는 화합물) 및 알콕시기 함유 방향환 변성 노볼락 수지(포름알데히드로 페놀핵 및 알콕시기 함유 방향환이 연결된 다가 페놀 화합물) 등의 다가 페놀 화합물 등을 들 수 있다.
상기 아민계 경화제로는 예를 들면, 에틸렌디아민, 1,2-디아미노프로판, 1,3-디아미노프로판, 1,3-디아미노부탄, 1,4-디아미노부탄, 헥사메틸렌디아민 및 메타크실렌디아민 등의 알킬렌디아민류; 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌트리아민 및 테트라에틸렌펜타민 등의 폴리알킬폴리아민류; 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노메틸시클로헥산, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-3,6-디에틸시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실프로판, 비스(4-아미노시클로헥실)술폰, 4,4'-디아미노디시클로헥실에테르, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 이소포론디아민 및 노르보르넨디아민 등의 지환식 폴리아민류; 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰, 디에틸톨루엔디아민, 1-메틸-3,5-디에틸-2,4-디아미노벤젠, 1-메틸-3,5-디에틸-2,6-디아미노벤젠, 1,3,5-트리에틸-2,6-디아미노벤젠, 3,3'-디에틸-4,4'-디아미노디페닐메탄 및 3,5,3',5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄 등의 방향족 폴리아민류; N,N-디메틸아미노에틸아민, N,N-디에틸아미노에틸아민, N,N-디이소프로필아미노에틸아민, N,N-디알릴아미노에틸아민, N,N-벤질메틸아미노에틸아민, N,N-디벤질아미노에틸아민, N,N-시클로헥실메틸아미노에틸아민, N,N-디시클로헥실아미노에틸아민, N-(2-아미노에틸)피롤리딘, N-(2-아미노에틸)피페리딘, N-(2-아미노에틸)모르폴린, N-(2-아미노에틸)피페라진, N-(2-아미노에틸)-N'-메틸피페라진, N,N-디메틸아미노프로필아민, N,N-디에틸아미노프로필아민, N,N-디이소프로필아미노프로필아민, N,N-디알릴아미노프로필아민, N,N-벤질메틸아미노프로필아민, N,N-디벤질아미노프로필아민, N,N-시클로헥실메틸아미노프로필아민, N,N-디시클로헥실아미노프로필아민, N-(3-아미노프로필)피롤리딘, N-(3-아미노프로필)피페리딘, N-(3-아미노프로필)모르폴린, N-(3-아미노프로필)피페라진, N-(3-아미노프로필)-N'-메틸피페리딘, 4-(N,N-디메틸아미노)벤질아민, 4-(N,N-디에틸아미노)벤질아민, 4-(N,N-디이소프로필아미노)벤질아민, N,N-디메틸이소포론디아민, N,N-디메틸비스아미노시클로헥산, N,N,N'-트리메틸에틸렌디아민, N'-에틸-N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N,N'-트리에틸에틸렌디아민, N'-에틸-N,N-디메틸프로판디아민, N'-에틸-N,N-디벤질아미노프로필아민; N,N-(비스아미노프로필)-N-메틸아민, N,N-비스아미노프로필에틸아민, N,N-비스아미노프로필프로필아민, N,N-비스아미노프로필부틸아민, N,N-비스아미노프로필펜틸아민, N,N-비스아미노프로필헥실아민, N,N-비스아미노프로필-2-에틸헥실아민, N,N-비스아미노프로필시클로헥실아민, N,N-비스아미노프로필벤질아민, N,N-비스아미노프로필알릴아민, 비스〔3-(N,N-디메틸아미노프로필)〕아민, 비스〔3-(N,N-디에틸아미노프로필)〕아민, 비스〔3-(N,N-디이소프로필아미노프로필)〕아민, 비스〔3-(N,N-디부틸아미노프로필)〕아민; 옥살산디하이드라지드, 말론산디하이드라지드, 석신산디하이드라지드, 글루타르산디하이드라지드, 아디프산디하이드라지드, 수베르산디하이드라지드, 아젤라산디하이드라지드, 세바스산디하이드라지드 및 프탈산디하이드라지드 등의 이염기산디하이드라지드; 디시안디아미드, 벤조구아나민 및 아세토구아나민 등의 구아니딘 화합물; 멜라민 등을 들 수 있다.
또한, 상기 아민류를 변성한 변성 아민계 경화제를 사용할 수도 있다. 변성 방법으로는 카르복실산과의 탈수 축합, 에폭시 수지와의 부가 반응, 이소시아네이트와의 부가 반응, 마이클 부가 반응, 만니히 반응, 요소(尿素)와의 축합 반응, 및 케톤과의 축합 반응 등을 들 수 있다.
