KR20200064058A - 적층 필름 - Google Patents

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시게루 아오야마
준 사카모토
히로지 코지마
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도레이 카부시키가이샤
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디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하이고, 상기 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN 이하이고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 적층 필름. 카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하는 층과 다른 수지로 이루어지는 층의 층간 박리를 억제하고, 또한 반사율이나 투명성이 손상되지 않는 적층 필름을 제공한다.

Description

적층 필름
본 발명은 적층 필름에 관한 것이다.
종래, 광학 특성이 다른 2종 이상의 재료를 광의 파장 레벨의 층 두께로 교대로 적층함으로써 발현하는 광의 간섭 현상을 이용하여, 특정 파장의 광을 선택적으로 반사시키는 광간섭 다층막이 알려져 있다. 이러한 다층막은 사용하는 재료의 굴절률, 층수, 각 층 두께를 소망하는 광학적인 설계로 함으로써, 각종의 성능을 구비하게 하는 것이 가능하기 때문에 각종의 광학 용도 대상으로 시판되고 있다. 예를 들면 콜드 미러, 하프 미러, 레이저 미러, 다이크로익 필터, 열선반사 필름, 근적외 차단 필터, 단색 필터, 편광 반사 필름 등을 들 수 있다.
이러한 다층막을 용융 압출법으로 얻을 경우, 투명성, 내열성, 내후성, 내약품성, 강도 및 치수 안정성 등의 이유로부터, 일방의 수지로 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트라고 하는 폴리에스테르 수지를 주성분으로서 사용하고, 다른 일방의 수지로 폴리에스테르 수지와는 광학 특성이 다른 열가소성 수지 (예를 들면 공중합 폴리에스테르)를 사용한 다층 필름이 알려져 있다(특허문헌 1, 2). 특히 일방의 수지에 폴리에틸렌나프탈레이트를 주성분으로서 사용했을 경우, 저굴절률의 공중합 폴리에스테르와의 굴절률차를 크게 할 수 있기 때문에, 높은 반사율을 갖는 광간섭 다층막을 얻는 경우에 유용하다.
일본 특허공개 2005-059332호 공보 일본 특허공개 2004-249587호 공보
그러나, 용융 압출법으로 폴리에틸렌나프탈레이트를 주성분으로 한 층과 저굴절률의 공중합 폴리에스테르의 층으로 이루어지는 다층막을 얻었을 경우, 폴리에틸렌나프탈레이트를 주성분으로 한 층의 강성이 높기 때문에 변형되기 어려워서, 필름을 변형·가공해서 사용하는 용도에 적용하기 어렵다. 예를 들면 성형 가공시에 깨지거나 균열이 발생하거나 하는 경우가 있기 때문에, 최종 제품으로서 적용할 수 없다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 층과, 상기 폴리에스테르 수지와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지를 주성분으로 하는 층을 교대로 51층 이상 적층한 적층 필름에 있어서, 성형 가공시의 깨짐이나 균열을 억제하고, 또한 양호한 반사율이나 투명성을 갖는 적층 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 적층 필름은 이하의 [I] 또는 [II]중 어느 하나의 구성을 갖는다. 즉,
[I] 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과, 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하이고, 상기 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN 이하이고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 적층 필름, 또는
[II] 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과, 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 수지 A가 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하고, 상기 A층, B층을 구성하는 수지 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 적층 필름이다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.).
또한, 상기 본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과, 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하이고, 상기 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN 이하이고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율이 20nm 이상의 파장 범위에서 연속해서 30% 이상이 되는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 적층 필름과 동의이다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정된 것이 바람직하다. 또한, 이 바람직한 양태는 상기 반사 대역이 파장 900∼1,400nm의 파장 범위에 있어서 적어도 1개 갖는 것과 동의이다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 적층 구성부가 동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 손실 정접(tanδ)의 피크값이 120℃ 이하이다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 A층, B층을 구성하는 수지 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지로서, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지로서, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 A가 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 A층이 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표층에 배치되어 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 적층 구성부가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 α를 주성분으로 하는 층(α층)과 상기 수지 α와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 β를 주성분으로 하는 층(β층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족시키는 적층 유닛 1과, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 γ를 주성분으로 하는 층(γ층)과 상기 수지 γ와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 ω를 주성분으로 하는 층(ω층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족시키는 적층 유닛 2를 갖는 것이 바람직하다.
(i) 인접하는 α층과 β층의 두께의 비(α층 두께/β층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것.
(ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방이 5 이상 9 이하인 것.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지로서, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지로서, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 수지 A가 디올 구성 성분으로서 식(1)으로 표시되는 구조를 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 A층이 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표층에 배치되어 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 필름 표면측으로부터 측정한 반사율이 20nm 이상 연속해서 30% 이상이 되는 반사 대역을 적어도 1개 갖고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖고, 상기 반사율 프로필이, 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정된 것이 바람직하다. 또한, 이 바람직한 양태는, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율이 20nm 이상의 파장 범위에서 연속해서 30% 이상이 되는 반사 대역을 적어도 1개 갖고, 상기 반사 대역이 파장 900∼1,400nm의 파장 범위에 있어서 적어도 1개 갖는 것과 동의이다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 적층부 구성부의 손실 정접(tanδ)의 피크값이 120℃ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름은, 상기 적층 구성부가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 α를 주성분으로 하는 층(α층)과 상기 수지 α와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 β를 주성분으로 하는 층(β층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족시키는 적층 유닛 1과, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 γ를 주성분으로 하는 층(γ층)과 상기 수지 γ와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 ω를 주성분으로 하는 층(ω층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족시키는 적층 유닛 2를 갖는 것이 바람직하다.
(i) 인접하는 α층과 β층의 두께의 비(α층 두께/β층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것.
(ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방이 5 이상 9 이하인 것.
본 발명에 의해, 적층 필름의 성형 가공시의 깨짐이나 균열을 억제하고, 또한 양호한 반사율이나 투명성을 갖는 적층 필름을 얻을 수 있다. 상기 적층 필름은 광간섭 다층막으로서 다방면에 걸치는 용도에서 적용 가능하다.
도 1은 적층 유닛 2의 구성을 나타낸 개념도이다.
도 2는 스크래치 시험의 측정 결과예와 임계 하중을 구하는 방법을 나타낸 도면이다.
이하에, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예를 포함하는 실시형태에 한정해서 해석되는 것은 아니고, 발명의 목적을 달성할 수 있고, 또한 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에 있어서의 각종의 변경은 당연히 있을 수 있다. 또한, 설명을 간략화할 목적에서 일부의 설명에서는 광학 특성이 다른 2종의 폴리에스테르 수지가 교대로 적층된 다층 적층 필름을 예로 들어 설명하지만, 3종 이상의 폴리에스테르 수지를 사용했을 경우나 폴리에스테르 수지 이외의 열가소성 수지를 사용하는 경우에 있어서도 마찬가지로 이해되어야 할 것이다.
