KR20230026345A - 광학 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 적층체 및 화상 표시 장치 Download PDF

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KR20230026345A
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토시키 오미네
케이타 이에하라
타케시 나카노
타케히토 후치다
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

광학 적층체(1)는 유리판(2)과, 접합층(3)과, 보호 부재(4)를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비한다. 접합층(3)은, 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면 및 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면과 접촉한다. 접합층(3)의 두께에 대한, 나노인덴터법으로 측정되는 접합층(3)의 탄성률의 비가 1.0×104[Pa/㎛] 이상이다. 보호 부재(4)의 두께에 대한, 나노인덴터법으로 측정되는 보호 부재(4)의 탄성률의 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상이다.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치
본 발명은 광학 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
종래, 커버 윈도우재와, 접착제층과, 보호 부재를 구비하는 광학 적층체가 화상 표시 장치에 구비되는 것이 알려져있다.
예컨대, 커버 윈도우재로서의 유리판과, 접착제층과, 보호 부재로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 구비하는 광학 적층체가 제안되어 있다(예컨대, 하기 특허문헌 1 참조). 유리판은 광학 특성이 우수한 한편, 내충격성이 낮다. 내충격성은 유리판이 충격을 받았을 때에 유리판에 크랙 등의 손상을 억제하는 성질이다.
특허문헌 1에서는, 유리판과 PET 필름을 접착제층에 의해 접합함으로써, 내굴곡성을 향상하고 있다.
일본 공개특허공보 제2019-25899호
그러나, 특허문헌 1에 기재된 광학 적층체에서는, 유리판의 손상을 억제할 수 없다는 문제가 있다.
본 발명은 내충격성이 우수한 광학 적층체 및 화상 표시 장치를 제공한다.
본 발명 (1)은, 유리판과, 접합층과, 보호 부재를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비하고, 상기 접합층은 상기 유리판의 두께 방향 한쪽 면 및 상기 보호 부재의 두께 방향 다른 쪽 면과 접촉하며, 상기 접합층의 두께에 대한 나노인덴터법으로 측정되는 상기 접합층의 탄성률의 비가 1.0×104[Pa/㎛] 이상이고, 상기 보호 부재의 두께에 대한 나노인덴터법으로 측정되는 상기 보호 부재의 탄성률의 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상인, 광학 적층체를 포함한다.
본 발명 (2)는, (1)에 기재된 광학 적층체와, 화상 표시 부재를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비하는, 화상 표시 장치를 포함한다.
본 발명의 광학 적층체에서는, 접합층의 두께에 대한 25℃에서의 접합층의 탄성률의 비가 1.0×104[Pa/㎛] 이상이다. 그 때문에, 접합층의 탄성률이 높은 경우(i-a)와, 접합층이 얇은 경우(ii-a)가 상정된다. 접합층의 탄성률이 높은 경우(i-a)에는, 유리판의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 접합층이 얇은 경우(ii-a)에는, 외력이 부여되었을 때의 유리판의 두께 방향의 변위량을 작게 할 수 있는 점에서, 유리판의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 그 때문에, 이 광학 적층체는 내충격성이 우수하다.
게다가, 이 광학 적층체에서는, 또한 보호 부재의 두께에 대한 25℃에서의 보호 부재의 탄성률의 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상이다. 그 때문에, 보호 부재의 탄성률이 높은 경우(iii-a)와, 보호 부재가 얇은 경우(iv-a)가 상정된다. 보호 부재의 탄성률이 높은 경우(iii-a)에는, 유리판의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 보호 부재가 얇은 경우(iv-a)에는, 외력이 부여되었을 때의 유리판의 두께 방향의 변위량을 작게 할 수 있는 점에서, 역시, 유리판의 손상을 충분히 억제할 수 있다.
따라서, 이 광학 적층체는 내충격성이 우수하다.
본 발명의 화상 표시 장치는 내충격성이 우수한 광학 적층체를 구비하기 때문에, 내충격성이 우수하다.
도 1은, 본 발명의 광학 적층체의 일 실시형태의 단면도이다.
도 2는, 도 1에 나타내는 광학 적층체를 펜 드롭 시험할 때의 사시도이다.
도 3은, 도 1에 나타내는 광학 적층체를 구비하는 유기 EL 표시 장치의 단면도이다.
도 4는, 도 3에 나타내는 유기 EL 표시 장치의 변형예의 단면도이다.
도 5는, 도 3에 나타내는 유기 EL 표시 장치의 변형예의 단면도이다.
도 6은, 도 3에 나타내는 유기 EL 표시 장치의 변형예의 단면도이다.
<광학 적층체>
본 발명의 광학 적층체의 일 실시형태를, 도 1을 참조하여 설명한다.
이 광학 적층체(1)는, 예컨대 두께 방향에 직교하는 면 방향으로 연장되는 평판 형상을 갖는다. 광학 적층체(1)는 유리판(2)과, 접합층(3)과, 보호 부재(4)를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비한다. 바람직하게는, 이 광학 적층체(1)는 유리판(2)과, 접합층(3)과, 보호 부재(4)만을 구비한다.
<유리판>
유리판(2)은 면 방향으로 연장된다. 유리판(2)은 광학 적층체(1)에서의 두께 방향 다른 쪽 면을 형성한다. 유리판(2)의 두께는, 예컨대 15㎛ 이상, 바람직하게는 30㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 150㎛ 이하, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 75㎛ 이하이다. 유리판(2)의 두께가 상기한 상한 이하이면, 유리판(2)은 얇은 유리판으로 칭호된다. 유리판(2)의 전광선 투과율은, 예컨대 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상이고, 또한, 예컨대 95% 이하이다. 유리판(2)의 전광선 투과율은 JIS K 7361-1에 따라 구할 수 있다. 이후의 각 층도 상기와 마찬가지로 하여, 전광선 투과율을 구할 수 있다. 유리판(2)은 시판품을 이용할 수 있고, 예컨대, G-leaf 시리즈(등록상표, 니혼덴키가라스사 제조)를 이용할 수 있다.
<접합층>
접합층(3)은 면 방향으로 연장된다. 접합층(3)은 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면과 접촉하고 있다. 구체적으로는, 접합층(3)은 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면의 전부에 접촉한다. 접합층(3)은, 예컨대 접착제층 또는 점착제층이다.
접착제층은 경화형 접착제의 경화체이다. 자세하게는, 접착제층은 트리거(활성 에너지선의 조사나 가열 등)에 기초한 경화에 의해 접착력이 크게 상승(접착 성능을 발현)하는 경화형 접착제의 경화체이다.
경화형 접착제는 접착제층의 경화 원료이며, 활성 에너지 경화형, 열경화형 등을 들 수 있고, 바람직하게는 활성 에너지 경화형을 들 수 있다. 구체적으로는, 경화형 접착제로서는, 예컨대, 에폭시계 접착제 조성물, 아크릴계 접착제 조성물, 실리콘계 접착제 조성물 등을 들 수 있고, 높은 탄성률을 얻는 관점에서, 에폭시계 접착제 조성물, 아크릴계 접착제 조성물을 들 수 있다.
에폭시계 접착제 조성물은 에폭시 수지를 주제로서 포함한다. 에폭시 수지로서는, 예컨대 2개의 에폭시기를 함유하는 2관능 에폭시 수지, 3개 이상 에폭시기를 함유하는 다관능 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들은 단독 사용 또는 2종 이상 병용할 수 있다. 바람직하게는, 2관능 에폭시 수지와 다관능 에폭시 수지의 병용을 들 수 있다.
2관능 에폭시 수지로서는, 예컨대, 비스페놀형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지 등의 방향족계 에폭시 수지, 예컨대, 트리에폭시프로필이소시아누레이트, 히단토인에폭시 수지 등의 질소 함유환 에폭시 수지, 나아가, 지방족형 에폭시 수지, 글리시딜에테르형 에폭시 수지, 글리시딜아민형 에폭시 수지를 들 수 있다. 2관능 에폭시 수지로서, 바람직하게는 지방족형 에폭시 수지를 들 수 있다. 지방족형 에폭시 수지는 지방족 지환식 에폭시 수지를 포함한다. 2관능 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 예컨대 100g/eq. 이상, 바람직하게는 120g/eq. 이상이고, 또한, 예컨대 250g/eq. 이하, 바람직하게는 150g/eq. 이하이다. 에폭시 수지에서의 2관능 에폭시 수지의 비율은, 예컨대 80질량% 이상, 바람직하게는 90질량% 이상이고, 또한, 예컨대 99질량% 이하, 바람직하게는 97질량% 이하이다.
