KR102036657B1 - Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment - Google Patents

Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment Download PDF

Info

Publication number
KR102036657B1
KR102036657B1 KR1020170137592A KR20170137592A KR102036657B1 KR 102036657 B1 KR102036657 B1 KR 102036657B1 KR 1020170137592 A KR1020170137592 A KR 1020170137592A KR 20170137592 A KR20170137592 A KR 20170137592A KR 102036657 B1 KR102036657 B1 KR 102036657B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
heater
support
line
heating
Prior art date
Application number
KR1020170137592A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190044947A (en
Inventor
김종진
김형목
Original Assignee
주식회사 선익시스템
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 선익시스템 filed Critical 주식회사 선익시스템
Priority to KR1020170137592A priority Critical patent/KR102036657B1/en
Publication of KR20190044947A publication Critical patent/KR20190044947A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102036657B1 publication Critical patent/KR102036657B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/243—Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치는, 일렬로 배열된 복수 개의 노즐에 병렬로 각각 연결되어 열을 발생시키는 노즐 히터와; 상기 복수 개의 노즐 양측에 나란히 세워져서 상기 노즐 히터의 바깥쪽을 지지하는 양측 외부 지지체와; 상기 외부 지지체의 안쪽에 설치되어 상기 노즐 히터를 지지하는 내부 지지체를 포함하여 구성됨으로써, 전체 노즐들을 균일한 온도로 가열하여 증착 장비의 성능 향상에 기여할 수 있는 효과를 제공한다.An apparatus for heating an evaporation source nozzle of a deposition apparatus according to the present invention includes: a nozzle heater connected to a plurality of nozzles arranged in a row, respectively, in parallel to generate heat; Two side outer supporters standing side by side on both sides of the plurality of nozzles to support the outside of the nozzle heater; It is configured to include an inner support installed inside the outer support to support the nozzle heater, thereby providing an effect that can contribute to the performance of the deposition equipment by heating the entire nozzle to a uniform temperature.

Figure R1020170137592
Figure R1020170137592

Description

증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치{Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment}Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment

본 발명은 OLED 등을 제조하는 증착 장비에 관한 것으로서, 특히 다수의 노즐을 가열하는 증발원 노즐의 히팅 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to deposition equipment for manufacturing OLEDs, and more particularly, to a heating apparatus for an evaporation source nozzle for heating a plurality of nozzles.

일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 증착 공정은 유기물질을 증발시키고, 이렇게 증발된 유기물질을 기판에 증착시키는 공정이다.In general, OLED (Organic Light Emitting Diodes) deposition process is a process of evaporating organic material and depositing the evaporated organic material on a substrate.

이러한 증착 공정은 글라스 등의 기판을 증착챔버 내에 배치하고, 유기물질이 담긴 증발원(또는 도가니)을 기판에 대향하도록 배치한 후에, 증발원을 가열하여 그 내부에 저장된 유기물질을 증발시켜 기판에 증착시킴으로써 기판 상에 유기 박막을 형성하게 된다.The deposition process includes placing a substrate, such as glass, in a deposition chamber, and placing an evaporation source (or crucible) containing organic material facing the substrate, and then heating the evaporation source to evaporate and deposit the organic material stored therein on the substrate. The organic thin film is formed on the substrate.

최근에는 기판이 대면적화 됨에 따라, 기판에 대면적 박막이 균일하게 형성되도록 점증발원 대신 선형 증발원이 사용되고 있으며, 이러한 선형 증발원은 대면적의 기판에 유기물질이 고르게 분사되도록 도가니의 상부에 다수의 노즐이 구성되어 있다.Recently, as the substrate becomes larger, a linear evaporation source is used instead of an evaporation source so that a large area thin film is formed uniformly on the substrate. This is composed.

이와 같이 선형 증발원은 다수의 노즐이 일렬로 배열되어 구성되는데, 증발 물질이 원활하게 분사될 수 있도록 노즐의 외부에도 가열 장치를 설치하여 노즐을 가열하고 있다.In this way, the linear evaporation source is configured by arranging a plurality of nozzles in a row, and a heating device is also installed outside of the nozzle to heat the nozzle so that the evaporation material can be smoothly sprayed.

그러나 종래 기술의 노즐을 가열하는 히터 장치는 도가니 전체를 가열하면서 노즐도 동시에 가열하도록 구성되기 때문에 노즐들의 분사 특성에 맞게 온도를 조절하는 작업이 쉽지 않을 뿐만 아니라 노즐의 상부, 하부 등 노즐 전체의 온도 균일성을 확보하기도 어려운 문제점이 있다.However, since the heater device for heating the nozzle of the prior art is configured to simultaneously heat the nozzle while heating the entire crucible, it is not easy to adjust the temperature according to the spraying characteristics of the nozzles, as well as the temperature of the entire nozzle, such as the upper and lower parts of the nozzle. There is also a problem that is difficult to secure uniformity.

한국 등록특허 10-1578655호Korean Patent No. 10-1578655 한국 등록특허 10-1671757호Korean Patent Registration No. 10-1671757

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 각 노즐에 히팅 라인을 병렬 연결 방식으로 구성함으로써 전체 노즐들을 균일한 온도로 가열하여 증착 장비의 성능 향상에 기여할 수 있는 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치를 제공하는 데 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, by configuring the heating line in parallel to each nozzle by heating the entire nozzle to a uniform temperature to contribute to the performance of the deposition equipment of the evaporation source nozzle of the deposition equipment The purpose is to provide a heating device.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치는, 일렬로 배열된 복수 개의 노즐에 병렬로 각각 연결되어 열을 발생시키는 노즐 히터와; 상기 복수 개의 노즐 양측에 나란히 세워져서 상기 노즐 히터의 바깥쪽을 지지하는 양측 외부 지지체와; 상기 외부 지지체의 안쪽에 설치되어 상기 노즐 히터를 지지하는 내부 지지체를 포함한 것을 특징으로 한다.The heating apparatus of the evaporation source nozzle of the deposition apparatus according to the present invention for realizing the above object is a nozzle heater which is connected in parallel to each of the plurality of nozzles arranged in a row to generate heat; Two side outer supporters standing side by side on both sides of the plurality of nozzles to support the outside of the nozzle heater; It is installed inside the outer support characterized in that it comprises an inner support for supporting the nozzle heater.

상기 노즐 히터는, 상기 양측 외부 지지체의 안쪽에 각각 설치되는 양극 라인 및 음극 라인과, 상기 복수 개의 노즐 둘레에 각각 코일 방식으로 배치되고 양단부가 상기 양극 라인과 음극 라인에 각각 연결되는 히팅 라인을 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The nozzle heater includes an anode line and a cathode line which are respectively installed inside the two outer supporters, and a heating line which is disposed in a coil manner around the plurality of nozzles, respectively, and whose both ends are connected to the anode line and the cathode line, respectively. It is preferable to be configured.

상기 히팅 라인은 양단부가 상기 양극 라인과 음극 라인에 접속 및 분리 가능한 커넥터에 의해 전기적으로 연결할 수 있도록 구성될 수 있다.The heating line may be configured such that both ends thereof may be electrically connected to each other by a connector that may be connected to and disconnected from the anode line and the cathode line.

상기 양측 외부 지지체는 그 안쪽에 상기 양극 라인과 음극 라인을 지지하는 라인 보호대가 각각 설치되는 것이 바람직하다.The two outer supporters are preferably provided with line guards for supporting the anode line and the cathode line inside thereof.

상기 내부 지지체는, 상기 각 노즐의 둘레에서 노즐 길이 방향으로 돌출되는 돌출 리브와, 상기 돌출 리브에 결합되어 상기 노즐 히터를 지지하는 히터 지지대와, 상기 히터 지지대와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지대와의 사이에 노즐 히터를 고정하는 히터 고정대를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The inner support includes a protruding rib projecting in the nozzle longitudinal direction around each of the nozzles, a heater support coupled to the protruding rib to support the nozzle heater, and assembled into the heater support and the fastening means, It is preferable to include a heater holder for fixing the nozzle heater in between.

상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.The main problem solving means of the present invention as described above, will be described in more detail and clearly through examples such as 'details for the implementation of the invention', or the accompanying 'drawings' to be described below, wherein In addition to the main problem solving means as described above, various problem solving means according to the present invention will be further presented and described.

본 발명에 따른 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치는 일렬로 배열된 각각의 노즐에 병렬 연결 방식의 히팅 라인이 구성되기 때문에 각 노즐의 하단에서 상단까지 적정 온도로 가열하는 동시에 전체 노즐의 온도 균일성을 확보할 수 있고, 이에 따라 증발 물질의 배출이 보다 원활하게 이루어지게 되어 증착 장비의 성능 향상에 기여할 수 있는 효과가 있다.In the heating apparatus of the evaporation source nozzle of the deposition apparatus according to the present invention, since the heating line of the parallel connection type is configured to each nozzle arranged in a row, the temperature uniformity of the entire nozzle is heated at the appropriate temperature from the bottom to the top of each nozzle. It can be ensured, and thus the discharge of the evaporation material is made more smoothly has an effect that can contribute to the performance improvement of the deposition equipment.

