KR20180125834A - Heating device of distribution-tube and deposition equipment with it - Google Patents

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KR20180125834A KR1020170060662A KR20170060662A KR20180125834A KR 20180125834 A KR20180125834 A KR 20180125834A KR 1020170060662 A KR1020170060662 A KR 1020170060662A KR 20170060662 A KR20170060662 A KR 20170060662A KR 20180125834 A KR20180125834 A KR 20180125834A
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Abstract

According to the present invention, a heating device of a distribution tube and position equipment having the same are provided to heat a distribution tube formed with a flat structure in which a horizontal cross-section area is larger than a vertical cross-section area to distribute an evaporated material that is evaporated in a crucible to a plurality of nozzles. The heating device comprises: a heater spaced at a predetermined distance in the distribution tube, and arranged along an external circumference of the distribution tube; and a heater support means provided at an external side of the distribution tube to support the heater. Therefore, the distribution tube can be concentrically heated at an appropriate temperature, and at the same time, is uniformly heated at a constant temperature to improve heating performance of the distribution tube.

Description

분배 튜브의 히팅 장치 및 그것을 구비한 증착 장비{Heating device of distribution-tube and deposition equipment with it}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a heating apparatus for a distribution tube and a deposition apparatus having the same,

본 발명은 OLED 등을 제조하는 증착 장비에 관한 것으로서, 특히 다수의 노즐에 증착 물질을 분배하여 제공하는 분배 튜브와 이를 가열하는 히팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition apparatus for manufacturing an OLED and the like, and more particularly, to a distribution tube for distributing a deposition material to a plurality of nozzles and a heating apparatus for heating the same.

일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 증착 공정은 유기물질을 증발시키고, 이렇게 증발된 유기물질을 기판에 증착시키는 공정이다.In general, an organic light emitting diode (OLED) deposition process is a process of evaporating an organic material and depositing the evaporated organic material on a substrate.

이러한 증착 공정은 글라스 등의 기판을 증착챔버 내에 배치하고, 유기물질이 담긴 증발원을 기판에 대향하도록 배치한 후에, 증발원을 가열하여 그 내부에 저장된 유기물질을 증발시켜 기판에 증착시킴으로써 기판 상에 유기 박막을 형성하게 된다.In this deposition process, a substrate such as a glass substrate is placed in a deposition chamber, an evaporation source containing an organic substance is arranged to face the substrate, and then an evaporation source is heated to evaporate the organic substances stored therein to deposit on the substrate. Thereby forming a thin film.

최근에는 기판이 대면적화 됨에 따라, 기판에 대면적 박막이 균일하게 형성되도록 점증발원 대신 선형 증발원이 사용되고 있으며, 이러한 선형 증발원은 대면적의 기판에 유기물질이 고르게 분사되도록 도가니의 상부에 다수의 노즐이 구성되어 있다. 또한, 도가니와 노즐 사이에는 분배 튜브가 구성되어 증발 물질을 각각의 노즐에 균일하게 분배하여 제공할 수 있도록 구성된다. In recent years, linear evaporation sources have been used instead of an increasing source to uniformly form a large-area thin film on a substrate as the substrate is made larger. Such a linear evaporation source has a plurality of nozzles . Further, a distribution tube is formed between the crucible and the nozzle so that the evaporation material can be uniformly distributed to the respective nozzles.

그리고, 도가니 및 분배 튜브의 외부에는 히터가 설치되어 증발물질을 계속 가열하면서 분사할 수 있도록 구성된다.Further, a heater is provided outside the crucible and the distribution tube so that the evaporation material can be continuously heated while being sprayed.

그러나, 종래 증발원의 분배 튜브를 가열하는 히터 장치는 도가니, 분배 튜브, 다수의 노즐로 이루어진 증발원 외부에 박스형 구조로 설치되어 증발원 전체를 가열하도록 구성되기 때문에 증발 물질의 유동 특성에 맞게 부분적으로 온도를 제어하면서 가열하기가 쉽지 않고, 또 분배 튜브의 내부를 보다 균일하게 가열하기도 어려운 문제점이 있다.However, since a heater device for heating a distribution tube of a conventional evaporation source is configured to be installed in a box-like structure outside the evaporation source including a crucible, a distribution tube, and a plurality of nozzles to heat the entire evaporation source, There is a problem in that it is not easy to heat while controlling, and it is also difficult to heat the inside of the distribution tube more uniformly.

