KR20180002857A - 축모 교정처리 또는 퍼머넌트 웨이브처리인 모발 성형 처리방법, 및 모발 성형처리용 모발 처리액 - Google Patents

Abstract

환원제를 함유하는 제1제를 모발에 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과, 모발에 도포된 제1제를 씻어 없애는 공정과, 모발에 산화제를 함유하는 산화성 제 2제를 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과, 제2제를 씻어 없애는 공정을 적어도 구비하는 모발 성형 처리방법에 있어서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 모발에 도포하는 공정을 더 구비하는 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리인 모발 성형 처리방법. 또, 모발 성형처리에 있어서, 모발에 도포되는 모발 처리액으로서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 성형처리용 모발 처리액.

Description

축모 교정처리 또는 퍼머넌트 웨이브처리인 모발 성형 처리방법, 및 모발 성형처리용 모발 처리액

본 발명은, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리와 같은 모발 성형처리에 있어서, 시술시의 모발이 받는 데미지를 완화하기 위한 모발 처리액 및 그것을 이용한 모발 성형 처리방법에 관한 것이다.

종래, 환원제를 함유하는 제1제와 산화제를 함유하는 제2제와의 조합으로 이루어지는 퍼머액을 이용한 모발 성형 처리방법이 널리 알려져 있다. 구체적으로는, 축모를 직모로 교정하는 미용기술인 축모 교정처리나, 모발에 컬이나 웨이브 등의 형상을 주는 퍼머넌트 웨이브처리가 알려져 있다. 모발 성형 처리방법에는, 대체로, 다음과 같은 기본 원리가 이용되고 있다. 처음에, 모발에 티오글리콜산 등의 환원제를 포함하는 제1제를 도포함으로써, 모발을 구성하는 케라틴을 가교하는 디설파이드 결합(시스틴 결합)이 절단된다. 디설파이드 결합을 절단하여 케라틴의 가교구조를 해소시킴으로써, 케라틴의 가교에 의한 구속이 해소된다. 케라틴의 가교구조를 해소시킨 상태로 모발에 부형한 후, 과산화수소수나 브롬산 나트륨 등의 산화제를 포함하는 제2제를 도포함으로써, 디설파이드 결합이 재형성된다. 부형된 상태로 디설파이드 결합을 재형성시켜 케라틴을 가교함으로써, 부형 후의 모발의 형상이 고정화된다. 축모 교정처리의 경우에는, 디설파이드 결합을 절단시킨 후의 모발에 아이롱 프레스처리를 실시함으로써 직모로 부형한 후, 디설파이드 결합을 재형성시킨다. 모발을 직모로 부형한 후에, 디설파이드 결합을 재형성시킴으로써, 모발의 스트레이트 형상이 고정화된다. 또, 퍼머넌트 웨이브처리의 경우에는, 제1제를 모발에 도포하고, 소정 시간 방치함으로써, 디설파이드 결합이 절단된다. 그리고, 제1제를 씻어 없앤 후, 웨이브 등의 형상을 주기 위한 원통 형상의 로드에 모발을 휘감은 상태로 모발에 제2제를 도포함으로써, 디설파이드 결합이 재형성되어, 모발의 퍼머넌트 웨이브가 고정화된다.

이러한 퍼머액을 이용한 모발 성형 처리방법에 있어서는, 시술 전의 상정에 반해 머리카락에 큰 부담을 주어 버리는 경우가 있었다. 구체적으로는, 모발의 강도가 저하하여 갈라지는 스플릿 헤어(split hair)가 발생하거나, 잘게 물결모양으로 곱슬곱슬하게 되어 버리는 브리틀 헤어(brittle hair)가 발생하거나 하는 경우가 있었다. 특히, 앞머리나 목덜미의 모발과 같이 데미지를 받기 쉬운 부분에 있어서는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 발생하기 쉬웠다. 이러한 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생 원인은, 염모나 과거의 모발 성형처리에 의해 데미지를 받아 온 모발에 대해서, 제1제를 도포한 후의 방치 시간이 너무 길거나, 약제의 선정이 부적합하거나 하는 것 등에 의해, 한층 더 큰 데미지를 주어 버리는 것에 의한다고 생각된다.

시술자는 시술을 행함에 있어, 피시술자에 대해 시간을 들여 카운셀링을 행하여, 머리카락질, 머리카락 특징의 강도, 모발이 받아 온 시술의 이력 등을 파악하여, 약제의 선정, 약제를 도포하는 개소의 결정, 방치 시간의 선정 등을 행한다. 또, 시술자는, 제1제를 도포한 후의 모발의 연화도 등의 상태를 확인하면서 세심한 주위를 기울여 시술을 행한다. 그렇지만, 상정 외에 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 발생하는 사례가 끊이지 않았다.

하기 특허문헌 1은, 적절한 축모교정, 머리카락 감촉의 악화 억제 또는 머리카락으로의 데미지 억제를 실현할 수 있는 축모 교정 처리방법으로서, 환원제 및 알칼리제가 배합된 제1제와 산화제가 배합된 제2제를 이용한 축모 교정 처리방법으로서, 제1제를 머리카락에 도포하기 전, 제1제를 머리카락에 도포하여 그 방치 중, 제2제를 머리카락에 도포하기 전 중 적어도 어느 쪽인가에 있어서, 수소수를 함유하는 수소 농도가 1질량% 이상의 축모교정용 보조제를 머리카락에 도포하는 방법을 개시한다. 또, 축모교정용 보조제가 백금 콜로이드나 팔라듐 콜로이드 등의 귀금속 콜로이드를 포함하는 경우에는, 귀금속 콜로이드가, 고농도 수소수와 하이드록시 라디칼의 반응을 촉진하는 촉매로서 작용하거나, 산화제로서의 과산화수소를 분해하는 촉매로서 작용하거나 하는 것을 개시한다.

일본 공개특허공보 2015-17064호

본 발명은, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리와 같은 모발 성형처리에 있어서, 시술에 의해 생기는 데미지를 억제하기 위한 모발 처리액 및 모발 성형 처리방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 한 국면은, 환원제를 함유하는 제1제를 모발에 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과, 모발에 도포된 제1제를 씻어 없애는 공정과, 모발에 산화제를 함유하는 제2제를 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과, 제2제를 씻어 없애는 공정을 적어도 구비하는 모발 성형 처리방법에 있어서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 모발에 도포하는 공정을 더 구비하는 모발 성형 처리방법이다. 이러한 모발 성형 처리방법에 의하면, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생의 빈도를 현저하게 저감할 수 있다. 또, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 모발은 부형성이 우수하며 빗질이 잘 된다.

