KR20210142626A - 배선 회로 기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

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료스케 사사오카
야스나리 오야부
히로아키 마치타니
하야토 다카쿠라
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

배선 회로 기판(1)은 얼라인먼트 마크층(11)을 구비한다. 얼라인먼트 마크층(11)은 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 구비한다. 조건 A 또는 조건 B를 만족한다. 조건 A: 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 부분(제 1 기점 부분(10) 또는 제 1 중심 부분(C1))을 갖는다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 부분(제 2 기점 부분(17) 또는 제 2 중심 부분(C2))을 갖는다. 조건 B: 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖는 한편, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않거나, 또는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않는다.

Description

배선 회로 기판 및 그 제조 방법
본 발명은 배선 회로 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 각종 얼라인먼트를 실시하는 얼라인먼트 마크를 구비하는 배선 회로 기판이 알려져 있다.
예를 들면, 베이스 절연층과, 베이스 절연층의 상면에 배치되는 도체 마크와, 베이스 절연층의 상면에 도체 마크를 노출하도록 배치되는 커버 절연층을 구비하는 배선 회로 기판이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
특허문헌 1에서는, 도체 마크는 커버 절연층으로부터 상측을 향하여 노출되어 있으며, 배선 회로 기판의 상측에 배치되는 화상 인식 카메라가 도체 마크의 영상을 취득하여, 각종 얼라인먼트를 실시하고 있다.
일본 특허 공개 제 2007-258374 호 공보
그런데, 용도 및 목적에 따라서는, 배선 회로 기판이, 베이스 절연층으로부터 하측을 향하여 노출되는 제 2 도체 마크를 더 구비하는 것이 요구된다.
또한, 최근, 배선 회로 기판에는 박형화가 요구되고 있으며, 그 때문에, 도체 마크 및 제 2 도체 마크를 이루는 도체층의 박형화가 요구된다.
또한, 배선 회로 기판의 소형화도 요구되고 있다.
또한, 도체 마크 및 제 2 도체 마크에는 뛰어난 시인성(視認性)이 요구된다.
본 발명은 소형화 및 박형화가 도모되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있는 배선 회로 기판 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명 (1)은, 얼라인먼트 마크층과, 상기 얼라인먼트 마크층의 두께방향의 한쪽측 및 다른쪽측에 배치되는 절연층을 구비하는 배선 회로 기판에 있어서, 상기 얼라인먼트 마크층은, 상기 절연층으로부터 두께방향 한쪽측에 노출되는 제 1 얼라인먼트 마크와, 상기 절연층으로부터 두께방향 다른쪽측에 노출되는 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고, 상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크가, 하기 조건 A 또는 조건 B를 만족하는 배선 회로 기판을 포함한다.
조건 A: 상기 제 1 얼라인먼트 마크는, 상기 두께방향에 대한 직교방향에 있어서 복수방향으로 연장되는 제 1 기점 부분, 및 상기 직교방향으로 연속하는 솔리드부(solid portion)의 제 1 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 1 부분을 갖는다.
상기 제 2 얼라인먼트 마크는, 상기 직교방향에 있어서 복수방향으로 연장되는 제 2 기점 부분, 및 상기 직교방향으로 연속하는 솔리드부의 제 2 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 2 부분을 갖는다.
상기 제 1 부분이 평면에서 보아 상기 제 2 부분과, L의 양으로 어긋나 있으며, 상기 어긋남량 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이 Z가 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
조건 B: 상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 갖는 한편, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않거나,
또는,
상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않는다.
상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크의 평면에서 본 최단 거리 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이 Z가 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
그런데, 배선 회로 기판을 제조하려면, 두께방향 한쪽측에 노출되는 제 1 얼라인먼트 마크와, 다른쪽측에 노출되는 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭으로 세정하여, 그들 시인성을 확보하는 경우가 있다.
그러나, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때, 얼라인먼트 마크층의 침식에 수반하여, 제 1 얼라인먼트 마크의 두께방향 위치가 다른쪽측을 향하여 약간 이동하는 동시에, 제 2 얼라인먼트 마크의 두께방향 위치가 한쪽측을 향하여 약간 이동한다.
또한, 제 1 얼라인먼트 마크가 복수방향으로 연장되는 기점 부분, 및 솔리드부의 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 1 부분을 갖는 경우에는, 제 1 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 에칭액이 체류되기 쉬워, 이러한 제 1 부분의 얼라인먼트 마크층의 침식이 증대되고, 그 제 1 부분의 두께방향 위치가 다른쪽측을 향하여 크게 이동한다.
또한, 제 2 얼라인먼트 마크가, 복수방향으로 연장되는 제 2 기점 부분, 및 솔리드부의 제 2 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 2 부분을 갖는 경우에는, 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 에칭액이 체류되기 쉬워, 이러한 제 2 부분의 얼라인먼트 마크층의 침식이 증대되고, 그 제 2 부분의 두께방향 위치가 한쪽측을 향하여 크게 이동한다.
그 때문에, 제 1 부분 및 제 2 부분이 평면에서 보아 중복되어 있으면, 제 1 부분 및 제 2 부분의 두께방향 위치의 이동에 의해, 관통 구멍이 형성된다. 이것은 얼라인먼트 마크층이 얇은 경우에는 현저하다.
그러나, 이 배선 회로 기판에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크가 조건 A를 만족하면, 제 1 부분이 평면에서 보아 제 2 부분과 어긋나 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 제 1 부분의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 이동하는 동시에, 제 2 부분의 두께방향 위치가 한쪽측으로 이동하여도, 제 1 부분 및 제 2 부분의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 이들 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크는 시인성이 뛰어나다.
동시에, 제 1 부분은 제 2 부분과, 상기 식을 만족하는 L의 양으로 어긋나 있으므로, 배선 회로 기판은 소형화가 도모되며, 제 1 얼라인먼트 마크를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
또한, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크가 조건 B를 만족하면, 적어도, 제 2 얼라인먼트 마크가 제 2 부분을 갖지 않는다. 그 때문에, 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 제 2 부분의 존재에 기인하는 에칭액의 체류를 억제할 수 있다. 따라서, 에칭액의 체류에 기인하는 상기한 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 결과, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크는 시인성이 뛰어나다.
동시에, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 평면에서 본 최단 거리 L이 상기 식을 만족하므로, 배선 회로 기판은 소형화가 도모되며, 제 1 얼라인먼트 마크를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
따라서, 이 배선 회로 기판은 소형화 및 박형화되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
본 발명 (2)는, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가, 상기 제 1 얼라인먼트 마크와, 동일 형상 또는 상사 형상을 갖는, (1)에 기재된 배선 회로 기판을 포함한다.
이 배선 회로 기판에서는, 제 2 얼라인먼트 마크가, 제 1 얼라인먼트 마크와, 동일 형상 또는 상사 형상을 가지므로, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 구성이 간단하다.
본 발명 (3)은, 상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 조건 B를 만족하며, 상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 가지며, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않으며, 상기 제 1 부분이 평면에서 보아 상기 제 2 얼라인먼트 마크와, L의 양으로 어긋나 있으며, 상기 어긋남량 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이 Z가 하기 식을 만족하는, (1) 또는 (2)에 기재의 배선 회로 기판을 포함한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
이 배선 회로 기판에서는, 제 2 얼라인먼트 마크가 제 2 부분을 갖지 않으므로, 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 제 2 얼라인먼트 마크의 두께방향 위치가 두께방향 한쪽측으로 크게 이동하는 것을 억제할 수 있다.
한편, 제 1 부분은 그 두께방향 위치가 두께방향 다른쪽측으로 크게 이동하여도, 제 2 얼라인먼트 마크와 어긋나 있으므로, 제 1 부분과 제 2 얼라인먼트 마크의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다.
본 발명 (4)는, 상기 제 1 얼라인먼트 마크와 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 중복되지 않은, (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 배선 회로 기판을 포함한다.
이 배선 회로 기판에서는, 제 1 얼라인먼트 마크와 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 중복되지 않으므로, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭할 때에, 제 1 얼라인먼트 마크와 제 2 얼라인먼트 마크의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다.
본 발명 (5)는, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 상기 제 1 얼라인먼트 마크를 둘러싸고 있는, (4)에 기재의 배선 회로 기판을 포함한다.
이 배선 회로 기판에서는, 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크를 둘러싸고 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 콤팩트하게 배치할 수 있다. 그 때문에, 배선 회로 기판을 소형화할 수 있다.
본 발명 (6)은, (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 배선 회로 기판의 제조 방법에 있어서, 상기 얼라인먼트 마크층 및 절연층을 배치하는 공정, 상기 제 1 얼라인먼트 마크를 상기 절연층으로부터 두께방향 한쪽측에 노출시키는 공정, 상기 제 2 얼라인먼트 마크를 상기 절연층으로부터 두께방향 다른쪽측에 노출시키는 공정, 및 상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭하는 공정을 구비하는 배선 회로 기판의 제조 방법을 포함한다.