한국 공개특허 10-2016-0005875호Korean Patent Publication No. 10-2016-0005875 한국 등록특허 10-1671757호Korean Patent No. 10-1671757

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 납작 구조의 분배 튜브 외측에 히터를 설치함으로써 분배 튜브를 적정한 온도로 집중 가열할 수 있는 동시에, 일정한 온도로 균일하게 가열하여 분배 튜브의 히팅 성능을 향상시킬 수 있는 분배 튜브의 히팅 장치 및 그것을 구비한 증착 장비를 제공하는 데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for heating a distribution tube to a predetermined temperature by uniformly heating a distribution tube, And a deposition apparatus equipped with the heating apparatus.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 분배 튜브의 히팅 장치는, 수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어져 도가니에서 증발된 증발 물질을 다수의 노즐로 분배하는 분배 튜브를 가열하기 위한 것으로, 상기 분배 튜브에서 일정 간격 이격되고, 상기 분배 튜브의 외측 둘레를 따라 배치되는 히터와; 상기 분배 튜브의 외측에 구비되어 상기 히터를 지지하는 히터 지지수단을 포함한 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a heating apparatus for heating a distribution tube for distributing vaporized material evaporated from a crucible to a plurality of nozzles, the apparatus having a flat structure having a horizontal cross- A heater spaced apart from the dispensing tube and disposed along an outer periphery of the dispensing tube; And a heater supporting means provided on the outer side of the distribution tube for supporting the heater.

상기 분배 튜브는, 증발물질이 가열되는 도가니에 연결되어 증발물질이 유입되는 유입관과, 상기 유입관의 상부에 연결되고 수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어져 증발물질을 분배하는 분배 통체와, 상기 분배 통체의 측면 쪽에 연결되어 증발물질이 분사되는 복수개의 노즐을 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The distribution tube includes an inlet tube connected to a crucible where a vapor material is heated and an evaporation material flowing therein, and a flat structure connected to an upper portion of the inlet tube and having a horizontal sectional area larger than a vertical sectional area, And a plurality of nozzles connected to a side of the distribution cylinder and through which the evaporation material is sprayed.

상기 히터는 전기 열선이 포함되고, 이 전기 열선이 상기 분배 튜브의 좌우 길이 방향으로 지그재그 형상으로 연속적으로 연결되게 구성되는 것이 바람직하다.Preferably, the heater includes electric heating wires, and the electric heating wires are continuously connected in a staggered shape in the left and right longitudinal direction of the distribution tube.

상기 히터는 상기 분배 튜브의 둘레에 복수의 세트로 분할되어 설치되는 것이 바람직하다.The heater is preferably divided into a plurality of sets around the distribution tube.

상기 히터 지지수단은 상기 분배 튜브의 길이 방향으로 길게 설치되고, 상기 분배 튜브의 둘레 방향으로 복수개가 설치되는 것이 바람직하다.Preferably, the heater support means is installed long in the longitudinal direction of the distribution tube, and a plurality of heater holding means are provided in the circumferential direction of the distribution tube.

상기 히터 지지수단은, 상기 분배 튜브에서 돌출되는 마운팅 리브와, 상기 마운팅 리브에 고정되어 상기 히터를 지지하는 히터 지지체와, 상기 히터 지지체와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지체와의 사이에 히터를 고정하는 히터 고정체를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The heater support means includes a mounting rib protruding from the distribution tube, a heater support fixed to the mounting rib to support the heater, and a heater fixed to the heater support by being assembled with the heater support and the fastening means. And a heater fixture for heating the heater.

상기 히터 지지체와 히터 고정체 중 적어도 어느 한쪽에는 상기 히터가 통과하는 히터 설치홈을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that at least one of the heater support and the heater fixing body has a heater installation groove through which the heater passes.

상기 히터 지지체와 히터 고정체는 세라믹 소재로 이루어진 것이 바람직하다.The heater support and the heater fixing body are preferably made of a ceramic material.

또한, 상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 증착 장비는, 증착 공간을 구성하는 증착 챔버와; 상기 증착 챔버의 내부 상측에 배치되어 기판을 지지하는 기판 지지대와; 상기 증착 챔버의 내부 하측에 배치되어 증발 물질을 가열하여 증발시키는 도가니와; 상기 도가니에 연결되는 것으로, 상기한 분배 튜브와; 상기한 히팅 장치를 포함하여 구성되고, 상기 도가니, 상기 분배 튜브, 상기 히팅 장치는 하나의 세트로 구성되어 상기 증착 챔버 내에 복수개의 세트가 나란히 설치되어 구성된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a deposition apparatus comprising: a deposition chamber constituting a deposition space; A substrate support disposed inside the deposition chamber and supporting the substrate; A crucible disposed inside the deposition chamber to evaporate the evaporated material; A coupling tube connected to the crucible; Wherein the crucible, the distribution tube, and the heating device are constituted by one set, and a plurality of sets are arranged in parallel in the deposition chamber.

상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.The above and other objects and advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail exemplary embodiments thereof with reference to the attached drawings in which: In addition to the principal task solutions as described above, various task solutions according to the present invention will be further illustrated and described.