축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리와 같은 모발 성형처리에 있어서는, 케라틴의 디설파이드 결합(-S-S-)을 제1제에 포함되는 환원제에 의해 티올기(-SH)로 환원된다. 디설파이드 결합의 환원에 의해 케라틴의 가교구조가 해소된다. 그리고, 케라틴의 가교구조를 해소시킨 상태로 모발에 부형하고, 부형된 모발을 제2제로 처리함으로써 케라틴의 티올기(-SH)가 산화되어 디설파이드 결합(-S-S-)이 재형성된다. 이 반응은, 하기 화 1：

[화 1]

에 나타내는 가역적인 산화 환원 반응이다.

본 발명자들은, 상술한 방법에 의해, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생의 빈도가 현저하게 저감할 수 있는 것을 찾아냈다. 그리고, 그 메카니즘을 이하와 같이 생각했다. 모발에 제1제를 도포하여 디설파이드 결합을 환원함으로써 높은 구핵성을 가지는 티올기가 생긴다. 티올기는 높은 구핵성을 가지기 때문에, 신속하게 안정된 산화 상태로 이행하려고 한다. 이때, 환원이 너무 급속하게 진행된 경우, 산화 반응도 급속하게 진행됨으로써 본래 반응해서는 안 되는 티올기 사이에서 디설파이드 결합이 재형성되거나, 모발 중에 포함되는 산화성 물질이나 공기와 반응하여 가교구조를 형성하지 않는 산화 생성물을 발생시키거나 한다. 그 결과, 케라틴 내에 변형을 남기는 가교구조를 형성시키거나, 가교구조를 형성할 수 없었던 산화 생성물을 발생시키거나 함으로써, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어를 발생시킨다고 생각하고 있다.

브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생은, 제1제의 도포 후의 환원 상태에 있어서의 방치 시간이 적절한 시간보다 너무 길거나, 강한 약제를 선택하거나 함으로써 발생되기 쉽다. 제1제의 도포 후의 적절한 방치 시간이나 최적인 약제는, 모발이 받아 온 데미지의 크기에 따라서 다르다. 데미지가 작은 모발에 대해서는, 비교적 길게 방치하거나, 알칼리성이 강한 약제를 이용하거나 해도 데미지가 표면화되기 어렵다. 한편, 데미지가 큰 모발에 대해서는, 데미지가 단시간에 표면화되기 쉽다. 즉, 데미지가 큰 모발은, 변형을 남기는 가교구조를 형성시키거나, 가교구조를 형성할 수 없던 산화 생성물을 발생시키기 쉽거나 하기 쉬워진다고 생각했다.

본 발명자들은, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리에 있어서, 제1제를 도포할 때에 금 나노 입자가 존재하는 경우, 하기 화 2：

[화 2]

에 나타내는 바와 같이, 티올기(-SH)의 유황에 금이 배위하여 안정화됨으로써, 구핵성이 억제된다고 생각한다. 이것은, 금 나노 입자가 존재하는 경우에는 티올기(-SH)의 환원 속도가 완만하게 된다고 하는 지견으로부터 얻어진다. 그리고, 환원 반응을 완만하게 진행함으로써, 티올기(-SH)의 구핵성에 의한 급속한 산화 반응도 억제되고, 그 결과, 변형을 남기는 가교구조를 형성시키거나, 바람직하지 않은 산화 생성물이 형성되거나 하기 어려워진다. 그 결과, 금 나노 입자의 존재하에서 제1제를 도포하여 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리를 행한 경우에는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생 빈도가 현저하게 저감되는 것을 찾아냈다.

모발 처리액의 금 나노 입자의 농도는, 0.0001질량% 이상인 것이, 바람직하지 않은 반응을 충분히 제어함으로써, 브리틀 헤어의 발생이나 스플릿 헤어의 발생을 보다 억제할 수 있는 점에서 바람직하다. 또, 모발 처리액이 백금 나노 입자를 더 포함하는 경우에는, 백금 나노 입자가 산화제인 과산화수소를 분해하는 촉매로서 작용하는 점에서 바람직하다.

또, 모발 처리액을 모발에 도포하는 공정을, 제2제를 모발에 도포하기 전까지 구비하는 것이, 케라틴의 디설파이드 결합의 환원 반응이 너무 급속하게 진행되는 것을 억제할 수 있는 점에서 바람직하다.

또, 제1제는, pH5∼8인 것이 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생의 한 요인으로도 되는 케라틴의 이온 결합의 절단을 억제하는 점에서 바람직하다.

또, 모발 성형 처리방법은, 축모 교정 처리방법이며, 제1제를 씻어 없앤 모발을, 가열하면서 직모로 교정하는 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이러한 축모 교정 처리방법에 의하면, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생의 빈도를 현저하게 저감할 수 있다. 또, 부차적인 효과로서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 모발은 빗질이 잘되기 때문에, 부형성이 향상된다.

또, 축모 교정 처리방법은, 제1제를 씻어 없앤 모발을 건조하고, 모발 처리액을 모발에 스프레이 도포하면서 코밍(combing)하는 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다. 축모 교정처리에 있어서는, 제1제를 씻어 없앤 후의 모발을 건조하기 전에, 모발을 스트레이트로 부형하는 코밍하는 공정을 마련하는 경우가 많다. 이러한 코밍하는 공정에 있어서는, 모발이 받는 데미지가 커지는 경우가 있다. 상태가 좋은 모발의 경우에는, 코밍시에 엉클어지기 어려워, 빗질이 잘된다. 한편, 시술하기 전에 이미 브리틀 헤어나 스플릿 헤어, 많이 손상된 모발(枝毛, 끝이 갈라진 머리털)을 포함하고 있는 상태가 나쁜 모발의 경우, 코밍시에 엉클어지기 쉬워, 빗질이 심하게 나빠지는 경우가 있다. 이러한 경우에, 빗을 움직이는 스피드가 너무 빠른 경우에는, 머리카락에 엉클어짐이 빈번하게 발생함으로써, 모발은 데미지를 받는 경우가 있다. 코밍 전, 또는 코밍시에, 금 나노 콜로이드를 모발에 도포함으로써, 머리카락의 빗질이 현저히 양호하게 된다. 그 결과, 코밍에 있어서 모발에 줄 수 있는 데미지를 억제할 수 있다.