또한, 본 발명은 노즐 히터의 외부와 내부에 외부 지지체와 내부 지지체가 구성되기 때문에 노즐 히터를 보다 안정적으로 지지하면서 단열 효과를 높일 수 있게 되고, 이에 따라 노즐 히터의 성능 향상에 기여할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention is because the external support and the internal support is configured on the outside and inside of the nozzle heater, it is possible to increase the thermal insulation effect while supporting the nozzle heater more stably, and thus have an effect that can contribute to the performance improvement of the nozzle heater have.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 포함된 증발원의 전체 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 포함된 증발원의 주요부 확대 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 포함된 증발원의 측면 구성도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 도시된 주요부 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 도시된 주요부 상세도이다.1 is an overall perspective view of an evaporation source including a heating device of a nozzle according to an embodiment of the present invention.
2 is an enlarged perspective view of a main part of an evaporation source including a heating device for a nozzle according to an embodiment of the present invention.
3 is a side configuration diagram of an evaporation source including a heating device of a nozzle according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view of an essential part of the heating apparatus of the nozzle according to an embodiment of the present invention.
5 is a detailed view of the main portion of the heating apparatus of the nozzle according to an embodiment of the present invention.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노즐의 히팅 장치가 포함된 증발원이 도시된 도면으로서, 도 1은 전체 사시도, 도 2는 주요부 확대 사시도, 도 3은 측면 구성도, 도 4는 히팅 장치의 주요부 평면도, 도 5는 히팅 장치의 주요부 상세도이다.1 to 5 are views showing an evaporation source including a heating apparatus of a nozzle according to an embodiment of the present invention, Figure 1 is an overall perspective view, Figure 2 is an enlarged perspective view of the main portion, Figure 3 is a side configuration view, Figure 4 Is a plan view of the main part of the heating device, and FIG. 5 is a detailed view of the main part of the heating device.

이들 도면을 참조하면, 증발원(10)은 증발물질이 저장된 상태에서 가열하는 도가니(20), 좌우로 길게 배치되어 도가니(20)에서 증발된 물질을 다수의 노즐(50)로 균일하게 제공하는 분배관(30), 일렬로 배열되어 증발물질이 분사되는 다수의 노즐(50)로 이루어진다.Referring to these drawings, the evaporation source 10 is a crucible 20 that is heated in a state in which evaporation material is stored, and is disposed long to the left and right to uniformly provide the material evaporated in the crucible 20 to the plurality of nozzles 50. The pipe 30 is arranged in a row, and consists of a plurality of nozzles 50 through which the evaporated material is sprayed.

도 1에 도시된 증발원(10)은 선형 증발원 구조를 가진 것으로, 2개의 도가니(20)가 좌우에 구성되고, 도가니(20) 상측에 수평 방향으로 분배관(30)이 연결되며, 분배관(30) 상측에 다수의 노즐(50)들이 일렬로 배열된 구조로 이루어진다. 이러한 증발원(10) 구조는 하나의 예시이며, 실시 조건에 따라 공지의 증발원을 이용하여 다양하게 변형하여 실시할 수 있음은 물론이다.The evaporation source 10 shown in FIG. 1 has a linear evaporation source structure, and two crucibles 20 are configured on the left and right, and the distribution pipe 30 is connected to the crucible 20 in the horizontal direction, and the distribution pipe ( 30) A plurality of nozzles 50 are arranged in a line in the upper side. The structure of the evaporation source 10 is one example, it can be carried out by various modifications using a known evaporation source according to the implementation conditions.

증발원(10)의 외측 둘레에는 증발물질을 원활하게 증발시켜 분사할 수 있도록 히팅 장치들이 설치된다. 즉, 도가니(20)를 가열하는 도가니 히팅 장치(25), 분배관(30)을 가열하는 분배관 히팅 장치(40), 노즐(50)을 가열하는 노즐 히팅 장치(60)가 설치된다.Heating devices are installed on the outer circumference of the evaporation source 10 to smoothly evaporate and eject the evaporation material. That is, a crucible heating device 25 for heating the crucible 20, a distribution pipe heating device 40 for heating the distribution pipe 30, and a nozzle heating device 60 for heating the nozzle 50 are provided.

