KR20200110614A - 구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소 - Google Patents

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프레데릭 장르노
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오메가쏘시에떼아노님
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Abstract

구조화된 장식을 갖는 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 제조하기 위한 방법으로서,
- 세라믹 베이스 (1) 가 제조되고;
- 경면 연마가 수행되고;
- 표면 릴리프 (20) 의 레이저 및/또는 기계적 기계 가공이 수행되고;
- 표면 릴리프 (20) 는 제 1 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 제 1 층 (2) 으로 코팅되고; 상기 코팅 이전 또는 후에, 딥 에칭은 제 1 층 (2) 의 두께 보다 더 큰 깊이를 갖고 외관 표면 (10) 아래로, 그리고 표면 릴리프 (20) 의 골들 (2) 아래로 베이스 (1) 를 뚫고 들어가는 제 1 중공 장식 (3) 을 생성하도록 수행되고;
- 레이저 삭마는 세라믹이 드러나게 되는 바닥에서 포켓들 (4) 의 제 1 층 (2) 에 대해 수행되고;
- 구성 요소의 모든 가시 표면들은 제 2 재료의 제 2 층 (5) 으로 코팅된다.

Description

구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소{CERAMIC-BASED TIMEPIECE OR JEWELLERY COMPONENT WITH A STRUCTURED DECORATION}
본 발명은 구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 이 방법으로 제조되는 외부 요소 및/또는 다이얼을 포함하는 와치에 관한 것이다.
본 발명은 시계학을 위한 외부 또는 디스플레이 구성 요소들의 분야와, 보석류의 분야에 관한 것이다.
장식된 구성 요소들의 제조를 위하여, 특히 장식이 여러 색조를 띄게 (tone-on-tone) 부착되고, 그리고 장식의 기계적 구조화가 장식의 광 회절 및 외관을 변화시킬 때, 광학 효과들을 적절하게 달성하는 것이 어렵다.
ROLEX 명의의 EP 특허 출원 No.3067220 은 타임피스 요소를 장식하기 위한 방법을 개시하고, 상기 방법은 펨토초 레이저를 사용하여 장식될 타임피스 요소의 표면을 딥 에칭하는 단계와, 장식될 타임피스 요소의 표면을 표면 구조화하는 단계를 포함하고, 이들 2 개의 장식들은 서로 적어도 부분적으로 중첩된다.
RICHEMONT 명의의 CH 특허 No.713871 은 복수의 그래픽 요소들을 갖는 타임피스들을 위한 구성 요소 및 이를 제조하기 위한 방법을 개시하고, 상기 구성 요소는 기재를 포함하고, 상기 기재의 적어도 일부는 복수의 층들을 갖는 코팅으로 코팅되고, 상기 층들은 외부층 및 상기 기재와 상기 외부층 사이에 형성된 적어도 하나의 중간층을 포함하고, 상기 중간층은 상기 외부층의 외관과 상이한 외관을 갖고, 상기 코팅은 제 1 그래픽 요소를 규정하는 적어도 제 1 개구부로서, 상기 제 1 개구부는 상기 중간층을 드러내 보이는 제 1 깊이를 갖는, 상기 제 1 개구부와, 제 2 그래픽 요소를 규정하는 적어도 제 2 개구부로서, 상기 제 2 개구부는 상기 제 1 깊이와 상이한 제 2 깊이를 갖는, 상기 제 2 개구부를 포함하여 상기 구성 요소는 서로 상이한 외관을 갖는 적어도 2 개의 그래픽 요소들을 갖는다.
본 발명은 장식 효과들 및 음영들, 또는 홀로그래픽 효과들을 생성하기 위한, 그리고 특히 여러 색조를 띄게 하기 위한 방법을 개발할 것을 제안한다.
이를 위해, 본 발명은 청구항 제 1 항에 따른 구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 이 방법으로 제조되는 외부 요소 및/또는 다이얼을 포함하는 와치에 관한 것이다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법으로 제조되는 적어도 하나의 보석류 구성 요소를 포함하는 한 조각의 보석류에 관한 것이다.
제안된 작업 모드는 세라믹 뿐만 아니라 사파이어, 유리 등과 같은 기재들에 대하여 높은 선명도 (definition) 의 장식들을 얻을 수 있게 한다.
본 발명의 다른 특징들 및 이점들은 첨부된 도면들을 참고로 하여 이하의 상세한 설명을 읽으면서 명백해질 것이다.
- 도 1 내지 도 9 는 본 발명에 따른 방법의 작업 순서들의 개략적인 단면도들을 나타낸다:
- 도 1 은 베이스의 제조를 나타내고;
- 도 2 는 사용자에게 보이도록 의도된 베이스의 각각의 외관 표면 (apparent surface) 의 경면 연마를 나타내고;
- 도 3 은 레이저 기계 가공 및/또는 다이아몬드 공구를 이용한 기계적 기계 가공 및/또는 연마 기계 가공이 피크들과 골들 사이에서 연장되는 표면 릴리프를 포함하는 적어도 일부의 구조화된 표면들의 제 1 미세 패턴 에칭을 생성하도록 수행되는 제 1 기계 가공 작업을 나타내고;
- 도 4 의 (A) 는 제 1 층의 제 1 외부 표면 상에 적어도 하나의 장식 요소를 부착 및 결합시키는 제 1 전사 작업을 나타내고;
- 도 4 의 (B) 는 표면 릴리프의 적어도 일부가 제 1 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 1 층의 제 1 두께로 코팅되는 제 1 코팅 작업을 나타내고, 그리고 상기 제 1 코팅 작업에 이어서, 도 5 의 (A) 에서, 제 2 기계 가공 작업이 이어지고, 상기 제 2 기계 가공 작업 동안, 딥 에칭은 제 1 두께 보다 더 큰 깊이를 갖고 외관 표면 아래로, 그리고 표면 릴리프의 골들 아래로 베이스를 뚫고 들어가는 제 1 중공 장식을 생성하도록 수행되고;
- 도 5 의 (A) 및 도 5 의 (B) 는 역순으로 수행된 도 4 의 (A) 및 도 4 의 (B) 의 작업들을 나타낸다: 도 5 의 (A) 는 제 2 기계 가공 작업을 나타내고, 상기 제 2 기계 가공 작업 동안, 딥 에칭은 제 1 두께 보다 더 큰 깊이를 갖고 외관 표면 아래로, 그리고 표면 릴리프의 골들 아래로 베이스를 뚫고 들어가는 제 1 중공 장식을 생성하도록 수행되고, 그리고 상기 제 2 기계 가공 작업에 이어서, 표면 릴리프의 적어도 일부가 제 1 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 1 층의 제 1 두께로 코팅되는 도 5 의 (B) 의 작업이 이어지고;
- 도 6 은 도 4 의 (A) 및 도 4 의 (B) 에서 제조되는 블랭크에 적용되고, 그리고 레이저 삭마가 베이스의 세라믹 재료가 드러나게 되는 바닥에서 포켓들의 제 1 층에 대해 수행되는 제 3 기계 가공 작업을 나타내고;
- 도 7 은, 도 6 과 유사한 방식으로, 도 5 의 (A) 및 도 5 의 (B) 에서 제조되는 블랭크에 적용되는 제 3 기계 가공 작업을 나타내고;
- 도 8 은 도 6 의 블랭크에 적용되고, 그리고 구성 요소의 모든 가시 표면들이 제 2 처리 재료의 제 2 층의 디포지션으로 코팅되는 제 2 코팅 작업을 나타내고;
- 도 9 는, 도 8 과 유사한 방식으로, 도 7 의 블랭크에 적용되는 제 2 코팅 작업을 나타내고; 그리고
- 도 10 은 본 발명의 방법으로 제조되고 장식되는 다이얼을 포함하는 와치를 나타낸다.
본 발명은 구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 제조하기 위한 방법에 관한 것이고, 여기서 기본 사이클은 이하의 단계들을, 이 순서로, 포함하여 적어도 한 번 수행된다:
- 초기 작업 (100) 에서, 세라믹 재료로 제조되는 기재로부터 베이스 (1) 를 제조하는 단계;
- 제 1 연마 작업 (200) 에서, 적어도 사용자에게 보이도록 의도된 외관 표면들 (10) 에 대해 베이스 (1) 를 경면 연마하는 단계;
- 제 2 기계 가공 작업 (300) 에서, 피크들 (21) 과 골들 (22) 사이에서 연장되는 표면 릴리프 (20), 또는 기요세 (Guilloch
Figure pat00001
), 또는 선레이 (sunray), 또는 체이스 가공 (chased), 또는 엔그레이브 가공 (engraved), 또는 페를라쥬 (perlage), 또는 스네일 가공 (snailed), 또는 원형 그레인 가공 (circular grained), 또는 앵글라쥐 (anglage), 또는 새틴 (satin), 또는 드론 (drawn), 또는 오목한 챔퍼 가공 마무리 (concave chamfered finish), 또는 꼬드 드 쥬네브 (C
Figure pat00002
tes de Gen
Figure pat00003
ve), 또는 클루 드 파리 (Clous de Paris) 를 갖는 적어도 일부 구조화된 표면들의 제 1 미세 패턴 에칭을 생성하기 위하여 레이저 기계 가공 및/또는 다이아몬드 공구를 이용한 기계적 기계 가공 및/또는 연마 기계 가공을 수행하는 단계;
- 제 1 준비 작업 (400) 에서, 표면 릴리프 (20) 의 적어도 일부가 제 1 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 1 층 (2) 의 제 1 두께 (E) 로 코팅되는 제 1 코팅 작업 (500) 을 수행하고, 그리고, 제 1 코팅 작업 (500) 이전 또는 후에, 딥 에칭이 제 1 두께 (E) 보다 더 큰 깊이 (P) 를 갖고 외관 표면 (10) 아래로, 그리고 표면 릴리프의 골들 (22) 아래로 베이스 (1) 를 뚫고 들어가는 제 1 중공 장식 (3) 을 생성하도록 수행되는 제 2 기계 가공 작업 (600) 을 수행하는 단계;
- 제 3 기계 가공 작업 (700) 에서, 베이스 (1) 의 세라믹 재료가 드러나게 되는 바닥에서 포켓들 (4) 의 제 1 층 (2) 에 대해 레이저 삭마를 수행하는 단계. 실제로, 레이저 기계 가공으로, 베이스 기재의 표면을 손상시키지 않으면서, 베이스 기재의 표면에 도달하기 위하여 표면층, 얇을 수도 있는 표면층을 제거할 수 있다.
특정 특징에 따르면, 제 1 준비 작업 (400) 동안, 제 1 코팅 작업 (500) 은, 도 4 의 (A) 및 도 4 의 (B) 에 도시된 바와 같이, 제 2 기계 가공 작업 (600) 이전에 수행된다.
다른 특정 특징에 따르면, 제 1 준비 작업 (400) 동안, 제 2 기계 가공 작업 (600) 은, 도 5 의 (A) 및 도 5 의 (B) 에 도시된 바와 같이, 제 1 코팅 작업 (500) 이전에 수행된다.
특정 특징에 따르면, 제 3 기계 가공 작업 (700) 동안, 베이스 (1) 의 세라믹 재료에서 적어도 하나의 포켓 (4) 의 기계 가공이 계속된다.
본 발명에 따르면, 제 3 기계 가공 작업 (700) 후에, 구성 요소의 모든 가시 표면들이 제 2 처리 재료의 제 2 층 (5) 의 디포지션으로 코팅되는 제 2 코팅 작업 (800) 이 수행된다.
보다 구체적으로, 제 2 코팅 작업 (800) 후에, 제 4 기계 가공 작업 (900) 에서, 레이저 삭마는 베이스 (1) 의 세라믹 재료 및/또는 제 1 층 (2) 의 제 1 처리 재료가 드러나게 되는 바닥에서 포켓들의 제 2 층 (5) 에 대해 수행된다.
특정 특징에 따르면, 제 4 기계 가공 작업 (700) 후에, 매 번 선행 작업에 의해서 보여지는 모든 표면들이 다른 처리 재료의 다른 층의 디포지션으로 코팅되는 코팅 작업이 수행되고 나서, 레이저 삭마는 베이스의 세라믹 재료 및/또는 제 1 층의 제 1 처리 재료, 또는 새로운 층 아래에 있는 층들 중 하나의 재료가 드러나게 되는 바닥에서 포켓들의 새로운 층에 대해 수행되는 것이 반복적으로 수행된다.
특정 특징에 따르면, 마지막 기계 가공 작업 후에, 구성 요소의 모든 가시 표면들이 건식 프로세스에서, 또는 PVD 또는 CVD 또는 ALD 프로세스에서, 또는 락커링 또는 자폰 니스 프로세스 (lacquering or zapon varnish process) 에서, 투명 처리 재료 (5) 의 투명 디포지션으로 코팅되는 마지막 코팅 작업이 수행된다.