다관능 에폭시 수지로서는, 예컨대 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 트리스히드록시페닐메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐올에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 3관능 지방족 에폭시 수지 등의 3관능 이상의 다관능 에폭시 수지를 들 수 있다. 다관능 에폭시 수지로서, 바람직하게는 3관능 지방족 에폭시 수지를 들 수 있다. 다관능 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 예컨대 130g/eq. 이상, 바람직하게는 150g/eq. 이상이고, 또한, 예컨대 220g/eq. 이하, 바람직하게는 200g/eq. 이하이다. 에폭시 수지에서의 다관능 에폭시 수지의 비율은, 예컨대, 1질량% 이상, 바람직하게는 3질량% 이상이고, 또한, 예컨대 20질량% 이하, 바람직하게는 10질량% 이하이다.
에폭시계 접착제 조성물에서의 에폭시 수지의 비율은, 예컨대 60질량% 이상, 바람직하게는 75질량% 이상이고, 또한, 예컨대 90질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하이다.
에폭시 수지는 시판품을 이용할 수 있고, 지방족 지환식 에폭시 수지로서, 셀록사이드 2021P(다이셀화학사 제조), 3관능 지방족 에폭시 수지로서, EHPE3150(다이셀화학사 제조) 등이 이용된다.
또한, 에폭시계 접착제 조성물은, 활성 에너지 경화형이면, 광 산 발생제를 포함한다. 광 산 발생제로서는, 예컨대 트리아릴설포늄염 등을 들 수 있다. 광산 발생제는 시판품을 이용할 수 있고, 트리아릴설포늄염으로서 CPI101A(산아프로사 제조) 등이 이용된다. 에폭시계 접착제 조성물에서의 광 산 발생제의 비율은, 예컨대, 1질량% 이상, 바람직하게는 10질량% 이상이고, 또한, 예컨대 30질량% 이하, 바람직하게는 20질량% 이하이다.
또한, 에폭시계 접착제 조성물은, 예컨대 옥세탄계 수지, 실란 커플링제 등의 첨가제를 적절한 비율로 포함할 수 있다.
옥세탄계 수지로서는, 예컨대 3-에틸-3-옥세탄메탄올, 2-에틸헥실옥세탄 등의 단관능 옥세탄, 예컨대, 크실릴렌비스옥세탄, 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄 등의 2관능 옥세탄을 들 수 있다. 옥세탄계 수지는, 시판품을 이용할 수 있고, 아론옥세탄(도아고세이사 제조) 등이 이용된다.
실란 커플링제로서, 예컨대, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 시판품을 이용할 수 있고, KBM 시리즈(신에츠실리콘사 제조) 등을 들 수 있다.
아크릴계 접착제 조성물은, 예컨대, 관능기를 함유하는 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머와, 공중합성 모노머를 포함하는 모노머 성분의 중합체를 포함한다.
관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머는, 관능기 함유 메타크릴에스테르 모노머 및/또는 관능기 함유 아크릴에스테르 모노머이다. (메트)의 정의 및 용법은 이하와 같다. 관능기로서는, 예컨대 히드록시기, 아미노기, 복소환기, 락톤환기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머로서는, 예컨대, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 히드록시기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머, 예컨대 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 아미노기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머, 예컨대 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 펜타메틸피페리디닐(메트)아크릴레이트, 테트라메틸피페리디닐(메트)아크릴레이트 등의 복소환기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머, 예컨대 γ-부티로락톤(메트)아크릴레이트 모노머 등의 락톤환기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 히드록시기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머를 들 수 있다. 모노머 성분에서의 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머의 비율은, 예컨대 60질량% 이상, 바람직하게는 70질량% 이상이고, 또한, 예컨대 90질량% 이하, 바람직하게는 80질량% 이하이다.
공중합성 모노머는, 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머와 공중합 가능한 비닐 모노머이다. 공중합성 모노머로서는, (메트)아크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 비닐 모노머, 예컨대, (메트)아크릴아미드, 디메틸(메트)아크릴아미드, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴아미드, 이소프로필(메트)아크릴아미드, 디에틸(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로일모폴린 등의 아미드기 함유 비닐 모노머 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 아미드기 함유 비닐 모노머를 들 수 있다. 또한, 아미드기 함유 비닐 모노머는, 히드록시기를 가져도 되고, 그와 같은 아미드기 함유 비닐 모노머로서는, 예컨대, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드 등의 히드록시알킬(메트)아크릴아미드를 들 수 있다. 바람직하게는, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드를 들 수 있다. 모노머 성분에서의 공중합성 모노머의 비율은, 예컨대 10질량% 이상, 바람직하게는 20질량% 이상이고, 또한, 예컨대 40질량% 이하, 바람직하게는 30질량% 이하이다. 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머 100질량부에 대한 공중합성 모노머의 질량부 수는, 예컨대 10질량부 이상, 바람직하게는 20질량부 이상이고, 또한, 예컨대 60질량부 이하, 바람직하게는 40질량부 이하이다.
또한, 아크릴계 접착제 조성물은 광중합 개시제 등의 공지의 중합 개시제를 포함할 수 있다. 모노머 성분 100질량부에 대한 중합 개시제의 질량부 수는, 예컨대 0.3질량부 이상, 3질량부 이하이다.
또한, 상기한 아크릴계 접착제 조성물은, 예컨대 일본 공개특허공보 제2013-077006호 등에 설명된다.
점착제층은 점착력이 경시적으로 실질적으로 변동하지 않는다. 점착제층의 재료는 점착제 조성물이다. 점착제 조성물은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 아크릴계 점착제 조성물, 실리콘계 점착제 조성물, 우레탄계 점착제 조성물, 비닐알킬에테르계 점착제 조성물, 폴리아크릴아미드계 점착제 조성물 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 아크릴계 점착제 조성물을 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물로서는, 알킬(메트)아크릴레이트 및 관능기 함유 비닐 모노머를 함유하는 모노머 성분의 중합체(베이스 폴리머)의 가교체를 들 수 있다.
알킬(메트)아크릴레이트로서는, 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기를 갖는다. 알킬기의 탄소수는, 예컨대 1 이상, 바람직하게는 3 이상이고, 또한 18 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 바람직하게는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 네오펜틸(메트)아크릴레이트, 이소펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 노닐(메트)아크릴레이트, 데실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 더욱 바람직하게는, 부틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
관능기 함유 비닐비닐 모노머로서는, 예컨대, (메트)아크릴산, 예컨대, 상기한 관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머 등을 들 수 있다. 이들은 단독 사용 또는 병용할 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴산과 히드록시기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머의 병용을 들 수 있다.
모노머 성분은 예컨대 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 등의 중합 개시제의 존재 하에서 중합된다.
가교되기 전의 중합체(베이스 폴리머)의 중량평균 분자량은, 예컨대 100,000 이상, 바람직하게는 1,000,000이고, 또한, 예컨대, 10,000,000 이하, 바람직하게는, 5,000,000 이하이다. 중합체의 중량평균 분자량은 GPC에 의한 표준 폴리스티렌 환산에 따른다.
가교체는 가교제의 첨가 및 그 반응에 의해 얻을 수 있다. 가교제로서는, 예컨대, 이소시아네이트 가교제(톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 변성체 등), 실란 커플링제(3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제 등) 등을 들 수 있다. 이들은 단독 사용 또는 병용할 수 있다. 가교제의 질량부 수는 중합체 100질량부에 대하여, 예컨대 0.1질량부 이상, 또한, 예컨대 2질량부 이하이다.
접합층(3)의 전광선 투과율은, 예컨대 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상이고, 또한, 예컨대 95% 이하이다.
접합층(3)의 두께는, 다음으로 설명하는 접합층(3)의 탄성률과의 비(후술함)를 만족하면, 특별히 한정되지 않는다. 접합층(3)의 두께는, 접합층(3)이 접착제층인 경우에는, 예컨대, 0.2㎛ 이상, 바람직하게는 2㎛ 이상이고, 접합층(3)이 점착제층인 경우에는, 예컨대, 1㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상이다. 또한, 접합층(3)의 두께는, 예컨대 100㎛ 이하, 바람직하게는 50㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하이다.