또, 모발의 가열은, 110∼180℃로 설정된 헤어 아이롱으로 행하는 것이 바람직하다. 축모 교정처리에 있어서의 헤어 아이롱에 의한 가열은, 180∼200℃ 정도의 고온이 채용되는 것이 대부분이다. 고온의 헤어 아이롱에 의한 가열은 모발에 데미지를 준다. 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 머리카락은 부형성이 향상되기 때문에 110∼180℃의 저온으로 설정된 헤어 아이롱으로도 충분히 부형할 수 있다. 본 발명자들은, 그 이유는, 지극히 높은 열전도율을 가지는 금이, 헤어 아이롱의 전열효율을 향상시키기 때문이라고 생각하고 있다.

또, 모발 성형 처리방법은, 퍼머넌트 웨이브 처리방법이며, 모발을 로드에 감아 부형하는 공정을 더 구비하는 것이 바람직하다. 이러한 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 의하면, 스플릿 헤어나 브리틀 헤어의 발생의 빈도를 현저하게 저감할 수 있다. 또, 로드에 감겨진 모발로부터 로드를 떼어 냈을 때에 모발에 탄력이 유지되어 있다. 그 때문에, 릿지(ridge)감을 확실히 유지할 수 있는 퍼머넌트 웨이브처리가 실현될 수 있다.

또, 이른바, 디지털 파마와 같이, 모발을 로드에 감은 상태로, 로드를 50℃ 이상으로 가열하는 공정을 더 구비하는 경우에 있어서도, 모발에 부여되는 데미지를 작게 할 수 있는 점에서 바람직하다.

또, 본 발명의 다른 한 국면은, 퍼머넌트 웨이브처리 또는 축모 교정처리인 모발 성형처리에 있어서, 모발에 도포되는 모발 처리액으로서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 성형처리용 모발 처리액이다. 이러한 모발 처리액은, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리와 같은 모발 성형처리 시술 중, 또는, 시술 후에 있어서도, 모발이 받는 데미지를 작게 할 수 있는 점에서 바람직하다.

본 발명에 의하면, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리의 시술에 있어서, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생의 원인이 되는 모발에 주는 데미지를 작게 할 수 있다.

도 1은, 제1실시형태의 축모 교정처리의 흐름을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 2는, 제2실시형태의 퍼머넌트 웨이브처리의 흐름을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 3은, 제2실시형태의 퍼머넌트 웨이브처리시의 로드로부터 모발을 떼어 냈을 때의 모발의 릿지감의 유지를 설명하기 위한 설명도이다.

［제1실시형태］

본 발명에 따른 모발 성형 처리방법으로서, 축모 교정 처리방법의 하나의 실시형태에 대하여, 도면을 참조하면서 자세하게 설명한다.

도 1은, 본 실시형태의 축모 교정 처리방법의 공정의 흐름을 설명하기 위한 플로차트이다.

본 실시형태의 축모 교정 처리방법에 있어서는, 처음에, 환원제를 함유하는 제1제를 모발에 도포하고(s1), 소정 시간 방치하는 것(s2)에 의해 모발을 형성하는 케라틴을 가교하는 디설파이드 결합을 티올기(-SH)로 환원한다. 이 공정에 있어서는, 축모를 형성하도록 변형된 상태로 형성된 디설파이드 결합에 의한 가교구조를 절단함으로써, 케라틴의 분자쇄의 자유도를 향상시킨다.

제1제는, 환원제와 필요에 따라서 배합되는 그 외의 성분을 함유한다.

환원제의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 티오글리콜산, 티오글리콜산 나트륨염이나 티오글리콜산 암모늄염 등의 티오글리콜산염, 티오 젖산, 시스테인, 시스테아민, 아세틸시스테인, 티오글리세린, 아황산염 등을 들 수 있다.

또, 필요에 따라서 배합되는 그 외의 성분으로서는, 세탄올 등의 크림기재나, 모발을 팽윤시키고 큐티클을 여는 것으로 환원제의 침투를 촉진하는 성분인 알칼리제, 환원제의 침투성을 향상시킴과 함께 각 성분의 유화제로서 기능하는 비이온 계면활성제, 머리카락에 매끄러움을 부여하기 위한 양이온 계면활성제, 라놀린 등의 유성성분, NMF(천연 보습인자) 그 외 보습제나, 단백질이나 그 가수분해물인 폴리펩티드, 아미노산 등으로 이루어지는 트리트먼트 성분 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 이용해도, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.

알칼리제의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 암모니아수, 탄산암모늄, 탄산나트륨, 모노에탄올 아민, 탄산수소암모늄, 아르기닌 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 암모니아수, 탄산수소암모니아수가 특히 바람직하다.

한편, 본 실시형태의 축모 교정 처리방법에 있어서는, 모발에 주는 데미지를 작게 하는 점에서, 알칼리제를 함유하지 않은, 또는 알칼리제가 적은 것이 바람직하다. 알칼리성이 강한 제1제를 이용한 경우에는, 케라틴의 이온 결합이 절단되어 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 따라서, 본 실시형태의 축모 교정 처리방법에 있어서는, 제1제는, pH5∼8, 더 바람직하게는 pH5∼7, 특히 바람직하게는 pH5∼6.5이다.

제1제가 도포된 모발은, 필요에 따라서 랩핑된 후, 소정 시간, 방치된다(s2). 이때, 필요에 따라서, 코밍함으로써 모발을 직모로 부형하는 것이 바람직하다. 방치시간은, 머리카락질, 머리카락 특징의 강도, 모발이 받아 온 데미지의 크기 등에 따라, 모발의 연화도의 변화를 확인하면서 결정된다. 일반적으로는 5∼30분간, 더 바람직하게는 10∼30분간, 특히 바람직하게는 15∼20분간 정도 방치한다. 또, 모발의 특징이 강한 경우 등에는, 필요에 따라서, 모발에 데미지를 주지 않는 범위에서 가열하면서 방치해도 좋다.

그리고, 상술한 바와 같은 제1제를 모발에 도포하고, 소정 시간 방치한 후, 수세, 또는 필요에 따라서, 샴푸를 행함으로써, 제1제를 씻어 없앤다(s3).

그리고, 바람직하게는, 세정 후 젖은 머리카락을 코밍하면서, 또는 코밍하기 전에, 축모교정용 보조제로서 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을, 머리카락의 일부 또는 전체에 도포한다(s4). 세정 후 젖은 머리카락을 코밍하여 곧게 폄으로써, 축모 교정처리의 효과가 향상된다. 이때에, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포함으로써, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 억제할 수 있다.

금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 머리카락은 코밍성이 양호하게 된다. 코밍시에는, 모발의 데미지 상태가 어느 정도 표면화되는 경우가 있다. 상태가 좋은 모발의 경우에는, 코밍시에도 엉클어지기 어려워, 빗질이 잘된다. 한편, 상태가 나쁜 모발의 경우에는, 코밍시에 엉클어지기 쉬워, 빗질이 나쁜 경우가 많다. 빗질이 나쁜 경우에는, 빗을 빠르게 움직이면 머리카락에 엉클어짐이 빈번히 발생하여 걸려, 한층 더 모발에 데미지를 주게 된다. 이러한 경우에 있어서, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 머리카락은 빗질이 현저하게 양호하게 된다. 그 결과, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어 발생의 한 요인이 되는, 코밍에 있어서의 데미지의 발생을 억제할 수 있다.

금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액은, 예를 들면, 입경이 수십㎚ 정도의 금 나노 입자를 수계 매체에 분산시킨 금 나노 콜로이드를 포함하는 수계의 처리액이다. 금 나노 입자의 입경은, 콜로이드를 형성하는 금 나노 입자인 한 특히 한정되지 않지만, 입수하기 쉬운 점에서, 1∼500㎚, 더 바람직하게는 5∼300㎚, 특히 바람직하게는 10∼100㎚, 가장 바람직하게는 10∼50㎚ 정도의 금 나노 입자를 포함하는 콜로이드가 바람직하다.

도포되는 모발 처리액은, 0.00001질량% 이상, 더 바람직하게는 0.0001질량% 이상, 특히 바람직하게는 0.001질량% 이상의 고농도의 금 나노 입자를 포함하는 것이다. 고농도의 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 이용한 경우에는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 억제하거나, 빗질을 개선하거나 하는 효과가 현저하게 높아진다. 또, 모발 처리액 중의 금 나노 입자의 상한은 특히 한정되지 않지만, 비용성이나 콜로이드의 안정성의 관점에서 0.1질량%, 더 바람직하게는 0.01질량%이다.

또, 모발 처리액에는, 금 나노 콜로이드와 함께, 백금 나노 콜로이드를 포함해도 좋다. 백금 나노 콜로이드는, 산화제로서 과산화수소수를 이용한 경우에, 과산화수소의 분해를 촉진하는 촉매로서 기능하는 점에서 바람직하다.

한편, 본 실시형태에 있어서는, 세정(s3) 후 젖은 머리카락에, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포하는 예를 설명했다. 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액은, 제2제를 도포하는 공정보다 전의 공정, 특히, 제1제를 세정한 후 젖은 머리카락에 도포한 경우에는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 표면화되기 전에 환원 반응이 너무 급속하게 진행되는 것을 억제할 수 있는 점에서 특히 바람직하다. 한편, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액의 도포는, 제1제의 도포 전부터, 시술 종료까지의 어느 공정이라도, 또, 시술 후에 도포해도 좋다. 또, 한 번이 아니라, 여러 차례로 나누어 도포해도 좋다. 축모 교정처리에 의한 산화 환원 반응은, 시술 직후에 완결되는 것이 아니라, 시술 후에도 몇 일간, 진행되고 있다고 생각된다. 따라서, 시술 전, 시술 중, 시술 후 중 어느 시점에 있어서도, 바람직하지 않은 산화 환원 반응을 억제하는 효과를 발휘한다.

한편, 머리카락에 대해서 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포하는 양은, 머리카락의 양에도 의하지만, 일률적으로 특정할 수 없지만, 1회의 시술에 있어서, 조금씩 반복하여, 스프레이 등에 의해 도포하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면, 금 나노 입자가, 예를 들면, 0.01∼100㎎, 더 바람직하게는 1∼10㎎, 특히 바람직하게는 2∼10㎎ 정도 부착되도록, 도포한다.

그리고, 헤어 드라이어를 이용하여 건조한다(s5). 건조 조건은 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 100∼150℃ 정도의 온도로, 머리카락을 건조시키는 것이 바람직하다. 또, 건조시에, 데미지가 큰 부분이 표면화되는 경우가 있다. 이러한 경우에는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 보다 효과적으로 억제하기 위하여, 데미지가 표면화된 부분에 국소적으로, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포해도 좋다.

그리고, 건조 후의 모발을 직모로 가열 교정한다(s6). 모발을 스트레이트로 가열 교정하는 공정은, 제1제에 의해 디설파이드 결합에 의한 가교구조를 해소시킨 케라틴을 포함하는 모발을 아이롱 프레스 처리함으로써 스트레이트로 부형하는 공정이다. 아이롱 프레스 처리의 설정 온도는 특히 한정되지 않지만, 100∼200℃ 정도의 온도에서 행하는 것이 바람직하다. 또, 가열 교정시에도, 데미지가 큰 부분이 표면화되는 경우가 있다. 이러한 경우에는, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 보다 효과적으로 억제하기 위하여, 데미지가 표면화된 부분에 국소적으로, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포해도 좋다.

한편, 본 실시형태의 축모 교정처리에 있어서는, 특히, 설정 온도 110∼180℃, 더 바람직하게는 150∼170℃ 정도의 저온의 헤어 아이롱으로 행한다. 헤어 아이롱을 이용한 가열교정처리에 있어서는, 180∼200℃ 정도의 고온이 널리 채용되고 있다. 그렇지만, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 모발은 부형성이 향상되기 때문에 저온의 헤어 아이롱으로도 충분히 부형할 수 있다. 본 발명자들은, 그 이유는, 금이 다른 많은 금속보다 높은 열전도율(318W/(m/K)300K)을 가지기 때문에, 헤어 아이롱의 전열효율을 향상시키기 때문이라고 생각하고 있다.

그리고, 스트레이트로 교정된 모발에 산화제를 포함하는 제2제를 도포하고, 소정 시간 방치한다(s7).

제2제는, 종래부터 축모 교정처리에 이용되고 있는 산화제이면 특히 한정되지 않고 이용된다. 이러한 산화제의 구체적인 예로서는, 예를 들면 과산화수소수나 브롬산염 등을 들 수 있다. 과산화수소수로서는, 통상, 2.5% 이하이며 pH2.5∼4.5의 범위 내에서 함유되고, 브롬산염으로서는, 통상, 3.2% 이상, pH4.0∼9.0의 범위 내에서 함유되는 것이 바람직하다.

그리고, 모발에 제2제를 도포한 후, 소정 시간 방치함으로써, 직모로 교정된 모발에 디설파이드 결합을 재형성시킨다(s8). 그리고, 소정 시간 방치 후, 머리카락을 세정함으로써 제2제를 씻어 없앤다(s9). 세정에 있어서는, 필요에 따라서 샴푸 및 트리트먼트를 행한다. 그리고, 세정 후에, 타올 드라이 및 통풍 건조 등의 건조를 행한다(s10). 이상과 같은 공정에 의해, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 억제한 본 실시형태의 축모 교정처리가 행해진다.