특정 특징에 따르면, 마지막 기계 가공 작업 후에, 반투명 착색 처리가 건식 프로세스에서, 또는 PVD 또는 CVD 또는 ALD 프로세스에서, 또는 락커링 또는 자폰 니스 프로세스에서, 착색된 투명 디포지션으로 구성 요소의 가시 표면들에 대해 수행되는 마지막 작업이 수행된다.
특정 특징에 따르면, 제 1 층 (2) 은 베이스의 세라믹 재료와 동일한 색상을 갖도록 선택된다.
특정 특징에 따르면, 제 1 층 (2) 은 베이스의 세라믹 재료의 밀도 보다 더 높은 밀도의 착색 안료들을 갖도록 선택된다.
특정 특징에 따르면, 구성 요소에 포함된 모든 중첩된 층들은 베이스의 세라믹 재료와 동일한 색상을 갖도록 선택된다.
특정 특징에 따르면, 구성 요소에 포함된 중첩된 층들의 각각은 중첩된 층들이 코팅되는 층의 밀도 보다 더 높고, 그리고 베이스의 세라믹 재료의 밀도 보다 더 높은 밀도의 착색 안료들을 갖도록 선택된다.
변형에서는 착색 안료들의 밀도가 베이스로부터 최외층으로 감소하는 것으로 그 반대이다.
특정 특징에 따르면, 검은색 또는 어두운 회색이 선택된다.
특정 특징에 따르면, 타임피스 또는 보석류 구성 요소는 외부 요소 또는 다이얼을 형성하도록 제조된다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법에 의해서 제조되는 적어도 하나의 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 포함하는 와치 (1000) 에 관한 것이다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 방법에 의해서 제조되는 적어도 하나의 보석류 구성 요소를 포함하는 한 조각의 보석류에 관한 것이다.
당연히, 본 발명은 타임피스 구성 요소들의 부분들 뿐만 아니라 보석류 또는 보석류 구성 요소들, 또는 안경 또는 패션 아이템들에 대해서도 유리하다.
실제로, 본 발명은 혁신적인 장식들로 사용자에게 직접 보이는 구성 요소들의 외관을 변화시키고 실질적으로 향상시키는 것을 가능하게 하고, 그리고 브랜드 및 제품의 홍보에 기여한다. 보다 구체적으로, 본 발명은 식별 마킹 및/또는 위조 방지 마킹에 사용될 수 있다.

Claims (16)

  1. 구조화된 장식을 갖는 세라믹 기반 타임피스 또는 보석류 구성 요소를 제조하기 위한 방법으로서, 기본 사이클은 이하의 단계들:
    - 초기 작업 (100) 에서, 세라믹 재료로 제조되는 기재로부터 베이스 (1) 를 제조하는 단계;
    - 제 1 연마 작업 (200) 에서, 적어도 사용자에게 보이도록 의도된 외관 표면들 (apparent surfaces) (10) 에 대해 상기 베이스 (1) 를 경면 연마하는 단계;
    - 제 2 기계 가공 작업 (300) 에서, 피크들 (21) 과 골들 (22) 사이에서 연장되는 표면 릴리프 (20), 또는 기요세 (Guilloch
    Figure pat00004
    ), 또는 선레이 (sunray), 또는 체이스 가공 (chased), 또는 엔그레이브 가공 (engraved), 또는 페를라쥬 (perlage), 또는 스네일 가공 (snailed), 또는 원형 그레인 가공 (circular grained), 또는 앵글라쥐 (anglage), 또는 새틴 (satin), 또는 드론 (drawn), 또는 오목한 챔퍼 가공 마무리 (concave chamfered finish), 또는 꼬드 드 쥬네브 (C
    Figure pat00005
    tes de Gen
    Figure pat00006
    ve), 또는 클루 드 파리 (Clous de Paris) 를 갖는 적어도 일부 구조화된 표면들의 제 1 미세 패턴 에칭을 생성하기 위하여 레이저 기계 가공 및/또는 다이아몬드 공구를 이용한 기계적 기계 가공 및/또는 연마 기계 가공을 수행하는 단계;
    - 제 1 준비 작업 (400) 에서, 상기 표면 릴리프 (20) 의 적어도 일부가 제 1 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 1 층 (2) 의 제 1 두께 (E) 로 코팅되는 제 1 코팅 작업 (500) 을 수행하고, 그리고, 상기 제 1 코팅 작업 (500) 전 또는 후에, 딥 에칭이 상기 제 1 두께 (E) 보다 더 큰 깊이 (P) 를 갖고 상기 외관 표면 (10) 아래로, 그리고 상기 표면 릴리프의 상기 골들 (22) 아래로 상기 베이스 (1) 를 뚫고 들어가는 제 1 중공 장식 (3) 을 생성하도록 수행되는 제 2 기계 가공 작업 (600) 을 수행하는 단계;
    - 제 3 기계 가공 작업 (700) 에서, 상기 베이스 (1) 의 세라믹 재료가 드러나게 되는 바닥에서 포켓들 (4) 의 상기 제 1 층 (2) 에 대해 레이저 삭마를 수행하는 단계;
