KR20200004838A - 기록 재료 및 화합물 - Google Patents

기록 재료 및 화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR20200004838A
KR20200004838A KR1020197034980A KR20197034980A KR20200004838A KR 20200004838 A KR20200004838 A KR 20200004838A KR 1020197034980 A KR1020197034980 A KR 1020197034980A KR 20197034980 A KR20197034980 A KR 20197034980A KR 20200004838 A KR20200004838 A KR 20200004838A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
cyclic
branched
linear
formula
Prior art date
Application number
KR1020197034980A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102335292B1 (ko
Inventor
히로시 사카이
가요코 다다
슌타로 기노시타
？타로 기노시타
Original Assignee
닛뽕소다 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛뽕소다 가부시키가이샤 filed Critical 닛뽕소다 가부시키가이샤
Publication of KR20200004838A publication Critical patent/KR20200004838A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102335292B1 publication Critical patent/KR102335292B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/323—Organic colour formers, e.g. leuco dyes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/124—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein using pressure to make a masked colour visible, e.g. to make a coloured support visible, to create an opaque or transparent pattern, or to form colour by uniting colour-forming components
    • B41M5/132—Chemical colour-forming components; Additives or binders therefor
    • B41M5/155—Colour-developing components, e.g. acidic compounds; Additives or binders therefor; Layers containing such colour-developing components, additives or binders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/28—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C275/32—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C275/34—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by singly-bound oxygen atoms having nitrogen atoms of urea groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/28—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C275/40—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/28—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C275/42—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton being further substituted by carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63—Esters of sulfonic acids
    • C07C309/72—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C309/73—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63—Esters of sulfonic acids
    • C07C309/72—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C309/75—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/04—Direct thermal recording [DTR]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M2205/00—Printing methods or features related to printing methods; Location or type of the layers
    • B41M2205/28—Storage stability; Improved self life
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/323—Organic colour formers, e.g. leuco dyes
    • B41M5/327—Organic colour formers, e.g. leuco dyes with a lactone or lactam ring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/323—Organic colour formers, e.g. leuco dyes
    • B41M5/327—Organic colour formers, e.g. leuco dyes with a lactone or lactam ring
    • B41M5/3275—Fluoran compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
    • B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/333—Colour developing components therefor, e.g. acidic compounds
    • B41M5/3333—Non-macromolecular compounds
    • B41M5/3335—Compounds containing phenolic or carboxylic acid groups or metal salts thereof
    • B41M5/3336—Sulfur compounds, e.g. sulfones, sulfides, sulfonamides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
    • B41M5/337—Additives; Binders
    • B41M5/3375—Non-macromolecular compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Color Printing (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Abstract

본 발명의 목적은, 발색 성능 등이 양호한 비페놀계 화합물을 현색제로서 사용한 기록 재료나 기록 시트를 제공하는 것이다.
하기 식 (I)
[화학식 1]
Figure pct00055

(식 중, X 는 CH2 등을 나타내고, R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 등을 나타내고, n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고, 벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고, n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.) 로 나타내는 화합물을 현색제로서 사용한다.

Description

기록 재료 및 화합물
본 발명은 발색성 염료와 현색제의 반응에 의한 발색을 이용한 감열 또는 감압 기록 재료에 관한 것이다.
본원은, 2017년 6월 8일에 출원된 일본 특허 출원 제2017-113439호에 대하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
발색성 염료와 현색제의 반응에 의한 발색을 이용한 기록 재료는, 현상 정착 등의 번잡한 처리를 실시하지 않고 비교적 간단한 장치로 단시간에 기록할 수 있는 것으로부터, 팩시밀리, 프린터 등의 출력 기록을 위한 감열 기록지 또는 수 장을 동시에 복사하는 장표를 위한 감압 복사지 등에 널리 사용되고 있다. 이들 기록 재료로는, 신속하게 발색하고, 미발색 부분 (이하 「바탕」 이라고 한다) 의 백도가 유지되고, 또한 발색한 화상의 견뢰성이 높은 것이 요망되고 있다. 그 때문에, 발색성 염료, 현색제, 보존 안정제 등의 개발 노력이 이루어지고 있지만, 발색의 감도, 바탕 그리고 화상의 보존성 등의 밸런스가 양호하여, 충분히 만족할 수 있는 것은 적다.
한편, 4,4'-이소프로필리덴디페놀 등의 페놀계 현색제는 발색 성능이 양호하지만, 내분비 교란 물질에 해당할 가능성이 있어, 일부의 유저에서는 사용되고 있지 않다. 그래서, 페놀 골격을 가지지 않는 구조 (이하, 비페놀계라고 부른다) 의 현색제가 요구되고 있다.
디페닐우레아 구조를 갖는 비페놀계 현색제는 이미 알려져 있다. 디페닐우레아 자체 (특허문헌 1 참조) 는 발색 성능에 어려움이 있지만, 현색제로서의 성능이 개선된 관련 화합물로서, 특허문헌 2 에 기재되어 있는 우레아우레탄 화합물, 특허문헌 3 또는 4 에 기재되어 있는 디페닐우레아 구조와 술폰아미드 구조를 갖는 화합물 등이 있다.
또한 관련 화합물로서, 특허문헌 5 나 비특허문헌 1 ∼ 3 에 기재된 것이 있지만, 이들의 용도로는 의약 (항동맥 경화제 혹은 항유사 분열제) 이 알려져 있을 뿐이고, 기록 재료 용도는 알려져 있지 않다.
본 발명자는, 발색 성능이 우수한 비페놀계 현색제에 대하여 더욱 탐색을 실시하였다.
일본 공개특허공보 평8-2112호 국제 공개 WO00/14058호 일본 공개특허공보 평11-268421호 국제 공개 WO2014/080615호 일본 공개특허공보 평9-227495호
Russian J. Org. Chem., Sept. 2014, 50, 9, 1292-1300. Bioorg. Med. Chem. Lett., 9 July 2001, 11, 13, 1671-1673. J. Org. Chem., 1940, 05 (3), 300-312.
본 발명의 목적은, 발색 성능 등이 양호한 비페놀계 화합물을 현색제로서 사용한 기록 재료나 기록 시트를 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 비페놀계의 구조를 갖고, 발색 성능 등이 양호한 화합물을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 이하의 발명에 관한 것이다.
(1) 발색성 염료를 함유하는 기록 재료에 있어서, 하기 식 (I)
[화학식 1]
Figure pct00001
(식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.
(2) 지지체 상에, (1) 에 기재된 기록 재료로부터 형성되어 이루어지는 기록 재료층을 갖는 기록 시트.
(3) 하기 식 (I)
[화학식 2]
Figure pct00002
(식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 현색제에 사용하는 방법.
(4) 하기 식 (I)
[화학식 3]
Figure pct00003
(식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
로 나타내는 화합물.
본 발명에 의하면, 발색 성능 및 보존성이 양호한 기록 재료나 기록 시트를 얻을 수 있다. 특히 발색 감도가 향상되고, 게다가 바탕 내열성, 화상 내수성이 우수한 기록 재료를 얻을 수 있다.
(식 (I) 로 나타내는 화합물)
[화학식 4]
Figure pct00004
이하, 식 (I) 로 나타내는 화합물에 대하여 설명한다.
식 (I) 중, X 는, CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타낸다.
식 (I) 중에서 나타내는 화합물은, 이하의 식 (II), 식 (III), 식 (IV)
[화학식 5]
Figure pct00005
[화학식 6]
Figure pct00006
[화학식 7]
Figure pct00007
의 어느 것으로 나타내는 화합물이다.
이들 중, 식 (III) 으로 나타내는 화합물이, 발색성 등의 성능의 점에서 바람직하다.
특히, X=CO 인 경우에는, 식 (III) 또는 식 (IV) 로 나타내는 화합물이 바람직하고, 식 (III) 으로 나타내는 화합물이 더욱 바람직하다. 또 X=SO2 인 경우에는, 식 (III) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.
식 (I) 중, R1 ∼ R3 으로는,
수소 원자 ;
불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자 ;
니트로기 ;
시아노기 ;
메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, t-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, n-헥실, 이소헥실, 시클로프로필, 시클로부틸, 2-메틸시클로프로필, 시클로프로필메틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 등의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기 ;
메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시, t-부톡시, n-펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 시클로프로폭시, 시클로부톡시, 2-메틸시클로프로폭시, 시클로프로필메톡시, 시클로펜틸옥시, 시클로헥실옥시 등의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기 ;
메틸카르보닐, 에틸카르보닐, 프로필카르보닐, 이소프로필카르보닐, n-부틸카르보닐, 이소부틸카르보닐, sec-부틸카르보닐, t-부틸카르보닐, n-펜틸카르보닐, 이소펜틸카르보닐, 네오펜틸카르보닐, n-헥실카르보닐, 이소헥실카르보닐, 시클로프로필카르보닐, 시클로부틸카르보닐, 2-메틸시클로프로필카르보닐, 시클로프로필메틸카르보닐, 시클로펜틸카르보닐, 시클로헥실카르보닐 등의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기 ;
비닐기, 알릴기, 이소프로페닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1,3-부탄디에닐기, 또는 2-메틸-2-프로페닐기 등의 C2 ∼ C6 알케닐기 ;
트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로시클로헥실기 등의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기 ;
N(R4)2 기 (R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다) ;
NHCOR5 (R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다) ;
치환되어 있어도 되는 페닐기 ;
치환되어 있어도 되는 벤질기 등을 들 수 있다.
또한, R3 이 벤젠 고리 상에서 인접하는 위치에 적어도 2 개 존재하는 경우에는, 이들 인접하는 R3 의 2 개가 서로 결합하여, 그것들이 직접 결합하고 있는 상기 벤젠 고리의 탄소 원자와 함께, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 된다. 구체적으로는, 인접하는 R3 의 2 개가 서로 결합하여, 치환되어 있어도 되는 1,3-디부텐-1,4-일기를 형성함으로써, 상기 벤젠 고리와 함께 나프탈렌 고리 (X 와의 결합 위치는 1 위치 또는 2 위치의 어느 것이다) 를 형성하여 이루어지는 화합물 ;
인접하는 R3 의 2 개가 서로 결합하여, 치환되어 있어도 되는 1-부텐-1,4-일기를 형성함으로써, 상기 벤젠 고리와 함께 1,2-디하이드로나프탈렌 고리 (X 와의 결합 위치는 5 위치, 6 위치, 7 위치 또는 8 위치의 어느 것이다) 를 형성하여 이루어지는 화합물 ; 인접하는 R3 의 2 개가 서로 결합하여, 치환되어 있어도 되는 2-부텐-1,4-일기를 형성함으로써, 상기 벤젠 고리와 함께 1,4-디하이드로나프탈렌 고리 (X 와의 결합 위치는 5 위치 또는 6 위치의 어느 것이다) 를 형성하여 이루어지는 화합물 ;
인접하는 R3 의 2 개가 서로 결합하여, 치환되어 있어도 되는 부탄-1,4-일기를 형성함으로써, 상기 벤젠 고리와 함께 테트랄린 고리 (X 와의 결합 위치는 1 위치 또는 2 위치의 어느 것이다) 를 형성하여 이루어지는 화합물 ; 이 예시된다.
바람직하게는, R1 로는, 수소 원자, 직사슬형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬형의 C1 ∼ C6 알콕시기, 염소 원자 또는 니트로기이고, R2 로는, 수소 원자이고, R3 으로는, 수소 원자 또는 직사슬형의 C1 ∼ C6 알킬기이다.
상기 R4 또는 상기 R5 의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기로는, 상기 R1 의 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기로서 예시된 것과 동일한 것을 예시할 수 있다.
여기서, 「치환되어 있어도 되는」 의 치환기로서,
불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자 ;
메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기 등의 C1 ∼ C6 알킬기 ;
메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, t-부톡시기 등의 C1 ∼ C6 의 알콕시기 등을 들 수 있다.
n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고, n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.