본 발명에 따른 분배 튜브의 히팅 장치 및 그것을 구비한 증착 장비는, 납작 구조의 분배 튜브 외측 둘레에 히터가 바로 설치되기 때문에 분배 튜브를 적정한 온도로 집중 가열할 수 있는 동시에, 일정한 온도로 균일하게 가열하여 분배 튜브의 히팅 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In the heating apparatus and the deposition apparatus having the heating apparatus according to the present invention, since the heater is installed immediately around the outer periphery of the distribution tube of the flat structure, the distribution tube can be intensively heated to a proper temperature and uniformly heated So that the heating performance of the distribution tube can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치를 구비한 증착 장비가 도시된 내부 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치가 도시된 사시도 및 일부 확대도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치가 도시된 정면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치가 도시된 측면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치가 도시된 정단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브 및 이를 가열하는 히팅 장치가 도시된 아래 방향에서 본 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an internal configuration diagram illustrating a deposition apparatus having a distribution tube and a heating apparatus for heating the same, according to an embodiment of the present invention. FIG.
2 is a perspective view and a partial enlarged view of a distribution tube and a heating device for heating the same, according to an embodiment of the present invention.
3 is a front view illustrating a distribution tube and a heating device for heating it according to an embodiment of the present invention.
4 is a side view illustrating a distribution tube and a heating device for heating the same according to an embodiment of the present invention.
5 is a front cross-sectional view illustrating a distribution tube and a heating device for heating the same, according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of the distribution tube according to an embodiment of the present invention and a heating device for heating the distribution tube as viewed from below.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분배 튜브의 히팅 장치를 구비한 증착 장비가 도시된 내부 구성도이다.FIG. 1 is an internal structural view illustrating a deposition apparatus having a heating apparatus for a distribution tube according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 증착 챔버(10)의 내측 상부에는 기판(S)을 지지하는 기판 지지대(12)가 구성되고, 하부에는 증착 물질을 증발시켜 공급하는 증발원(20)이 위치된다.Referring to FIG. 1, a substrate support 12 for supporting a substrate S is formed in an upper portion of the inside of the deposition chamber 10, and an evaporation source 20 for evaporating and supplying the evaporation material is located in the lower portion.

기판 지지대(12)는 정전 척 등을 이용하여 기판(S)을 고정하는 부분으로서, 통상 증착 패턴이 형성되어 있는 마스크와 합착된 기판을 고정하도록 구성된다. 이러한 기판 지지대(12)의 구성은 증착 장비의 주요 구성 부분으로 널리 공지되어 있으므로 자세한 설명은 생략한다.The substrate support 12 is a portion for fixing the substrate S using an electrostatic chuck or the like, and is configured to fix a substrate on which a mask with a vapor deposition pattern is usually formed. The structure of the substrate support 12 is widely known as a main component of the deposition equipment, and thus a detailed description thereof will be omitted.

증발원(20)은 내부에 저장된 증착 물질을 가열하여 증발시키는 도가니(25)와, 이 도가니(25)의 상부에 연결되어 증발된 물질을 각각의 노즐(50)로 균일하게 분배하여 기판 지지대(12) 방향으로 분사하도록 하는 분배 튜브(30)로 구성된다.The evaporation source 20 includes a crucible 25 for heating and evaporating the evaporation material stored therein and an evaporation source connected to the upper portion of the crucible 25 to uniformly distribute the evaporated material to the respective nozzles 50, (See FIG. 2).

도가니(25)는 그 내부에 저장된 증착 물질을 가열하여 증발시킬 수 있도록 구성된 것으로, 공지의 여러 구조의 도가니(25)를 채택하여 구성할 수 있다.The crucible 25 is configured to be able to heat and evaporate the deposition material stored therein, and can be constructed by employing a crucible 25 having various known structures.

분배 튜브(30)는 크게 유입관(32), 분배 통체(34), 복수개의 노즐(50)을 포함하여 구성되고, 분배 통체(34)의 외측에는 분배 튜브를 가열하기 위한 히팅 장치(60)가 설치된다. 물론, 도면 등에 예시하지는 않았지만 도가니(25)를 가열하기 위한 히팅 장치도 설치된다. 또한 노즐(50)을 가열하기 위한 히팅 장치를 설치하는 것도 가능하다.The dispensing tube 30 mainly comprises an inflow tube 32, a dispensing cylinder 34 and a plurality of nozzles 50. A heating device 60 for heating the dispensing tube is arranged outside the dispensing cylinder 34, Respectively. Of course, a heating device for heating the crucible 25 is also provided, which is not illustrated in the drawings. It is also possible to provide a heating device for heating the nozzle 50.

분배 튜브(30) 및 이를 가열하는 히팅 장치(60)에 대해서는 아래에서 자세히 설명한다.The distribution tube 30 and the heating device 60 for heating it are described in detail below.

이와 같은 도가니(25), 분배 튜브(30), 히팅 장치(60)는 하나의 세트를 이뤄서 구성되며, 증착 챔버(10) 내에 복수개의 세트가 구성되는 것이 바람직하다. 도 1에서는 2개의 세트가 나란히 설치된 구성을 보여주고 있다.It is preferable that the crucible 25, the distribution tube 30, and the heating device 60 are formed as one set, and a plurality of sets are formed in the deposition chamber 10. 1 shows a configuration in which two sets are arranged side by side.