이 제조 방법은, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭하는 공정에 있어서, 그들에 대응하는 얼라인먼트 마크층의 침식을 진행시켜, 제 1 얼라인먼트 마크의 두께방향 위치를 다른쪽측으로 이동시키고, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크의 두께방향 위치를 한쪽측으로 이동시켜도, 조건 A 또는 조건 B를 만족하기 때문에, 상기한 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 형성할 수 있다.
또한, 이 제조 방법은 상기한 배선 회로 기판의 제조 방법이므로, 소형화 및 박형화가 도모되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있는 배선 회로 기판을 제조할 수 있다.
본 발명의 배선 회로 기판의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 배선 회로 기판은 소형화 및 박형화를 도모할 수 있으면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
도 1의 (A) 내지 도 1의 (C)는 본 발명의 배선 회로 기판의 제 1 실시형태를 도시하고, 도 1의 (A)가 배선 회로 기판의 평면도이며, 도 1의 (B)가 도 1의 (A)에 도시하는 단자이며, 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 확대 평면도이며, 도 1의 (C)가, 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 확대 저면도를 도시한다.
도 2는 도 1의 (A) 내지 도 1의 (C)에 도시하는 배선 회로 기판의 단면도로서, 도 1의 (B)의 X-X선을 따르는 단면도를 도시한다.
도 3의 (A) 내지 도 3의 (D)는 도 2에 도시하는 배선 회로 기판의 제조 공정도로서, 도 3의 (A)가 도체층을 베이스 절연층에 배치하는 공정이며, 도 3의 (B)가, 커버 개구부를 갖는 커버 절연층을 배치하는 공정이며, 도 3의 (C)가 베이스 개구부를 형성하는 공정, 도 3의 (D)가 도금층을 배치하는 공정을 나타낸다.
도 4는 도 1의 (A)에 도시하는 배선 회로 기판의 변형예(실장 영역이 복수 마련되는 태양)의 평면도를 도시한다.
도 5의 (A) 내지 도 5의 (C)는 도 1의 (B) 내지 도 2에 도시하는 배선 회로 기판의 변형예의 단면도로서, 도 5의 (A)가 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 평면도이며, 도 5의 (B)가 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 저면도이며, 도 5의 (C)가 도 5의 (A)에 도시하는 X-X선을 따르는 단면도를 도시한다.
도 6은 도 2에 도시하는 배선 회로 기판의 변형예의 단면도를 도시한다.
도 7은 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 8은 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 9는 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 10은 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 11은 도 8에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 더 변형한 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 12는 도 9에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 더 변형한 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 13은 도 10에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크를 더 변형한 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 14는 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 15는 도 14에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 16은 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 17은 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 18은 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 19는 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 20은 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 21은 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 22는 도 16에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 23은 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 24는 도 23에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 25는 도 1의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 26은 도 25에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 27은 도 25에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 28은 도 26에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 29의 (A) 및 도 29의 (B)는 제 2 실시형태의 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크로서, 도 29의 (A)가 평면도이며, 도 29의 (B)가 단면도를 도시한다.
도 30의 (A) 및 도 30의 (B)는 도 29의 (A) 및 도 29의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예로서, 도 30의 (A)가 평면도이며, 도 30의 (B)가 단면도를 도시한다.
도 31의 (A) 및 도 31의 (B)는 도 29의 (A) 및 도 29의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예로서, 도 31의 (A)가 평면도이며, 도 31의 (B)가 단면도를 도시한다.
도 32는 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 33은 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 34는 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 35는 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 36은 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 37은 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 38은 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 39는 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 40은 도 29의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예의 평면도를 도시한다.
도 41의 (A) 내지 도 41의 (C)는 도 29의 (A), 도 36 및 도 39에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예(제 1 부분이 제 2 얼라인먼트 마크와 중복되는 변형예)의 평면도로서, 도 41의 (A)가 도 29의 (A)의 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예이며, 도 41의 (B)가 도 36에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예이며, 도 41의 (C)가 도 39에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예를 도시한다.
도 42의 (A) 및 도 42의 (B)는 본 발명의 제 3 실시형태의 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크로서, 도 42의 (A)가 평면도이며, 도 42의 (B)가 단면도를 도시한다.
도 43은 도 42의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 44는 도 42의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 45는 도 42의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 46은 도 42의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 47은 도 42의 (A)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트마크의 변형예의 평면도를 도시한다.
도 48의 (A) 내지 도 48의 (C)는 도 42의 (A) 및 도 42의 (B)에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크 및 제 2 얼라인먼트 마크의 다른 변형예(제 1 얼라인먼트 마크가 제 2 얼라인먼트 마크와 중복되는 변형예)로서, 도 48의 (A)가 평면도이며, 도 48의 (B)가 단면도를 도시한다.
제 1 실시형태는 본 발명의 조건 A를 만족하는 배선 회로 기판에 대응하며, 제 2 내지 제 3 실시형태는 본 발명의 조건 B를 만족하는 배선 회로 기판에 대응한다.
또한, 제 1 실시형태는 제 1 얼라인먼트 마크(후술함)가 제 1 부분(후술함)을 가지며, 제 2 얼라인먼트 마크(후술함)가 제 2 부분(후술함)을 갖는 태양이며, 제 2 실시형태는 제 1 얼라인먼트 마크가 제 1 부분을 가지며, 제 2 얼라인먼트 마크가 제 2 부분을 갖지 않은 태양이며, 제 3 실시형태는, 제 1 얼라인먼트 마크가 제 1 부분을 갖지 않으며, 제 2 얼라인먼트 마크가 제 2 부분을 갖지 않은 태양이다.
<제 1 실시형태>
본 발명의 배선 회로 기판의 제 1 실시형태를, 도 1의 (A) 내지 도 2를 참조하여 설명한다.
또한, 도 1의 (A)에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)(후술함)의 상대 배치를 명확하게 나타내기 때문에, 커버 절연층(4)(후술함)을 생략하고 있다.
또한, 도 1의 (B)에 있어서, 얼라인먼트 마크층(11)의 주단연(周端緣) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 시인되지 않지만, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와의 상대 배치를 명확하게 나타내기 위해, 파선으로 묘화하고 있다.
또한, 도 1의 (C)에 있어서, 얼라인먼트 마크층(11)의 주단연 및 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 저면에서 보아 시인되지 않지만, 제 2 얼라인먼트 마크(42)와의 상대 배치를 명확하게 나타내기 위해, 파선으로 묘화하고 있다.
도 1의 (A) 내지 도 2에 있어서, 이 배선 회로 기판(1)은 대략 평판 형상을 갖는다. 구체적으로는, 두께방향으로 대향하는 한쪽면 및 다른쪽면을 가지며, 이들은 두께방향에 직교하는 면방향으로 연장된다.
배선 회로 기판(1)의 평면에서 본 사이즈는, 실장하는 전자 소자(후술함)의 사이즈 등에 의해 적절히 조정되며, 구체적으로는, 후술하는 면방향에 있어서의 최대 길이 Z(보다 구체적으로는, 최대 길이 Z와 어긋남량 L(후술함)이 식을 만족함)를 갖도록 조정된다. 구체적으로는, 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z는 예를 들면, 1㎜ 이상, 바람직하게는 5㎜ 이상이며, 또한, 예를 들면 50㎜ 이하, 바람직하게는 30㎜ 이하이다.
구체적으로는, 배선 회로 기판(1)은 대략 직사각형의 평판 형상을 갖는다. 배선 회로 기판(1)은, 그 중앙부에 위치하는 실장 영역(7)과, 주변 영역(8)을 갖는다.
실장 영역(7)은, 배선 회로 기판(1)의 한쪽면에 전자 소자(도시하지 않음)가 실장되는 평면에서 보아 대략 직사각 형상의 영역이다. 실장 영역(7)은 배선 회로 기판(1)에 1개에 마련되어 있다. 실장 영역(7)의 내부에는, 복수의 단자(9)가 마련되어 있다. 복수의 단자(9)는 실장 영역(7)의 주단부를 따라서, 둘레방향으로 서로 간격을 사이에 두고 인접 배치되어 있다.
주변 영역(8)은 실장 영역(7)의 주변에 위치하는 영역이다. 주변 영역(8)에는 얼라인먼트 마크층(11)이 마련되어 있다. 또한, 얼라인먼트 마크층(11)에는 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 구획된다.
그리고, 이 배선 회로 기판(1)은 절연층의 일 예로서의 베이스 절연층(2)과, 도체층(3)과, 절연층의 일 예로서의 커버 절연층(4)을 두께방향 한쪽측을 향하여 순서대로 구비한다.
베이스 절연층(2)은 배선 회로 기판(1)과 동일한 외형 형상을 갖는다. 베이스 절연층(2)은 두께방향에 대향하는 한쪽면 및 다른쪽면을 갖는다. 또한, 베이스 절연층(2)은 주변 영역(8)에 있어서, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 대응하는 베이스 개구부(5)를 갖는다. 베이스 개구부(5)는 베이스 절연층(2)을 두께방향으로 관통하는 관통 구멍으로서, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 노출하고 있다.
베이스 절연층(2)의 재료로서는, 예를 들면, 폴리이미드 수지 등의 절연 수지를 들 수 있다. 베이스 절연층(2)의 두께는 예를 들면, 0.1㎛ 이상, 바람직하게는 0.5㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상이며, 또한, 예를 들면 50㎛ 이하, 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하이다.