도가니 히팅 장치(25)는 공지의 도가니를 가열하는 히팅 장치를 이용하여 구성할 수 있으므로 구체적인 설명은 생략하고, 이하에서는 분배관 히팅 장치(40) 및 노즐 히팅 장치(60)에 대하여 자세히 설명한다.Since the crucible heating apparatus 25 can be configured using a well-known heating apparatus for heating a crucible, a detailed description thereof will be omitted. Hereinafter, the distribution tube heating apparatus 40 and the nozzle heating apparatus 60 will be described in detail.

먼저, 분배관 히팅 장치(40)에 대하여 설명한다.First, the distribution pipe heating apparatus 40 is demonstrated.

분배관 히팅 장치(40)는 도 3에서와 같이 측면에서 보았을 때 분배관(30)의 외측 둘레를 따라 호형상 구조로 배치되는 분배관 히터(42)와, 이 분배관 히터(42)를 분배관(30)으로부터 일정 간격 이격된 상태로 지지하는 히터 지지수단(45)으로 이루어진다.The distribution pipe heating device 40 divides the distribution pipe heater 42 and the distribution pipe heater 42 which are arranged in an arc-shaped structure along the outer circumference of the distribution pipe 30 when viewed from the side as shown in FIG. 3. It consists of a heater support means 45 for supporting in a state spaced apart from the pipe 30 by a predetermined interval.

분배관 히터(42)는 전기 열선을 포함한 구성으로 이루어질 수 있으며, 이 전기 열선이 분배관(30)의 길이 방향으로 지그재그 형상 또는 U자형 구조로 연속적으로 연결되게 구성될 수 있다. 도면에 예시하지는 않았지만, 전기 열선에 전기를 인가하는 전기 인가장치 및 히터를 제어하는 수단이 추가로 구성되는 것이 바람직하고, 이러한 히팅 장치의 추가 구성 요소는 공지의 히터와 동일 또는 유사하게 구성할 수 있다.The distribution tube heater 42 may be configured to include an electric heating wire, and the electric heating wire may be configured to be continuously connected in a zigzag shape or a U-shaped structure in the longitudinal direction of the distribution pipe 30. Although not illustrated in the drawings, it is preferable that an electric application device for applying electricity to the electric heating wire and means for controlling the heater are further configured, and additional components of such a heating device may be configured identically or similarly to known heaters. have.

히터 지지수단(45)은, 분배관(30)의 둘레 방향으로 이어지는 분배관 히터(42)의 전기 열선을 지지하기 위해 분배관(30)의 길이 방향으로 길게 설치되고, 분배관 히터(42)를 안정적으로 지지하기 위해 분배관(30)의 원주 방향으로 복수개가 구성되는 것이 바람직하다. 도 3을 참조하면, 히터 지지수단(45)은 좌측에 배치되는 분배관 히터(42)를 지지하기 위해 3열, 우측에 배치되는 분배관 히터(42)를 지지하기 위해 4열 구조로 설치된 구성을 보여준다.The heater support means 45 is installed in the longitudinal direction of the distribution pipe 30 so as to support the electric heating wire of the distribution pipe heater 42 extending in the circumferential direction of the distribution pipe 30, the distribution pipe heater 42 In order to stably support the plurality, it is preferable that a plurality are configured in the circumferential direction of the distribution pipe 30. Referring to Figure 3, the heater support means 45 is configured in a three-row structure to support the distribution pipe heater 42 arranged in three rows, to support the distribution pipe heater 42 disposed on the left side Shows.

이러한 히터 지지수단(45)은, 분배관(30)에서 돌출되는 마운팅 리브(32)와, 이 마운팅 리브(32)에 고정되어 상기 분배관 히터(42)를 지지하는 히터 지지체(46)와, 히터 지지체(46)와 체결 수단(49)으로 조립되어 상기 히터 지지체(46)와의 사이에 분배관 히터(42)를 고정하는 히터 고정체(48)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The heater support means 45 includes a mounting rib 32 protruding from the distribution pipe 30, a heater support 46 fixed to the mounting rib 32 to support the distribution pipe heater 42, The heater support 46 and the fastening means 49 is preferably assembled to include a heater fixing body 48 for fixing the distribution tube heater 42 between the heater support 46.

마운팅 리브(32)는 분배관(30)의 외면에서 반경 방향으로 돌출되는 구조로 형성되고, 분배관(30)의 길이를 따라 길게 형성되는 것이 바람직하다.The mounting rib 32 is formed in a structure projecting in the radial direction from the outer surface of the distribution pipe 30, it is preferably formed long along the length of the distribution pipe (30).