접합층(3)의 탄성률은, 상기한 접합층(3)의 두께와의 비(후술함)를 만족하면, 특별히 한정되지 않는다. 접합층(3)의 탄성률은, 예컨대 5×105Pa 이상, 바람직하게는 1×106Pa 이상, 보다 바람직하게는 1×108Pa 이상이고, 또한, 예컨대 1×1012Pa 이하이다. 접합층(3)의 탄성률은 나노인덴터법으로 측정된다. 접합층(3)의 탄성률은 25℃에서 측정된다. 접합층(3)의 탄성률의 구체적인 측정 방법은, 이후의 실시예에서 기재하지만, 접합층(3)이 접착제층이면, 압자의 압입 깊이를 100nm로 설정하고, 접합층(3)이 점착제층이면, 압자의 압입 깊이를 1500nm로 설정한다.
접합층(3)의 두께(㎛)에 대한 접합층(3)의 탄성률(Pa)의 비는 1.0×104[Pa/㎛] 이상이다.
이에 대하여, 상기한 비가 1.0×104[Pa/㎛] 미만인 경우를 검토한다. 접합층(3)의 탄성률이 낮은 경우(i-b)와, 접합층(3)이 두꺼운 경우(ii-b)가 상정된다.
상기 (i-b)이면, 접합층(3)이 부드럽기 때문에, 접합층(3)에 접촉하는 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
상기 (ii-b)이면, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량이 커지고(크게 내려앉고), 그 때문에, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
따라서, 상기한 비가 1.0×104[Pa/㎛] 미만이면, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
한편, 상기한 비가 1.0×104[Pa/㎛] 이상이면, 접합층(3)이 단단한 경우(i-a)이거나, 또는 접합층(3)이 얇은 경우(ii-a)이다. 접합층(3)이 단단한 경우(i-a)이면, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 접합층(3)이 얇은 경우(ii-a)이면, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량을 얇은 접합층(3)에 의해 작게 할 수 있다. 즉, 유리판(2)의 접합층(3)에 대한 내려앉음을 억제할 수 있다. 그 때문에, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 따라서, (i-a)와 (ii-a)의 어느 경우라도, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다.
접합층(3)의 두께(㎛)에 대한 접합층(3)의 탄성률(Pa)의 비는, 바람직하게는 1.0×105[Pa/㎛] 이상, 보다 바람직하게는 1.0×106[Pa/㎛] 이상, 더욱 바람직하게는 1.0×107[Pa/㎛] 이상, 특히 바람직하게는 1.0×108[Pa/㎛] 이상, 나아가, 1.0×109[Pa/㎛] 이상이 적합하다. 상기한 비가 상기한 하한 이상이면, 유리판(2)의 손상을 보다 한층 충분히 억제할 수 있다.
또한, 접합층(3)의 두께(㎛)에 대한 접합층(3)의 탄성률(Pa)의 비의 상한은, 내충격성의 향상의 관점에서 한정되지 않는다. 접합층(3)의 두께(㎛)에 대한 접합층(3)의 탄성률(Pa)의 비의 상한은, 예컨대, 1.0×1015[Pa/㎛]이고, 또한, 1.0×1014[Pa/㎛]이다.
<보호 부재>
보호 부재(4)는 광학 적층체(1)의 두께 방향 한쪽 면을 형성한다. 보호 부재(4)는 접합층(3)에 대한 유리판(2)의 반대 측에 위치한다. 보호 부재(4)는 면 방향으로 연장된다. 보호 부재(4)는 접합층(3)의 두께 방향 한쪽 면에 접촉하고 있다. 또한, 보호 부재(4)는 접합층(3)의 두께 방향 한쪽 면의 전부에 접촉하고 있다. 이에 의해, 접합층(3)은 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면, 및 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면에 접촉한다. 접합층(3)은 유리판(2)과 보호 부재(4)를 접합하고 있다. 즉, 보호 부재(4)는 접합층(3)에 의해 유리판(2)에 접합되어 있다.
보호 부재(4)의 재료는 특별히 한정되지 않는다. 보호 부재(4)의 재료로서는, 예컨대 아크릴 수지를 들 수 있다. 아크릴 수지는, 예컨대, 글루타르이미드 단위 및 불포화 카복실산 알킬에스테르 단위를 갖는다. 아크릴 수지는 구체적으로는 하기 식 (1)로 나타내는 글루타르이미드 단위, 및 하기 식 (2)로 나타내는 불포화 카복실산 알킬에스테르 단위의 구조 단위를 갖는다.
Figure pct00001
(식 (1) 중, R1 및 R2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 8 이하의 알킬기를 나타낸다. R3은 탄소수 1 이상 18 이하의 알킬기, 탄소수 3 이상 12 이하의 시클로알킬기, 또는 탄소수 6 이상 10 이하의 아릴기를 나타낸다.)
Figure pct00002
(식 (2) 중, R4 및 R5는 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기를 나타낸다.)
식 (1) 중, R1 및 R2로 나타내는 탄소수 1 이상 8 이하의 알킬기로서는, 예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸 등을 들 수 있다. R1로서는 바람직하게는 메틸을 들 수 있다. R2로서는 바람직하게는 수소 원자를 들 수 있다. R3으로 나타내는 탄소수 1 이상 18 이하의 알킬기로서는, 탄소수 1 이상 8 이하의 알킬기로 예시한 것 이외에, 노닐, 데실, 도데실, 운데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 등을 들 수 있다. 탄소수 3 이상 12 이하의 시클로알킬기로서는, 예컨대, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로데실 등을 들 수 있다. 탄소수 6 이상 10 이하의 아릴기로서는, 예컨대 페닐, 나프틸 등을 들 수 있다. R3으로서, 바람직하게는 알킬기, 보다 바람직하게는 메틸을 들 수 있다.
식 (2) 중, R4로서, 바람직하게는 메틸을 들 수 있다. R5로 나타내는 탄소수 1 이상 6 이하의 알킬기로서는, 예컨대, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸 등을 들 수 있고, 알킬기로서 바람직하게는 메틸을 들 수 있다. R5로서, 바람직하게는 메틸을 들 수 있다.
아크릴 수지에서의 글루타르이미드 단위의 함유 비율은, 예컨대, 5몰% 이상이고, 또한, 예컨대, 50몰% 이하이다. 아크릴 수지의 이미드화율은, 전체 카보닐기 중의 이미드카보닐기가 차지하는 비율이며, 예컨대, 2.5% 이상이고, 또한, 예컨대, 7.5% 이하이다. 아크릴 수지에서의 불포화 카복실산 알킬에스테르 단위의 함유 비율은, 글루타르이미드 단위의 함유 비율의 잔부이며, 예컨대, 50몰% 이상이고, 또한, 예컨대, 95몰% 이하이다. 아크릴 수지의 산가는, 예컨대, 0.10mmol/g 이상, 예컨대, 0.50mmol/g 이하이다. 아크릴 수지의 유리전이온도는, 예컨대 90℃ 이상, 바람직하게는 110℃ 이상이고, 또한, 예컨대 150℃ 이하, 바람직하게는 130℃ 이하이다. 상기한 물성의 정의 및 측정 방법은, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2017-26939호, 일본 공개특허공보 제2016-151696호 등에 상술된다.
아크릴 수지는 상기 이외의 공중합 가능한 다른 비닐계 단량체 단위를 함유할 수 있다. 그 밖의 비닐계 단량체로서는, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 디비닐벤젠 등의 알케닐 방향족 단량체를 들 수 있다.
아크릴 수지의 제조 방법은, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2017-26939호, 일본 공개특허공보 제2016-151696호 등에 상술된다.
보호 부재(4)의 전광선 투과율은, 예컨대 85% 이상, 바람직하게는 88% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상이고, 또한, 예컨대 100% 이하이다.
보호 부재(4)의 두께는, 다음으로 설명하는 보호 부재(4)의 탄성률과의 비(후술함)를 만족하면, 특별히 한정되지 않는다. 보호 부재(4)의 두께는, 예컨대 1㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 100㎛ 이하, 바람직하게는 50㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하이다.
보호 부재(4)의 탄성률은 상기한 보호 부재(4)의 두께와의 비(후술함)를 만족하면, 특별히 한정되지 않는다. 보호 부재(4)의 탄성률은, 예컨대 1×106Pa 이상, 바람직하게는 1×107Pa 이상, 보다 바람직하게는 1×109Pa 이상, 더욱 바람직하게는 2.5×109Pa 이상, 특히 바람직하게는 5×109Pa 이상, 가장 바람직하게는 5.3×109Pa 이상이다. 보호 부재(4)의 탄성률은, 예컨대 1×1014Pa 이하, 1×1013Pa 이하, 또한, 1×1012Pa 이하, 1×1011Pa 이하이다. 보호 부재(4)의 탄성률은 나노인덴터법으로 측정된다. 보호 부재(4)의 탄성률은 25℃에서 측정된다. 보호 부재(4)의 탄성률의 구체적인 측정 방법은 이후의 실시예에서 기재한다.