식 (I) 로 나타내는 대표적인 화합물로는, 1-(3-벤질옥시페닐)-3-(3-클로로페닐)우레아, 3-(3-페닐우레이도)페닐벤조에이트, 3-(3-(3-클로로페닐)우레이도)페닐-4-메틸벤젠술포네이트 등을 들 수 있다.
(식 (I) 로 나타내는 화합물의 제조 방법)
식 (I) 로 나타내는 화합물은, 제조 가능하면 어떠한 방법이어도 상관없지만, 공지된 여러 가지의 방법, 예를 들어 하기에 나타내는 제조 방법 1 ∼ 4 의 어느 것으로 제조할 수 있다.
(제조 방법 1)
식 (I) 로 나타내는 화합물은, 일반식 (V)
[화학식 8]
Figure pct00008
(식 중, R1 및 n1 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 아닐린 유도체와, 일반식 (VI)
[화학식 9]
Figure pct00009
(식 중, R2, R3, n2, n3 및 X 는, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 이소시아네이트 유도체를 반응시켜, 제조할 수 있다.
(제조 방법 2)
또한, X 가 CH2 인 경우에는, 식 (I) 로 나타내는 화합물은, 하기 (1) 및 (2) 의 공정을 거쳐 제조할 수도 있다.
(1) 일반식 (VII)
[화학식 10]
Figure pct00010
(식 중, R2 및 n2 는, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 아미노페놀 유도체와, 일반식 (VIII)
[화학식 11]
Figure pct00011
(식 중, R1 및 n1 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 이소시아네이트 유도체를 반응시킴으로써, 일반식 (IX)
[화학식 12]
Figure pct00012
(식 중, R1, R2, n1 및 n2 는, 식 (VII) 및 식 (VIII) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 페놀 유도체를 얻는 공정.
(2) 상기 식 (IX) 로 나타내는 페놀 유도체와, 일반식 (X)
[화학식 13]
Figure pct00013
(식 중, R3 및 n3 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 으로 나타내는 벤질클로라이드 유도체를 반응시켜, 식 (I) 로 나타내는 화합물을 얻는 공정.
(제조 방법 3)
또한, X 가 C=O 인 경우에는, 식 (I) 로 나타내는 화합물은, 제조 방법 2 와 동일한 (1) 공정 후, 하기의 (2') 공정을 거쳐, 제조할 수도 있다.
(2') 상기 식 (IX) 로 나타내는 페놀 유도체와, 일반식 (XI)
[화학식 14]
Figure pct00014
(식 중, R3 및 n3 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 벤조일클로라이드 유도체, 또는 일반식 (XII)
[화학식 15]
Figure pct00015
(식 중, R3 및 n3 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 벤조산 무수물 유도체를 반응시켜, 식 (I) 로 나타내는 화합물을 얻는 공정.
(제조 방법 4)
또한, X 가 SO2 인 경우에는, 식 (I) 로 나타내는 화합물은, 제조 방법 2 와 동일한 (1) 공정 후, 하기의 (2") 공정을 거쳐, 제조할 수도 있다.
(2") 상기 식 (IX) 로 나타내는 페놀 유도체와, 일반식 (XIII)
[화학식 16]
Figure pct00016
(식 중, R3 및 n3 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 으로 나타내는 벤젠술포닐클로라이드 유도체, 또는 일반식 (XIV)
[화학식 17]
Figure pct00017
(식 중, R3 및 n3 은, 식 (I) 에 있어서의 그것들과 동일한 것을 나타낸다.) 로 나타내는 벤젠술폰산 유도체 혹은 그 염을 반응시켜, 식 (I) 로 나타내는 화합물을 얻는 공정.
본 발명의 화합물은, 1H-NMR, 13C-NMR, IR, MS 등의 공지된 측정 기기로 측정함으로써 구조를 동정할 수 있다. 또한, 액체 크로마토그래피 (HPLC), 열 분석 (DSC) 등의 측정 기기로 순도를 측정할 수도 있다.
또한, 이상과 같이 하여 합성할 수 있는 화합물의 일례를 제 1 표에 나타낸다.
[화학식 18]
Figure pct00018
(상기 구조식의 ring-A ∼ ring-C 의 난에 기재된 숫자는, 고리의 위치를 나타낸다. 동일하게, 하기 표 중, ring-A ∼ ring-C 의 난에 기재된 숫자는, 고리의 위치를 나타낸다)
Figure pct00019
Figure pct00020
Figure pct00021
Figure pct00022
Figure pct00023
Figure pct00024
Figure pct00025
Figure pct00026
Figure pct00027
Figure pct00028
Figure pct00029
Figure pct00030
Figure pct00031
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00038
Figure pct00039
Figure pct00040
Figure pct00041
Figure pct00042
Figure pct00043
Figure pct00044
Figure pct00045
Figure pct00046
(기록 재료)
본 발명의 기록 재료는 발색성 염료와 식 (I) 로 나타내는 화합물의 적어도 1 종을 함유하는 기록 재료이면 어떠한 용도에도 사용할 수 있고, 예를 들어, 감열 기록 재료 또는 감압 복사 재료 등에 이용할 수 있다.
발색성 염료에 대한 식 (I) 로 나타내는 화합물의 적어도 1 종으로 나타내는 화합물의 사용 비율은, 통상적으로, 발색성 염료의 1 질량부에 대하여 0.01 ∼ 10 질량부, 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부, 더욱 바람직하게는 1.0 ∼ 5 질량부의 비율이다.
(기록 재료의 다른 성분)
본 발명의 기록 재료 중에는, 발색성 염료 그리고, 식 (I) 로 나타내는 화합물 이외에 공지된 현색제, 화상 안정제, 증감제, 전료 (塡料), 분산제, 산화 방지제, 감감 (減感) 제, 점착 방지제, 소포제, 광 안정제, 형광 증백제 등을 필요에 따라 1 종 또는 2 종 이상 함유시킬 수 있다. 다른 성분의 사용량은, 각각, 발색성 염료 1 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부의 범위이다.
이들 약제는, 발색층 중에 함유시켜도 되지만, 다층 구조로 이루어지는 경우에는, 예를 들어, 보호층 등 임의의 층 중에 함유시켜도 된다. 특히, 발색층의 상부 및/또는 하부에 오버 코트층이나 언더 코트층을 형성한 경우, 이들 층에는 산화 방지제, 광 안정제 등을 함유할 수 있다. 또한, 산화 방지제, 광 안정제는 필요에 따라 마이크로 캡슐에 내포하는 형태로, 이들 층에 함유시킬 수 있다.
본 발명의 기록 재료에 사용되는 발색성 염료로는, 플루오란계, 프탈리드계, 락탐계, 트리페닐메탄계, 페노티아진계, 스피로피란계 등의 류코 염료를 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것이 아니고, 산성 물질인 현색제와 접촉함으로써 발색하는 발색성 염료이면 사용할 수 있다. 또한, 이들 발색성 염료는 단독으로 사용하여, 그 발색하는 색의 기록 재료를 제조하는 것은 물론이지만, 그들 2 종 이상을 혼합 사용할 수 있다. 예를 들어, 적색, 청색, 녹색의 3 원색의 발색성 염료 또는 흑색 발색 염료를 혼합 사용하여 매우 흑색으로 발색하는 기록 재료를 제조할 수 있다.
플루오란계의 발색성 염료로는, 예를 들어, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드 (별명 크리스탈 바이올렛 락톤), 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디에틸아미노프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-클로로프탈리드, 3,3-비스(p-디부틸아미노페닐)프탈리드, 3-시클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디메틸아미노-5,7-디메틸플루오란, 3-N-메틸-N-이소프로필아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-브로모플루오란, 3-(N-p-톨릴-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸아미노-7-아닐리노플루오란, 2-{N-(3'-트리플루오르메틸페닐)아미노}-6-디에틸아미노플루오란, 2-{3,6-비스(디에틸아미노)-9-(o-클로로아닐리노)잔틸}벤조산락탐, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-트리클로로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N-아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-시클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2',4'-디메틸아닐리노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노-플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-피페리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디메틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에톡시프로필-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노벤조[a]플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-벤질아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6-(N,N'-디벤질아미노)플루오란, 3,6-디메톡시플루오란, 2,4-디메틸-6-(4-디메틸아미노페닐)아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-톨릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2,4-자일릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디페닐아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 벤조일류코메틸렌블루, 6'-클로로-8'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 6'-브로모-3'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-클로로페닐)프탈리드, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-니트로페닐)프탈리드, 3-(2'-하이드록시-4'-디에틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-메틸페닐)프탈리드, 3-(2'-메톡시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-하이드록시-4'-클로로-5'-메틸페닐)프탈리드, 3-모르폴리노-7-(N-프로필-m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-m-트리플루오로메틸아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(N-벤질-m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-디(p-클로로페닐메틸)아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-메톡시카르보닐페닐아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 2-클로로-3-(N-메틸톨루이디노)-7-(p-n-부틸아닐리노)플루오란, 3-(N-메틸-N-이소프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈리드, 3-(N-벤질-N-시클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-(2-에톡시프로필)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-메시티디노-4',5'-벤조플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(메틸페닐아미노)플루오란 등을 들 수 있다.
이들 발색 염료 중에서는 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드, 3-시클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,8-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N-시클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-N-톨루이디노)-6-메틸-7-아닐리노-플루오란, 3-(N-에톡시프로필-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디부틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(m-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-옥틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-톨릴아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로아닐리노)플루오란, 3-디페닐아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 벤조일류코메틸렌블루, 3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(메틸페닐아미노)플루오란을 바람직하게 들 수 있다.
또한, 근적외 흡수 염료로는, 3-[4-[4-(4-아닐리노)-아닐리노]아닐리노]-6-메틸-7-클로로플루오란, 3,3-비스[2-(4-디메틸아미노페닐)-2-(4-메톡시페닐)비닐]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드, 3,6,6'-트리스(디메틸아미노)스피로(플루오렌-9,3'-프탈리드) 등을 들 수 있다.
본 발명의 식 (I) 로 나타내는 화합물의 적어도 1 종은, 주로 감열성 기록 재료에 있어서, 현색제로서 바람직하게 사용되지만, 단독으로 사용해도 되고, 공지된 복수의 현색제와 병용해도 된다. 그 비율은 임의이다.
다른 현색제로는 구체적으로는 예를 들어, 다음의 것을 예시할 수 있다.
비스페놀 A, 4,4'-sec-부틸리덴비스페놀, 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀, 2,2'-비스(4-하이드록시페닐)-3,3'-디메틸부탄, 2,2'-디하이드록시디페닐, 펜타메틸렌-비스(4-하이드록시벤조에이트), 2,2-디메틸-3,3-디(4-하이드록시페닐)펜탄, 2,2-디(4-하이드록시페닐)헥산, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(4-하이드록시-3-메틸페닐)프로판, 4,4'-(1-페닐에틸리덴)비스페놀, 4,4'-에틸리덴비스페놀, (하이드록시페닐)메틸페놀, 2,2'-비스(4-하이드록시-3-페닐-페닐)프로판, 4,4'-(1,3-페닐렌디이소프로필리덴)비스페놀, 4,4'-(1,4-페닐렌디이소프로필리덴)비스페놀, 2,2-비스(4-하이드록시페닐)아세트산부틸 등의 비스페놀 화합물 ; 4,4'-디하이드록시디페닐티오에테르, 1,7-디(4-하이드록시페닐티오)-3,5-디옥사헵탄, 2,2'-비스(4-하이드록시페닐티오)디에틸에테르, 4,4'-디하이드록시-3,3'-디메틸디페닐티오에테르 등의 함황 비스페놀 화합물 ; 4-하이드록시벤조산벤질, 4-하이드록시벤조산에틸, 4-하이드록시벤조산프로필, 4-하이드록시벤조산이소프로필, 4-하이드록시벤조산부틸, 4-하이드록시벤조산이소부틸, 4-하이드록시벤조산클로로벤질, 4-하이드록시벤조산메틸벤질, 4-하이드록시벤조산디페닐메틸 등의 4-하이드록시벤조산에스테르류 ; 벤조산아연, 4-니트로벤조산아연 등의 벤조산 금속염, 4-[2-(4-메톡시페닐옥시)에틸옥시]살리실산 등의 살리실산류 ; 살리실산아연, 비스[4-(옥틸옥시카르보닐아미노)-2-하이드록시벤조산]아연 등의 살리실산 금속염 ; 4,4'-디하이드록시디페닐술폰 (약칭 : 4,4'-BPS), 2,4'-디하이드록시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰, 4-하이드록시-4'-부톡시디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시-3,3'-디알릴디페닐술폰, 3,4-디하이드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4,4'-디하이드록시-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐술폰, 4-알릴옥시-4'-하이드록시디페닐술폰, 2-(4-하이드록시페닐술포닐)페놀, 4,4'-술포닐비스[2-(2-프로페닐)]페놀, 4-[{4-(프로폭시)페닐}술포닐]페놀, 4-[{4-(알릴옥시)페닐}술포닐]페놀, 4-[{4-(벤질옥시)페닐}술포닐]페놀, 2,4-비스(페닐술포닐)-5-메틸-페놀 등의 하이드록시술폰류 ; 4-페닐술포닐페녹시아연 마그네슘, 알루미늄, 티탄 등의 하이드록시술폰류의 다가 금속염류 ; 4-하이드록시프탈산디메틸, 4-하이드록시프탈산디시클로헥실, 4-하이드록시프탈산디페닐 등의 4-하이드록시프탈산디에스테르류 ; 2-하이드록시-6-카르복시나프탈렌 등의 하이드록시나프토산의 에스테르류 ; 트리브로모메틸페닐술폰 등의 트리할로메틸술폰류 ; N-페닐-4-아미노벤젠술폰아미드, N-페닐-3-니트로벤젠술폰아미드, N-(2-메톡시페닐)-p-톨루엔술폰아미드, 네오 우릴론 등의 술폰아미드 화합물 ; 1,2-디페닐우레아, N-페닐-4-(3-페닐우레이도)벤젠술폰아미드, 4-메틸-N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)벤젠술폰아미드, N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)벤젠술폰아미드, N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)아세트아미드, 4-메틸-N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)벤즈아미드 등의 디페닐우레아 화합물 ; 4,4'-비스(p-톨루엔술포닐아미노카르보닐아미노)디페닐메탄, N-(4-메틸페닐술포닐)-N'-(3-(4-메틸페닐술포닐옥시)페닐)우레아 (약칭 : PF-201) 등의 술포닐우레아 화합물 ; 하이드록시아세토페논, p-페닐페놀, 4-하이드록시페닐아세트산벤질, p-벤질페놀, 하이드로퀴논-모노벤질에테르, 2,4-디하이드록시-2'-메톡시벤즈아닐리드, 테트라시아노퀴노디메탄류, N-(2-하이드록시페닐)-2-[(4-하이드록시페닐)티오]아세타미드, N-(4-하이드록시페닐)-2-[(4-하이드록시페닐)티오]아세타미드, 4-하이드록시벤젠술폰아닐리드, 4'-하이드록시-4-메틸벤젠술폰아닐리드, 4,4'-비스(4-메틸-3-페녹시카르보닐)아미노페닐우레이도))디페닐술폰, 3-(3-페닐우레이도)벤젠술폰아닐리드, 옥타데실인산, 도데실인산 ; 또는 하기 식으로 나타내는 디페닐술폰 가교형 화합물 혹은 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
[화학식 19]
Figure pct00047
이들 중에서는 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰, 디페닐술폰 가교형 화합물 혹은 그들의 혼합물, 혹은 N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)벤젠술폰아미드를 바람직하게 들 수 있다.
화상 안정제로는, 예를 들어, 4-벤질옥시-4'-(2-메틸글리시딜옥시)-디페닐술폰, 4,4'-디글리시딜옥시디페닐술폰 등의 에폭시기 함유 디페닐술폰류 ; 1,4-디글리시딜옥시벤젠, 4-[α-(하이드록시메틸)벤질옥시]-4'-하이드록시디페닐술폰, 2-프로판올 유도체, 살리실산 유도체, 옥시나프토산 유도체의 금속염 (특히 아연염), 2,2-메틸렌비스(4,6-t-부틸페닐)포스페이트의 금속염, 그 외 수불용성의 아연 화합물, 2,2-비스(4'-하이드록시-3',5'-디브로모페닐)프로판, 4,4'-술포닐비스(2,6-디브로모페놀), 4,4'-부틸리덴(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,2'-메틸렌-비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌-비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-디-t-부틸-5,5'-디메틸-4,4'-술포닐디페놀, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄 등의 힌더드페놀 화합물, 페놀 노볼락형 화합물, 에폭시 레진, UU (케미프로 화성 주식회사 제조 현색제), 3,3'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐술폰 등을 들 수 있다.