    - 상기 제 3 기계 가공 작업 (700) 후에, 상기 구성 요소의 모든 가시 표면들이 제 2 처리 재료의 제 2 층 (5) 의 디포지션으로 코팅되는 제 2 코팅 작업 (800) 이 수행되는 단계를, 이 순서로, 포함하여 적어도 한 번 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 준비 작업 (400) 동안, 상기 제 1 코팅 작업 (500) 은 상기 제 2 기계 가공 작업 (600) 전에 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 준비 작업 (400) 동안, 상기 제 2 기계 가공 작업 (600) 은 상기 제 2 코팅 작업 (500) 전에 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 3 기계 가공 작업 (700) 동안, 적어도 하나의 상기 포켓 (4) 의 기계 가공은 상기 베이스 (1) 의 세라믹 재료에서 계속되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 코팅 작업 (800) 후에, 제 4 기계 가공 작업 (900) 에서, 레이저 삭마는 상기 베이스 (1) 의 세라믹 재료 또는 상기 제 1 층 (2) 의 제 1 처리 재료가 드러나게 되는 바닥에서 상기 포켓들의 상기 제 2 층 (5) 에 대해 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 4 기계 가공 작업 (700) 후에, 매 번 선행 작업에 의해서 보여지는 모든 표면들이 다른 처리 재료의 다른 층의 디포지션으로 코팅되는 코팅 작업이 수행되고 나서, 레이저 삭마는 상기 베이스의 세라믹 재료 또는 상기 제 1 층의 제 1 처리 재료, 또는 새로운 층 아래에 있는 층들 중 하나의 재료가 드러나게 되는 바닥에서 상기 포켓들의 상기 새로운 층에 대해 수행되는 것이 반복적으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    마지막 기계 가공 작업 후에, 상기 구성 요소의 모든 가시 표면들이 건식 프로세스에서, 또는 PVD 또는 CVD 또는 ALD 프로세스에서, 또는 락커링 또는 자폰 니스 프로세스 (lacquering or zapon varnish process) 에서, 투명 처리 재료 (5) 의 투명 디포지션으로 코팅되는 마지막 코팅 작업이 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    마지막 기계 가공 작업 후에, 반투명 착색 처리가 건식 프로세스에서, 또는 PVD 또는 CVD 또는 ALD 프로세스에서, 또는 락커링 또는 자폰 니스 프로세스에서, 착색된 투명 디포지션으로 상기 구성 요소의 가시 표면들에 대해 수행되는 마지막 작업이 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 층 (2) 은 상기 베이스의 세라믹 재료와 동일한 색상을 갖도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 층 (2) 은 상기 베이스의 상기 세라믹 재료의 밀도 보다 더 높은 밀도의 착색 안료들을 갖도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 구성 요소에 포함된 모든 중첩된 층들은 상기 베이스의 상기 세라믹 재료와 동일한 색상을 갖도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 구성 요소에 포함된 중첩된 층들의 각각은 상기 중첩된 층들이 코팅되는 층의 밀도 보다 더 높고, 그리고 상기 베이스의 상기 세라믹 재료의 밀도 보다 더 높은 밀도의 착색 안료들을 갖도록 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 색상은 검은색 또는 어두운 회색으로 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 색상은 검은색 또는 어두운 회색으로 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 타임피스 또는 상기 보석류 구성 요소는 외부 요소 또는 다이얼을 형성하도록 제조되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  16. 제 1 항에 따른 방법에 의해서 제조되는 시계학 또는 보석류를 위한 적어도 하나의 구성 요소를 포함하는 와치 (1000).
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