［제2실시형태］

본 발명에 따른 모발 성형 처리방법으로서, 퍼머넌트 웨이브 처리방법의 하나의 실시형태에 대하여, 자세하게 설명한다. 종래, 퍼머넌트 웨이브 처리할 때에, 시술자는 시술을 행함에 있어서, 피시술자에 대해 시간을 들여 카운셀링을 행하여, 머리카락질, 머리카락 특징의 강도, 모발이 받아 온 데미지의 이력 등을 파악하여, 퍼머넌트 웨이브 처리한 경우에 브리틀 헤어나 스플릿 헤어 등의 데미지가 생길 가능성이 높다고 판단한 경우에는, 시술을 단념하는 경우가 있었다. 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 의하면, 데미지가 큰 모발에 대해서도 브리틀 헤어나 스플릿 헤어 등의 데미지를 발생시키는 것을 억제할 수 있기 때문에, 이러한 시술을 단념하는 판단의 레벨을 보다 완화할 수 있다. 또, 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 의하면, 퍼머넌트 웨이브 처리할 때의 부형성이 우수하여, 시술 전에 상정한 상태에 가까운, 웨이브의 릿지감을 낼 수 있다. 또한, 시술 후 감촉도 좋다.

도 2는, 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법의 공정의 흐름을 설명하기 위한 플로차트이다.

본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서는, 퍼머넌트 웨이브처리에 있어서의 제1제를 모발에 도포하는 공정 전부터 제2제를 모발에 도포하기 전까지, 제1실시형태에서 설명한 것과 마찬가지로, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 모발에 도포하는 공정을 구비한다.

본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서는, 일례로서, 처음에, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 모발에 도포한다(s11). 그리고, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 모발을 웨이브의 형상을 주기 위한 적절한 직경을 가지는 원통 형상의 로드에 휘감는다(와인딩)(s12). 그리고, 로드에 휘감겨진 모발에 제1제를 도포하고(s13), 소정 시간 방치한다(s14). 제1제를 도포하고, 소정 시간 방치함으로써 케라틴을 가교하는 디설파이드 결합이 티올기로 환원된다. 이 공정에 있어서는, 디설파이드 결합에 의한 가교구조를 절단함으로써, 케라틴의 분자쇄에 자유도를 준다. 이때, 제1제가 도포된 모발에, 한층 더 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포해도 좋다.

제1제는, 제1실시형태에서 설명한 축모 교정 처리방법에 있어서 설명한 것과 같은 것이 이용된다. 또, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 억제하는 관점에서, 알칼리제를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 알칼리제를 함유시켜 제1제를 알칼리성으로 한 경우에는, 케라틴의 이온 결합이 절단되어 모발의 강도가 저하되어 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 발생되기 쉬워지는 경향이 있다. 따라서, 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서도, 제1제는, pH5∼8, 더 바람직하게는 pH5∼7, 특히 바람직하게는 pH5∼6.5이다.

제1제 및 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 로드에 휘감겨진 모발은, 필요에 따라서 랩핑된 후, 소정 시간, 방치된다(s14). 방치 시간은, 머리카락질, 제1제의 환원력의 강도, 모발이 받아 온 데미지의 크기 등에 따라, 모발의 연화도의 변화를 확인하면서 결정된다. 일반적으로는 5∼30분간, 더 바람직하게는 10∼30분간, 특히 바람직하게는 15∼20분간 정도 방치한다.

그리고, 상술한 바와 같은 제1제 및 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 머리카락에 도포하고, 소정 시간 방치한 다음은, 필요에 따라서, 수세나 샴푸를 행함으로써, 제1제를 헹군다(s15).

그리고, 로드에 휘감겨진 모발에 산화제를 포함하는 제2제를 도포하고(s16), 소정 시간 방치한다(s17).

제2제도 제1실시형태에서 설명한 축모 교정 처리방법에 있어서 설명한 것과 같은 것이 이용된다.

머리카락에 제2제를 도포한 후, 소정 시간 방치함으로써, 로드에 휘감겨진 모발에 디설파이드 결합을 재형성시킨다(s17). 그리고, 소정 시간 방치한 후, 로드에 휘감겨진 모발로부터 로드를 제거한다(s18). 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서의 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포하는 것에 의한 효과는, 로드를 제거했을 때의 웨이브의 릿지감의 유지성에도 현저하게 인정된다. 로드에 감겨진 모발로부터 로드를 제거했을 때의 릿지감의 유지성에 관하여, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포하지 않은 경우에는, 도 3(a)에 나타낸 바와 같이, 컬이 중력에 의해 완만하게 되는 "처진다"라고 하는 현상이 생기기 쉬웠다. 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서의 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포함으로써, 도 3(b)에 나타낸 바와 같이, 모발에 탄력이 유지되어 "처지기 어렵게"되어, 릿지감이 확실히 유지되는 것이 인정되었다.

그리고, 머리카락을 세정한다(s19). 세정에 있어서는, 필요에 따라서 샴푸 및 트리트먼트를 행한다. 그리고, 세정 후에, 타올 드라이 및 통풍 건조 등의 건조를 행한다(s20). 이러한 공정에 의해, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생을 억제한 본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리가 시술된다.

본 실시형태에 있어서는, 제1제를 도포하기 전이나 도포 중 및 도포한 직후에, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포함으로써, 제1제에 의한 반응을 완만하게 하여 디설파이드 결합의 급속한 절단을 억제할 수 있기 때문에, 바람직하지 않은 반응이 신속하게 생기는 것을 억제할 수 있어, 모발에 줄 수 있는 데미지를 제어하기 쉬워지는 점에서 바람직하다. 한편, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액은, 시술 종료까지의 어느 공정에 있어서도, 또, 시술 후에 있어서도 더 도포해도 좋다. 또, 한 번이 아니라, 여러 차례로 나누어 도포해도 좋다. 퍼머넌트 웨이브처리에 있어서의 산화 환원 반응은, 시술 직후에 완결되는 것이 아니라, 시술 후에도 몇 일간, 진행된다. 따라서, 시술 전, 시술 중, 시술 후 중 어느 시점에 있어서도, 바람직하지 않은 산화 환원 반응을 억제하는 효과를 발휘한다.

［제3실시형태］

제2실시형태에 있어서는, 퍼머넌트 웨이브처리의 대표예로서, 일반적인 퍼머넌트 웨이브처리에 대하여 설명했다. 강한 컬이나 형상 기억적인 컬이 요구되는 보다 강한 부형이 필요한 경우에는, 모발을 감은 상태로 로드에 비치된 히터로 가열하는 공정을 구비하는, 소위, 디지털 파마라고 칭해지는 열 퍼머넌트를 채용해도 좋다. 이하, 디지털 파마를 채용한 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 대하여 설명한다.

본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법에 있어서는, 처음에, 모발에 고르게 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 스프레이 도포한다. 그리고, 모발 처리액이 도포된 모발에 환원제를 함유하는 제1제를 도포하고, 소정 시간 방치함으로써 디설파이드 결합을 환원시켜 가교구조를 해소시킨다. 이때, 방치하는 시간은 모발의 연화도를 모니터하면서, 5∼20분간, 더 바람직하게는 10∼15분간 정도의 범위에서, 적당한 부드러움이 되도록 방치한다. 그리고, 소정 시간 방치한 후, 제1제를 씻어 없앤다. 한편, 제1제를 씻어 없앤 젖은 상태의 모발에도, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 스프레이 도포하는 것이 바람직하다.

그리고, 제1제를 씻어 없애고, 다시금, 고르게 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액이 도포된 젖은 상태의 모발은, 가열용 히터를 비치한 복수의 로드에 감겨진다. 그리고, 각 로드의 전극을 컨트롤러에 접속하고, 컨트롤러의 온도 제어에 의해 소정 시간 가열한다. 가열의 설정 온도로서는, 40∼60℃, 더 바람직하게는 45∼55℃이다. 또, 가열 시간으로서는 5∼25분간, 더 바람직하게는 10∼20분간 정도이다. 그리고, 가열한 후, 모발로부터 로드를 떼어낸다. 그리고, 모발에, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액 및 필요에 따라서 그 외의 트리트먼트제를 도포한다. 그리고, 모발에 제2제를 도포하고, 소정 시간 방치함으로써, 티올기를 산화시켜 가교구조를 형성시킨다. 그리고, 방치 시간으로서는 0∼10분간, 더 바람직하게는 5∼10분간 정도이다. 그리고, 방치한 후, 제2제를 씻어 없앤다. 제2제를 씻어 없앤 후에, 다시, 금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 도포하는 것이 바람직하다. 그리고, 마무리로 건조하면서 머리카락을 블로우(blow)함으로써 정돈한다.

본 실시형태의 퍼머넌트 웨이브 처리방법으로서, 이러한 디지털 파마 등의 열 퍼머넌트를 채용하는 경우에도, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어가 억제됨과 함께, 모발에 탄력이 유지되어 "처지기 어렵게"되어, 릿지감이 확실히 유지되는 것이 인정되었다.

실시예

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더 자세하게 설명한다. 한편, 본 발명의 범위는, 본 실시예에 의해 하등 한정되는 것은 아니다.

(실시예 1)

모니터 여성의, 받아 온 데미지가 약간 큰 손상된 모발이 다소 눈에 띄는 머리카락이며, 또한, 축모의 머리카락에, 코밍하면서 제1제를 도포했다. 한편, 제1제는, 세탄올을 주성분으로 하는 크림기재에, 티오글리콜산 암모늄염 6질량%를 포함하는 pH4.5가 되는 처방으로 조제했다.

그리고, 모발의 연화도를 확인하면서, 약 20분간 자연 방치했다. 그리고, 샴푸 했다. 그리고, 샴푸 후의 젖은 머리카락 전체에 고르게, 금 나노 콜로이드의 원액(금 함유 농도 0.005질량%)을 스프레이 했다. 그리고, 빗으로 코밍함으로써, 모발을 곧게 했다. 이때의, 코밍성을 이하의 기준으로 판정했다.

(코밍성)

A：모발의 엉클어짐에 따른 빗의 걸림이 거의 느껴지지 않아, 빗질이 지극히 좋았다.

B：A보다는 약간 뒤떨어지지만, 모발의 엉클어짐에 따른 빗의 걸림이 적어, 빗질이 좋았다.

C：자주 모발의 엉클어짐에 따른 빗의 걸림이 발생하는 정도로 빗질이 나빠, 빗을 천천히 움직이지 않으면, 코밍할 수 없었다.

코밍성을 판정한 바, A였다.

그리고, 코밍 후의 머리카락을, 헤어 드라이어로 건조했다. 그리고, 건조 후의 머리카락을 160℃로 설정된 헤어 아이롱으로 곧게 펴도록 하여 스트레이트로 부형했다. 그리고, 스트레이트로 부형된 모발에 제2제를 도포하고, 약 10분간 자연 방치한 후, 수세하여, 다시 헤어 드라이어로 건조했다. 한편, 제2제는, 6질량%의 과산화수소수를 약 1.5질량%에 물로 조정한 처방으로 조제한 것을 이용했다.

이와 같이 하여, 축모교정을 시술했다. 그리고, 얻어진 머리카락을 이하의 기준으로 판정했다.

(스플릿 헤어 또는 브리틀 헤어의 발생)

A：스플릿 헤어 또는 브리틀 헤어가 주의 깊게 관찰해도 거의 보이지 않았다.

B：스플릿 헤어 또는 브리틀 헤어가 주의 깊게 관찰했을 때에 인식할 수 있는 정도로 발생했다.

C：스플릿 헤어 및 브리틀 헤어가 외관상 현저하게 인식할 수 있는 정도로 발생했다.

얻어진 머리카락은, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 자연스러운 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다. 또, 시술 후 1주간 경과해도, 브리틀 헤어의 발생은 없었다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.

[표 1]

(실시예 2)

실시예 1의 모니터 여성보다 한층 더 받아 온 데미지가 큰, 손상된 모발이 눈에 띄고 또한 축모의 모발을 가지는 다른 모니터 여성의 머리카락에, 제1제의 도포 후의 방치 시간을 약 30분간으로 대신한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 한편, 코밍시에는, 실시예 1과 마찬가지로, 빗질이 지극히 잘 되어, 코밍성 판정은 A였다. 또, 얻어진 머리카락은, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 자연스러운 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다. 또, 시술 후 1주간 경과해도, 브리틀 헤어의 발생은 없었다.

(실시예 3)

실시예 2의 모니터 여성보다 한층 더 데미지가 큰, 손상된 모발이 눈에 띄고 또한 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 한편, 코밍시에는, 실시예 2와 마찬가지로, 빗질이 지극히 잘 되어, 코밍성 판정은 A였다. 또, 얻어진 머리카락은, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 자연스러운 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다. 또, 시술 후 1주간 경과해도, 브리틀 헤어의 발생은 없었다.