히터 지지체(46)는 긴 사각 플레이트 구조로 형성되어 뒷면에 상기 마운팅 리브(32)에 끼워져 고정될 수 있도록 리브 삽입홈(46a)을 갖도록 구성할 수 있다. 히터 지지체(46)를 마운팅 리브(32)에 고정하는 방법은 억지 끼움, 나사 고정, 부착 고정 등 다양한 방법을 이용할 수 있다.The heater support 46 may be configured to have a rib insertion groove 46a so that the heater support 46 is formed in an elongated rectangular plate structure so that the heater support 46 may be inserted into and fixed to the mounting rib 32 on the rear surface. As a method of fixing the heater support 46 to the mounting rib 32, various methods such as interference fit, screw fixation, and attachment fixation may be used.

그리고 히터 지지체(46)의 상면에 분배관 히터(42)가 지나가는 면은 히터 설치홈(46b)이 형성될 수 있다.In addition, a heater installation groove 46b may be formed at a surface through which the distribution tube heater 42 passes on the upper surface of the heater support 46.

히터 고정체(48)도 긴 사각 플레이트 구조로 형성되고 히터 지지체(46)와 마주하는 면에 분배관 히터(42)가 통과하는 히터 설치홈(48b)이 형성될 수 있다.The heater fixing body 48 may also have a long rectangular plate structure, and a heater installation groove 48b through which the distribution tube heater 42 passes may be formed on a surface facing the heater support 46.

히터 고정체(48)를 히터 지지체(46)에 고정하는 체결 수단(49)은 볼트나 나사 등을 이용하여 구성할 수 있다.The fastening means 49 which fixes the heater fixing body 48 to the heater support body 46 can be comprised using a bolt, a screw, etc.

이러한 히터 지지체(46)와 히터 고정체(48)는 절연성을 가지면서 열전도도가 있는 AlN 등의 세라믹 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.The heater support 46 and the heater fixture 48 are preferably made of a ceramic material such as AlN having insulation and thermal conductivity.

다음, 노즐 히팅 장치(60)에 대하여 설명한다.Next, the nozzle heating apparatus 60 is demonstrated.

노즐 히팅 장치(60)는, 분배관(30) 상부에 일렬로 배열된 복수 개의 노즐(50)에 병렬로 각각 연결되어 열을 발생시키는 노즐 히터(61)와, 일렬로 배열된 복수 개의 노즐(50) 양측에 나란히 세워져서 노즐 히터(61)의 바깥쪽을 지지하는 양측 외부 지지체(65)와, 외부 지지체(65)의 안쪽에 설치되어 노즐 히터(61)를 지지하는 내부 지지체(67)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The nozzle heating device 60 includes a nozzle heater 61 connected in parallel to a plurality of nozzles 50 arranged in a row on an upper portion of the distribution pipe 30 to generate heat, and a plurality of nozzles arranged in a row ( 50) both sides of the outer support body 65 which stands side by side on both sides to support the outside of the nozzle heater 61, and an inner support body 67 installed inside the outer support body 65 to support the nozzle heater 61; It is preferable to comprise.

노즐 히터(61)는, 양측 외부 지지체(65)의 안쪽에 각각 설치되는 양극 라인(63) 및 음극 라인(62)과, 복수 개의 노즐(50) 둘레에 각각 코일 방식으로 배치되고 양단부가 양극 라인(63)과 음극 라인(62)에 각각 연결되는 히팅 라인(64)을 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The nozzle heater 61 has a positive electrode line 63 and a negative electrode line 62 respectively provided inside the two outer support members 65, and are disposed in a coil manner around the plurality of nozzles 50, and both ends thereof have a positive electrode line. It is preferable to include a heating line 64 connected to the 63 and the cathode line 62, respectively.

여기서, 히팅 라인(64)는 코일형 전기 열선 구조로 이루어지고, 그 양단부는 양극 라인(63)과 음극 라인(62)에 접속 및 분리 가능한 커넥터(61C))에 의해 전기적으로 연결할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.Here, the heating line 64 is formed of a coiled electric heating wire structure, and both ends thereof are configured to be electrically connected by a connector 61C that can be connected to and disconnected from the anode line 63 and the cathode line 62. It is preferable.

양측 외부 지지체(65)는 판형 구조로 이루어져 노즐(50) 양쪽에 수직으로 세워지고, 그 안쪽면에 각 노즐 히터(61)가 지지됨과 아울러 노즐 히터(61)가 바깥쪽으로 노출되지 않도록 함으로써 외부로 전달되는 열을 차단할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.Both outer support members 65 have a plate-like structure, and are perpendicular to both sides of the nozzle 50, and each nozzle heater 61 is supported on the inner surface thereof, and the nozzle heater 61 is not exposed to the outside. It is desirable to be configured to block the heat transferred.