보호 부재(4)의 두께에 대한 보호 부재(4)의 탄성률의 비는 1.0×108[Pa/㎛] 이상이다.
이에 대하여, 상기한 비가 1.0×108[Pa/㎛] 미만인 경우를 검토한다. 보호 부재(4)의 탄성률이 낮은 경우(iii-b)와, 보호 부재(4)가 두꺼운 경우(iv-b)가 상정된다.
상기 (iii-b)이면, 보호 부재(4)가 부드럽기 때문에, 보호 부재(4)의 두께 방향 한쪽 측에 배치되는 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
상기 (iv-b)이면, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량이 커지고(크게 내려앉고), 그 때문에, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
따라서, 상기한 비가 1.0×108[Pa/㎛] 미만이면, (iii-b) 및 (iv-b)의 어느 경우라도, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 억제할 수 없다.
이에 대하여, 상기한 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상이면, 보호 부재(4)가 단단한 경우(iii-a)이거나, 또는, 보호 부재(4)가 얇은 경우(iv-a)이다. 보호 부재(4)가 단단한 경우(iii-a)이면, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 보호 부재(4)가 얇은 경우(iv-a)이면, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량을 얇은 보호 부재(4)에 의해 작게 할 수 있다. 즉, 유리판(2)의, 유리판(2)과 접합층(3)을 개재하여 두께 방향으로 인접하는 보호 부재(4)에 대한 내려앉음을 억제할 수 있다. 그 때문에, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 따라서, 상기 (iii-b) 및 (iv-b)의 어느 경우라도, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 억제할 수 있다.
보호 부재(4)의 두께(㎛)에 대한 보호 부재(4)의 탄성률(Pa)의 비는, 바람직하게는 1.5×108[Pa/㎛] 이상, 보다 바람직하게는 2.0×108[Pa/㎛] 이상, 더욱 바람직하게는 2.5×108[Pa/㎛] 이상이다. 상기한 비가 상기한 하한 이상이면, 외력이 부여된 유리판(2)의 손상을 보다 한층 충분히 억제할 수 있다.
또한, 보호 부재(4)의 두께(㎛)에 대한 보호 부재(4)의 탄성률(Pa)의 비의 상한은, 내충격성의 향상의 관점에서 한정되지 않는다. 보호 부재(4)의 두께(㎛)에 대한 보호 부재(4)의 탄성률(Pa)의 비의 상한은, 예컨대 2.0×109[Pa/㎛]이고, 또한 1.0×109[Pa/㎛]이다.
보호 부재(4)의 제조(제작) 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 압출 장치, 코터, 연신 장치 및 인취 장치를 구비하는 필름 제조 장치를 이용하여, 보호 부재(4)의 재료 등으로부터 보호 부재(4)를 형성한다. 구체적으로는, 필름 제조 장치를 이용하여, 아크릴 수지의 펠릿으로부터 보호 부재(4)를 제작한다.
<광학 적층체의 제조 방법>
광학 적층체(1)의 제조 방법을 설명한다.
도 1이 참조되는 바와 같이, 이 방법에서는, 예컨대 접합층(3)을 접착제층으로서 형성하는 경우에는, 우선, 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면에, 경화형 접착제를 배치(도포)한다. 그 후, 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면을 경화형 접착제에 접촉시킨다. 또는, 우선, 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면에, 경화형 접착제를 배치(도포)한다. 그 후, 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면을 경화형 접착제에 접촉시킨다. 이에 의해, 유리판(2) 및 보호 부재(4) 사이에 경화형 접착제를 끼워 넣는다.
그 후, 경화형 접착제를 경화시킨다. 경화형 접착제가 활성 에너지 경화형이면, 자외선 등의 활성 에너지를 경화형 접착제에 조사한다. 구체적으로는, 자외선을, 예컨대 유리판(2) 측 또는 보호 부재(4) 측으로부터, 바람직하게는 유리판(2) 측으로부터, 경화형 접착제에 조사한다. 경화형 접착제가 열경화형이면, 경화형 접착제를 가열한다. 이에 의해, 유리판(2) 및 보호 부재(4)를 강고하게 접착하는 접합층(3)을 형성한다.
한편, 접합층(3)을 점착제층으로서 형성하는 경우에는, 우선, 예컨대, 도시하지 않은 박리 시트의 표면에, 점착제 조성물 및 용매를 함유하는 바니시를 도포한다. 용매는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 초산에틸 등의 에스테르계 용매를 들 수 있다. 바니시에서의 고형분 농도는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 10질량% 이상이고, 또한, 예컨대 90질량% 이하이다. 그 후, 바니시를 가열에 의해 건조시킨다. 이에 의해, 점착제층을 박리 시트의 표면에 형성한다.
그 후, 점착제층을 박리 시트로부터 유리판(2)으로 전사한다. 그 후, 보호 부재(4)를 점착제층에 첩합한다.
또는, 점착제층을 박리 시트로부터 보호 부재(4)로 전사한다. 그 후, 유리판(2)을 점착제층에 첩합한다.
이에 의해, 유리판(2) 및 보호 부재(4) 사이에 점착제층을 끼워 넣는다.
또는, 상기한 점착제층의 유리판(2) 또는 보호 부재(4)로의 전사 대신, 바니시를 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면, 또는 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면에 직접 도포한다. 이에 의해, 점착제층을 유리판(2) 또는 보호 부재(4)에 직접 형성한다. 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면에 형성된 점착제층에 대하여, 보호 부재(4)를 첩합한다. 또는, 보호 부재(4)의 두께 방향 다른 쪽 면에 형성된 점착제층에 대하여, 유리판(2)을 첩합한다.
<광학 적층체의 용도>
광학 적층체(1)는, 각종 광학 용도에 이용되고, 예컨대, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치(이하, 단순히 '유기 EL 표시 장치'라고 약칭함.) 등의 화상 표시 장치에 구비된다.
다음으로, 광학 적층체(1)를 구비하는 유기 EL 표시 장치(10)를, 도 3을 참조하여 설명한다.
<유기 EL 표시 장치>
유기 EL 표시 장치(10)는, 면 방향으로 연장되는 평판 형상을 갖는다. 또한, 유기 EL 표시 장치(10)는, 다음으로 설명하는 도전성 필름(13)을 구비하는 점에서, 터치 패널형 입력 표시 장치로서 기능한다. 유기 EL 표시 장치(10)는 광학 적층체(1)와, 은폐층(11)과, 편광자(6)와, 광학 보상층(7)과, 제1 점착제층(12)과, 도전성 필름(13)과, 제2 점착제층(14)과, 화상 표시 부재(15)를 구비한다. 또한, 이 유기 EL 표시 장치(10)에서는, 지면(紙面) 상측이, 유저의 시인 측이며, 표측(도 1의 두께 방향 다른 쪽 측에 상당)이고, 지면 하측이 이측(裏側)(도 1의 두께 방향 한쪽 측에 상당)이다. 이 유기 EL 표시 장치(10)에서는 광학 적층체(1)와, 편광자(6)와, 광학 보상층(7)과, 제1 점착제층(12)과, 도전성 필름(13)과, 제2 점착제층(14)과, 화상 표시 부재(15)가 이측을 향하여 순서대로 배치된다.
<보호 부재(4)>
광학 적층체(1)에서의 보호 부재(4)는, 편광자(6)의 표면에 배치되어 있다. 그 때문에, 보호 부재(4)는 편광자 보호 필름으로서 기능한다. 이 경우에는, 보호 부재(4)는 다음으로 설명하는 편광자(6)를 표측으로부터 보호한다.