(실시예 4)

실시예 2의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 10배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 실시예 2와 마찬가지로, 빗질이 지극히 잘 되어, 코밍성 판정은 A였다. 또, 얻어진 머리카락은, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 자연스러운 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다. 또, 시술 후 1주간 경과해도, 브리틀 헤어의 발생은 없었다.

(실시예 5)

실시예 2의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 100배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 한편, 코밍시에는, 빗질이 실시예 4보다는 약간 뒤떨어지지만 양호하고, 엉클어짐에 의한 빗의 걸림도 적어, 코밍성 판정은 B였다. 또, 얻어진 머리카락은, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 자연스러운 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다. 그러나, 시술 후 1주간 경과했을 때에, 브리틀 헤어의 발생의 경향을 조금 볼 수 있었다.

(비교예 1)

실시예 1의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 공정을 생략한 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 이때, 코밍시의 빗질이 나빠, 코밍성 판정은 C였다. 또, 얻어진 머리카락은, 목덜미 부분에 브리틀 헤어가 발생했다. 또, 약간 축모가 남은 스트레이트 헤어로 교정되어 있었다.

(비교예 2)

실시예 2의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 대신에, 백금 나노 콜로이드(백금 함유 농도 0.005질량%)를 원액으로 도포한 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 축모교정을 시술했다. 이때, 코밍시의 빗질이 나빠, 코밍성 판정은 C였다. 얻어진 머리카락은, 목덜미 부분에 브리틀 헤어가 발생했다.

이상의 실시예에 있어서는, 제1제를 도포한 후, 20∼30분간 방치했다. 이것은, 평가를 위하여, 통상의 축모시술에 있어서의 방치 시간보다, 약간 길게 설정하고 있다.

실시예의 결과로부터, 다음 것을 알 수 있다. 금 나노 콜로이드의 원액을 스프레이 한 실시예 1∼3 및 금 나노 콜로이드의 원액을 10배 희석한 금 나노 콜로이드를 스프레이 한 실시예 4의 여성의 모니터에 있어서는, 데미지의 강도 및 방치 시간에 관계없이, 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생이 없는, 자연스러운 스트레이트 헤어로 마무리할 수 있었다. 또, 코밍에 있어서의 빗질도 양호했다. 한편, 실시예 5에 나타낸 바와 같이, 금 나노 콜로이드의 농도가 엷을 때에는, 시술 후에, 브리틀 헤어가 발생하는 경향이 있었다.

한편, 데미지의 강도 및 방치 시간이 실시예 1과 동일한 정도이며, 금 나노 콜로이드를 스프레이하지 않은 비교예 1의 여성의 모니터에 있어서는, 목덜미에 브리틀 헤어가 발생했다. 또, 코밍에 있어서의 빗질이 나빴다. 한편, 데미지의 강도 및 방치 시간이 실시예 2와 동일한 정도이며, 금 나노 콜로이드 대신에 백금 나노 콜로이드를 스프레이 한 비교예 2의 여성의 모니터에 있어서도, 목덜미에 브리틀 헤어가 발생했다. 또, 코밍에 있어서의 빗질의 개선도 보이지 않았다.

(실시예 6)

모니터 여성의, 축모 교정처리의 이력을 가지는 데미지가 약간 큰 손상된 모발이 다소 눈에 띄는 머리카락의 전체에 고르게, 금 나노 콜로이드의 원액(금 함유 농도 0.005질량%)을 스프레이 했다. 그리고, 금 나노 콜로이드가 도포된 모발을 로드에 휘감은 후, 제1제를 도포하고, 다시, 금 나노 콜로이드의 원액을 스프레이 한 후, 15분간 방치했다. 한편, 제1제는, 세탄올을 주성분으로 하는 크림기재에, 티오글리콜산암모늄 6질량%를 포함하는 pH4.5가 되는 처방으로 조제했다.

그리고, 로드에 감겨진 모발을 따뜻한 물로 헹굼으로써 제1제를 씻어 없앴다. 그리고, 헹군 후 젖은 모발에 제2제를 도포하고, 도중에 컬 상태를 체크하면서, 약 10분간 자연 방치했다. 한편, 제2제는, 6질량%의 과산화수소수를 약 1.5질량%에 물로 조정한 처방으로 조제한 것을 이용했다. 그리고, 모발로부터 로드를 없앴다. 그리고, 모발에 샴푸를 실시함으로써 제2제를 제거했다. 그리고, 모발을 헤어 드라이어로 건조하면서 블로우 했다. 그리고, 실시예 1과 마찬가지의 기준으로 스플릿 헤어 또는 브리틀 헤어의 발생을 판정했다. 또, 하기의 기준으로, 로드를 떼어낸 직후의 시술자에 의한 부형감 및 마무리감을 판정했다.

(로드를 떼어낸 직후의 시술자에 의한 부형감)

A：모발에 강한 탄력과 컬이 확실히 부형되어 있었다.

B：모발에 탄력이 없고, 모발이 중력으로 처져 컬이 느슨했다.

(마무리감)

A：로드의 직경으로부터 목적한 대로의 탄력이 있는 릿지감이 높고 확실히 된 컬을 얻을 수 있었다.

B：로드의 직경으로부터 목적으로 한 정도의 컬을 얻을 수 없고, 릿지감이 낮은 느슨한 컬을 얻을 수 있었다.

로드를 떼어낸 직후의 시술자의 판정에 의하면 모발에는 강한 탄력과 컬이 확실히 부형되어 있었다. 또, 마무리 후의 머리카락에는 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 또, 릿지감이 높은 퍼머넌트 웨이브가 부형되어 있었다. 결과를 정리하여 하기 표 2에 나타낸다.

[표 2]

(실시예 7)

실시예 6의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 10배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

(실시예 8)

실시예 6의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 100배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

(비교예 3)

실시예 6의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 공정을 생략한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

(비교예 4)

실시예 6의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 대신에, 백금 나노 콜로이드(백금 함유 농도 0.005질량%)를 원액으로 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

실시예 6∼8, 비교예 3 및 비교예 4의 결과로부터, 다음의 것을 알 수 있다. 금 나노 콜로이드의 원액을 스프레이 한 실시예 6 및 금 나노 콜로이드의 원액을 10배 희석한 금 나노 콜로이드를 스프레이 한 실시예 7의 여성의 모니터에 있어서는, 스플릿 헤어나 브리틀 헤어의 발생이 보이지 않고, 또, 컬이 확실히 부형되었다. 또, 시술자는, 로드를 떼어낸 직후에 모발에 강한 탄력이 있어, 컬이 중력으로 처지지 않는다고 판정했다. 한편, 실시예 8에 나타낸 바와 같이, 금 나노 콜로이드의 농도가 엷을 때에는, 효과가 약간 불충분했다.