본 발명의 적층 필름은 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)을 갖는 적층 필름이다. 폴리에스테르 수지는 일반적으로 열경화성 수지나 광경화성 수지와 비교해서 저렴하고, 또한 공지의 용융 압출에 의해 간편하고 또한 연속적으로 시트화할 수 있기 때문에, 저비용으로 적층 필름을 얻는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명의 적층 필름에 있어서는, 상기 수지 A와 상기 수지 B는 다른 광학 특성을 갖는 폴리에스테르 수지일 필요가 있다. 여기에서 말하는 광학 특성이 다르다란, 면내에서 임의로 선택되는 직행하는 2방향 및 상기 면에 수직한 방향에서 선택되는 방향 중 어느 하나에 있어서, 굴절률이 0.01 이상 다른 것을 말한다. 또한, 상기 수지 A와 상기 수지 B는 다른 융점 또는 결정화 온도를 갖지만 바람직하다. 다른 융점 또는 결정화 온도란, 후술하는 측정 방법에 의해 구해지는 융점과 결정화 온도 중 어느 하나가 3℃ 이상 다른 것을 말한다. 또한, 일방의 수지가 융점을 갖고 있고, 다른 일방의 수지가 융점을 갖고 있지 않을 경우나, 일방의 수지가 결정화 온도를 갖고 있고, 다른 일방의 수지가 결정화 온도를 갖고 있지 않는 경우에도 다른 융점 또는 결정화 온도를 갖는 것을 의미한다. 다른 융점 및 결정화 온도를 갖는 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명의 적층 필름은, 상기 A층과 상기 B층이 교대로 51층 이상 적층되어 이루어질 필요가 있다. 여기에서 말하는 교대로 적층되어 이루어진다란, A층과 B층이 두께 방향으로 규칙적인 배열로 적층되어 있는 것을 말하고, A (BA)n(n은 자연수)이라고 한 바와 같이 규칙적인 배열로 적층된 것이다. 이와 같이 광학 특성이 다른 수지가 교대로 적층됨으로써, 각 층의 굴절률의 차와 층 두께의 관계에 따라서 특정되는 특정 파장의 광을 반사시키는 것이 가능해진다. 또한, 적층하는 층수가 많을수록 넓은 대역에 걸쳐서 높은 반사율을 얻을 수 있다. 바람직하게는 101층 이상이고, 보다 바람직하게는 201층 이상이다. 상술한 간섭 반사는 층수가 증가할수록 보다 넓은 파장 대역의 광에 대하여 높은 반사율을 달성 할 수 있게 되어, 높은 광선 컷 성능을 구비한 적층 필름이 얻어지게 된다. 또한, 층수에 상한은 없지만, 층수가 증가함에 따라서 제조 장치의 대형화에 따른 제조 비용의 증가나, 필름 두께가 두꺼워지는 것에 의한 핸들링성의 악화가 발생되기 때문에, 현실적으로는 각각 1,000층 이내가 실용 범위가 된다. 또한, 본 발명에 있어서의 적층 구성부란, 상기 A층과 상기 B층이 교대로 51층 이상 적층되어 이루어지는 구성부를 나타내고, 적층 구성부의 표층은 반드시 상기 A층 또는 상기 B층이 된다.
본 발명의 적층 필름의 일 양태로서, 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것을 들 수 있다. 보다 바람직하게는, 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 100nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이고, 더욱 바람직하게는 반사율 반사 대역을 갖는 것, 특히 바람직하게는 반사율 프로필에 있어서 30% 이상의 반사율이 파장폭 500nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이다. 또한, 보다 바람직하게는 반사율 프로필에 있어서 60% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 갖는 것이고, 더욱 바람직하게는 반사율 프로필에 있어서 70% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이다. 예를 들면 가시광 영역(400∼800nm)의 광은 투과하고, 가시광 영역보다 약간 큰 파장 900∼1,200nm(전체 태양광의 강도의 약 18%)의 광을 반사함으로써, 투명하고 더욱이 높은 열선 컷 성능을 갖는 적층 필름으로 할 수 있다. 또는, 가시광 영역(400∼800nm)의 광을 50% 정도 반사시키는 필름을 얻으면 하프미러로서 적용할 수 있는 등, 각종의 용도로 응용 가능하다. 이러한 필름은 광학 특성이 다른 2종 이상의 수지의 면내 굴절률의 차를 크게 함으로써 실현될 수 있으므로, 2축 연신 필름으로 하는 경우에는 결정성인 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 층과, 연신시에 비결정성을 유지 또는 열처리 공정에서 융해되는 열가소성 수지(저굴절률의 공중합 폴리에스테르가 바람직하게 사용됨)를 주성분으로 하는 층이 교대로 적층된 다층 적층 필름으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 보다 바람직하게는 상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이 바람직하다. 태양광은 가시광 영역에 주로 강도 분포를 구비하고 있고, 파장이 커짐에 따라서 그 강도 분포는 작아지는 경향이 있다. 그러나, 높은 투명성이 요구되는 용도로 사용하기 위해서, 가시광 영역보다 약간 큰 파장 900∼1,400nm의 광을 효율적으로 반사함으로써, 높은 열선 컷 성능을 부여할 수 있다. 보다 바람직하게는, 상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때, 30% 이상의 반사율이 파장폭 100nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이고, 더욱 바람직하게는 상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때, 30% 이상의 반사율이 파장폭 200nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이다. 또한, 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때 평균 반사율이 50% 이상인 것이 바람직하고, 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때 평균 반사율이 70% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때 평균 반사율이 커짐에 따라서, 높은 열선 컷 성능을 부여하는 것이 가능해진다. 또한, 400∼800nm의 파장 영역에 있어서 측정했을 때의 평균 반사율을 바람직하게는 20% 이하, 보다 바람직하게는 15% 이하로 함으로써, 가시영역에서의 반사를 억제하여 스테이닝이나 글레어가 없는 열선 컷 성능이 있는 필름으로 할 수 있다. 이러한 필름은 광학 특성이 다른 2종 이상의 수지의 면내 굴절률의 차를 크게 함으로써 실현될 수 있으므로, 2축 연신 필름으로 할 경우에는 결정성의 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 층과, 연신시에 있어서도 비결정성을 유지할 수 있거나 또는 열처리 공정에서 융해되는 열가소성 수지를 주성분으로 하는 층이 교대로 적층된 다층 적층 필름으로 하면 좋다.
상술한 반사 대역을 갖기 위한 바람직한 구성으로서는 이하의 양태를 들 수 있다. 즉, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 α를 주성분으로 하는 층(α층)과 상기 수지 α와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 β를 주성분으로 하는 층(β층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족시키는 적층 유닛 1과, 폴리에스테르 수지 γ를 주성분으로 하는 층(γ층)과 상기 수지 γ와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 ω를 주성분으로 하는 층(ω층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족시키는 적층 유닛 2를 갖는 것이다.
(i) 인접하는 α층과 β층의 두께의 비(α층 두께/β층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것.
(ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방이 5 이상 9 이하인 것.
여기에서, 폴리에스테르 수지 α와 폴리에스테르 수지 γ는 동일한 수지, 열가소성 수지 β와 열가소성 수지 ω는 동일한 수지인 것이 바람직하고, 열가소성 수지 α와 γ만이 동일하고, 열가소성 수지 β와 ω만이 동일해도 좋다.
여기에서, 상기 적층 유닛 1은 인접하는 A층과 B층의 광학 두께가 하기 (1), (2)식을 동시에 충족시키는 것이 바람직하다.
Figure pct00001
Figure pct00002
여기에서, λ는 반사파장, nα는 α층의 면내 굴절률, dα는 α층의 두께, n β는 β층의 면내 굴절률, dβ는 β층의 두께, m은 차수이고, 자연수이다. (1)식과 (2)식을 동시에 만족시키는 층 두께 분포를 가짐으로써 짝수차의 반사를 해소할 수 있다. 그 때문에, 파장 900nm∼1,200nm의 범위에 있어서의 평균 반사율을 높게 하면서, 가시광 영역인 파장 400∼800nm의 범위에 있어서의 평균 반사율을 낮게 할 수 있기 때문에, 투명하고 또한 열선 컷 성능이 높은 필름을 얻을 수 있다. 일반적으로 열가소성 수지를 성형하고, 연신한 후의 필름의 굴절률로서는 약 1.4∼1.9가 되기 때문에, 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층의 두께/B층의 두께)를 0.7 이상 1.4 이하로 함으로써 짝수차의 반사를 억제한 필름을 얻을 수 있다. 따라서, 인접하는 A층과 B층의 두께의 비(A층의 두께/B층의 두께)를 0.7 이상 1.4 이하로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.8 이상 1.2 이하이다.