이제, 분배 튜브(30) 및 히팅 장치(60)에 대하여 도 2 내지 도 6을 참조하여 자세히 설명한다.Now, the distribution tube 30 and the heating device 60 will be described in detail with reference to Figs. 2 to 6. Fig.

도 2 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 하나의 분배 튜브 및 히팅 장치가 도시된 도면들로서, 도 2는 사시도, 도 3은 정면도, 도 4는 측면도, 도 5는 정단면도, 도 6은 저면 방향 단면도이다.FIG. 2 is a perspective view, FIG. 3 is a front view, FIG. 4 is a side view, FIG. 5 is a front sectional view, and FIG. 6 is a cross-sectional view in the bottom direction.

이들 도면을 참조하면, 분배 튜브(30)는, 증발물질이 가열되는 도가니(25)에 연결되어 증발물질이 유입되는 유입관(32)과, 이 유입관(32)의 상부에 연결되고 수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성되어 증발물질을 분배하는 분배 통체(34)와, 이 분배 통체(34)의 측면 쪽에 연결되어 증발물질이 분사되는 복수개의 노즐(50)을 포함하여 구성된다.Referring to these figures, the distribution tube 30 includes an inlet pipe 32 connected to a crucible 25 where the evaporation material is heated and into which the evaporation material flows, an inlet pipe 32 connected to an upper portion of the inlet pipe 32, And a plurality of nozzles (50) connected to a side of the distribution cylinder (34) to discharge the evaporation material. The distribution cylinder (34) has a horizontal cross - sectional area larger than that of the distribution cylinder (34).

먼저, 유입관(32)은 하부와 상부가 개방된 원통형상으로 이루어져 도가니(25)와 분배 통체(34)를 연결하도록 구성된다.First, the inflow pipe 32 is formed in a cylindrical shape having an open bottom and an open top, and is configured to connect the crucible 25 and the distribution cylinder 34.

다음, 분배 통체(34)는 전체적으로 육면체 형상의 통형 구조로 이루어지되, 수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어진다. 즉, 분배 통체(34)는 수평 면적이 넓게 형성되어 도가니(25)에서 증발한 물질이 전체적으로 균일하게 확산된 상태에서 각각의 노즐(50)을 통해 균일하게 분사될 수 있도록 구성되는 것이다.Next, the distribution cylinder 34 has a flat structure having a hexahedron-like cylindrical structure and a horizontal cross-sectional area larger than a vertical cross-sectional area. That is, the distribution cylinder 34 is configured to have a large horizontal area so that the material evaporated in the crucible 25 can be uniformly sprayed through the respective nozzles 50 in a state where the material is uniformly diffused as a whole.

또한, 분배 통체(34)는 노즐(50)들이 연결되는 측면을 포함한 양쪽 측면(도면상 전면과 후면)이 라운드형 구조로 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 양측면 라운드형 구조는 분배 통체(34) 내로 유입된 증발물질의 와류 형성을 최소화하면서 노즐(50) 쪽으로 원활하게 유동하도록 유도하기 위한 것이다.Further, the distribution cylinder 34 preferably has a rounded structure on both sides (the front and rear surfaces in the figure) including the side to which the nozzles 50 are connected. These two-sided round-shaped structures are intended to guide smooth flow toward the nozzle 50 while minimizing eddy formation of the evaporated material introduced into the distribution cylinder 34.

또한, 분배 통체(34)는 좌우 양쪽에 증착 챔버(10) 내의 지지 구조물에 고정하여 설치할 수 있도록 설치 브래킷(37)들이 구성되는 것이 바람직하며, 한쪽, 즉 노즐(50)이 설치되는 쪽과 직교하는 일측면에 증발 물질의 양을 측정하기 위한 측정 홀(38)이 형성될 수 있다. 이때 측정 홀(38) 앞쪽에는 두께 센서(미도시)가 구비되는 것이 바람직하다.It is preferable that the distribution cylinder 34 is constructed such that the mounting brackets 37 can be fixed to the supporting structure in the deposition chamber 10 on both sides of the distribution cylinder 34. One side, A measurement hole 38 for measuring the amount of the evaporation material may be formed on one side of the substrate. At this time, a thickness sensor (not shown) is preferably provided in front of the measurement hole 38.

또한, 분배 통체(34) 내에는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 각 노즐(50)의 입구 쪽에 증발물질을 노즐(50) 쪽으로 유도하는 유도 가이드(40)가 설치되는 것이 바람직하다.5 and 6, it is preferable that an induction guide 40 for guiding the evaporation material toward the nozzle 50 is installed at the inlet side of each nozzle 50. In this case,

유도 가이드(40)는 노즐(50)의 입구 양쪽에 나란히 세워진 격벽 구조로 이루어질 수 있는데, 2개의 격벽이 평형하게 설치되어 구성되는 것이 바람직하다.The induction guide 40 may have a barrier structure that is arranged on both sides of the inlet of the nozzle 50. Preferably, two barrier ribs are provided in a balanced manner.