한편, 금 나노 콜로이드를 스프레이하지 않은 비교예 3의 여성의 모니터 및 금 나노 콜로이드 대신에 백금 나노 콜로이드를 스프레이 한 비교예 4의 여성의 모니터에 있어서는, 스플릿 헤어나 브리틀 헤어가 발생하고, 또, 릿지감이 나오기 어려운 완만한 컬이 부형되었다. 또, 시술자는, 로드를 떼어낸 직후에 모발에 탄력이 없고, 컬이 중력으로 처졌다고 판정했다.

(실시예 9)

모니터 여성의, 데미지가 약간 큰 손상된 모발이 다소 눈에 띄는 머리카락 전체에 고르게, 금 나노 콜로이드의 원액(금 함유 농도 0.005질량%)인 모발 처리액을 스프레이 했다. 그리고, 모발 처리액이 도포된 모발에 제1제를 도포하고, 다시, 모발 처리액을 스프레이 한 후, 15분간 방치했다. 한편, 제1제는, 세탄올을 주성분으로 하는 크림기재에, 티오글리콜산 암모늄 6질량%를 포함하는 pH4.5가 되는 처방으로 조제했다. 그리고, 모발을 따뜻한 물로 헹굼으로써 제1제를 씻어 없앴다. 그리고, 다시, 모발 처리액을 스프레이 했다.

그리고, 제1제를 씻어 없애고 또한 고르게 모발 처리액이 도포된 젖은 상태의 모발에 제2제를 도포했다. 한편, 제2제는, 6질량%의 과산화수소수를 약 1.5질량%에 물로 조정한 처방으로 조제한 것을 이용했다. 그리고, 제2제가 도포된 모발을 가열용 히터를 비치한 복수의 로드에 감았다. 그리고, 각 로드의 전극을 45℃로 설정한 컨트롤러에 접속하여, 20분간 가열했다. 그리고, 가열한 후, 모발로부터 로드를 떼어내고, 제2제를 씻어 없앴다. 그리고, 모발을 헤어 드라이어로 건조하면서 블로우 했다. 그리고, 실시예 6과 같은 기준으로, 로드를 떼어낸 직후의 시술자에 의한 부형감 및 마무리감을 판정했다.

(로드를 떼어낸 직후의 시술자에 의한 부형감)

A：모발에 강한 탄력과 컬이 확실히 부형되어 있었다.

B：모발에 탄력이 없고, 모발이 중력으로 처져 컬이 느슨했다.

(마무리감)

A：로드의 직경으로부터 목적한 대로의 탄력이 있는 릿지감이 높고 확실한 컬을 얻을 수 있었다.

B：로드의 직경으로부터 목적으로 한 정도의 컬을 얻지 못하고, 릿지감이 낮은 느슨한 컬을 얻을 수 있었다.

로드를 떼어낸 직후의 시술자의 판정에 의하면 모발에는 강한 탄력과 컬이 확실히 부형되어 있었다. 또, 마무리 후의 머리카락에는 브리틀 헤어나 스플릿 헤어의 발생도 없고, 또, 릿지감이 높은 퍼머넌트 웨이브가 부형되어 있었다. 결과를 정리하여 하기 표 3에 나타낸다.

[표 3]

(실시예 10)

실시예 9의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 10배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

(실시예 11)

실시예 9의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드의 원액을 도포하는 대신에, 원액을 100배 희석한 금 나노 콜로이드를 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

(비교예 5)

실시예 9의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 공정을 생략한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

(비교예 6)

실시예 9의 모니터 여성과 동일한 정도의 데미지를 받은 모발을 가지는 다른 모니터 여성에게, 금 나노 콜로이드를 도포하는 대신에, 백금 나노 콜로이드(백금 함유 농도 0.005질량%)를 원액으로 도포한 이외는, 실시예 6과 마찬가지로 하여, 퍼머넌트 웨이브처리를 시술했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

산업상의 이용 가능성

본 발명에 의하면, 축모 교정처리나 퍼머넌트 웨이브처리와 같은 모발처리에 있어서, 시술시에 생기는 데미지의 표면화를 현저하게 저감할 수 있다.

Claims (13)

1. 환원제를 함유하는 제1제를 모발에 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과,
   상기 모발에 도포된 상기 제1제를 씻어 없애는 공정과,
   상기 모발에 산화제를 함유하는 제2제를 도포하고, 소정 시간 방치하는 공정과,
   상기 제2제를 씻어 없애는 공정을 적어도 구비하는 모발 성형 처리방법에 있어서,
   금 나노 입자를 포함하는 모발 처리액을 상기 모발에 도포하는 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 모발 성형 처리방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 모발 처리액의 금 나노 입자의 농도가 0.0001질량% 이상인 모발 성형 처리방법.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 모발 처리액이 백금 나노 입자를 더 포함하는 모발 성형 처리방법.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 모발 처리액을 상기 모발에 도포하는 공정을, 상기 제2제를 도포하기 전까지 구비하는, 모발 성형 처리방법.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제1제는, pH5∼8인 모발 성형 처리방법.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 모발 성형 처리방법은, 축모 교정 처리방법이며,
   상기 제1제를 씻어 없앤 상기 모발을, 가열하면서 직모로 교정하는 공정을 더 구비하는, 모발 성형 처리방법.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 제1제를 씻어 없앤 상기 모발을 건조하고, 상기 모발 처리액을 상기 모발에 스프레이 도포하면서 코밍하는 공정을 더 구비하는 모발 성형 처리방법.
8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
   상기 가열을 110∼180℃로 설정된 헤어 아이롱으로 행하는 모발 성형 처리방법.
9. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 모발 성형 처리방법은, 퍼머넌트 웨이브 처리방법이며,
   상기 모발을 로드에 감아 부형하는 공정을 더 구비하는 모발 성형 처리방법.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 모발을 상기 로드에 감은 상태로, 상기 로드를 50℃ 이상으로 가열하는 공정을 더 구비하는 모발 성형 처리방법.
11. 축모 교정처리 또는 퍼머넌트 웨이브처리인 모발 성형처리에 있어서, 모발에 도포되는 모발 처리액으로서,
    금 나노 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 모발 성형처리용 모발 처리액.
12. 제 11 항에 있어서,
    0.0001질량% 이상의 상기 금 나노 입자를 포함하는 모발 성형처리용 모발 처리액.
13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    백금 나노 입자를 더 포함하는 모발 성형처리용 모발 처리액.

Images