또한, 상기 적층 유닛 2는 적층 유닛 2에 있어서의 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방의 두께가 5 이상 9 이하의 두께인 것이 바람직하다. 상기 구성은 미국특허 5360659호 명세서에 기재되어 있는 711 구성을 기본으로 하고 있다. 이 구성은 어떤 층에 대하여 광학 특성이 다르고, 또한 두께가 약 1/7인 층으로 끼워진 층을 형성함으로써, 유사적으로 1층이라고 간주할 수 있고, 그것에 의해 2차의 반사뿐만 아니라 3차의 반사까지도 억제하는 방법이다. 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 두꺼운 층은 바람직하게는 5∼9배, 보다 바람직하게는 6∼8배이고, 다른 일방의 층은 바람직하게는 1.0∼1.4배이고, 보다 바람직하게는 1.0∼1.2배인 것이 바람직하다. 이러한 범위로 함으로써, 반사 대역을 1,200nm 이상으로 해도 가시광 영역(파장 400∼800nm)에 있어서, 2차, 3차의 반사가 해소된 필름을 얻을 수 있다. 이때의 층 두께로서는 도 1 에 나타내는 바와 같이 위에서부터 1∼3층째까지가 ω'층, 4∼6층째까지가 γ'층으로 간주된다. 상기 적층 유닛 2는 인접하는 ω층과 γ층의 광학 두께가 하기 (3), (4)식을 동시에 충족시키는 것이 바람직하다.
Figure pct00003
여기에서, λ는 반사파장, nγ는 γ층의 면내 굴절률, dγ는 γ층의 두께, nω는 ω층의 면내 굴절률, dω는 ω층의 두께, m은 차수이고, 자연수이다.
본 발명의 적층 필름에 있어서, 상기 적층 유닛 1과 적층 유닛 2를 가질 경우, 적층 유닛 1과 적층 유닛 2 사이에 0.5㎛ 이상 10㎛ 이하의 후막층(중간 후막층)을 갖는 것이 바람직하다. 상기 후막층을 적층 유닛 1과 적층 유닛 2 사이에 형성함으로써, 특히 중간 후막층 주변의 층의 두께를 정밀도 좋게 적층할 수 있다.
또한, 본 발명의 적층 필름에 있어서, 표층이 되는 층의 두께는 층 두께 전체에 대하여 1% 이상 20% 이하인 것이 바람직하다. 표층이 되는 층의 두께를 상술한 범위로 함으로써, 특히 표층 주변의 층의 두께를 정밀도 좋게 적층하는 것이 가능해져서, 반사율, 투과율의 제어가 용이해진다.
본 발명의 적층 필름에 있어서, 수지 B는 상술한 수지 A와 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지로 이루어진다. 상술한 수지 A와 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지로서는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다.
본 발명의 적층 필름에 있어서, 수지 A나 수지 B에 사용되는 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지의 디카르복실산 구성 성분으로서는 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 나프탈렌 디카르복실산(1,4-나프탈렌 디카르복실산, 1,5-나프탈렌 디카르복실산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산, 2,3-나프탈렌 디카르복실산), 4,4'-디페닐 디카르복실산, 4,4'-디페닐술폰 디카르복실산, 아디프산, 세박산, 다이머산, 시클로헥산 디카르복실산과 그들의 에스테르 형성성 유도체 등을 들 수 있다. 또한, 디올 구성 성분으로서는 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜타디올, 디에틸렌글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 2,2-비스(4'-β-히드록시에톡시페닐)프로판, 이소솔베이트, 1,4-시클로헥산디메탄올, 스피로글리콜, 네오펜틸글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 폴리테트라메틸렌에테르글리콜 및 이들 에스테르 형성성 유도체 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 디카르복실산 구성 성분으로서 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산, 이소프탈산을 들 수 있고, 디올 구성 성분으로서는 에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, 폴리알킬렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 폴리테트라메틸렌에테르글리콜을 들 수 있다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름에 있어서는 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하이다. 굴절률이 1.68보다 낮을 경우에는, 반사율이 30% 이상이 되는 반사 대역을 갖는 것이 곤란해진다. 굴절률이 1.80보다 높을 경우에는 수지 A와 수지 B의 적층성이 악화되고, 필름의 백탁이나 A층과 B층 계면에서의 박리가 현저해진다. 이 달성 방법의 예로서는, 상기 수지 A가 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하는 것을 들 수 있다. 이러한 구성으로 함으로써 A층과 B층의 굴절률차를 형성할 수 있어서, 보다 반사 성능이 우수한 광간섭 다층막을 얻는 것이 용이해진다. 또한, A층과 B층의 굴절률차를 크게 하기 위해서, 수지 B는 비결정성 수지인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 적층 필름은 수지 A를 주성분으로 하는 층(A층), 수지 B를 주성분으로 하는 층(B층)을 갖는 것이지만, 여기에서 말하는 주성분이란, 각 층을 구성하는 성분 중 50중량% 보다 많이 차지하는 성분을 나타낸다. 본 발명의 적층 필름의 수지 A에 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 함유시키기 위해서는, 수지 A를 구성하는 원료 폴리에스테르 수지의 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하는 것이 바람직한 방법으로서 들 수 있다.
본 발명의 적층 필름에 있어서는, A층과 B층의 면내 평균 굴절률의 차가 0.05 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.12 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.14 이상 0.35 이하이다. 면내 평균 굴절률의 차가 0.05보다 작을 경우에는 반사율이 30% 이상이 되는 반사 대역을 갖는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 이 달성 방법의 예로서는, 폴리에스테르 수지 A가 결정성이고, 또한 열가소성 수지 B가 비결정성 열가소성 수지 또는 비결정성 열가소성 수지와 결정성 열가소성 수지의 혼합물인 것이다. 이 경우, 필름의 제조에 있어서의 연신, 열처리 공정에 있어서, 용이하게 굴절률차를 형성하는 것이 가능해진다. 면내 평균 굴절률의 차가 0.35보다 클 경우에는 수지의 적층성이 악화되어 적층 자체가 곤란해지고, 또한 내열성이나 핸들링성이 열화된 필름이 된다.
또한, 본 발명의 적층 필름은 상기 적층 구성부가 동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 손실 정접(tanδ)의 피크값이 120℃ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 70℃ 이상 110℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 80℃ 이상 100℃ 이하이다. 일반적으로, 굴절률이 낮은 수지는 유리전이온도도 낮아진다. 그 때문에, 상기 적층 구성부를 구성하는 A층과 B층의 굴절률의 차를 크게 하고자 하면, 수지 A와 수지 B의 유리전이온도가 괴리되어, 필름을 연신할 때에 A층과 B층의 연신 거동에 차이가 생기기 때문에, A층과 B층의 배향 상태의 차이에 의한 박리가 일어나기 쉬워진다. 동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 손실 정접(tanδ)의 피크값은 적층 필름을 구성하는 수지의 유리전이온도의 영향을 받아서 변화되는 파라미터이고, 이 값이 낮을수록 수지 A와 수지 B 중 굴절률이 높은 수지의 유리전이온도가 낮은 것을 나타내고, 이 값이 높을 수록 수지 A와 수지 B 중 굴절률이 높은 수지의 유리전이온도가 높은 것을 나타낸다. 손실 정접(tanδ)의 피크값을 상술한 범위로 하면, 수지 A와 수지 B의 굴절률의 차를 적절한 범위로 하면서, 유리전이온도의 차가 층의 계면에서의 박리가 일어나기 어려워질 정도로 제어될 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명의 [I]의 구성을 갖는 적층 필름에 있어서는, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN 이하이다. 보다 바람직하게는 13mN 이하, 더욱 바람직하게는 11mN 이하이다. 스크래치 시험이란, 후술하는 방법으로 측정되는 시험을 가리키고, 표면의 경도를 나타내는 지표인 임계 하중을 구할 수 있다. 또한, 임계 하중이란, 스크래치 시험 방법에 있어서 시험편의 표면에 파괴가 발생했을 때에 인가되어 있었던 하중치를 가리킨다. 본 발명자들이 예의 검토한 바, 적층 필름을 성형 가공할 때에 발생하는 깨짐이나 균열은 열을 가한 상태에서의 필름 표면의 경도에 의존하고 있는 것을 발견했다. 즉, 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN를 초과하는 경우에는, 유연성이 부족하여 성형 가공할 때에 있어서 깨짐이나 균열을 억제할 수 없다. 한편, 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 지나치게 낮게 하면, 표면이 지나치게 유연해져서, 깨짐이 발생하기 쉬워지기 때문에, 2mN 이상인 것이 바람직하고, 6mN 이상인 것이 보다 바람직하다.