<편광자 보호 필름>
보호 부재(4)가 편광자 보호 필름으로서 기능하는 경우, 편광자 보호 필름은 편광자(6)를 두께 방향 다른 쪽 측으로부터 보호한다. 편광자 보호 필름은 등방성을 갖는다. 편광자 보호 필름의 재료는, 예컨대 아크릴 수지를 들 수 있다. 아크릴 수지로서는, 바람직하게는 높은 기계 강도를 얻는 관점에서, 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지를 들 수 있다. 락톤환 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2000-230016호, 일본 공개특허공보 제2001-151814호, 일본 공개특허공보 제2002-120326호, 일본 공개특허공보 제2002-254544호, 일본 공개특허공보 제2005-146084호, 일본 공개특허공보 제2008-170717호, 일본 공개특허공보 제2017-102443호 등에 기재된다. 편광자 보호 필름의 두께는, 예컨대 10㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 60㎛ 이하, 바람직하게는 55㎛ 이하, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
<은폐층>
은폐층(11)은 광학 적층체(1)에 마련되어 있다. 은폐층(11)은 구체적으로는 유리판(2)의 이면에서의 주연부에 배치(구체적으로는, 인쇄)되어 있다. 은폐층(11)은 평면시에서, 후술하는 도전층(16)의 인출 배선부(19)를 포함하는 패턴을 갖는다. 은폐층(11)의 재료로서는, 예컨대 흑색 성분 및 수지를 포함하는 조성물 등을 들 수 있다. 은폐층(11)의 전광선 투과율은, 예컨대 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하이다. 은폐층(11)은 유기 EL 표시 장치(10)에서 유저가 표측으로부터 인출 배선부(19)를 시인하는 것을 피하는 층이다. 이에 의해, 유기 EL 표시 장치(10)는 두께 방향으로 투영하였 때에, 은폐층(11)과 중복되는 비표시 영역(25)과, 은폐층(11)과 중복되지 않고, 도전층(16)의 센서 전극부(18)와 중복되는 표시 영역(26)을 포함한다.
<편광자>
편광자(6)는, 보호 부재(4)의 이면에 배치되어 있다. 편광자(6)는 면 방향으로 연장된다. 편광자(6)는 보호 부재(4)의 이면의 전부에 접촉하고 있다. 편광자(6)로서는, 예컨대, PVA 필름 등의 친수성 필름을 염색 처리 및 연신 처리된 필름이나, 친수성 필름을 탈수 처리한 필름, 폴리염화비닐 필름을 탈염산 처리한 필름 등을 들 수 있다. 편광자(6)의 두께는, 예컨대 1㎛ 이상, 바람직하게는 3㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 15㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 편광자(6)의 물성 등은, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2016-151696호, 일본 공개특허공보 제2017-102443호 등에 기재된다.
<광학 보상층>
광학 보상층(7)은 편광자(6)의 이면에 배치되어 있다. 광학 보상층(7)은 면 방향으로 연장된다. 광학 보상층(7)은, 편광자(6)의 이면의 전부에 접촉하고 있다. 광학 보상층(7)은, 예컨대 위상차 필름이며, 구체적으로는 λ/4판으로서 기능한다. 이에 의해, 편광자(6) 및 광학 보상층(7)으로 구성된 편광 필름이 원편광성을 갖는다. 광학 보상층(7)의 재료로서는, 예컨대 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 시클로올레핀 수지, 아크릴 수지, 셀룰로오스에스테르 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 폴리카보네이트 수지이다. 폴리카보네이트 수지로서는, 예컨대 플루오렌계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 이소소르비드계 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위와, 지환식 디올, 지환식 디메탄올, 디, 트리 또는 폴리에틸렌글리콜, 및 알킬렌글리콜 또는 스피로글리콜로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 디히드록시 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함한다. 광학 보상층(7)의 조성, 물성, 제조 방법 등은, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2017-102443호에 상술된다.
또한, 광학 보상층(7)은 적층체이어도 되고, 도시하지 않지만, 예컨대 제1 액정 배향층과 제2 액정 배향층을 이측을 향하여 순서대로 구비한다.
제1 액정 배향 고화층은, 구체적으로는 λ/2판으로서 기능한다. 파장 550nm의 광으로 측정하였을 때의 제1 액정 배향 고화층의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 180nm∼320nm이다. 제1 액정 배향 고화층의 굴절률은, 예컨대 nx>ny=nz의 관계를 나타낸다. nx는 면내 방향에서의 지상축 방향의 굴절률이다. ny는 면내 방향에서의 진상축 방향의 굴절률이다. nz는 두께 방향의 굴절률이다. 제1 액정 배향 고화층의 지상축과 편광자(6)의 흡수축이 이루는 각도는, 예컨대 10°∼20°이다. 제1 액정 배향 고화층의 두께는, 예컨대 0.05㎛ 이상, 또한, 예컨대 7㎛ 이하이다. 제1 액정 배향 고화층은, 예컨대, 봉상의 액정 재료가 소정의 방향으로 나열된 상태에서 배향되어 있다. 액정 재료의 배향 방향으로 지상축이 발현된다. 액정 재료로서는, 예컨대, 액정 폴리머나 액정 모노머를 들 수 있다. 제1 액정 배향 고화층을 형성하기 위해서는, 소정의 기재의 표면에 배향 처리를 실시하고, 당해 표면에 액정 재료를 포함하는 도포액을 도포하여 당해 액정 재료를 상기 배향 처리에 대응하는 방향으로 배향시켜 당해 배향 상태를 고정한다.
제2 액정 배향 고화층은, 예컨대, λ/4판으로서 기능한다. 제1 액정 배향 고화층이 λ/2 판으로서 기능하고, 제2 액정 배향 고화층이 λ/4판으로서 기능함으로써, 광학 보상층(7)은 우수한 원편광 특성을 갖는다. 파장 550nm의 광으로 측정하였을 때의 제2 액정 배향 고화층의 면내 위상차 Re(550)는, 예컨대 100nm∼180nm이다. 제2 액정 배향 고화층의 굴절률은, 예컨대 nx>ny=nz의 관계를 나타낸다. 제2 액정 배향 고화층의 지상축과 편광자(6)의 흡수축이 이루는 각도는, 예컨대 65°∼85°이다. 제2 액정 배향 고화층의 두께는, 예컨대 0.5㎛ 이상, 2㎛ 이하이다. 제2 액정 배향 고화층의 재료, 특성, 제조 방법 등은 제1 액정 배향 고화층의 그들과 마찬가지이다.
상기한 제1 및 제2 액정 배향 고화층을 포함하는 적층체는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2017-102443호 등에 기재된다.
<제2 광학 적층체>
편광자(6)와 광학 보상층(7)은 제2 광학 적층체(8)를 구성한다. 제2 광학 적층체(8)는 편광자(6)와 광학 보상층(7)을 이측을 향하여 순서대로 구비한다. 제2 광학 적층체(8)는 광학 적층체(1)의 이측에 배치되어 있다. 제2 광학 적층체(8)는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2017-102443호에 상술된다. 제2 광학 적층체(8)의 전광선 투과율은, 예컨대 80% 이상, 바람직하게는 85% 이상이고, 또한, 예컨대 95% 이하이다. 제2 광학 적층체(8)의 두께는, 예컨대 10㎛ 이상, 바람직하게는 30㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 70㎛ 이하이며, 바람직하게는 65㎛ 이하이다.
<제1 점착제층>
제1 점착제층(12)은, 제2 광학 적층체(8)의 이면에 배치되어 있다. 구체적으로는, 제1 점착제층(12)은, 제2 광학 적층체(8)의 이면의 전부에 접촉하고 있다. 제1 점착제층(12)은 점착력이 경시적으로 실질적으로 변동되지 않고 안정되어 있다. 제1 점착제층(12)의 재료로서는, 예컨대 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 우레탄계 점착제, 불소계 점착제, 에폭시계 점착제, 폴리에테르계 점착제 등을 들 수 있고, 바람직하게는 아크릴계 점착제를 들 수 있다. 제1 점착제층(12)의 물성, 치수 등은, 예컨대 일본 공개특허공보 제2018-28573호에 상술된다.
<도전성 필름>
도전성 필름(13)은, 도전층(16)과, 기재층(17)을 이측을 향하여 순서대로 구비한다.
<도전층>
도전층(16)은 소정 패턴을 갖는다. 도전층(16)의 표면 및 측면은 제1 점착제층(12)에 접촉한다. 도전층(16)의 재료로서는, 예컨대 금속 산화물, 도전성 섬유(섬유), 금속 등을 들 수 있다. 금속 산화물로서는, 예컨대 인듐 아연 복합 산화물(IZO), 인듐 갈륨 아연 복합 산화물(IGZO), 인듐 갈륨 복합 산화물(IGO), 인듐 주석 복합 산화물(ITO), 안티몬 주석 복합 산화물(ATO) 등의 복합 산화물 등을 들 수 있다. 도전성 섬유로서는, 예컨대 금속 나노와이어, 카본 나노튜브 등을 들 수 있다. 금속으로서는, 예컨대 금, 백금, 은, 구리 등을 들 수 있다. 도전층(16)은, 면 방향 중앙부에 위치하는 센서 전극부(18)와, 센서 전극부(18)에 주변에 위치하는 인출 배선부(19)를 일체적으로 포함한다. 도전층(16)의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2017-102443호, 일본 공개특허공보 제2014-113705호, 일본 공개특허공보 제2014-219667호 등에 기재된다.
<기재층>
기재층(17)은 도전층(16)의 이면 및 제1 점착제층(12)의 이면에 배치되어 있다. 기재층(17)은 면 방향으로 연장된다. 기재층(17)은, 예컨대 수지층이다. 기재층(17)의 재료로서는, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로올레핀폴리머(COP) 등의 올레핀 수지, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지, 예컨대 폴리(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지, 예컨대 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리스티렌 수지 등의 수지를 들 수 있다. 기재층(17)의 상세는, 예컨대, 일본 공개특허공보 제2018-181722호 등에 기재된다.
<제2 점착제층>
제2 점착제층(14)은 도전성 필름(13)의 이면에 배치되어 있다. 구체적으로는, 제2 점착제층(14)은 도전성 필름(13)의 이면의 전부에 접촉하고 있다. 제2 점착제층(14)의 재료는 제1 점착제층(12)의 재료와 마찬가지이다.
<화상 표시 부재>
화상 표시 부재(15)는 유기 EL 표시 장치(10)의 이면을 형성한다. 화상 표시 부재(15)는 도전성 필름(13)의 이측에 제2 점착제층(14)을 개재하여 배치되어 있다. 화상 표시 부재(15)는 면 방향으로 연장된다. 화상 표시 부재(15)는 구체적으로는 유기 EL 소자이다. 예컨대, 화상 표시 부재(15)는 도시하지 않지만, 표시 기판과, 2개의 전극과, 2개의 전극 사이에 끼워지는 유기 EL층과, 봉지층을 포함한다. 또한, 화상 표시 부재(15)의 구성, 물성 등은, 예컨대 일본 공개특허공보 제2018-28573호에 상술된다.
<일 실시형태의 작용 효과>
이 광학 적층체(1)에서는, 접합층(3)의 두께에 대한, 25℃에서의 접합층(3)의 탄성률의 비가, 1.0×104[Pa/㎛] 이상이다. 그 때문에, 접합층(3)의 탄성률이 높은 경우(i-a)와, 접합층(3)이 얇은 경우(ii-a)가 상정된다. 접합층(3)의 탄성률이 높은 경우(i-a)에는, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 접합층(3)이 얇은 경우(ii-a)에는, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량을 작게 할 수 있는(유리판(2)의 접합층(3)에 대한 내려앉음을 억제할 수 있는) 점에서, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 그 때문에, 이 광학 적층체는 내충격성이 우수하다.
그러나, 이 광학 적층체(1)에서는, 또한 보호 부재(4)의 두께에 대한 25℃에서의 보호 부재(4)의 탄성률의 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상이다. 그 때문에, 보호 부재(4)의 탄성률이 높은 경우(iii-a)와, 보호 부재(4)가 얇은 경우(iv-a)가 상정된다. 보호 부재(4)의 탄성률이 높은 경우(iii-a)에는, 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 보호 부재(4)가 얇은 경우(iv-a)에는, 외력이 부여되었을 때의 유리판(2)의 두께 방향의 변위량을 작게 할 수 있는(유리판(2)의 보호 부재(4)에 대한 내려앉음을 억제할 수 있는) 점에서, 역시 유리판(2)의 손상을 충분히 억제할 수 있다.
따라서, 이 광학 적층체(1)는 내충격성이 우수하다.
단, 본 발명에서는, 접합층(3)에서의 두께에 대한 탄성률의 비와, 보호 부재(4)에서의 두께에 대한 탄성률의 비가, 각각, 그들의 하한 이상인 것에 의해, 광학 적층체(1)의 내충격성이 우수하다. 즉, 접합층(3)에서의 두께에 대한 탄성률의 비, 및 보호 부재(4)에서의 두께에 대한 탄성률의 비 중 어느 한쪽이라도, 그들의 하한을 하회하면, 상기한 우수한 충격성을 얻을 수 없다.
이 유기 EL 표시 장치(10)는, 내충격성이 우수한 광학 적층체(1)를 구비하기 때문에, 내충격성이 우수하다.
<광학 적층체의 내충격성의 평가>
광학 적층체(1)의 내충격성은, 예컨대 하기의 펜 드롭 시험에 의해 평가된다.
<펜 드롭 시험>
도 1의 가상선으로 나타내는 바와 같이, 유리판(2)이 상측을 향하고, 보호 부재(4)가 하측을 향하도록 하여, 광학 적층체(1)를 제2 유리판(35)의 상면에 둔다. 제2 유리판(35)은 스테인리스판(36)의 상면에 배치되어 있다. 제2 유리판(35)의 두께는 1.1mm이다. 스테인리스판(36)의 두께는 5cm이다. 또한, 도 2에 나타내는 바와 같이, 유리판(2)(도 1 참조)의 상면의 중앙부의 둘레부에 금속제의 지그(29)를 배치한다. 지그(29)의 중앙부에는 두께 방향을 관통하는 개구가 마련되어 있다. 유리판(2)(도 1 참조)의 중앙부는 지그(29)의 개구로부터 노출된다. 또한, 지그(29)의 상면에 가이드(30)를 세운다. 가이드(30)는 제1판(31)과 제2판(32)을 구비한다. 제1판(31)과 제2판(32)은 어느 것도 연직 방향으로 연장된다. 제1판(31)과 제2판(32)은 평면시 대략 L 형상으로 배치된다. 제1판(31)의 하나의 횡변(34)은 제2판(32)의 하나의 횡변(45)과 접촉한다. 제1판(31)에는 도시하지 않은 자가 마련되어 있다.
이어서, 임의의 높이에서 펜(28)을 낙하시키는 펜 드롭 시험을 실시한다. 펜(28)의 질량은 10g이다. 펜(28)은, 제1판(31)과 제2판(32)에 접촉시킨 상태에서, 유리판(2)을 향하여 낙하한다. 상기한 높이(H)는 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면과 펜(28)의 선단부(33)의 거리이다. 거리는 제1판(31)의 자에 의해 측정된다. 선단부(33)는 하측을 향하여 뾰족하다. 이 광학 적층체(1)에서는, 상기한 펜 드롭 시험에서, 유리판(2)이 균열될 때까지, 펜(28)의 낙하 높이(H)를 단계적으로 올린다. 유리판(2)에 균열이 확인되었을 때의 높이(H)를, 펜 드롭 시험에서의 높이로서 취득한다. 또한, 유리판(2)의 균열은 확대경을 이용하는 육안에 의해 확인된다. 광학 적층체(1)의 펜 드롭 시험의 높이(H)가 높으면, 내충격성이 우수한 것을 의미한다.
이 광학 적층체(1)의 펜 드롭 시험의 높이(H)는, 예컨대 330㎜ 이상, 바람직하게는 350㎜ 이상, 보다 바람직하게는 400㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 400㎜ 이상이다. 광학 적층체(1)의 펜 드롭 시험의 높이(H)의 상한은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 10,000mm이다.
또한, 이 광학 적층체(1)는 면 방향으로 간격을 두고 대향하는 2개의 변 사이를 중심으로 하여 절곡 가능(bendable)하게 구성되고, 보다 바람직하게는 절첩 가능(foldable)하다.
<변형예>
이하의 각 변형예에서, 상기한 일 실시형태와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이고, 그의 상세한 설명을 생략한다. 또한, 각 변형예는, 특기하는 것 이외에, 일 실시형태와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 일 실시형태 및 그의 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
일 실시형태에서는, 제2 광학 적층체(8)는 편광자(6)와, 광학 보상층(7)의 2층을 구비하지만, 제2 광학 적층체(8)의 층수는 한정되지 않고, 단층, 3층, 4층 이상이어도 된다.
구체적으로는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 제2 광학 적층체(8)는 추가로 제2 보호 부재(38)와 제3 점착제층(39)을 구비한다. 제2 광학 적층체(8)에서는, 제 3 점착제층(39)과, 제2 보호 부재(38)와, 편광자(6)와, 광학 보상층(7)이 이측을 향하여 순서대로 구비된다.
제2 보호 부재(38)는 편광자(6)의 표면에 배치되어 있다. 제2 보호 부재(38)는 면 방향으로 연장된다. 제2 보호 부재(38)는 편광자(6)의 표면의 전부에 접촉하고 있다. 제2 보호 부재(38)는 편광자 보호 필름으로서 기능한다. 이 경우에는, 제2 보호 부재(38)는 편광자(6)를 표측으로부터 보호한다. 제2 보호 부재(38)의 재료는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 보호 부재(4)에서 예시한 재료를 들 수 있다. 제2 보호 부재(38)의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 1㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 100㎛ 이하이다.