도체층(3)은 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배치되어 있다. 도체층(3)은 단자(9)와, 배선(도시하지 않음)과, 얼라인먼트 마크층(11)을 구비한다.
단자(9)는 실장 영역(7)에 있어서, 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배치되어 있으며, 상기한 패턴으로 배치되어 있다.
도시하지 않은 배선은 실장 영역(7)에 있어서, 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배치되어 있으며, 단자(9) 사이를 접속한다.
얼라인먼트 마크층(11)은 베이스 절연층(2)에 지지되어 있다. 구체적으로는, 얼라인먼트 마크층(11)은 주변 영역(8)에 있어서, 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배치되어 있다. 환언하면, 베이스 절연층(2)은 얼라인먼트 마크층(11)의 두께방향 다른쪽측에 배치되어 있다.
얼라인먼트 마크층(11)은 대략 직사각형 평판 형상을 갖고 있으며, 구체적으로는, 두께방향에 대향하는 한쪽면 및 다른쪽면을 갖는다. 얼라인먼트 마크층(11)의 사이즈는, 후술하는 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 형성되는 영역을 갖도록 조정되어 있다.
도체층(3)의 재료는 후술하는 소프트 에칭에 의한 침식이 허용되는 금속(합금을 포함함)이며, 예를 들면, 구리 등의 도체를 들 수 있다.
도체층(3)의 두께는 극히 얇으며, 구체적으로는, 예를 들면, 15㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 이하, 보다 바람직하게는 8㎛ 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.1㎛ 이상, 바람직하게는 0.3㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.5㎛이다.
커버 절연층(4)은 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 있어서, 단자(9)를 노출하며, 도시하지 않은 배선을 피복하도록 배치되어 있다.
커버 절연층(4)은 주변 영역(8)에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 대응하는 커버 개구부(6)를 갖는다. 커버 개구부(6)는 커버 절연층(4)을 두께방향으로 관통하는 관통 구멍이며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 노출하고 있다.
커버 절연층(4)의 재료는 베이스 절연층(2)의 재료와 마찬가지이다. 커버 절연층(4)의 두께는 예를 들면, 0.1㎛ 이상, 바람직하게는 0.5㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상이며, 또한, 예를 들면, 50㎛ 이하, 바람직하게는 30㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20㎛ 이하이다.
다음에, 조건 A를 만족하는 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 대해 상세하게 설명한다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 얼라인먼트 마크층(11)의 한쪽면에 있어서, 커버 개구부(6)로부터 한쪽측을 향하여 노출되는 부분이다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 평면에서 보아 대략 ＋자(플러스자) 형상(혹은 크로스 형상)을 갖는다. 구체적으로는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 부분의 일 예인 제 1 기점 부분(10)과, 제 1 연장부(13)와, 제 2 연장부(14)와, 제 3 연장부(15)와, 제 4 연장부(16)를 일체적으로 갖는다.
제 1 기점 부분(10)은 제 1 연장부(13), 제 2 연장부(14), 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)가 복수방향으로 연장되기(연장됨) 위한 기점이 되는 부분이다.
제 1 연장부(13) 및 제 2 연장부(14)의 각각은, 제 1 기점 부분(10)으로부터, 면방향에 포함되는 제 1 방향(도 1의 (A) 및 도 1의 (B)에 있어서의 좌우방향에 상당)(복수방향의 일부의 일 예)의 한쪽측 또는 다른쪽측을 향하여 연장되는 절편(스트립) 형상을 갖는다. 보다 구체적으로는, 제 1 연장부(13) 및 제 2 연장부(14)는 제 1 기점 부분(10)으로부터 서로 반대측을 향하여 연장되는 대략 직선 형상을 갖는다. 제 1 연장부(13) 및 제 2 연장부(14)는 제 1 기점 부분(10)을 통과하는 제 1 가상선(IL1) 상에 위치한다.
제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)의 각각은, 제 1 기점 부분(10)으로부터 면방향으로 포함되며, 제 1 방향 및 두께방향에 직교하는 제 2 방향(도 1의 (A) 및 도 1의 (B)에 있어서의 상하방향에 상당)(복수방향의 일부의 일 예)의 한쪽측 또는 다른쪽측을 향하여 연장되는 절편(스트립) 형상을 갖는다. 보다 구체적으로는, 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)는 제 1 기점 부분(10)으로부터 서로 반대측을 향하여 연장되는 대략 직선 형상을 갖는다. 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)는 제 1 기점 부분(10)을 통과하는 제 2 가상선(IL2) 상에 위치한다.
제 2 가상선(IL2)은 제 1 가상선(IL1)에 직교한다.
또한, 얼라인먼트 마크층(11)의 한쪽면에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 주위 부분은 커버 절연층(4)에 피복되어 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 얼라인먼트 마크층(11)의 다른쪽면에 있어서, 베이스 개구부(5)로부터 다른쪽측을 향하여 노출되는 부분이다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 상사(相似)한 평면에서 본 형상을 갖는다. 구체적으로는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 대략 ＋자(플러스자) 형상(혹은 크로스 형상)을 갖는다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)보다 작은 형상을 갖는다.
상세하게는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 부분의 일 예로서의 제 2 기점 부분(17)과, 제 5 연장부(18)와, 제 6 연장부(19)와, 제 7 연장부(20)와, 제 8 연장부(21)를 일체적으로 갖는다.
제 2 기점 부분(17)은 제 5 연장부(18), 제 6 연장부(19), 제 7 연장부(20) 및 제 8 연장부(21)가 복수방향으로 연장되기(연장됨) 위한 기점이 되는 부분이다.
제 5 연장부(18) 및 제 6 연장부(19)의 각각은, 제 2 기점 부분(17)으로부터, 제 1 방향의 한쪽측 또는 다른쪽측을 향하여 연장되는 절편(스트립) 형상을 갖는다. 보다 구체적으로는, 제 5 연장부(18) 및 제 6 연장부(19)는, 제 2 기점 부분(17)으로부터 서로 반대측을 향하여 연장되는 대략 직선 형상을 갖는다. 제 5 연장부(18) 및 제 6 연장부(19)는, 제 2 기점 부분(17)을 통과하는 제 3 가상선(IL3) 상에 위치한다. 제 3 가상선(IL3)은 제 1 가상선(IL1)에 평행하다.
제 7 연장부(20) 및 제 8 연장부(21)의 각각은, 제 2 기점 부분(17)으로부터, 제 2 방향의 한쪽측 또는 다른쪽측을 향하여 연장되는 절편(스트립) 형상을 갖는다. 보다 구체적으로는, 제 7 연장부(20) 및 제 8 연장부(21)는 제 2 기점 부분(17)으로부터 서로 반대측을 향하여 연장되는 대략 직선 형상을 갖는다. 제 7 연장부(20) 및 제 8 연장부(21)는, 제 2 기점 부분(17)을 통과하는 제 4 가상선(IL4) 상에 위치한다. 제 4 가상선(IL4)은 제 2 가상선(IL2)에 평행하다.
또한, 얼라인먼트 마크층(11)의 다른쪽면에 있어서, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 주위 부분은 베이스 절연층(2)에 피복되어 있다.
그리고, 이 배선 회로 기판(1)에서는, 제 1 기점 부분(10)은 평면에서 보아 제 2 기점 부분(17)과 중복되지 않고, 어긋나게 배치되어 있다.
또한, 제 1 기점 부분(10)은 평면에서 보아 제 2 기점 부분(17), 제 5 연장부(18), 제 6 연장부(19) 및 제 7 연장부(20)의 어느 것과도 중복되지 않고, 어긋나게 배치되어 있다.
또한, 제 2 기점 부분(17)은 평면에서 보아 제 1 연장부(13), 제 2 연장부(14), 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)의 어느 것과도 중복되지 않고, 어긋나게 배치되어 있다.
즉, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 중복되지 않고, 어긋나게 배치되어 있다. 제 1 얼라인먼트 마크(41)와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 서로 간격을 사이에 두고 배치되어 있다.
평면에서 보아, 제 1 기점 부분(10)과 제 2 기점 부분(17)의 어긋남량(길이) L은 평면에서 보아 제 1 기점 부분(10)과 제 2 기점 부분(17)의 최단 거리 L이며, 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z와 함께, 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
어긋남량 L이 상기한 [Z×2/3]을 초과하면, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실행할 수 없으며, 또한, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 주변 영역(8)에 넓게 배치할 필요가 있기 때문에, 배선 회로 기판(1)의 소형화를 도모할 수 없다.
한편, 어긋남량 L이 상기한 [Z/10,0000] 미만이면, 후술하는 소프트 에칭(세정)에 기인하는 관통 구멍의 형성을 보다 확실히 억제할 수 없다.
어긋남량 L의 상한은 바람직하게는 [Z×1/2], 보다 바람직하게는 [Z×1/3], 더욱 바람직하게는 [Z×1/4]이다.
또한, 어긋남량 L의 하한은 바람직하게는 [X/10,000], 보다 바람직하게는 [X/5,000], 더욱 바람직하게는 [X/3,000]이다.
구체적으로는, 어긋남량 L은 예를 들면 10㎜ 이하, 바람직하게는 7.5㎜ 이하, 보다 바람직하게는 5㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 3㎜ 이하이며, 또한, 예를 들면 0.05㎜ 이상, 바람직하게는 0.03㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.1㎜ 이상이다.
제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 사이즈는, 배선 회로 기판(1)의 용도 및 목적에 따라서 적절히 설정된다. 구체적으로는, 제 1 기점 부분(10)의 평면적은 예를 들면, 10㎛2 이상, 바람직하게는 100㎛2 이상이며, 예를 들면, 1,0000,000㎛2 이하, 바람직하게는 100,000㎛2 이하이다. 제 1 연장부(13), 제 2 연장부(14), 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)의 각각의 연장 길이는, 예를 들면, 0.01㎜ 이상, 바람직하게는 0.03㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.05㎜ 이상이며, 또한, 예를 들면, 10㎜ 이하, 바람직하게는 3㎜ 이하, 보다 바람직하게는 1㎜ 이하이다.
제 2 기점 부분(17)의 평면적의, 제 1 기점 부분(10)의 평면적에 대한 비는 예를 들면, 1 이하, 바람직하게는 0.9 이하, 보다 바람직하게는 0.75 이하이며, 또한, 예를 들면 0.1 이상, 바람직하게는 0.3 이상이다.
제 1 연장부(13), 제 2 연장부(14), 제 3 연장부(15) 및 제 4 연장부(16)의 각각의 길이는, 제 5 연장부(18), 제 6 연장부(19), 제 7 연장부(20) 및 제 8 연장부(21)의 각각의 길이보다 길다.
제 1 연장부(13)의 연장 길이의, 제 5 연장부(18)의 연장 길이에 대한 비는, 예를 들면 1 초과, 바람직하게는 1.1 이상, 보다 바람직하게는 1.2 이상이며, 또한, 예를 들면, 10 이하이다. 제 2 연장부(14)의 연장 길이의 제 6 연장부(19)의 연장 길이에 대한 비와, 제 3 연장부(15)의 연장 길이의 제 7 연장부(20)의 연장 길이에 대한 비와, 제 4 연장부(16)의 연장 길이의 제 8 연장부(21)의 연장 길이에 대한 비는, 상기한 제 1 연장부(13)의 연장 길이의 제 5 연장부(18)의 연장 길이에 대한 비와 마찬가지이다.
다음에, 이 배선 회로 기판(1)을 제조하는 방법을 도 3의 (A) 내지 도 3의 (C)를 참조하여 설명한다.
도 3의 (A)에 도시하는 바와 같이, 우선, 이 방법에서는, 베이스 절연층(2)을 준비하고, 이어서, 도체층(3)을 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배치한다.
베이스 절연층(2)은 예를 들면, 면방향으로 연장되는 대략 시트 형상으로 준비하고, 또한, 상기한 베이스 개구부(5)(도 3의 (C) 참조)를 갖고 있지 않다.
도체층(3)은 예를 들면, 애더티브법, 서브트랙티브법 등에 의해, 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 배선(도시하지 않음), 단자(9) 및 얼라인먼트 마크층(11)을 갖는 패턴으로 형성한다.
도 3의 (B)에 도시하는 바와 같이, 이어서, 이 방법에서는, 커버 절연층(4)을 베이스 절연층(2)의 한쪽에 커버 개구부(6)를 갖는 패턴으로 형성한다.
이에 의해, 얼라인먼트 마크층(11)의 한쪽면에 있어서, 커버 개구부(6)로부터 노출되는 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 형성(구획)한다.
도 3의 (C)에 도시하는 바와 같이, 이어서, 이 방법에서는, 베이스 개구부(5)를 베이스 절연층(2)에 형성한다.
베이스 개구부(5)를 베이스 절연층(2)에 형성하려면, 예를 들면, 에칭, 레이저 등이 이용된다.
이에 의해, 얼라인먼트 마크층(11)의 다른쪽면에 있어서, 베이스 개구부(5)로부터 노출되는 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 형성(구획)한다.
그 후, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 세정한다.
구체적으로는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 예를 들면, 소프트 에칭에 의해 세정한다.
소프트 에칭에서는, 얼라인먼트 마크층(11)의 침식에 수반하여, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 두께방향 위치가 두께방향 다른쪽측을 향하여 약간 이동하는 동시에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치가 두께방향 한쪽측을 향하여 약간 이동하는 조건(에칭액의 종류, 시간, 온도 등)이 선택된다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)의 소프트 에칭에서는, 에칭액이 제 1 연장부(13) 내지 제 4 연장부(16)로부터 제 1 기점 부분(10)을 향하여 유동하기 쉬우며, 그 때문에, 제 1 기점 부분(10)에 에칭액이 체류되므로, 제 1 기점 부분(10)의 두께방향 위치가 두께방향 다른쪽측을 향하여 이동하는 속도가, 제 1 연장부(13) 내지 제 4 연장부(16)의 그들보다 빠르다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)의 소프트 에칭에서는, 에칭액이 제 5 연장부(18) 내지 제 8 연장부(21)로부터 제 2 기점 부분(17)을 향하여 유동하기 쉬우며, 그 때문에, 제 2 기점 부분(17)에 에칭액이 체류되므로, 제 2 기점 부분(17)의 두께방향 위치가 두께방향 한쪽측을 향하여 이동하는 속도가, 제 5 연장부(18) 내지 제 8 연장부(21)의 그들보다 빠르다.
한편, 얼라인먼트 마크층(11)에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 대향하는 다른쪽면은, 베이스 절연층(2)에 피복(마스크)되어 있으므로, 상기한 바와 같은 소프트 에칭에 의한 다른쪽면의 두께방향 위치의 이동을 일으키지 않는다.
또한, 얼라인먼트 마크층(11)에 있어서, 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 대향하는 한쪽면은, 커버 절연층(4)에 피복(마스크)되어 있으므로, 상기한 바와 같은 소프트 에칭에 의한 한쪽면의 두께방향 위치의 이동을 일으키지 않는다.
이에 의해, 베이스 절연층(2)과, 도체층(3)과, 커버 절연층(4)을 구비하는 배선 회로 기판(1)을 얻을 수 있다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 그 후, 배선 회로 기판(1)의 두께방향 한쪽측에 배치되는 제 1 화상 인식 카메라(31)와, 배선 회로 기판(1)의 두께방향 다른쪽측에 배치되는 제 2 화상 인식 카메라(32)에 의해, 전자 소자(도시하지 않음) 및 배선 회로 기판(1)의 얼라인먼트를 실시한다.
이 얼라인먼트에서는, 제 1 화상 인식 카메라가 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 인식하고, 제 2 화상 인식 카메라(32)가 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 인식한다.
그리고, 이 배선 회로 기판(1)에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 조건 A를 만족하고, 제 1 기점 부분(10)이 평면에서 보아 제 2 기점 부분(17)과 어긋나 있다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 기점 부분(10)의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 이동하는 동시에, 제 2 기점 부분(17)의 두께방향 위치가 한쪽측으로 이동하여도, 제 1 기점 부분(10) 및 제 2 기점 부분(17)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 이들 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 시인성이 뛰어나다.
동시에, 제 1 기점 부분(10)은 제 2 기점 부분(17)과, 상기 식을 만족하는 L의 양으로 어긋나 있으므로, 배선 회로 기판(1)은 소형화가 도모되며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
따라서, 이 배선 회로 기판(1)은 소형화 및 박형화되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
또한, 이 배선 회로 기판(1)에서는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 상사 형상을 가지므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 구성이 간단하다.
또한, 이 배선 회로 기판(1)에서는, 소프트 에칭에 의해, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 이동하고, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치가 한쪽측으로 이동하여도, 원래, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 평면에서 보아 중복되지 않으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다.
또한, 상기한 배선 회로 기판(1)의 제조 방법은 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭하는 공정에 있어서, 그들에 대응하는 얼라인먼트 마크층(11)의 침식을 진행시켜, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 두께방향 위치를 다른쪽측으로 이동시키고, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치를 한쪽측으로 이동시켜도, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 조건 A를 만족하기 때문에, 상기한 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 형성할 수 있다.
또한, 이 제 배선 회로 기판(1)의 제조 방법은, 상기한 배선 회로 기판(1)을 제조하는 방법이므로, 소형화 및 박형화가 도모되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있는 배선 회로 기판(1)을 제조할 수 있다.
<변형예>
이하의 각 변형예에 있어서, 상기한 제 1 실시형태와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여하고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 각 변형예는 특기하는 이외, 제 1 실시형태와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제 1 실시형태 및 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
도 1의 (A)에 도시하는 바와 같이, 이 배선 회로 기판(1)에는, 1개의 실장 영역(7)이 마련되어 있다.
그러나, 배선 회로 기판(1)에 있어서의 실장 영역(7)의 수는, 상기로 한정되지 않으며, 복수여도 좋다.