상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 상술한 범위로 하기 위한 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 수지 A 또는 수지 B에 결정성이 낮은 성분을 공중합 및/또는 함유시키는 것을 들 수 있다. 일례로서, 나프탈렌 디카르복실산을 디카르복실산 성분으로서 포함하는 폴리에스테르로서 가장 범용적으로 사용되고 있는 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN)의 유리전이온도는 약 120℃이지만, PEN에 PEN보다 결정성이 낮은 성분을 공중합 및/또는 함유시킴으로써 유리전이온도를 낮게 하는 것이 가능해지고, 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 제어할 수 있다. 상기 결정성이 낮은 성분으로서는 주된 성분이 되는 수지보다 결정성이 낮은 성분이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 식(1)으로 표시되는 구조를 포함하는 화합물인 것이 바람직하다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
여기에서 m×n은 6 이상이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 8 이상이 바람직하다. 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 화합물로서는 구체적으로는 폴리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 트리에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜, 트리부틸렌글리콜, 테트라부틸렌글리콜 등을 들 수 있다. 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 화합물을 폴리에스테르 수지가 주성분인 층에 포함하는 경우에는, 폴리에스테르 수지의 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 2mol% 이상 30mol% 이하, 더욱 바람직하게는 4mol% 이상 20mol% 이하이다. 상술한 범위에서 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 화합물을 함유시키면, 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 적합한 범위로 하는 것이 용이해지고, 또한 적층 필름의 반사율을 적합한 범위로 할 수 있다. 이러한 구성으로 함으로써, 높은 굴절률을 갖기 때문에 광간섭 다층막에 바람직하게 사용되는 나프탈렌 디카르복실산을 디카르복실산 구성 성분으로서 포함하는 폴리에스테르 수지를 이용해도 유리전이온도를 낮게 하는 것이 가능해지기 때문에, 높은 굴절률을 유지한 채 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 상술한 범위로 제어할 수 있다. 또한, 식(1)으로 표시되는 구조를 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 층에 포함하는 경우, 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 포함하면, 증산이나 승화 등에 의해 필름계 외로 유출되는 것을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명의 [II]의 구성을 갖는 적층 필름에 있어서는, 상기 A층, B층을 구성하는 수지 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는다.
-O-(CnH2n-O)m-···식(1)
(m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.).
어느 수지도 식(1)으로 표시되는 구조를 갖지 않을 경우에는, 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중을 15Nm 이하로 제어하는 것이 곤란해진다.
또한, 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 임계 하중의 제어를 용이하게 하는 관점으로부터, 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하고, 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 수지 A를 주성분으로 하는 A층이 적층 구성부의 표면에 배치되는 것이 바람직하다.
본 발명의 적층 필름은 시차 주사열량 측정에 의해 구해지는 융해 열량이 5J/g 이상인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 10J/g 이상이고, 더욱 바람직하게는 20J/g 이상이다. 이러한 구성으로 함으로써, 결정성이 높은 수지로 이루어지는 적층 필름으로 할 수 있고, A층과 B층의 굴절률차를 보다 높게 할 수 있다. 이러한 적층 필름으로 하기 위해서는, 수지 A와 수지 B 중 굴절률이 높은 쪽의 수지의 결정성을 높게 하는 것이 바람직하고, 특히 나프탈렌 디카르복실산을 보다 많이 포함하는 수지의 융해 열량을 5J/g 이상으로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 적층 필름은 내부 헤이즈가 3.0% 이하인 것이 바람직하다. 내부 헤이즈란, 필름의 표면에서의 광산란을 제외한 필름 내부의 헤이즈(탁도)를 나타내는 지표이고, 내부 헤이즈를 낮게 함으로써 투명하고 더욱이 특정 파장의 광을 반사하는 적층 필름으로 할 수 있고, 하프 미러나 열선 반사 필름 등 투명성이 요구되는 용도로도 널리 적용할 수 있다. 보다 바람직하게는 내부 헤이즈가 1.0% 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.5% 이하이다. 내부 헤이즈를 상술한 범위로 하기 위해서는 A층 중의 수지 A 이외의 성분의 종류나 양을 조정하는 것이나, B층 중의 수지 B 이외의 성분의 종류나 양을 조정함으로써 달성된다. 이러한 구성으로 함으로써, 수지와의 상용성·분산성이 우수하기 때문에 내부 헤이즈를 작게 할 수 있다. 상기 조건을 만족시키기 위한 수지의 조합의 일례로서, 수지 A로서 폴리에틸렌글리콜을 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 수지 B로서 시클로헥산디메탄올을 공중합 한 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지의 조합을 들 수 있다.
A층과 B층의 굴절률차를 형성할 목적에서, 수지 A로서 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하는 폴리에틸렌나프탈레이트를 사용하면, 폴리에틸렌나프탈레이트의 유리전이온도는 약 120℃이기 때문에, 상술한 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 높아지기 때문에, 성형 가공할 때에 깨짐이나 균열이 발생한다. 본 발명자들이 유리전이온도를 저하시키기 위해서, 폴리에틸렌나프탈레이트에 공중합 성분을 첨가하는 검토를 행한 바, 파라크실렌글리콜이나 이소프탈산과 같이 방향환을 갖는 성분이나, 부탄디올이나 디에틸렌글리콜과 같은 탄소수가 적은 에테르 글리콜 성분을 사용했을 경우에는, 유리전이온도를 저하시키는 효과는 크게 얻어지지 않는 것이 판명되었다. 그 때문에, 방향환을 갖는 성분이나 탄소수가 적은 에테르 글리콜 성분을 공중합 성분으로서 첨가함으로써 폴리에틸렌나프탈레이트의 유리전이온도를 저하시키고자 하면, 공중합량을 많게 할 필요가 생기고, 그 결과 굴절률이 저하해서 적층 필름의 반사율이 저하해버린다. 상술한 식(1)으로 표시되는 성분과 공중합시킴으로써, 수지 A의 높은 굴절률을 유지하면서 유리전이온도를 저하시키는 것이 가능해진다.
본 발명의 적층 필름에 있어서는, 적층 구성부를 구성하는 수지 A가 결정성 폴리에스테르 수지이고, 또한 수지 B가 비결정성 폴리에스테르 수지인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 결정성이란, 시차 주사열량측정(DSC)에 있어서, 융해 열량이 5J/g 이상인 것을 말한다. 한편, 비결정성이란, 마찬가지로 융해 열량이 5J/g 미만인 것을 말한다. 결정성 폴리에스테르 수지는 연신·열처리 공정에 있어서 배향 결정화시킴으로써, 연신 전의 비결정 상태일 때보다 높은 면내 굴절률로 할 수 있다. 한편, 비결정성 폴리에스테르 수지의 경우에 있어서는, 열처리 공정에 있어서 유리전이온도를 훨씬 초과하는 온도에서 열처리를 행함으로써, 연신 공정에서 발생되는 약간의 배향도 완전히 완화할 수 있어서, 비결정 상태의 낮은 굴절률을 유지할 수 있는 것이다. 이와 같이, 필름의 제조에 있어서의 연신, 열처리 공정에 있어서 결정성 폴리에스테르 수지와 비결정성 폴리에스테르 수지 사이에 용이하게 굴절률차를 형성할 수 있기 때문에, 상술한 바와 같이 반사율이 20nm 이상 연속해서 30% 이상이 되는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 것이 가능해진다.
다음에, 본 발명의 적층 필름의 바람직한 제조 방법을 수지 A로서 결정성 폴리에스테르 수지, 수지 B로서 비결정성 폴리에스테르 수지를 사용한 예로 들어서 이하에 설명한다. 물론, 본 발명은 관련되는 예에 한정해서 해석되는 것은 아니다.또한, 적층 필름의 적층 구조의 형성 자체는 일본 특허공개 2007-307893호 공보의 [0053]∼[0063] 단락의 기재를 참고로 하면 실현될 수 있는 것이다.
수지 A 및 수지 B를 펠렛 등의 형태로 준비한다. 펠렛은, 필요에 따라서, 열풍 중 또는 진공 하에서 건조된 후 각각의 압출기에 공급된다. 압출기 내에 있어서, 융점 이상으로 가열 용융된 수지는 기어 펌프 등으로 수지의 압출량이 균일화되고, 필터 등을 통해서 이물이나 변성된 수지 등이 제거된다. 이들 수지는 다이에 의해 목적한 형상으로 성형된 후 토출된다. 그리고, 다이로부터 토출된 다층으로 적층된 시트는 캐스팅 드럼 등의 냉각체 상에 압출되고, 냉각 고화되어, 캐스팅 필름이 얻어진다. 이때, 와이어 형상, 테이프 형상, 바늘 형상 또는 나이프 형상 등의 전극을 이용하여, 정전기력에 의해 캐스팅 드럼 등의 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키는 것이 바람직하다. 또한, 슬릿 형상, 스폿 형상, 면 형상의 장치로부터 공기를 블로잉해서 캐스팅 드럼 등의 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키거나, 닙롤로 냉각체에 밀착시켜 급랭 고화시키거나 하는 방법도 바람직하다.
또한, 복수의 폴리에스테르 수지로 이루어지는 적층 필름을 제작할 경우에는, 복수의 수지를 2대 이상의 압출기를 이용하여 다른 유로로부터 송출하고, 적층 장치에 송입한다. 적층 장치로서는 멀티매니폴드 다이나 피드블록이나 스태틱 믹서 등을 사용할 수 있지만, 특히 본 발명의 구성을 효율적으로 얻기 위해서는 다수의 미세 슬릿을 갖는 부재를 적어도 별개로 2개 이상 포함하는 피드블록을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 피드블록을 사용하면, 장치가 극단으로 대형화되는 일이 없기 때문에, 열열화에 의한 이물이 적고, 적층수가 극단으로 많은 경우에도, 고밀도한 적층이 가능해진다. 또한, 폭 방향의 적층 정밀도도 종래 기술과 비교해서 각별히 향상된다. 또한, 임의의 층 두께 구성을 형성하는 것도 가능해진다. 이 장치에서는 각 층의 두께를 슬릿의 형상(길이, 폭)으로 조정할 수 있기 때문에, 임의의 층 두께를 달성하는 것이 가능하게 된 것이다.
이와 같이 하여 소망의 층 구성으로 형성한 용융 다층 적층체를 다이로 인도하고, 상술과 마찬가지로 캐스팅 필름이 얻어진다.
이와 같이 하여 얻어진 캐스팅 필름은 2축 연신되는 것이 바람직하다. 여기에서, 2축 연신이란, 길이 방향 및 폭 방향으로 연신하는 것을 말한다. 연신은 축차로 2방향으로 연신해도 좋고, 동시에 2방향으로 연신해도 좋다. 또한, 길이 방향 및/또는 폭 방향으로 추가로 재연신을 행해도 좋다.
축차 2축 연신의 경우에 대해서 우선 설명한다. 여기에서, 길이 방향으로의 연신이란, 필름에 길이 방향의 분자 배향을 부여하기 위한 연신을 말하고, 통상은 롤의 주속차에 의해 실시되고, 이 연신은 1단계로 행해도 좋고, 또한 복수 개의 롤쌍을 사용해서 다단계로 행해도 좋다. 연신 배율로서는 수지의 종류에 따라 다르지만, 통상 2∼15배가 바람직하고, 적층 필름을 구성하는 수지 중 어느 하나로 폴리에틸렌나프탈레이트의 공중합 수지를 사용했을 경우에는 2∼7배가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 연신 온도로서는 다층 적층 필름을 구성하는 수지의 유리전이온도∼유리전이온도+100℃의 범위가 바람직하다.
이와 같이 하여 얻어진 1축 연신된 필름에, 필요에 따라서 코로나 처리나 프레임 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시한 후, 이활성, 이접착성, 대전방지성 등의 기능을 인라인 코팅에 의해 부여해도 좋다.
또한, 폭 방향의 연신이란, 필름에 폭 방향의 배향을 부여하기 위한 연신을 말하고, 통상은 텐터를 이용하여 필름의 양단을 클립으로 파지하면서 반송하여, 폭 방향으로 연신한다. 연신의 배율로서는 수지의 종류에 따라 다르지만, 통상 2∼15배가 바람직하고, 적층 필름을 구성하는 수지 중 어느 하나로 폴리에틸렌나프탈레이트의 공중합 수지를 사용했을 경우에는, 2∼7배가 특히 바람직하게 사용된다. 또한, 연신 온도로서는 다층 적층 필름을 구성하는 수지의 유리전이온도∼유리전이온도+120℃의 범위가 바람직하다.
이와 같이 해서 2축 연신된 필름은 평면성, 치수 안정성을 부여하기 위해서, 텐터 내에서 연신 온도 이상 융점 이하의 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 열처리를 행함으로써, 필름의 치수 안정성이 향상된다. 이와 같이 하여 열처리된 후, 균일하게 서냉한 후, 실온까지 냉각하여 권취한다. 또한, 필요에 따라서, 열처리로부터 서냉 시에 이완 처리 등을 병용해도 좋다.
또한, 본 발명의 적층 필름에 있어서는, 연신 후의 열처리 온도를 폴리에스테르 수지 A의 융점 이하, 또한 수지 B의 융점 이상으로 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 폴리에스테르 수지 A는 높은 배향 상태를 유지하는 한편, 수지 B의 배향은 완화되기 때문에, 용이하게 이들 수지의 굴절률차를 형성할 수 있다.
동시 2축 연신의 경우에 대해서 다음에 설명한다. 동시 2축 연신의 경우에는 얻어진 캐스트 필름에, 필요에 따라서 코로나 처리나 프레임 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시한 후, 이활성, 이접착성, 대전방지성 등의 기능을 인라인 코팅에 의해 부여해도 좋다.
다음에, 캐스트 필름을 동시 2축 텐터로 인도하고, 필름의 양단을 클립으로 파지하면서 반송하여, 길이 방향과 폭 방향으로 동시 및/또는 단계적으로 연신한다. 동시 2축 연신기로서는 팬터그래프 방식, 스크류 방식, 구동 모터 방식, 리니어 모터 방식이 있지만, 임의로 연신 배율을 변경 가능하고, 임의의 장소에서 이완 처리를 행할 수 있는 구동 모터 방식 또는 리니어 모터 방식이 바람직하다. 연신의 배율로서는 수지의 종류에 따라 다르지만, 통상 면적 배율로서 6∼50배가 바람직하고, 다층 적층 필름을 구성하는 수지 중 어느 하나로 폴리에틸렌나프탈레이트의 공중합 수지를 사용했을 경우에는, 면적 배율로서 8∼30배가 특히 바람직하게 사용된다. 특히 동시 2축 연신의 경우에는 면내의 배향차를 억제하기 위해서, 길이 방향과 폭 방향의 연신 배율을 동일하게 함과 아울러, 연신 속도도 거의 동등하게 되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 연신 온도로서는 다층 적층 필름을 구성하는 수지의 유리전이온도∼유리전이온도+120℃의 범위가 바람직하다.
이와 같이 해서 2축 연신된 필름은, 평면성, 치수 안정성을 부여하기 위해서, 계속해서 텐터 내에서 연신 온도 이상 융점 이하의 열처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 열처리 시에, 폭 방향에서의 주배향축의 분포를 억제하기 위해서, 열처리존에 들어가기 직전 및/또는 직후에 순시에 길이 방향으로 이완 처리하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하여 열처리된 후, 균일하게 서냉 후, 실온까지 냉각되어 권취된다.
실시예
이하, 본 발명의 적층 필름의 실시예를 사용하여 설명한다.
[물성의 측정 방법 및 효과의 평가 방법]
특성값의 평가 방법 및 효과의 평가 방법은 다음과 같다.
(1) 층 두께, 적층수, 적층 구조
필름의 층 구성은 마이크로톰을 이용하여 단면을 잘라낸 샘플에 대해서, 투과형 전자현미경(TEM) 관찰에 의해 구했다. 즉, 투과형 전자현미경 H-7100FA형 (Hitachi, Ltd. 제품)을 사용하고, 가속 전압 75kV의 조건에서 필름의 단면을 10,000∼40,000배로 확대 관찰하고, 단면 사진을 촬영하고, 층 구성 및 각 층 두께를 측정했다. 또한, 경우에 따라서는 콘트라스트를 높게 얻기 위해서, 공지의 RuO4나 OsO4 등을 사용한 염색 기술을 사용했다.
(2) 반사율
5cm×5cm으로 잘라낸 샘플을 분광광도계 U-4100 Spectrophotomater(Hitachi, Ltd. 제품)에 부속된 적분구를 사용한 기본 구성으로 반사율 측정을 행했다. 반사율 측정에서는 장치 부속의 산화알루미늄의 부백판(副白板)을 기준으로 해서 상대 반사율로서 산출했다. 반사율 측정에서는 샘플의 길이 방향을 상하 방향으로 하고, 적분구의 뒤쪽에 설치했다. 투과율 측정에서는 샘플의 길이 방향을 상하 방향으로 하고, 적분구 앞쪽에 배치했다. 측정 조건: 슬릿은 2nm(가시)/자동 제어(적외)로 하고, 게인은 2로 설정하고, 주사 속도를 600nm/분에서 측정하고, 방위각 0℃에 있어서의 반사율을 얻었다.
(3) 융해 열량, 융점, 유리전이온도, 결정화 온도
샘플 질량 5g을 채취하고, 시차 주사 열량 분석계(DSC) 로봇 DSC-RDC220(Seiko Denshi Kogyo K.K. 제품)을 사용하고, JIS K 7122(1987년) 및 JIS K 7121(1987년)에 따라 측정, 산출했다. 측정은 25℃로부터 290℃까지 5℃/분으로 승온하고, 이때의 융점±20℃의 범위에 있어서의 베이스라인으로부터의 적분치를 융해 열량으로 했다. 또한, 여기에서의 융점이란, DSC의 베이스라인으로부터의 차이가 최대가 되는 점으로 했다. 여기에서, 수지 A 또는 수지 B 단독의 펠렛 등을 측정할 경우, 융해 열량이 5J/g 이상인 수지를 결정성 수지, 5J/g 미만인 수지를 비결정성 수지로 했다.
(4) 식(1)으로 나타내지는 구조의 유무
식(1)으로 나타내지는 구조의 유무는 이하의 방법에 의해 확인했다. 즉, 가스크로마토그래피 질량 분석(GC-MS)에 의해 중량 피크를 확인했다. 다음에, 푸리에 변환형 적외분광(FT-IR)으로 추정되는 구조가 갖는 각 원자 간의 결합으로부터 유래하는 피크의 유무를 확인했다. 또한, 프로톤 핵자기공명 분광법(1H-NMR, 13C-NMR)으로, 구조식 상의 수소원자 또는 탄소원자의 위치로부터 유래하는 화학 쉬프트의 위치와 수소원자의 개수로부터 유래하는 프로톤 흡수선 면적을 확인하고, 이들 결과로부터 판단했다.
(5) 내부 헤이즈
한 변이 5cm인 정방 형상의 적층 필름 샘플을 3점(3개) 준비하고, 다음에 샘플을 상태(23℃, 상대습도 50%)에 있어서, 40시간 방치했다. 각각의 샘플을 탁도계 「NDH5000」(Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. 제품)를 이용하여 JIS K 7105에 준해서 측정했다. 필름 표면의 요철에 의한 광산란을 제거하기 위해서, 유동 파라핀으로 채워진진 석영 셀에 샘플을 침지한 상태에서 측정했다. 각각 3점(3개)의 값을 평균하여, 적층 필름의 내부 헤이즈의 값으로 했다.
(6) 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중
한 변이 3cm인 정방 형상의 적층 필름 샘플을 5점(5개) 준비했다. 샘플을 스크래치 시험기 「CSR5000」(RHESCA CO., LTD. 제품)의 측정 스테이지에 설치하고, 가열 스테이지의 온도를 100℃로 설정했다. 온도 조절기의 표시가 100℃에 도달하고 나서 1분간 후에 측정을 개시했다. 측정 조건은 이하와 같다.
촉침: 다이아몬드 촉침 R15㎛
스크래치 속도: 10㎛/s
진폭: 50㎛
터치 검출 레벨: 3.0mN
하중 조건: 증가
초기 하중: 0mN
최대 하중: 200mN
증가: 3.33mN
시간: 60s
측정 종료 후에 인가 하중과 센서 가속도의 관계로부터 임계 하중 Wc(mN)를 구했다. 여기에서, 임계 하중을 구하는 방법을 도 2의 측정 결과예를 바탕으로 설명한다. 횡축은 측정 개시부터의 시간이고, 종축은 센서 가속도 및 인가 하중을 나타낸다. 실선 플롯이 깊이 방향의 센서의 가속도를 나타내고, 이 값이 높아지면 필름 표면으로부터 깊이 방향으로 촉침이 깊숙이 들어가는 것을 나타낸다. 또한, 점선의 플롯은 하중치를 나타내고, 일점 쇄선은 센서 가속도의 경사가 제일 커지는 시간을 나타낸다. 측정을 개시한 후, 인가 하중이 증가함에 따라, 촉침이 깊이 방향으로 들어감 센서 가속도가 서서히 증가한다(영역 A). 그 후, 표면이 파괴되면 도면 중앙과 같이 센서 가속도가 크게 변화하고(영역 B), 그 후 파괴된 표면을 이동하기 때문에 센서 가속도가 미세하게 변동한다(영역 C). 영역 B의 센서 가속도의 경사가 제일 큰 점(도면 중의 4)에서 인가되어 있었던 하중치를 임계 하중 Wc라고 한다(도면 중의 5). 2점째 이후의 샘플을 측정할 때에는 온도 조절기가 25℃를 나타낼 때까지 방치한 후, 샘플을 교환한 후에 마찬가지로 측정했다. 5점의 임계 하중의 최대치와 최소치를 제외한 3점의 평균치를 임계 하중으로 했다. 또한, 적층 필름의 표면에 적층 구성부의 표면이 노출되어 있지 않은 경우에는, 박리에 의해 적층 구성부의 표면 노출을 행한 한 후에 측정을 행한다. 박리가 곤란한 경우에는, 다이아몬드 커터를 이용하여 절삭을 행하여 표면 노출을 행한 후에 측정을 행한다.
(7) 성형 가공성
필름 샘플을 횡 320mm 종 460mm으로 잘라내고, 개구부 150mm×210mm, 저면부 105mm×196mm, 높이 50mm의 트레이 형상 금형을 구비한 소형 진공 성형기 포밍 300X형 (Seikosangyo Co., Ltd 제품)을 이용하여, 성형시의 시트 온도가 100℃±2℃의 범위가 되는 온도 조건에서 예열, 성형을 행했다. 100개의 성형 샘플을 작성하고, 각각에 대해서 깨짐이나 균열이 발생하여 있는지의 여부를 확인하고, 이하와 같이 성형 가공성을 판단했다. 「양호」 또는 「우수」를 양호한 결과라고 했다.
우수: 깨짐이나 균열이 발생하여 있는 샘플이 5개 미만
양호: 깨짐이나 균열이 발생하여 있는 샘플이 5개 이상 10개 미만
나쁨: 깨짐이나 균열이 발생하여 있는 샘플이 10개 이상 20개 미만
보다 나쁨: 깨짐이나 균열이 발생하여 있는 샘플이 20개 이상
(8) 손실 정접(tanδ)의 피크값
필름 샘플을 횡 7mm 종 20mm으로 절단하고, 동적 점탄성 측정 장치 「DMS6100」(Seiko Instruments Inc. 제품)을 이용하여 이하의 측정 조건에서 측정했다.
승온 온도: 20℃∼180℃
승온 속도: 3℃/분
홀드 시간: 5분
샘플링: 1초
측정 주파수: 0.1Hz
얻어지는 tanδ(tanD)와 온도(Temp)의 값으로부터 tanδ가 최대가 되는 온도를 손실 정접의 피크값으로 했다.
(실시예 1)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)(표 중의 식(1)의 구조의 m×n이 10 이상일 경우에는 「10 이상」이라고 기재함)을 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 6mol% 공중합한 폴리에틸렌 2,6-나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 245℃, 표 중에서 PEN(1)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 시클로헥산디메탄올(표 중에서는 CHDM이라고 기재)을 30mol% 공중합한 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(고유점도 0.73, 비결정성 수지(융점 없음), 유리전이온도 79℃)와 폴리에틸렌테레프탈레이트(Toray Industries Inc., 고유점도 0.65, 융점 256℃, 유리전이온도 81℃)를 82:18의 질량비가 되도록 혼합한 것(융점 225℃, 유리전이온도 77℃, 표 중에서 수지(1)라고 나타냄)을 사용했다.
준비한 수지 A 및 수지 B는 각각 벤트를 구비한 2축 압출기로 280℃의 용융 상태로 한 후, 기어 펌프 및 필터를 통해서 449층의 피드블록에 의해 합류시켜서, (수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 149층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 중간 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 297층 적층된 적층 유닛 2)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성을 갖는 적층 필름을 얻었다. 또한, 적층 필름의 양 표층 부분은 수지 A가 되도록 했다. 449층 피드블록에 의해 합류시킨 후, T-다이로 인도해서 시트 형상으로 성형한 후, 정전 인가에 의해 표면 온도 25℃로 유지된 캐스팅 드럼 상에서 급냉 고화하여, 캐스트 필름을 얻었다. 또한, 수지 A와 수지 B의 중량비가 약 1:1이 되도록 토출량을 조정했다.
얻어진 캐스트 필름을 수지 A의 유리전이온도+10℃의 온도로 설정한 롤군에 의해 가열한 후, 연신 구간 길이 100mm 사이에서 필름 양면으로부터 라디에이션 히터에 의해 급속 가열하면서, 종 방향으로 4.0배 연신하고, 그 후 일단 냉각했다. 계속해서, 이 1축 연신 필름의 양면에 공기 중에서 코로나 방전 처리를 실시하고, 기재 필름의 젖음 장력을 55mN/m로 하고, 그 처리면에(유리전이온도가 18℃인 폴리에스테르 수지)/(유리전이온도가 82℃인 폴리에스테르 수지)/평균 입경 100nm의 실리카 입자로 이루어지는 적층형 성막 도포액을 도포하고, 투명·이활·이접착층을 형성했다.
이 1축 연신 필름을 텐터로 인도하고, 100℃의 열풍으로 예열 후, 수지 A의 유리전이온도+20℃의 온도에서 횡 방향으로 균일한 연신 속도에서 4.0배 연신했다. 연신한 필름은 그대로 텐터 내에서 235℃의 열풍으로 열처리를 행하고, 계속해서 동 온도에서 폭 방향으로 2%의 이완 처리를 실시하고, 그 후 실온까지 서냉 후 권취했다. 얻어진 적층 필름의 두께는 40㎛이었다(표층 후막층(1㎛)/적층 유닛 1(20㎛)/중간 후막층(1㎛)/적층 유닛 2(17㎛)/표층 후막층 (1㎛)).
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 또한, 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 2)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블록을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 두께는 10㎛이었다(표층 후막층 (1㎛)/적층 유닛 1(8㎛)/표층 후막층(1㎛)).
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 낮아져 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 3)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리테트라메틸렌에테르글리콜(평균 분자량 650)을 6mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 254℃, 표 중에서 PEN(2)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 4)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블록을 사용한 것 이외에는 실시예 3과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 5)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 트리에틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 244℃, 표 중에서 PEN(3)이라고 나타냄)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 6)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 5와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 밀착성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 7)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 238℃, 표 중에서 PEN(4)이라고 나타냄)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 8)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 7과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 9)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 디프로필렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 252℃, 표 중에서 PEN(5)이라고 나타냄)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 10)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 9와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 11)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 트리프로필렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 240℃, 표 중에서 PEN(6)이라고 나타냄)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 12)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 11과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 13)
수지 B를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디카르복실산 구성 성분에 대하여 시클로헥산 디카르복실산(표 중에서는 CHDA라고 기재)을 20mol%, 전체 디올 구성 성분에 대하여 스피로글리콜(표 중에서는 SPG라고 기재)을 15mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 85℃, 비결정성 수지(융점 없음), 표 중에서 수지(2))를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 14)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 13과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 15)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 238℃, 표 중에서 PEN(4)이라고 나타냄)을 사용한 것 이외에는 실시예 13과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 16)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 49층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 51층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 15와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 약간 저하되어 있지만, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서는 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 17)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)의 공중합량을 4mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 249℃, 표 중에서 PEN(5)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 18)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)의 공중합량을 1mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 258℃, 표 중에서 PEN(6)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 19)
수지 A로서, 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)의 공중합량을 20mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 228℃, 표 중에서 PEN(7)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)(표 중 PEG400이라고 기재)을 20mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 53℃, 비결정성 수지(융점 없음), 표 중에서 수지(3))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 20)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)의 공중합량을 30mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 215℃, 표 중에서 PEN(8)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)을 50mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 15℃, 비결정성 수지(융점 없음), 표 중에서 수지(4))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 1)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜의 공중합량을 4mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 260℃, 표 중에서 PEN(9)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 2)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜의 공중합량을 1mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 264℃, 표 중에서 PEN(10)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 21)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜의 공중합량을 20mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 233℃, 표 중에서 PEN(11)이라고 나타냄)을 사용하고, 수지 B로서 에틸렌글리콜에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)을 20mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 53℃, 비결정성 수지(융점 없음), 표 중에서 수지(3))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(실시예 22)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜의 공중합량을 30mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 218℃, 표 중에서 PEN(12)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)을 50mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 15℃, 비결정성 수지(융점 없음), 표 중에서 수지(4))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 3)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 19층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 21층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 두께는 5㎛이었다(표층 후막층 (1㎛)/적층 유닛 1(3㎛)/표층 후막층 (1㎛)).
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 4)
(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)/(A층과 B층을 두께 방향으로 교대로 19층 적층된 적층 유닛 1)/(수지 A로 이루어지는 표층 후막층)의 층 구성으로 이루어지는 21층의 피드블럭을 사용한 것 이외에는 실시예 7과 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 5)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌테레프탈레이트(Toray Industries Inc., 고유점도 0.65, 융점 256℃, 표 중에서 PET(1)로 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 6)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(분자량 400)을 6mol% 공중합한 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 245℃, 표 중에서 PET(2)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 같은 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 7)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 240℃, 표 중에서 PET(3)라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 같은 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 8)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 269, 표 중에서 PEN이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 같은 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하지만, 성형 가공성이 나쁜 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 9)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜의 공중합량을 0.4mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 265℃, 표 중에서 PEN(13)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하지만, 성형 가공성이 나쁜 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 10)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 테트라에틸렌글리콜의 공중합량을 0.4mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 266℃, 표 중에서 PEN(14)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하지만, 성형 가공성이 나쁜 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 11)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜의 공중합량을 40mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 203℃, 표 중에서 PEN(15)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)을 50mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 15℃, 비결정성 수지, 표 중에서 수지(4))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 12)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜의 공중합량을 40mol%로 한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 206℃, 표 중에서 PEN(16)이라고 나타냄)를 사용하고, 수지 B로서 수지 B의 전체 디올 구성 성분에 대하여 폴리에틸렌글리콜(평균 분자량 400)을 50mol% 공중합한 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트(고유점도 0.72, 유리전이온도 15℃, 비결정성 수지, 표 중에서 수지(4))를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광의 반사율이 크게 저하되어 있고, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하고, 성형 가공성도 우수한 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 13)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 디에틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 244℃, 표 중에서 PEN(17)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하지만, 성형 가공성이 나쁜 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(비교예 14)
수지 A를 형성하는 원료 폴리에스테르 수지로서, 전체 디올 구성 성분에 대하여 부틸렌글리콜을 15mol% 공중합한 폴리에틸렌나프탈레이트(고유점도 0.62, 융점 251℃, 표 중에서 PEN(18)이라고 나타냄)를 사용한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 방법으로 적층 필름을 얻었다.
얻어진 적층 필름은 파장 900∼1,400nm의 광을 반사하면서, 가시광 영역의 파장 400∼800nm에 있어서 거의 반사가 없는 평탄한 반사율 분포를 구비한 것이었다. 투명성이 우수하지만, 성형 가공성이 나쁜 것이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00004
Figure pct00005
Figure pct00006
(산업상의 이용 가능성)
본 발명은 건재, 자동차, 액정 디스플레이 등 각종의 용도에 사용되고, 특히 특정 파장의 광을 반사시키는 광학 필름으로서 이용할 수 있다.
1: 영역 A
2: 영역 B
3: 영역 C
4: 깊이 방향의 센서의 가속도의 경사가 최대가 되는 점
5: 깊이 방향의 센서의 가속도의 경사가 최대가 되는 점에서 인가되어 있었던 하중치: 임계 하중(mN) Wc

Claims (20)

  1. 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과, 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하이고, 상기 표면의 스크래치 시험에 있어서의 100℃에서의 임계 하중이 15mN 이하이고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖는 적층 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정된 것인 적층 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 적층 구성부가 동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 손실 정접(tanδ)의 피크값이 120℃ 이하인 적층 필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 A층, B층을 구성하는 수지 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지인 적층 필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지이고, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지이고, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 A가 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 A층이 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표층에 배치되어 이루어지는 적층 필름.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 적층 구성부가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 α를 주성분으로 하는 층(α층)과 상기 수지 α와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 β를 주성분으로 하는 층(β층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족시키는 적층 유닛 1과, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 γ를 주성분으로 하는 층(γ층)과 상기 수지 γ와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 ω를 주성분으로 하는 층(ω층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족시키는 적층 유닛 2를 갖는 적층 필름.
    (i) 인접하는 α층과 β층의 두께의 비(α층 두께/β층 두께)가 0.7 이상 1.4 이하인 것.
    (ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방이 5 이상 9 이하인 것.
  11. 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지(수지 A)를 주성분으로 하는 층(A층)과, 상기 수지 A와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지(수지 B)를 주성분으로 하는 층(B층)을 교대로 51층 이상 적층한 적층 구성부를 갖는 적층 필름으로서, 상기 수지 A가 디카르복실산 구성 성분으로 나프탈렌 디카르복실산을 포함하고, 상기 A층, B층을 구성하는 수지 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 갖는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지인 적층 필름.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지이고, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 수지 B가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지이고, 상기 수지 A 또는 수지 B 중 적어도 일방이 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 수지 A가 식(1)으로 표시되는 구조를 디올 구성 성분으로서 수지 A의 전체 디올 구성 성분에 대하여 0.5mol% 이상 40mol% 이하 포함하는 적층 필름.
    -O-(CnH2n-O)m-···식(1)
    (m, n은 m×n이 5 이상이 되는 자연수를 나타낸다.)
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 A층이 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표층에 배치되어 이루어지는 적층 필름.
  17. 제 11 항에 있어서,
    상기 적층 구성부의 적어도 일방의 필름 표면측으로부터 측정한 반사율이 20nm 이상 연속해서 30% 이상이 되는 반사 대역을 적어도 1개 갖고, 상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면의 굴절률이 1.68 이상 1.80 이하인 적층 필름.
  18. 제 11 항에 있어서,
    상기 적층 구성부의 적어도 일방의 표면측으로부터 측정한 반사율 프로필에 있어서, 30% 이상의 반사율이 파장폭 20nm 이상에 걸쳐서 연속하는 반사 대역을 적어도 1개 갖고, 상기 반사율 프로필이 900∼1,400nm의 파장 영역에 있어서 측정된 것인 적층 필름.
  19. 제 11 항에 있어서,
    동적 점탄성 측정에 의해 구해지는 적층부 구성부의 손실 정접(tanδ)의 피크값이 120℃ 이하인 적층 필름.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 적층 구성부가 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 α를 주성분으로 하는 층(α층)과 상기 수지 α와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 β를 주성분으로 하는 층(β층)을 교대로 적층한 이하 (i)을 만족시키는 적층 유닛 1과, 디카르복실산 구성 성분과 디올 구성 성분을 갖는 폴리에스테르 수지 γ를 주성분으로 하는 층(γ층)과 상기 수지 γ와는 다른 광학 특성을 갖는 열가소성 수지 ω를 주성분으로 하는 층(ω층)을 교대로 적층한 이하 (ii)을 만족시키는 적층 유닛 2를 갖는 필름.
    (i) 인접하는 α층과 β층의 두께의 비(α층 두께/β층 두께)가 0.7 이상, 1.4 이하인 것.
    (ii) 인접하는 3층이 3층 중에서 가장 두께가 얇은 층의 두께를 1이라고 했을 경우에, 나머지 2층에 대해서 일방의 두께가 1.0 이상 1.4 이하, 타방이 5 이상 9 이하인 것.
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