KR20230008237A - 방향성 전기 강판의 제조 설비 - Google Patents
방향성 전기 강판의 제조 설비 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20230008237A KR20230008237A KR1020227045545A KR20227045545A KR20230008237A KR 20230008237 A KR20230008237 A KR 20230008237A KR 1020227045545 A KR1020227045545 A KR 1020227045545A KR 20227045545 A KR20227045545 A KR 20227045545A KR 20230008237 A KR20230008237 A KR 20230008237A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- film formation
- steel sheet
- chamber
- grain
- oriented electrical
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 56
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title description 102
- 239000010959 steel Substances 0.000 title description 102
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 128
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims abstract description 118
- 229910001224 Grain-oriented electrical steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 46
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 43
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 5
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 12
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 9
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 4
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCZFLPPCFOHPNI-UHFFFAOYSA-N alumane;iron Chemical compound [AlH3].[Fe] KCZFLPPCFOHPNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000018936 Vitellaria paradoxa Nutrition 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- -1 silicate phosphate Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0206—Manufacturing of magnetic cores by mechanical means
- H01F41/0213—Manufacturing of magnetic circuits made from strip(s) or ribbon(s)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5886—Mechanical treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
- C23C16/0245—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching by etching with a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0254—Physical treatment to alter the texture of the surface, e.g. scratching or polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4409—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber characterised by sealing means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45557—Pulsed pressure or control pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/56—After-treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
성막실 내를 통과하는 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판의 표면 상에, 감압 조건하에서 성막을 실시한다. 상기 성막실의 입측에 배치된 복수 단의 입측 감압실은, 상기 성막실에 접근함에 따라, 내압이 상기 성막실의 내압에 근접해진다. 상기 성막실의 출측에 배치된 복수 단의 출측 감압실은, 상기 성막실로부터 이반함에 따라, 내압이 대기압에 근접해진다. 상기 입측 감압실 및 상기 출측 감압실은, 각 감압실을 규정하고, 또한 방향성 전기 강판이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 통판공이 형성된 구분판과, 상기 구분판에 있어서의 상기 통판공의 상하측에 배치된 시일 패드를 구비한다. 이로써, 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판의 파손을 억제한다.
Description
본 발명은, 방향성 전기 강판의 제조 설비에 관한 것이다.
방향성 전기 강판은, 변압기 및 발전기 등의 철심 재료로서 사용되는 연자성 재료이다. 방향성 전기 강판은, 철의 자화 용이 축인 <001> 방위가, 강판의 압연 방향으로 고도로 정렬된 결정 조직을 갖는 것이 특징이다. 이와 같은 집합 조직은, 방향성 전기 강판의 제조 공정에 있어서, 이른바 Goss 방위라고 칭해지는 {110} <001> 방위의 결정립을 우선적으로 거대 성장시키는, 마무리 어닐링을 통하여 형성된다. 방향성 전기 강판의 제품의 자기 특성으로는, 자속 밀도가 높고, 철손이 낮을 것이 요구된다.
방향성 전기 강판의 자기 특성은, 강판 표면에 인장 응력 (장력) 을 인가함으로써 양호해진다. 강판에 인장 응력을 인가하는 종래 기술로는, 강판 표면에 두께 2 ㎛ 정도의 포스테라이트 피막을 형성하고, 그 위에 두께 2 ㎛ 정도의 규인산염을 주체로 하는 피막을 형성하는 기술이 일반적이다.
즉, 강판과 비교하여 낮은 열팽창률을 갖는 규인산염 피막을 고온에서 형성하고, 그것을 실온까지 저하시켜, 강판과 규인산염 피막의 열팽창률의 차에 의해, 강판에 인장 응력을 인가한다.
이 규인산염 피막은, 방향성 전기 강판에 필수인 절연 피막으로서도 기능한다. 즉, 절연에 의해, 강판 중의 국부적인 와전류의 발생이 방지된다.
마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판의 표면을 화학 연마 또는 전해 연마에 의해 평활화하고, 그 후, 강판 상의 피막에 의해 인장 응력을 인가함으로써, 철손을 크게 저하시킬 수 있다.
그러나, 강판과 규인산염 피막 사이에 있는 포스테라이트 피막은, 앵커 효과에 의해 강판에 밀착된다. 그 때문에, 필연적으로 강판 표면의 평활도는 열화된다. 또, 규인산염과 금속의 밀착성은 낮아, 표면을 경면화한 강판에 직접 규인산염 피막을 성막할 수 없다. 이와 같이, 종래의 방향성 전기 강판의 피막 구조 (강판/포스테라이트 피막/규인산염 피막) 에 있어서는, 강판의 표면을 평활화할 수는 없다.
그래서, 특허문헌 1 에 있어서는, 강판 표면의 평활도를 유지하고, 또한 강판에 큰 인장 응력을 인가하기 위해, 강판 상에 CVD 법 또는 PVD 법에 의해, TiN 등으로 이루어지는 세라믹스 피막을 성막하고 있다. 이 성막은, 감압 조건하에서 400 ℃ 이상의 고온에서 실시된다.
특허문헌 2 에는, 이와 같은 성막을 실시하기 위한 제조 설비가 개시되어 있다.
방향성 전기 강판 (강판) 에 대하여 실시되는 마무리 어닐링은, 고온에서 장시간의 열처리를 수반하기 때문에, 통상적으로, 강판을 코일 단위로 어닐링하는「배치 어닐링」으로서 실시된다.
배치 어닐링에서는, 일반적으로, 강판 코일을, 권취축을 수직 방향으로 한 방향에서 코일 받침대 상에 재치 (載置) 하고, 커버를 씌우고, 커버 내부의 강판 코일을 외부로부터 가열함으로써, 어닐링한다.
이 때문에, 배치 어닐링 중의 강판 코일은, 하측 (코일 받침대측) 부분이 자중에 의해 찌부러지는 경우가 있다. 그러면, 배치 어닐링 (마무리 어닐링) 을 거친 방향성 전기 강판은, 판 폭 방향으로 완전히 플랫하지 않고, 편측이 기복이 있는 등의 변형이 발생하고 있는 경우가 있다.
이와 같이 변형된 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판을, 특허문헌 2 의 제조 설비에 제공하여 성막하려고 하면, 문제가 발생하는 경우가 있다.
여기서, 특허문헌 2 의 제조 설비는, 성막실 (고진공 처리조) 과, 성막실의 입측 및 출측에 배치된 복수 단의 감압실 (예비 배기조 열 (列)) 을 갖는데, 복수 단의 감압실은, 통판공이 형성된 구분판에 의해 구획되어 있고, 이 통판공에는 핀치 롤이 형성되어 있다 (특허문헌 2 의 제 1 도를 참조).
즉, 특허문헌 2 의 제조 설비에 제공된 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판은, 성막실의 입측 및 출측의 감압실에 형성된 핀치 롤에 핀치되는데, 그 때, 변형 부분이 가압되어 찌부러져, 균열 등의 파손을 발생시키는 경우가 있다.
본 발명은, 이상의 점을 감안하여 이루어진 것으로서, 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판의 파손이 억제되는, 방향성 전기 강판의 제조 설비를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 하기 구성을 채용함으로써, 상기 목적이 달성되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 이하의 [1] ∼ [7] 을 제공한다.
[1] 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판을 반송하는 반송 기구와, 상기 반송되는 방향성 전기 강판이 통판되는 성막실을 갖고, 상기 성막실 내의 성막 영역을 통과하는 방향성 전기 강판의 표면 상에, 감압 조건하에서 성막을 실시하는 성막 설비와, 상기 성막실의 입측에 배치되고, 상기 성막 전의 방향성 전기 강판이 통판되는 복수 단의 입측 감압실을 갖고, 상기 성막실에 접근함에 따라 상기 입측 감압실의 내압이 상기 성막실의 내압에 근접해지는 입측 감압 설비와, 상기 성막실의 출측에 배치되고, 상기 성막 후의 방향성 전기 강판이 통판되는 복수 단의 출측 감압실을 갖고, 상기 성막실로부터 이반함에 따라 상기 출측 감압실의 내압이 대기압에 근접해지는 출측 감압 설비를 구비하고, 상기 입측 감압실 및 상기 출측 감압실은, 각 감압실을 규정하고, 또한 방향성 전기 강판이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 통판공이 형성된 구분판과, 상기 구분판에 있어서의 상기 통판공의 상하측에 배치된 시일 패드를 구비하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[2] 상기 성막 설비가, CVD 법 또는 PVD 법에 의해, 상기 성막을 실시하는, 상기 [1] 에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[3] 상기 성막실 내에 있어서의 상기 성막 영역보다 반송 방향 하류측에 배치되고, 상기 성막 후의 방향성 전기 강판이 통판되는 냉각 롤을 추가로 구비하는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[4] 상기 냉각 롤이, 브라이들 롤인, 상기 [3] 에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[5] 상기 성막실보다 반송 방향 상류측에 배치되고, 상기 반송되는 방향성 전기 강판의 표면을 연마하는 연마 설비를 추가로 구비하는, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[6] 상기 입측 감압실과 상기 성막실 사이에 배치된 전처리실을 갖고, 상기 전처리실에 도입된 상기 성막 전의 방향성 전기 강판의 표면에 대하여 불순물을 제거하는 전처리를 실시하는 전처리 설비를 추가로 구비하는, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
[7] 상기 전처리실과 상기 성막실을 구획하는 격벽이 형성되고, 상기 격벽에는, 방향성 전기 강판이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 격벽 통판공이 형성되고, 상기 격벽에 있어서의 상기 격벽 통판공의 상하측에, 상기 시일 패드가 배치되어 있는, 상기 [6] 에 기재된 방향성 전기 강판의 제조 설비.
본 발명에 의하면, 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판의 파손이 억제되는, 방향성 전기 강판의 제조 설비를 제공할 수 있다.
도 1 은, 제조 설비를 개략적으로 나타내는 모식도이다.
도 2 는, 제조 설비의 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다.
도 3 은, 제조 설비의 다른 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다.
도 4 는, 냉각 롤의 변형예를 나타내는 모식도이다.
도 2 는, 제조 설비의 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다.
도 3 은, 제조 설비의 다른 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다.
도 4 는, 냉각 롤의 변형예를 나타내는 모식도이다.
이하, 본 발명의 방향성 전기 강판의 제조 설비 (이하, 간단히「제조 설비」라고도 한다) 의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되지 않는다.
도 1 은, 제조 설비 (1) 를 개략적으로 나타내는 모식도이다. 도 1 에 나타내는 제조 설비 (1) 는, 페이오프 릴 (19) 을 갖는다. 페이오프 릴 (19) 에는, 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) (이하, 간단히「강판 (S)」으로도 표기한다) 의 통판 전 코일 (11) (이하, 간단히「코일 (11)」로도 표기한다) 이 걸려 있다. 페이오프 릴 (19) 로부터 인출된 강판 (S) 은, 제조 설비 (1) 의 각 부에서 통판되고, 권취 릴 (20) 로 다시 권취되어, 통판 후 코일 (18) 이 된다. 이렇게 하여, 강판 (S) 이 반송된다. 즉, 페이오프 릴 (19) 및 권취 릴 (20) 등이, 강판 (S) 을 반송하는 반송 기구를 구성한다.
마무리 어닐링을 거친 방향성 전기 강판은, 통상적으로, 포스테라이트 피막을 갖는다.
이하에서는, 코일 (11) 로서 권회되어 있는 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) 은, 포스테라이트 피막을 갖는 것으로 하여 설명하지만, 포스테라이트 피막 등의 산화물 피막을 갖지 않는 것이어도 된다. 후자의 경우, 후술하는 연마 설비 (13) 를 생략할 수 있기 때문에, 저비용화할 수 있다. 전자의 경우에도, 연마 설비 (13) 에서의 연마량을 줄여 저비용화하기 위해서는, 포스테라이트 피막 등의 산화물 피막은 극박인 것이 바람직하다.
제조 설비 (1) 는, 강판 (S) 의 반송 방향순으로, 입측 루퍼 (12), 연마 설비 (13), 수세 설비 (14), 건조 설비 (15), 입측 감압 설비 (21), 전처리 설비 (31), 성막 설비 (41), 출측 감압 설비 (51), 출측 루퍼 (16), 및 시어 (17) 를 갖는다.
입측 감압 설비 (21) 는, 복수 단의 입측 감압실 (22) 을 갖는다. 전처리 설비 (31) 는, 전처리실 (32) 을 갖는다. 성막 설비 (41) 는, 성막실 (42) 을 갖는다. 출측 감압 설비 (51) 는, 복수 단의 출측 감압실 (52) 을 갖는다.
입측 감압실 (22), 전처리실 (32), 성막실 (42), 및 출측 감압실 (52) 의 내부를 제외하고, 강판 (S) 은, 대기압 분위기 내에서 반송된다.
코일 (11) 로부터 인출된 포스테라이트 피막을 갖는 강판 (S) 은, 입측 루퍼 (12) 를 통과하여, 연마 설비 (13) 에 도입된다. 연마 설비 (13) 는, 성막실 (42) 보다 반송 방향 상류측에 배치되어 있다.
연마 설비 (13) 는, 도입된 강판 (S) 의 표면을 연마한다. 연마 설비 (13) 에 있어서의 연마로는, 특별히 한정되지 않고, 기계 연마, 전해 연마 및 화학 연마 중 어느 것을 사용해도 되고, 이들 연마의 2 개 이상을 조합한 연마여도 되지만, 연삭 등의 기계 연마를 처음에 실시하는 것이 바람직하다. 그렇게 함으로써, 전해 연마 및 화학 연마에서는 강판 (S) 의 지철 (地鐵) 보다 피연마 속도가 느린 산화물 피막을 용이하게 제거할 수 있어, 최종적인 표면 조도를 저감시킬 수 있다. 연마 후의 강판 (S) 의 표면 조도는, 산술 평균 조도 Ra 로 0.4 ㎛ 이하가 바람직하다.
연마 설비 (13) 에서의 연마시에는, 강판 (S) 으로부터 연마 부스러기가 발생한다. 수세 설비 (14) 및 건조 설비 (15) 는, 강판 (S) 을 수세한 후에 건조시킴으로써, 강판 (S) 으로부터 발생한 연마 부스러기를 제거한다. 수세 및 건조에는, 종래 공지된 기술이 사용된다.
연마 부스러기가 제거된 강판 (S) 은, 입측 감압 설비 (21) 의 입측 감압실 (22) 에 도입된다. 복수 단의 입측 감압실 (22) 의 내압은, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 에 접근함에 따라, 단계적으로 감소한다. 이렇게 하여, 강판 (S) 에 가해지는 압이, 대기압으로부터 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 내압에 근접해진다.
입측 감압실 (22) 을 통과한 강판 (S) 은, 전처리 설비 (31) 의 전처리실 (32) 에 도입되고, 감압 조건하에서 전처리가 실시되어, 표면에 부착된 불순물이 제거된다.
전처리가 실시된 강판 (S) 은, 성막 설비 (41) 의 성막실 (42) 에 도입된다. 성막실 (42) 의 내부의 성막 영역 (43) 을 통과하는 강판 (S) 의 표면 상에, 감압 조건하에서 성막이 실시된다.
성막 후의 강판 (S) 은, 출측 감압 설비 (51) 의 출측 감압실 (52) 에 도입된다. 복수 단의 출측 감압실 (52) 의 내압은, 성막실 (42) 로부터 이반함에 따라, 단계적으로 상승한다. 이렇게 하여, 강판 (S) 에 가해지는 압이, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 내압으로부터 대기압으로 되돌려진다.
출측 감압 설비 (51) 를 나온 강판 (S) 은, 그 후, 출측 루퍼 (16) 를 통과하여, 시어 (17) 에 도입된다. 시어 (17) 는, 강판 (S) 의 단부 (端部) 를 잘라버려 정형한다. 정형 후의 강판 (S) 은, 권취 릴 (20) 에 권취되어, 통판 후 코일 (18) 이 된다.
다음으로, 입측 감압 설비 (21), 전처리 설비 (31), 성막 설비 (41), 및 출측 감압 설비 (51) 를 보다 상세하게 설명한다.
도 2 는, 제조 설비 (1) 의 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다. 먼저, 도 2 에 기초하여, 입측 감압 설비 (21) 를 보다 상세하게 설명한다.
입측 감압 설비 (21) 가 갖는 복수 단의 입측 감압실 (22) 은, 전처리실 (32) 을 개재하여, 성막실 (42) 의 입측에 배치되어 있다. 편의적으로, 각각의 입측 감압실 (22) 을, 강판 (S) 의 반송 방향순으로, 입측 감압실 (22a), 입측 감압실 (22b), 및 입측 감압실 (22c) 이라고 부른다.
성막실 (42) 에서의 성막 (및, 전처리실 (32) 에서의 전처리) 은, 감압 조건하에서 실시한다. 예를 들어, 대기압 조건하에 있는 강판 (S) 이 직접 성막실 (42) 또는 전처리실 (32) 에 도입된 경우, 압력차에 의해, 강판 (S) 이 크게 사행할 우려가 있다.
이 때문에, 입측 감압 설비 (21) 에서는, 복수 단의 입측 감압실 (22) 에 있어서, 단계적으로 내압을 감소시킨다. 이로써, 압력차에 의한 강판 (S) 의 사행을 억제할 수 있다. 입측 감압실 (22) 의 단수는, 2 단 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 효율적으로 내압을 낮추는 관점에서는 3 단 이상이 바람직하다.
각각의 입측 감압실 (22) 은, 복수 장의 구분판 (24) 에 의해 규정되어 있다. 구분판 (24) 에는, 강판 (S) 이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 통판공 (25) 이 형성되어 있다.
구분판 (24) 은, 입측 감압실 (22) 끼리를 구분하는 구분판 뿐만 아니라, 외부 환경에 접하는 구분판 (도 2 중, 입측 감압실 (22a) 의 우측을 규정하는 구분판 (24)), 및 전처리실 (32) 에 접하는 구분판 (도 2 중, 입측 감압실 (22c) 의 좌측을 규정하는 구분판 (24)) 등도 포함한다.
또한, 입측 감압실 (22) 에는, 배기구 (23) 가 형성되어 있다. 배기구 (23) 로부터 입측 감압실 (22) 의 내부의 가스가 배기되어, 입측 감압실 (22) 은 감압된다. 입측 감압실 (22) 의 내부의 압력 (내압) 은, 성막실 (42) 에 접근함에 따라 단계적으로 감소한다. 즉, 입측 감압실 (22a), 입측 감압실 (22b), 및 입측 감압실 (22c) 의 순으로, 각 내압은 서서히 대기압에 가까운 압으로부터, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 내압에 근접해진다.
입측 감압 설비 (21) 에 있어서는, 통판공 (25) 으로부터 유입되는 대기량, 및 강판 (S) 의 표면으로부터 휘발되는 가스량 등을 고려하여, 원하는 내압이 되도록, 배기구 (23) 로부터 배기를 실시한다.
그런데, 상기 서술한 바와 같이, 종래의 제조 설비 (특허문헌 2 의 제 1 도를 참조) 에 있어서는, 구분판 (24) 의 통판공 (25) 에 핀치 롤이 형성되어 있다. 강판 (S) 이 배치 어닐링 중에 변형되어 있는 경우에는, 핀치 롤에 핀치되면, 변형 부분이 가압되어 찌부러져, 균열 등의 파손을 발생시킬 수 있다.
그래서, 본 실시형태에 있어서는, 핀치 롤 대신에, 구분판 (24) 에 있어서의 통판공 (25) 의 상하측에 시일 패드 (81) 가 배치되어 있다. 강판 (S) 은, 시일 패드 (81) 의 갭을 통과하기 때문에, 가령 강판 (S) 이 변형되어 있어도, 핀치에 의한 가압이 회피되어, 균열 등의 파손을 방지할 수 있다.
입측 감압실 (22) 의 내부의 가스는, 구분판 (24) 의 통판공 (25) 을 통과할 때에, 유로의 단면적이 축소되기 때문에, 유속이 증대된다. 이로써, 통판공 (25) 을 통과하는 강판 (S) 은 덜걱거려, 구분판 (24) 에 있어서의 통판공 (25) 의 상하측에 부딪치는 경우가 있다.
그러나, 본 실시형태에 있어서는, 구분판 (24) 에 있어서의 통판공 (25) 의 상하측에 시일 패드 (81) 가 배치되어 있다. 시일 패드 (81) 의 재질은, 일례로서, 유연성을 갖는 수지이다. 이 때문에, 가령 통판공 (25) 을 통과하는 강판 (S) 이 덜걱거려, 구분판 (24) 에 있어서의 통판공 (25) 의 상하측에 부딪쳐도, 시일 패드 (81) 가 존재하기 때문에, 강판 (S) 의 흠집 발생 등이 방지된다. 시일 패드 (81) 가 수지제이면, 시일 패드 (81) 를 통과할 때에 강판 (S) 에 도입되는 변형도 감소될 수 있다.
시일 패드 (81) 끼리의 갭 (도 2 중, 부호「G」로 나타낸다) 은, 감압 분위기를 유지하기 쉽다는 이유에서, 3.0 ㎜ 이하가 바람직하고, 강판 (S) 의 표면을 잘 손상시키지 않고, 또한 감압 분위기를 용이하게 유지할 수 있다는 이유에서, 1.0 ∼ 2.0 ㎜ 가 보다 바람직하다.
다음으로, 도 1 및 도 2 에 기초하여, 전처리 설비 (31) 및 성막 설비 (41) 를 보다 상세하게 설명한다.
입측 감압실 (22) 을 거친 강판 (S) 은, 전처리 설비 (31) 의 전처리실 (32) 에 도입되고, 감압 조건하에서, 강판 (S) 의 표면 상에 부착된 산화물 등의 불순물을 제거하는 전처리가 실시된다.
성막 전에 전처리를 실시함으로써, 성막 설비 (41) 에서 형성되는 피막 (예를 들어, 질화물 피막) 의 강판 (S) 에 대한 밀착성이 현저하게 향상된다. 이 때문에, 전처리 설비 (31) 는, 필수의 설비는 아니지만, 형성하는 것이 바람직하다.
전처리 방법으로는, 이온 스퍼터링이 바람직하다. 이온 스퍼터링의 경우, 사용하는 스퍼터 재료의 이온종으로는, 아르곤 및 질소 등의 불활성 가스의 이온, 또는, Ti 및 Cr 등의 금속의 이온이 바람직하다.
전처리실 (32) 의 내부는 감압되고, 스퍼터링 이온의 평균 자유 공정을 높이기 위해, 전처리실 (32) 의 내압은 0.0001 ∼ 30 ㎩ 이 바람직하다.
강판 (S) 을 음극으로 하여, 스퍼터 재료와의 사이에 -100 ∼ -1000 V 의 바이어스 전압을 인가하는 것이 바람직하다.
전처리가 실시된 강판 (S) 은, 성막 설비 (41) 의 성막실 (42) 에 도입된다. 성막실 (42) 의 내부의 성막 영역 (43) 을 통과하는 강판 (S) 의 표면 상에, 감압 조건하에서 성막이 실시된다.
성막법으로는, CVD (Chemical Vapor Deposition) 법 또는 PVD (Physical Vapor Deposition) 법이 바람직하다. 성막실 (42) 에는, 예를 들어, 질소 가스, TiCl4 의 가스 등의 성막을 위한 원료 가스 (분위기 가스) 가 도입된다. 성막 영역 (43) 을 통과하는 강판 (S) 은, 가열되어, 질화물 피막 등의 피막이 강판 (S) 의 표면 상에 형성된다.
강판 (S) 을 가열하는 수단으로는, 성막실 (42) 의 내부가 배기되어 감압 조건에 있는 점에서, 필연적으로 버너 등은 사용할 수 없지만, 대신에, 예를 들어, 유도 가열 (IH), 전자빔 조사, 레이저, 적외선 등의 산소를 필요로 하지 않는 수단이면 특별히 한정되지 않고, 적절히 사용된다.
CVD 법으로는, 열 CVD 법이 바람직하다. 성막 온도는 700 ∼ 1100 ℃ 가 바람직하고, 성막실 (42) 의 내부의 압력 (내압) 은 30 ∼ 1000 ㎩ 이 바람직하다.
PVD 법은, 이온 플레이팅법이 바람직하다. 성막 온도는 300 ∼ 600 ℃ 가 바람직하고, 성막실 (42) 의 내부의 압력 (내압) 은 0.10 ∼ 100 ㎩ 이 바람직하다. 성막시에는, 강판 (S) 을 음극으로 하여, 성막 원료와의 사이에 -10 ∼ -1000 V 의 바이어스 전압을 인가하는 것이 바람직하다. 성막 원료의 이온화에 플라즈마를 사용함으로써, 성막 속도를 높일 수 있다.
강판 (S) 에 성막되는 피막으로는, 질화물 피막이 바람직하고, 금속 질화물 피막이 보다 바람직하고, Zn, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ti, Y, Nb, Mo, Hf, Zr, W 및 Ta 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속을 함유하는 금속 질화물 피막이 더욱 바람직하다. 이것들은 암염형 구조를 취하기 쉽고, 강판 (S) 의 지철의 체심 입방 격자와 정합되기 쉽기 때문에, 피막의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
강판 (S) 에 성막되는 피막은, 단층으로 이루어지는 피막이어도 되고, 복수의 층으로 이루어지는 피막이어도 된다.
전처리실 (32) 및 성막실 (42) 에 있어서는, 강판 (S) 의 표면에서의 반응에 의해 생성되는 가스량, 및 투입되는 원료 가스량 등이 내압의 영향 인자가 된다. 한편, 특히 성막실 (42) 에 있어서는, 배기를 지나치게 강하게 하면, 원료 가스가 강판 (S) 까지 충분히 다다르지 않는 경우가 있다. 이들 사항을 고려하여, 원하는 내압이 되도록 배기를 실시한다.
전처리실 (32) 및 성막실 (42) 이 갖는 배기구 및 원료 가스의 투입구 등은, 도시를 생략하고 있다.
성막실 (42) 에 있어서는, CVD 법의 경우, 투입하는 원료 가스량의 0.50 ∼ 2.0 배의 배기량이 바람직하고, PVD 법의 경우, 투입하는 원료 가스량의 0.50 ∼ 1.0 배의 배기량이 바람직하다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 전처리실 (32) 과 성막실 (42) 사이에는, 양자를 구획하는 격벽 (39) 이 형성되어 있다. 격벽 (39) 에는, 구분판 (24) 의 통판공 (25) 과 동일하게, 강판 (S) 이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 격벽 통판공 (40) 이 형성되어 있다.
격벽 (39) 에 있어서의 격벽 통판공 (40) 의 상하측에도, 시일 패드 (81) 가 배치되어 있는 것이 바람직하다. 이로써, 배치 어닐링을 거친 강판 (S) 이 변형되어 있어도, 핀치에 의한 가압이 회피되어, 균열 등의 파손을 방지할 수 있다.
또한, 상기 설명에서는, 시일 패드 (81) 의 재질의 일례로서, 수지를 들었지만, 이것에 한정되지 않고, 금속 등도 적용할 수 있다.
고온에서 장시간의 전처리를 실시하는 경우나, 열 CVD 법을 사용하는 경우에는, 격벽 (39) 이나 강판 (S) 이 고온화될 리스크가 있다. 이 경우, 시일 패드 (81) 의 재질로는, 강판 (S) 의 판온에 따른 내열성을 갖는 재질, 냉각되기 쉬운 성질을 갖는 재질 등을 선택하는 것이 바람직하다. 내열성을 갖는 재질로는, 예를 들어, 내열성을 확보하기 위해, 고융점의 재질을 들 수 있다. 냉각되기 쉬운 성질을 갖는 재질로는, 열전도율이 높은 재질을 들 수 있으며, 그 구체예로는, 납, 구리 등을 들 수 있다.
격벽 (39) 에 있어서의 격벽 통판공 (40) 의 상하측에 배치된 시일 패드 (81) 를 보호하는 관점에서, 강판 (S) 에 성막하기 위한 가열은, 전처리실 (32) 에서 실시하는 것이 아니라, 성막실 (42) 에 도입되고 나서 실시하는 것이 바람직하다. 본 실시형태에서는, 성막실 (42) 의 내부의 성막 영역 (43) 에서, 강판 (S) 의 가열을 실시하고 있다.
도 3 은, 제조 설비 (1) 의 다른 일부를 확대하여 나타내는 모식도이다. 다음으로, 도 3 에 기초하여, 출측 감압 설비 (51) 를 보다 상세하게 설명한다. 기본적인 구성은, 상기 서술한 입측 감압 설비 (21) 와 공통되고 있다.
출측 감압 설비 (51) 가 갖는 복수 단의 출측 감압실 (52) 은, 성막실 (42) 의 출측에 배치되어 있다. 편의적으로, 각각의 출측 감압실 (52) 을, 강판 (S) 의 반송 방향순으로, 출측 감압실 (52a), 출측 감압실 (52b), 및 출측 감압실 (52c) 이라고 부른다.
출측 감압 설비 (51) 에서는, 복수 단의 출측 감압실 (52) 에 있어서, 단계적으로 내압을 감소시킨다. 이로써, 압력차에 의한 강판 (S) 의 사행을 억제할 수 있다. 출측 감압실 (52) 의 단수는, 2 단 이상이면 특별히 한정되지 않지만, 효율적으로 내압을 낮추는 관점에서는 3 단 이상이 바람직하다.
각각의 출측 감압실 (52) 은, 복수 장의 구분판 (54) 에 의해 규정되어 있다. 구분판 (54) 에는, 강판 (S) 이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 통판공 (55) 이 형성되어 있다.
구분판 (54) 은, 출측 감압실 (52) 끼리를 구분하는 구분판 뿐만 아니라, 외부 환경에 접하는 구분판 (도 3 중, 출측 감압실 (52c) 의 좌측을 규정하는 구분판 (54)), 및 성막실 (42) 에 접하는 구분판 (도 3 중, 출측 감압실 (52a) 의 우측을 규정하는 구분판 (54)) 등도 포함한다.
구분판 (54) 에 있어서의 통판공 (55) 의 상하측에도, 구분판 (24) 에 있어서의 통판공 (25) 과 동일하게, 시일 패드 (81) 가 배치되어 있다. 이로써, 배치 어닐링을 거친 강판 (S) 이 변형되어 있어도, 핀치에 의한 가압이 회피되어, 균열 등의 파손을 방지할 수 있다.
출측 감압실 (52) 에는, 배기구 (53) 가 형성되어 있다. 배기구 (53) 로부터 출측 감압실 (52) 의 내부의 가스가 배기되어, 출측 감압실 (52) 은 감압된다. 출측 감압실 (52) 의 내부의 압력 (내압) 은, 성막실 (42) 로부터 이반함에 따라 단계적으로 상승한다. 즉, 출측 감압실 (52a), 출측 감압실 (52b), 및 출측 감압실 (52c) 의 순으로, 각 내압은 서서히 성막실 (42) 의 내압으로부터, 대기압에 근접해진다.
출측 감압 설비 (51) 에 있어서는, 통판공 (55) 으로부터 유입되는 대기량, 및 강판 (S) 의 표면으로부터 휘발되는 가스량 등을 고려하여, 원하는 내압이 되도록, 배기구 (53) 로부터 배기를 실시한다.
그런데, 성막실 (42) 의 성막 영역 (43) 을 통과하는 강판 (S) 은, 성막시에 가열되고 있다. 그 열 (예를 들어, 300 ℃ 이상) 이 잔존한 채로의 강판 (S) 이, 출측 감압실 (52) 에서 통판된 경우, 구분판 (54) 에 형성된 시일 패드 (81) 가 열에 의해 용해되어, 손모될 우려가 있다. 시일 패드 (81) 가 수지제인 경우, 수지는 일반적으로 내열성이 낮기 때문에, 특히 손모되기 쉽다. 시일 패드 (81) 가 손모된 경우에는, 성막 분위기가 변화하여, 성막 후의 강판 (S) 의 자기 특성의 열화로 이어질 우려도 있다. 이 때문에, 손모된 시일 패드 (81) 는 교환이 필요해지고, 교환이 빈번하게 발생하는 경우에는, 메인터넌스 작업이 번잡해진다.
그래서, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 있어서의 성막실 (42) 의 내부에는, 성막 영역 (43) 보다 반송 방향 하류측에 냉각 롤 (45) 을 배치하는 것이 바람직하다. 성막 영역 (43) 에서 가열된 강판 (S) 은, 냉각 롤 (45) 에서 통판됨으로써, 출측 감압실 (52) 에 도입되기 전에 냉각된다. 이렇게 하여, 출측 감압실 (52) 의 시일 패드 (81) 가 강판 (S) 의 열에 의해 손모되는 것이 억제된다.
냉각 롤 (45) 은, 예를 들어, 롤 내에 냉각수를 순환시킴으로써, 롤 표면의 온도 상승을 억제하고 있는 롤이다. 이로써, 성막 영역 (43) 에서 가열된 강판 (S) 을, 예를 들어 200 ℃ 미만까지 냉각시킬 수 있다.
냉각 롤 (45) 은, 성막실 (42) 의 내부에 배치되어 있기 때문에, 롤 표면에 금속을 노출시키고 있으면, CVD 법 또는 PVD 법에 의해, 질화물 피막이 성막되는 경우가 있다.
냉각 롤 (45) 의 표면에 이와 같은 피막이 형성되면, 롤 간의 간격이 변화하여, 에지 변형 등의 원인이 된다. 그러나, 고무 등의 수지 롤에서는, 300 ℃ 이상의 고온에 견뎌낼 수 없다.
이 때문에, 냉각 롤 (45) 은, 금속을 재료로 하고, 사용 전에 산화 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 이로써, 금속 표면에 두께 1 ∼ 10 ㎛ 정도의 산화물이 생성되어, CVD 법 또는 PVD 법에 의한 성막을 억제할 수 있다.
금속의 종류는, 특별히 한정되지 않지만, 열전도율이 높은 금속인 편이 높은 냉각 능력을 갖는 점에서, 예를 들어, 철에 알루미늄 등의 높은 열전도율 금속을 첨가한 합금 (철알루미늄 합금) 을 바람직하게 들 수 있다.
산화 처리의 조건은, 금속에 따라 상이한데, 상기 철알루미늄 합금을 사용하는 경우, 대기 중, 800 ℃ 에서, 30 초 ∼ 2 분간 정도의 어닐링이 바람직하다.
냉각 롤 (45) 의 롤 표면에 성막되는 것을 방지하기 위해, 성막 영역 (43) 과 냉각 롤 (45) 사이에, 도시하지 않은 방벽 (防壁) 을 형성해도 된다.
도 4 는, 냉각 롤 (45) 의 변형예를 나타내는 모식도이다. 냉각 롤 (45) 은, 도 1 에 나타내는 양태에 한정되지 않으며, 도 4 에 나타내는 바와 같은, 브라이들 롤이어도 된다. 이 경우, 강판 (S) 과의 접촉 면적이 보다 커져, 냉각 효율을 보다 높일 수 있다.
냉각 롤 (45) 이 브라이들 롤인 경우에 있어서의 제조 설비 (1) 의 전체도는 도시하고 있지 않지만, 통판공 (55) 및 출측 감압실 (52) 의 위치를 적절히 조정한 배치로 하면 된다.
실시예
이하에 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이것들에 한정되지 않는다.
<시험예 1>
마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) (판두께 : 0.23 ㎜) 의 코일 (11) (총 질량 : 8 t) 을, 도 1 ∼ 도 3 에 기초하여 설명한 제조 설비 (1) 에 제공하여, 성막을 실시하였다. 라인 스피드는 30 m/min 으로 하였다. 연마 설비 (13) 에서 기계 연마에 의해 포스테라이트 피막을 제거한 후, 전처리실 (32) 에서 Ar 이온 스퍼터링에 의해 표면의 불순물을 제거하고, 이어서, 성막실 (42) 에서 CVD 법에 의해 TiN 피막 (막두께 : 0.3 ㎛) 을 성막하였다. CVD 법은 열 CVD 법으로 하고, 성막 온도는 1000 ℃ 로 하고, 원료에는 TiCl4 를 사용하였다. 시일 패드 (81) 의 갭 (G) 은, 코일 (11) 의 통판 전에서 1.5 ㎜ 로 하였다.
상기 서술한 바와 같이, 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에는, 종래의 핀치 롤 대신에, 시일 패드 (81) 가 형성되어 있다. 이 때문에, 제조 설비 (1) 에 제공된 강판 (S) 은, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 통판 전후에 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에서 통판되었지만, 그 때에 핀치에 의한 균열 등의 파손이 발생하지 않았다.
시험예 1 에 있어서는, 성막실 (42) 의 내부에 있어서의 성막 영역 (43) 의 반송 방향 하류측에 롤을 형성하여, 성막을 실시하였다. 이 롤로는, 통상의 롤, 냉각 롤 A (도 1 에 나타내는 냉각 롤 (45)), 또는, 냉각 롤 B (도 4 에 나타내는 브라이들 롤인 냉각 롤 (45)) 의 3 종류를 사용하였다.
제조 설비 (1) 에 코일 (11) 을 전부 통판시킨 후, 출측 감압실 (52) 의 시일 패드 (81) 의 손모도, 및 성막 후의 강판 (S) 의 자기 특성을 구하였다.
시일 패드 (81) 의 손모도는, 코일 (11) 의 통판 전후에 있어서, 시일 패드 (81) 의 갭 (G) 이 변화한 비율로 정의하였다. 즉, 코일 (11) 의 통판 전에 2.0 ㎜ 였던 갭 (G) 이, 코일 (11) 의 통판 후에 4.0 ㎜ 가 된 경우, 손모도는 100 % 가 된다.
자기 특성은, 철손 W17/50 (단위 : W/㎏) 을 측정하였다 (이하, 동일).
결과를 하기 표 1 에 나타낸다.
상기 표 1 에 나타내는 바와 같이, 냉각 롤 A 또는 B 를 사용한 경우에는, 출측 감압실 (52) 의 시일 패드 (81) 의 손모를 거의 억제할 수 있었다.
또한, 자기 특성을 보면, 시일 패드 (81) 의 손모가 억제된 냉각 롤 A 또는 B 를 사용한 경우에는, 통판 후기에 상당하는 코일 (11) 의 내권부 (內券部) 에 있어서도 양호한 자기 특성이 얻어졌다. 그리고, 냉각 롤 B 를 사용한 경우에는, 냉각 롤 A 를 사용한 경우보다, 자기 특성이 보다 양호하였다.
<시험예 2>
마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) (판두께 : 0.23 ㎜) 의 코일 (11) (총 질량 : 8 t) 을, 도 1 ∼ 도 3 에 기초하여 설명한 제조 설비 (1) 에 제공하여, 성막을 실시하였다. 라인 스피드는 30 m/min 으로 하였다. 연마 설비 (13) 에서 기계 연마에 의해 포스테라이트 피막을 제거한 후, 전처리실 (32) 에서 Ar 이온 스퍼터링에 의해 표면의 불순물을 제거하고, 이어서, 성막실 (42) 에서 CVD 법에 의해 하기 표 2 에 나타내는 질화물 피막 (막두께 : 0.3 ㎛) 을 성막하였다. CVD 법은 열 CVD 법으로 하고, 성막 온도는 1000 ℃ 로 하였다. 시일 패드 (81) 의 갭 (G) 은, 코일 (11) 의 통판 전에서 1.5 ㎜ 로 하였다.
상기 서술한 바와 같이, 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에는, 종래의 핀치 롤 대신에, 시일 패드 (81) 가 형성되어 있다. 이 때문에, 제조 설비 (1) 에 제공된 강판 (S) 은, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 통판 전후에 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에서 통판되었지만, 그 때에 핀치에 의한 균열 등의 파손이 발생하지 않았다.
시험예 2 에 있어서는, 성막실 (42) 의 내부에 있어서의 성막 영역 (43) 의 반송 방향 하류측에 롤을 형성하여, 성막을 실시하였다. 이 롤로는, 냉각 롤 A (도 1 에 나타내는 냉각 롤 (45)), 또는, 냉각 롤 B (도 4 에 나타내는 브라이들 롤인 냉각 롤 (45)) 의 2 종류를 사용하였다.
제조 설비 (1) 에 코일 (11) 을 전부 통판시킨 후, 성막 후의 강판 (S) 의 자기 특성을 구하였다. 결과를 하기 표 2 에 나타낸다.
상기 표 2 에 나타내는 바와 같이, 통판 초기에 상당하는 코일 (11) 의 외권부 (外券部) 뿐만 아니라, 통판 후기에 상당하는 코일 (11) 의 내권부에 있어서도, 양호한 자기 특성이 얻어졌다.
<시험예 3>
마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) (판두께 : 0.23 ㎜) 의 코일 (11) (총 질량 : 8 t) 을, 도 1 ∼ 도 3 에 기초하여 설명한 제조 설비 (1) 에 제공하여, 성막을 실시하였다. 라인 스피드는 30 m/min 으로 하였다. 연마 설비 (13) 에서 기계 연마에 의해 포스테라이트 피막을 제거한 후, 전처리실 (32) 에서 Ar 이온 스퍼터링에 의해 표면의 불순물을 제거하고, 이어서, 성막실 (42) 에서 PVD 법에 의해 하기 표 3 및 표 4 에 나타내는 질화물 피막 (막두께 : 0.3 ㎛) 을 성막하였다. PVD 법은 이온 플레이팅법으로 하고, 성막 온도는 400 ℃ 로 하였다. 시일 패드 (81) 의 갭 (G) 은, 코일 (11) 의 통판 전에서 1.5 ㎜ 로 하였다.
상기 서술한 바와 같이, 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에는, 종래의 핀치 롤 대신에, 시일 패드 (81) 가 형성되어 있다. 이 때문에, 제조 설비 (1) 에 제공된 강판 (S) 은, 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 통판 전후에 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 에서 통판되었지만, 그 때에 핀치에 의한 균열 등의 파손이 발생하지 않았다.
시험예 3 에 있어서는, 성막실 (42) 의 내부에 있어서의 성막 영역 (43) 의 반송 방향 하류측에 롤을 형성하여, 성막을 실시하였다. 이 롤로는, 냉각 롤 A (도 1 에 나타내는 냉각 롤 (45)), 또는, 냉각 롤 B (도 4 에 나타내는 브라이들 롤인 냉각 롤 (45)) 의 2 종류를 사용하였다.
제조 설비 (1) 에 코일 (11) 을 전부 통판시킨 후, 성막 후의 강판 (S) 의 자기 특성을 구하였다. 결과를 하기 표 3 및 표 4 에 나타낸다.
상기 표 3 및 표 4 에 나타내는 바와 같이, 통판 초기에 상당하는 코일 (11) 의 외권부 뿐만 아니라, 통판 후기에 상당하는 코일 (11) 의 내권부에 있어서도, 양호한 자기 특성이 얻어졌다.
(시험예 3 의 비교 시험)
시험예 3 에서는, 이하의 비교 시험도 실시하였다.
비교 시험에서는, 도 1 ∼ 도 3 에 기초하여 설명한 제조 설비 (1) 에 있어서의 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 을 각각 1 단만으로 한 제조 설비 (편의적으로,「제조 설비 (1')」라고 부른다) 를 사용하였다. 제조 설비 (1') 에 있어서, 입측 감압실 (22) 및 출측 감압실 (52) 의 단수 이외에는, 제조 설비 (1) 와 동일하게 하였다.
제조 설비 (1') 를 사용하여, 상기 실시예와 동일하게 하여 성막하였다.
보다 상세하게는, 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판 (S) (판두께 : 0.23 ㎜) 의 코일 (11) (총 질량 : 8 t) 을 제조 설비 (1') 에 제공하여, 성막을 실시하였다. 라인 스피드는 30 m/min 으로 하였다. 연마 설비 (13) 에서 기계 연마에 의해 포스테라이트 피막을 제거한 후, 전처리실 (32) 에서 Ar 이온 스퍼터링에 의해 표면의 불순물을 제거하였다. 이어서, 성막실 (42) 에서 PVD 법 (이온 플레이팅법) 에 의해, 질화물 피막을 막두께가 0.3 ㎛ 가 되는 조건에서 성막하였다 (성막 온도 : 400 ℃). 시일 패드 (81) 의 갭 (G) 은, 코일 (11) 의 통판 전에서 1.5 ㎜ 로 하였다.
상기와 같이, 제조 설비 (1') 를 사용하여 막두께가 0.3 ㎛ 가 되는 조건에서 성막하였지만, 0.05 ㎛ 의 막두께 밖에 얻어지지 않았다. 그래서, 성막 설비 (1) 및 성막 설비 (1') 에 있어서의 전처리실 (32) 및 성막실 (42) 의 내압을 측정하였다. 그 결과, 제조 설비 (1) 에서는 3.0 ㎩ 이었다. 한편, 제조 설비 (1') 에서는 300 ㎩ 로서, 감압이 불충분한 것을 알 수 있었다.
1 : 제조 설비
11 : 코일
12 : 입측 루퍼
13 : 연마 설비
14 : 수세 설비
15 : 건조 설비
16 : 출측 루퍼
17 : 시어
18 : 통판 후 코일
19 : 페이오프 릴 (반송 기구)
20 : 권취 릴 (반송 기구)
21 : 입측 감압 설비
22 : 입측 감압실
22a, 22b, 22c : 입측 감압실
23 : 배기구
24 : 구분판
25 : 통판공
31 : 전처리 설비
32 : 전처리실
39 : 격벽
40 : 격벽 통판공
41 : 성막 설비
42 : 성막실
43 : 성막 영역
45 : 냉각 롤
51 : 출측 감압 설비
52 : 출측 감압실
52a, 52b, 52c : 출측 감압실
53 : 배기구
54 : 구분판
55 : 통판공
81 : 시일 패드
G : 갭
S : 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판
11 : 코일
12 : 입측 루퍼
13 : 연마 설비
14 : 수세 설비
15 : 건조 설비
16 : 출측 루퍼
17 : 시어
18 : 통판 후 코일
19 : 페이오프 릴 (반송 기구)
20 : 권취 릴 (반송 기구)
21 : 입측 감압 설비
22 : 입측 감압실
22a, 22b, 22c : 입측 감압실
23 : 배기구
24 : 구분판
25 : 통판공
31 : 전처리 설비
32 : 전처리실
39 : 격벽
40 : 격벽 통판공
41 : 성막 설비
42 : 성막실
43 : 성막 영역
45 : 냉각 롤
51 : 출측 감압 설비
52 : 출측 감압실
52a, 52b, 52c : 출측 감압실
53 : 배기구
54 : 구분판
55 : 통판공
81 : 시일 패드
G : 갭
S : 마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판
Claims (7)
- 판폭 방향의 편측의 적어도 일부가 변형되어 있는 방향성 전기 강판을 통판할 수 있는 방향성 전기 강판의 제조 설비로서,
마무리 어닐링 후의 방향성 전기 강판을 반송하는 반송 기구와,
상기 반송되는 방향성 전기 강판이 통판되는 성막실을 갖고, 상기 성막실 내의 성막 영역을 통과하는 방향성 전기 강판의 표면 상에, 감압 조건하에서 가열하면서 성막을 실시하는 성막 설비와,
상기 성막실의 입측에 배치되고, 상기 성막 전의 방향성 전기 강판이 통판되는 복수 단의 입측 감압실을 갖고, 상기 성막실에 접근함에 따라 상기 입측 감압실의 내압이 상기 성막실의 내압에 근접해지는 입측 감압 설비와,
상기 성막실의 출측에 배치되고, 상기 성막 후의 방향성 전기 강판이 통판되는 복수 단의 출측 감압실을 갖고, 상기 성막실로부터 이반함에 따라 상기 출측 감압실의 내압이 대기압에 근접해지는 출측 감압 설비와,
상기 입측 감압실과 상기 성막실 사이에 배치된 전처리실을 갖고, 상기 전처리실에 도입된 상기 성막 전의 방향성 전기 강판의 표면에 대해 불순물을 제거하는 전처리를 실시하는 전처리 설비를 구비하고,
상기 입측 감압실 및 상기 출측 감압실은,
각 감압실을 규정하고, 또한, 방향성 전기 강판이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 통판공이 형성된 구분판과,
상기 구분판에 있어서의 상기 통판공의 상하측에 핀치 롤 대신에 배치된 시일 패드를 구비하고,
상기 전처리실과 상기 성막실을 구획하는 격벽이 형성되고,
상기 격벽에는, 방향성 전기 강판이 자유롭게 통판할 수 있는 형상의 격벽 통판공이 형성되고,
상기 격벽에 있어서의 상기 격벽 통판공의 상하측에, 핀치 롤 대신에 상기 시일 패드가 배치되고,
상기 가열을, 상기 반송되는 방향성 전기 강판이 상기 성막실에 도입되고 나서 실시하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 1 항에 있어서,
상기 성막 설비가, CVD 법 또는 PVD 법에 의해, 상기 성막을 실시하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 성막실 내에 있어서의 상기 성막 영역보다 반송 방향 하류측에 배치되고, 상기 성막 후의 방향성 전기 강판이 통판되는 냉각 롤을 추가로 구비하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 3 항에 있어서,
상기 냉각 롤이, 브라이들 롤인, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 성막실보다 반송 방향 상류측에 배치되고, 상기 반송되는 방향성 전기 강판의 표면을 연마하는 연마 설비를 추가로 구비하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 3 항에 있어서,
상기 성막실보다 반송 방향 상류측에 배치되고, 상기 반송되는 방향성 전기 강판의 표면을 연마하는 연마 설비를 추가로 구비하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비. - 제 4 항에 있어서,
상기 성막실보다 반송 방향 상류측에 배치되고, 상기 반송되는 방향성 전기 강판의 표면을 연마하는 연마 설비를 추가로 구비하는, 방향성 전기 강판의 제조 설비.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018066622 | 2018-03-30 | ||
JPJP-P-2018-066622 | 2018-03-30 | ||
PCT/JP2019/010833 WO2019188410A1 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 方向性電磁鋼板の製造設備 |
KR1020207025893A KR20200120676A (ko) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 방향성 전기 강판의 제조 설비 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207025893A Division KR20200120676A (ko) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 방향성 전기 강판의 제조 설비 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230008237A true KR20230008237A (ko) | 2023-01-13 |
KR102603846B1 KR102603846B1 (ko) | 2023-11-21 |
Family
ID=68059987
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227045545A KR102603846B1 (ko) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 방향성 전기 강판의 제조 설비 |
KR1020207025893A KR20200120676A (ko) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 방향성 전기 강판의 제조 설비 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020207025893A KR20200120676A (ko) | 2018-03-30 | 2019-03-15 | 방향성 전기 강판의 제조 설비 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210040606A1 (ko) |
EP (1) | EP3761326A4 (ko) |
JP (1) | JP6954356B2 (ko) |
KR (2) | KR102603846B1 (ko) |
CN (1) | CN111971760A (ko) |
RU (1) | RU2761570C1 (ko) |
WO (1) | WO2019188410A1 (ko) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6240368A (ja) | 1985-08-13 | 1987-02-21 | Kawasaki Steel Corp | 一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備 |
JPS6269505A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-03-30 | Kawasaki Steel Corp | けい素鋼板の磁気特性改善方法 |
JPS6465259A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-10 | Nippon Steel Corp | Continuous composite coating equipment for band plate |
JPH01176034A (ja) | 1987-12-28 | 1989-07-12 | Kawasaki Steel Corp | 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 |
JP2003253442A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-10 | Toppan Printing Co Ltd | 連続真空処理装置 |
JP2015145528A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の竪型窒化処理設備および窒化処理方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3123493A (en) * | 1964-03-03 | Art of bonding of vacuum metallized coatings | ||
US2925062A (en) * | 1953-05-15 | 1960-02-16 | Heraeus Gmbh W C | Coating apparatus |
LU36143A1 (ko) * | 1957-09-16 | |||
SU117269A1 (ru) * | 1958-03-06 | 1958-11-30 | В.Д. Богушевич | Аппарат дл вакуумных покрытий |
US3531319A (en) * | 1963-09-16 | 1970-09-29 | Saint Gobain | Method and apparatus for the coating in vacuo of a moving ribbon |
SU451753A1 (ru) * | 1973-04-02 | 1974-11-30 | Предприятие П/Я В-8495 | Шлюзовое устройство дл вакуумных установок |
US3917501A (en) * | 1973-07-27 | 1975-11-04 | Yaleco Ind Inc | Non-woven fabric-like rubbery material and process of manufacture |
JPS6240367A (ja) * | 1985-08-13 | 1987-02-21 | Kawasaki Steel Corp | 一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備 |
JP2771633B2 (ja) * | 1989-10-05 | 1998-07-02 | 新日本製鐵株式会社 | 方向性電磁鋼板の脱炭連続焼鈍装置 |
JP3757402B2 (ja) * | 1995-11-20 | 2006-03-22 | 石川島播磨重工業株式会社 | 真空シール装置 |
JP3392698B2 (ja) * | 1997-04-16 | 2003-03-31 | 新日本製鐵株式会社 | 極めて優れた磁気特性を有する方向性電磁鋼板の製造方法 |
DE102007009710A1 (de) * | 2006-10-27 | 2008-04-30 | Sms Demag Ag | Bandschleuse |
JP2010280943A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Sony Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
EP2354272B1 (en) * | 2010-02-08 | 2016-08-24 | Graphene Square Inc. | Roll-to-roll apparatus for coating simultaneously internal and external surfaces of a pipe and graphene coating method using the same |
CN102181839B (zh) * | 2011-06-03 | 2013-01-23 | 浙江大学 | 同端进出式连续溅射镀膜设备 |
JP5942884B2 (ja) * | 2013-02-18 | 2016-06-29 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の窒化処理設備および窒化処理方法 |
KR101693511B1 (ko) * | 2016-01-22 | 2017-01-06 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치 |
CN106735770A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-31 | 广州三五汽车部件有限公司 | 一种防止镀锌钢板焊接产生氧化膜的装置及方法 |
-
2019
- 2019-03-15 JP JP2019536609A patent/JP6954356B2/ja active Active
- 2019-03-15 US US16/979,628 patent/US20210040606A1/en active Pending
- 2019-03-15 KR KR1020227045545A patent/KR102603846B1/ko active IP Right Grant
- 2019-03-15 RU RU2020132000A patent/RU2761570C1/ru active
- 2019-03-15 WO PCT/JP2019/010833 patent/WO2019188410A1/ja unknown
- 2019-03-15 EP EP19776727.0A patent/EP3761326A4/en active Pending
- 2019-03-15 CN CN201980020709.9A patent/CN111971760A/zh active Pending
- 2019-03-15 KR KR1020207025893A patent/KR20200120676A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6240368A (ja) | 1985-08-13 | 1987-02-21 | Kawasaki Steel Corp | 一方向性けい素鋼板の鉄損低減連続処理設備 |
JPS6269505A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-03-30 | Kawasaki Steel Corp | けい素鋼板の磁気特性改善方法 |
JPS6465259A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-10 | Nippon Steel Corp | Continuous composite coating equipment for band plate |
JPH01176034A (ja) | 1987-12-28 | 1989-07-12 | Kawasaki Steel Corp | 磁気特性の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 |
JP2003253442A (ja) * | 2002-03-06 | 2003-09-10 | Toppan Printing Co Ltd | 連続真空処理装置 |
JP2015145528A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の竪型窒化処理設備および窒化処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6954356B2 (ja) | 2021-10-27 |
WO2019188410A1 (ja) | 2019-10-03 |
KR102603846B1 (ko) | 2023-11-21 |
RU2761570C1 (ru) | 2021-12-10 |
EP3761326A1 (en) | 2021-01-06 |
US20210040606A1 (en) | 2021-02-11 |
KR20200120676A (ko) | 2020-10-21 |
JPWO2019188410A1 (ja) | 2020-04-30 |
EP3761326A4 (en) | 2021-03-24 |
CN111971760A (zh) | 2020-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6880814B2 (ja) | 電磁鋼板、及びその製造方法 | |
JP2019137883A (ja) | 方向性電磁鋼板、および方向性電磁鋼板の製造方法 | |
KR20230008237A (ko) | 방향성 전기 강판의 제조 설비 | |
JP6791389B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法および連続成膜装置 | |
JP7148360B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法および連続成膜装置 | |
KR102496043B1 (ko) | 타깃 교환 장치 및 표면 처리 설비 | |
KR102443298B1 (ko) | 표면 처리 설비 | |
JP6753425B2 (ja) | ターゲット供給装置および表面処理設備 | |
JP2019123936A (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP3380775B2 (ja) | 歪感受性が小さく磁気特性に優れた方向性珪素鋼板 | |
EP4414465A1 (en) | Finish annealing facility for electromagnetic steel sheet, finish annealing method and production method for electromagnetic steel sheet, and non-oriented electromagnetic steel sheet | |
JP4206527B2 (ja) | ドライプレーティング装置 | |
JPS6320452A (ja) | 金属ストリツプの物理的蒸着設備 | |
JP2001200377A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法およびドライプレーティング装置 | |
JP2004044627A (ja) | 差圧性能および通板性に優れた差圧シール装置 | |
JPH03294466A (ja) | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
JPH06128755A (ja) | 加工性、密着性の優れた黒化皮膜を有するtvブラウン管用インナーシールド材 | |
JPS6250473A (ja) | けい素鋼帯コイルのcvd逐次処理用連続炉 | |
JPS63227717A (ja) | 高珪素鉄板の製造方法 | |
JPS6269506A (ja) | 方向性けい素鋼板の磁気特性改善装置 | |
JP2000087236A (ja) | インライン装置の差圧シール装置 | |
JPH06228643A (ja) | 表面性状を制御した超高珪素電磁鋼板の安定的な製造 方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |