JP2009086094A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009086094A5
JP2009086094A5 JP2007253250A JP2007253250A JP2009086094A5 JP 2009086094 A5 JP2009086094 A5 JP 2009086094A5 JP 2007253250 A JP2007253250 A JP 2007253250A JP 2007253250 A JP2007253250 A JP 2007253250A JP 2009086094 A5 JP2009086094 A5 JP 2009086094A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
less
transfer
mask
exposure light
light wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007253250A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2009086094A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007253250A priority Critical patent/JP2009086094A/ja
Priority claimed from JP2007253250A external-priority patent/JP2009086094A/ja
Priority to PCT/JP2008/067098 priority patent/WO2009041388A1/ja
Priority to TW097137086A priority patent/TW200921267A/zh
Publication of JP2009086094A publication Critical patent/JP2009086094A/ja
Publication of JP2009086094A5 publication Critical patent/JP2009086094A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2007253250A 2007-09-28 2007-09-28 マスクブランク及び転写用マスク Pending JP2009086094A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007253250A JP2009086094A (ja) 2007-09-28 2007-09-28 マスクブランク及び転写用マスク
PCT/JP2008/067098 WO2009041388A1 (ja) 2007-09-28 2008-09-22 マスクブランク及び転写用マスク
TW097137086A TW200921267A (en) 2007-09-28 2008-09-26 Mask blank and transfer mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007253250A JP2009086094A (ja) 2007-09-28 2007-09-28 マスクブランク及び転写用マスク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009086094A JP2009086094A (ja) 2009-04-23
JP2009086094A5 true JP2009086094A5 (ko) 2010-10-07

Family

ID=40511273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007253250A Pending JP2009086094A (ja) 2007-09-28 2007-09-28 マスクブランク及び転写用マスク

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2009086094A (ko)
TW (1) TW200921267A (ko)
WO (1) WO2009041388A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010008604A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Hoya Corp マスクブランク及び転写用マスク
KR101663173B1 (ko) 2009-10-09 2016-10-07 삼성전자주식회사 알카리 세정에 내성을 갖는 위상 반전 마스크 및 위상 반전 마스크의 제조 방법
US8968970B2 (en) 2009-10-09 2015-03-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Phase shift masks and methods of forming phase shift masks
JP5602412B2 (ja) * 2009-10-27 2014-10-08 Hoya株式会社 マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクセットおよび半導体デバイスの製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2591244Y2 (ja) * 1992-11-30 1999-03-03 京セラ株式会社 フォトマスク
JPH0784357A (ja) * 1993-09-14 1995-03-31 Nikon Corp 露光マスクおよび投影露光方法
JPH10112429A (ja) * 1996-10-07 1998-04-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光露光システム
JP3566004B2 (ja) * 1996-10-24 2004-09-15 日本電信電話株式会社 X線マスク
JP2000284468A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Canon Inc マスク構造体、該マスク構造体を用いた露光方法および露光装置、該マスク構造体を用いて作製された半導体デバイス、ならびに半導体デバイス製造方法
JP4201162B2 (ja) * 2001-03-29 2008-12-24 大日本印刷株式会社 パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク
JP2003243292A (ja) * 2002-02-18 2003-08-29 Nikon Corp 反射マスク、露光装置及びその清掃方法
JP2005175324A (ja) * 2003-12-12 2005-06-30 Nikon Corp マスク汚染防止方法、マスク汚染防止装置及び露光装置
JP2005186005A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Dainippon Printing Co Ltd 光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法
JP4635509B2 (ja) * 2004-08-03 2011-02-23 凸版印刷株式会社 フォトマスクの製造方法
JP4601459B2 (ja) * 2005-03-01 2010-12-22 大日本印刷株式会社 露光用マスクおよびその製造方法
JP4826742B2 (ja) * 2006-01-05 2011-11-30 旭硝子株式会社 薄膜デバイスの成膜方法
JP2008197234A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Nsk Ltd 近接露光用フォトマスク、露光方法及び露光装置
JP2008286838A (ja) * 2007-05-15 2008-11-27 Canon Inc 露光用マスク、パターン形成装置及びパターン形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011164598A5 (ko)
JP2013257593A5 (ja) 転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法
JP2016164683A5 (ko)
JP2015200883A5 (ko)
JP2016189002A5 (ko)
EP2881790A3 (en) Photomask blank
JP2009539252A5 (ko)
JP2010039352A5 (ko)
JP2015133514A5 (ko)
CN109669318A (zh) 极紫外(euv)光刻掩模
JP2010231172A5 (ko)
JP2011081356A5 (ko)
JP2015191218A5 (ko)
WO2008129908A1 (ja) Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク
JP2008209873A5 (ko)
JP2014186333A5 (ja) 透過型マスクブランク、透過型マスク及び半導体装置の製造方法
EP2568335A3 (en) Photomask blank, photomask, and making method
JP2014241182A5 (ko)
JP2005345737A5 (ko)
JP2016122684A5 (ko)
JP2009152187A5 (ko)
JP2018146945A5 (ko)
JP2005530338A5 (ko)
JP2015102633A5 (ko)
JP2015156034A5 (ko)