상기 아민류의 변성에 사용할 수 있는 카르복실산으로는 예를 들면, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 석신산, 글루타르산, 수베르산, 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 다이머산, 트리머산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 트리메스산, 피로멜리트산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산 및 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산 등의 지방족, 방향족 또는 지환족 다염기산 등을 들 수 있다.
상기 아민류의 변성에 사용할 수 있는 에폭시 화합물로는 예를 들면, 상기 전하 이동 착체의 (a)성분인 이미다졸 부위를 가지는 화합물의 변성에 사용되는 에폭시 화합물로서 예시한 에폭시 화합물을 들 수 있다.
상기 아민류의 변성에 사용할 수 있는 이소시아네이트 화합물로는 예를 들면, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌디이소시아네이트, 1,5-테트라하이드로나프탈렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 디아니시딘디이소시아네이트 및 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트; 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 트랜스-1,4-시클로헥실디이소시아네이트 및 노르보르넨디이소시아네이트 등의 지환식 디이소시아네이트; 테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 및 리신디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트; 상기 예시한 디이소시아네이트의 이소시아누레이트3량화물, 뷰렛3량화물 및 트리메틸올프로판어덕트화물 등; 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 1-메틸벤졸-2,4,6-트리이소시아네이트 및 디메틸트리페닐메탄테트라이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또한 이들 이소시아네이트 화합물은 카르보디이미드 변성, 이소시아누레이트 변성, 뷰렛 변성 등의 변성물의 형태로 사용할 수도 있고, 각종 블로킹제에 의해 블로킹된 블록 이소시아네이트의 형태로 사용할 수도 있다.
상기 폴리티올계 경화제로는 예를 들면, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(티오글리콜레이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-메르캅토부티레이트), 1,3,4,6-테트라키스(2-메르캅토에틸)-1,3,4,6-테트라아자옥타하이드로펜탈렌-2,5-디온, 1,3,5-트리스(3-메르캅토프로필)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-, 4,7- 혹은 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 1,3,4,6-테트라키스(2-메르캅토에틸)글리콜우릴 등을 들 수 있다.
상기 이미다졸계 경화제로는 예를 들면, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-이소프로필이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-아미노프로필이미다졸, 이미다졸실란(예를 들면, 시코쿠 가세이 고교(주) 제품; 2MUSIZ) 등을 들 수 있다.
또한, 이들 이미다졸 화합물을 상기 아민계 경화제와 마찬가지로 변성한 것 혹은, 상기 이미다졸류와, 트리멜리트산, 이소시아누르산, 붕소 등과의 염인 이미다졸염류이어도 된다.
상기 경화제의 시판품으로는 예를 들면, 아데카 하드너 EH-3636AS, 아데카 하드너 EH-4351S(ADEKA 제품; 디시안디아미드형 잠재성 경화제), 아데카 하드너 EH-5011S, 아데카 하드너 EH-5046S(ADEKA 제품; 이미다졸형 잠재성 경화제), 아데카 하드너 EH-4357S, 아데카 하드너 EH-5057P, 아데카 하드너 EH-5057PK(ADEKA 제품; 폴리아민형 잠재성 경화제), 아미큐어 PN-23, 아미큐어 PN-40(아지노모토 파인 테크노 제품; 아민어덕트계 잠재성 경화제), 아미큐어 VDH(아지노모토 파인 테크노 제품; 하이드라지드계 잠재성 경화제), 후지큐어 FXR-1020(T&K TOKA 제품; 잠재성 경화제), 큐어졸(시코쿠 가세이 고교 제품; 이미다졸계 경화제), TS-G(시코쿠 가세이 고교 제품; 폴리티올계 경화제), DPMP, PEMP(에스씨 유키카가쿠 제품; 폴리티올계 경화제) 및 PETG(요도 가가쿠 제품; 폴리티올계 경화제) 등을 들 수 있다.
경화제는 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 경화제의 배합량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 수지 100질량부에 대하여 0~500질량부인 것이 바람직하고, 0~100질량부인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서는 필요에 따라 상기 경화제와 공지의 에폭시 수지 경화 촉진제를 병용할 수 있다. 경화 촉진제로는 예를 들면, 트리페닐포스핀 등의 포스핀류; 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 포스포늄염; 벤질디메틸아민 및 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 아민류; 트리메틸암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염류; 3-(p-클로로페닐)-1,1-디메틸우레아, 3-(3,4-디클로로페닐)-1,1-디메틸우레아, 3-페닐-1,1-디메틸우레아, 이소포론디이소시아네이트-디메틸우레아 및 톨릴렌디이소시아네이트-디메틸우레아 등의 우레아류 3불화붕소와 아민류의 착체, 및 3불화붕소와 에테르 화합물의 착체 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉진제는 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 에폭시 수지 경화 촉진제의 함유량은 특별히 제한 없이 경화성 수지 조성물의 용도에 따라 적절히 설정할 수 있다.
본 발명의 경화성 수지 조성물에는 실란 커플링제를 함유시킬 수 있다. 실란 커플링제로는 예를 들면, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-N'-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아닐리노프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 비닐트리에톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란 및 γ-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
본 발명의 경화성 수지 조성물에는 충진제를 함유시킬 수 있다. 충진제로는 예를 들면, 용융 실리카 및 결정 실리카 등의 실리카; 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 몰리브덴산아연, 탄산칼슘, 탄산규소, 규산칼슘, 티탄산칼륨, 베릴리아, 지르코니아, 지르콘, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 멀라이트 및 티타니아 등의 분체, 또는 이들을 구형화한 비즈; 유리 섬유, 펄프 섬유, 합성 섬유 및 세라믹 섬유 등을 들 수 있다.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 다양한 용제, 바람직하게는 유기 용제에 용해시켜 사용할 수 있다. 적당한 유기 용제로서, 예를 들면, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄 및 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르류; 이소- 또는 n-부탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 아밀알코올, 벤질알코올, 푸르푸릴알코올 및 테트라하이드로푸르푸릴알코올 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소프로필케톤 및 메틸부틸케톤 등의 케톤류; 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 트리에틸아민, 피리딘, 디옥산 및 아세토니트릴 등을 들 수 있다.
본 발명의 경화성 수지 조성물은 필요에 따라, 추가로 기타 각종 첨가제를 함유시켜도 된다. 상기 첨가제로는 예를 들면, 인계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 및 황계 산화방지제; 자외선흡수제 및 힌더드아민계 광안정제; 비페놀 등의 페놀 화합물; 모노알킬글리시딜에테르 등의 반응성 희석제; 디옥틸프탈레이트, 디부틸프탈레이트, 벤질알코올 및 콜타르 등의 비반응성 희석제(가소제); 유리 크로스, 아라미드 크로스 및 카본파이버 등의 보강재; 안료; 칸데릴라 왁스, 카르나우바 왁스, 목랍, 백랍, 밀랍, 라놀린, 경랍, 몬탄 왁스, 석유 왁스, 지방족 왁스, 지방족 에스테르, 지방족 에테르, 방향족 에스테르 및 방향족 에테르 등의 윤활제; 증점제; 틱소트로픽제; 소포제; 방청제; 콜로이달실리카 및 콜로이달알루미나 등의 상용 첨가제를 들 수 있다. 본 발명에서는 추가로 시아네이트에스테르 수지, 크실렌 수지 및 석유 수지 등의 점착성 수지류를 병용할 수도 있다.
본 발명의 수지 조성물은 특별히 그 용도가 제한되는 것은 아니지만, 경화성과 저장 안정성의 밸런스를 조정하는 것이 가능하기 때문에 1액 경화형의 수지 조성물로 하는 것이 가능하며, 콘크리트, 시멘트 모르타르, 각종 금속, 피혁, 유리, 고무, 플라스틱, 나무, 천, 종이 등에 대한 도료 및 접착제에 사용할 수 있다.
실시예
다음으로, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 더 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 의해 조금도 한정되는 것이 아니다.
〔최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)의 계산〕
실시예에서 사용한, 전자 수용 부위를 가지는 화합물 및 이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물의 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)는 Gaussian 09, EM64L-G09Rev.B.01을 사용하고, 밀도반함수법 B3LYP/6-31G(d,p) 수준의 이론에서 대칭성을 고려하지 않고 구조 최적화하고, 어느 최적화된 구조도 조화 진동 주파수 계산에 의해 정상점이 국소적인 최소값임을 확인 후, 산출했다. 결과를 표 1에 나타냈다.
〔실시예 1〕
2-에틸-4-메틸이미다졸〔EMI〕과 N-(2-에틸헥실)프탈이미드〔2EHPI〕를 1:1의 비율로 혼합하여 균일한 혼합물을 얻었다. 얻어진 혼합물의 UV 스펙트럼〔EMI+2EHPI〕 측정 결과를 도 1에 나타낸다.
비교로서, 2-에틸-4-메틸이미다졸의 UV 스펙트럼〔EMI〕 및 N-(2-에틸헥실)프탈이미드의 UV 스펙트럼〔2EHPI〕을 측정하고, 이들 UV 스펙트럼을 합산한 경우의 UV 스펙트럼〔sum(EMI+2EHPI)〕을 도 1에 함께 나타냈다.
이 결과로부터, 2-에틸-4-메틸이미다졸〔EMI〕과 N-(2-에틸헥실)프탈이미드〔2EHPI〕를 1:1의 비율로 혼합하여 균일한 혼합물의 UV 스펙트럼이, EMI 및 2EHPI의 UV 스펙트럼의 합산값으로부터 장파장 측으로 시프트되어 있는 것이 확인되고, 전하 이동 착체가 형성되어 있는 것이 확인되었다.
〔실시예 2~18 및 비교예 1〕
비스페놀A형 에폭시 수지(BISAEP), 2-에틸-4-메틸이미다졸(EMI) 및 전자 수용 부위를 가지는 화합물의 구체예로서 예시한 화합물을 표 1에 기재된 배합비(몰)로 배합하여, 전하 이동 착체를 함유하는 경화성 수지 조성물을 제조했다. 얻어진 경화성 수지 조성물을 사용하여 하기의 평가를 실시했다.
〔실시예 19 및 20〕
비스페놀A형 에폭시 수지(BISAEP) 그리고 이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물의 구체예로서 예시한 화합물을 표 1에 기재된 배합비(몰)로 배합하여 경화성 수지 조성물을 제조했다. 얻어진 경화성 수지 조성물을 사용하여 하기의 평가를 실시했다.
〔경화성〕
경화성 수지 조성물을 유리병에 넣어 150℃, 1시간 가열 경화시켜서, 택(tack)이 없고 완전히 고체상인 것을 확인하여 경화한 것을 ○, 그렇지 않은 것을 ×로 했다.
〔저장 안정성〕
경화성 수지 조성물을 직경 13㎜, 높이 40㎜의 유리병에 아래로부터 5분의 1이 되는 양을 넣어 뚜껑을 닫았다. 이를 평평한 책상 위에서 90° 기울이고, 1분 후의 상태를 관찰하여 유동성이 있는지 여부를 확인했다. 경화성 수지 조성물의 형상에 변화가 보여진 경우는 유동성이 있음으로 하고, 변화가 없는 경우는 유동성이 없음으로 했다. 평가를 1일마다 방치하여 실시하고, 유동성이 없어진 시점에서 평가를 종료했다. 유동성을 유지할 수 있었던 일수를 표 1에 나타냈다. 유동성을 3일 이상 유지할 수 있었던 경우, 저장 안정성이 합격(○)임으로 판단하고, 이에 미치지 못하는 것은 저장 안정성 불합격(×)임으로 판단했다.
상기 실시예에 나타낸 바와 같이, 신규 전하 이동 착체가 얻어졌다. 또한, 상기 전하 이동 착체는 에폭시 수지 경화제로서 유용한 것이며, 에폭시 수지와 상기 전하 이동 착체를 함유하여 얻어지는 경화성 수지 조성물은 경화성 및 저장 안정성이 뛰어난 것이 분명하다.
본 발명에 따르면, 특히, 경화성, 저장 안정성이 뛰어난 1액 경화형의 경화성 수지 조성물을 제공하는 것이 가능해지고, 예를 들면, 전자부품 접착제, 전자부품 봉지(封止)재, 주형재, 도료, 구조 접착제 등에 알맞게 사용할 수 있다.
Claims (10)
- 전자 공여 부위로서 이미다졸 부위를 가지는 전하 이동 착체.
- 제1항에 있어서,
이미다졸 부위를 가지는 화합물(a)에 포함되는 전자를, 전자 수용 부위를 가지는 화합물(b)가 수용한 것인, 전하 이동 착체. - 제2항에 있어서,
전자 수용 부위를 가지는 화합물(b)의 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)가 -1eV 이하인, 전하 이동 착체. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
전자 수용 부위를 가지는 화합물(b)가 이미드 부위를 가지는 화합물인, 전하 이동 착체. - 제1항에 있어서,
이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물에서 이미다졸 부위에 포함되는 전자를 전자 수용 부위가 수용한 것인, 전하 이동 착체. - 제5항에 있어서,
이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물의 최저준위 비점유 분자궤도(LUMO)가 -1eV 이하인, 전하 이동 착체. - 제5항 또는 제6항에 있어서,
전자 수용 부위가 이미드 부위인, 전하 이동 착체. - 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
이미다졸 부위 및 전자 수용 부위를 분자 중에 가지는 화합물이 하기 식(1)로 표현되는 화합물인, 전하 이동 착체.
일반식(1) 중 R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수가 1~20인 탄화수소기를 나타내고, R4는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1~10의 2가의 탄화수소기를 나타내며, 환 A는 치환기를 가져도 되는 벤젠환, 치환기를 가져도 되는 시클로헥산환, 또는 치환기를 가져도 되는 노르보르넨환을 나타낸다. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 전하 이동 착체로 이루어지는 에폭시 수지용 경화제.
- 에폭시 수지 및 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 전하 이동 착체를 함유하는 경화성 수지 조성물.
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