그리고, 유도 가이드(40)는 분배 통체(34)의 내측 상부면과 노즐(50)이 연결된 면에는 부착되어 고정되고, 하부면은 적어도 일부분이 유입관(32)에서 유입되는 증발 물질이 원활하게 유입될 수 있도록 고정되지 않고 떠있는 구조로 배치되는 것이 바람직하다.The induction guide 40 is attached and fixed to the inner upper surface of the distribution cylinder 34 and the surface to which the nozzle 50 is connected and at least a part of the lower surface of the induction guide 40 is smoothly connected with the evaporation material flowing in the inflow pipe 32 It is preferable to arrange it in a floating structure so as not to be inflowed.

또한, 분배 통체(34)의 내측 상면에는 도 6에 도시된 바와 같이 강성 보강을 위한 격자형 리브(45)가 구성되는 것이 바람직하다. 분배 통체(34)는 큰 면적의 통형 구조로 이루어짐에 따라 내부의 증발열과 외부의 히터의 열에 의해 쉽게 변형될 수 있다. 따라서 분배 통체(34)의 내측 상면에 격자형 리브(45)를 설치함으로써 뒤틀리는 등의 변형을 방지할 수 있게 된다.Further, it is preferable that a grid-like rib 45 for reinforcing the rigidity is formed on the inner upper surface of the distribution cylinder 34 as shown in Fig. Since the distribution cylinder 34 has a large-sized cylindrical structure, it can be easily deformed by the heat of the internal evaporator and the heat of the external heater. Therefore, by providing the grid-shaped ribs 45 on the inner upper surface of the distribution cylinder 34, distortion such as twisting can be prevented.

이러한 격자형 리브(45)는 별도의 격자 구조물을 용접 등의 방법으로 분배 통체(34) 내측에 설치할 수 있고, 실시 조건에 따라서는 분배 통체(34)를 성형할 때 리브를 일체로 형성하여 구성할 수도 있다. 또한 격자형 구조에 한정되지 않고, 일자형, 원형 등 다양한 구조로 변경하여 분배 통체(34)의 강성을 보강하는 것도 가능하다. 또한 격자형 리브(45)를 구성하지 않고 아래에서 설명할 히터 지지수단(65)의 마운팅 리브(63)로 대체하여 구성하는 것도 가능하다.The grid-like ribs 45 can be provided on the inside of the distribution cylinder 34 by welding or the like, and the ribs can be formed integrally when the distribution cylinder 34 is molded You may. It is also possible to reinforce the rigidity of the distribution cylinder 34 by changing to a variety of structures such as a straight shape and a circular shape without limiting to the lattice structure. It is also possible to replace the grid ribs 45 with the mounting ribs 63 of the heater support means 65 described below.

다음, 노즐(50)은 분배 통체(34)의 측면에 일정 정도 길게 연결되어 기판 지지대(12)를 향하여 상측 방향으로 절곡된 구조로 구성되는 것이 바람직하다.Next, it is preferable that the nozzle 50 is configured to be connected to the side surface of the distribution cylinder 34 for a predetermined length and bent upward toward the substrate support 12.

이러한 노즐(50)은 노즐관(52) 끝단에 노즐 캡(54)을 씌워서 분사 각, 분사 형태 등을 개선할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.The nozzle 50 is preferably configured to cover the nozzle cap 54 at the end of the nozzle tube 52 to improve the spray angle, spray shape, and the like.

이제, 분배 튜브(30)를 가열하는 히팅 장치(60)에 대하여 설명한다.Now, the heating device 60 for heating the distribution tube 30 will be described.

히팅 장치(60)는, 도 4에서와 같이 측면에서 보았을 때 분배 통체(34)의 외측 둘레를 따라 배치되는 히터(62)와, 이 히터(62)를 분배 통체(34)로부터 일정 간격 이격된 상태로 지지하는 히터 지지수단(65)으로 이루어진다.The heating device 60 includes a heater 62 disposed along the outer circumference of the distribution cylinder 34 when viewed from the side as in Fig. 4, and a heater 62 disposed between the heater 62 and the distribution cylinder 34, And a heater holding means 65 for holding the heater holder 65 in a state of being held.

여기서, 히터(62)는 전기 열선을 포함한 구성으로 이루어질 수 있으며, 이 전기 열선이 분배 통체(34)의 길이 방향으로 지그재그 형상 또는 U자형 구조로 연속적으로 연결되게 구성될 수 있다. 물론, 도면에 예시하지는 않았지만, 전기 열선에 전기를 인가하는 전기 인가장치 및 히터를 제어하는 수단이 구성되고, 이러한 히팅 장치(60)의 추가 구성 요소는 공지의 히터와 동일 또는 유사하게 구성할 수 있다.Here, the heater 62 may be configured to include an electric hot wire, and the electric hot wire may be continuously connected in a zigzag or U-shaped structure in the longitudinal direction of the distribution cylinder 34. Of course, although not illustrated in the drawings, an electric applicator for applying electricity to the electric hot wire and a means for controlling the heater are constituted, and the additional components of this heating device 60 can be the same or similar to the known heater have.

