KR20190067096A - 코팅설비 - Google Patents

코팅설비 Download PDF

Info

Publication number
KR20190067096A
KR20190067096A KR1020180152999A KR20180152999A KR20190067096A KR 20190067096 A KR20190067096 A KR 20190067096A KR 1020180152999 A KR1020180152999 A KR 1020180152999A KR 20180152999 A KR20180152999 A KR 20180152999A KR 20190067096 A KR20190067096 A KR 20190067096A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
slot
chamber
purge device
coating
partition
Prior art date
Application number
KR1020180152999A
Other languages
English (en)
Inventor
슈안린 쉬
Original Assignee
베이징 아폴로 딩 롱 솔라 테크놀로지 씨오 엘티디
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 베이징 아폴로 딩 롱 솔라 테크놀로지 씨오 엘티디 filed Critical 베이징 아폴로 딩 롱 솔라 테크놀로지 씨오 엘티디
Publication of KR20190067096A publication Critical patent/KR20190067096A/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B16/00Spray booths
    • B05B16/60Ventilation arrangements specially adapted therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B16/00Spray booths
    • B05B16/40Construction elements specially adapted therefor, e.g. floors, walls or ceilings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/18Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area using fluids, e.g. gas streams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • B05B12/16Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling the spray area
    • B05B12/32Shielding elements, i.e. elements preventing overspray from reaching areas other than the object to be sprayed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/11Vats or other containers for liquids or other fluent materials
    • B05C11/115Sealing means for work inlet or outlet

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Reciprocating Pumps (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
  • Spray Control Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명에는 기재 표면을 코팅하는 코팅설비가 공개된다. 상기 코팅설비는 복수의 격리챔버와 복수의 대상재료 코팅챔버가 포함되며, 서로 인접하는 두개의 대상재료 코팅챔버 사이에는 적어도 하나의 격리챔버가 설치된다. 상기 코팅설비는 복수의 칸막이와 퍼지장치가 더 포함되며, 복수의 칸막이는 상기 코팅설비의 내부를 복수의 격리챔버와 복수의 대상재료 코팅챔버로 분리하며, 각 칸막이에는 슬롯이 설치되며, 기재는 슬롯을 통하여 대상재료 코팅챔버와 격리챔버 사이에서 이동되며, 퍼지장치는 격리챔버 내부에 설치되며, 슬롯을 통하여 대상재료 코팅챔버에 공기를 불어 넣는다.

Description

코팅설비{COATING APPARATUS}
본 발명은 코팅설비 분야에 관한 것이며, 특히 기체가 흩날림을 방지하는 기능을 갖춘 코팅설비에 관한 것이다.
코팅설비는 기재 필름층의 제조 공정 요구가 부동함에 따라, 기재를 순차적으로 복수의 코팅제조 챔버에 통과시켜, 순차적으로 상응하는 수급을 만족시키는 필름층을 제조할 필요가 있다. 각 필름층의 제조 요구가 부동함에 따라, 각 대상재료 코팅챔버내의 스퍼터링 분위기도 상응하게 조정한다. 마스터 스퍼터링 기체가 있을 경우, 수요에 따라 부동한 보조 스퍼터링 기체를 첨가 할 수 있으며 부동한 챔버의 코팅공정의 수요에 따라 O2,H2,N2와 같은 기체를 첨가 할 수 있다. 이와 같이, 각 대상재료 코팅챔버의 대상재료 및 스퍼터링 분위기도 부동하다. 기재를 코팅 할 경우 인접한 대상재료 코팅챔버의 기체가 기재의 전송통로를 통하여 흩날림으로써 필름층의 질량에 영향 주는 것을 방지하기 위하여 부동한 대상재료 코팅챔버 중의 분위기를 분리시켜 코팅질량을 보증할 필요가 있다.
도1은 현재 기술에 따른 코팅설비의 표면도이다. 도1에 제시된 바와 같이, 코팅설비는 부동한 대상재료 스퍼터링 공정의 요구에 따라 두개의 서로 연통된 가공챔버(100)가 구비되어 있다. 인접한 두개의 가공챔버(100) 사이에는 격리챔버(200)가 설치되며, 격리챔버(200)의 내부에는 분자펌프(300)가 설치되며, 분자펌프(300)는 격리챔버(200) 내에 날려 온 기체를 흡수하며, 격리챔버(200)의 양측에는 각각 하나의 널판밸브(400)가 챔버 사이의 도어 패널을 대체하여 설치됨으로써, 부동한 공정에 있어서 챔버의 기체를 격리시켰다. 이는 제조 가격이 비싸고 요구가 높으며 반드시 자동화 제어가 있어야 한다.
본 발명의 코팅설비는 관련기술에 존재하는 적어도 부분적인 기술과제를 해결한다. 본 발명에서 제공되는 코팅설비는 코팅설비의 각 챔버를 효율적으로 격리함으로써 챔버 사이에 기체가 흩날리는 것을 방지할 수 있어 코팅질량을 보증하며, 구조가 간단하고 제조 코스트가 낮은 장점을 구비한다.
본 발명은 기재 표면을 코팅하는 코팅설비를 제공한다.
상기 코팅설비는 복수의 격리챔버와 복수의 대상재료 코팅챔버, 복수의 칸막이, 퍼지장치를 포함하며, 서로 인접하는 두개의 상기 대상재료 코팅챔버 사이에는 적어도 하나의 상기 격리챔버가 설치되고, 복수의 상기 칸막이는 상기 코팅설비의 내부를 복수의 상기 격리챔버와 복수의 상기 대상재료 코팅챔버로 분리하며, 상기 칸막이에는 슬롯이 설치되며, 상기 기재는 상기 슬롯에 의하여 상기 대상재료 코팅챔버와 상기 격리챔버 사이에서 이동되며, 상기 퍼지장치는 상기 격리챔버 내부에 설치되며, 상기 슬롯에 의하여 상기 슬롯과 인접하는 상기 대상재료 코팅챔버에 공기를 불어 넣는다.
