KR20180084636A - 위상 시프트 마스크 블랭크 및 이것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

위상 시프트 마스크 블랭크 및 이것을 사용한 위상 시프트 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

우수한 패턴 단면 형상 및 우수한 CD 균일성을 갖고, 미세한 패턴이 형성되어 있어 전사 정밀도가 양호해지는 표시 장치용의 위상 시프트 마스크의 형성에 사용하는 위상 시프트 마스크 블랭크를 제공한다. 투명 기판 상에 위상 시프트막을 구비하고, 위상 시프트막은, 금속계 재료 또는 금속 실리사이드계 재료를 포함하고, 위상 시프트막은, 위상 시프트층과, 해당 위상 시프트층의 상측에 배치된 반사율 저감층 사이에 배치되는 중간층을 갖고, 중간층은, 반사율 저감층의 금속 함유율보다도 높은 금속 함유율을 갖는 금속계 재료이거나 반사율 저감층의 금속과 규소의 합계 함유율보다도 높은 합계 함유율을 갖는 금속 실리사이드계 재료이고, 위상 시프트막의 막면 반사율이 350㎚∼436㎚의 파장 영역에 있어서 15％ 이하이고 투명 기판측으로부터 입사되는 광에 대한 위상 시프트막의 이면 반사율이 365㎚∼436㎚의 파장 영역에 있어서 20％ 이하이다.
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