또한, 양측 외부 지지체(65) 사이에는 견고한 지지 상태가 유지되도록 노즐(50)과 노즐(50) 사이 공간으로 연결되는 연결체(65a)가 구성될 수 있다. In addition, the connecting body 65a connected to the space between the nozzle 50 and the nozzle 50 may be configured between the outer support body 65 on both sides.

또한, 양측 외부 지지체(65)는 그 안쪽면에 노즐 히터(61)의 양극 라인(63)과 음극 라인(62)을 지지 또는 매립하는 라인 보호대(66)가 각각 설치되는 것이 바람직하다. 라인 보호대(66)는 도 3을 참조하면, 히팅 라인(64)이 코일형 구조로 형성되므로 연결의 용이성을 위하여 음극 라인(62)을 지지하는 쪽은 상측에 양극 라인(63)을 지지하는 쪽은 하측에 배치되게 구성될 수 있다. 물론, 반대로도 가능하며 라인 보호대(66)의 설치 위치는 실시 조건에 따라 적절하게 선택하여 구성할 수 있음은 물론이다.In addition, both outer support members 65 are preferably provided with line guards 66 for supporting or embedding the anode line 63 and the cathode line 62 of the nozzle heater 61 on the inner surface thereof. 3, since the heating line 64 is formed in a coil structure, the line guard 66 supports the anode line 63 on the side to support the cathode line 62 for ease of connection. May be configured to be disposed underneath. Of course, it is also possible to reverse the installation position of the line guard 66 can be appropriately selected and configured according to the implementation conditions.

내부 지지체(67)는, 도 5를 참조하면, 각 노즐(50)의 둘레에서 노즐(50) 길이 방향으로 돌출되는 돌출 리브(52)와, 이 돌출 리브(52)에 결합되어 노즐 히터(61)의 히팅 라인(64)을 지지하는 히터 지지대(68)와, 이 히터 지지대(68)와 체결 수단으로 조립되어 히터 지지대(68)와의 사이에 노즐 히터(61)의 히팅 라인(64)을 고정하는 히터 고정대(69)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 5, the inner supporter 67 is coupled to the protruding rib 52 protruding in the longitudinal direction of the nozzle 50 around each nozzle 50 and the protruding rib 52 to be connected to the nozzle heater 61. Heater support 68 for supporting the heating line 64 of the < RTI ID = 0.0 >) < / RTI > and the heater support 68 and the fastening means to fix the heating line 64 of the nozzle heater 61 between the heater support 68. It is configured to include a heater holder 69.

돌출 리브(52)는 반드시 구성되어야 하는 구성 요소는 아니나, 노즐(50)의 외측면에 돌출 리브(52)를 형성함으로써 내부 지지체(67)의 설치 구조를 보다 안정적으로 유지할 수 있게 된다.The protruding ribs 52 are not necessarily components, but by forming the protruding ribs 52 on the outer surface of the nozzle 50, it is possible to more stably maintain the installation structure of the inner support 67.

히터 지지대(68)에는 돌출 리브(52)가 삽입되는 홈이 형성되는 것이 바람직하고, 이 돌출 리브(52)에 억지 끼움, 나사 고정, 부착 고정 등의 방법으로 고정되는 것이 바람직하다.The heater support 68 is preferably formed with a groove into which the protruding ribs 52 are inserted, and is preferably fixed to the protruding ribs 52 by means of interference fitting, screw fixing, attachment fixing, or the like.

히터 지지대(68)와 히터 고정대(69)의 상호 마주하는 면에는 히팅 라인(64)이 통과하는 히터 설치홈이 형성되는 것이 바람직하고, 볼트와 나사 등의 체결 수단으로 상호 결합되게 구성되는 것이 바람직하다.Heater installation grooves through which the heating line 64 passes are preferably formed on the surfaces of the heater support 68 and the heater holder 69 facing each other, and are preferably configured to be mutually coupled by fastening means such as bolts and screws. Do.

이와 같은 내부 지지체(67)의 구성은, 앞서 설명한 분배관 히팅 장치(40)의 히터 지지수단(45)의 구조와 동일 또는 유사하게 구성될 수 있다.The configuration of the internal support 67 may be the same as or similar to the structure of the heater support means 45 of the distribution pipe heating device 40 described above.