일부 실시예에 있어서, 상기 코팅설비의 인접하는 두개의 대상재료 코팅챔버는 제1대상재료 코팅챔버와 제2대상재료 코팅챔버를 포함하며, 상기 칸막이는 제1칸막이와 제2칸막이를 포함하며, 상기 슬롯은 제1슬롯과 제2슬롯을 포함하며, 상기 퍼지장치는 제1퍼지장치와 제2퍼지장치를 포함하며, 상기 제1칸막이는 상기 제1대상재료 코팅챔버와, 상기 제1대상재료 코팅챔버에 인접하는 상기 격리챔버의 사이에 설치되며, 상기 제1칸막이 위에는 상기 제1슬롯이 설치되며, 상기 제2칸막이는 상기 제2대상재료 코팅챔버와, 상기 제2대상재료 코팅챔버에 인접하는 상기 격리챔버의 사이에 설치되며, 상기 제2칸막이 위에는 상기 제2슬롯이 설치되며, 상기 제1퍼지장치는 상기 제1슬롯을 통하여 상기 제1대상재료 코팅챔버에 공기를 불어넣고, 상기 제2퍼지장치는 상기 제2슬롯을 통하여 상기 제2대상재료 코팅챔버에 공기를 불어넣는다.
일부 실시예에 있어서, 상기 코팅설비는 상기 제1칸막이에 접근하도록 상기 제1대상재료 코팅챔버 내부에 설치되는 제1펌프챔버와, 상기 제2칸막이에 접근하도록 상기 제2대상재료 코팅챔버 내부에 설치되는 제2펌프챔버를 더 포함하며, 상기 제1펌프챔버와 상기 제2펌프챔버 내에는 분자 펌프가 설치되고, 상기 제1퍼지장치가 상기 제1슬롯으로부터 불어 온 기체는 상기 제1펌프챔버 내의 분자 펌프에 흡수되고, 상기 제2퍼지장치가 상기 제2슬롯으로부 불어 온 기체는 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자 펌프에 흡수된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 격리챔버 내부에는 분자 펌프가 설치되며, 상기 격리챔버 내의 기체가 상기 격리챔버내의 상기 분자 펌프에 흡수된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제1퍼지장치는 상기 제1칸막이의 상기 격리챔버를 향한 면에 설치되고, 상기 제2퍼지장치는 상기 제2칸막이의 상기 격리챔버를 향한 면에 설치된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제1퍼지장치와 상기 제2퍼지 장치는, 상기 슬롯에 설치되는 터미널 플레이트, 상기 터미널 플레이트에 설치되고, 대응하는 상기 슬롯의 길이 방향에 따라 연장되는 기관, 상기 기관에 설치되는 노즐, 상기 기관과 가스소스를 연결하는 파이프라인 및, 상기 파이프라인에 설치되는 유량제어밸브를 포함하며, 상기 제1퍼지장치에 있어서, 제1퍼지장치와 대응하는 상기 슬롯은 제1슬롯이고, 상기 제2퍼지장치에 있어서, 제2퍼지장치와 대응하는 상기 슬롯은 제2슬롯이다.
일부 실시예에 있어서, 상기 기관은 상기 슬롯의 변두리를 에둘러서 설치된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 슬롯은 직사각형 모양 또는 원형 모양이다.
일부 실시예에 있어서, 상기 슬롯은 원형모양이고, 상기 기관은 원형의 상기 슬롯의 안쪽에 설치되는 이너기관과, 원형의 상기 슬롯의 바깥쪽에 설치되는 아우터기관을 포함한다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐은 상기 제1슬롯을 향하여 공기를 불어 넣고, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐의 중심축선은 상기 제1칸막이의 판면과 제1경사각을 이루고, 상기 제1경사각은 30-60도이며, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐의 출구는 제1퍼지장치에 인접한 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프가 위치하는 방향을 향한다.
일부 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제1경사각은 45도이다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐은 상기 제2슬롯을 향하여 공기를 불어 넣고, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐의 중심축선은 상기 제2칸막이의 판면과 제2경사각을 이루고, 상기 제2경사각은 30-60도이며, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐의 출구는 제2퍼지장치에 인접한 상기 제2펌프챔버 내의 분자펌프가 위치하는 방향을 향한다.
일부 바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2경사각은 45도이다.
일부 실시예에 있어서, 상기 노즐은 여러개 있으며, 복수의 상기 노즐은 상기 기관의 연장방향에 따라 균일하게 설치된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 터미널 플레이트는 상기 슬롯의 적어도 한 쪽에 위치하며, 상기 슬롯의 길이 방향에 따라 신축 함으로써, 상기 터미널 플레이트가 상기 슬롯을 덮는 면적을 조절할 수 있다.
일부 실시예에 있어서, 상기 기관과 상기 터미널 플레이트는 탈부착 가능하게 연결된다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제1슬롯의 내벽면과 상기 제2슬롯의 내벽면은 거친면이며, 상기 거치면의 거칠기 Ra는 6.3이상이다.
일부 실시예에 있어서, 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량은 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량과 동등하며, 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량과 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량의 합은 제1수치이고, 상기 격리챔버 내부의 상기 분자펌프의 수량은 제2수치이며, 상기 제1수치와 상기 제2수치는 동등하다.
