KR20210046786A - 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(scr)에 사용하기 위한 촉매 - Google Patents

질소 산화물의 선택적 촉매 환원(scr)에 사용하기 위한 촉매 Download PDF

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안데르스 요르트 페데르센
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Abstract

본 발명은, 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매로서,
· 모노리스 기판, 및
· 코팅 A로서, 티탄 산화물을 포함하는 산화성(oxidic) 금속 담체 및 바나듐 산화물을 포함하는 촉매성 금속 산화물을 포함하고, 질량비 바나듐/티탄이 0.07 내지 0.26인 상기 코팅 A를 포함하는, 촉매에 관한 것이다.

Description

질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매
본 발명은, 암모니아와의 반응에 의한, 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 특히 산화성(oxidic) 금속 담체의 나노 입자 상에 분산된 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물을 포함하는 워시코트(washcoat) 슬러리의 사용에 기반하는, 상기 촉매의 제조방법에 관한 것이다.
촉매는, 특히 모노리스 촉매 지지체에 적용되는 경우, 이종 촉매 작용(heterogeneous catalysis)에 의한 가스 처리에 유용하며, 자동차 및 고정형(stationary) 배출 제어 장치 및 화학 산업의 다른 종류의 반응기에 널리 사용된다.
모노리스 촉매 지지체는, 압출된 기판이거나, 세라믹 재료 또는 금속으로 제조되거나, 또는 촉매 활성 물질로 코팅된 얇은 벽에 의해 분리되는 복수의 평행 가스 유동 채널이 있는 모노리스 구조화된 기판을 스태킹(stacked up)하거나 또는 롤링(rolled up)한 파형 세라믹 페이퍼(corrugated ceramic paper)로 제조된다.
일반적으로, 촉매 활성 물질은, 워시코트를 도포함으로써 기판 상에 지지되며, 일반적으로는, 촉매 기판 상에 침착된 내화성 산화물 층이다. 워시코트는, 건조 후에, 그리고 임의로 제어된 분위기에서 소성된 후에, 기판의 표면에 결합된 다공성 고표면적 층을 제공한다.
워시코트는 후속적으로 촉매 활성 물질 또는 이의 전구체의 용액으로 함침된다. 마지막으로, 이렇게 촉매된 기판은 승온에서의 소성에 의해 활성화된다.
모노리스 촉매의 중요한 사용 분야는 오프-가스(off-gas)에 함유된 질소 산화물의 제거이다.
질소 산화물(NOx)의 제거에서 모노리스 SCR 촉매를 작동하는 경우, 질소 산화물은, 모노리스 기판(monolithic substrate)의 벽의 기공 상에 또는 이의 내부에 지지된 촉매의 존재 하에, 반응 I 및 II에 따른 선택적 촉매 환원에 의해, 일반적으로는 암모니아인 환원제로 유리 질소로 전환된다:
4NO + 4NH3 + O2 → 4N2 + 6H2O I
NO + NO2 + 2NH3 → 2N2 + 3H2O II
암모니아와의 SCR 반응에서 활성인 촉매 화합물은 그 자체가 당업계에 공지되어 있다. 몇 가지 예를 들면, 일반적으로 사용되는 촉매는, 단독으로 또는 이들의 혼합물로 사용되는, 바나듐 산화물, 텅스텐 산화물 및 제올라이트 물질이며, 일반적으로는 예를 들면, 구리 및/또는 철로 교환된다. 오프-가스로부터 NOx를 환원하기 위해 가장 일반적으로 사용되는 촉매는 티타니아-지지된 바나듐 산화물이며, 이는 임의로 산화 텅스텐으로 촉진된다.
V2O5/TiO2 및 V2O5-WO3/TiO2 촉매의 문제점은, 상기 촉매는 250℃ 미만의 가스 온도에서의 암모니아 SCR 반응에서 충분히 효율적이지 않다는 것이다. 그러나, 많은 응용 분야에서는 100℃의 낮은 가스 온도에서 높은 SCR 촉매 활성을 필요로 한다. 예를 들면, 증기 보일러와 같은 고정형 연소 시설은 일반적으로 120 내지 150℃의 위드 오프-가스(with off-gas) 온도에서 작동한다.
다른 시나리오의 경우, 예를 들면, 발전소에는 뜨거운 위드 오프-가스 스트림으로부터 열을 회수하는 열 회수 증기 발생기(HRSG)가 설치될 수 있다. HRSG 유닛은 과가열기(superheater), 증발기 및 이코노마이저(economizer)를 포함한다. 과가열기 및 증발기에서, 상기 위드 오프-가스의 열은 증기를 과가열하고 급수를 보일러로 펌핑하기 전에 예열하는 데 사용되어, 발전소의 보일러 효율을 높인다. 따라서, 상기 위드 오프-가스의 온도는 일반적으로 약 150℃로 냉각된다. 증발기의 저온 다운스트림은 SCR을 사용하는 NOx의 제거 문제에 직면한다.
WO 2016/058713 A1은, 촉매된 패브릭 필터의 제조방법으로서, 상기 패브릭 필터 기판을 수성 함침 액체로 함침시킴을 포함하고, 상기 수성 함침 액체는 산화성 금속 담체의 나노 입자 상에 분산된 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물의 수성 하이드로졸을 포함하는 방법을 개시한다.
WO 2016/058713 A1의 개시(실시예 1의 방법 참조)에 따르면, 0.58의 NH3VO3/TiO2 비가 사용되며, 이는 0.42의 V/Ti 비에 해당한다.
놀랍게도, 본 발명의 발명자들은, 촉매의 DeNOx 활성에 영향을 미치지 않으면서, 상기 비를 감소시킬 수 있다는 것을, 즉, 보다 더 적은 바나듐이 사용될 수 있다는 것을 발견하였다. 동시에 SO2 산화가 감소되어 결과적으로 중황산암모늄(ABS)의 형성이 감소된다.
따라서, 본 발명은, 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매로서,
· 모노리스 기판, 및
· 코팅 A로서, 티탄 산화물을 포함하는 산화성 금속 담체 및 바나듐 산화물을 포함하는 촉매성 금속 산화물을 포함하고, 질량비 바나듐/티탄이 0.07 내지 0.26인 상기 코팅 A를 포함하는, 촉매에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 양태는 이하에 개시되고 논의된다. 이들 양태들은 각각 단독으로 또는 이들의 조합으로 사용될 수 있다.
모노리스 기판은 세라믹 재료, 특히 코디어라이트 또는 금속으로 만들어진 허니콤(honeycomb) 기판일 수 있다. 그러나, 바람직한 모노리스 기판은 유리 섬유를 함유한다. 이러한 기판은 최종 촉매의 촉매 활성에 부적절한 영향을 미치지 않는 것으로 나타났다. 유리 섬유를 함유하는 모노리스 기판은 바람직하게는 유리 섬유의 파형 시트를 포함한다. 이는 예를 들면, 유리 섬유 웹의 편평한 시트를 파형으로 만들고, 복수의 파형 시트를 모노리스 구조로 스태킹하거나 또는 단일 파형 시트를 원통형 모노리스로 롤링하여 생성된다.
바람직하게는, 각각의 파형 시트에는 스태킹되거나 롤링되기 전에 파형 시트(들)와 동일한 재료로 만들어진 편평한 라이너가 제공된다.
바나듐 산화물을 포함하는 코팅 A의 촉매성 금속 산화물은 바람직하게는 오산화바나듐(V2O5)을 포함한다. 또한, 임의로 다른 금속 산화물, 특히 텅스텐의 산화물 및/또는 몰리브덴의 산화물, 바람직하게는 삼산화텅스텐(WO3) 및/또는 삼산화몰리브덴(MoO3)을 포함한다.
티탄 산화물을 포함하는 코팅 A의 산화성 금속 담체는 일반적으로 이산화티탄을 포함한다. 또한, 임의로 또 다른 금속의 산화물, 특히 알루미늄의 산화물, 세륨의 산화물, 지르코늄의 산화물 또는 이들의 혼합물, 이들 산화물들 중 적어도 하나를 포함하는 혼합 산화물 또는 혼합 화합물을 포함한다.
바람직하게는, 산화성 금속 담체는 1차 입자 크기가 10 내지 150nm인 이산화티탄의 단일한 나노 입자 또는 응집된 나노 입자로 구성된다.
본 발명에 따르면, 질량비 바나듐/티탄은 0.07 내지 0.22, 바람직하게는 0.1 내지 0.21이다. 의심의 여지를 없애기 위해, 질량비는 바나듐 금속과 티탄 금속의 질량을 기준으로 계산된다. 바람직하게는, 본 발명의 촉매는 백금족 금속이 없고, 특히 팔라듐이 없다.
본 발명의 하나의 양태에서, 본 발명의 촉매는 모노리스 기판 상에 직접 그리고 코팅 A 아래에 추가의 코팅 B를 포함한다. 코팅 B는 바람직하게는 티탄 산화물, 특히 이산화티탄 및 임의로 알루미늄의 산화물, 세륨의 산화물, 지르코늄의 산화물 또는 이들의 혼합물, 이들 산화물들 중 하나 이상을 포함하는 혼합 산화물 또는 혼합 화합물을 포함한다.
본 발명의 또 다른 양태에서, 산화성 금속 담체는 티탄 산화물, 특히 이산화티탄뿐만 아니라, 바나듐 산화물, 특히 오산화바나듐 및 임의로 텅스텐의 산화물 및/또는 몰리브덴의 산화물, 특히 삼산화텅스텐 및/또는 삼산화몰리브덴을 포함한다.
이는 특히 재순환된 촉매 또는 새로운 SCR 촉매가 오산화바나듐(V2O5) 및 이산화티탄(TiO2), 및 임의로 삼산화텅스텐(WO3) 및/또는 삼산화몰리브덴(MoO3)을 포함하는 경우이다.
더욱 또 다른 양태에서, 모노리스 기판은 오산화바나듐(V2O5) 및 이산화티탄(TiO2), 및 임의로 삼산화텅스텐(WO3) 및/또는 삼산화몰리브덴(MoO3)을 포함하는 압출물이다.
바람직하게는, 본 발명의 촉매는 약 5 내지 약 95wt%의 촉매 활성 물질을 포함한다.
본 발명은 또한, 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매의 제조방법으로서,
a) 모노리스 기판을 제공하는 단계;
b) 티탄 산화물을 포함하는 산화성 금속 담체 입자 상에 분산된 바나듐 화합물을 포함하는 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물을 포함하는 수성 워시코트 슬러리를 제공하는 단계;
c) 상기 모노리스 기판을 상기 워시코트 슬러리로 함침시키는 단계; 및
d) 상기 함침된 모노리스 기판을 150 내지 600℃의 온도에서 건조 및 열 활성화시켜, 상기 하나 이상의 금속 전구체 화합물을 이들의 촉매 활성 형태로 전환시키는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
단계 b)와 관련하여, 바나듐 화합물을 포함하는 본 발명의 촉매 금속 전구체 화합물은 바람직하게는 암모늄 메타바나데이트이다. 본 발명의 촉매가 텅스텐의 산화물 및/또는 몰리브덴의 산화물을 포함하는 경우, 워시코트 슬러리는 바람직하게는 암모늄 메타텅스테이트 및/또는 암모늄 헵타몰리브데이트를 포함한다.
본 발명에 따른 방법의 일부 적용에서, 본 발명의 모노리스 기판은 상기 모노리스 기판의 함침 전에 사전 코팅되어, 보다 더 큰 표면적의 상기 기판을 제공한다. 따라서, 본 발명의 하나의 양태에서, 본 발명의 모노리스 기판은, 티탄의 산화물, 및 임의로 알루미늄의 산화물, 세륨의 산화물, 지르코늄의 산화물 또는 이들의 혼합물, 이들 산화물들 중 적어도 하나를 포함하는 혼합 산화물 또는 혼합 화합물을 포함하는 산화성 금속 담체로 워시코팅된 후, 상기 모노리스 기판은 단계 (c)에서 워시코트 슬러리로 함침된다.
단계 d)에 따른 함침된 모노리스 기판의 열 활성화는, 함침된 기판의 인스톨(installation) 전에 또는 함침된 기판을 SCR 유닛에 인스톨한 후에 수행될 수 있다. 바람직하게는, 열 활성화 온도는 300 내지 450℃이다.
본 발명의 방법이, 이미 오산화바나듐(V2O5) 및 이산화티탄(TiO2), 및 임의로 삼산화텅스텐(WO3) 및/또는 삼산화몰리브덴(MoO3)을 포함하는 재순환된 촉매를 단계 a)에서 제공함을 포함하는 경우, 수성 워시코트 슬러리 중 상기 산화물들의 전구체의 양은 감소될 수 있다.
하기에 보다 상세히 개시되는 수성 워시코트 슬러리의 제조에서, 산화성 금속 담체는 함침 용액에 하이드로졸 형태로 존재하며, 이의 일부는 저장 동안 겔화될 수 있고, 바람직한 크기보다 더 큰 입자 크기로 응집될 수 있다. 1급 아민은 응집을 방지하거나 이미 형성된 응집체를 파괴하는 것으로 나타났다. 따라서, 워시코트 슬러리에 하나 이상의 1급 아민으로부터 선택된 분산제를 첨가하는 것이 바람직하다.
1급 아민은 바람직하게는, 상기 개시된 목적을 초래하는 양으로 첨가되는 경우, 수성 워시코트 슬러리에서 가용성이다. 탄소수 7 미만의 1급 아민은 수용성이며, 따라서 본 발명에서 사용하기에 바람직한 1급 아민은 모노-메틸 아민, 모노-에틸 아민, 모노-프로필 아민, 모노-부틸 아민 또는 이들의 혼합물이다. 이들 중에서, 가장 바람직한 분산제는 모노-에틸 아민이다. 1급 아민 분산제가, 워시코트 슬러리의 pH 값이 7을 초과하게 하는 양으로 워시코트 슬러리에 첨가될 때 우수한 결과가 얻어진다.
당업계에 공지된 바와 같이, 효과적인 촉매는 산화성 금속 담체상의 촉매 활성 물질의 단층 커버리지를 필요로 한다. 담체 상에 과잉한 결정성 촉매 활성 물질의 형성은 회피해야 한다. 일명 평형 침착법을 1급 아민 분산제와 조합하여 사용하면, 저온에서의 열 활성화 후 촉매 활성 물질의 높은 분산이 가능해진다. 이러한 방법에서, 반대로 하전된 금속 화합물들 사이의 정전기 인력은, 미세하게 분산된 형태로 반대로 하전된 금속 화합물의 표면 상에 하나의 금속 화합물을 결합하는 데 사용된다.
TiO2 및 VxOy z-는 pH 간격 4 내지 6에서 반대 표면 전하를 갖는다. 따라서, 정전기 인력은 VxOy z-가 TiO2 상에 증착되는 것을 촉진한다. VxOy z-의 제한된 용해도는, 르 샤틀리에의 원리에 의해 피해지며, VxOy z-가 Ti-OH2 + 부위에 결합할 때 새로운 VxOy z- 이온이 용해된다. 이러한 연속 공정은 실온에서 발생되며, 교반 및 pH 조절만을 필요로 한다.
따라서, 수성 워시코트 슬러리는 바람직하게는 다음 단계들에 의해 제조된다:
i) 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물 및 산화성 금속 담체를 물에 첨가하고, 액체에 산을 연속적으로 첨가하여, 액체의 pH를, 하나 이상의 촉매 전구체 금속 화합물의 표면 전하가 음성(negative)이고 산화성 금속 담체의 제타 전위는 양성(positive)인 값으로 유지하는 단계;
ii) 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물을 산화성 금속 담체의 표면 상에 흡착시키는 단계; 및 임의로
iii) 이렇게 제조된 액체에, 이렇게 제조된 워시코트 슬러리의 pH 값이 7 초과가 되게 하는 양으로 분산제를 첨가하는 단계.
바람직하게는, 단계 (i) 및 (ii)에서의 pH 값은 2.5 내지 5로 유지된다.
본 발명의 촉매는 자동차 공급원 및 고정형 공급원으로부의 오프-가스를 처리하고 상기 오프-가스에 함유된 질소 산화물을 선택적으로 환원시키는 데 적합하다. 따라서, 본 발명은 또한, 자동차 공급원 및 고정형 공급원으로부터의 오프-가스를 처리하고 상기 오프-가스에 함유된 질소 산화물을 선택적으로 환원시키는 방법으로서, 상기 오프-가스가 본 발명의 촉매 위를 통과함을 특징으로 하는 방법에 관한 것이다.
실시예 1
a) 암모늄 바나데이트/티타니아 함유 워시코트 슬러리의 제조
1. 2,250g의 탈염수를 2,630g의 TiO2와 혼합한다.
2. 381g의 암모니아 메타바나데이트(AMV)을 연속하여 교반하면서 첨가한다. NH4VO3/TiO2 - 비는 0.16이다.
3. pH를 모니터링하고 연속적으로 증가시킨다.
4. pH를 4.0 내지 4.5의 간격으로 진한 질산으로 조정한다.
5. 몇 시간 후, 액체의 pH는 일정하게 유지되고, 슬러리는 적어도 24시간 동안 일정하게 교반된다. 그러나, pH는 3시간마다 조정해야 한다.
생성된 액체는 적색이고, 100g의 에틸아민(물 중 70%)을 (또는 pH ~9.2 내지 9.5까지) 첨가한다.
액체는 아이보리 백색이 되고, 후속적으로 250 내지 400nm(D50)의 입자 크기로 밀링(milled)한다.
임의로 5.6g의 계면활성제를 첨가하여 파형 기판 상의 워시코트 흡수를 증가시킨다.
b) 유리 섬유로 구성된 모노리스 기판을 상기 수성 슬러리로 워시코팅한다. 이렇게 얻어진 촉매의 V/Ti 비는 0.12이다.
실시예 2
얻어진 촉매의 V/Ti 비가 0.21인 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하였다.
실시예 3
얻어진 촉매의 V/Ti 비가 0.24인 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하였다.
실시예 4
얻어진 촉매의 V/Ti 비가 0.25인 것을 제외하고는 실시예 1의 방법을 반복하였다.
실시예 5
a) 암모늄 바나데이트/티타니아 함유 워시코트 슬러리의 제조
1. 2,250g의 탈염수를 2,630g의 TiO2와 혼합한다.
2. 381g의 암모니아 메타바나데이트(AMV)을 연속하여 교반하면서 첨가한다. NH4VO3/TiO2 - 비는 0.16이다.
3. pH를 모니터링하고 연속적으로 증가시킨다.
4. pH를 4.0 내지 4.5의 간격으로 진한 질산으로 조정한다.
5. 몇 시간 후, 액체의 pH는 일정하게 유지되고, 슬러리는 적어도 24시간 동안 일정하게 교반된다. 그러나, pH는 3시간마다 조정해야 한다.
생성된 액체는 황색이고, 100g의 에틸아민(물 중 70%)을 (또는 pH ~9.2 내지 9.5까지) 첨가한다.
액체는 담황색이 되고, 후속적으로 600 내지 700nm(D50)의 입자 크기로 밀링한다.
임의로 5.6g의 계면활성제를 첨가하여 파형 기판 상의 워시코트 흡수를 증가시킨다.
b) 유리 섬유로 구성된 모노리스 기판을 상기 수성 슬러리로 워시코팅한다. 이렇게 얻어진 촉매의 V/Ti 비는 0.12이다.
시험
실시예 1 내지 4에 따라 얻어진 각각의 수성 슬러리의 일부를 건조시키고, 이렇게 얻어진 분말을, NO의 암모니아 SCR에서 500ppm NO, 533ppm NH3, 10vol% O2, 4% H2O 및 잔량의(balance) N2를 함유하는 가스 조성으로 시험했다. 시험 결과는 도 1에 요약되어 있다.
도 1로부터 명백한 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 4의 촉매에 상응하는 분말은 고온에서 매우 우수한 NO 전환 활성을 갖는다. 또한, Ti/V 비를 0.20 초과의 값, 특히 0.24 초과로 증가시키는 것이 더 높은 활성을 초래하지는 않으며, 활성이 균등한 수준으로 된다는 것도 명백하다.
한편, Ti/V 비가 증가함에 따라 SO2의 (원치 않는) 산화가 증가한다는 것은 질소 산화물의 선택적 촉매 환원 분야의 숙련가에게 일반적인 지식이다(예를 들면, 문헌[Applied Catalysis b: Environmental 19 (1998) 103-117] 참조). 따라서, 본 발명은 원치 않는 SO2 산화를 최소로 제한하면서 최적의 NO 전환을 얻을 수 있게 한다.
도 2는 실시예 5의 입자 분포를 도시한다.
실시예 1 및 2에 기재된 바와 같이, 밀링은 단계 a) 1. 이후에 수행될 수도 있다는 점에 유의해야 한다. 이는 탈염수 중의 TiO2 슬러리가 암모늄 메타바나데이트의 첨가 전에 밀링될 수 있음을 의미한다.
당업자는 원하는 입자 크기를 얻기 위해 밀링 조건을 조정하는 방법을 알고 있다. 티탄 산화물(D50)을 포함하는 산화성 금속 담체의 입자 상에 분산된 바나듐 화합물을 포함하는 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물의 적합한 입자 크기는 200 내지 750nm, 바람직하게는 250 내지 600nm, 더욱 바람직하게는 300 내지 500nm이다.
상기 기재한 바와 같이, 밀링은, 상기 실시예 1 내지 5에 기재한 바와 같이, 암모늄 메타바나데이트의 첨가 전에, 즉, 단계 a) 1. 후에, 또는 아민으로 pH를 조정한 후에, 즉, 단계 a) 5. 동안 수행될 수 있다.

Claims (17)

  1. 질소 산화물의 선택적 촉매 환원(SCR)에 사용하기 위한 촉매로서,
    · 모노리스 기판(monolithic substrate), 및
    · 코팅 A로서, 티탄 산화물을 포함하는 산화성(oxidic) 금속 담체 및 바나듐 산화물을 포함하는 촉매성 금속 산화물을 포함하고, 질량비 바나듐/티탄이 0.07 내지 0.26인 상기 코팅 A를 포함하는, 촉매.
  2. 제1항에 있어서, 상기 모노리스 기판이 유리 섬유의 파형 시트(corrugated sheet)를 포함하는, 촉매.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 바나듐 산화물을 포함하는 상기 코팅 A의 촉매성 금속 산화물이 오산화바나듐(V2O5)을 포함하는, 촉매.
  4. 제3항에 있어서, 바나듐 산화물을 포함하는 상기 코팅 A의 촉매성 금속 산화물이 텅스텐의 산화물 및/또는 몰리브덴의 산화물을 추가로 포함하는, 촉매.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 티탄 산화물을 포함하는 상기 코팅 A의 산화성 금속 담체가 이산화티탄을 포함하는, 촉매.
  6. 제5항에 있어서, 티탄 산화물을 포함하는 상기 코팅 A의 산화성 금속 담체가, 알루미늄의 산화물, 세륨의 산화물, 지르코늄의 산화물 또는 이들의 혼합물, 이들 산화물들 중 적어도 하나를 포함하는 혼합 산화물 또는 혼합 화합물을 추가로 포함하는, 촉매.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 산화성 금속 담체가, 1차 입자 크기가 10 내지 150nm인 이산화티탄의 단일한 나노 입자 또는 응집된 나노 입자로 구성되는, 촉매.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 질량비 바나듐/티탄이 0.1 내지 0.21인, 촉매.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 백금족 금속이 없는, 촉매.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 모노리스 기판 바로 위에 그리고 코팅 A 아래에 추가의 코팅 B를 포함하는, 촉매.
  11. 제10항에 있어서, 코팅 B가 티탄의 산화물, 및 임의로 알루미늄의 산화물, 세륨의 산화물, 지르코늄의 산화물 또는 이들의 혼합물, 이들 산화물들 중 적어도 하나를 포함하는 혼합 산화물 또는 혼합 화합물을 포함하는, 촉매.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 촉매의 제조방법으로서,
    a) 모노리스 기판을 제공하는 단계;
    b) 티탄 산화물을 포함하는 산화성 금속 담체 입자 상에 분산된 바나듐 화합물을 포함하는 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물을 포함하는 수성 워시코트(washcoat) 슬러리를 제공하는 단계;
    c) 상기 모노리스 기판을 상기 워시코트 슬러리로 함침시키는 단계; 및
    d) 상기 함침된 모노리스 기판을 150 내지 600℃의 온도에서 건조 및 열 활성화시켜, 상기 하나 이상의 금속 전구체 화합물을 이들의 촉매 활성 형태로 전환시키는 단계를 포함하는, 방법.
  13. 제12항에 있어서, 바나듐 화합물을 포함하는 상기 촉매 금속 전구체 화합물이 암모늄 메타바나데이트인, 방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 수성 워시코트 슬러리가 상기 액체에 가용성인 1급 아민을 포함하는, 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 1급 아민이 모노-에틸 아민인, 방법.
  16. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 티탄 산화물을 포함하는 산화성 금속 담체의 입자 상에 분산된 바나듐 화합물을 포함하는 상기 하나 이상의 촉매 금속 전구체 화합물의 입자 크기 D50이 200 내지 750nm인, 방법.
  17. 자동차 공급원 및 고정형 공급원(stationary source)으로부터의 오프-가스(off-gas)를 처리하고, 상기 오프-가스에 함유된 질소 산화물을 선택적으로 환원시키는 방법으로서, 상기 오프-가스가 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 촉매 위를 통과하는, 방법.
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