한편, 외부 지지체(65)와 내부 지지체(67)는 절연성을 가지면서 열전도도가 있는 AlN 등의 세라믹 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.On the other hand, the outer support 65 and the inner support 67 is preferably made of a ceramic material such as AlN having insulation and thermal conductivity.

상기한 바와 같이 도가니 히팅 장치(25), 분배관 히팅 장치(40), 노즐(50) 히팅 장치(60)가 설치된 상태에서 증발원(10)의 외곽에는, 도 3을 참조하면, 각각의 히팅 장치에서 발생된 열을 냉각하기 위한 냉각 플레이트(70)가 구비되고, 이 냉각 플레이트(70)의 안쪽에는 상기 분배관 히터(42) 및 노즐 히터(61) 쪽에서 전달된 열을 분배관(30) 및 노즐(50) 쪽으로 반사시키는 리플렉터(80)가 설치될 수 있다.As described above, referring to FIG. 3, the heating apparatus 25, the distribution pipe heating device 40, and the nozzle 50 heating device 60 are installed outside the evaporation source 10. Cooling plate 70 for cooling the heat generated in the is provided, the inside of the cooling plate 70 is the distribution pipe 30 and the heat transferred from the distribution pipe heater 42 and nozzle heater 61 side A reflector 80 reflecting toward the nozzle 50 may be installed.

냉각 플레이트(70) 및 리플렉터(80)는 공지의 구조를 이용하여 용이하게 구성할 수 있으므로 구체적인 설명은 생략한다.Since the cooling plate 70 and the reflector 80 can be easily configured using a well-known structure, detailed description is abbreviate | omitted.

상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the technical idea described in the embodiments of the present invention may be implemented independently, or may be implemented in combination with each other. In addition, the present invention has been described through the embodiments described in the drawings and detailed description of the invention, which is merely exemplary, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and equivalent other embodiments therefrom It is possible. Therefore, the technical protection scope of the present invention will be defined by the appended claims.

10 : 증발원 20 : 도가니
25 : 도가니 히팅 장치 30 : 분배관
32 : 마운팅 리브 40 : 분배관 히팅 장치
42 : 분배관 히터 45 : 히터 지지수단
46 : 히터 지지체 48 : 히터 고정체
49 : 체결 수단 50 : 노즐
60 : 노즐 히팅 장치 61 : 노즐 히터
61c : 커넥터 62 : 음극 라인
63 : 양극 라인 64 : 히팅 라인
65 : 외부 지지체 66 : 라인 보호대
67 : 내부 지지체 68 : 히터 지지대
69 : 히터 고정대 70 : 냉각 플레이트
80 : 리플렉터10: evaporation source 20: crucible
25 crucible heating device 30 distribution pipe
32: mounting rib 40: distribution pipe heating device
42: distribution pipe heater 45: heater support means
46: heater support 48: heater fixture
49: fastening means 50: nozzle
60: nozzle heating device 61: nozzle heater
61c: connector 62: cathode line
63: anode line 64: heating line
65: outer support 66: line protector
67: internal support 68: heater support
69: heater holder 70: cooling plate
80: reflector

Claims (5)