본 발명의 제1 실시예에 있어서, 코팅설비의 인접하는 대상재료 코팅챔버 사이에 격리챔버를 설치하고, 격리챔버 내부에 퍼지장치를 설치하여, 상기 퍼지장치의 퍼지를 통하여 슬롯이 있는 곳에 기압장벽을 형성할 뿐만 아니라, 대상재료 코팅챔버로부터 슬롯의 내부에 흩날리는 기체를 대상재료 코팅 챔버 내로 불어 넣을수 있다. 이와 같이 코팅설비의 각 대상재료 코팅챔버를 효율적으로 격리하여, 대상재료 코팅챔버 사이에서 공기가 흩날리는 현상이 발생하는 것을 줄여, 코팅질량을 제고할 수 있다.
도1은 현재 기술에 따른 코팅설비의 평면도이다.
도2는 본 발명의 예시적 실시예에 따른 코팅설비의 평면도이다.
도3은 본 발명의 예시적 실시예에 따른 제1퍼지장치의 구조와 배치위치의 사시도이다.
도4는 본 발명의 예시적 실시예에 따른 제2퍼지장치의 구조와 배치위치의 사시도이다.
도5는 본 발명의 예시적 실시예에 따른 노즐과 제1칸막이 판면 사이의 협각의 설명도이다.
도6은 본 발명의 예시적 실시예에 따른 기관과 슬롯의 한 구조를 표시하는 설명도이다.
이하 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대하여 상세히 설명할 것이다. 첨부 도면에서 동일 또는 유사한 부호는, 동일 또는 유사한 부품이거나, 동일 또는 유사한 기능을 갖춘 부품을 표시한다. 이하 첨부 도면을 참조하여 설명하는 실시예는 예시적인 것으로써 본 발명을 해석할 뿐, 본 발명을 제한하는 것으로 해석 되어서는 안된다.
도2는 본 발명의 예시적 실시예에 따른 코팅설비의 평면도이다. 도2에 제시한 바와 같이 본 발명은 인접한 코팅 챔버사이에서 기체가 상호 흩날리는 현상이 발생하는 것을 줄이는 하나의 코팅설비를 제공한다. 상기 코팅설비는 복수의 격리챔버(3)와 복수의 대상재료 코팅챔버를 포함한다. 인접한 두개의 대상재료 코팅챔버 사이에는 적어도 하나의 격리챔버(3)가 설치되며, 예를 들면 하나 또는 두개의 격리챔버(3)을 설치함으로써 인접한 대상재료 코팅챔버 사이에 기체가 부동한 등급으로 분리되는 요구를 만족시킨다. 상기 코팅설비는 복수의 칸막이를 더 포함한다. 복수의 칸막이는 코팅설비의 내부를 복수의 격리챔버(3)와 복수의 대상재료 코팅챔버로 분리하며, 각 칸막이에는 모두 슬롯이 설치되며, 슬롯은 기재가 대상재료 코팅챔버와 격리챔버(3)사이에서 이동하는데 이용된다. 상기 코팅설비는 격리챔버(3) 내부에 설치되는 퍼지장치를 더 포함한다. 상기 퍼지장치는 슬롯을 통하여 상기 슬롯과 인접한 대상재료 코팅챔버에 공기를 불어 넣는다. 여기에서 말하는 《상기 슬롯과 인접한 대상재료 코팅챔버》는 상기 슬롯이 위치하는 칸막이와 직접 인접하는 대상재료 코팅챔버를 가리킨다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도2에 제시한 바와 같이, 상기 코팅설비에 있어서 인접한 두개의 대상재료 코팅 챔버는 제1 대상재료 코팅챔버(1)와 제2대상재료 코팅챔버(2)를 포함하며, 칸막이는 제1칸막이(5)와 제2칸막이(6)를 포함하며, 슬롯은 제1슬롯(7)과 제2슬롯(17)을 포함하며, 제1칸막이(5)는 제1대상재료 코팅챔버(1)와 제1대상재료 코팅챔버(1)에 인접한 격리챔버(3)의 사이에 설치되며, 제1칸막이(5)에는 제1슬롯(7)이 설치되고(도3참조), 제2칸막이(6)는 제2대상재료 코팅챔버(2)와 제2대상재료 코팅챔버(2)에 인접한 격리챔버(3)의 사이에 설치되며, 제2칸막이(6) 에는 제2슬롯(17)이 설치된다(도4참조). 제1슬롯(7)과 제2슬롯(17)은 제1대상재료 코팅챔버(1)와 제2대상재료 코팅챔버(2) 사이에서 기재의 전송통로로 사용된다. 제1퍼지장치(8)는 제1슬롯(7)을 통하여 상기 슬롯과 인접한 제1대상재료 코팅챔버(1)에 공기를 불어 넣고, 제2퍼지장치(18)는 제2슬롯(17)을 통하여 상기 슬롯과 인접한 제2대상재료 코팅챔버(2)에 공기를 불어 넣는다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 제1퍼지장치(8)에서 불어 나오는 기체의 구성은 제1대상재료 코칭챔버(1) 내의 기체의 구성과 같으며, 제2퍼지장치(18)에서 불어 나오는 기체의 구성은 제2대상재료 코칭챔버(2) 내의 기체의 구성과 같다. 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)에서 불어 나오는 기체가, 제1대상재료 코칭챔버(1) 와 제2대상재료 코칭챔버(2) 내의 기체에 대한 오염을 방지하기 위한 바람직한 실시예는, 제1퍼지장치(8)에 주입되는 기체와 제1대상재료 코팅챔버(1) 내의 마스터 스퍼터링 기체를 같은 기체로 설정하며, 제2퍼지장치(18)에 주입되는 기체와 제2대상재료 코팅챔버(2) 내의 마스터 스퍼터링 기체를 같은 기체로 설정한다. 또한, 제1칸막이(5)와 제2칸막이(6)는 동등한 구조를 갖춤으로써 제조를 편리하게 한다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도2에 제시된 바와 같이, 코팅설비는 제1펌프챔버(13), 제2펌챔버프(14)와 분자펌프(4)를 더 포함한다. 제1펌프챔버(13)는 제1칸막이(5)에 접근하도록 상기 제1 대상재료 코팅챔버(1) 내부에 설치되며, 제2펌프챔버(14)는 제2 칸막이(6)에 접근하도록 상기 제2대상재료 코팅챔버(2) 내부에 설치된다. 제1펌프챔버(13)와 제2펌프챔버(14) 내에는 분자펌프(4)가 설치되고, 제1퍼지장치(8)가 제1슬롯(7)으로부터 불어 온 기체는 제1펌프챔버(13) 내의 분자펌프(4)에 흡수되고, 제2퍼지장치(18(가 제2슬롯(17)으로부터 불어 온 기체는 제2펌프챔버(14)내의 분자 펌프(4)에 흡수된다. 분자펌프(4)를 설치하여 각각 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)에서 불어오는 기체를 흡수함으로써 기체가 대상재료 코팅챔버 내의 기체와 혼합하는 것을 피면할수 있고, 나아가서는 인접한 제1대상재료 코팅챔버(1)와 제2대상재료 코팅챔버(2) 사이에서 기체가 흩날리는 현상이 발생하는 것을 줄일 수 있다.
대상재료 코팅챔버와 격리챔버(3)의 사이에서 기재가 이동할 수 있도록 하기 위하여, 제1펌프챔버(13)와 격리챔버(3) 사이에 슬롯이 설치되고, 제2펌프챔버(14)와 격리챔버(3) 사이에도 슬롯이 설치된다. 본 발명의 실시예에 있어서 제1퍼지장치(8)를 설치함으로써 제1퍼지장치(8)에서 불어 나온 기체, 제1펌프챔버(13)로부터 제1슬롯(7)에 흩날린 기체가 모두 제1펌프챔버(13) 내에 흡수되고, 또한 제1펌프챔버(13) 내의 분자펌프(4)에 의하여 추출된다. 다른 한편으로 제1퍼지장치(8)의 기체퍼지는 제1슬롯(7)의 주위에 하나의 상대적으로 고압의 차폐구역을 형성함으로써 제1펌프챔버(13)가 위치하는 측의 기체가 제1슬롯(7)을 통하여 인접하는 격리챔버(3) 내에 흩날리는 것을 피면할 수 있다. 제2퍼지장치(18)와 제1퍼지장치(8)의 구조가 같고, 제2퍼지장치의 역할과 제1퍼지장치의 역할을 같으게 함으로써 제조를 편리하게 한다.
진일보 바람직한 실시예에 있어서, 도2에 제시된바와 같이, 격리챔버(3) 내에도 분자펌프(4)를 설치하며, 격리챔버(3)의 분자펌프(4)는 극단적인 조건하에서 제1대상재료 코팅챔버(1)와 제2대상재료 코팅챔버(2)로부터 격리챔버(3) 내에 흩날리는 소량의 기체를 흡수한다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도2에 제시된바와 같이, 제1퍼지장치(8)는 제1칸막이(5)의 격리챔버(3)를 향한 면에 위치하고, 제2퍼지장치(18)는 제2칸막이(6)의 격리챔버(3)를 향한 면에 위치한다. 바람직하게는 제1퍼지장치(8)는 바로 인접한 제1슬롯(7)에 설치되고(도3참조), 제2퍼지장치(18)는 바로 인접한 제2슬롯(17)에 설치된다(도4참조). 이렇게 설치함으로써, 제1퍼지장치(8)의 퍼지범위는 제1펌프챔버(13) 내의 분자펌프(4)의 흡수범위를 완전히 커버할 수 있고, 제2퍼지장치(18)의 퍼지범위는 제2펌프챔버(14) 내의 분자펌프(4)의 흡수범위를 완전히 커버할 수 있다. 또한 제1퍼지장치(8)는 격리챔버(3) 내의 기체를 제1펌프챔버(13) 외의 구역에 퍼지하지 않으며, 제2퍼지장치(18)는 격리챔버(3) 내의 기체를 제2펌프(14) 외의 구역에 퍼지하지 않는다. 제1퍼지장치(8)는 파스너 또는 자석 흡착부재에 의하여 제1칸막이(5)에 고정될 수 있고, 제2퍼지장치(18)는 파스너 또는 자석 흡착부재에 의하여 제2칸막이(6)에 고정될 수 있으며, 이렇게 함으로써 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)는 각각 단독 부재로써 탈부착할 수 있다. 본 발명에서 제공되는 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)의 고정방식은 여기에 한정되지 않으며, 격리챔버(3)의 내부에 추가로 브라켓을 설치하며, 브라켓을 통하여 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)를 지지할 수 있으며, 브라켓의 구체적인 설치 위치와 높이는, 제1퍼지장치(8)가 제1슬롯(7)에 대응되게 설치되고, 제2퍼지장치(18)가 제2슬롯(17)에 대응되게 설치된다면 본 분야 기술자는 경험에 근거하여 설정할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)는 공기를 부는 기능을 가진 임의의 장치를 사용할 수 있다. 격리효과를 보증하기 위하여, 본 실시예에서는 도3에 제시한 구조를 가진 제1퍼지장치(8)와 도4에 제시한 구조를 가진 제2퍼지장치(18)를 제공한다. 도3에 제시한 바와 같이, 제1퍼지장치(8)에는 터미널 플레이트(10), 기관(9), 파이프라인(15), 노즐(12) 및 유량제어밸브(11)가 포함된다. 터미널 플레이트(10)는 제1슬롯(7)에 설치되고, 기관(9)은 터미널 플레이트(10)에 설치되어, 제1 슬롯(7)의 길이 방향에 따라 연장되고, 노즐(12)은 기관(9)에 설치되고, 파이프라인(15)은 기관(9)과 가스소스(16)를 연결하며, 유량제어밸브(11)는 파이프라인(15)에 설치된다. 유량제어밸브(11)는 크기를 조절하여 진입하는 공기의 양을 조절함으로써 코팅공정의 요구를 만족시킨다. 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)는 동등한 구조로 구성됨으로써 편리하게 제조할 수 있다. 윗부분에서는 제1퍼지장치(8)에 대해서만 예를 들어 본 발명에서 제공되는 퍼지장치와 코팅설비에 대하여 설명하였다. 부동한 기능을 실현하기 위하여 제1퍼지장치(8)와 제2퍼지장치(18)는 부동한 구조로 구성될 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도3에 제시된바와 같이 터미널 플레이트(10)는 2개 이고, 나사를 통하여 각각 제1슬롯(7)의 길이 방향a의 양끝에 고정되며, 기관(9)은 2개의 터미널 플레이트(10)에 고정될 수 있다. 기관(9)의 급기단은 유량제어밸브(11)의 배기단과 연결되고, 유량제어밸브(11)의 급기단은 파이프라인(15)을 통하여 가스소스(16)와 연결된다. 이와 같이 유량제어밸브(11)를 통하여 기관(9)의 공기 공급양을 제어함으로써 비교적 양호하게 공기를 불어 넣는 효과를 실현할 수 있다.
상술한 바와 같이 터미널 플레이트(10)는 2개 이고, 각각 제1슬롯(7)의 양끝에 고정되며, 본 발명은 여기에 제한되지 않는다. 터미널 플레이트(10)는 1개 또는 3개 이상 일수 있다. 예를 들면 터미널 플레이트(10)가 1개 일 경우 기관(9)의 일단은 허공에 뜨게 설치되거나, 또는 터미널 플레이트(10)가 기관(9)의 저부로부터 기관(9)을 지지한다. 이와 같이 제1퍼지장치(8)에 사용되는 부재의 수량을 감소하여, 코스트를 낮출 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 터미널 플레이트(10)는 슬롯의 길이 방향a에 따라 신축 가능함으로써, 수요에 따라 터미널 플레이트(10)가 제1슬롯(7)을 덮는 면적을 조정할 수 있다. 이러한 구조로 구성된 터미널 플레이트(10)는 기체가 펌프에 취입될 때, 소량의 기체가 제1슬롯(7)의 단부로부터 격리챔버(3)에 진입하는 현상이 발생하는 것을 감소시킬 수 있다. 이와 같이 인접한 대상재료 코팅챔버 사이에서 기체가 서로 흩날리는 현상을 효과적으로 줄일 수 있다. 바람직하게는, 터미널 플레이트는 신축하는 실린더와 같은 구조로 구성됨으로써 신축을 실현할 수 있다. 본 발명의 예시적 실시예에 있어서, 기관(9)은 탈부착 가능하게 터미널 플레이트(10)에 삽입된다. 따라서, 기관(9)과 터미널 플레이트(10)는 단독부재로써 분리해 제조하고 분리해 교체할 수 있어, 제조와 교체의 복잡성을 저하시키고, 운수 또는 보관할 때 기관(9)과 터미널 플레이트(10)를 분리할 수 있어 점유공간을 줄일 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 기관(9)은 제1슬롯(7)을 에둘러서 설치되고, 바람직한 실시예는, 도3에 제시된 바와 같이, 기관(9)은 제1슬롯(7)의 에지를 따라 에둘러서 설치되어 폐합을 형성한다. 즉, 기관(9)은 제1슬롯(7)의 주위에 설치되여 고리형 모양을 형성하며, 상기 기관(9)의 궤적은 제1슬롯(7)의 에지궤적과 중첩되게 설치됨으로써 비교적 양호하게 공기를 불어 넣는 효과를 실현한다. 진일보, 기관(9)에 복수의 노즐(12)을 설치하며, 복수의 노즐(12)은 슬롯의 길이 방향에 따라 설치된다. 진일보로, 복수의 노즐은 동일한 간격으로 설치됨으로써 일부 기체가 흩날리는 것을 피면할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 고리형 모양의 기관(9)은 여러 단락의 기관을 조합하여 구성될 수 있다. 도3에 제시된 바와 같이, 고리형의 기관(9)은 직사각형 모양의 제1슬롯(7)의 주위에 배치된다. 이때, 고리형 모양의 기관(9)은 직사각형 모양의 제1슬롯(7)의 4개의 변에 대응하는 4단락의 서브기관이 조합하여 구성된다. 조합하여 구성된 기관(9)은 각 단락의 기관을 단독적으로 회전시킴으로써 노즐(12)의 배기 방향을 조절할 수 있다. 보는 바와 같이, 조합하여 구성된 기관(9)은 여러가지 공정상황에 적응됨으로써 비교적 양호하게 공기를 불어 넣는 효과를 실현한다. 고리형 모양 기관(9)의 서브기관 단락수는 제조와 조립이 편리하고 비교적 양호하게 공기를 불어 넣을 수 있다면 실제적인 응용에 근거하여 임의로 설치할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도5에 제시한 바와 같이, 제1칸막이(5)와 대응하는 제1퍼지장치의 노즐(12)은 제1슬롯(7)을 향해 공기를 불어 넣고, 상기 노즐(12)의 중심축선은 제1칸막이(5)의 판면과 제1경사각(협각) α를 형성하며, 제1경사각α은 30-60도이고 바람직하게는 45도이다. 제1슬롯(7)이 불어 온 기체가 되도록 빨리 분자펌프(4)에 의하여 추출될 수 있도록 하기 위하여 노즐(12)의 출구는 제1펌프챔버(13) 내의 분자펌프(4)가 위치한 방향을 향한다. 이와 같이 상기 노즐(12)은 수직방향과 수평방향에서 균등하게 제1슬롯(7)을 향해 공기를 불어 넣어, 가장 적당하게 공기를 불어 넣는 효과를 실현할 수 있다. 비슷하게, 제2칸막이(6)와 대응하는 노즐(12)은 제2슬롯(17)을 향해 공기를 불어 넣고, 노즐(12)의 중심축선은 제2칸막이(6)의 판면과 제2경사각을 형성하며, 제2경사각은 30-60도이고 바람직하게는 45도이다. 제2칸막이(6)와 대응하는 제2퍼지장치 노즐(12)의 출구는 제2펌프챔버(14) 내의 분자펌프(4)를 향한다.
본 발명의 예시적인 실시예에서, 도3에 제시된 바와 같이, 기관(9)은 제1슬롯(7)의 길이 방향에 따라 균등하게 설치된 복수의 노즐(12)을 구비한다. 노즐(12)을 균등하게 설치함으로써 기류맹점이 형성되는 것을 피면할 수 있으며, 대상재료 코팅챔버내의 기체가 흩어지는 것을 피면할 수 있다. 이러한 구조로 구성된 기관(9)을 사용하면 제조가 간단하고 코스트가 저하되며, 인접한 대상재료 코팅챔버 사이에서 기체가 흩날리는 현상을 효과적으로 감소시키며, 코팅질량을 향상시킬 수 있다.
이 외에, 본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 제1슬롯(7)의 내벽면은 샌드 블라스트 공정을 통하여 거친면을 조성함으로써 어느 정도 기체가 흩날리는 것을 완화시키는 작용을 일으킨다. 상기 거친면의 거칠기Ra는 6.3이상이며, Ra는 표면 거칠기의 계량 단위이다. Ra는 윤곽 산술평균 편차 또는 중심선 평균치라고도 한다. Ra는 윤곽상의 각 점의 높이가 측량길이 범위 내에서의 산술평균치이다. Ra로 거칠기의 등급을 표시하는 것은 국제적으로 통용하는 표면 거칠기의 계량방법이다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 도3에 제시된 바와 같이, 제1슬롯(7)은 직사각형 모양이며, 직사각형 모양의 슬롯은 판재 코팅에 사용되며, 본 발명에서는 여기에 제한되지 않는다. 제1슬롯(7)은 다른 적합한 모양일 수도 있다. 예를 들면, 도6에 제시된 바와 같이, 제1슬롯(7)은 원형 모양일 수도 있으며, 기관(9)은 제1슬롯(7)의 연장방향에 따라 2바퀴 설치되어, 원주형 모양의 대상재료에 적응된다. 이러할 때, 기관(9)은 이너기관(91)과 아우터기관(92)을 포함하는 2바퀴 기관으로 설치할 수 있으며, 이너기관(91)은 원형 제1슬롯(7)의 안쪽에 위치하고, 아우터기관(92)은 원형 모양 제1슬롯(7)의 바깥에 위치한다. 아우터기관에는 진일보 2바퀴의 노즐을 설치함으로써 원형 모양 슬롯에 의하여 흩어지는 기체가 비교적 많아 불어야 할 공기 양이 많은 정황에 적응할 수 있다. 도6에서는 기관(9)의 이너기관(91)과 아우터기관(92)을 명백하게 표시하기 위하여, 이너기관(91)과 아우터기관(92)에 균등하게 설치된 복수의 노즐12을 생략하였다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, 상술한 바와 같이, 제1펌프챔버(13), 제2펌프챔버(14), 격리챔버(3) 내의 기체는 각각 그것들의 내부에 설치된 분자펌프(4)에 의하여 추출된다. 격리효과를 보증하기 위하여, 도2에 제시된 바와 같이, 격리챔버(3)내에는 4개의 분자펌프(4)가 설치되고, 제1펌프챔버(13)와 제2펌프챔버(14) 내에는 균등하게 2개의 분자펌프(4)가 설치된다. 그 중의 한 실시예에서, 격리챔버(3) 내에 2개의 분자펌프(4)가 설치되고, 제1펌프챔버(13)와 제2펌프챔버(14) 내에 균등하게 1개의 분자펌프(4)가 설치된다. 격리효과를 보증하기 위하여, 상기 분자펌프(4)의 수량은 대상재료 코팅챔버의 넓이에 따라 상응하게 조절할수 있다. 또 다른 한 실시예에서, 상기 격리챔버(3) 내에 6개의 분자펌프(4)가 설치되고, 제1펌프챔버(13)와 제2펌프챔버(14) 내에 각각 3개의 분자펌프(4)가 설치된다. 격리챔버와 슬롯, 칸막이 사이의 기압 균형을 보증하기 위하여, 하나의 바람직한 실시예는, 제1펌프챔버(13)와 제2펌프챔버(14) 내의 분자펌프의 수량을 동등하게 하며, 양자의 합은 격리챔버 내의 분자펌프의 수량과 동등하다. 이러한 구조로 설계하는 것을 통하여, 대상재료 코팅챔버 사이에서 기체가 서로 흩날리는 현상을 감소하여, 코팅질량을 향상시킬수 있다.
이상의 실시방식은 본 발명의 원리를 설명하기 위하여 사용된 예시적인 실시방식일 뿐이며, 본 발명은 여기에 제한되지 않는다. 본 분야의 기술자는 본 발명의 구상과 실질을 벗어나지 않은 정황하에서 여러가지 변경과 개량을 할 수 있으며, 이러한 변경과 개량은 본 발명의 보호범위에 속한다.

Claims (18)

  1. 기재 표면을 코팅하는 코팅설비는, 복수의 격리챔버, 복수의 대상재료 코팅챔버, 복수의 칸막이, 퍼지장치를 포함하며,
    서로 인접하는 두개의 상기 대상재료 코팅챔버 사이에는 적어도 하나의 상기 격리챔버가 설치되고,
    복수의 상기 칸막이는 상기 코팅설비의 내부를 복수의 상기 격리챔버와 복수의 상기 대상재료 코팅챔버로 분리하며,
    상기 칸막이에는 슬롯이 설치되며, 상기 기재는 상기 슬롯에 의하여 상기 대상재료 코팅챔버와 상기 격리챔버 사이에서 이동되며,
    상기 퍼지장치는 상기 격리챔버 내부에 설치되며, 상기 슬롯을 통하여 상기 슬롯과 인접하는 상기 대상재료 코팅 챔버에 공기를 불어넣는 코팅설비.
  2. 제1항에 있어서, 상기 인접하는 두개의 대상재료 코팅챔버는 제1대상재료 코팅챔버와 제2대상재료 코팅챔버를 포함하며, 상기 칸막이는 제1칸막이와 제2칸막이를 포함하며, 상기 슬롯은 제1슬롯과 제2슬롯을 포함하며, 상기 퍼지장치는 제1퍼지장치와 제2퍼지장치를 포함하며,
    상기 제1칸막이는 상기 제1대상재료 코팅챔버와 상기 제1대상재료 코팅챔버에 인접하는 상기 격리챔버 사이에 설치되며, 제1칸막이 위에는 상기 제1슬롯이 설치되며,
    상기 제2칸막이는 상기 제2대상재료 코팅챔버와 상기 제2대상재료 코팅챔버에 인접하는 상기 격리챔버 사이에 설치되며, 제2칸막이 위에는 상기 제2슬롯이 설치되며,
    상기 제1퍼지장치는 상기 제1슬롯을 통하여 상기 제1대상재료 코팅챔버에 공기를 불어넣고, 상기 제2퍼지장치는 상기 제2슬롯을 통하여 상기 제2대상재료 코팅챔버에 공기를 불어넣는 코팅설비.
  3. 제2항에 있어서, 상기 코팅설비는
    상기 제1칸막이에 접근하도록 상기 제1대상재료 코팅챔버 내부에 설치되는 제1펌프챔버와,
    상기 제2칸막이에 접근하도록 상기 제2대상재료 코팅챔버 내부에 설치되는 제2펌프챔버를 더 포함하며,
    상기 제1펌프챔버와 상기 제2펌프챔버 내에는 모두 분자 펌프가 설치되고, 상기 제1퍼지장치가 상기 제1슬롯으로부터 불어 온 기체는 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자 펌프에 흡수되고,
    상기 제2퍼지장치가 상기 제2슬롯으로부터 불어 온 기체는 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자 펌프에 흡수되는 코팅설비.
  4. 제3항에 있어서, 상기 격리챔버 내부에는 분자 펌프가 설치되며, 상기 격리챔버 내의 기체가 상기 격리챔버 내의 상기 분자펌프에 흡수되는 코팅설비.
  5. 제2항에 있어서, 상기 제1퍼지장치는 상기 제1칸막이의 상기 격리챔버를 향한 면에 설치되고, 상기 제2퍼지장치는 상기 제2칸막이의 상기 격리챔버를 향한 면에 설치되는 코팅설비.
  6. 제2항에 있어서, 상기 제1퍼지장치와 상기 제2퍼지장치는,
    상기 슬롯에 설치되는 터미널 플레이트,
    상기 터미널 플레이트에 설치되고, 대응하는 상기 슬롯의 길이 방향에 따라 연장되는 기관,
    상기 기관에 설치되는 노즐,
    상기 기관과 가스소스를 연결하는 파이프라인 및,
    상기 파이프라인에 설치되는 유량제어밸브를 포함하며,
    상기 제1퍼지장치에 있어서 제1퍼지장치와 대응하는 상기 슬롯은 제1슬롯이고, 상기 제2퍼지장치에 있어서 제2퍼지장치와 대응하는 상기 슬롯은 제2슬롯인 코팅설비.
  7. 제6항에 있어서, 상기 기관은 상기 슬롯의 변두리를 에둘러서 설치되는 코팅설비.
  8. 제7항에 있어서, 상기 슬롯은 직사각형 모양 또는 원형 모양인 코팅설비.
  9. 제8항에 있어서, 상기 슬롯은 원형 모양이고, 상기 기관은
    원형의 상기 슬롯 안쪽에 설치되는 이너기관,
    원형의 상기 슬롯의 바깥쪽에 설치되는 아우터기관을 포함하는 코팅설비.
  10. 제6항에 있어서, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐은 상기 제1슬롯을 향하여 공기를 불어 넣고, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐의 중심축선은 상기 제1칸막이의 판면과 제1경사각을 형성하고, 상기 제1경사각은 30-60도이며, 상기 제1퍼지장치의 상기 노즐의 출구는 제1퍼지장치와 인접한 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프가 위치하는 방향을 향하는 코팅설비.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제1경사각은 45도인 코팅설비.
  12. 제6항에 있어서, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐은 상기 제2슬롯을 향하여 공기를 불어 넣고, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐의 중심축선은 상기 제2칸막이의 판면과 제2경사각을 형성하고, 상기 제2경사각은 30-60도이며, 상기 제2퍼지장치의 상기 노즐의 출구는 제2퍼지장치와 인접한 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자펌프가 위치하는 방향을 향하는 코팅설비.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제2경사각은 45도인 코팅설비.
  14. 제6항에 있어서, 상기 노즐은 여러개 있으며, 복수의 상기 노즐은 상기 기관의 연장방향에 따라 균일하게 설치되는 코팅설비.
  15. 제6항에 있어서, 상기 터미널 플레이트는 상기 슬롯의 적어도 한 쪽에 위치하며, 상기 슬롯의 길이 방향에 따라 신축 함으로써 상기 터미널 플레이트가 상기 슬롯을 덮는 면적을 조절할 수 있는 코팅설비.
  16. 제6항에 있어서, 상기 기관은 상기 터미널 플레이트와 탈부착 가능하게 연결되는 코팅설비.
  17. 제2항에 있어서, 상기 제1슬롯의 내벽면과 상기 제2슬롯의 내벽면은 거친면이며, 상기 거치면의 거칠기 Ra는 6.3 이상인 코팅설비.
  18. 제4항에 있어서, 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량은 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량과 동등하며, 상기 제1펌프챔버 내의 상기 분자펌프의 수량과 상기 제2펌프챔버 내의 상기 분자펌프 수량의 합은 제1수치이고, 상기 격리챔버 내부의 상기 분자펌프의 수량은 제2수치이며, 상기 제1수치와 상기 제2수치는 동등한 코팅설비.
KR1020180152999A 2017-12-06 2018-11-30 코팅설비 KR20190067096A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201721687021.0U CN207793414U (zh) 2017-12-06 2017-12-06 具有防气体飘逸功能的板材镀膜设备
CN201721687021.0 2017-12-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20190067096A true KR20190067096A (ko) 2019-06-14

Family

ID=63283209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180152999A KR20190067096A (ko) 2017-12-06 2018-11-30 코팅설비

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20190168249A1 (ko)
EP (1) EP3495535A1 (ko)
JP (1) JP2019098332A (ko)
KR (1) KR20190067096A (ko)
CN (1) CN207793414U (ko)
WO (1) WO2019109406A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020130209A1 (de) * 2020-11-16 2022-05-19 Applied Materials, Inc. Vakuumprozesssystem, Stützstruktur und Verfahren zum Transportieren eines Substrats
CN112746260B (zh) * 2020-12-30 2023-02-28 湖南柯盛新材料有限公司 一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备
CN115254482B (zh) * 2022-08-11 2023-08-04 重庆科技学院 一种用于检测sf6吸附剂浸出液的喷雾装置和喷雾调控方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4545136A (en) * 1981-03-16 1985-10-08 Sovonics Solar Systems Isolation valve
JPH02148715A (ja) * 1988-11-29 1990-06-07 Canon Inc 半導体デバイスの連続形成装置
CN2067711U (zh) * 1989-05-06 1990-12-19 中科院上海硅酸盐研究所 多室连续处理设备的空间气体隔离装置
JP2975151B2 (ja) * 1991-03-28 1999-11-10 キヤノン株式会社 半導体素子の連続的製造装置
US5374313A (en) * 1992-06-24 1994-12-20 Energy Conversion Devices, Inc. Magnetic roller gas gate employing transonic sweep gas flow to isolate regions of differing gaseous composition or pressure
US5946587A (en) * 1992-08-06 1999-08-31 Canon Kabushiki Kaisha Continuous forming method for functional deposited films
DE4313284A1 (de) * 1993-04-23 1994-10-27 Leybold Ag Spaltschleuse für das Ein- oder Ausbringen von Substraten von der einen in eine benachbarte Behandlungskammer
JP4668088B2 (ja) * 2005-10-14 2011-04-13 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
DE102010022277A1 (de) * 2010-05-31 2011-12-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur Reaktivgastrennung in in-line-Beschichtungsanlagen
CN102534538A (zh) * 2010-12-17 2012-07-04 上海空间电源研究所 一种真空腔室间气氛隔离装置
CN102506570B (zh) * 2011-11-03 2013-10-23 北京太阳能电力研究院有限公司 气刀
DE102014106451B4 (de) * 2014-05-08 2018-09-20 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Vakuumkammergehäuse
DE102014116696B4 (de) * 2014-11-14 2016-10-20 Von Ardenne Gmbh Vakuumkammer und Verfahren zum Betreiben einer Vakuumprozessieranlage
US20180245214A1 (en) * 2015-08-18 2018-08-30 Tata Steel Nederland Technology B.V. Method and apparatus for the cleaning and coating of metal strip

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019109406A1 (zh) 2019-06-13
US20190168249A1 (en) 2019-06-06
JP2019098332A (ja) 2019-06-24
CN207793414U (zh) 2018-08-31
EP3495535A1 (en) 2019-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20190067096A (ko) 코팅설비
TWI431229B (zh) Clean room
EP2343959B1 (en) Cooler and display device having the same
US6132309A (en) Modular clean room plenum
CN1948107B (zh) 薄板状材料输送用气动工作台以及薄板状材料输送装置
WO2013148473A1 (en) Shared gas panels in plasma processing chambers employing multi-zone gas feeds
JP2007518193A (ja) 空気分配装置を備えるコンピュータ装置用キャビネット
US20210095874A1 (en) Booth and ejecting device
CN103998647A (zh) 用于带状基底的多层涂层装置以及带状基底真空涂层设备
JP2008275233A (ja) 温調用ブース
CN104451583A (zh) 磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备
JPH10148368A (ja) クリーンルーム用空気吹出装置
KR102458733B1 (ko) 플라즈마 처리 장치
TWI795808B (zh) 氣體流量調節裝置、氣體流量調節方法及電漿處理裝置
JP6888159B2 (ja) チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計
KR20190077244A (ko) 플레이트 코팅 장치
JP4811800B2 (ja) 低露点のクリーンルーム装置
KR100887583B1 (ko) 공조 장치
JPS62182541A (ja) クリ−ンル−ム
JPH11253732A (ja) クリーンルーム
TWI789866B (zh) 送風系統及其控制方法
CN219087374U (zh) 静电消除机构及显示面板加工设备
JPH09120939A (ja) 基板の熱処理方法及び装置
RU2303200C2 (ru) Технологический блок чистых помещений
JP4721531B2 (ja) 空調設備、及び、この設備を用いた精密品製造方法