제3 점착제층(39)은 제2 보호 부재(38)의 표면에 배치되어 있다. 제3 점착제층(39)은 면 방향으로 연장된다. 제3 점착제층(39)은 제2 보호 부재(38)의 표면의 전부에 접촉하고 있다. 제3 점착제층(39)은 보호 부재(4)의 이면의 전부에 접촉하고 있다. 제3 점착제층(39)은 제2 보호 부재(38)를 보호 부재(4)에 점착하고 있다. 제3 점착제층(39)의 재료는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 접합층(3)의 점착제층으로 예시한 재료, 또는 제1 점착제층(12)으로 예시한 재료를 들 수 있다. 제3 점착제층(39)의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 1㎛ 이상이고, 또한, 예컨대 100㎛ 이하이다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 유기 EL 표시 장치(10)는 제2 광학 적층체(8)를 구비하지 않는다. 보호 부재(4)는 제1 점착제층(12)의 표면의 전부에 접촉하고 있다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 유기 EL 표시 장치(10)는 제2 광학 적층체(8)와, 제1 점착제층(12)과, 도전성 필름(13)과, 제2 점착제층(14)을 구비하지 않는다. 유기 EL 표시 장치(10)는, 광학 적층체(1)와, 화상 표시 부재(15)를 이측을 향하여 순서대로 구비한다. 화상 표시 부재(15)는 보호 부재(4)의 이면의 전부에 접촉하고 있다.
또한, 보호 부재(4)는 코팅층(또는 도포층)이어도 된다. 이 경우에는, 도 3이 참조되는 바와 같이, 편광자(6)의 표면에 보호 부재(4)의 재료를 포함하는 바니시를 도포하고, 그 후, 건조시켜 코팅층인 보호 부재(4)를 형성한다.
도 1 및 도 3∼도 6에 나타내는 바와 같이, 광학 적층체(1)는 유리판(2)의 두께 방향 다른 쪽 면(이면)에 배치되는 비산 방지 필름(37)을 추가로 구비하여도 된다.
도시하지 않지만, 제2 광학 적층체(8)는 편광자(6)와 광학 보상층(7)과의 사이에 개재되는 제2 접착층을 추가로 구비할 수 있다. 제2 접착제층의 재료는, 예컨대 상기한 접합층(3)의 접착제층의 재료와 동일하다. 제2 접착제층의 두께는, 예컨대 0.1㎛ 이상, 또한, 예컨대 2㎛ 이하이다.
[실시예]
이하의 기재에서 이용되는 배합 비율(함유 비율), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용'에서 기재되어 있는, 그들에 대응하는 배합 비율(함유 비율), 물성값, 파라미터 등 해당 기재의 상한값('이하', '미만'으로 정의되어 있는 수치) 또는 하한값('이상', '초과'로 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다. 또한, 이하의 기재에서 특별히 언급이 없는 한, '부' 및 '%'는 질량 기준이다.
실시예 1
<보호 부재의 제작>
압출 장치, 그라비어 코터, 텐터식 동시 2축 연신 장치, 및 인취 장치를 구비하는 필름 제조 장치를 이용하여 광학 부재를 제작하였다. 재료로서, 일본 공개특허공보 제2017-26939호에 실시예 1에 기재된 '투명 보호 필름 1A'의 재료인 아크릴 수지(이미드화 메타아크릴산메틸-스티렌 공중합체, 유리전이온도: 120℃)를 포함하는 펠릿을 이용하였다. 아크릴 수지를 용융 압출 제막 장치로 압출하여, 필름을 제막하고, 온도 140℃의 가열로 내에서 동시 2축 연신 텐터에 의해 반송(기계) 방향(MD) 및 폭 방향(TD)으로 각각 2배로 필름을 연신하여, 두께 40㎛의 보호 부재(4)를 제작하였다.
<에폭시계 접착제 조성물의 조제>
지방족 지환식 에폭시 수지(셀록사이드 2021P, 에폭시 당량 128~133g/eq., 다이셀화학사 제조) 70질량부, 3관능 지방족 에폭시 수지(EHPE3150, 에폭시 당량 170~190g/eq., 다이셀화학사 제조) 5질량부, 옥세탄계 수지(아론옥세탄, 도아고세이사 제조) 19질량부, 실란 커플링제(KBM-403, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 , 신에츠화학공업사 제조) 4질량부, 광 산 발생제(CPI101A, 트리아릴설포늄염, 산아프로사 제조) 2질량부를 배합하여, 에폭시계 접착제 조성물을 조제하였다. 에폭시계 접착제 조성물은 접합층(3)의 경화 원료이다.
<광학 적층체의 제조>
두께 100㎛의 유리판(2)(G-leaf, 등록상표, 니혼덴키가라스사 제조)을 준비하였다. 에폭시계 접착제 조성물을 유리판(2)에 도포하였다. 에폭시계 접착제 조성물을, 유리판(2) 및 보호 부재(4) 사이에 끼워 넣었다. 그 후, 유리판(2) 측으로부터 자외선을 조사하여, 접착제 조성물을 경화시켰다. 이에 의해, 접착제층을 포함하는 접합층(3)을 형성하였다. 접합층(3)의 두께는 3㎛이었다. 이에 의해, 유리판(2)과, 접합층(3)과, 보호 부재(4)를 순서대로 구비하는 광학 적층체(1)를 제조하였다.
실시예 2
보호 부재(4)의 두께를 40㎛로부터 20㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체(1)를 제조하였다.
실시예 3
에폭시계 접착제 조성물로 접합층(3)을 형성한 것 대신, 아크릴계 접착제 조성물로 접합층(3)을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 적층체(1)를 제조하였다. 아크릴계 접착제 조성물은 이하와 같이 조제하였다. 4-히드록시부틸아크릴레이트(관능기 함유 (메트)아크릴에스테르 모노머, 오사카유기화학공업 제조) 75질량부와, N-(2-히드록시에틸)아크릴아미드(공중합성 모노머, 아미드기 함유 비닐 모노머, 코진사 제조) 25질량부를 배합하여 모노머 성분을 조제하였다. 모노머 성분 100부에 대하여, 광중합 개시제(이르가큐어 819, 바스프(BASF)사 제조) 0.5질량부를 배합하여, 아크릴계 접착제 조성물을 조제하였다.
실시예 4
접착제층으로 접합층(3)을 형성한 것 대신, 점착제층으로 접합층(3)을 형성하고, 접합층(3)의 두께를 3㎛로부터 23㎛로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 적층체(1)를 제조하였다.
점착제층은 아크릴계 점착제 조성물로 형성하였다. 점착제층의 형성 방법과 광학 적층체(1)의 제조 방법은 이하와 같다. 교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트(알킬(메트)아크릴레이트) 100부, 아크릴산(관능기 함유 비닐비닐 모노머) 5부, 2-히드록시에틸아크릴레이트(관능기 함유 비닐비닐 모노머) 0.1부, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 초산에틸 100g과 함께 투입하고, 부드럽게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액체 온도를 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합하여, 중량평균 분자량 2,200,000(GPC에 의한 표준 폴리스티렌 환산)의 베이스 폴리머의 용액을 조제하였다.
용액의 고형분(베이스 폴리머) 100부에 대하여, 이소시아네이트 가교제(도소사 제조, 코로네이트 L) 0.60부, 및 실란 커플링제(신에츠화학공업사 제조, KBM403) 0.20부를 배합하여, 아크릴계 점착제 조성물의 바니시(고형분 11%)를 조제하였다.
바니시를, 실리콘 처리를 실시한 38㎛의 PET 필름(MRF38, 미츠비시카가쿠폴리에스테르필름사 제조)의 표면에, 건조 후의 점착제층의 두께가 23㎛가 되도록 도포하고, 155℃에서 1분간 건조하여, 두께 23㎛의 점착 시트를 얻었다.
(광학 적층체의 제작)
두께 100㎛의 유리판(2)(G-leaf, 등록상표, 니혼덴키가라스사 제조)을 준비하였다. 점착 시트를 PET 필름으로부터 유리판(2)으로 전사하였다. 이에 의해, 접합층(3)을 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면에 형성하였다. 그 후, 실시예 2에 기재된 보호 부재(4)를 접합층(3)에 첩합하였다. 이에 의해, 유리판(2)과, 점착제층인 접합층(3)과, 보호 부재(4)를 순서대로 구비하는 광학 적층체(1)를 제조하였다.
비교예 1
(광학 적층체의 제작)
보호 부재(4)를, 두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로오스계 필름(KC8UA, 코니카사 제조)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로하여, 광학 적층체(1)를 제조하였다.
비교예 2
접합층(3)을 하기의 점착제층으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 적층체(1)를 제조하였다.
라우릴아크릴레이트 35질량부, 2-에틸헥실아크릴레이트 49질량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 7질량부, N-비닐-2-피롤리돈 9질량부, 및 광중합 개시제(이르가큐어 184, 바스프(BASF) 제조) 0.015 질량부를 배합하고, 자외선을 조사하여 중합하여, 프리폴리머 조성물(중합률: 10%)을 얻었다.
메타크릴산디시클로펜타닐 60질량부 및 메타크릴산메틸 40질량부, α-티오글리세롤 3.5질량부, 및 톨루엔 100질량부를 혼합하고, 질소 분위기 하에서 70℃에서 1시간 교반하였다. 다음으로, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2질량부를 투입하고, 70℃에서 2시간 반응시킨 후, 80℃로 승온하여 2시간 반응시켰다. 그 후, 반응액을 130℃로 가열하여, 톨루엔, α-티오글리세롤 및 미반응 모노머를 건조 제거하여, 고형상의 아크릴 올리고머를 얻었다. 아크릴 올리고머의 중량평균 분자량은 5100, 유리전이온도(Tg)는 130℃이었다.
(점착 조성물의 조제)
프리폴리머 조성물 100질량부에, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 0.07질량부, 아크릴 올리고머 3질량부, 및 실란 커플링제(KBM-403, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 신에츠화학공업사 제조) 0.3질량부를 첨가한 후, 이들을 균일하게 배합하여 광경화성의 점착제 조성물을 조제하였다.
표면에 실리콘계 이형층이 마련된 두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(미츠비시케미컬 제조 '다이아호일 MRF75') 위에, 점착제 조성물을 두께 50㎛가 되도록 도포하여 도포층을 형성하였다. 이 도포층 위에, 커버 시트로서 편면이 실리콘 박리 처리된 두께 75㎛의 PET 필름(미츠비시케미컬 제조 '다이아호일 MRE75')을 첩합하였다. 이 적층체에, 커버 시트 측으로부터, 램프 바로 아래의 조사면에서의 조사 강도가 5mW/㎠가 되도록 위치 조절한 블랙 라이트에 의해, 자외선을 조사하여 광경화시켜, 두께 50㎛의 점착 시트를 얻었다.
상기 점착 시트를 유리판(2)에 전사하여, 유리판(2)의 두께 방향 한쪽 면에, 점착제층인 접합층(3)을 형성하였다. 그 후, 실시예 1의 보호 부재(4)를 접합층(3)에 첩합하였다. 이에 의해, 유리판(2)과, 접합층(3)과, 보호 부재(4)를 순서대로 구비하는 광학 적층체를 제조하였다.
<평가>
이하의 항목을 평가하였다. 그들 결과를 표 1에 나타낸다.
[보호 부재의 탄성률]
보호 부재(4)의 탄성률을 나노인덴터법으로 측정하였다.
나노 인덴터법은, Triboindenter(하이지트론(Hysitron Inc.) 제조)를 이용하고, 이하의 측정 조건에서 측정하였다.
샘플 사이즈：10×10mm
압자：Concial(구형(球形) 압자：곡률 반경 10㎛),
측정 방법：단일 압입 측정
측정 온도：실온
압자의 접촉：광학 적층체(1)에서의 보호 부재(4)에 압자를 접촉시켜, 보호 부재(4)의 탄성률을 측정하였다.
온도: 25℃
압자의 압입 깊이: 700nm
해석: 하중-변위 곡선에 기초한 올리버 파(Oliver Pharr) 해석
그리고, 보호 부재(4)의 두께에 대한 보호 부재(4)의 탄성률의 비를 구하였다. 그들의 비를 표 1에 기재한다.
[접합층의 탄성률]
접합층(3)의 탄성률을 나노인덴터법으로 측정하였다. 하기의 측정 조건을 변경한 것 이외에는, 보호 부재(4)의 탄성률과 마찬가지로 처리하였다.
<샘플 조제>
실시예 1에서 이용한 에폭시계 접착제 조성물, 또는 실시예 3에서 이용한 아크릴계 접착제 조성물을, 실시예 1에서 이용한 보호 부재(4)의 표면에 도포하였다. 그 후, 접착 조성물을 보호 부재(4)와 이형 필름 사이에 끼워 넣고, 이형 필름 측으로부터 자외선을 조사하여, 접착 조성물을 경화시켰다. 접합층(3)이 점착제인 경우, 실시예 4 및 비교예 2에 기재된 점착 시트를 준비하였다.
<압자의 접촉>: 이형 필름을 제거함으로써, 접합층(3)을 노출시킨 후, 광학 적층체(1)에서의 접합층(3)에 압자를 접촉시켜, 접합층(3)의 탄성률을 측정하였다.
<압자의 압입 깊이>
접착제층을 포함하는 접합층(3)에 대한 압자의 압입 깊이: 100nm
접착제층은 실시예 1∼실시예 3과 비교예 1과의 접합층(3)에 상당한다.
점착제층을 포함하는 접합층(3)에 대한 압자의 압입 깊이: 1500nm
점착제층은 실시예 4와 비교예 2와의 접합층(3)에 상당한다.
<해석>
접착제층을 포함하는 접합층(3)의 해석: 하중-변위 곡선에 기초한 Oliver Pharr 해석
접착제층을 포함하는 접합층(3)의 해석: 하중-변위 곡선에 기초한 JKR 해석
[펜 드롭 시험에 의한 광학 적층체의 내충격성 평가]
광학 적층체(1)에 대하여 펜 드롭 시험을 실시하여, 광학 적층체(1)의 내충격성을 평가하였다. 도 1의 가상선으로 나타내는 바와 같이, 유리판(2)이 상측을 향하고, 보호 부재(4)가 하측을 향하도록 하여, 광학 적층체(1)를 제2 유리판(35)의 상면에 두었다. 제2 유리판(35)은 스테인리스판(36)의 상면에 배치되어 있다. 제2 유리판(35)의 두께는 1.1mm이다. 스테인리스판(36)의 두께는 5cm이다. 또한, 도 3에 나타내는 바와 같이, 유리판(2)의 상면의 중앙부의 둘레부에, 금속제의 지그(29)를 배치하였다. 지그(29)의 중앙부에는 두께 방향을 관통하는 개구가 마련되어 있다. 유리판(2)의 중앙부는 지그(29)의 개구로부터 노출된다. 또한, 지그(29)의 상면에 가이드(30)를 세웠다.
이어서, 임의의 높이로부터 펜(28)을 낙하시키는 펜 드롭 시험을 실시하였다. 펜(28)의 질량은 10g이다. 펜(28)을 제1판(31)과 제2판(32)에 접촉시킨 상태에서, 유리판(2)을 향하여 낙하시켰다. 거리를 제1판(31)의 자에 의해 측정하였다. 유리판(2)에 균열이 확인되었을 때의 높이(H)를, 펜 드롭 시험에서의 높이로서 취득하였다. 높이(H)를 하기의 기준에 기초하여 광학 적층체(1)의 내충격성을 평가하였다.
<기준>
◎: 높이(H)는 450mm 이상이었다.
○: 높이(H)는 330mm 이상, 450mm 미만이었다.
×: 높이(H)는 330mm 미만이었다.
[표 1]
Figure pct00003
또한, 상기 발명은 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공되었지만, 이것은 단지 예시에 불과하며, 한정적으로 해석되어서는 안된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는 후술하는 청구범위에 포함된다.
광학 적층체는 화상 표시 장치에 구비된다.
1: 광학 적층체
2: 유리판
3: 접합층
4: 보호 부재
10: 유기 EL 표시 장치
15: 화상 표시 부재

Claims (2)

  1. 유리판과, 접합층과, 보호 부재를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비하고,
    상기 접합층은 상기 유리판의 두께 방향 한쪽 면 및 상기 보호 부재의 두께 방향 다른 쪽 면과 접촉하며,
    상기 접합층의 두께에 대한, 나노인덴터법으로 측정되는 상기 접합층의 탄성률의 비가 1.0×104[Pa/㎛] 이상이고,
    상기 보호 부재의 두께에 대한, 나노인덴터법으로 측정되는 상기 보호 부재의 탄성률의 비가 1.0×108[Pa/㎛] 이상인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  2. 제1항에 기재된 광학 적층체와,
    화상 표시 부재를 두께 방향 한쪽 측을 향하여 순서대로 구비하는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치.
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