히터(62)는 분배 통체(34)의 둘레에 복수개가 설치되어 구성될 수 있다. 즉, 도 도 2 및 도 4 등에 도시된 바와 같이 분배 통체(34) 전후(또는 좌우)로 한 세트씩 설치되게 구성할 수 있는 것이다. 물론, 히터(62)를 좌우로 분할하여 구성하지 않고, 연속된 하나의 구성으로 전기 열선을 연결하여 구성하는 것도 가능하고, 3개 이상의 세트로 분할하여 구성하는 것도 가능하다.A plurality of heaters 62 may be provided around the distribution cylinder 34. In other words, as shown in FIG. 2 and FIG. 4 and so on, one set can be provided before and after the distribution cylinder 34 (or left and right). Of course, the heater 62 may not be constructed by dividing the heater 62 into left and right portions, but may be constructed by connecting electric heat wires in a single continuous structure, or by dividing into three or more sets.

이러한 히터(62)는 히터 지지수단(65)과 함께 유입관(32) 및 노즐(50)이 위치되는 부분은 생략하거나 회피하는 구조로 구성되는 것이 바람직하다.It is preferable that the heater 62 is constructed so as to omit or avoid the portion where the inflow pipe 32 and the nozzle 50 are located together with the heater support means 65.

다음, 히터 지지수단(65)은 분배 통체(34)의 외측에 위치되는 히터(62)의 전기 열선을 지지하기 위해, 분배 통체(34)의 좌우 길이 방향으로 길게 설치되고, 전체 히터(62)를 안정적으로 지지하기 위해 분배 통체(34)의 전후 방향으로 복수 개소에 구성되는 것이 바람직하다. 도 4를 참조하면, 히터 지지수단(65)은 분배 통체(34)의 앞쪽 및 뒤쪽에 각각의 히터(62)를 지지하기 위해 각각 5열 구조로 설치된 구성을 보여준다.Next, the heater supporting means 65 is installed long in the left and right longitudinal direction of the distribution cylinder 34 to support the electric hot wire of the heater 62 located outside the distribution cylinder 34, In the forward and backward directions of the distribution cylinder 34 in order to stably support the discharge tube 34. [ Referring to Fig. 4, the heater supporting means 65 is shown to have a five-row structure for supporting the heaters 62 on the front and rear sides of the distribution cylinder 34, respectively.

이러한 히터 지지수단(65)은, 분배 통체(34)에서 돌출되는 마운팅 리브(63)와, 이 마운팅 리브(63)에 고정되어 히터(62)를 지지하는 히터 지지체(66)와, 히터 지지체(66)와 체결 수단(69)으로 조립되어 상기 히터 지지체(66)와의 사이에 히터(62)를 고정하는 히터 고정체(68)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The heater support means 65 includes a mounting rib 63 protruding from the distribution cylinder 34, a heater support 66 fixed to the mounting rib 63 to support the heater 62, And a heater fixing body 68 fixed to the heater support body 66 by fixing means 69 and fixing the heater 62 to the heater support body 66.

마운팅 리브(63)는 분배 통체(34)의 외면에서 외측 방향으로 돌출되는 구조로 이루어지고, 분배 통체(34)의 좌우 방향으로 길게 구성되는 것이 바람직하다.The mounting ribs 63 preferably have a structure protruding outward from the outer surface of the distribution cylinder 34 and are preferably elongated in the left and right direction of the distribution cylinder 34.

이러한 마운팅 리브(63)는 분배 통체(34)를 내측에서 바깥쪽으로 확장하여 구성하는 것도 가능하고, 별도로 구성하여 분배 통체(34)의 외면에 설치하여 구성하는 것도 가능하다. The mounting ribs 63 may be formed by extending the distribution cylinder 34 from the inside to the outside and separately from the mounting ribs 63 so as to be provided on the outer surface of the distribution cylinder 34. [

히터 지지체(66)는 긴 사각 플레이트 구조로 형성되어 뒷면에 상기 마운팅 리브(63)에 끼워져 고정될 수 있도록 리브 삽입홈(66a)을 갖도록 구성할 수 있다. 히터 지지체(66)를 마운팅 리브(63)에 고정하는 방법은 억지 끼움, 나사 고정, 부착 고정 등 다양한 방법을 이용할 수 있다.The heater support body 66 may have a long rectangular plate structure and may have a rib insertion groove 66a so as to be fitted and fixed to the mounting rib 63 on the rear side. The fixing method of fixing the heater supporting body 66 to the mounting rib 63 may be various methods such as interference fit, screw fixing, fixing, and the like.

그리고 히터 지지체(66)의 상면에 히터(62)가 지나가는 면은 히터 설치홈(66b)이 형성될 수 있다.A heater mounting groove 66b may be formed on a surface of the heater support body 66 where the heater 62 passes.

히터 고정체(68)도 긴 사각 플레이트 구조로 형성되고 히터 지지체(66)와 마주하는 면에 히터(62)가 통과하는 히터 설치홈이 형성될 수 있다.The heater fixing body 68 may also be formed in a long rectangular plate structure and a heater mounting groove through which the heater 62 passes may be formed on a surface facing the heater supporting body 66.

히터 고정체(68)를 히터 지지체(66)에 고정하는 체결 수단(69)은 볼트나 나사 등을 이용하여 구성할 수 있다.The fastening means 69 for fixing the heater fixture 68 to the heater support 66 can be formed using bolts, screws, or the like.

이러한 히터 지지체(66)와 히터 고정체(68)는 절연성을 가지면서 열전도도가 있는 AlN 등의 세라믹 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.The heater support 66 and the heater fixing body 68 are preferably made of a ceramic material such as AlN having thermal conductivity and insulating property.

이와 같은 히터 지지체(66)와 히터 고정체(68)는 긴 사각 플레이트 구조로 이루어져 그 사이에 히터(62)를 고정할 수 있도록 하나의 짝을 이루며, 조립이 용이하도록 길이 방향으로 다수 분할된 구조로 구성할 수 있다.The heater support body 66 and the heater fixing body 68 are formed in a long rectangular plate structure and have a pair so that the heater 62 can be fixed therebetween. .

한편, 상기한 본 발명의 실시예에서는 히터 지지수단(65)이 각각 5열 구조로 설치된 구성을 보여주고 있으나, 히터(62)의 설치 조건 등에 따라서 히터 지지수단(65)의 배열 개수는 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.In the above embodiment of the present invention, the heater supporting means 65 is provided in a five-row structure. However, the number of the heater supporting means 65 may vary according to the installation conditions of the heater 62 And can be carried out by modification.

상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the technical ideas described in the embodiments of the present invention can be implemented independently of each other, and can be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

10 : 증착 챔버 12 : 기판 지지대
20 : 증발원 25 : 도가니
30 : 분배 튜브 32 : 유입관
34 : 분배 통체 37 : 설치 브래킷
38 : 측정 홀 40 : 유도 가이드
45 : 격자형 리브 50 : 노즐
52 : 노즐관 54 : 노즐 캡
60 : 히팅 장치 62 : 히터
63 : 마운팅 리브 65 : 히터 지지수단
66 : 히터 지지체 68 : 히터 고정체10: deposition chamber 12: substrate support
20: evaporation source 25: crucible
30: distribution tube 32: inlet tube
34: dispensing cylinder 37: mounting bracket
38: Measuring hole 40: Induction guide
45: grid-shaped rib 50: nozzle
52: nozzle tube 54: nozzle cap
60: Heating device 62: Heater
63: mounting rib 65: heater supporting means
66: heater supporting body 68: heater fixing body

Claims (9)

수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어져 도가니에서 증발된 증발 물질을 다수의 노즐로 분배하는 분배 튜브를 가열하기 위한 것으로,
상기 분배 튜브에서 일정 간격 이격되고, 상기 분배 튜브의 외측 둘레를 따라 배치되는 히터와;
상기 분배 튜브의 외측에 구비되어 상기 히터를 지지하는 히터 지지수단을 포함한 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The present invention relates to a method for heating a distribution tube for distributing evaporated material evaporated from a crucible to a plurality of nozzles, the flat tube having a flat cross-
A heater spaced apart from the distribution tube and disposed along an outer periphery of the distribution tube;
And a heater supporting means provided on an outer side of the distribution tube to support the heater. 청구항 1에 있어서,
상기 분배 튜브는, 증발물질이 가열되는 도가니에 연결되어 증발물질이 유입되는 유입관과, 상기 유입관의 상부에 연결되고 수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어져 증발물질을 분배하는 분배 통체와, 상기 분배 통체의 측면 쪽에 연결되어 증발물질이 분사되는 복수개의 노즐을 포함한 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method according to claim 1,
The distribution tube includes an inlet tube connected to a crucible where a vapor material is heated and an evaporation material flowing therein, and a flat structure connected to an upper portion of the inlet tube and having a horizontal sectional area larger than a vertical sectional area, And a plurality of nozzles connected to a side of the dispensing cylinder and through which evaporation material is sprayed. 청구항 1에 있어서,
상기 히터는 전기 열선이 포함되고, 이 전기 열선이 상기 분배 튜브의 좌우 길이 방향으로 지그재그 형상으로 연속적으로 연결되게 구성된 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method according to claim 1,
Wherein the heater includes an electric hot wire, and the electric hot wire is continuously connected in a zigzag shape in the left and right longitudinal direction of the distribution tube. 청구항 1에 있어서,
상기 히터는 상기 분배 튜브의 둘레에 복수의 세트로 분할되어 설치된 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method according to claim 1,
Wherein the heater is divided into a plurality of sets around the distribution tube. 청구항 1에 있어서,
상기 히터 지지수단은 상기 분배 튜브의 길이 방향으로 길게 설치되고, 상기 분배 튜브의 둘레 방향으로 복수개가 설치된 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method according to claim 1,
Wherein the heater holding means is elongated in the longitudinal direction of the distribution tube and a plurality of the heater holding means are installed in the circumferential direction of the distribution tube. 청구항 1에 있어서,
상기 히터 지지수단은,
상기 분배 튜브에서 돌출되는 마운팅 리브와,
상기 마운팅 리브에 고정되어 상기 히터를 지지하는 히터 지지체와,
상기 히터 지지체와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지체와의 사이에 히터를 고정하는 히터 고정체를 포함한 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method according to claim 1,
The heater support means
A mounting rib projecting from the distribution tube,
A heater support fixed to the mounting rib to support the heater,
And a heater fixture assembled with the heater supporter and the fastening means to fix the heater between the heater supporter and the heater supporter. 청구항 6에 있어서,
상기 히터 지지체와 히터 고정체 중 적어도 어느 한쪽에는 상기 히터가 통과하는 히터 설치홈을 갖는 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method of claim 6,
Wherein at least one of the heater support body and the heater fixing body has a heater installation groove through which the heater passes. 청구항 6에 있어서,
상기 히터 지지체와 히터 고정체는 세라믹 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 분배 튜브의 히팅 장치.The method of claim 6,
Wherein the heater support and the heater fixing body are made of a ceramic material. 증착 공간을 구성하는 증착 챔버와;
상기 증착 챔버의 내부 상측에 배치되어 기판을 지지하는 기판 지지대와;
상기 증착 챔버의 내부 하측에 배치되어 증발 물질을 가열하여 증발시키는 도가니와;
수직 단면적보다 수평 단면적이 더 크게 형성된 납작 구조로 이루어져 상기 도가니에서 증발된 증발 물질을 다수의 노즐로 분배하는 분배 튜브와;
상기 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 기재된 히팅 장치를 포함하여 구성되고,
상기 도가니, 상기 분배 튜브, 상기 히팅 장치는 하나의 세트로 구성되어 상기 증착 챔버 내에 복수개의 세트가 나란히 설치되어 구성된 것을 특징으로 하는 증착 장비.
A deposition chamber constituting an evaporation space;
A substrate support disposed inside the deposition chamber and supporting the substrate;
A crucible disposed inside the deposition chamber to evaporate the evaporated material;
A distribution tube having a flat working structure having a horizontal cross-sectional area larger than a vertical cross-sectional area and distributing the evaporated material evaporated from the crucible to a plurality of nozzles;
A heating device according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the crucible, the distribution tube, and the heating device are constituted by one set, and a plurality of sets are arranged in parallel in the deposition chamber.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220006771A (en) * 2020-07-09 2022-01-18 엘지전자 주식회사 Deposition apparatus
CN113957391A (en) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 Vacuum coating device adopting core rod heating structure to uniformly distribute metal steam

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101191750B1 (en) * 2011-06-20 2012-10-16 주식회사 선익시스템 Apparatus for depositing thin film using at least two vaporization sources
KR101364978B1 (en) * 2012-08-16 2014-02-21 주식회사 선익시스템 A separable apparatus for supplying source gas
KR20150017509A (en) * 2013-08-07 2015-02-17 주식회사 선익시스템 Heater block for evaporation source
KR20160005875A (en) 2014-07-07 2016-01-18 주식회사 선익시스템 Thin Film Deposition Apparatus with Evaporation Source Installed Multi-Crucible
KR20160074858A (en) * 2014-12-18 2016-06-29 주식회사 선익시스템 Deposition Sources for Improving Uniformity of Deposition Thin Film
KR101671757B1 (en) 2015-06-08 2016-11-02 주식회사 선익시스템 Evaporation source for deposition apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101191750B1 (en) * 2011-06-20 2012-10-16 주식회사 선익시스템 Apparatus for depositing thin film using at least two vaporization sources
KR101364978B1 (en) * 2012-08-16 2014-02-21 주식회사 선익시스템 A separable apparatus for supplying source gas
KR20150017509A (en) * 2013-08-07 2015-02-17 주식회사 선익시스템 Heater block for evaporation source
KR20160005875A (en) 2014-07-07 2016-01-18 주식회사 선익시스템 Thin Film Deposition Apparatus with Evaporation Source Installed Multi-Crucible
KR20160074858A (en) * 2014-12-18 2016-06-29 주식회사 선익시스템 Deposition Sources for Improving Uniformity of Deposition Thin Film
KR101671757B1 (en) 2015-06-08 2016-11-02 주식회사 선익시스템 Evaporation source for deposition apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220006771A (en) * 2020-07-09 2022-01-18 엘지전자 주식회사 Deposition apparatus
CN113957391A (en) * 2020-07-21 2022-01-21 宝山钢铁股份有限公司 Vacuum coating device adopting core rod heating structure to uniformly distribute metal steam
CN113957391B (en) * 2020-07-21 2023-09-12 宝山钢铁股份有限公司 Vacuum coating device adopting core rod heating structure to uniformly distribute metal vapor

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