일렬로 배열된 복수 개의 노즐에 병렬로 각각 연결되어 열을 발생시키는 노즐 히터와;
상기 복수 개의 노즐 양측에 나란히 세워져서 상기 노즐 히터의 바깥쪽을 지지하는 양측 외부 지지체와;
상기 외부 지지체의 안쪽에 설치되어 상기 노즐 히터를 지지하는 내부 지지체를 포함하고,
상기 내부 지지체는, 상기 각 노즐의 둘레에서 노즐 길이 방향으로 돌출되는 돌출 리브와, 상기 돌출 리브에 결합되어 상기 노즐 히터를 지지하는 히터 지지대와, 상기 히터 지지대와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지대와의 사이에 노즐 히터를 고정하는 히터 고정대를 포함한 것을 특징으로 하는 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치.Nozzle heaters each connected in parallel to a plurality of nozzles arranged in a row to generate heat;
Two side outer supporters standing side by side on both sides of the plurality of nozzles to support the outside of the nozzle heater;
An inner support installed inside the outer support to support the nozzle heater;
The inner support includes a protruding rib projecting in the nozzle longitudinal direction around each of the nozzles, a heater support coupled to the protruding rib to support the nozzle heater, and assembled into the heater support and the fastening means, An apparatus for heating an evaporation source nozzle of a deposition apparatus comprising a heater holder for fixing a nozzle heater in between. 청구항 1에 있어서,
상기 노즐 히터는, 상기 양측 외부 지지체의 안쪽에 각각 설치되는 양극 라인 및 음극 라인과, 상기 복수 개의 노즐 둘레에 각각 코일 방식으로 배치되고 양단부가 상기 양극 라인과 음극 라인에 각각 연결되는 히팅 라인을 포함한 것을 특징으로 하는 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치.The method according to claim 1,
The nozzle heater includes an anode line and a cathode line which are respectively installed inside the two outer support bodies, and a heating line which is disposed in a coil manner around the plurality of nozzles, respectively, and whose both ends are connected to the anode line and the cathode line, respectively. Heating device of the evaporation source nozzle of the deposition equipment, characterized in that. 청구항 2에 있어서,
상기 히팅 라인은 양단부가 상기 양극 라인과 음극 라인에 접속 및 분리 가능한 커넥터에 의해 전기적으로 연결할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치.The method according to claim 2,
The heating line is a heating device of the evaporation source nozzle of the deposition equipment, characterized in that both ends are configured to be electrically connected by a connector that can be connected to and disconnected from the anode line and the cathode line. 청구항 2에 있어서,
상기 양측 외부 지지체는 그 안쪽에 상기 양극 라인과 음극 라인을 지지하는 라인 보호대가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 증착 장비의 증발원 노즐의 히팅 장치.The method according to claim 2,
The both sides of the outer support is a heating apparatus for the evaporation source nozzle of the deposition equipment, characterized in that the line guards for supporting the anode line and the cathode line are respectively installed therein. 삭제delete
KR1020170137592A 2017-10-23 2017-10-23 Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment KR102036657B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170137592A KR102036657B1 (en) 2017-10-23 2017-10-23 Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170137592A KR102036657B1 (en) 2017-10-23 2017-10-23 Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190044947A KR20190044947A (en) 2019-05-02
KR102036657B1 true KR102036657B1 (en) 2019-10-28

Family

ID=66581725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170137592A KR102036657B1 (en) 2017-10-23 2017-10-23 Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102036657B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102339763B1 (en) * 2020-03-26 2021-12-17 주식회사 선익시스템 Box type linear evaporation source

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101266584B1 (en) * 2011-08-22 2013-05-22 주식회사 야스 Evaporation source for Large scale deposition using parallel connection of point source
KR102222576B1 (en) * 2014-04-21 2021-03-05 엘지전자 주식회사 Device for providing deposition material and Deposition apparatus including the same
KR101578655B1 (en) 2014-06-30 2015-12-28 주식회사 선익시스템 Injection nozzle and evaporation source including the same
KR101671757B1 (en) 2015-06-08 2016-11-02 주식회사 선익시스템 Evaporation source for deposition apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190044947A (en) 2019-05-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070119849A1 (en) Heater and vapor deposition source having the same
KR102155735B1 (en) Source for deposition device
KR100645689B1 (en) Linear type deposition source
US20060288940A1 (en) Evaporation source for evaporating an organic electroluminescent layer
CN105296934A (en) Linear evaporation source and evaporation plating device
JP2006207022A (en) Vaporization source and vapor deposition apparatus having the same
TW200304171A (en) Elongated thermal physical vapor deposition source with plural apertures for making an organic light-emitting device
KR101481094B1 (en) Heating device of evaporation source
JP2007063660A (en) Inorganic vapor deposition source and method for controlling heat source therefor
KR20140085092A (en) Heating device of evaporation source
KR102036657B1 (en) Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment
KR101982092B1 (en) Distribution-tube heating device for evaporation source of deposition equipment
KR102313237B1 (en) Nozzle heating device for evaporation source of deposition equipment
KR101969551B1 (en) Heating device of distribution-tube and deposition equipment with it
WO2020238080A1 (en) Vapor deposition source cleaning device and vapor deposition system
KR101011067B1 (en) Plane filament for thermal evaporation thin film process in OLED and semiconductor
KR102036656B1 (en) Distribution-tube heating device for evaporation source of deposition equipment
KR20180125835A (en) Evaporation source with non-heating zone of deposition equipment
JP2016079430A (en) Vacuum deposition apparatus and evaporator used in the same
KR101456657B1 (en) Heating device of evaporation source
KR102454832B1 (en) Linear Deposition Source
KR100636509B1 (en) Heater and vapor deposition source having the same
KR102222875B1 (en) Evaporation source and Deposition apparatus including the same
KR101266584B1 (en) Evaporation source for Large scale deposition using parallel connection of point source
KR102509629B1 (en) High frequency induction heating device for film deposition facilities

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant