KR20180130179A - 자기치유성 고분자 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물은, 제1 가역반응기를 갖는 다수의 고분자와, 상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 갖고, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 가교제를 포함하되, 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 한다.

Description

자기치유성 고분자 화합물 및 이의 제조방법{Self-Healing Polymer and fabricating method of the same}
본 발명은 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물에 관한 것으로, 보다 구체적으로 별도의 화학적 처리없이 손상부위에 열을 가하여 손상된 부분을 치유하는 자기치유성 고분자 화합물에 관한 것이다.
일반적으로 휴대전화 등의 전자기기, 렌즈, 광학 스크린, 광학 필터, 프리즘 시트 등의 광학적 기능성 제품 및 가전제품 등의 많은 상업적 제품들은 열경화성 또는 열가소성 중합체로 제조되고 있다. 예를 들어, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 페놀수지, 셀룰로오스수지, 폴리스티렌, 스티렌공중합체, 에폭시수지 등으로 제조되고 있다. 그러나 상기와 같은 많은 열경화성 및 열가소성 중합체들은 치수 안정성, 투명성 및 내충격성 등이 탁월하지만 내마모성 및 내용제성이 약하여 상기 중합체로부터 만들어진 제품은 긁힘이나 마모 등에 취약하다. 제품 표면의 긁힘이나 외부 충격에 균열은 제품의 외관 특성, 주요 성능 및 수명을 저하시키게 되므로 제품 표면을 보호하여 장기적인 제품의 품질 유지하기 위하여 상기한 수지제품들은 표면에 내마모성의 하드코팅(hard coating)을 하고 있다.
그러나 도막의 표면 경도를 크게 함으로써 내스크래치성을 향상시키는 방법은 도막의 표면 경도의 향상시키는데 한계가 있으며, 무기물을 이용한 방법이 연구되고 있으나 이는 광학필름에 적용했을시 사용된 무기물에 의한 광투과율의 저하와 도막의 외관이 문제가 되고 있다. 또한, 표면 경도를 크게 하더라도 한번 상처가 나면 그 상처가 복구되지 않는 문제가 있으며, 장기간 사용하면 도막의 분열 또는 박리가 발생하는 문제가 있다.
자기치유성을 갖는 코팅 소재는 표면 손상시에도 추가적인 코팅이나 수리 과정이 필요 없으며 제품의 외관특성 및 성능 유지에 상당히 유리하기 때문에 최근 활발한 연구가 진행되고 있다.
기존의 스크래치 치유 코팅제에서는 폴리우레탄 타입의 소프트필 도료가 스크래치 복원 코팅제로서 산업현장에서 응용되어져 왔으나 외력에 의한 내스크래치 및 스크래치 복원성능이 약하기 때문에 자기치유 복원 물성이 필요로 하는 스크래치 치유 코팅제로의 역할로서는 매우 제한적이었다.
공개특허공보 제10-2013-0087655호
본 발명은 손상에 대해 자기치유가 가능한 고분자 화합물에 관한 것으로, 손상부위에 대한 별도의 화학적 처리없이 열을 가하는 방법만으로도 치유가 가능한 고분자 화합물을 제공하는 것이다. 특히, 가역적인 반응을 통해, 수회 손상이 이루어져도 반복적으로 치유가 가능한 고분자 화합물을 제공한다.
본 발명의 다른 목적 및 이점은 하기의 발명의 상세한 설명, 청구범위 및 도면에 의해 보다 명확하게 된다.
상기 해결하려는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물은, 제1 가역반응기를 갖는 다수의 고분자와, 상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 갖고, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 가교제를 포함하되, 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 한다.
손상이 발생된 경우, 제1 온도에서 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기를 서로 분리시키고, 제2 온도에서 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기를 서로 결합시킨다.
상기 제1 온도가 상기 제2 온도보다 높다.
상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 딜스-알더(Diels-Alder) 반응에 의해 정반응과 역반응을 한다.
상기 제1 가역반응기는 퓨란 또는 씨클로펜타디엔이다.
상기 제2 가역반응기는 말레이미드(maleimide) 또는 씨클로펜타디엔이다.
상기 고분자는 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 물질이다.
[화학식 5]
Figure pat00001
[화학식 6]
Figure pat00002
상기 가교제는 하기 화학식 7로 표시되는 물질이다.
[화학식 7]
Figure pat00003
상기 화학식 6의 고분자가 상기 화학식 5의 고분자에 비해 치유효율이 더 우수하다.
상기 해결하려는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물의 제조방법은, 제1 가역반응기를 포함하는 다수의 고분자를 준비하는 단계와, 상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 포함하는 가교제를 이용하여, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 단계를 포함하되, 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 한다.
본 발명은 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물에 관한 것으로, 별도의 화학적 처리없이 손상부위에 열을 가하여 손상된 부분을 치유하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물이 손상시 치유되는 과정을 나타낸 것이다.
도 3은 손상과 치유에 대한 실험결과를 나타낸 사진이다.
도 4a는 화학식 5의 고분자를 기반으로 제조된 자기치유성 고분자 화합물의 치유후 인장강도를 나타낸 것이다.
도 4b는 화학식 6의 고분자를 기반으로 제조된 자기치유성 고분자 화합물의 치유후 인장강도를 나타낸 것이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 아래 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 상세히 설명한다. 도면에 관계없이 동일한 부재번호는 동일한 구성요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 자기치유성 고분자 화합물 및 이의 제조방법을 설명한다. 본 발명은 자기치유성 고분자 화합물에 관한 것으로, 상기 고분자 화합물은 손상시 자기치유가 가능하다. 즉, 손상 부위에 열을 가하면, 상기 고분자 화합물은 역반응과 정반응을 통해 본래 상태의 물질로 회복될 수 있다. 이에 대해 보다 자세한 설명을 후술한다.
먼저, 본 발명의 일 실시예에 의한 자기치유성 고분자 화합물을 설명한다. 본 발명의 실시예에 의한 고분자 화합물은 제1 가역반응기를 갖는 다수의 고분자와, 상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 갖고, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 가교제를 포함할 수 있다. 이때, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 할 수 있다.
본 발명에서 사용되는 고분자는 예를 들어, 아크릴계 고분자일 수 있다. 즉, 고분자는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 및 글리시딜(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 단량체를 중합하여 형성할 수 있다.
한편, 본 발명의 고분자는 두 가지 이상의 단량체를 이용하여 공중합체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 고분자 필름으로 제작될 때, 유연성을 갖도록 하기 위해 공중합체로 형성될 수 있다. 또한, 후술할 제1 가역반응기를 포함하는 단량체와도 공중합을 할 수 있다.
제1 가역반응기는 하기 화학식 1에 표시된 화합물 중 어느 하나일 수 있다. 즉, 제1 가역반응기는 퓨란(furan) 또는 씨클로펜타디엔일 수 있다. 제1 가역반응기는 후술할 가교제에 포함된 제2 가역반응기와 결합 및 분리될 수 있다. 즉, 제1 가역반응기는 제2 가역반응기와 정반응을 통해 결합될 수 있다. 이에 의해, 제1 가역반응기를 포함한 고분자간에 가교 결합이 발생될 수 있다.
[화학식 1]
Figure pat00004
,
Figure pat00005
고분자는 상술한 제1 가역반응기를 포함할 수 있는데, 이를 위해, 고분자를 이루는 단량체와 제1 가역반응기를 포함하는 단량체가 서로 공중합될 수 있다.
제1 가역반응기를 포함하는 다수의 고분자 각각을 가교시키는 가교제는 제2 가역반응기를 포함할 수 있다. 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 할 수 있다. 제1 가역반응기와 제2 가역반응기의 정반응과 역반응을 통해 자기치유성 고분자 화합물의 손상과 복구가 이루어질 수 있다. 이러한 제2 가역반응기는 하기 화학식 2에 표시된 화합물 중 어느 하나일 수 있다. 즉, 제2 가역반응기는 말레이미드(maleimide) 또는 씨클로펜타디엔일 수 있다
[화학식 2]
Figure pat00006
,
Figure pat00007
한편, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 딜스-알더 반응 (Diels-Alder reaction)에 의해 정반응(결합)과 역반응(분리)을 할 수 있다. 즉, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 열에 의해서 폴리머가 형성되는 딜스-알더 반응 (Diels-Alder reaction) 또는 반대로 폴리머가 분해되는 역-딜스-알더 반응 (Retro-Diels-Alder reaction) 등을 한다. 이에 의해, 본 발명의 자기치유성 고분자 화합물은 손상시 별도의 화학적 처리없이 열에 의해서 치유가 가능하다.
계속해서, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기의 반응을 예시적으로 설명한다. 먼저, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기가 각각 씨클로펜타디엔(cyclopentadiene)인 경우이다.
[화학식 3]
Figure pat00008
즉, 고분자의 제1 가역반응기가 씨클로펜타디엔, 가교제의 제2 가역반응기도 씨클로펜타디엔일 수 있다. 이때, 정반응에 의해 씨클로펜타디엔이 서로 결합하여 가교제에 의해 고분자간의 가교결합이 유도될 수 있다.
반면에, 역반응에 의해 제1 가역반응기와 제2 가역반응기가 분리되며, 고분자간의 가교결합이 분리될 수 있다. 이때 역반응은 150℃내지 170℃의 온도분위기에서 수행될 수 있다.
또한, 예를 들어, 하기 화학식 4를 참고하면 제1 가역반응기는 퓨란(furan)이고, 제2 가역반응기는 말레이미드(maleimide)인 경우이다.
[화학식 4]
Figure pat00009
고분자의 제1 가역반응기가 퓨란, 가교제의 제2 가역반응기는 말레이미드일 수 있다. 이때, 정반응에 의해 퓨란과 말레이미드가 서로 결합하여 가교제에 의해 고분자간의 가교결합이 유도될 수 있다.
반면에, 역반응에 의해 제1 가역반응기와 제2 가역반응기가 분리되며, 고분자간의 가교결합이 분리될 수 있다. 이때 역반응은 150℃내지 170℃의 온도분위기에서 수행될 수 있다.
한편, 본 발명의 자기치유성 고분자 화합물에 사용된 고분자는 하기의 화학식 5 및 6일 수 있다.
[화학식 5]
Figure pat00010
[화학식 6]
Figure pat00011
한편, 개시제는 하기 화학식 7의 물질일 수 있다.
[화학식 7]
Figure pat00012
화학식 5 및 6의 퓨란기가 제1 가역반응기로, 개시제 양단의 말레이미드가 제2 가역반응기로 작용한다. 고분자에 포함된 퓨란이 개시제 일단의 말레이미드와 결합되고, 다른 고분자에 포함된 퓨란과 개시제 타단의 말레이미드가 결합하여 고분자간의 가교가 이루어진다. 반면에, 손상이 발생된 경우, 퓨란과 말레이미드를 서로 분리시킨 후, 퓨란과 말레이미드를 재결합시켜 손상부위의 치유를 도모할 수 있다.
보다 구체적으로, 하기 화학식 8은 딜스-알더 반응에 의해 본 발명의 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물의 합성 및 치유를 위해 분리되는 반응을 나타내었다.
[화학식 8]
Figure pat00013
다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물의 제조방법을 설명한다.
먼저, 자기치유성 고분자 화합물을 이루는 고분자를 준비한다(S10). 고분자는 제1 가역반응기를 포함할 수 있고, 예를들어 메틸기가 가지로 포함될 수 있다.
고분자는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 및 글리시딜(메타)아크릴레이트를 제1 단량체로, 제1 가역반응기인 퓨란 또는 씨클로펜타디엔을 포함하는 화합물을 제2 단량체로하여 공중합체로 중합되어 형성될 수 있다. 중합시, 중합개시제가 사용될 수 있고, 중합개시제로는 아조비스아이소부틸로나이트릴(Azobisisobutyronitrile, AIBN)이 사용될 수 있다.
준비된 고분자는 예를 들어 하기 화학식 5 및 6의 물질일 수 있다.
[화학식 5]
Figure pat00014
[화학식 6]
Figure pat00015
계속해서, 중합된 고분자와 개시제를 이용하여 준비된 고분자를 가교시켜 자기치유성 고분자 화합물을 제조한다(S20). 가교제는 상술한 바와 같이, 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 포함할 수 있다. 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 한다. 즉, 제1 가역반응기와 제2 가역반응기는 딜스-알더(Diels-Alder) 반응을 통해 결합 및 분리반응을 할 수 있다.
이러한, 제2 가역반응기는 말레이미드(maleimide) 또는 씨클로펜타디엔일 수 있으며, 가교제는 고분자를 서로 가교시킬 수 있도록 제2 가역반응기를 일단과 타단에 포함할 수 있다.
이러한 가교제의 예로는 하기 화학식 7의 물질일 수 있다. 하기 화학식 7은 말레이미드가 양단에 위치하는 비스말레이미드이다.
[화학식 7]
Figure pat00016
가교반응에 의해 본 발명의 일실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물이 형성될 수 있다. 이는 하기 화학식 8에 나타내었다.
[화학식 8]
Figure pat00017
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 요지에 따라 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명할 것이다.
실시예 - 고분자 합성을 위한 단량체 합성
상술한 화학식 5의 고분자를 합성하기 위하여, 단량체를 형성하였다.
먼저 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 1g, 2-퓨로일 클로라이드 1g 그리고 피리딘 1g을 메틸렌 클로라이드 200ml에 용해시킨 후, 24시간 상온 25℃에서 교반을 통해 반응시켰다. 반응 완료 후 반응을 통해 생성된 염산은 피리딘에 의해 염으로 생성되어 필터링으로 제거하였다. 그리고 메틸렌 클로라이드와 증류수로 여러 번 추출과정을 통해 높은 순도의 단량체를 얻었다.
한편, 상술한 화학식 6의 고분자를 합성하기 위하여, 단량체를 형성하였다. 2-이소시아네이토 에틸 메타크릴레이크 1g과 퍼퓨릴 알코올 1g, 그리고 주석 촉매 0.3g을 클로로포름 200ml에 용해시킨 후 우레탄 반응을 진행하였다. 반응은 50℃에서 24시간동안 교반하면서 진행 되었고 메틸렌클로라이드와 증류수를 이용한 추출과정을 통해 정제하였다.
실시예 - 단량체를 이용한 고분자 중합
합성한 두 가지 단량체는 각각 고분자로 중합되었다. 중합은 아조비스아이소부틸로나이트릴(AIBN)을 개시제로 사용하였고, 모든 중합은 테트라하이트로퓨란을 용매로 하여 환류 상태에서 4-5시간동안 진행하였다. 중합 완료 후에는 용액을 노르말헥산에 여러 번 침전시켜 고분자만을 얻었다. 폴리에틸렌글리콜메틸이써메타크릴레이트가 고분자 필름 제작 시 유연성을 가지도록 하기 위해 공중합체로 도입되었고, 퓨란작용기 단량체 메틸기를 6:4의 비율로 중합하였다.
실시예 - 고분자 및 가교제를 이용한 자기치유성 고분자 화합물의 제조
고분자 중합 완료 후 각 고분자를 비스말레이미드(1,1‘-(methylenedi-4,1-phenylene)bismaleimide)와 함께 N,N-디메틸포름아마이드에 10wt%가 되도록 완전히 용해 시킨 후 틀에 붓고, 130℃에서 용매를 제거한 후, 24시간동안 50℃에서 가교 반응인 딜스-알더(Diels-Alder) 반응을 진행하여 가교된 자가치유 고분자 필름을 얻었다.
실험예 - 자기치유성 고분자 화합물의 치유력 평가
도 2를 참조하면, 이렇게 얻은 필름의 치유과정은 필름에 면도날을 이용해 손상을 입힌 후, 130℃에서 1시간동안 가열 후 섭씨 50℃에서 다시 가교반응을 진행하였다. 이러한 실험을 통해 본 발명에 의한 자기치유성 고분자 화합물의 자기치유성을 확인하였다.
도 3에, 손상되지 않은 상태, 손상되어있는 상태, 손상 후 한번 치유한 상태를 나타내었다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 자기치유성 고분자 화합물은 별도의 화학적 처리 없이 온도조건의 변화만으로도 손상에 대한 치유력이 있음을 알 수 있었다.
또한, 만능재료 시험기를 사용하여 인장강도를 측정한 후, 치유효율을 계산하였다. 이러한 결과를 도 4에 나타내었다.
도 4a는 화학식 5의 고분자를 기반으로 제조된 자기치유성 고분자 화합물이고, 도 4b는 화학식 6의 고분자를 기반으로 제조된 자기치유성 고분자 화합물이다.
도 4a를 참조하면, 1회 손상시에는 손상되지 않았을 경우에 비하여 36.09%의 인장강도를 나타내었고, 2회 손상시에는 손상되지 않았을 경우에 비하여 17.49%의 인장강도를 나타내었다.
한편, 도 4b를 참조하면, 1회 손상시에는 손상되지 않았을 경우에 비하여 91.09%의 인장강도를 나타내었고, 2회 손상시에는 손상되지 않았을 경우에 비하여 36.93%의 인장강도를 나타내었다.
전제적으로, 화학식 6의 고분자가 화학식 5의 고분자에 비하여 치유 효율이 우수하게 나타났다. 이는 화학식 6의 경우, 제1 가역반응기인 퓨란기와 이웃하여 카르보닐기가 위치함으로써, 화학식 5에 비하여 퓨란기 주변에서 상대적으로 높은 전자밀도를 갖기 때문에, 치유력의 면에서도 우수한 효과가 나타났음을 알 수 있었다.
본 발명은 단순히 자가 치유가 가능한 물질을 합성하는 것이 아니라 고분자 내에 가역반응기를 이용해 가교를시켜 별도의 화학적인 처리없이 손상된 물질을 회복시킬 수 있다. 또한, 가역반응기 주변에 다양한 작용기를 결합시킴으로써, 전자밀도를 변화시켜 치유 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 따른 자기치유성 고분자 화합물은 고분자 소재를 사용하는 여러 분야에 적용이 가능하며, 휴대폰, 자동차, 건축 내장재와 같이 외관이 중요하고 실생활에 많이 쓰이는 분야에서부터 건물, 인공위성과 같이 사람이 직접 수리가 힘든 분야 까지 활용이 가능하다.
이상 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (10)

  1. 손상시 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물에 있어서,
    제1 가역반응기를 갖는 다수의 고분자;
    상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 갖고, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 가교제를 포함하되,
    상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 하는 자기치유성 고분자 화합물.
  2. 제1 항에 있어서,
    손상이 발생된 경우,
    제1 온도에서 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기를 서로 분리시키고,
    제2 온도에서 상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기를 서로 결합시켜, 상기 손상이 치유되는 자기치유성 고분자 화합물.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 온도가 상기 제2 온도보다 높은 자기치유성 고분자 화합물.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 딜스-알더(Diels-Alder) 반응에 의해 정반응과 역반응을 하는 자기치유성 고분자 화합물.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 가역반응기는 퓨란 또는 씨클로펜타디엔인 자기치유성 고분자 화합물.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제2 가역반응기는 말레이미드(maleimide) 또는 씨클로펜타디엔인 자기치유성 고분자 화합물.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 고분자는 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 물질인 자기치유성 고분자 화합물.
    [화학식 5]
    Figure pat00018

    [화학식 6]
    Figure pat00019
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 가교제는 하기 화학식 7로 표시되는 물질인 자기치유성 고분자 화합물.
    [화학식 7]
    Figure pat00020
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 화학식 6의 고분자가 상기 화학식 5의 고분자에 비해 치유효율이 더 우수한 자기치유성 고분자 화합물.
  10. 손상기 자기치유가 가능한 자기치유성 고분자 화합물의 제조방법에 있어서,
    제1 가역반응기를 포함하는 다수의 고분자를 준비하는 단계;
    상기 제1 가역반응기와 결합하는 제2 가역반응기를 포함하는 가교제를 이용하여, 상기 다수의 고분자 각각을 가교시키는 단계;를 포함하되,
    상기 제1 가역반응기와 상기 제2 가역반응기는 서로 결합하는 정반응과 서로 분리되는 역반응을 하는 자기치유성 고분자 화합물의 제조방법.
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