도 4에 도시하는 바와 같이, 이 변형예에서는, 실장 영역(7)은 배선 회로 기판(1)에 예를 들면, 9개 배치되어 있다. 구체적으로는, 제 1 방향으로 3열, 제 2 방향으로 3열, 합계 9개의 실장 영역(7)이, 서로 간격을 사이에 두고 병렬 배치되어 있다.
복수의 실장 영역(7)을 구비하는 배선 회로 기판(1)은, 1개의 실장 영역(7)을 구비하는 배선 회로 기판(1)(도 1의 (A) 참조)보다, 면방향에 있어서의 최대 길이 Z가 길다. 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 10㎜ 이상, 바람직하게는 25㎜ 이상이며, 또한, 예를 들면, 1,000㎜ 이하이다.
그리고, 이와 같은 배선 회로 기판(1)에 있어서도 평면에서 보아 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z와, 제 1 기점 부분(10) 및 제 2 기점 부분(17)의 어긋남량 L은 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 도 4에 도시하는 바와 같이, 실장 영역(7)에 대하여, 1대 1 대응으로 마련되어 있다. 그러나, 도시하지 않지만, 복수의 실장 영역(7)(즉, 1개의 배선 회로 기판(1))에 대하여, 1개 마련되어 있어도 좋다. 이것은, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 대해서도 마찬가지이다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)보다 작지만, 그 대소 관계는 역전되어 있어도 좋다.
도 2의 가상선 및 도 3의 (D)에 도시하는 바와 같이, 배선 회로 기판(1)은 도금층(25)을 더 구비하여도 좋다. 도금층(25)은 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 배치되어 있다. 도금층(25)의 재료로서는, 예를 들면, 금, 니켈 등을 들 수 있다.
도금층(25)을 배치하려면, 도 3의 (D)에 도시하는 바와 같이, 세정 후의 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 도금(예를 들면, 전해 도금 등)한다. 또한, 도금층(25)은 도금이 복수 실시된 복수층이어도 좋다.
또한, 배선 회로 기판(1)이 도금층(25)을 구비하는 경우에는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 대응하는 도금층(25)이 제 1 화상 인식 카메라(31)에 의해 인식되며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 대응하는 도금층(25)이 제 2 화상 인식 카메라(32)에 의해 인식된다.
또한, 제 1 실시형태에서는 도 3의 (A) 내지 도 3의 (C)에 도시하는 바와 같이, 베이스 개구부(5)를 형성하기 전에, 도체층(3)을 배치하고 있지만, 도시하지 않지만, 우선, 베이스 개구부(5)를 베이스 절연층(2)에 형성하고, 그 후, 도체층(3)을 베이스 절연층(2)에 배치할 수도 있다. 예를 들면, 베이스 개구부(5)가 미리 형성된 베이스 절연층(2)을 준비하고, 그 후, 도체층(3)을 서브트랙티브법으로 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 적층(형성)한다.
제 1 실시형태에서는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 공통되는 얼라인먼트 마크층(11)에 대하여 마련되어 있다. 그러나, 도 5의 (A) 내지 도 5의 (C)에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 각각의 얼라인먼트 마크층에 마련되어 있어도 좋다.
도 5의 (A) 내지 도 5의 (C)에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 얼라인먼트 마크층(11)으로 구획되며, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 얼라인먼트 마크층(12)으로 구획되어 있다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 얼라인먼트 마크층(11)의 한쪽면에 있어서, 커버 개구부(6)로부터 한쪽측을 향하여 노출되어 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 얼라인먼트 마크층(11)과 독립하여 마련되는 제 2 얼라인먼트 마크층(12)의 다른쪽면에 있어서, 베이스 개구부(5)로부터 다른쪽측을 향하여 노출되어 있다.
이 변형예에서는, 도 5의 (A)에 도시하는 바와 같이, 얼라인먼트 마크층(11)은 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 포함하고 있으며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)보다 크고, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 상사 형상을 갖는다. 구체적으로는, 얼라인먼트 마크층(11)은 제 1 얼라인먼트 마크(41)보다 큰 평면에서 보아 대략 ＋자(플러스자) 형상(혹은 크로스 형상)을 갖는다. 얼라인먼트 마크층(11)의 주단부의 한쪽면이 커버 절연층(4)에 피복되어 있다.
제 2 얼라인먼트 마크층(12)은 베이스 절연층(2)의 한쪽면에 있어서, 얼라인먼트 마크층(11)과 면방향으로 간격을 사이에 두고 배치되어 있다. 제 2 얼라인먼트 마크층(12)은 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 포함하고 있으며, 제 2 얼라인먼트 마크(42)보다 크고, 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 상사 형상을 갖는다. 구체적으로는, 얼라인먼트 마크층(11)은 제 2 얼라인먼트 마크(42)보다 큰 평면에서 보아 대략 ＋자(플러스자) 형상(혹은 크로스 형상)을 갖는다. 제 2 얼라인먼트 마크층(12)의 주단부의 다른쪽면이, 베이스 절연층(2)에 피복되어 있다.
도 6에 도시하는 바와 같이, 얼라인먼트 마크층(11)은 베이스 절연층(2)의 베이스 개구부(5) 내에 충전되는 충전부(23)를 갖고 있어도 좋다. 충전부(23)의 다른쪽면은, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 일 예이며, 베이스 절연층(2)의 다른쪽면과 면일이다.
또한, 도시하지 않지만, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 동일 평면에서 본 형상을 가질 수도 있다.
도 7에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 각각 평면에서 보아 대략 L자 형상이어도 좋다.
구체적으로는, 도 7에 도시하는 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 도 1의 (B)에 도시하는 제 2 연장부(14) 및 제 4 연장부(16)를 구비하지 않으며, 제 1 기점 부분(10), 제 1 연장부(13) 및 제 3 연장부(15)를 구비한다.
도 7에 도시하는 제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 도 1의 (B) 내지 도 1의 (C)에 도시하는 제 6 연장부(19) 및 제 8 연장부(21)를 구비하지 않으며, 제 2 기점 부분(17), 제 5 연장부(18) 및 제 7 연장부(20)를 구비한다.
도 1의 (B)에 도시하는 제 1 실시형태에서는 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복되지 않지만, 도 8 내지 도 10의 변형예에서는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 부분적으로 중복되는 것이 허용된다.
단, 제 1 기점 부분(10) 및 제 2 기점 부분(17)이 평면에서 보아 어긋나게 배치될 필요가 있다.
도 8에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 제 1 연장부(13)의 유단부(遊端部)와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 제 6 연장부(19)의 유단부가 평면에서 보아 중복된다.
이 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 평면에서 보아 중복되지 않은 도 1의 (B)에 도시하는 배선 회로 기판(1)에 비해, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치할 수 있다.
도 8에 도시하는 변형예에서는 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 있어서의 1개의 연장부와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 1개의 연장부가 중복되지만, 도 9에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 있어서의 2개의 연장부와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 2개의 연장부가 중복된다.
구체적으로는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 있어서의 제 1 연장부(13) 및 제 4 연장부(16)가 각각, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 제 7 연장부(20) 및 제 6 연장부(19)와 중복된다.
도 9에 도시하는 바와 같이, 구체적으로는, 이 변형예에서는 평면에서 보아 제 1 연장부(13)와 제 7 연장부(20)가 교차(직교)하고, 제 4 연장부(16) 및 제 6 연장부(19)가 교차(직교)한다.
또한, 도 9에 도시하는 변형예에 있어서 평면에서 보아 제 1 기점 부분(10)은 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되지 않으며, 또한, 제 2 기점 부분(17)은 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복되지 않는다.
도 9에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 중 하나의 연장부 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 하나의 연장부가 평면에서 보아 중복되는 도 8에 도시하는 배선 회로 기판(1)에 비해, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 한층 더 콤팩트하게 배치할 수 있다.
도 10에 도시하는 변형예에서는 평면에서 보아 제 2 기점 부분(17)과, 제 1 연장부(13)의 선단부(유단부)가 중복된다.
한편 평면에서 보아 제 1 기점 부분(10)은 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치된다. 즉, 제 1 기점 부분(10)은 제 2 기점 부분(17)과 중복되지 않는다.
도 10에 도시하는 변형예에서는 평면에서 보아 제 2 기점 부분(17)이 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복되므로, 제 2 기점 부분(17)이 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 어긋나게 배치되는 도 9의 변형예에 비해, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 한층 더 콤팩트하게 배치할 수 있다. 그 때문에, 에칭이 체류되기 쉬운 제 1 기점 부분(10) 및 제 2 기점 부분(17)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지하면서, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치할 수 있다.
도 11은 도 8에 도시하는 변형예에 있어서의 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 형상을 평면에서 보아 대략 L자 형상으로 변경된 다른 변형예를 나타낸다. 도 11에 도시하는 변형예는, 도 8에 도시하는 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다.
도 12는 도 9에 도시하는 변형예에 있어서의 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 형상을 평면에서 보아 대략 L자 형상으로 변경된 다른 변형예를 도시한다. 도 12에 도시하는 변형예는, 도 9에 도시하는 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다.