또한, 하기 식으로 나타내는 디페닐술폰 가교형 화합물 혹은 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
[화학식 20]
Figure pct00048
또한, 화상 안정제는 바람직하게는 상온에서 고체이고, 특히 바람직하게는 융점이 60 ℃ 이상이고, 물에 잘 녹지 않는 화합물이다.
증감제로는, 예를 들어, 스테아르산아미드, 스테아르산아닐리드, 또는 팔미트산아미드 등의 고급 지방산 아미드류 ; 벤즈아미드, 아세토아세트산아닐리드, 티오아세토아닐리드아크릴산아미드, 에틸렌비스아미드, 오르토톨루엔술폰아미드, 파라톨루엔술폰아미드 등의 아미드류 ; 프탈산디메틸, 이소프탈산디벤질, 이소프탈산디메틸, 테레프탈산디메틸, 이소프탈산디에틸, 이소프탈산디페닐, 테레프탈산디벤질 등의 프탈산디에스테르류 ; 옥살산디벤질, 옥살산디(4-메틸벤질), 옥살산디(4-클로로벤질), 옥살산디벤질과 옥살산디(4-클로로벤질) 의 등량 혼합물, 옥살산디(4-클로로벤질) 과 옥살산디(4-메틸벤질) 의 등량 혼합물 등의 옥살산디에스테르류 ; 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌-비스-2,6-디-t-부틸페놀 등의 비스(t-부틸페놀)류 ; 4,4'-디메톡시디페닐술폰, 4,4'-디에톡시디페닐술폰, 4,4'-디프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 4,4'-디부톡시디페닐술폰, 4,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 4,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 4,4'-디헥실옥시디페닐술폰, 4,4'-디알릴옥시디페닐술폰 등의 4,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류 ; 2,4'-디메톡시디페닐술폰, 2,4'-디에톡시디페닐술폰, 2,4'-디프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디이소프로폭시디페닐술폰, 2,4'-디부톡시디페닐술폰, 2,4'-디이소부톡시디페닐술폰, 2,4'-디펜틸옥시디페닐술폰, 2,4'-디헥실옥시디페닐술폰, 2,4'-디알릴옥시디페닐술폰 등의 2,4'-디하이드록시디페닐술폰의 디에테르류 ; 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 1,2-비스(4-메톡시페닐티오)에탄, 1,2-비스(4-메톡시페녹시)프로판, 1,3-디페녹시-2-프로판올, 1,4-디페닐티오-2-부텐, 1,4-디페닐티오부탄, 1,4-디페녹시-2-부텐, 1,5-비스(4-메톡시페녹시)-3-옥사펜탄, 1,3-디벤조일옥시프로판, 디벤조일옥시메탄, 4,4'-에틸렌디옥시-비스-벤조산디벤질에스테르, 비스〔2-(4-메톡시-페녹시)에틸〕에테르, 2-나프틸벤질에테르, 1,3-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,4-디벤질옥시나프탈렌, 1,4-디메톡시나프탈렌, 1,4-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, p-(2-비닐옥시에톡시)비페닐, p-아릴옥시비페닐, p-프로파르길옥시비페닐, p-벤질옥시벤질알코올, 4-(m-메틸페녹시메틸)비페닐, 4-메틸페닐-비페닐에테르, 디-β-나프틸페닐렌디아민, 디페닐아민, 카르바졸, 2,3-디-m-톨릴부탄, 4-벤질비페닐, 4,4'-디메틸비페닐, m-터페닐, p-터페닐 등의 터페닐류 ; 1,2-비스(3,4-디메틸페닐)에탄, 2,3,5,6-테트라메틸-4'-메틸디페닐메탄, 4-아세틸비페닐, 디벤조일메탄, 트리페닐메탄, 1-하이드록시-나프토산페닐, 1-하이드록시-2-나프토산메틸, N-옥타데실카르바모일-p-메톡시카르보닐벤젠, p-벤질옥시벤조산벤질, β-나프토산페닐, p-니트로벤조산메틸, 디페닐술폰, 탄산디페닐, 구아야콜카보네이트, 디-p-톨릴카보네이트, 페닐-α-나프틸카보네이트 등의 탄산 유도체 ; 1,1-디페닐프로판올, 1,1-디페닐에탄올, 디페닐메탄올, N-옥타데실카르바모일벤젠, 디벤질디술파이드, N,N'-1,2-페닐렌비스(3-페닐우레아), 스테아르산, 아마이드 AP-1 (스테아르산아미드와 팔미트산아미드의 7 : 3 혼합물), 스테아르산알루미늄, 스테아르산칼슘, 스테아르산아연 등의 스테아르산염류 ; 팔미트산아연, 베헨산, 베헨산아연, 몬탄산 왁스, 폴리에틸렌 왁스 등을 들 수 있다.
바람직하게는, 2-나프틸벤질에테르, m-터페닐, 4-벤질비페닐, 옥살산벤질, 옥살산디(4-클로로벤질), 옥살산벤질과 옥살산디(4-클로로벤질) 의 등량 혼합물, 옥살산디(4-메틸벤질), 옥살산디(4-클로로벤질) 과 옥살산디(4-메틸벤질) 의 등량 혼합물, 1-하이드록시-2-나프토산페닐, 1,2-비스(페녹시)에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 테레프탈산디메틸, N,N'-1,2-페닐렌비스(3-페닐우레아), 스테아르산아미드, 아마이드 AP-1 (스테아르산아미드와 팔미트산아미드의 7 : 3 혼합물), 디페닐술폰, 4-아세틸비페닐을 들 수 있다.
더욱 바람직하게는, 옥살산디(4-메틸벤질), 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(페녹시메틸)벤젠, 디페닐술폰 또는 2-나프틸벤질에테르를 들 수 있다.
전료로는, 예를 들어, 실리카, 클레이, 카올린, 소성 카올린, 탤크, 새틴 화이트, 수산화알루미늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화아연, 산화티탄, 황산바륨, 규산마그네슘, 규산알루미늄, 플라스틱 피그먼트, 규조토, 탤크, 수산화알루미늄 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 소성 카올린, 탄산칼슘을 바람직하게 예시할 수 있다. 전료의 사용 비율은, 발색 염료 1 질량부에 대하여 0.1 ∼ 15 질량부, 바람직하게는 1 ∼ 10 질량부이다. 또한 상기 전료를 혼합하여 사용하는 것도 가능하다.
분산제로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올이나, 아세토아세틸화폴리비닐알코올, 카르복시 변성 폴리비닐알코올, 술폰산 변성 폴리비닐알코올, 아마이드 변성 폴리비닐알코올, 부티랄 변성 비닐알코올 등의 각종 비누화도, 중합도의 폴리비닐알코올 ; 메틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 하이드록시메틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체 ; 폴리아크릴산 소다 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 폴리아크릴아미드 ; 전분 ; 술포숙신산디옥틸나트륨 등의 술포숙신산에스테르류 ; 도데실벤젠술폰산나트륨 ; 라우릴알코올황산에스테르의 나트륨염, 지방산염 ; 스티렌-무수 말레산 공중합체 ; 스티렌-부타디엔 공중합체 ; 폴리염화비닐 ; 폴리아세트산비닐 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 폴리비닐부티랄 ; 폴리우레탄 ; 폴리스티렌 및 그들의 공중합체 ; 폴리아미드 수지 ; 실리콘 수지 ; 석유 수지 ; 테르펜 수지 ; 케톤 수지 ; 쿠마론 수지 등을 들 수 있다.
분산제는 물, 알코올, 케톤, 에스테르, 탄화수소 등의 용제에 녹여 사용하는 것 외에, 물 또는 다른 용매 중에 유화 혹은 페이스트상으로 분산시킨 상태에서 사용하는 것도 가능하다.
산화 방지제로는, 예를 들어, 4,4'-프로필메틸렌비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(2-t-부틸-5-메틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 4-{4-[1,1-비스(4-하이드록시페닐)에틸]-α,α-디메틸벤질}페놀, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-시클로헥실페닐)부탄, 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 1,3,5-트리스[{4-(1,1-디메틸에틸)-3-하이드록시-2,6-디메틸페닐}메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스[{3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐}메틸]-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있다.
감감제로는, 예를 들어, 지방족 고급 알코올, 폴리에틸렌글리콜, 구아니딘 유도체 등을 들 수 있다.
점착 방지제로는, 예를 들어, 스테아르산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 에스테르 왁스 등을 들 수 있다.
소포제로는, 예를 들어, 고급 알코올계, 지방산에스테르계, 오일계, 실리콘계, 폴리에테르계, 변성 탄화수소계, 파라핀계 등을 들 수 있다.
광 안정제로는, 예를 들어, 페닐살리실레이트, p-t-부틸페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트 등의 살리실산계 자외선 흡수제 ; 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-하이드록시-5-벤조일페닐)메탄 등의 벤조페논계 자외선 흡수제 ; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1",1",3",3"-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5'-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-도데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-운데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-트리데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-테트라데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-펜타데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-헥사데실-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(2"-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1"-에틸헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1"-에틸헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1'-에틸옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1"-프로필옥틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1"-프로필헵틸)옥시페닐]벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-4'-(1"-프로필헥실)옥시페닐]벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)]페놀, 폴리에틸렌글리콜과 메틸-3-[3-t-부틸-5-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트의 축합물 등의 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 ; 2'-에틸헥실-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제 ; 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 숙신산-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에스테르, 2-(3,5-디-t-부틸)말론산-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에스테르 등의 힌더드아민계 자외선 흡수제 ; 1,8-디하이드록시-2-아세틸-3-메틸-6-메톡시나프탈렌 등을 들 수 있다.
형광 증백제로는, 예를 들어, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-(2-하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4,4'-비스[2-아닐리노-4-비스(하이드록시프로필)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4,4'-비스[2-메톡시-4-(2-하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4,4'-비스[2-메톡시-4-(2-하이드록시프로필)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4,4'-비스[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=2 나트륨염, 4-[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]-4'-[2-m-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=4 나트륨염, 4,4'-비스[2-p-술포아닐리노-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=4 나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-페녹시아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6 나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-(p-메톡시카르보닐페녹시)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6 나트륨염, 4,4'-비스[2-(p-술포페녹시)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6 나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-포르말리닐아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6 나트륨염, 4,4'-비스[2-(2,5-디술포아닐리노)-4-비스(하이드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아지닐-6-아미노]스틸벤-2,2'-디술폰산=6 나트륨염 등을 들 수 있다.
(기록 재료의 제조 방법)
본 발명을 감열 기록지에 사용하는 경우에는, 이미 알려진 사용 방법과 동일하게 실시하면 되고, 예를 들어, 본 발명의 화합물의 미립자 및 발색성 염료의 미립자의 각각을 폴리비닐알코올이나 셀룰로오스 등의 수용성 결합제의 수용액 중에 분산된 현탁액을 혼합하여 종이 등의 지지체에 도포하여 건조시킴으로써 제조할 수 있다.
본 발명을 감압 복사지에 사용하려면, 이미 알려진 현색제 혹은 증감제를 사용하는 경우와 동일하게 하여 제조할 수 있다. 예를 들어, 공지된 방법에 의해 마이크로 캡슐화한 발색성 염료를 적당한 분산제에 의해 분산시키고, 종이에 도포하여 발색제 시트를 제작한다. 또한, 현색제의 분산액을 종이에 도포하여 현색제 시트를 제작한다. 이와 같이 하여 제작된 양시트를 조합하여 감압 복사지가 제작된다. 감압 복사지로는, 발색성 염료의 유기 용매 용액을 내포하는 마이크로 캡슐을 하면에 도포 담지하고 있는 상용지와 현색제 (산성 물질) 를 상면에 도포 담지하고 있는 하용지로 이루어지는 유닛이어도 되고, 혹은 마이크로 캡슐과 현색제가 동일한 지면에 도포되어 있는 이른바 셀프 컨텐트 페이퍼여도 된다.
그 때 사용하는 현색제 또는 혼합하여 사용하는 현색제로는, 종래 이미 알려진 것이 이용되고, 예를 들어 산성 백토, 활성 백토, 아타풀자이트, 벤토나이트, 콜로이달 실리카, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산아연, 규산주석, 소성 카올린, 탤크 등의 무기 산성 물질 ; 옥살산, 말레산, 타르타르산, 시트르산, 숙신산, 스테아르산 등의 지방족 카르복실산 ; 벤조산, p-t-부틸벤조산, 프탈산, 갈산, 살리실산, 3-이소프로필살리실산, 3-페닐살리실산, 3-시클로헥실살리실산, 3,5-디-t-부틸살리실산, 3-메틸-5-벤질살리실산, 3-페닐-5-(2,2-디메틸벤질)살리실산, 3,5-디(2-메틸벤질)살리실산, 2-하이드록시-1-벤질-3-나프토산 등의 방향족 카르복실산 및 이들 방향족 카르복실산의 아연, 마그네슘, 알루미늄, 티탄 등의 금속염 ; p-페닐페놀-포르말린 수지, p-부틸페놀-아세틸렌 수지 등의 페놀 수지계 현색제 및 이들 페놀 수지계 현색제와 상기 방향족 카르복실산의 금속염의 혼합물 등을 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 지지체는 종래 공지된 종이, 합성지, 필름, 플라스틱 필름, 발포 플라스틱 필름, 부직포, 재생 펄프 등의 재생지 등을 사용할 수 있다. 또한 이들을 조합한 것을 지지체로서 사용할 수도 있다.
종이를 지지체에 사용하는 경우에는, 그대로 종이에 염료 분산액, 현색제 분산액, 전료 분산액을 함유하는 분산액을 도포해도 되지만, 미리, 언더 코트층 분산액을 도포하여 건조시킨 후, 상기 분산액을 도포해도 된다. 바람직하게는, 언더 코트층 분산액을 도포한 후, 상기 분산액을 도포한 쪽의 발색 감도가 양호하다.
언더 코트층 분산액은, 지지체의 표면의 평활성을 향상시키기 위해서 사용하는 것으로서, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 전료, 분산제, 물이 포함되는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 전료로는 소성 카올린, 탄산칼슘, 분산제로는 폴리비닐알코올이 바람직하다.
지지체 상에 기록 재료층을 형성시키는 경우에는, 염료 분산액, 현색제 분산액, 전료 분산액을 함유하는 분산액을 지지체에 도포하여 건조시키는 방법, 분산액을 스프레이 등으로 분무하여 건조시키는 방법, 분산액에 일정 시간 침지시켜 건조시키는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 도포하는 경우에는, 손 도포, 사이즈 프레스 코터법, 롤 코터법, 에어 나이프 코터법, 블렌드 코터법, 블로우 코터법, 커튼 코터법, 콤마 다이렉트법, 그라비아 다이렉트법, 그라비아 리버스법, 리버스·롤 코터법 등을 들 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 기록 재료에 대하여 실시예를 들어 상세하게 설명하지만, 본 발명은 반드시 이것만으로 한정되는 것은 아니다.
또한, 소성 카올린은, Ansilex (등록상표)-93 을 사용하였다.
(1) 화합물의 합성
(식 (I) 로 나타내는 화합물의 제조 방법) 의 항에 기재한 방법을 사용하여, 각 화합물을 합성하였다.
[실시예 1] 1-(2-(벤질옥시)페닐)-3-페닐우레아 (화합물 번호 1) 의 합성
o-아미노페놀 10.9 g 을 아세토니트릴 200 ㎖ 에 첨가하고, 5 ℃ 까지 냉각시켰다. 여기에, 이소시안산페닐 (와코 순약사 제조, 순도 98 ％) 11.9 g 을, 온도가 10 ℃ 이상이 되지 않도록 적하하고, 그 상태의 온도에서 30 분간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 석출된 결정을 여과하고, 백색 결정으로서 1-(2-하이드록시페닐)-3-페닐우레아를 얻었다 (19.5 g, 수율 85 ％).
이상의 방법으로 얻어진 1-(2-하이드록시페닐)-3-페닐우레아 3.4 g, 및 10 ％ 수산화나트륨 수용액 7.0 g 을 DMF 15 ㎖ 에 첨가하였다. 여기에, 실온에서 벤질클로라이드 2.1 g 을 적하한 후, 실온에서 4 시간 반응을 실시하고, 추가로 60 ℃ 에서 3 시간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 실온으로 되돌려, 아세트산에틸 50 ㎖, 및 n-헥산 20 ㎖ 를 첨가하고, 석출된 결정을 여과하였다. 이것을 감압하 건조시킴으로써, 목적물을 백색 결정으로서 얻었다 (2.2 g, 수율 47 ％). 융점 : 172 - 173 ℃
[실시예 2] 2-(3-페닐우레이도)페닐벤조에이트 (화합물 번호 67) 의 합성
실시예 1 과 동일한 방법으로 얻어진 합성 중간체 1-(2-하이드록시페닐)-3-페닐우레아 3.0 g, 및 트리에틸아민 2.0 g 을 아세톤 50 ㎖ 중에 첨가하였다. 여기에 40 ℃ 에서 벤조일클로라이드 1.8 g 을 적하하고, 2 시간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 불용물을 여과로 제거한 후에 감압하 용매를 증류 제거하였다. 잔류물을 66 ％ 에탄올 75 ㎖ 로부터 재결정을 실시하였다. 석출된 결정을 여과하고, 감압하 건조시켜, 목적물을 백색의 결정으로서 얻었다 (3.7 g, 수율 98 ％). 융점 : 171 - 174 ℃
[실시예 3] 1-(3-(벤질옥시)페닐)-3-페닐우레아 (화합물 번호 203) 의 합성
m-아미노페놀 10.9 g 을 아세토니트릴 200 ㎖ 에 첨가하고, 5 ℃ 까지 냉각시켰다. 여기에, 이소시안산페닐 11.9 g 을, 온도가 10 ℃ 이상이 되지 않도록 적하하고, 그 상태의 온도에서 30 분간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 석출된 결정을 여과하여, 백색 결정으로서 1-(3-하이드록시페닐)-3-페닐우레아를 얻었다 (19.5 g, 수율 85 ％).
이상의 방법으로 얻어진 1-(3-하이드록시페닐)-3-페닐우레아 4.6 g, 및 탄산칼륨 1.4 g 을 DMF 20 ㎖ 에 첨가하고, 오일 배스로 90 ℃ 까지 승온하였다. 여기에, 벤질클로라이드 2.5 g 을 적하한 후, 90 ℃ 에서 2 시간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 1 ％ 염산 100 ㎖ 에 반응액을 적하하고, 석출된 결정을 여과하였다. 얻어진 결정에 아세트산에틸 120 ㎖ 를 첨가하고, 환류하 결정을 용해시켰다. n-헥산을 첨가하고, 실온까지 냉각을 실시하고, 석출된 결정을 여과하였다. 감압하 건조시킴으로써, 목적물을 백색 결정으로서 얻었다 (3.7 g, 수율 58 ％). 융점 : 179 - 182 ℃
[실시예 4] 3-(3-페닐우레이도)페닐벤조에이트 (화합물 번호 221) 의 합성
실시예 3 과 동일한 방법으로 얻어진 합성 중간체 1-(3-하이드록시페닐)-3-페닐우레아 4.6 g, 및 트리에틸아민 2.0 g 을 아세토니트릴 100 ㎖ 중에 첨가하였다. 여기에 실온에서 벤조일클로라이드 2.8 g 을 적하하고, 그 상태의 온도에서 1 시간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 감압하 용매를 증류 제거하고, 잔류물을 아세트산에틸 100 ㎖ 에 녹여, 5 ％ 염산 100 ㎖ 로 세정하였다. 분액 후, 유기층을 황산마그네슘으로 건조시켰다. 감압하 용매를 증류 제거하고, 잔류물을 아세톤으로부터 재결정을 실시하였다. 결정을 여과하고, 감압하 건조시켜, 목적물을 백색의 결정으로서 얻었다 (4.0 g, 수율 60 ％). 융점 : 174 - 179 ℃
[실시예 5] 3-(3-페닐우레이도)페닐-4-메틸벤젠술포네이트 (화합물 번호 239) 의 합성
실시예 3 과 동일한 방법으로 얻어진 합성 중간체 1-(3-하이드록시페닐)-3-페닐우레아 4.6 g, 및 트리에틸아민 2.1 g 을 아세톤 50 ㎖ 중에 첨가하였다. 여기에, p-톨루엔술포닐클로라이드 4.0 g 을 첨가하고, 실온에서 3 시간 반응하였다. 반응 종료 후, 반응액에 1 ％ 염산을 첨가하고, 석출된 결정을 여과하였다. 얻어진 결정을 물로 잘 세정한 후에, 감압하 건조를 실시하여, 목적물을 백색의 결정으로서 얻었다 (7.0 g, 수율 91 ％). 융점 : 172 - 174 ℃
[실시예 6] 4-(3-페닐우레이도)페닐벤조에이트 (화합물 번호 311) 의 합성
p-아미노페놀 5.5 g 을 아세트산에틸 50 ㎖ 에 첨가하고, 5 ℃ 까지 냉각시켰다. 여기에, 이소시안산페닐 6.0 g 을, 온도가 10 ℃ 이상이 되지 않도록 적하하고, 그 상태의 온도에서 1 시간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 석출된 결정을 여과 채취하고, 아세톤 100 ㎖ 중에 첨가하였다. 여기에 40 ℃ 에서 벤조일클로라이드 7.0 g 을 적하하고, 30 분간 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 감압하 용매를 증류 제거하여, 목적물을 백색의 결정으로서 얻었다 (12.6 g, 수율 75 ％). 융점 : 215 - 216 ℃
(2) 감열 기록지의 제작 및 시험
1) 감열 기록지의 제작
[평가 샘플 3]
염료 분산액 (A 액)
3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
현색제 분산액 (B 액)
화합물 No. 1 (제 1 표 참조) 16 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 84 부
전료 분산액 (C 액)
소성 카올린 27.8 부
폴리비닐알코올 10 ％ 수용액 26.2 부
물 71 부
(부는 질량부)
먼저, A ∼ C 액의 각 조성의 혼합물을 각각 샌드 그라인더로 충분히 마쇄하여, A ∼ C 액의 각 성분의 분산액을 조제하고, A 액 1 질량부, B 액 2 질량부, C 액 4 질량부, 를 혼합하여 도포액으로 하였다. 이 도포액을 와이어 로드 (Webster 사 제조, 와이어 바 NO.12) 를 사용하여 백색지에 도포·건조시킨 후, 캘린더 걸기 처리를 하여, 감열 기록지를 제작하였다 (도포액은 건조 질량으로 약 5.5 g/㎡).
[평가 샘플 4 ∼ 24]
평가 샘플 3 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 화합물 No.1 대신에 제 1 표에 나타낸 각 화합물을 사용한 것 이외에는, 평가 샘플 3 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다. 또한, 평가 샘플 번호와 현색제의 관계를 제 2 표에 나타냈다.
[평가 샘플 1 및 2]
평가 샘플 3 의 현색제 분산액 (B 액) 중, 화합물 No.1 대신에, P-201 (평가 샘플 1), 또는 4,4'-BPS (평가 샘플 2) 를 사용한 것 이외에는, 평가 샘플 3 에 기재된 방법으로 감열지를 제작하였다. 평가 샘플 번호와 현색제의 관계를 제 2 표에 나타냈다.
여기서, P-201 은, N-p-톨루엔술포닐-N'-3-(p-톨루엔술포닐옥시페닐)우레아를, 4,4'-BPS 는, 4,4'-디하이드록시디페닐술폰을 의미한다.
2) 포화 발색 시험
평가 샘플 1 ∼ 24 에서 제작한 감열 기록지에 대하여, 감열지 발색 시험 장치 (오오쿠라 전기 제조 TH-PMD 형) 를 사용하여, 인자 전압 17 V, 펄스 폭 1.8 ㎳ 조건으로 바둑판 모양으로 포화 발색시켰다. 발색 후의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 2 표에 나타낸다.
Figure pct00049
제 2 표의 결과로부터, 본 발명의 화합물은 염료와 양호한 발색을 나타내고, 기존의 현색제인 P-201 및 4,4'-BPS 와 비교하여 손색 없는 발색을 나타낸 것이 판명되었다.
3) 바탕 내열성 시험
평가 샘플 1 ∼ 24 에 관해서, 시험 전후의 각 시험지에 대하여 이하의 각 조건으로 보존성 시험을 실시하였다. 그 결과를 제 3 표에 정리하여 나타냈다.
[시험 전]
평가 샘플 1 ∼ 24 로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 바탕의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 3 표에 나타낸다.
[내열성 시험]
평가 샘플 1 ∼ 24 로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 항온기 (상품명 : DK-400, YAMATO 제조) 중에서 온도 100 ℃ 에서 24 시간 유지하였다. 유지한 후의 바탕의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 3 표에 나타낸다.
Figure pct00050
제 3 표로부터, 본 발명품은, 시험 전의 발색이 없는 것으로부터 바탕 흐려짐이 없었다. 또한, 본 발명품은 바탕 내열성이 우수한 것이 판명되었다.
4) 화상의 보존성 시험
평가 샘플 1, 2, 8, 11 ∼ 13, 15, 17 ∼ 21, 23 에 관해서, 각 시험지에 대하여 이하의 조건으로 보존성 시험을 실시하였다. 그 결과로부터 판정한 평가를 제 4 표에 정리하여 나타냈다.
[시험 전]
평가 샘플 1, 2, 8, 11 ∼ 13, 15, 17 ∼ 21, 23 으로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 감열지 발색 시험 장치 (상품명 : TH-PMH 형, 오오쿠라 전기 제조) 를 사용하여, 인자 전압 17 V, 펄스 폭 1.8 ㎳ 의 조건으로 발색시켜, 발색 화상 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 4 표에 나타낸다.
[내열성 시험]
평가 샘플 1, 2, 8, 11 ∼ 13, 15, 17 ∼ 21, 23 으로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 시험 전과 동일하게 하여 포화 발색시켰다. 이어서, 각 시험지를 항온기 (상품명 : DK-400, YAMATO 제조) 중에서 온도 100 ℃ 에서 24 시간 유지하였다. 유지한 후의 바탕의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 4 표에 나타낸다.
[내가소제성 시험]
평가 샘플 1, 2, 8, 11 ∼ 13, 15, 17 ∼ 21, 23 으로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 시험 전과 동일하게 하여 포화 발색시켰다. 이어서, 각 시험지의 발색면 및 이면에 염화비닐 랩 필름 (가소제가 포함되어 있는 것) 을 밀착시키고, 그 상태인 채로, 40 ℃ 에서 4 시간 유지하였다. 시험 후의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 4 표에 나타낸다.
[내알코올성 시험]
평가 샘플 1, 2, 8, 11 ∼ 13, 15, 17 ∼ 21, 23 으로 제작한 감열 기록지의 일부를 잘라내어, 시험 전과 동일하게 하여 포화 발색시켰다. 이어서, 각 시험지를, 35 ％ 에탄올 용액에 25 ℃ 에서 1 시간, 침지시켰다. 시험 후의 광학 농도를 분광 측색계 (Spectroeye LT, X-rite 사 제조) 로 측정하였다. 그 결과를 제 4 표에 나타낸다.
Figure pct00051
제 4 표의 결과로부터, 본 발명품은, 화상의 내열성, 내가소제성 및 내알코올성이 양호하다는 것이 판명되었다.

Claims (4)

  1. 발색성 염료를 함유하는 기록 재료에 있어서, 하기 식 (I)
    Figure pct00052

    (식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
    R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
    n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
    벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
    n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
    로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것을 특징으로 하는 기록 재료.
  2. 지지체 상에, 제 1 항에 기재된 기록 재료로부터 형성되어 이루어지는 기록 재료층을 갖는 기록 시트.
  3. 하기 식 (I)
    Figure pct00053

    (식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
    R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
    n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
    벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
    n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
    로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 현색제에 사용하는 방법.
  4. 하기 식 (I)
    Figure pct00054

    (식 중, X 는 CH2, C=O, 또는 SO2 를 나타내고,
    R1 ∼ R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬카르보닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알콕시기, C2 ∼ C6 알케닐기, 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 플루오로알킬기, N(R4)2 기 (식 중, R4 는 수소 원자, 페닐기, 벤질기, 또는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), NHCOR5 기 (식 중, R5 는 직사슬, 분기 혹은 고리형의 C1 ∼ C6 알킬기를 나타낸다), 치환되어 있어도 되는 페닐기, 또는 치환되어 있어도 되는 벤질기를 나타내고,
    n1 및 n3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 5 의 어느 정수를 나타내고,
    벤젠 고리 상의 인접하는 R3 으로 나타내는 기의 2 개가 결합하여, 치환되어 있어도 되는 6 원 고리를 형성해도 되고,
    n2 는 1 ∼ 4 의 어느 정수를 나타낸다.)
    로 나타내는 화합물.
KR1020197034980A 2017-06-08 2018-06-01 기록 재료 및 화합물 KR102335292B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017113439 2017-06-08
JPJP-P-2017-113439 2017-06-08
PCT/JP2018/021290 WO2018225663A1 (ja) 2017-06-08 2018-06-01 記録材料及び化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200004838A true KR20200004838A (ko) 2020-01-14
KR102335292B1 KR102335292B1 (ko) 2021-12-06

Family

ID=64565873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020197034980A KR102335292B1 (ko) 2017-06-08 2018-06-01 기록 재료 및 화합물

Country Status (8)

Country Link
US (1) US11529819B2 (ko)
EP (1) EP3636446A4 (ko)
JP (1) JP6869344B2 (ko)
KR (1) KR102335292B1 (ko)
CN (1) CN110709255B (ko)
BR (1) BR112019025008A2 (ko)
TW (1) TWI672286B (ko)
WO (1) WO2018225663A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020040287A (ja) * 2018-09-11 2020-03-19 日本化薬株式会社 感熱記録材料
JP7411510B2 (ja) 2020-06-18 2024-01-11 日本製紙株式会社 感熱記録体
US20220184985A1 (en) * 2020-12-10 2022-06-16 Appvion Operations, Inc. Fade-Resistant Water-Dispersible Phenol-Free Direct Thermal Media
JP7321600B2 (ja) * 2021-10-29 2023-08-07 三光株式会社 新規な置換ヒドロキシ安息香酸エステル誘導体及びそれを用いた感熱記録材料

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09227495A (ja) 1996-02-16 1997-09-02 Tanabe Seiyaku Co Ltd フェノール誘導体及びその製法
JPH11268421A (ja) 1998-03-23 1999-10-05 Nippon Paper Industries Co Ltd 感熱記録体
JP2977888B2 (ja) * 1989-11-20 1999-11-15 イーストマン コダック カンパニー フェノール系シアン色素生成写真カプラー類の改良された合成方法
WO2000014058A1 (fr) 1998-09-04 2000-03-16 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Nouveau compose chromo-sensible
KR20000070172A (ko) * 1997-01-30 2000-11-25 데쯔오 도미나가 감광성 수지 조성물, 그의 패턴 제조 방법, 그를 사용하는 전자장치, 및 그의 제조 방법
WO2014080615A1 (ja) 2012-11-21 2014-05-30 日本曹達株式会社 非フェノール系化合物を用いた記録材料
WO2015002918A1 (en) * 2013-07-01 2015-01-08 Bristol-Myers Squibb Company Ido inhibitors

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3339043B2 (ja) 1994-06-27 2002-10-28 日本製紙株式会社 感熱記録体
JPH082112A (ja) 1994-06-27 1996-01-09 Nippon Paper Ind Co Ltd 感熱記録体
AU2003221366B2 (en) * 2002-03-14 2006-08-31 Nippon Soda Co., Ltd. Phenolic compound and recording material containing the same
ES2340179T3 (es) 2004-05-12 2010-05-31 Bristol-Myers Squibb Company Antagonistas de urea del receptor p2y1 utiles en el tratamiento de afecciones tromboticas.
US20090023731A1 (en) * 2007-03-22 2009-01-22 Arete Therapeutics, Inc. Soluble epoxide hydrolase inhibitors
GB2441020A (en) 2007-05-11 2008-02-20 Ciba Sc Holding Ag Heat sensitive coating
EP2060565A1 (en) 2007-11-16 2009-05-20 4Sc Ag Novel bifunctional compounds which inhibit protein kinases and histone deacetylases
JP5585868B2 (ja) 2010-03-10 2014-09-10 国立大学法人静岡大学 尿素化合物、尿素化合物の自己集合体ならびに自己集合体を含有するオルガノゲル及びその製造方法
BR112015018750B1 (pt) * 2013-02-13 2021-12-07 Oji Holdings Corporation Material de registro sensível ao calor
JP2016045242A (ja) * 2014-08-20 2016-04-04 株式会社村田製作所 電解液組成物、及び光学装置
JP6616682B2 (ja) 2015-12-25 2019-12-04 ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー 中心線決定装置、医用装置、およびプログラム
KR102493552B1 (ko) * 2015-12-25 2023-01-30 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 감열 기록 재료
JP2017165091A (ja) 2016-03-09 2017-09-21 日本化薬株式会社 感熱記録材料

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2977888B2 (ja) * 1989-11-20 1999-11-15 イーストマン コダック カンパニー フェノール系シアン色素生成写真カプラー類の改良された合成方法
JPH09227495A (ja) 1996-02-16 1997-09-02 Tanabe Seiyaku Co Ltd フェノール誘導体及びその製法
KR20000070172A (ko) * 1997-01-30 2000-11-25 데쯔오 도미나가 감광성 수지 조성물, 그의 패턴 제조 방법, 그를 사용하는 전자장치, 및 그의 제조 방법
JPH11268421A (ja) 1998-03-23 1999-10-05 Nippon Paper Industries Co Ltd 感熱記録体
WO2000014058A1 (fr) 1998-09-04 2000-03-16 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Nouveau compose chromo-sensible
WO2014080615A1 (ja) 2012-11-21 2014-05-30 日本曹達株式会社 非フェノール系化合物を用いた記録材料
WO2015002918A1 (en) * 2013-07-01 2015-01-08 Bristol-Myers Squibb Company Ido inhibitors
JP2016528197A (ja) * 2013-07-01 2016-09-15 ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニーＢｒｉｓｔｏｌ−Ｍｙｅｒｓ Ｓｑｕｉｂｂ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｉｄｏ阻害剤

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Bioorg. Med. Chem. Lett., 9 July 2001, 11, 13, 1671-1673.
J. Org. Chem., 1940, 05 (3), 300-312.
Russian J. Org. Chem., Sept. 2014, 50, 9, 1292-1300.
일본 공개특허공보 평8-2112호

Also Published As

Publication number Publication date
KR102335292B1 (ko) 2021-12-06
US11529819B2 (en) 2022-12-20
EP3636446A4 (en) 2021-03-10
EP3636446A1 (en) 2020-04-15
TWI672286B (zh) 2019-09-21
US20200086669A1 (en) 2020-03-19
BR112019025008A2 (pt) 2020-06-16
CN110709255A (zh) 2020-01-17
CN110709255B (zh) 2021-08-06
TW201902871A (zh) 2019-01-16
JPWO2018225663A1 (ja) 2020-04-02
WO2018225663A1 (ja) 2018-12-13
JP6869344B2 (ja) 2021-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5887423B2 (ja) 非フェノール系化合物を用いた記録材料
JP6869344B2 (ja) 記録材料及び化合物
JP6388459B2 (ja) 記録材料及び記録シート
KR102258134B1 (ko) 기록 재료 및 기록 시트
JP5258909B2 (ja) フェノール性化合物および記録材料
KR102266817B1 (ko) 기록 재료 및 기록 시트
JP6162204B2 (ja) フェノール性化合物を用いた記録材料
JP5607641B2 (ja) フェノール性化合物及び記録材料

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant