KR20220133090A

KR20220133090A - 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트 세정 방법

Info

Publication number: KR20220133090A
Application number: KR1020220023063A
Authority: KR
Inventors: 아스카 와키타
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2021-03-24
Filing date: 2022-02-22
Publication date: 2022-10-04
Also published as: TW202238707A; KR102683887B1; TWI813151B; JP2022148186A; CN115132608A

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트 세정 방법을 제공한다. 기판 처리 장치 (100) 는, 기판 (W) 을 처리하기 위한 기판 처리 유닛 (10) 과, 기판 처리 유닛 (10) 에 처리액을 유통하는 배관 (32) 과, 배관 (32) 에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트 (140) 와, 배관 (32) 에 있어서 배관 착탈 파트 (140) 의 상류 및 하류에 각각 형성된 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 와, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 에 접속 가능한 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152) 로부터 배관 착탈 파트 (140) 에 약액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 약액을 회수한다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152) 로부터 배관 착탈 파트에 세정액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

Description

기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트 세정 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND PIPE ATTACHABLE/DETACHABLE COMPONENT CLEANING METHOD}

본 발명은 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트 세정 방법에 관한 것이다.

기판을 처리하는 기판 처리 장치가 알려져 있다. 기판 처리 장치는, 반도체 기판의 제조에 바람직하게 사용된다. 전형적으로는, 기판 처리 장치는, 약액 등의 처리액을 사용하여 기판을 처리한다.

처리액은, 필터, 밸브 및 유량계 등이 장착된 배관을 유통하여 기판을 처리한다. 필터는 정기적으로 교환된다. 필터를 교환할 경우, 배관에 새로 장착된 필터로부터 파티클이 장치 전체로 확산되는 것을 억제하기 위해서, 필터를 교환한 후에 플러싱을 행하는 것이 알려져 있다 (특허문헌 1) . 특허문헌 1 에는, 필터를 교환한 후에, 필터 및 순환 라인에 접속된 탱크에 순수를 충전하고 배출하는 순수 플러싱을 복수 회 행한 후, 약액을 충전하여 배출하는 약액 플러싱을 행하는 것이 기재되어 있다. 특허문헌 1 의 필터 세정 방법에서는, 필터를 교환한 후에, 순수 및 약액의 각각에 있어서, 필터에 접속된 처리액을 저류하는 탱크의 액 위치를 상승시킴으로써, 필터 내부의 정상부 높이까지 액체를 채울 수 있고, 필터 내의 파티클이 액처리 장치 전체로 확산되는 것을 억제하고 있다.

일본 공개특허공보 2015-103662호

그러나, 특허문헌 1 의 필터 세정 방법에서는, 필터를 교환한 후에, 필터 및 순환 라인에 접속된 탱크에 대해서 순수 및 약액을 충전하고 있어, 대량의 순수 및 약액이 필요해진다.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은, 배관에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트를 교환한 후의 파티클의 확산을 효율적으로 억제 가능한 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트 세정 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 일 국면에 의하면, 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 기판 처리 유닛과, 상기 기판 처리 유닛에 처리액을 유통하는 배관과, 상기 배관에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트와, 상기 배관에 있어서 상기 배관 착탈 파트의 상류에 형성된 상류측 접속부와, 상기 배관에 있어서 상기 배관 착탈 파트의 하류에 형성된 하류측 접속부와, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부에 접속 가능한 세정 유닛을 구비한다. 상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 약액을 회수하며, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수한다.

일 실시형태에서는, 상기 배관 착탈 파트는, 필터 및 밸브 중 적어도 일방을 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부는, 삼방 밸브 또는 토글 밸브를 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부로부터 상기 배관 착탈 파트에 상기 약액을 공급하고, 상기 하류측 접속부로부터 상기 약액을 회수하며, 상기 상류측 접속부로부터 상기 배관 착탈 파트에 상기 세정액을 공급하고, 상기 하류측 접속부로부터 상기 세정액을 회수한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 제 1 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 제 1 약액을 회수하며, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 제 2 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 제 2 약액을 회수한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부와 접속되는 추가 배관을 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 추가 배관에 상기 약액을 공급하는 약액 공급부와, 상기 추가 배관에 상기 세정액을 공급하는 세정액 공급부와, 상기 추가 배관에 형성된 펌프를 추가로 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 약액 및 상기 세정액을 저류 가능한 탱크를 추가로 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부로부터 분리 가능하다.

일 실시형태에서는, 상기 처리액은, 상기 추가 배관을 유통한다.

일 실시형태에서는, 상기 배관은, 약액이 유통하는 약액 배관과 세정액이 유통하는 세정액 배관을 포함하고, 상기 상류측 접속부는, 상기 세정액 배관의 상류에 형성되며, 상기 하류측 접속부는, 상기 세정액 배관의 하류에 형성되고, 상기 추가 배관은, 상기 약액 배관과 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방을 연락하는 배관을 갖는다.

일 실시형태에서는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 세정 유닛의 상기 세정액 및 상기 약액에 의한 상기 배관 착탈 파트의 세정을 제어하기 위한 레시피를 기억하는 기억부를 추가로 구비한다.

일 실시형태에서는, 상기 기억부는, 상기 배관 착탈 파트에 따라서 상이한 레시피를 기억한다.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 배관 착탈 파트의 세정 방법은, 처리액이 유통하는 배관에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트를 교환하는 스텝과, 상기 배관 착탈 파트를 교환한 후에, 상기 배관 착탈 파트의 상류에 형성된 상류측 접속부 및 상기 배관 착탈 파트의 하류에 형성된 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 약액을 회수하는 스텝과, 상기 배관 착탈 파트를 교환한 후에, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수하는 스텝을 포함한다.

일 실시형태에서는, 상기 배관 착탈 파트의 세정 방법은, 상기 배관 착탈 파트를 교환하기 전에, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수하는 스텝을 추가로 포함한다.

본 발명에 의하면, 배관에 대해서 착탈 가능한 파트를 교환한 후의 파티클의 확산을 효율적으로 억제할 수 있다.

도 1 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치의 모식도이다.
도 2 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 기판 처리 유닛의 모식도이다.
도 3 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 4 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치의 블록도이다.
도 5(a) ∼ (c) 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 6(a) ∼ (c) 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 7 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법의 플로도이다.
도 8(a) ∼ (c) 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 9 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법의 플로도이다.
도 10(a) ∼ (c) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 장착되는 배관 착탈 파트의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 11 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법의 플로도이다.
도 12 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 세정 유닛의 모식도이다.
도 13 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트의 세정 방법의 플로도이다.
도 14 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 15(a) 및 (b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 16 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 17(a) 및 (b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 18 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 19 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 20(a) 및 (b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.
도 21 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명에 의한 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트의 세정 방법의 실시형태를 설명한다. 또한, 도면 중, 동일 또는 상당 부분에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙여 설명을 반복하지 않는다. 또한, 본원 명세서에서는, 발명의 이해를 용이하게 하기 위해서, 서로 직교하는 X 축, Y 축 및 Z 축을 기재하는 경우가 있다. 전형적으로는, X 축 및 Y 축은 수평 방향과 평행하고, Z 축은 연직 방향과 평행한다.

먼저, 도 1 을 참조하여, 본 발명에 의한 기판 처리 장치 (100) 의 실시형태를 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 의 모식적인 평면도이다.

기판 처리 장치 (100) 는, 기판 (W) 을 처리한다. 기판 처리 장치 (100) 는, 기판 (W) 에 대해서, 에칭, 표면 처리, 특성 부여, 처리막 형성, 막의 적어도 일부의 제거 및 세정 중 적어도 하나를 행하도록 기판 (W) 을 처리한다.

기판 (W) 은, 반도체 기판으로서 사용된다. 기판 (W) 은, 반도체 웨이퍼를 포함한다. 예를 들어, 기판 (W) 은 대략 원판상이다. 여기에서는, 기판 처리 장치 (100) 는 기판 (W) 을 1 장씩 처리한다.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 는, 복수의 기판 처리 유닛 (10) 과, 처리액 캐비넷 (110) 과, 처리액 박스 (120) 와, 복수의 로드 포트 (LP) 와, 인덱서 로봇 (IR) 과, 센터 로봇 (CR) 과, 제어 장치 (101) 를 구비한다. 제어 장치 (101) 는, 로드 포트 (LP), 인덱서 로봇 (IR) 및 센터 로봇 (CR) 을 제어한다. 제어 장치 (101) 는, 제어부 (102) 및 기억부 (104) 를 포함한다.

로드 포트 (LP) 의 각각은, 복수 장의 기판 (W) 을 적층하여 수용한다. 인덱서 로봇 (IR) 은, 로드 포트 (LP) 와 센터 로봇 (CR) 사이에서 기판 (W) 을 반송한다. 센터 로봇 (CR) 은, 인덱서 로봇 (IR) 과 기판 처리 유닛 (10) 사이에서 기판 (W) 을 반송한다. 기판 처리 유닛 (10) 의 각각은, 기판 (W) 에 처리액을 토출하여 기판 (W) 을 처리한다. 처리액은, 약액, 세정액, 제거액 및/또는 발수제를 포함한다. 처리액 캐비넷 (110) 은, 처리액을 수용한다. 또한, 처리액 캐비넷 (110) 은, 가스를 수용해도 된다.

구체적으로는, 복수의 기판 처리 유닛 (10) 은, 평면에서 보았을 때 센터 로봇 (CR) 을 둘러싸도록 배치된 복수의 타워 (TW) (도 1 에서는 4 개의 타워 (TW)) 를 형성하고 있다. 각 타워 (TW) 는, 상하로 적층된 복수의 기판 처리 유닛 (10) (도 1 에서는 3 개의 기판 처리 유닛 (10)) 을 포함한다. 처리액 박스 (120) 는, 각각, 복수의 타워 (TW) 에 대응하고 있다. 처리액 캐비넷 (110) 내의 액체는, 어느 처리액 박스 (120) 를 개재하여, 처리액 박스 (120) 에 대응하는 타워 (TW) 에 포함되는 모든 기판 처리 유닛 (10) 에 공급된다. 또, 처리액 캐비넷 (110) 내의 가스는, 어느 처리액 박스 (120) 를 개재하여, 처리액 박스 (120) 에 대응하는 타워 (TW) 에 포함되는 모든 기판 처리 유닛 (10) 에 공급된다.

기판 처리 장치 (100) 에 있어서, 센터 로봇 (CR) 및 기판 처리 유닛 (10) 이 설치된 영역과, 처리액 캐비넷 (110) 이 설치된 영역 사이에는, 경계벽 (BW) 이 배치된다. 처리액 캐비넷 (110) 은, 기판 처리 장치 (100) 중 경계벽 (BW) 의 외측 부분 영역의 일부 공간을 구획한다.

전형적으로는, 처리액 캐비넷 (110) 은, 처리액을 조제하기 위한 조제조 (탱크) 를 갖는다. 처리액 캐비넷 (110) 은, 1 종류의 처리액을 위한 조제조를 가져도 되고, 복수 종류의 처리액을 위한 조제조를 가져도 된다. 또, 처리액 캐비넷 (110) 은, 처리액을 유통하기 위한 펌프, 노즐 및/또는 필터를 갖는다.

여기에서는, 처리액 캐비넷 (110) 은, 제 1 처리액 캐비넷 (110A) 과, 제 2 처리액 캐비넷 (110B) 을 갖는다. 제 1 처리액 캐비넷 (110A) 및 제 2 처리액 캐비넷 (110B) 은 서로 대향하여 배치된다.

제어 장치 (101) 는, 기판 처리 장치 (100) 의 각종 동작을 제어한다.

제어 장치 (101) 는, 제어부 (102) 및 기억부 (104) 를 포함한다. 제어부 (102) 는, 프로세서를 갖는다. 제어부 (102) 는, 예를 들어, 중앙 처리 연산기 (Central Processing Unit : CPU) 를 갖는다. 또는, 제어부 (102) 는, 범용 연산기를 가져도 된다.

기억부 (104) 는, 데이터 및 컴퓨터 프로그램을 기억한다. 데이터는, 레시피 데이터를 포함한다. 레시피 데이터는, 복수의 레시피를 나타내는 정보를 포함한다. 복수의 레시피의 각각은, 기판 (W) 의 처리 내용 및 처리 순서를 규정한다.

기억부 (104) 는, 주기억 장치와 보조 기억 장치를 포함한다. 주기억 장치는, 예를 들어, 반도체 메모리이다. 보조 기억 장치는, 예를 들어, 반도체 메모리 및/또는 하드 디스크 드라이브이다. 기억부 (104) 는 리무버블 미디어를 포함하고 있어도 된다. 제어부 (102) 는, 기억부 (104) 가 기억하고 있는 컴퓨터 프로그램을 실행하여, 기판 처리 동작을 실행한다.

다음으로, 도 2 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 기판 처리 유닛 (10) 을 설명한다. 도 2 는, 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 기판 처리 유닛 (10) 의 모식도이다.

기판 처리 유닛 (10) 은, 챔버 (11) 와, 기판 유지부 (20) 와, 처리액 공급부 (30) 를 구비한다. 챔버 (11) 는, 기판 (W) 을 수용한다. 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 을 유지한다.

챔버 (11) 는, 내부 공간을 갖는 대략 박스 형상이다. 챔버 (11) 는, 기판 (W) 을 수용한다. 여기에서는, 기판 처리 장치 (100) 는, 기판 (W) 을 1 장씩 처리하는 매엽형이고, 챔버 (11) 에는 기판 (W) 이 1 장씩 수용된다. 기판 (W) 은, 챔버 (11) 내에 수용되고, 챔버 (11) 내에서 처리된다. 챔버 (11) 에는, 기판 유지부 (20) 및 처리액 공급부 (30) 의 각각의 적어도 일부가 수용된다.

기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 을 유지한다. 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 의 상면 (표면) (Wa) 을 상방을 향하게 하고, 기판 (W) 의 이면 (하면) (Wb) 을 연직 하방을 향하도록 기판 (W) 을 수평으로 유지한다. 또, 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 을 유지한 상태에서 기판 (W) 을 회전시킨다. 예를 들어, 기판 (W) 의 상면 (Wa) 에는, 리세스가 형성된 적층 구조가 형성되어 있다. 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 을 유지한 채로 기판 (W) 을 회전시킨다.

예를 들어, 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 의 단부를 협지하는 협지식이어도 된다. 혹은, 기판 유지부 (20) 는, 기판 (W) 을 이면 (Wb) 으로부터 유지하는 임의의 기구를 가져도 된다. 예를 들어, 기판 유지부 (20) 는, 진공식이어도 된다. 이 경우, 기판 유지부 (20) 는, 비디바이스 형성면인 기판 (W) 의 이면 (Wb) 의 중앙부를 상면에 흡착시킴으로써 기판 (W) 을 수평으로 유지한다. 혹은, 기판 유지부 (20) 는, 복수의 척 핀을 기판 (W) 의 둘레 단면에 접촉시키는 협지식과 진공식을 조합해도 된다.

예를 들어, 기판 유지부 (20) 는, 스핀 베이스 (21) 와, 척 부재 (22) 와, 샤프트 (23) 와, 전동 모터 (24) 와, 하우징 (25) 을 포함한다. 척 부재 (22) 는, 스핀 베이스 (21) 에 형성된다. 척 부재 (22) 는, 기판 (W) 을 척한다. 전형적으로는, 스핀 베이스 (21) 에는, 복수의 척 부재 (22) 가 형성된다.

샤프트 (23) 는, 중공 축이다. 샤프트 (23) 는, 회전축 (Ax) 을 따라서 연직 방향으로 연장되어 있다. 샤프트 (23) 의 상단에는, 스핀 베이스 (21) 가 결합되어 있다. 기판 (W) 은, 스핀 베이스 (21) 의 상방에 재치 (載置) 된다.

스핀 베이스 (21) 는, 원판상이고, 기판 (W) 을 수평으로 지지한다. 샤프트 (23) 는, 스핀 베이스 (21) 의 중앙부로부터 하방으로 연장된다. 전동 모터 (24) 는, 샤프트 (23) 에 회전력을 부여한다. 전동 모터 (24) 는, 샤프트 (23) 를 회전 방향으로 회전시킴으로써, 회전축 (Ax) 을 중심으로 기판 (W) 및 스핀 베이스 (21) 를 회전시킨다. 하우징 (25) 은, 샤프트 (23) 및 전동 모터 (24) 를 둘러싸고 있다.

처리액 공급부 (30) 는, 기판 (W) 에 처리액을 공급한다. 전형적으로는, 처리액 공급부 (30) 는, 기판 (W) 의 상면 (Wa) 에 처리액을 공급한다. 처리액 공급부 (30) 의 적어도 일부는, 챔버 (11) 내에 수용된다.

처리액 공급부 (30) 는, 기판 (W) 의 상면 (Wa) 에 처리액을 공급한다. 처리액은, 이른바 약액을 포함해도 된다. 약액은, 불산을 포함한다. 예를 들어, 불산은, 40 ℃ 이상 70 ℃ 이하로 가열되어도 되고, 50 ℃ 이상 60 ℃ 이하로 가열되어도 된다. 단, 불산은, 가열되지 않아도 된다. 또, 약액은, 물 또는 인산을 포함해도 된다.

또한, 약액은, 과산화수소수를 포함해도 된다. 또, 약액은, SC1 (암모니아과산화수소수 혼합액), SC2 (염산과산화수소수 혼합액) 또는 왕수 (농염산과 농질산의 혼합물) 를 포함해도 된다.

또는, 처리액은, 이른바 세정액 (린스액) 을 포함해도 된다. 예를 들어, 세정액은, 탈이온수 (Deionized Water : DIW), 탄산수, 전해 이온수, 오존수, 암모니아수, 희석 농도 (예를 들어, 10 ppm ∼ 100 ppm 정도) 의 염산수, 또는, 환원수 (수소수) 중 어느 것을 포함해도 된다.

처리액 공급부 (30) 는, 배관 (32) 과, 노즐 (34) 과, 밸브 (36) 를 포함한다. 노즐 (34) 은 기판 (W) 의 상면 (Wa) 에 처리액을 토출한다. 노즐 (34) 은, 배관 (32) 에 접속된다. 배관 (32) 에는, 공급원으로부터 처리액이 공급된다. 밸브 (36) 는, 배관 (32) 내의 유로를 개폐한다. 노즐 (34) 은, 기판 (W) 에 대해서 이동 가능하게 구성되어 있는 것이 바람직하다.

밸브 (36) 는, 배관 (32) 내의 유로를 개폐한다. 밸브 (36) 는, 배관 (32) 의 개도를 조절하여, 배관 (32) 에 공급되는 처리액의 유량을 조정한다. 구체적으로는, 밸브 (36) 는, 밸브 시트가 내부에 형성된 밸브 보디 (도시하지 않음) 와, 밸브 시트를 개폐하는 밸브체와, 열림 위치와 닫힘 위치 사이에서 밸브체를 이동시키는 액추에이터 (도시하지 않음) 를 포함한다.

노즐 (34) 은 이동 가능해도 된다. 노즐 (34) 은, 제어부 (102) 에 의해서 제어되는 이동 기구에 따라서 수평 방향 및/또는 연직 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 도면이 과도하게 복잡해지는 것을 피하기 위해서 이동 기구를 생략하고 있음을 유의하기 바란다.

기판 처리 유닛 (10) 은, 컵 (80) 을 추가로 구비한다. 컵 (80) 은, 기판 (W) 으로부터 비산된 처리액을 회수한다. 컵 (80) 은 승강한다. 예를 들어, 컵 (80) 은, 처리액 공급부 (30) 가 기판 (W) 에 처리액을 공급하는 기간에 걸쳐서 기판 (W) 의 측방까지 연직 상방으로 상승한다. 이 경우, 컵 (80) 은, 기판 (W) 의 회전에 의해서 기판 (W) 으로부터 비산되는 처리액을 회수한다. 또, 컵 (80) 은, 처리액 공급부 (30) 가 기판 (W) 에 처리액을 공급하는 기간이 종료되면, 기판 (W) 의 측방으로부터 연직 하방으로 하강한다.

상기 서술한 바와 같이, 제어 장치 (101) 는, 제어부 (102) 및 기억부 (104) 를 포함한다. 제어부 (102) 는, 기판 유지부 (20), 처리액 공급부 (30) 및/또는 컵 (80) 을 제어한다. 일례에서는, 제어부 (102) 는, 전동 모터 (24), 밸브 (36) 및/또는 컵 (80) 을 제어한다.

본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 는, 반도체가 형성된 반도체 소자의 제작에 바람직하게 사용된다. 전형적으로는, 반도체 소자에 있어서, 기재 상에 도전층 및 절연층이 적층된다. 기판 처리 장치 (100) 는, 반도체 소자의 제조시에, 도전층 및/또는 절연층의 세정 및/또는 가공 (예를 들어, 에칭, 특성 변화 등) 에 바람직하게 사용된다.

또한, 도 2 에 나타낸 기판 처리 유닛 (10) 에서는, 처리액 공급부 (30) 는, 1 종류의 처리액을 공급 가능하다. 단, 본 실시형태는 이에 한정되지 않는다. 처리액 공급부 (30) 는, 복수 종류의 처리액을 공급해도 된다. 예를 들어, 처리액 공급부 (30) 는, 용도가 상이한 복수 종류의 처리액을 기판 (W) 에 순차적으로 공급 가능해도 된다. 혹은, 처리액 공급부 (30) 는, 용도가 상이한 복수 종류의 처리액을 기판 (W) 에 동시에 공급 가능해도 된다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 3 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 의 배관 구성을 설명한다. 도 3 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 또한, 도 1 및 도 2 로부터 이해되는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 는, 복수의 기판 처리 유닛 (10) 을 갖고 있고, 기판 (W) 은 복수 종의 처리액으로 처리될 수 있는 것이 바람직하다. 단, 여기에서는, 설명이 과도하게 복잡해지는 것을 피할 목적에서, 1 개의 기판 처리 유닛 (10) 에 대해서 1 종류의 처리액이 공급되는 양태를 설명한다.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 는, 조제조 (112) 와, 밸브 (113) 와, 펌프 (114) 와, 배관 착탈 파트 (140) 와. 상류측 접속부 (152) 와, 하류측 접속부 (154) 와, 세정 유닛 (160) 을 구비한다.

조제조 (112) 는, 처리액을 저류한다. 처리액은, 기판 처리 유닛 (10) 에 공급되어, 기판 (W) 을 처리한다. 전형적으로는, 처리액은 약액이다. 단, 처리액은, 세정액이어도 된다. 처리액은, 조제조 (112) 에 있어서 조제된다. 전형적으로는, 조제조 (112) 는, 처리액 캐비넷 (110) 에 배치된다.

배관 (32) 은, 조제조 (112) 와 기판 처리 유닛 (10) 을 연락한다. 배관 (32) 에는, 밸브 (113), 펌프 (114), 배관 착탈 파트 (140), 상류측 접속부 (152), 하류측 접속부 (154) 및 밸브 (36) 가 장착된다.

처리액 캐비넷 (110) 은, 케이싱 (111) 을 갖는다. 전형적으로는, 케이싱 (111) 내에, 조제조 (112), 밸브 (113), 펌프 (114), 배관 착탈 파트 (140), 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 가 수용된다.

처리액 박스 (120) 는, 케이싱 (121) 을 갖는다. 전형적으로는, 밸브 (36) 는, 케이싱 (121) 에 수용된다.

배관 (32) 은, 처리액 캐비넷 (110) 으로부터 처리액 박스 (120) 를 통하여 기판 처리 유닛 (10) 까지 연장된다. 처리액은, 조제조 (112) 에 있어서 조제된 후, 조제조 (112) 로부터 배관 (32) 을 통하여 기판 처리 유닛 (10) 까지 흐른다. 예를 들어, 배관 (32) 은, 수지로 형성된다.

배관 착탈 파트 (140) 는, 배관 (32) 에 장착된다. 배관 착탈 파트 (140) 는, 배관 (32) 에 대해서 착탈 가능하다. 배관 착탈 파트 (140) 가 배관 (32) 에 장착된 경우, 처리액은, 배관 착탈 파트 (140) 를 흐른다. 한편으로, 배관 착탈 파트 (140) 는, 배관 (32) 으로부터 분리할 수 있다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140) 가 열화되면, 배관 착탈 파트 (140) 는 교환된다.

배관 착탈 파트 (140) 는, 수지로 형성된다. 전형적으로는, 배관 착탈 파트 (140) 는, 수지 성형에 의해서 형성된다. 일례에서는, 배관 착탈 파트 (140) 는, 수지 성형물을 금속의 가공구로 절삭함으로써 제작된다. 또한, 배관 착탈 파트 (140) 는, 금속으로 형성되어도 된다.

배관 착탈 파트 (140) 는, 밸브여도 된다. 밸브는, 단독 밸브여도 되고, 다연 (多連) 밸브여도 된다. 이 경우, 배관 착탈 파트 (140) 에 의해서, 배관 (32) 내의 유로를 개폐할 수 있다. 배관 착탈 파트 (140) 는, 배관 (32) 의 개도를 조절하여, 배관 (32) 에 공급되는 처리액의 유량을 조정한다. 구체적으로는, 밸브 (36) 는, 밸브 시트가 내부에 형성된 밸브 보디 (도시하지 않음) 와, 밸브 시트를 개폐하는 밸브체와, 열림 위치와 닫힘 위치 사이에서 밸브체를 이동시키는 액추에이터 (도시하지 않음) 를 포함한다.

배관 착탈 파트 (140) 는, 필터여도 된다. 이 경우, 배관 착탈 파트 (140) 는, 배관 (32) 내를 흐르는 처리액을 여과한다.

상류측 접속부 (152) 는, 배관 착탈 파트 (140) 에 대해서 배관 (32) 의 상류측에 위치한다. 상류측 접속부 (152) 는, 3 개의 개구부를 갖는다. 예를 들어, 상류측 접속부 (152) 는, 삼방 밸브 또는 토글 밸브를 포함한다. 혹은, 상류측 접속부 (152) 는, 삼방관 및 밸브를 포함해도 된다.

상류측 접속부 (152) 는, 3 개의 개구부 중 2 개의 개구부를 흐르는 액체의 흐름을 전환할 수 있다. 예를 들어, 상류측 접속부 (152) 는, 3 개의 개구부 중 2 개의 개구부를 흐르는 액체의 흐름을 별개의 2 개의 개구부를 흐르는 액체의 흐름으로 전환해도 된다. 혹은, 상류측 접속부 (152) 는, 2 개의 개구부를 흐르는 액체의 흐름을 차단해도 된다.

전형적으로는, 배관 (32) 에 있어서, 상류측 접속부 (152) 와 배관 착탈 파트 (140) 사이에는 다른 부품이 장착되어 있지 않다. 예를 들어, 상류측 접속부 (152) 와 배관 착탈 파트 (140) 사이의 거리는, 1 ㎝ 이상 100 ㎝ 이하여도 되고, 5 ㎝ 이상 50 ㎝ 이하여도 된다.

상류측 접속부 (152) 의 2 개의 개구부는, 배관 (32) 에 접속된다. 상류측 접속부 (152) 의 2 개의 개구부의 일방은, 배관 (32) 의 상류측에 위치하고, 2 개의 개구부 타방은, 배관 (32) 의 하류측에 위치한다. 또, 상류측 접속부 (152) 의 나머지의 1 개의 개구부는, 배관 (32) 과는 떨어진 지점에 위치한다. 상류측 접속부 (152) 의 나머지의 1 개의 개구부는, 배관 (32) 과는 별개의 배관과 접속 가능하다.

하류측 접속부 (154) 는, 배관 착탈 파트 (140) 에 대해서 배관 (32) 의 하류측에 위치한다. 하류측 접속부 (154) 는, 3 개의 개구부를 갖는다. 전형적으로는, 하류측 접속부 (154) 는, 상류측 접속부 (152) 와 동일한 구성을 갖는다.

전형적으로는, 배관 (32) 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 와 하류측 접속부 (154) 사이에는 다른 부품은 장착되어 있지 않다. 예를 들어, 배관 착탈 파트 (140) 와 하류측 접속부 (154) 사이의 거리는, 1 ㎝ 이상 100 ㎝ 이하여도 되고, 5 ㎝ 이상 50 ㎝ 이하여도 된다.

하류측 접속부 (154) 의 2 개의 개구부는, 배관 (32) 에 접속된다. 하류측 접속부 (154) 의 2 개의 개구부의 일방은, 배관 (32) 의 상류측에 위치하고, 2 개의 개구부 타방은, 배관 (32) 의 하류측에 위치한다. 또, 하류측 접속부 (154) 의 나머지의 1 개의 개구부는, 배관 (32) 과는 떨어진 지점에 위치한다. 하류측 접속부 (154) 의 나머지의 1 개의 개구부는, 배관 (32) 과는 별개의 배관과 접속 가능하다.

본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 는, 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정한다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 와 접속되어 배관 착탈 파트 (140) 를 세정한다. 기판 처리 장치 (100) 에 있어서, 세정 유닛 (160) 은, 이동 가능하게 배치되어도 된다. 혹은, 세정 유닛 (160) 은, 기판 처리 장치 (100) 내에 설치되어도 된다. 예를 들어, 세정 유닛 (160) 은, 처리액 캐비넷 (110) 및/또는 처리액 박스 (120) 내에 설치되어도 된다.

세정 유닛 (160) 은, 약액 공급부 (162a) 와, 세정액 공급부 (162b) 와, 추가 배관 (164) 과, 밸브 (166a) 와, 펌프 (166b) 를 구비한다.

약액 공급부 (162a) 는, 약액을 공급한다. 약액 공급부 (162a) 로부터 공급되는 약액은, 기판 처리 유닛 (10) 에 있어서 기판 (W) 에 공급되는 처리액과 동일해도 되고, 상이해도 된다.

약액 공급부 (162a) 로부터 공급되는 약액은, 배관 착탈 파트 (140) 에 부착된 파티클을 제거한다. 예를 들어, 약액은, 배관 착탈 파트 (140) 의 수지 성분을 제거하는 것이 바람직하다.

이 경우, 약액으로서 알칼리성 또는 유기계의 약액이 바람직하게 사용된다. 예를 들어, 수지 성분의 파티클을 제거하기 위한 약액으로서, 암모니아, 이소프로필알코올 (IPA), 과산화수소수 또는 오존수를 사용해도 된다.

또, 약액 공급부 (162a) 로부터 공급되는 약액은, 배관 착탈 파트 (140) 로부터 금속 성분의 파티클을 제거해도 된다. 예를 들어, 약액은, 배관 착탈 파트 (140) 를 제작할 때의 가공구로부터 배관 착탈 파트 (140) 에 부착된 금속 성분의 파티클을 제거하는 것이 바람직하다.

이 경우, 약액으로서 산성의 약액이 바람직하게 사용된다. 예를 들어, 금속 성분을 제거하기 위한 약액으로서, 염산 또는 불산을 사용해도 된다.

세정액 공급부 (162b) 는, 세정액을 공급한다. 세정액 공급부 (162b) 로부터 공급되는 세정액은, 기판 처리 유닛 (10) 에 있어서 기판 (W) 에 공급되는 처리액과 동일해도 되고, 상이해도 된다. 세정액 공급부 (162b) 는, 탈이온수 (Deionized Water : DIW) 를 포함한다.

추가 배관 (164) 은, 제 1 배관 (164a) 과, 제 2 배관 (164b) 을 포함한다. 제 1 배관 (164a) 의 일단은, 약액 공급부 (162a) 및 세정액 공급부 (162b) 중 어느 것과 접속할 수 있다. 제 1 배관 (164a) 의 타단은, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 의 일방과 접속할 수 있다. 제 2 배관 (164b) 의 일단은, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 의 타방과 접속할 수 있다. 제 2 배관 (164b) 의 타단은, 배액관에 접속된다.

밸브 (166a) 는, 추가 배관 (164) 에 장착된다. 상세하게는, 밸브 (166a) 는, 제 1 배관 (164a) 및 제 2 배관 (164b) 중 적어도 일방에 장착된다. 밸브 (166a) 는, 추가 배관 (164) 내의 유로를 개폐한다. 밸브 (166a) 는, 추가 배관 (164) 의 개도를 조절하여, 추가 배관 (164) 에 공급되는 처리액의 유량을 조정한다. 구체적으로는, 밸브 (166a) 는, 밸브 시트가 내부에 형성된 밸브 보디 (도시하지 않음) 와, 밸브 시트를 개폐하는 밸브체와, 열림 위치와 닫힘 위치 사이에서 밸브체를 이동시키는 액추에이터 (도시하지 않음) 를 포함한다.

펌프 (166b) 는, 추가 배관 (164) 에 장착된다. 상세하게는, 펌프 (166b) 는, 제 1 배관 (164a) 및 제 2 배관 (164b) 중 적어도 일방에 장착된다. 또, 펌프 (166b) 는, 밸브 (166a) 의 상류에 배치되어도 되고, 하류에 배치되어도 된다. 펌프 (166b) 는, 추가 배관 (164) 내의 처리액을 송출한다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 4 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 를 설명한다. 도 4 는, 기판 처리 장치 (100) 의 블록도이다.

도 4 에 나타내는 바와 같이, 제어 장치 (101) 는, 기판 처리 장치 (100) 의 각종 동작을 제어한다. 제어 장치 (101) 는, 인덱서 로봇 (IR), 센터 로봇 (CR), 기판 유지부 (20), 처리액 공급부 (30), 배관 착탈 파트 (140), 세정 유닛 (160) 을 제어한다. 구체적으로는, 제어 장치 (101) 는, 인덱서 로봇 (IR), 센터 로봇 (CR), 기판 유지부 (20), 처리액 공급부 (30), 배관 착탈 파트 (140) 및 세정 유닛 (160) 에 제어 신호를 송신함으로써, 인덱서 로봇 (IR), 센터 로봇 (CR), 기판 유지부 (20), 처리액 공급부 (30), 배관 착탈 파트 (140) 및 세정 유닛 (160) 을 제어한다.

더욱 구체적으로는, 제어부 (102) 는, 인덱서 로봇 (IR) 을 제어하여, 인덱서 로봇 (IR) 에 의해서 기판 (W) 을 주고 받는다.

제어부 (102) 는, 센터 로봇 (CR) 을 제어하여, 센터 로봇 (CR) 에 의해서 기판 (W) 을 주고 받는다. 예를 들어, 센터 로봇 (CR) 은, 미처리의 기판 (W) 을 받고, 복수의 기판 처리 유닛 (10) 중 어느 것에 기판 (W) 을 반입한다. 또, 센터 로봇 (CR) 은, 처리된 기판 (W) 을 기판 처리 유닛 (10) 으로부터 받고, 기판 (W) 을 반출한다.

제어부 (102) 는, 기판 유지부 (20) 를 제어하여, 기판 (W) 의 회전의 개시, 회전 속도의 변경 및 기판 (W) 의 회전의 정지를 제어한다. 예를 들어, 제어부 (102) 는, 기판 유지부 (20) 를 제어하여, 기판 유지부 (20) 의 회전수를 변경할 수 있다. 구체적으로는, 제어부 (102) 는, 기판 유지부 (20) 의 전동 모터 (24) 의 회전수를 변경함으로써, 기판 (W) 의 회전수를 변경할 수 있다.

배관 착탈 파트 (140) 가 구동 가능한 경우, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 동작을 제어한다. 예를 들어, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 를 제어하여, 배관 착탈 파트 (140) 의 동작을 전환할 수 있다. 구체적으로는, 배관 착탈 파트 (140) 가 구동 가능한 밸브인 경우, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 를 제어하여, 배관 착탈 파트 (140) 를 열림 상태로 함으로써, 액체는 배관 착탈 파트 (140) 를 통과할 수 있다. 또, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 를 제어하여, 배관 착탈 파트 (140) 를 닫힘 상태로 함으로써, 배관 착탈 파트 (140) 내의 액체의 흐름을 정지시킬 수 있다.

또한, 제어부 (102) 는, 밸브 (166a) 를 제어하여, 밸브 (166a) 의 상태를 열림 상태와 닫힘 상태로 전환할 수 있다. 제어부 (102) 는, 펌프 (166b) 를 제어하여, 추가 배관 (142) 로 액체를 송출한다. 구체적으로는, 제어부 (102) 는, 밸브 (166a) 및 펌프 (166b) 를 제어하여, 밸브 (166a) 를 열림 상태로 하여 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 향하여 추가 배관 (164) 내를 흐르는 약액 또는 세정액을 통과시킬 수 있다. 또, 제어부 (102) 는, 밸브 (166a) 및 펌프 (166b) 를 제어하여, 밸브 (166a) 를 닫힘 상태로 하여 펌프 (166b) 를 정지시킴으로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 향하는 추가 배관 (164) 내의 약액 또는 세정액의 흐름을 정지시킬 수 있다.

또한, 제어부 (102) 는, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 를 통과하는 액의 흐름을 제어하는 것이 바람직하다. 상세하게는, 제어부 (102) 는, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 에 있어서 연결되는 개구부를 전환하는 것이 바람직하다.

상기 서술한 바와 같이, 기억부 (104) 는, 복수의 레시피 데이터를 기억해도 된다. 복수의 레시피는, 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 처리 내용 및 처리 순서를 규정해도 된다.

본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 는, 반도체 소자를 형성하기 위해서 바람직하게 사용된다. 예를 들어, 기판 처리 장치 (100) 는, 적층 구조의 반도체 소자로서 사용되는 기판 (W) 을 처리하기 위해서 바람직하게 사용된다. 반도체 소자는, 이른바 3D 구조의 메모리 (기억 장치) 이다. 일례로서, 기판 (W) 은, NAND 형 플래시 메모리로서 바람직하게 사용된다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 6 을 참조하여, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 5(a) ∼ 도 6(c) 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다. 여기에서는, 배관 착탈 파트로서, 오래된 배관 착탈 파트 (140a) 를 배관 (32) 으로부터 분리하고 새로운 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 에 장착할 때의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다.

도 5(a) 에 나타내는 바와 같이, 배관 (32) 에는, 배관 착탈 파트 (140a) 가 장착되어 있다. 예를 들어, 배관 착탈 파트 (140a) 는, 밸브 또는 필터이다.

상류측 접속부 (152) 는, 배관 (32) 에 있어서 배관 착탈 파트 (140a) 의 상류측에 위치하고, 하류측 접속부 (154) 는, 배관 (32) 에 있어서 배관 착탈 파트 (140a) 의 하류측에 위치한다. 또한, 배관 착탈 파트 (140a) 를 교환할 때까지, 처리액은, 배관 착탈 파트 (140a) 가 장착된 상태에서 배관 (32) 을 유통한다. 이 때문에, 기판 처리 유닛 (10) 은, 배관 (32) 을 흐른 처리액으로 기판 (W) 을 처리할 수 있다. 한편으로, 배관 착탈 파트 (140a) 를 교환하기 전에는, 밸브 (113) 를 닫아 처리액의 흐름을 정지시킨다.

도 5(b) 에 나타내는 바와 같이, 배관 (32) 으로부터 배관 착탈 파트 (140a) 를 분리하고, 새로운 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 에 장착한다.

도 5(c) 에 나타내는 바와 같이, 상류측 접속부 (152) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단은 약액 공급부 (162a) 에 접속되고, 제 1 배관 (164a) 의 타단은 상류측 접속부 (152) 에 접속된다. 제 1 배관 (164a) 에 밸브 (166a) 및 펌프 (166b) 가 장착되어 있다. 상류측 접속부 (152) 는, 제 1 배관 (164a) 과 배관 착탈 파트 (140) 를 연락하도록 전환한다.

또, 하류측 접속부 (154) 에 세정 유닛 (160) 의 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 제 2 배관 (164b) 의 일단은, 하류측 접속부 (154) 에 접속된다. 제 2 배관 (164b) 의 타단은, 배액관에 연결된다. 하류측 접속부 (154) 는, 배관 착탈 파트 (140) 와 제 2 배관 (164b) 을 연락하도록 전환한다.

도 6(a) 에 나타내는 바와 같이, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 약액 공급부 (162a) 로부터의 약액을 배관 착탈 파트 (140) 에 공급한다. 약액 공급부 (162a) 로부터 공급된 약액은, 제 1 배관 (164a), 배관 (32), 배관 착탈 파트 (140), 배관 (32) 및 제 2 배관 (164b) 을 개재하여 배액관으로 흐른다. 이로써, 배관 (32) 중 상류측 접속부 (152) 와 하류측 접속부 (154) 사이의 부분을 이용하여, 배관 착탈 파트 (140) 를 약액으로 세정할 수 있다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시켜 약액의 흐름을 정지시킨다.

도 6(b) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 배관 (164a) 의 일단의 접속처를, 약액 공급부 (162a) 로부터 세정액 공급부 (162b) 로 변경한다.

도 6(c) 에 나타내는 바와 같이, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 세정액 공급부 (162b) 로부터, 세정액이, 제 1 배관 (164a), 배관 (32), 배관 착탈 파트 (140), 배관 (32) 및 제 2 배관 (164b) 을 개재하여 배액관으로 흐른다. 이로써, 배관 (32) 중 상류측 접속부 (152) 와 하류측 접속부 (154) 사이의 부분을 이용하여, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정액으로 세정할 수 있다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시켜 세정액의 흐름을 정지시킨다.

이상과 같이 하여, 배관 착탈 파트 (140) 를 효율적으로 플러싱할 수 있다. 전형적으로는, 배관 착탈 파트 (140) 를 플러싱한 후, 상류측 접속부 (152) 는, 조제조 (112) 와 배관 착탈 파트 (140) 를 연락하도록 전환하고, 하류측 접속부 (154) 는, 배관 착탈 파트 (140) 와 밸브 (36) 를 연락하도록 전환한다. 이로써, 조제조 (112) 로부터의 처리액이 배관 착탈 파트 (140) 를 통과하여 배관 (32) 을 유통하여 기판 처리 유닛 (10) 까지 흐른다. 기판 처리 유닛 (10) 에 있어서, 기판 (W) 은, 처리액에 의해서 처리된다.

본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법에 의하면, 배관 착탈 파트 (140) 의 주위의 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 와 세정 유닛 (160) 을 접속시켜 배관 착탈 파트 (140) 를 약액 및 세정액으로 세정한다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140) 를 교환한 경우여도, 배관 착탈 파트 (140) 의 플러싱을 위한 약액 및 세정액의 사용량을 저감할 수 있음과 함께, 플러싱 시간을 단축할 수 있다. 또한, 본 실시형태에 의하면, 배관 착탈 파트 (140) 가 장착된 배관 (32) 에 흐르는 처리액과는 별개의 액체로 배관 착탈 파트 (140) 를 세정할 수 있다.

또한, 도 6(a) 에서는, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 제 1 배관 (164a) 을 접속하고, 배관 착탈 파트 (140) 의 하류에 형성된 하류측 접속부 (154) 에 제 2 배관 (164b) 을 접속했지만, 본 실시형태는 이에 한정되지 않는다. 하류측 접속부 (154) 에 제 1 배관 (164a) 을 접속하고, 상류측 접속부 (152) 에 제 2 배관 (164b) 을 접속해도 된다. 이 경우, 약액 공급부 (162a) 로부터 공급된 약액은, 제 1 배관 (164a), 하류측 접속부 (154), 배관 착탈 파트 (140) 를 포함하는 배관 (32), 상류측 접속부 (152) 및 제 2 배관 (164b) 의 순서대로 흐른다. 마찬가지로, 세정액 공급부 (162b) 로부터 공급된 약액은, 제 1 배관 (164a), 하류측 접속부 (154), 배관 착탈 파트 (140) 를 포함하는 배관 (32), 상류측 접속부 (152) 및 제 2 배관 (164b) 의 순서대로 흐른다.

이와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 및 배관 착탈 파트 (140) 의 하류에 형성된 하류측 접속부의 일방에 약액 공급부 (162a) 로부터의 약액을 공급하고, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 의 타방으로부터 약액을 회수해도 된다. 마찬가지로, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 및 배관 착탈 파트 (140) 의 하류에 형성된 하류측 접속부의 일방에 세정액 공급부 (162b) 로부터의 세정액을 공급하고, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 의 타방으로부터 세정액을 회수해도 된다.

단, 배관 착탈 파트 (140) 가 특정 구조의 필터인 경우, 배관 착탈 파트 (140) 는, 일 방향으로부터의 액체를 흐르게 하는 한편으로, 반대 방향으로부터의 액체를 흐르게 하지 않는 경우가 있다. 또, 배관 착탈 파트 (140) 를 처리액이 흐르는 방향과는 반대 방향으로 흐르는 액체로 세정해도, 배관 착탈 파트 (140) 의 파티클을 충분히 제거할 수 없는 경우가 있다. 이 때문에, 세정 유닛 (160) 에서 배관 착탈 파트 (140) 를 세정할 때의 액체가 흐르는 방향은, 조제조 (112) 로부터의 처리액이 배관 착탈 파트 (140) 를 흐를 때의 방향과 동일한 것이 바람직하다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 7 (주로 도 5 ∼ 도 7) 을 참조하여, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 7 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법의 플로도이다.

도 7 에 나타내는 바와 같이, 스텝 Se 에 있어서, 배관 (32) 에 장착된 배관 착탈 파트 (140) 를 교환한다. 상세하게는, 배관 (32) 에 장착된 배관 착탈 파트 (140a) 를 배관 (32) 으로부터 분리하고, 배관 착탈 파트 (140) 를 새로 배관 (32) 에 장착한다.

스텝 Sa 에 있어서, 배관 (32) 에 세정 유닛 (160) 을 장착한다. 상세하게는, 상류측 접속부 (152) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단을 약액 공급부 (162a) 에 접속하고, 제 1 배관 (164a) 의 타단을 상류측 접속부 (152) 에 접속한다. 또, 하류측 접속부 (154) 에 세정 유닛 (160) 의 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 여기에서는, 제 2 배관 (164b) 의 일단을 하류측 접속부 (154) 에 접속하고, 제 2 배관 (164b) 의 타단을 배액관에 접속한다.

스텝 Sc 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 약액을 공급함으로써, 약액은 배관 착탈 파트 (140) 를 통과하고, 세정 유닛 (160) 은, 하류측 접속부 (154) 로부터 약액을 회수한다.

스텝 Sr 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정액을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 세정액을 공급함으로써, 세정액은 배관 착탈 파트 (140) 를 통과하고, 세정 유닛 (160) 은, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

이상과 같이 하여, 배관 착탈 파트 (140) 의 세정을 종료한다. 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 를 개재하여 배관 착탈 파트 (140) 에 약액 및 세정액을 공급하고, 배관 착탈 파트 (140) 를 통과한 약액 및 세정액을 회수할 수 있다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140) 를 효과적으로 세정할 수 있다.

기판 처리 장치 (100) 에 있어서 기판 (W) 을 처리하는 경우, 조제조 (112) 로부터의 처리액이 배관 착탈 파트 (140) 를 흐른다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 으로부터 분리하기 전에, 배관 착탈 파트 (140) 는, 세정액으로 세정되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 으로부터 분리하기 전에, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정액으로 세정해도 된다.

다음으로, 도 8 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 로부터 분리되는 배관 착탈 파트 (140a) 의 세정 방법을 설명한다. 도 8(a) ∼ 도 8(b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 로부터 분리되는 배관 착탈 파트 (140a) 의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.

도 8(a) 에 나타내는 바와 같이, 배관 (32) 에는, 교환 전의 배관 착탈 파트 (140a) 가 장착되어 있다. 상류측 접속부 (152) 는, 배관 착탈 파트 (140a) 에 대해서 배관 (32) 의 상류측에 위치하고, 하류측 접속부 (154) 는, 배관 착탈 파트 (140a) 에 대해서 배관 (32) 의 하류측에 위치한다.

도 8(b) 에 나타내는 바와 같이, 배관 착탈 파트 (140a) 의 상류측에 위치하는 상류측 접속부 (152) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 을 접속하고, 배관 착탈 파트 (140a) 의 하류측에 위치하는 하류측 접속부 (154) 에 세정 유닛 (160) 의 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단에 세정액 공급부 (162b) 가 접속되어 있고, 제 1 배관 (164a) 의 타단에 상류측 접속부 (152) 가 접속되어 있다.

그 후, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시켜, 제 1 배관 (164a), 배관 착탈 파트 (140a) 및 제 2 배관 (164b) 의 순서대로 세정액을 흐르게 한다. 전형적으로는, 세정액은 DIW 이다. 이와 같이 하여, 배관 착탈 파트 (140a) 를 세정 유닛 (160) 의 세정액으로 세정할 수 있다.

도 8(c) 에 나타내는 바와 같이, 배관 (32) 으로부터 배관 착탈 파트 (140a) 를 분리하고, 새로운 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 에 장착한다.

본 실시형태에서는, 배관 착탈 파트 (140a) 를 분리하기 전에, 세정 유닛 (160) 으로 배관 착탈 파트 (140a) 를 세정한다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140a) 를 간편하게 교환할 수 있다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 9 (주로 도 8 및 도 9) 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 9 는, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법의 플로도이다.

도 9 에 나타내는 바와 같이, 스텝 Sa 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140a) 가 장착된 배관 (32) 에 세정 유닛 (160) 을 장착한다. 상세하게는, 상류측 접속부 (152) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단은 약액 공급부 (162a) 에 접속되고, 제 1 배관 (164a) 의 타단은 상류측 접속부 (152) 에 접속된다. 제 1 배관 (164a) 에는, 밸브 (166a) 및 펌프 (166b) 가 장착된다. 또, 하류측 접속부 (154) 에 세정 유닛 (160) 의 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 여기에서는, 제 2 배관 (164b) 의 일단은 하류측 접속부 (154) 에 접속된다.

스텝 Sw 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140a) 에 세정액을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 세정액 공급부 (162b) 로부터의 세정액을 배관 착탈 파트 (140a) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

스텝 Se 에 있어서, 배관 (32) 의 배관 착탈 파트 (140) 를 교환한다. 상세하게는, 배관 (32) 에 장착된 배관 착탈 파트 (140a) 를 배관 (32) 으로부터 분리하고, 배관 착탈 파트 (140) 를 새로 배관 (32) 에 장착한다.

스텝 Sc 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 약액 공급부 (162a) 로부터의 약액을 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 약액을 회수한다.

스텝 Sr 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정액을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 세정액 공급부 (162b) 로부터의 세정액을 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

본 실시형태에 의하면, 배관 (32) 으로부터 배관 착탈 파트 (140a) 를 분리하기 전에, 세정 유닛 (160) 에 의해서 배관 착탈 파트 (140a) 를 세정액으로 세정한다. 이 때문에, 배관 (32) 으로부터 배관 착탈 파트 (140a) 를 분리할 때에, 배관 착탈 파트 (140a) 를 간편하게 취급할 수 있다.

또한, 새로운 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 에 장착하기 전에, 배관 착탈 파트 (140) 는, 세정 유닛 (160) 으로 세정되어도 된다.

다음으로, 도 10 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 장착되는 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 10(a) ∼ 도 10(c) 는 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 장착되는 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.

도 10(a) 에 나타내는 바와 같이, 배관 착탈 파트 (140) 를 배관 (32) 에 장착하기 전에, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정 유닛 (160) 에 장착한다. 상세하게는, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 및 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단은 약액 공급부 (162a) 에 접속되고, 제 1 배관 (164a) 의 타단은 배관 착탈 파트 (140) 의 일단에 접속된다. 또, 제 2 배관 (164b) 의 일단을 배관 착탈 파트 (140) 의 타단에 접속한다. 제 2 배관 (164b) 의 타단은, 배액관에 접속된다.

도 10(b) 에 나타내는 바와 같이, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 약액 공급부 (162a) 로부터, 약액이, 제 1 배관 (164a), 배관 착탈 파트 (140) 및 제 2 배관 (164b) 을 개재하여 배액관으로 흐른다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 약액으로 세정한다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시켜 약액의 흐름을 정지시킨다.

도 10(c) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 배관 (164a) 의 일단의 접속처를, 약액 공급부 (162a) 로부터 세정액 공급부 (162b) 로 변경한다. 그 후, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 세정액 공급부 (162b) 로부터, 세정액이, 제 1 배관 (164a), 배관 착탈 파트 (140) 및 제 2 배관 (164b) 을 개재하여 배액관으로 흐른다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정액으로 세정한다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시키고 세정액의 흐름을 정지시킨다.

본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 에 의해서, 배관 (32) 에 장착하기 전의 배관 착탈 파트 (140) 를 세정할 수 있다. 이 때문에, 배관 (32) 에 배관 착탈 파트 (140) 를 장착한 후의 플러싱 시간을 단축할 수 있다.

또한, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정 유닛 (160) 에 장착한 상태에서 약액 및/또는 처리액이 배관 착탈 파트 (140) 를 흐르는 방향은, 배관 착탈 파트 (140) 가 배관 (32) 에 장착되었을 때에 조제조 (112) 로부터의 처리액이 배관 착탈 파트 (140) 를 흐르는 방향과 동일한 것이 바람직하다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 효과적으로 세정할 수 있다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 11 (주로 도 10 및 도 11) 을 참조하여, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 11 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법의 플로도이다.

도 11 에 나타내는 바와 같이, 스텝 Sba 에 있어서, 배관 (32) 에 장착하기 전의 배관 착탈 파트 (140) 를 세정 유닛 (160) 에 장착한다. 상세하게는, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 및 제 2 배관 (164b) 을 접속한다. 여기에서는, 제 1 배관 (164a) 의 일단은 약액 공급부 (162a) 에 접속되고, 제 1 배관 (164a) 의 타단은 배관 착탈 파트 (140) 의 일단에 접속된다. 또, 제 2 배관 (164b) 의 일단은 배관 착탈 파트 (140) 의 타단에 접속된다. 제 2 배관 (164b) 의 타단은 배액관에 접속된다.

스텝 Sbc 에 있어서, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 약액을 배관 착탈 파트 (140) 에 공급한다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 약액으로 세정할 수 있다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시키고 약액의 공급을 정지시킨다.

스텝 Sbr 에 있어서, 제 1 배관 (164a) 의 일단의 접속처를 약액 공급부 (162a) 로부터 세정액 공급부 (162b) 로 변경한다. 그 후, 밸브 (166a) 를 열어 펌프 (166b) 를 구동시킴으로써, 세정액을 배관 착탈 파트 (140) 에 공급한다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정액으로 세정할 수 있다. 그 후, 밸브 (166a) 를 닫아 펌프 (166b) 의 구동을 정지시키고 세정액의 공급을 정지시킨다.

이상과 같이 하여, 배관 (32) 에 장착하기 전의 배관 착탈 파트 (140) 를 세정해도 된다. 이로써, 배관 (32) 에 배관 착탈 파트 (140) 를 장착한 후의 플러싱 시간을 단축할 수 있다.

상기 서술한 바와 같이, 기억부 (104) 는, 배관 (32) 에 장착하기 전의 배관 착탈 파트 (140) 를 세정하기 위한 레시피 데이터를 기억해도 된다. 이로써, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정 유닛 (160) 에 장착한 후에, 배관 착탈 파트 (140) 를 약액 및 세정액으로 세정할 수 있다.

또한, 도 3 ∼ 도 11 을 참조한 상기 서술한 설명에서는, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액 및 세정액을 각각 1 회 공급했지만, 본 실시형태는, 이에 한정되지 않는다. 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액 및 세정액을 각각 복수 회 공급해도 된다. 이 경우, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액 및 세정액을 각각 교대로 공급하는 것이 바람직하다. 또한, 약액으로서 상이한 종류의 약액을 사용하는 것이 바람직하다.

다음으로, 도 12 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 세정 유닛 (160) 을 설명한다. 도 12 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 세정 유닛 (160) 의 모식도이다. 도 12 에 나타낸 세정 유닛 (160) 은, 약액 공급부 (162a) 가 제 1 약액 공급부 (162a1) 및 제 2 약액 공급부 (162a2) 를 포함하는 점을 제외하고, 도 3 에 나타낸 세정 유닛 (160) 과 동일한 구성을 갖고 있어, 긴 설명을 피하는 목적에서 중복되는 설명을 생략한다.

도 12 에 나타내는 바와 같이, 약액 공급부 (162a) 는, 제 1 약액 공급부 (162a1) 와, 제 2 약액 공급부 (162a2) 를 포함한다. 제 1 약액 공급부 (162a1) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 금속 성분을 제거하기 위해서 사용된다. 제 2 약액 공급부 (162a2) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 수지 성분을 제거하기 위해서 사용된다.

제 1 약액 공급부 (162a1) 로부터 공급되는 약액은, 산성을 나타낸다. 예를 들어, 제 1 약액 공급부 (162a1) 로부터 공급되는 약액은, 염산 또는 불산이다. 본 명세서에 있어서, 제 1 약액 공급부 (162a1) 로부터 공급되는 약액을 제 1 약액이라고 기재하는 경우가 있다.

제 2 약액 공급부 (162a2) 로부터 공급되는 약액은, 알칼리성을 나타낸다. 혹은, 제 2 약액 공급부 (162a2) 로부터 공급되는 약액은 유기계이다. 예를 들어, 제 2 약액 공급부 (162a2) 로부터 공급되는 약액은, 암모니아, 이소프로필알코올 (IPA), 과산화수소수 또는 오존수이다. 본 명세서에 있어서, 제 2 약액 공급부 (162a2) 로부터 공급되는 약액을 제 2 약액이라고 기재하는 경우가 있다.

다음으로, 도 1 ∼ 도 13 (주로 도 12 및 도 13) 을 참조하여, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법을 설명한다. 도 13 은, 본 실시형태의 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 방법의 플로도이다. 도 13 에 나타낸 플로도는, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액 및 세정액이 교대로 2 회 공급되는 점을 제외하고, 도 9 에 나타낸 플로도와 동일하여, 긴 설명을 피하는 목적에서 중복되는 설명을 생략한다.

도 13 에 나타내는 바와 같이, 스텝 Sa 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140a) 가 장착된 배관 (32) 에 세정 유닛 (160) 을 장착한다.

스텝 Se 에 있어서, 배관 (32) 에 장착된 배관 착탈 파트 (140) 를 교환한다. 상세하게는, 배관 (32) 에 장착된 배관 착탈 파트 (140a) 를 배관 (32) 으로부터 분리하고, 배관 착탈 파트 (140) 를 새로 배관 (32) 에 장착한다.

스텝 Sc1 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액을 공급한다. 여기에서는, 제 1 약액 공급부 (162a1) 로부터, 추가 배관 (164) 을 개재하여 배관 착탈 파트 (140) 에 산성의 제 1 약액을 공급한다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 의 금속 성분을 제거할 수 있다. 예를 들어, 제 1 약액 공급부 (162a1) 는, 제 1 약액으로서 염산 또는 불산을 공급한다. 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 제 1 약액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 제 1 약액을 회수한다.

스텝 Sr1 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정액을 공급한다. 예를 들어, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 세정액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

스텝 Sc2 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 약액을 공급한다. 여기에서는, 제 2 약액 공급부 (162a2) 로부터, 추가 배관 (164) 을 개재하여 배관 착탈 파트 (140) 에 알칼리성 또는 유기계의 제 2 약액을 공급한다. 이로써, 배관 착탈 파트 (140) 의 수지 성분을 제거할 수 있다. 예를 들어, 제 2 약액 공급부 (162a2) 는, 알칼리성 또는 유기계의 제 2 약액으로서, 암모니아, 이소프로필알코올 (IPA), 과산화수소수 또는 오존수를 공급한다. 예를 들어, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 제 2 약액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 제 2 약액을 회수한다.

스텝 Sr2 에 있어서, 배관 착탈 파트 (140) 에 세정액을 공급한다. 예를 들어, 세정 유닛 (160) 은, 배관 착탈 파트 (140) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152) 에 세정액을 공급하고, 하류측 접속부 (154) 로부터 세정액을 회수한다.

이상과 같이 하여, 배관 착탈 파트 (140) 의 세정을 종료한다. 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 를 개재하여 배관 착탈 파트 (140) 에 2 종류의 약액 및 세정액을 공급하고, 배관 착탈 파트 (140) 로부터 약액 및 세정액을 회수할 수 있다. 이 때문에, 배관 착탈 파트 (140) 로부터 금속 성분 및 수지 성분의 양방의 파티클이 발생되는 경우여도, 배관 착탈 파트 (140) 를 효과적으로 세정할 수 있다.

다음으로, 도 14 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 14 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

도 14 에 나타내는 바와 같이, 조제조 (112) 의 처리액은, 배관 (32a) 을 흐른다. 배관 (32a) 은, 조제조 (112) 로부터 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 세정액은, 배관 (32b) 을 흐른다. 배관 (32b) 은, 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 공통 배관 (32s) 은, 배관 (32a), 배관 (32b) 및 배관 (32) 과 접속된다. 배관 (32) 은, 공통 배관 (32s) 으로부터 기판 처리 유닛 (10) 까지 연장된다.

이 때문에, 조제조 (112) 의 처리액은, 배관 (32a) 으로부터 공통 배관 (32s) 을 통한 후, 배관 (32) 을 통과하여 노즐 (34) 로부터 기판 (W) 에 공급된다. 또, 세정액은, 배관 (32b) 으로부터 공통 배관 (32s) 을 통한 후, 배관 (32) 을 통과하여 노즐 (34) 로부터 기판 (W) 에 공급된다.

처리액 캐비넷 (110) 은, 케이싱 (111) 과, 조제조 (112) 와, 밸브 (113) 와, 펌프 (114) 와, 온조 기기 (115) 와, 전동 밸브 (116) 와, 유량계 (117) 와, 필터 (142a) 와, 상류측 접속부 (152a) 와, 하류측 접속부 (154a) 를 구비한다. 밸브 (113), 펌프 (114), 온조 기기 (115), 상류측 접속부 (152a), 필터 (142a) 및 하류측 접속부 (154) 는, 배관 (32a) 에 이 순서대로 배치된다.

밸브 (113) 는, 배관 (32a) 내의 유로를 개폐한다. 밸브 (113) 는, 배관 (32a) 의 개도를 조절하여, 배관 (32a) 에 공급되는 처리액의 유량을 조정한다. 구체적으로는, 밸브 (113) 는, 밸브 시트가 내부에 형성된 밸브 보디 (도시하지 않음) 와, 밸브 시트를 개폐하는 밸브체와, 열림 위치와 닫힘 위치 사이에서 밸브체를 이동시키는 액추에이터 (도시하지 않음) 를 포함한다.

펌프 (114) 는, 배관 (32a) 에 처리액을 보낸다. 온조 기기 (115) 는, 배관 (32) 을 흐르는 처리액을 가열한다. 온조 기기 (115) 에 의해서, 처리액의 온도를 조정할 수 있다.

필터 (142a) 는, 배관 (32a) 을 흐르는 처리액을 여과한다. 필터 (142a) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 일례이다.

배관 (32a) 에 있어서, 필터 (142a) 의 상류측에 상류측 접속부 (152a) 가 장착되어 있고, 필터 (142a) 의 하류측에 하류측 접속부 (154a) 가 장착되어 있다.

배관 (32a) 은, 처리액 캐비넷 (110) 의 조제조 (112) 로부터 처리액 박스 (120) 의 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 또, 배관 (32a) 은, 처리액 캐비넷 (110) 과 처리액 박스 (120) 사이에 있어서 배관 (32c) 에 접속된다. 또한, 여기에서는 도시하지 않지만, 배관 (32a) 은, 처리액 캐비넷 (110) 과 처리액 박스 (120) 사이에 있어서 다른 타워 (TW) 또는 다른 기판 처리 유닛 (10) 으로 분기한다. 배관 (32c) 은, 처리액 캐비넷 (110) 내의 조제조 (112) 까지 연장된다. 전동 밸브 (116) 및 유량계 (117) 는, 배관 (32c) 에 장착된다. 배관 (32c) 은, 처리액의 순환 경로가 된다.

예를 들어, 온조 기기 (115) 를 사용하여 조제조 (112) 의 처리액을 일정 온도까지 가열하는 경우, 조제조 (112) 로부터 배관 (32a) 으로 흐르는 처리액은, 배관 (32c) 을 통하여 조제조 (112) 로 돌아오도록 순환하는 것이 바람직하다.

처리액 박스 (120) 는, 공통 배관 (32s) 과, 밸브 (36) 와, 케이싱 (121) 과, 밸브 (122a) 와, 밸브 (122b) 와, 전동 밸브 (123a) 와, 전동 밸브 (123b) 와, 유량계 (124a) 와, 유량계 (124b) 와, 밸브 (129) 와, 상류측 접속부 (152b) 와, 상류측 접속부 (152c) 와, 하류측 접속부 (154b) 를 구비한다. 밸브 (36), 밸브 (122a), 밸브 (122b), 전동 밸브 (123a), 전동 밸브 (123b), 유량계 (124a), 유량계 (124b), 밸브 (129), 상류측 접속부 (152b), 상류측 접속부 (152c) 및 하류측 접속부 (154b) 는, 케이싱 (121) 에 수용된다. 밸브 (122a), 전동 밸브 (123a), 유량계 (124a) 및 상류측 접속부 (152b) 는, 배관 (32a) 에 장착된다.

배관 (32b) 에는 세정액이 흐른다. 배관 (32b) 에는, 상류측 접속부 (152r) 와, 필터 (142r), 하류측 접속부 (154r), 유량계 (124b), 전동 밸브 (123b), 상류측 접속부 (152c) 및 밸브 (122b) 가 이 순서대로 배치된다. 필터 (142r) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 일례이다.

배관 (32) 에는, 처리액 및 세정액이 흐른다. 배관 (32) 에는, 밸브 (36) 및 하류측 접속부 (154b) 가 장착된다.

공통 배관 (32s) 은, 밸브 (129) 를 개재하여 배액관과 접속된다. 이 때문에, 밸브 (129) 를 열음으로써, 공통 배관 (32s) 을 흐르는 처리액 또는 세정액을 폐기할 수 있다.

여기에서는, 필터 (142r) 에 대해서 세정 유닛 (160) 이 장착된다. 세정 유닛 (160) 은, 약액 공급부 (162a), 세정액 공급부 (162b), 추가 배관 (164), 밸브 (166a) 및 펌프 (166b) 에 더하여, 필터 (166c) 및 탱크 (168) 를 추가로 구비한다.

상세하게는, 필터 (142r) 의 상류에 위치하는 상류측 접속부 (152r) 에 세정 유닛 (160) 의 제 1 배관 (164a) 이 접속되고, 필터 (142r) 의 하류에 위치하는 하류측 접속부 (154r) 에 세정 유닛 (160) 의 제 2 배관 (164b) 이 접속된다. 제 1 배관 (164a) 에는, 밸브 (166a), 펌프 (166b) 에 더하여 필터 (166c) 가 장착된다.

약액 공급부 (162a) 는, 제 1 약액 공급부 (162a1) 와, 제 2 약액 공급부 (162a2) 와, 제 3 약액 공급부 (162a3) 를 포함한다. 제 1 약액 공급부 (162a1) ∼ 제 3 약액 공급부 (162a3) 로부터 공급되는 약액은 서로 상이하다.

제 1 약액 공급부 (162a1) 는, 탱크 (168) 에 약액을 공급한다. 상세하게는, 제 1 약액 공급부 (162a1) 는, 공통 배관 (164m) 및 제 3 배관 (164c) 을 개재하여 탱크 (168) 에 약액을 공급한다. 제 1 약액 공급부 (162a1) 와 공통 배관 (164)) 사이에는 밸브 (167a1) 가 장착된다. 제 3 배관 (164c) 에는, 밸브 (167c) 가 장착된다.

제 2 약액 공급부 (162a2) 및 제 3 약액 공급부 (162a3) 는, 제 1 약액 공급부 (162a1) 와 동일한 구성을 갖는다.

세정액 공급부 (162b) 는, 탱크 (168) 에 세정액을 공급한다. 상세하게는, 세정액 공급부 (162b) 는, 공통 배관 (164m) 및 제 3 배관 (164c) 을 개재하여 탱크 (168) 에 세정액을 공급한다. 세정액 공급부 (162b) 와 공통 배관 (164m) 사이에는 밸브 (167b) 가 장착된다.

탱크 (168) 는, 약액 또는 세정액을 저류한다. 제 1 배관 (164a) 의 일단은, 탱크 (168) 에 위치하고, 제 1 배관 (164a) 의 타단은, 상류측 접속부 (152r) 에 위치한다. 제 2 배관 (164b) 의 일단은, 하류측 접속부 (154r) 에 위치하고, 제 2 배관 (164b) 의 타단은, 탱크 (168) 에 위치한다. 이 때문에, 탱크 (168) 에 저류된 약액 또는 세정액에 의해서, 필터 (142r) 를 세정할 수 있다. 탱크 (168) 에 의해서, 약액 및 세정액을 필터 (142a) 로 순환시킬 수 있다. 이 때문에, 필터 (142r) 를 세정할 때의 약액 및 세정액의 소비량을 억제할 수 있다.

탱크 (168) 는, 배액관과 접속된다. 탱크 (168) 와 배액관 사이의 배관에는 밸브 (169a) 가 장착된다. 밸브 (169a) 를 닫음으로써, 탱크 (168) 에 약액 또는 세정액을 저류시킬 수 있다. 또, 밸브 (169a) 를 열음으로써, 탱크 (168) 에 저류된 약액 또는 세정액을 폐기할 수 있다.

추가 배관 (164) 에, 파티클 카운터 (170) 를 장착해도 된다. 여기에서는, 파티클 카운터 (170) 는, 제 2 배관 (164b) 으로부터 분기된 샘플링 배관에 장착된다. 파티클 카운터 (170) 에 의해서, 추가 배관 (164) 을 흐르는 약액 및/또는 세정액 내의 파티클수를 측정할 수 있다.

약액 및 세정액 내의 파티클수를 측정할 수 있을 경우, 제어부 (102) (도 1) 는, 파티클 카운터 (170) 의 측정 결과에 기초하여, 배관 착탈 파트 (140) 에 공급하는 액체를 전환해도 된다. 예를 들어, 제어부 (102) 는, 파티클 카운터 (170) 의 측정 결과에 기초하여, 밸브 (167a1) ∼ 밸브 (167c) 의 개폐를 전환해도 된다. 또, 기억부 (104) (도 1) 에 기억되는 복수의 레시피는, 파티클 카운터 (170) 의 측정 결과를 파라미터로 하여, 배관 착탈 파트 (140) 의 세정 처리 내용 및 처리 순서를 규정해도 된다.

또한, 도 14 에서는, 세정 유닛 (160) 은, 필터 (142r) 에 대해서 장착되었지만, 세정 유닛 (160) 은, 필터 (142a) 에 대해서 장착되어도 된다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152a) 및 하류측 접속부 (154a) 에 접속함으로써, 필터 (142a) 를 세정할 수 있다.

또, 세정 유닛 (160) 은, 밸브 (122a) 및 밸브 (36) 에 대해서 장착되어도 된다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152b) 및 하류측 접속부 (154b) 에 접속함으로써, 밸브 (122a) 및 밸브 (36) 를 세정할 수 있다. 밸브 (122a) 및 밸브 (36) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 일례이다.

마찬가지로, 세정 유닛 (160) 은, 밸브 (122b) 및 밸브 (36) 에 대해서 장착되어도 된다. 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152c) 및 하류측 접속부 (154b) 에 접속함으로써, 밸브 (122b) 및 밸브 (36) 를 세정할 수 있다. 밸브 (122b) 및 밸브 (36) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 일례이다.

상기 서술한 바와 같이, 기억부 (104) (도 1) 는, 배관 착탈 파트 (140) 를 세정하기 위한 레시피 데이터를 기억해도 된다. 기억부 (104) 는, 배관 착탈 파트 (140) 에 따라서 상이한 레시피를 기억하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 기억부 (104) 는, 필터 (142a) 를 세정하기 위한 레시피와, 필터 (142r) 를 세정하기 위한 레시피를 별도의 레시피로서 기억하는 것이 바람직하다. 이로써, 제어부 (102) 는, 배관 착탈 파트 (140) 의 종류에 따라서 배관 착탈 파트 (140) 를 효과적으로 세정할 수 있다.

상기 서술한 바와 같이, 배관 (32a) 은, 배관 (32c) 과 접속되어 있고, 처리액은, 소정의 온도로 유지되도록 조제조 (112), 배관 (32a) 및 배관 (32c) 을 순환할 수 있다. 이와 같은 기판 처리 장치 (100) 에서는, 필터 (142a) 를 새로 교환하면, 필터 (142a) 에 부착된 파티클은, 처리액과 함께 조제조 (112), 배관 (32a) 및 배관 (32c) 을 순환해 버려, 기판 (W) 을 처리할 때의 기판 (W) 의 특성을 저하시키는 경우가 있다. 그러나, 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 에 의해서, 새로 교환된 필터 (142a) 를 효율적으로 세정할 수 있기 때문에, 파티클에서 기인하는 문제를 억제할 수 있다.

또, 배관 (32b) 은, 기판 (W) 을 처리할 때에는, 세정액밖에 흐르지 않는다. 이 때문에, 배관 (32b) 에 장착된 필터 (142r) 를 세정액만으로 플러싱해도 충분히 파티클을 제거할 수 없고, 플러싱 시간이 길어지는 경우가 있다. 이에 비해서, 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 에 의해서, 배관 (32b) 에 장착된 필터 (142r) 에 약액을 공급할 수 있기 때문에, 필터 (142r) 를 바람직하게 세정할 수 있다.

또, 배관 (32b) 을 흐르는 세정액으로 필터 (142r) 의 플러싱을 행할 경우, 폐기되는 세정액은, 공통 배관 (32s) 및 밸브 (129) 를 통하여 배액관으로 흐르기 때문에, 공통 배관 (32s) 으로 파티클이 흘러들어갈 우려가 있다. 이에 비해서, 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 에 의해서, 배관 (32b) 에 장착된 필터 (142r) 의 플러싱에 사용하는 액체를 공통 배관 (32s) 에 흐르게 하지 않아도 되기 때문에, 공통 배관 (32s) 을 청정하게 유지할 수 있다.

또한, 기판 처리 장치 (100) 의 배관 구성이 복잡할 경우, 필터 (142r) 에 부착된 파티클이 배관에 걸쳐서 확산되면, 파티클이 확산된 배관을 충분히 플러싱하기가 곤란해진다. 이에 비해서, 본 실시형태에 의하면, 세정 유닛 (160) 에 의해서, 배관 (32b) 에 장착된 필터 (142r) 를 선택적으로 세정하기 때문에, 파티클이 기판 처리 장치 (100) 의 배관 내에 확산되는 것을 억제할 수 있다.

또한, 도 14 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 에서는, 세정 유닛 (160) 은, 약액 또는 세정액을 순환하여 사용하였다. 그러나, 약액 또는 세정액으로 배관 착탈 파트 (140) 를 세정하면, 배관 착탈 파트 (140) 로부터 많은 파티클이 흘러나오는 경우가 있다. 이 때문에, 약액 또는 세정액은 폐기 가능해도 된다.

다음으로, 도 15 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 15(a) 및 도 15(b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 세정 유닛 (160) 의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

도 15(a) 에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 탱크 (168) 를 갖지 않고, 제 1 배관 (164a) 은, 공통 배관 (164m) 과 직접 접속된다. 이로써, 제 1 약액 공급부 (162a1) ∼ 제 3 약액 공급부 (162a3) 또는 세정액 공급부 (162b) 로부터의 약액 또는 세정액을 필터 (142r) 에 공급할 수 있다. 이 경우, 필터 (142r) 로부터 많은 파티클이 흘러나오는 경우여도, 약액 또는 세정액을 폐기하기 때문에, 필터 (142r) 를 효율적으로 세정할 수 있다.

혹은, 도 15(b) 에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 탱크 (168) 를 갖는 경우여도, 제 2 배관 (164b) 은, 도중에 배액관에 접속된 배관으로 분기되어 있고, 이 배관에 밸브 (169b) 가 장착되어도 된다. 이로써, 제 2 배관 (164b) 을 흐르는 약액 또는 세정액을 선택적으로 폐기할 수 있다.

예를 들어, 약액 또는 세정액으로 배관 착탈 파트 (140) 의 세정을 개시할 경우, 개시 직후에는, 배관 착탈 파트 (140) 로부터 많은 파티클이 유출되는 경우가 있다. 이 경우, 세정을 개시한 직후의 약액 또는 세정액을 선택적으로 폐기하고, 소정 기간 경과 후의 약액 또는 세정액을 순환하여 이용함으로써, 배관 착탈 파트 (140) 를 효율적으로 세정할 수 있다.

또한, 도 3 ∼ 도 15 를 참조한 상기 서술한 설명에서는, 세정 유닛 (160) 은, 약액 공급부 (162a) 및 세정액 공급부 (162b) 로부터 각각 공급되는 약액 및 세정액으로 배관 착탈 파트 (140) 를 세정했지만, 본 실시형태는 이에 한정되지 않는다. 세정 유닛 (160) 은, 기판 처리 유닛 (10) 에 공급 가능한 약액 및 세정액으로 배관 착탈 파트 (140) 를 세정해도 된다.

다음으로, 도 16 및 도 17 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 16 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

도 16 에 나타내는 바와 같이, 조제조 (112) 의 처리액은, 배관 (32a) 을 흐른다. 여기에서는, 처리액은 약액이다. 본 명세서에 있어서, 배관 (32a) 을 약액 배관이라고 기재하는 경우가 있다. 배관 (32a) 은, 조제조 (112) 로부터 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 세정액은, 배관 (32b) 을 흐른다. 배관 (32b) 은, 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 공통 배관 (32s) 은, 배관 (32a), 배관 (32b) 및 배관 (32) 과 접속된다. 배관 (32) 은, 공통 배관 (32s) 으로부터 기판 처리 유닛 (10) 까지 연장된다.

처리액 캐비넷 (110) 은, 케이싱 (111) 과, 조제조 (112) 와, 밸브 (113) 와, 펌프 (114) 와, 전동 밸브 (116) 와, 유량계 (117) 와, 필터 (142a) 와, 상류측 접속부 (152a) 와, 하류측 접속부 (154a) 를 구비한다. 조제조 (112) 는, 처리액을 조제한다.

배관 (32a) 은, 조제조 (112) 와 공통 배관 (32s) 을 접속한다. 배관 (32a) 에는, 밸브 (113), 펌프 (114), 상류측 접속부 (152a), 필터 (142a), 하류측 접속부 (154a) 가 이 순서대로 배치된다.

배관 (32a) 은, 처리액 캐비넷 (110) 의 조제조 (112) 로부터 처리액 박스 (120) 의 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 또, 배관 (32a) 은, 처리액 캐비넷 (110) 과 처리액 박스 (120) 사이에 있어서 배관 (32c) 에 접속된다. 배관 (32c) 은, 처리액 캐비넷 (110) 내의 조제조 (112) 까지 연장된다. 전동 밸브 (116) 및 유량계 (117) 는, 배관 (32c) 에 장착된다. 배관 (32c) 은, 처리액의 순환 경로가 된다.

처리액 박스 (120) 는, 공통 배관 (32s) 과, 밸브 (36) 와, 케이싱 (121) 과, 밸브 (122a) 와, 밸브 (122r) 를 구비한다. 밸브 (36), 밸브 (122a), 밸브 (122r) 는, 케이싱 (121) 에 수용된다. 밸브 (122a) 는, 배관 (32a) 에 장착된다.

배관 (32b) 에는 세정액이 흐른다. 배관 (32b) 에는, 상류측 접속부 (152r) 와, 필터 (142r), 하류측 접속부 (154r) 및 밸브 (122r) 가 이 순서대로 배치된다.

본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 는, 상류측 접속부 (152a), 하류측 접속부 (154a), 상류측 접속부 (152r) 및 하류측 접속부 (154r) 를 구비한다. 배관 (32a) 에 장착된 상류측 접속부 (152a) 및 하류측 접속부 (154a) 중 적어도 일방은, 배관 (32b) 과 연락하는 것이 바람직하다. 또, 배관 (32b) 에 장착된 상류측 접속부 (152r) 및 하류측 접속부 (154r) 중 적어도 일방은, 배관 (32a) 과 연락하는 것이 바람직하다.

도 17(a) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 도 17(a) 에 나타내는 바와 같이, 배관 (32b) 에 장착된 상류측 접속부 (152r) 는, 배관 (32a) 과 연락한다.

기판 처리 장치 (100) 는, 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 여기에서, 세정 유닛 (160) 은, 추가 배관 (164) 을 갖는다. 추가 배관 (164) 은, 상류측 접속부 (152a) 와, 상류측 접속부 (152r) 를 접속하는 제 1 배관 (164p) 과, 하류측 접속부 (154r) 와 조제조 (112) 를 연락하는 제 2 배관 (164q) 을 포함한다.

제 1 배관 (164p) 에 의해서, 배관 (32a) 을 흐르는 처리액을 약액으로서 상류측 접속부 (152r) 에 공급할 수 있다. 또, 제 2 배관 (164q) 에 의해서, 배관 (32b) 의 필터 (142r) 부분을 흐르는 처리액을 조제조 (112) 로 돌릴 수 있다.

이와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 제 1 배관 (164p) 에 의해서, 필터 (142r) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152r) 에 약액으로서 처리액을 공급함으로써, 처리액은 필터 (142r) 를 통과하고, 세정 유닛 (160) 은, 제 2 배관 (164q) 에 의해서 하류측 접속부 (154r) 로부터 처리액을 회수할 수 있다.

도 17(b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 도 17(b) 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 는, 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 여기에서, 세정 유닛 (160) 은, 추가 배관 (164) 을 갖는다. 추가 배관 (164) 은, 상류측 접속부 (152r) 와, 상류측 접속부 (152a) 를 접속하는 제 1 배관 (164f) 과, 하류측 접속부 (154a) 와, 배액관을 연락하는 제 2 배관 (164g) 을 갖는다. 여기에서는, 배관 (32a) 에 장착된 상류측 접속부 (152a) 는, 배관 (32b) 과 연락한다.

기판 처리 장치 (100) 는, 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 여기에서, 세정 유닛 (160) 은, 상류측 접속부 (152r) 와 상류측 접속부 (152a) 를 접속하는 제 1 배관 (164f) 과, 하류측 접속부 (154a) 와 배액관을 연락하는 제 2 배관 (164g) 을 갖는다.

제 1 배관 (164f) 에 의해서, 배관 (32b) 을 흐르는 세정액을 상류측 접속부 (152a) 에 공급할 수 있다. 또, 제 2 배관 (164g) 에 의해서, 배관 (32a) 의 필터 (142a) 부분을 흐르는 처리액을 배액관으로 흐르게 할 수 있다.

이와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 제 1 배관 (164f) 에 의해서, 필터 (142a) 의 상류에 형성된 상류측 접속부 (152a) 에 세정액을 공급함으로써, 세정액은 필터 (142a) 를 통과하고, 세정 유닛 (160) 은, 제 2 배관 (164g) 에 의해서 하류측 접속부 (154a) 로부터 세정액을 회수할 수 있다.

또한, 도 17(a) 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 에서는, 필터 (142a) 의 상류측에 위치하는 상류측 접속부 (152a) 를 이용하여 필터 (142r) 에 약액을 공급하고, 도 17(b) 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 에서는, 필터 (142r) 의 상류측에 위치하는 상류측 접속부 (152r) 를 이용하여 필터 (142a) 에 세정액을 공급했지만, 본 실시형태는 이에 한정되지 않는다. 배관 착탈 파트 (140) 는, 상류측 접속부 (152) 및 하류측 접속부 (154) 와는 상이한 접속부를 이용하여 세정되어도 된다.

다음으로, 도 18 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 18 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 도 18 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 는, 배관 (32a) 에, 온조 기기 (115) 및 접속부 (156) 가 추가로 장착되고, 제 1 배관 (164p) 이 접속부 (156) 에 접속되는 점을 제외하고, 도 16 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 와 동일한 구성을 갖고 있어, 긴 설명을 피하는 목적에서 중복되는 설명을 생략한다.

도 18 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 에서는, 배관 (32a) 에, 밸브 (113), 펌프 (114), 필터 (142a), 상류측 접속부 (152a), 하류측 접속부 (154a) 에 더하고, 온조 기기 (115) 및 접속부 (156) 가 추가로 장착된다. 접속부 (156) 는, 펌프 (114) 와 온조 기기 (115) 사이에 배치된다. 접속부 (156) 는, 상류측 접속부 (152a) 또는 하류측 접속부 (154a) 와 동일한 구성을 갖고 있다.

여기에서, 세정 유닛 (160) 은, 접속부 (156) 와 상류측 접속부 (152r) 를 접속하는 제 1 배관 (164p) 과, 하류측 접속부 (154r) 와 조제조 (112) 를 연락하는 제 2 배관 (164q) 을 갖는다.

제 1 배관 (164p) 에 의해서, 배관 (32a) 을 흐르는 처리액을 약액으로서 상류측 접속부 (152r) 에 공급할 수 있다. 또, 제 2 배관 (164q) 에 의해서, 배관 (32b) 의 필터 (142r) 부분을 흐르는 처리액을 조제조 (112) 로 흐르게 할 수 있다.

다음으로, 도 19 를 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 19 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다. 도 19 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 는, 접속부 (156) 를 추가로 구비함과 함께 세정 유닛 (160) 을 생략한 것을 제외하고, 도 14 에 나타낸 기판 처리 장치 (100) 와 동일한 구성을 갖고 있어, 긴 설명을 피하는 목적에서 중복되는 설명을 생략한다.

도 19 에 나타내는 바와 같이, 조제조 (112) 의 처리액은, 배관 (32a) 을 흐른다. 배관 (32a) 은, 조제조 (112) 로부터 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 세정액은, 배관 (32b) 을 흐른다. 배관 (32b) 은, 공통 배관 (32s) 까지 연장된다. 공통 배관 (32s) 은, 배관 (32a), 배관 (32b) 및 배관 (32) 과 접속된다. 배관 (32) 은, 공통 배관 (32s) 으로부터 기판 처리 유닛 (10) 까지 연장된다.

배관 (32a) 에는, 밸브 (113), 펌프 (114), 접속부 (156), 온조 기기 (115), 상류측 접속부 (152a), 필터 (142a) 및 하류측 접속부 (154) 가 이 순서대로 배치된다.

배관 (32b) 에는, 세정액이 흐른다. 배관 (32b) 에는, 상류측 접속부 (152r) 와, 필터 (142r), 하류측 접속부 (154r), 유량계 (124b), 전동 밸브 (123b), 상류측 접속부 (152c) 및 밸브 (122r) 가 이 순서대로 배치된다.

세정 유닛 (160) 을 개재하여 배관 착탈 파트 (140) 에 약액으로서 처리액을 공급하고, 처리액으로 배관 착탈 파트 (140) 를 세정하는 경우, 처리액을 조제조 (112) 로 순환하는 것이 바람직하다. 단, 배관 착탈 파트 (140) 를 처리액으로 세정하기 시작하면, 처리액 내의 파티클의 양이 증대되는 경우가 있다. 이 경우, 처리액은, 조제조 (112) 로 순환 가능함과 함께 부분적으로 폐기 가능한 것이 바람직하다.

다음으로, 도 20 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 20(a) 및 도 20(b) 는, 본 실시형태의 기판 처리 장치에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

도 20(a) 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 는, 세정 유닛 (160) 을 구비한다. 여기에서, 세정 유닛 (160) 은, 접속부 (156) 과 상류측 접속부 (152r) 를 접속하는 제 1 배관 (164p) 과, 하류측 접속부 (154r) 와 조제조 (112) 를 연락하는 제 2 배관 (164q) 을 갖는다.

또한, 여기에서는, 제 2 배관 (164q) 에 밸브 (166d) 가 장착됨과 함께 제 2 배관 (164q) 으로부터 분기되어 배액관과 접속되는 배관에 밸브 (166e) 가 장착된다. 이 때문에, 밸브 (166e) 에 의해서, 제 2 배관 (164q) 을 통하여 조제조 (112) 로 돌아오는 처리액을 선택적으로 폐기할 수 있다.

또, 도 20(b) 에 나타내는 바와 같이, 세정 유닛 (160) 은, 접속부 (156) 와 상류측 접속부 (152r) 를 접속하는 제 1 배관 (164p) 과, 하류측 접속부 (154r) 와 조제조 (112) 를 연락하는 제 2 배관 (164q) 을 갖는다. 또한, 도 20(b) 에서는, 도 20(a) 와는 달리, 접속부 (156) 는, 온조 기기 (115) 와 상류측 접속부 (152a) 사이에 위치한다. 따라서, 제 1 배관 (164p) 에 의해서, 배관 (32a) 을 흐르는 처리액을 비교적 높은 온도로 가열하여 상류측 접속부 (152r) 에 공급할 수 있다. 또, 제 2 배관 (164q) 에 의해서, 배관 (32b) 의 필터 (142r) 부분을 흐르는 처리액을 조제조 (112) 로 흐르게 할 수 있다.

다음으로, 도 21 을 참조하여, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명한다. 도 21 은, 본 실시형태의 기판 처리 장치 (100) 에 있어서의 배관 구성을 설명하기 위한 모식도이다.

도 21 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (100) 에 있어서, 세정 유닛 (160) 의 추가 배관 (164) 은, 분기 구조를 갖는다. 상세하게는, 추가 배관 (164) 은, 배관 (164s) 과, 배관 (164t) 과, 배관 (164u) 과, 배관 (164v) 과, 배관 (164w) 과, 배관 (164x) 을 갖는다.

배관 (164s) 은, 접속부 (156) 에 접속된다. 배관 (164s) 의 일단은, 접속부 (156) 에 접속되고, 배관 (164s) 의 타단은, 배관 (164t) 및 배관 (164u) 의 일단과 접속된다. 이 때문에, 배관 (164s) 은, 배관 (164t) 및 배관 (164u) 과 분기점 (164y) 에 있어서 분기된다.

배관 (164t) 의 타단은, 상류측 접속부 (152a) 에 접속된다. 배관 (164u) 의 타단은, 상류측 접속부 (152r) 에 접속된다.

배관 (164v) 의 일단은, 하류측 접속부 (154a) 에 접속된다.

배관 (164w) 의 일단은, 하류측 접속부 (154r) 에 접속된다. 배관 (164w) 의 타단은, 배관 (164v) 의 타단, 및, 배관 (164x) 의 일단과 접속된다. 배관 (164x) 의 타단은, 조제조 (112) 에 연락한다.

이 때문에, 조제조 (112) 로부터 흐른 처리액은, 배관 (32a) 을 통하여 밸브 (113), 펌프 (114) 및 온조 기기 (115) 를 통과한 후, 접속부 (156) 에 있어서 배관 (32a) 으로부터 떨어져 배관 (164s) 을 흐른다. 배관 (164s) 을 흐르는 처리액은, 분기점 (164y) 에 있어서 배관 (164t) 으로 진행되면, 상류측 접속부 (152a), 필터 (142a), 하류측 접속부 (154a) 및 배관 (164v) 의 순서대로 흐르고, 배관 (164x) 을 개재하여 조제조 (112) 로 돌아온다. 또, 배관 (164s) 을 흐르는 처리액은, 분기점 (164y) 에 있어서 배관 (164u) 으로 진행되면, 상류측 접속부 (152r), 필터 (142r), 하류측 접속부 (154r) 및 배관 (164w) 의 순서대로 흘러 배관 (164x) 을 개재하여 조제조 (112) 로 돌아온다.

이상과 같이, 추가 배관 (164) 이 분기 구조를 가짐으로써, 필터 (142a) 및 필터 (142r) 를 동시에 세정할 수 있다.

또한, 여기에서는, 배관 (164x) 으로부터 분기되어 배액관과 접속되는 배관에 밸브 (166e) 가 장착된다. 이 때문에, 밸브 (166e) 에 의해서, 배관 (164x) 을 통하여 조제조 (112) 로 돌아오는 처리액을 선택적으로 폐기할 수 있다.

이상, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명하였다. 단, 본 발명은, 상기한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 양태에 있어서 실시하는 것이 가능하다. 또, 상기한 실시형태에 개시되는 복수의 구성 요소를 적절히 조합함으로써, 다양한 발명의 형성이 가능하다. 예를 들어, 실시형태에 나타내는 전체 구성 요소로부터 몇몇 구성 요소를 삭제해도 된다. 또한, 상이한 실시형태에 걸치는 구성 요소를 적절히 조합해도 된다. 도면은, 이해를 쉽게 하기 위해서, 각각의 구성 요소를 주체로 모식적으로 나타내고 있고, 도시된 각 구성 요소의 두께, 길이, 개수, 간격 등은, 도면 작성의 사정상 실제와는 상이한 경우도 있다. 또, 상기한 실시형태에서 나타내는 각 구성 요소의 재질, 형상, 치수 등은 일례로서, 특별히 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 효과로부터 실질적으로 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경이 가능하다.

본 발명은 기판 처리 장치 및 배관 착탈 파트의 세정 방법에 바람직하게 사용된다.

10 : 기판 처리 유닛
12 : 챔버
20 : 기판 유지부
30 : 처리액 공급부
100 : 기판 처리 장치
110 : 처리액 캐비넷
120 : 처리액 박스
W : 기판

Claims

기판을 처리하기 위한 기판 처리 유닛과,
상기 기판 처리 유닛에 처리액을 유통하는 배관과,
상기 배관에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트와,
상기 배관에 있어서 상기 배관 착탈 파트의 상류에 형성된 상류측 접속부와,
상기 배관에 있어서 상기 배관 착탈 파트의 하류에 형성된 하류측 접속부와,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부에 접속 가능한 세정 유닛을 구비하고,
상기 세정 유닛은,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 약액을 회수하며,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수하는, 기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 배관 착탈 파트는, 필터 및 밸브 중 적어도 일방을 포함하는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부는, 삼방 밸브 또는 토글 밸브를 포함하는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 세정 유닛은,
상기 상류측 접속부로부터 상기 배관 착탈 파트에 상기 약액을 공급하고, 상기 하류측 접속부로부터 상기 약액을 회수하며,
상기 상류측 접속부로부터 상기 배관 착탈 파트에 상기 세정액을 공급하고, 상기 하류측 접속부로부터 상기 세정액을 회수하는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 세정 유닛은,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 제 1 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 제 1 약액을 회수하며,
상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 제 2 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 제 2 약액을 회수하는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부와 접속되는 추가 배관을 포함하는, 기판 처리 장치.
제 6 항에 있어서,
상기 세정 유닛은,
상기 추가 배관에 상기 약액을 공급하는 약액 공급부와,
상기 추가 배관에 상기 세정액을 공급하는 세정액 공급부와,
상기 추가 배관에 형성된 펌프를 추가로 포함하는, 기판 처리 장치.
제 7 항에 있어서,
상기 세정 유닛은, 상기 약액 및 상기 세정액을 저류 가능한 탱크를 추가로 포함하는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 세정 유닛은, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부로부터 분리 가능한, 기판 처리 장치.
제 6 항에 있어서,
상기 처리액은, 상기 추가 배관을 유통하는, 기판 처리 장치.
제 10 항에 있어서,
상기 배관은,
약액이 유통하는 약액 배관과,
세정액이 유통하는 세정액 배관을 포함하고,
상기 상류측 접속부는, 상기 세정액 배관의 상류에 형성되며,
상기 하류측 접속부는, 상기 세정액 배관의 하류에 형성되고,
상기 추가 배관은, 상기 약액 배관과 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방을 연락하는 배관을 갖는, 기판 처리 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 세정 유닛의 상기 세정액 및 상기 약액에 의한 상기 배관 착탈 파트의 세정을 제어하기 위한 레시피를 기억하는 기억부를 추가로 구비하는, 기판 처리 장치.
제 12 항에 있어서,
상기 기억부는, 상기 배관 착탈 파트에 따라서 상이한 레시피를 기억하는, 기판 처리 장치.
처리액이 유통하는 배관에 대해서 착탈 가능한 배관 착탈 파트를 교환하는 스텝과,
상기 배관 착탈 파트를 교환한 후에, 상기 배관 착탈 파트의 상류에 형성된 상류측 접속부 및 상기 배관 착탈 파트의 하류에 형성된 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 약액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 약액을 회수하는 스텝과,
상기 배관 착탈 파트를 교환한 후에, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 상기 배관 착탈 파트에 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수하는 스텝을 포함하는, 배관 착탈 파트의 세정 방법.
제 14 항에 있어서,
상기 배관 착탈 파트를 교환하기 전에, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 일방으로부터 세정액을 공급하고, 상기 상류측 접속부 및 상기 하류측 접속부의 타방으로부터 상기 세정액을 회수하는 스텝을 추가로 포함하는, 배관 착탈 파트의 세정 방법.