도 13은 도 10에 도시하는 변형예에 있어서의 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 형상을 평면에서 보아 대략 L자 형상으로 변경한 다른 변형예를 도시한다. 도 13에 도시하는 변형예는, 도 10에 도시하는 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다.
또한, 도 14에 도시하는 바와 같이, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 복수(4개)의 제 2 기점 부분(17)을 가질 수도 있다.
구체적으로는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외측에 있어서, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 둘러싸는 평면에서 보아 대략 직사각형프레임 형상을 갖고 있으며, 4개의 코너부(24)를 갖는다. 4개의 코너부(24)는 제 2 부분의 일 예로서의 제 2 기점 부분(17)에 상당한다. 이 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 어긋나 있으며, 중복되지 않는다.
제 2 기점 부분(17)의 수는 상기로 한정되지 않으며, 도 15에 도시하는 바와 같이, 12개여도 좋다.
도 15에 도시하는 변형예에서는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 평면에서 보아 대략 ＋자 형상의 외측에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 둘러싸도록 배치되는 무단 프레임 형상을 갖는다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외단연을 따르는(대응하는) 형상을 갖는다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외단연에 상사하는 평면에서 보아 프레임 형상을 갖는다. 구체적으로는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 내측을 향한 개방되는 평면에서 보아 U자 형상을 갖는 U자 형상 부재(36)를 4개 일체적으로 갖는다. 1개의 U자형 부재(36)당, 3개의 코너부(24)가 마련된다. 그 때문에, 이 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 3×4=12개의 코너부(24)를 구비한다.
도 16에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 부분으로서, 제 1 기점 부분(10)을 대신하여, 솔리드부(30)의 중심 부분(C1)을 가질 수도 있다.
솔리드부(30)는 면방향을 따르는 솔리드 패턴(solid pattern)이며 평면에서 보아 솔리드부(30)의 외단연의 내측의 영역에 있어서, 관통 구멍 등의 개구를 갖지 않는다. 구체적으로는, 솔리드부(30)는 평면에서 보아 대략 직사각 형상을 갖는다.
제 1 중심 부분(C1)은 솔리드부(30)에 있게 된다(포함됨). 또한, 솔리드부(30)는 "중심"을 갖지만, 두께방향으로 투영했을 때에, 이러한 "중심"이 솔리드부(30)와 중복될 때에, 중심 부분(구체적으로는, 제 1 중심 부분(C1))으로서 솔리드부(30)에 있게 된다(포함된다).
제 1 중심 부분(C1)은, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 소프트 에칭할 때에, 에칭액이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 있어서 제 1 중심 부분(C1)의 주위 부분에 비해, 체류되기 쉬우며, 그 때문에, 제 1 중심 부분(C1)의 두께방향 위치가 두께방향 다른쪽측을 향하여 이동하는 속도가, 주위 부분의 그것에 비해 빠르다.
솔리드부(30)의 평면적은 예를 들면, 0.001㎟ 이상, 바람직하게는 0.005㎟ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎟ 이상이며, 또한, 예를 들면, 100㎟ 이하, 바람직하게는 50㎟ 이하, 보다 바람직하게는 30㎟ 이하이다.
이 배선 회로 기판(1)은 제 1 중심 부분(C1)이 평면에서 보아 코너부(24)와 어긋나 있으며, 조건 A를 만족한다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 중심 부분(C1)의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 이동하는 동시에, 코너부(24)의 두께방향 위치가 한쪽측으로 이동하여도, 제 1 중심 부분(C1) 및 코너부(24)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 이들 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 시인성이 뛰어나다.
또한, 이 배선 회로 기판(1)에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 솔리드부(30)의 제 1 중심 부분(C1)을 가지며, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 둘러싸고 있으므로 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 주변 영역(8)에 있어서 콤팩트하게 배치할 수 있다. 그 때문에, 배선 회로 기판(1)의 소형화를 도모할 수 있다.
도 16에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 둘러싸여 있지만, 도 17에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 둘러싸이지 않고, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 외측에 배치되어 있어도 좋다.
도 18 내지 도 20에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 선분부(37)와 중복될 수 있다.
선분부(37)는 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서 4개 구비되어 있으며, 각 선분부(37)는 2개의 코너부(24)를 연결하고 있다. 4개의 선분부(37) 중 하나가 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복된다.
도 18에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 선분부(37)에 대해 외측에 어긋나게 배치되어 있다.
도 19에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 선분부(37)와 중복되어 있다. 단, C1은 선분부(37)의 양단에 배치되는 코너부(24)(제 2 기점 부분(17))와 어긋나게 배치되어 있다.
도 20에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 선분부(37)에 대하여, 내측에 어긋나게 배치되어 있다.
도 18 내지 도 20의 변형예 중, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치하는 관점에서는, 도 19 및 도 20의 변형예가 바람직하며, 도 20의 변형예가 보다 바람직하다.
한편, 도 18 내지 도 20의 변형예 중, 제 1 중심 부분(C1)에 있어서의 관통 구멍의 방지의 관점에서, 선분부(37)와 제 1 중심 부분(C1)이 어긋나게 배치되는 도 18 및 도 20의 변형예가 바람직하다.
또한, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 형상은 제 1 중심 부분(C1)을 포함하면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 도시하지 않지만 평면에서 보아 대략 다각 형상(직사각형을 제외함), 예를 들면, 삼각 형상, 오각 형상, 육각 형상이어도 좋으며, 또한, 예를 들면, 도 21에 도시하는 바와 같이 평면에서 보아 대략 원 형상이어도 좋다.
또한, 도 15 내지 도 21의 변형예는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 무단 형상을 갖지만, 도 22에 도시하는 바와 같이, 유단 형상을 가질 수도 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 1개의 U자 형상 부재(36)를 갖고 있으며, 2개의 코너부(24)(제 2 기점 부분(17))를 갖는다.
또한, 솔리드부(30)의 수는 특별히 한정되지 않으며, 도 23에 도시하는 바와 같이, 복수여도 좋다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 복수(4개)의 솔리드부(30)를 갖는다. 복수의 솔리드부(30)는 복수의 연장부(제 5 연장부(18), 제 6 연장부(19), 제 7 연장부(20), 제 8 연장부(21))에 대응하여 마련된다. 솔리드부(30)는 연장부의 유단부와 중복되는 한편, 제 2 기점 부분(17)과 어긋나게 배치되어 있다.
도 24는 도 23에 도시하는 변형예에 있어서의 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 형상을 평면에서 보아 대략 L자 형상으로 변경한 다른 변형예를 도시한다. 도 23에 도시하는 변형예는, 도 23에 도시하는 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다.
또한, 도 16 내지 도 24의 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42) 중 어느 하나(구체적으로는, 제 1 얼라인먼트 마크(41))가, 솔리드부(30)를 갖지만, 도 25 내지 도 28에 도시하는 바와 같이, 양쪽이 솔리드부(30)를 가질 수도 있다.
도 25에 도시하는 바와 같이, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 대략 직사각형의 솔리드부(30)를 갖고 있으며, 이러한 솔리드부(30)는 제 2 중심 부분(C2)을 갖는다.
제 2 중심 부분(C2)은 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 솔리드부(30)에 있게 된다(포함된다). 또한, 솔리드부(30)는 "중심"을 갖지만, 두께방향으로 투영했을 때에, 이러한 "중심"이 솔리드부(30)와 중복될 때에, 중심 부분(구체적으로는, 제 2 중심 부분(C2))으로서 솔리드부(30)에 있게 된다(포함된다).
제 2 중심 부분(C2)은 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 에칭액이, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서 제 2 중심 부분(C2)의 주위 부분에 비해, 체류되기 쉬우며, 그 때문에, 제 2 중심 부분(C2)의 두께방향 위치가 두께방향 한쪽측을 향하여 이동하는 속도가 주위 부분의 그것에 비하여 빠르다.
제 1 중심 부분(C1)과 제 2 중심 부분(C2)은 평면에서 보아 어긋나게 배치되어 있다.
제 1 중심 부분(C1)과 제 2 중심 부분(C2)의 어긋남량 L은, 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z와 함께, 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
어긋남량 L의 상한은 바람직하게는 [Z×1/2], 보다 바람직하게는 [Z×1/3], 더욱 바람직하게는 Z/10,0000이다.
또한, 어긋남량 L의 하한은 바람직하게는 [X/10,000], 보다 바람직하게는 [X/5,000], 더욱 바람직하게는 [X/3,000]이다.
또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복되지 않고, 어긋나 있다.
도 26에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 일부와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 일부가 중복되는 것이 허용된다.
구체적으로는, 도 26에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 모서리부와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 평면에서 보아 중복된다. 단, 제 1 중심 부분(C1)은 제 2 중심 부분(C2)과 어긋나게 배치되어 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)의 솔리드부(30)의 형상은 상기로 한정되지 않으며, 도 27 및 도 28에 도시하는 바와 같이, 대략 원 형상이어도 좋다.
도 27 및 도 28은 각각, 도 25 및 도 26의 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 대략 원 형상으로 변경한 변형예이다.
<제 2 실시형태>
이하의 제 2 실시형태에 있어서, 상기한 제 1 실시형태 및 변형예와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 부여하고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 제 2 실시형태는 특기하는 이외, 제 1 실시형태 및 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제 1 실시형태 및 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
제 2 실시형태의 배선 회로 기판(1)은 조건 B를 만족하며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖는 한편, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않는다.
구체적으로는, 도 29의 (A) 및 도 29의 (B)에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 부분의 일 예인, 솔리드부(30)의 제 1 중심 부분(C1)을 갖지 않는다.
한편, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 중심 부분(C2)도 제 2 기점 부분(17)도 갖지 않는다. 즉, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 부분을 갖지 않는다. 구체적으로는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 대략 원환 형상을 갖고 있으며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 직경방향 외측에 간격을 사이에 두고 배치되어 있다.
이 제 2 실시형태에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 제 1 중심 부분(C1)은 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분(제 2 기점 부분(17) 또는 제 2 중심 부분(C2)(후술함))을 갖지 않으므로, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 에칭액의 체류가 억제된다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)와 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 최단 거리 L은, 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z와 함께, 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
최단 거리 L의 상한은 바람직하게는 [Z×1/2], 보다 바람직하게는 [Z×1/3], 더욱 바람직하게는 Z/10,0000이다.
또한, 최단 거리 L의 하한은 바람직하게는 [X/10,000], 보다 바람직하게는 [X/5,000], 더욱 바람직하게는 [X/3,000]이다.
구체적으로는, 최단 거리 L은 예를 들면, 10㎜ 이하, 바람직하게는 7.5㎜ 이하, 보다 바람직하게는 5㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 3㎜ 이하이며, 또한, 예를 들면, 0.05㎜ 이상, 바람직하게는 0.03㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.1㎜ 이상이다.
또한, 제 1 중심 부분(C1)과 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 최단 거리 L2는, 배선 회로 기판(1)의 면방향에 있어서의 최대 길이 Z와 함께, 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L2≤Z×2/3
최단 거리 L2의 상한은, 바람직하게는 [Z×1/2], 보다 바람직하게는 [Z×1/3], 더욱 바람직하게는 Z/10,0000이다.
또한, 최단 거리 L2의 하한은, 바람직하게는 [X/10,000], 보다 바람직하게는 [X/5,000], 더욱 바람직하게는 [X/3,000]이다.
또한, 이 배선 회로 기판(1)은, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않으므로, 조건 B를 만족한다. 그 때문에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 에칭액의 체류를 억제할 수 있으며, 그 때문에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치를 한쪽측으로 완만하게 이동시킬 수 있다. 즉, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치가 두께방향 한쪽측으로 크게 이동하는 것을 억제할 수 있다.
동시에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 최단 거리 L이 상기 식을 만족하므로, 배선 회로 기판(1)은 소형화가 도모되며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
또한, 제 1 중심 부분(C1)이 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 중심 부분(C1)의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 이동하여도, 제 1 중심 부분(C1) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 이들 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 시인성이 뛰어나다.
또한, 제 1 중심 부분(C1)과 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 최단 거리 L2가 상기 식을 만족하면, 배선 회로 기판(1)은 소형화가 도모되며, 제 1 중심 부분(C1)을 포함하는 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
<변형예>
이하의 각 변형예에 있어서, 상기한 제 1 및 제 2 실시형태와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 부여하고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 각 변형예는 특기하는 이외, 제 1 및 제 2 실시형태와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제 1, 제 2 실시형태 및 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
도 30의 (A) 및 도 30의 (B)에 도시하는 변형예에서는 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)에 포함되어 있으며, 구체적으로는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외단연의 내측에 간격을 사이에 두고 배치되어 있다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 직경방향에 걸쳐서, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 주단부와 중복된다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치할 수 있다.
도 31의 (A) 및 도 31의 (B)에 도시하는 변형예에서는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 외단연은, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외단연 및 내단연의 사이에 배치되어 있다. 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 직경방향 내측 부분이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 주단부(周端部)와 중복된다.
도 29의 (A) 내지 도 31의 (B) 중, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 제 1 얼라인먼트 마크(41)와의 중복 부분의 면적이 적거나, 혹은, 중복 부분이 없으므로, 그에 기인하는 관통 구멍의 형성을 억제하는 관점에서, 도 29의 (A) 내지 도 30의 (B)의 변형예가 바람직하며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42) 및 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 어긋나 있는 도 29의 (A) 및 도 29의 (B)의 변형예가 보다 바람직하다.
도 32에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 대해, 외측에 어긋나게 배치되어 있다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 구성이 간단하다.
도 33 및 도 34에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 주단부의 일부가 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되어 있다.
도 33에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 외측에 어긋나게 배치되어 있다.
도 34에 도시하는 변형예에서는, 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 내측에 어긋나게 배치되어 있다.
도 32 내지 도 34의 변형예 중, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치하는 관점에서, 도 33 및 도 34의 변형예가 바람직하며, 도 34의 변형예가 보다 바람직하다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 제 2 부분(제 2 기점 부분(17) 또는 제 2 중심 부분(C2))을 갖지 않으면 그 형상은 특별히 한정되지 않으며, 도 35에 도시하는 바와 같이, 예를 들면 평면에서 보아 대략 반원호 형상이어도 좋다.
도 36 내지 도 38에 도시하는 바와 같이, 또한, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는, 제 1 중심 부분(C1)을 갖는 평면에서 보아 대략 직사각 형상을 가질 수도 있다.
도 36에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 내측 간격을 사이에 두고 배치되어 있다. 그 때문에, 제 1 중심 부분(C1)은, 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있다.
도 37에 도시하는 바와 같이, 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나 있으면, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 전부를 포함하여도 좋다.
또한, 도 38에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 모서리부가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되는 것이 허용된다.
또한, 도 39 및 도 40에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 중심 부분(C1)을 대신하여, 제 1 기점 부분(10)을 갖고 있으며, 제 1 기점 부분(10)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 평면에서 보아 어긋나게 배치되어 있어도 좋다.
도 39에서는 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 내측에 어긋나게 배치되어 있다. 구체적으로는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 둘러싸여 있다.
도 40에서는, 제 1 연장부(13) 내지 제 4 연장부(16)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되어 있다.
도 39 및 도 40 중, 관통 구멍의 형성의 방지의 관점에서, 도 39의 변형예가 바람직하다.
한편, 도 39 및 도 40 중, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 콤팩트하게 배치하는 관점에서 도 40의 변형예가 바람직하다.
또한, 제 2 실시형태 및 그 변형예에서는, 도 29의 (A) 내지 도 40에 도시하는 바와 같이, 제 1 중심 부분(C1)이 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있다.
그러나, 도 41의 (A) 내지 도 41의 (C)에 도시하는 바와 같이, 제 1 부분의 일 예인 제 1 중심 부분(C1) 또는 제 1 기점 부분(10)이 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복될 수도 있다.
도 41의 (A)에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 대략 원 형상의 솔리드부(30)를 구비하고 있으며, 솔리드부(30)의 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 평면에서 보아 중복되어 있다.
도 41의 (B)에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 대략 직사각 형상의 솔리드부(30)를 구비하고 있으며, 솔리드부(30)의 제 1 중심 부분(C1)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 평면에서 보아 중복되어 있다.
도 41의 (C)에 도시하는 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가, 제 1 기점 부분(10)을 구비하고 있으며, 이 제 1 기점 부분(10)이 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 평면에서 보아 중복되어 있다.
도 41의 (A) 내지 도 41의 (C)에 도시하는 변형예에 의하면, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 상기한 제 2 부분을 갖지 않으므로, 제 2 부분과 같은 에칭액의 체류에 기인하는 두께방향 위치의 한쪽측으로의 신속한 이동을 억제할 수 있다. 그 때문에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치의 한쪽측으로의 완만한 이동을 달성할 수 있다.
그 결과, 도 41의 (A) 내지 도 41의 (C)에 도시하는 바와 같이, 예를 들어, 제 1 부분의 일 예인 제 1 중심 부분(C1) 또는 제 1 기점 부분(10)이 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되어도, 제 2 얼라인먼트 마크(42)에 있어서의 두께방향 위치가 다른쪽측으로 완만하게 이동하기 때문에, 상기한 관통 구멍의 형성을 억제할 수 있다.
또한, 도 41의 (A) 내지 도 41의 (C)에 도시하는 변형예보다, 도 29의 (A) 내지 도 40에 도시하는 제 2 실시형태 및 변형예가 바람직하다. 도 29의 (A) 내지 도 40에 도시하는 제 2 실시형태 및 변형예이면, 제 1 중심 부분(C1)이 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있으므로, 제 1 중심 부분(C1) 또는 제 1 기점 부분(10)과, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다.
<제 3 실시형태>
이하의 제 3 실시형태에 있어서, 상기한 제 1, 제 2 실시형태 및 변형예와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 부여하고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 제 3 실시형태는 특기하는 이외, 제 1, 제 2 실시형태 및 변형예와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제 1, 제 2 실시형태 및 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
제 3 실시형태의 배선 회로 기판(1)은 조건 B를 만족하고, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않는다.
구체적으로는, 도 42의 (A) 내지 도 47에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 기점 부분(10)도, 솔리드부(30)의 제 1 중심 부분(C1)도 갖지 않는다. 즉, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 1 부분을 갖지 않는다. 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 제 2 기점 부분(17)도 솔리드부(30)의 제 2 중심 부분(C2)도 갖지 않는다. 즉, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 2 부분을 갖지 않는다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)는 평면에서 보아 대략 원환 형상을 갖는다. 또한, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 중심을 갖지만 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 중복되는 제 1 중심 부분(C1)을 갖지 않는다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 중심을 갖지만 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복되는 제 2 중심 부분(C2)을 갖지 않는다.
그리고, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외측에 어긋나게 배치되어 있다. 구체적으로는, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는, 제 1 얼라인먼트 마크(41)보다 큰 평면에서 보아 대략 원환 형상을 갖는다.
제 1 얼라인먼트 마크(41)와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 어긋남량 L은, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 외단연과, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 내단연의 최단 거리이며, 배선 회로 기판(1)의 최대 길이 Z와 함께, 하기 식을 만족한다.
Z/10,0000≤L≤Z×2/3
어긋남량 L의 상한은, 바람직하게는 [Z×1/2], 보다 바람직하게는 [Z×1/3], 더욱 바람직하게는 Z/10,0000이다.
또한, 어긋남량 L의 하한은, 바람직하게는 [X/10,000], 보다 바람직하게는 [X/5,000], 더욱 바람직하게는 [X/3,000]이다.
제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 양쪽에 있어서의 에칭액의 체류가 억제된다.
그리고, 이 제 3 실시형태는 조건 B를 만족하며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 제 2 부분을 갖지 않는다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 상기한 제 1 부분과 같은 에칭액의 체류에 기인하는 두께방향 위치의 다른쪽측으로의 신속한 이동을 억제할 수 있으며, 또한, 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 상기한 제 2 부분과 같은 에칭액의 체류에 기인하는 두께방향 위치의 한쪽측으로의 신속한 이동을 억제할 수 있다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 두께방향 위치의 다른쪽측으로의 완만한 이동과, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치의 한쪽측으로의 완만한 이동을 양립할 수 있다.
또한, 이 제 3 실시형태에서는, 원래, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다. 그 때문에, 이들 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 시인성이 뛰어나다.
동시에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 상기 식을 만족하는 어긋남량 L로 어긋나 있으므로, 배선 회로 기판(1)은 소형화가 도모되며, 제 1 얼라인먼트 마크(41)를 이용하는 얼라인먼트와, 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
따라서, 이 배선 회로 기판(1)은 소형화 및 박형화되면서, 시인성이 뛰어난 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 구비하고, 이들을 이용하는 얼라인먼트를 동시에 실시할 수 있다.
<변형예>
이하의 각 변형예에 있어서, 상기한 제 1 내지 제 3 실시형태와 마찬가지의 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 부여하고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 각 변형예는 특기하는 이외, 제 1 내지 제 3 실시형태와 마찬가지의 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제 1 내지 제 3 실시형태 및 변형예를 적절히 조합할 수 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)의 형상은, 제 2 부분을 갖지 않으면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 도 43에 도시하는 바와 같이 평면에서 보아 대략 타원 형상이어도 좋다.
도 44에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)는 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 외측에 어긋나게 배치되어 있어도 좋다. 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 서로 어긋나게 배치되어 있다. 그 때문에, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 구성이 간단하다.
도 45에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가, 한쪽측을 향하여 개방되는 평면에서 보아 대략 원호 형상을 가지며, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가, 다른쪽측을 향하여 개방되는 평면에서 보아 대략 원호 형상을 가질 수 있다.
또한, 도 46에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 모두, 동일방향을 향하여 개방되는 평면에서 보아 대략 원호 형상이어도 좋다.
또한, 도 47에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 모두 평면에서 보아 대략 C자 형상을 갖고 있어도 좋다.
평면에서 보아 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 2개의 유단부 사이를, 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 통과하는 동시에, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 2개의 유단부 사이를 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 통과한다.
또한, 제 3 실시형태 및 그 변형예에서는, 도 42의 (A) 내지 도 47에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있다. 그러나, 도 48의 (A) 및 도 48의 (B)에 도시하는 바와 같이, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 중복될 수도 있다.
제 2 얼라인먼트 마크(42)는 제 1 얼라인먼트 마크(41)와 동일한 평면에서 보아 대략 원환 형상을 갖는다. 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)는 평면에서 보아 서로 중복된다.
이 변형예에서는, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)가 중복되어도, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)를 소프트 에칭할 때에, 제 1 얼라인먼트 마크(41)의 두께방향 위치의 다른쪽측으로의 완만한 이동과, 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 두께방향 위치의 한쪽측으로의 완만한 이동을 양립하고 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 억제할 수 있다.
또한, 도 48의 (A) 및 도 48의 (B)에 도시하는 변형예보다, 도 42의 (A) 내지 도 47에 도시하는 제 3 실시형태 및 변형예가 매우 바람직하다. 도 42의 (A) 내지 도 47에 도시하는 제 3 실시형태 및 변형예이면, 제 1 얼라인먼트 마크(41)가 평면에서 보아 제 2 얼라인먼트 마크(42)와 어긋나게 배치되어 있으므로, 제 1 얼라인먼트 마크(41) 및 제 2 얼라인먼트 마크(42)의 중복에 기인하는 관통 구멍의 형성을 방지할 수 있다.
또한, 상기 발명은 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않으며, 한정적으로 해석해서는 안된다. 상기 기술 분야의 당업자에 의해 명확한 본 발명의 변형예는 후기 청구범위에 포함된다.
배선 회로 기판은 여러 가지의 용도에 이용된다.
1: 배선 회로 기판 2: 베이스 절연층
4: 커버 절연층 10 제 1 기점 부분(제 1 부분의 일 예)
11: 얼라인먼트 마크층 12: 제 2 얼라인먼트 마크층
17: 제 2 기점 부분(제 2 부분의 일 예)
30: 솔리드부
41: 제 1 얼라인먼트 마크 42: 제 2 얼라인먼트 마크
C1: 제 1 중심 부분(제 1 부분의 일 예)
C2: 제 2 중심 부분(제 2 부분의 일 예)

Claims (6)

  1. 얼라인먼트 마크층과,
    상기 얼라인먼트 마크층의 두께방향 한쪽측 및 다른쪽측에 배치되는 절연층을 구비하는 배선 회로 기판에 있어서,
    상기 얼라인먼트 마크층은,
    상기 절연층으로부터 두께방향 한쪽측에 노출되는 제 1 얼라인먼트 마크와,
    상기 절연층으로부터 두께방향 다른쪽측에 노출되는 제 2 얼라인먼트 마크를 구비하고,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 하기 조건 A 또는 조건 B를 만족하는 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판.
    조건 A: 상기 제 1 얼라인먼트 마크는, 상기 두께방향에 대한 직교방향에 있어서 복수방향으로 연장되는 제 1 기점 부분, 및 상기 직교방향으로 연속하는 솔리드부의 제 1 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 1 부분을 갖는다.
    상기 제 2 얼라인먼트 마크는, 상기 직교방향에 있어서 복수방향으로 연장되는 제 2 기점 부분, 및 상기 직교방향으로 연속하는 솔리드부의 제 2 중심 부분으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분인 제 2 부분을 갖는다.
    상기 제 1 부분이 평면에서 보아 상기 제 2 부분과 L의 양으로 어긋나 있으며, 상기 어긋남량 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이 Z가, 하기 식을 만족한다.
    Z/10,0000≤L≤Z×2/3
    조건 B: 상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 갖는 한편, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않거나,
    또는,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 갖지 않으며, 또한, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않는다.
    상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크의 평면에서 본 최단 거리 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이와 Z가, 하기 식을 만족한다.
    Z/10,0000≤L≤Z×2/3
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 얼라인먼트 마크가, 상기 제 1 얼라인먼트 마크와 동일 형상 또는 상사 형상을 갖는 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 조건 B를 만족하고,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크가 상기 제 1 부분을 가지며, 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 상기 제 2 부분을 갖지 않으며,
    상기 제 1 부분이 평면에서 보아 상기 제 2 얼라인먼트 마크와, L의 양으로 어긋나 있으며, 상기 어긋남량 L과, 상기 배선 회로 기판의 최대 길이 Z가, 하기 식을 만족하는 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판.
    Z/10,0000≤L≤Z×2/3
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크와 상기 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 중복되지 않은 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 얼라인먼트 마크가 평면에서 보아 상기 제 1 얼라인먼트 마크를 둘러싸고 있는 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판.
  6. 제 1 항에 기재된 배선 회로 기판의 제조 방법에 있어서,
    상기 얼라인먼트 마크층 및 상기 절연층을 배치하는 공정,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크를 상기 절연층으로부터 두께방향 한쪽측에 노출시키는 공정,
    상기 제 2 얼라인먼트 마크를 상기 절연층으로부터 두께방향 다른쪽측에 노출시키는 공정, 및,
    상기 제 1 얼라인먼트 마크 및 상기 제 2 얼라인먼트 마크를 소프트 에칭하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는
    배선 회로 기판의 제조 방법.
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