KR20170122189A - 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트, 그리고 광학 시트의 선별 방법 및 광학 시트의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
방현성 등의 여러 특성을 부여할 수 있음과 함께, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지할 수 있는 터치 패널을 제공한다. 광학 시트를 구성 부재로서 갖는 터치 패널이며, 상기 광학 시트는, 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 특정한 투과상 선명도의 조건을 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 터치 패널. 조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하. 조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
Description
본 발명은 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트, 그리고 광학 시트의 선별 방법 및 광학 시트의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 태블릿형 PC 및 스마트폰으로 대표되는 쌍방향의 통신 기능을 구비하고, 또한 정보 표시 및 정보 입력용의 투명 터치 패널을 탑재한 모바일형의 정보 단말 기기가, 일본 뿐만 아니라 세계에서 널리 보급되기 시작했다.
투명 터치 패널로서는, 비용적으로 우수한 저항막 방식이 있지만, 멀티 터치 등의 제스처 조작이 가능한 것, 초고해상도화된 표시 소자의 화질을 손상시키기 어렵다는 등의 면에서, 정전 용량 방식의 터치 패널, 특히, 투영형 정전 용량 방식의 터치 패널의 수요가 확대되어 왔다.
터치 패널의 표면에는, 외광의 투영을 방지하는 것 등을 목적으로 하여, 요철 구조를 갖는 방현성 시트가 설치되는 경우가 있다.
나아가, 터치 패널을 구성하는 부재 간의 밀착 및 간섭 줄무늬의 방지, 및 터치 패널과 표시 소자 간의 밀착 및 간섭 줄무늬의 방지 등을 위해서, 터치 패널의 최표면 기재, 내부 기재 및 최배면 기재 등으로서, 요철 구조를 갖는 광학 시트가 사용되는 경우가 있다.
그러나, 방현성 필름 등의 요철 구조를 갖는 광학 시트를 사용한 경우, 그 요철 구조에 기인하여 영상광에 미세한 휘도의 변동이 보이는 현상(눈부심)이 발생하여, 표시 품위를 저하시킨다는 문제가 있다. 특히, 최근의 초고해상도화된 표시 소자(화소 밀도 300ppi 이상)에 있어서는, 눈부심의 문제는 더욱 심각화되고 있다.
표면 요철에 의한 눈부심을 방지하는 기술로서, 특허문헌 1 내지 9의 기술이 제안되어 있다.
특허문헌 1 및 2의 광학 시트는, 내부 헤이즈를 부여함으로써 눈부심을 개선하는 것이다. 그러나, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자는 눈부심이 강해지는 경향이 있고, 내부 헤이즈만에 의해 눈부심을 억제하려고 하면, 내부 헤이즈를 더욱 크게 해야만 한다. 또한, 내부 헤이즈가 크면 해상도가 악화되는 경향이 있는데, 초고해상도의 표시 소자에서는 보다 그 경향이 크다. 따라서, 특허문헌 1 및 2와 같이 내부 헤이즈에만 착안해도, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자에 적합한 광학 시트를 얻을 수 없었다.
특허문헌 3 내지 9의 광학 시트는, 요철의 경사 각도를 낮게 하여 요철의 정도를 약화시킴으로써, 눈부심을 개선하는 것이다. 그러나, 특허문헌 3 내지 9의 광학 시트에서도, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지할 수는 없었다. 또한, 특허문헌 3 내지 9의 광학 시트는, 방현성의 레벨을 저하시켜버리는 것이었다.
본 발명은 이러한 상황 하에 이루어진 것이며, 요철 구조를 갖는 경우에 있어서도, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지할 수 있는 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지하기 위한 광학 시트의 선별 방법 및 제조 방법을 제공한다.
본 발명자들은 예의 연구한 결과, 광학 시트의 요철면을 초고해상도의 표시 소자의 화소의 크기에 상당하는 64㎛(64㎛는, 초고해상도의 표시 소자로서 주류인 300 내지 500ppi의 중간값인 400ppi에 상당한다.)로 구획하고, 또한 각 구획의 표면 형상을 특정한 형상으로 제어함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있음을 알아냈다.
본 발명은 이하의 [1] 내지 [5]의 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트, 그리고 광학 시트의 선별 방법 및 광학 시트의 제조 방법을 제공한다.
[1] 광학 시트를 구성 부재로서 갖는 터치 패널이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 터치 패널.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상.
[2] 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 광학 시트를 갖고 이루어지는 표시 장치이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 표시 장치.
[3] 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트이며, 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트.
[4] 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 선별 방법이며, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것을 광학 시트로서 선별하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 선별 방법.
[5] 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 제조 방법이며, 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 제조 방법.
본 발명의 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트는, 요철 형상에 의해 방현성 등의 여러 특성을 부여할 수 있음과 함께, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 시트의 평가 방법은, 표시 장치에 광학 시트를 내장하지 않아도 눈부심의 평가를 행할 수 있어, 광학 시트의 품질 관리를 효율적으로 할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 시트의 제조 방법은, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지할 수 있는 광학 시트를 효율적으로 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 저항막식 터치 패널의 일 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 정전 용량식 터치 패널의 일 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
도 3은 실시예 1의 광학 시트의 단면을 도시하는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)이다.
도 2는 본 발명의 정전 용량식 터치 패널의 일 실시 형태를 도시하는 단면도이다.
도 3은 실시예 1의 광학 시트의 단면을 도시하는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.
[터치 패널]
본 발명의 터치 패널은, 광학 시트를 구성 부재로서 갖는 터치 패널이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 것이다.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상.
터치 패널로서는, 정전 용량식 터치 패널, 저항막식 터치 패널, 광학식 터치 패널, 초음파식 터치 패널 및 전자기 유도식 터치 패널 등을 들 수 있다. 이들 터치 패널은, 유리 기재, 플라스틱 필름 기재 등의 기재를 갖고, 그 기재 상의 표면에는, 방현성, 밀착 방지 및 간섭 줄무늬 방지 등의 여러 특성을 부여하기 위한 요철 형상이 형성되는 경우가 있다. 본 발명의 터치 패널은, 이러한 표면에 요철 형상을 갖는 기재로서, 후술하는 광학 시트를 사용하여 이루어지는 것이다.
터치 패널에 방현성을 부여하는 경우, 터치 패널의 표면 부재로서 후술하는 광학 시트를 사용하고, 또한 그 광학 시트의 요철 형상측의 면이 표면측을 향하도록 설치하는 것이 바람직하다.
저항막식 터치 패널(1)은, 도 1에 도시한 바와 같이, 도전막(12)을 갖는 상하 한 쌍의 투명 기판(11)의 도전막(12)끼리가 대향하도록 스페이서(13)를 개재하여 배치되어 이루어지는 기본 구성에, 도시하지 않은 회로가 접속되어 이루어지는 것이다. 저항막식 터치 패널의 경우, 상부 투명 기판 및/또는 하부 투명 기판으로서, 후술하는 광학 시트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상부 투명 기판 및 하부 투명 기판은, 2개 이상의 기재를 포함하는 다층 구조로서, 그 중 하나의 기재로서 후술하는 광학 시트를 사용해도 된다.
저항막식 터치 패널에 있어서의 광학 시트는, 예를 들어, 상부 투명 기판으로서 후술하는 광학 시트를 사용하고, 또한 광학 시트의 요철면이 하부 투명 기판과 반대측을 향하도록 사용하면, 저항막식 터치 패널에 방현성을 부여할 수 있음과 함께, 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지할 수 있고, 나아가 초고해상도의 표시 소자의 해상도 저하를 방지할 수 있다. 또한, 이 사용 방법의 경우, 터치 패널의 표면이나 도전막 등에 발생한 흠집을 보이기 어렵게 할 수 있어, 수율의 향상에 기여할 수 있는 점에서 바람직하다.
또한, 상부 투명 기판으로서, 후술하는 광학 시트를 요철면이 하부 투명 기판측을 향하도록 사용한 경우, 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지함과 함께, 조작 시에 상하의 도전막끼리가 밀착되는 것을 방지하고, 또한 상하의 도전막이 근접함으로써 간섭 줄무늬가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 저항막식 터치 패널의 하부 투명 기판으로서 후술하는 광학 시트를 사용하고, 또한 광학 시트의 요철면이 상부 투명 기판측을 향하도록 함으로써, 하부 전극의 표면 반사를 억제함과 함께, 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지할 수 있다. 또한, 이 사용 방법의 경우, 조작 시에 상하의 도전막끼리가 밀착되는 것을 방지할 수 있음과 함께, 상하의 도전막이 근접함으로써 간섭 줄무늬가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 하부 투명 기판으로서, 후술하는 광학 시트를 요철면이 상부 투명 기판과는 반대측을 향하도록 사용한 경우, 눈부심을 방지함과 함께, 밀착이나 간섭 줄무늬를 방지할 수 있는 점에서 바람직하다.
정전 용량식 터치 패널은, 표면형 및 투영형 등을 들 수 있고, 투영형이 많이 사용되고 있다. 투영형의 정전 용량식 터치 패널은, X축 전극과, 그 X축 전극과 직교하는 Y축 전극을 절연체를 개재하여 배치한 기본 구성에, 회로가 접속되어 이루어지는 것이다. 그 기본 구성을 보다 구체적으로 설명하면 1매의 투명 기판 상의 서로 다른 면에 X축 전극 및 Y축 전극을 형성하는 형태, 투명 기판 상에 X축 전극, 절연체층, Y축 전극을 이 순으로 형성하는 형태, 도 2에 도시한 바와 같이, 투명 기판(21) 상에 X축 전극(22)을 형성하고, 다른 투명 기판(21) 상에 Y축 전극(23)을 형성하고, 접착제층(24) 등을 통하여 적층하는 형태 등을 들 수 있다. 또한, 이들 기본 형태에, 추가로 다른 투명 기판을 적층하는 형태를 들 수 있다.
정전 용량식 터치 패널의 경우, 투명 기판 중 적어도 1개 이상에 후술하는 광학 시트를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 투명 기판은, 2개 이상의 기재를 포함하는 다층 구조로서, 그 중 하나의 기재로서 후술하는 광학 시트를 사용해도 된다.
정전 용량식 터치 패널이, 상술한 기본 형태 상에 추가로 다른 투명 기판을 갖는 구성의 경우, 그 다른 투명 기판으로서 후술하는 광학 시트를 사용하고, 또한 광학 시트의 요철면이 상기 기본 형태와 반대측을 향하도록 하고, 그 요철면을 조작자측으로 향하도록 한 경우에는, 정전 용량식 터치 패널에 방현성을 부여할 수 있음과 함께, 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지할 수 있고, 나아가 초고해상도의 표시 소자의 해상도 저하를 방지할 수 있다. 또한, 이 사용 방법의 경우, 터치 패널의 표면 및 도전막 등에 발생한 흠집, 및 전극 패턴의 형상을 보이기 어렵게 할 수 있는 점에서 바람직하다.
또한, 정전 용량식 터치 패널이, 투명 기판 상에 X축 전극을 형성하고, 다른 투명 기판 상에 Y축 전극을 형성하고, 접착제 등을 통하여 적층하는 구성의 경우, 적어도 한쪽 투명 기판으로서 후술하는 광학 시트를 포함하는 것을 사용하고, 또한 광학 시트의 요철면을 조작자측으로 향하게 한 경우에도, 상기와 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 정전 용량식 터치 패널의 투명 기판으로서, 후술하는 광학 시트를 요철면이 조작자와는 반대측을 향하도록 사용한 경우, 눈부심을 방지할 수 있음과 함께, 밀착이나 간섭 줄무늬를 방지할 수 있는 점에서 바람직하다.
(광학 시트)
본 발명의 터치 패널에 사용하는 광학 시트는, 표면에 요철 형상을 갖고, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것이다.
광학 시트는, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하면 되는데, 상기 조건 A-1 및 A-2, 및 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것이 바람직하다.
조건 A-1의 σSRa는, 64㎛ 사방의 각 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도 SRa의 변동의 정도를 나타내고 있다. 64㎛ 사방이라고 하는 크기는 컬러 필터의 화소의 크기와 대응하고 있기 때문에, 이 영역마다의 요철 정도가 변동되어 있으면, 컬러 필터와의 간섭에 의해 휘도 불균일이 발생하기 쉬워진다.
따라서, σSRa를 0.050㎛ 이하로 함으로써, 컬러 필터의 화소와 요철층의 간섭에 의한 휘도 불균일이 작아져, 눈부심을 방지하기 쉽게 할 수 있다.
σSRa는, 0.040㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.030㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.
조건 A-2의 SRaAVE는, 광학 시트의 요철 형상의 조도의 정도를 나타내고 있다. SRaAVE를 0.100㎛ 이상으로 함으로써, 방현성, 밀착 방지성 및 간섭 줄무늬 방지성 등의 요철 형상에 의해 부여하는 여러 성능을 확보하기 쉽게 할 수 있다. 또한, SRaAVE를 0.100㎛ 이상으로 함으로써, 전극의 형상이나 광학 시트의 흠집을 눈에 띄기 어렵게 할 수 있다.
상기 여러 성능 중 방현성의 관점에서, SRaAVE는, 0.110㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.115㎛인 것이 보다 바람직하다.
또한, SRaAVE가 너무 클 경우, 해상도 및 콘트라스트가 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, SRaAVE는, 0.300㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.200㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.175㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서, SRa는, 컷오프값 0.8mm로 한 값이다.
이어서, 조건 B-1에 대하여 설명한다.
C0.125, C0.25, C0.5, C1.0 및 C2.0의 값에는, 요철의 경사각이 영향을 미치고 있다고 생각된다. 여기서, 요철의 경사각 레벨을 5개로 나누고, 레벨 1을 가장 작은 경사각으로 한 경우, C0.125는 레벨 1 이상의 경사각, C0.25는 레벨 2 이상의 경사각, C0.5는 레벨 3 이상의 경사각, C1.0은 레벨 4 이상의 경사각, C2.0은 레벨 5 이상의 경사각의 영향을 받고, 수치가 100％ 미만으로 되어 있다고 생각된다.
조건 B-1을 충족하는 것은, 레벨 1 이상의 경사각, 레벨 2 이상의 경사각, 레벨 3 이상의 경사각, 및 레벨 4 이상의 경사각의 양이 거의 일정한 것을 나타내고 있다. 바꾸어 말하면, 조건 B-1을 충족하는 것은, 광학 시트의 요철에는 레벨 3 이하의 경사각이 거의 존재하지 않고, 대부분의 경사각이 레벨 4인 것을 의미하고 있다. 그리고, 표면 조도에 큰 차이가 없는 것을 전제로 하면, 광학 시트의 요철의 대부분의 경사각을 레벨 4로 함으로써, 광학 시트의 면 내의 요철의 변동이 적어져서, 눈부심을 방지하기 쉽게 할 수 있다고 생각된다.
조건 B-1의 차는, 5.5％ 이내인 것이 보다 바람직하고, 4.0％ 이내인 것이 더욱 바람직하다.
조건 B-2를 충족하는 것은, 레벨 1 내지 4의 경사각에 대하여 레벨 5 이상의 경사각의 비율이 적은 것을 의미하고 있다. 경사각이 크면 눈부심에 대한 영향이 커지고, 레벨 5 이상이 되면 그 경향이 현저해진다고 생각된다.
따라서, 조건 B-2를 충족함(레벨 5 이상의 경사각의 비율을 적게 함)으로써, 눈부심을 방지하기 쉽게 할 수 있다고 생각된다. 또한, 조건 B-2를 충족하여 레벨 5 이상의 경사각의 비율을 적게 함으로써, 해상도를 양호하게 할 수 있다고 생각된다.
또한, 조건 B-1 및 B-2를 동시에 충족함으로써, 대부분의 경사각이 레벨 4가 되기 때문에, 방현성, 밀착 방지성 및 간섭 줄무늬 방지성 등의 요철 형상에 의해 부여하는 여러 성능을 확보하기 쉽게 할 수 있음과 함께, 전극의 형상이나 광학 시트의 흠집을 눈에 띄기 어렵게 할 수 있다.
조건 B-2의 차는, 11.0％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 11.5％ 이상인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 방현성, 밀착 방지성 및 간섭 줄무늬 방지성 등의 요철 형상에 의해 부여하는 여러 성능을 보다 양호하게 하기 위해서, 조건 B-2는 20.0％ 이하인 것이 바람직하다.
이상과 같이, 조건 A-1 및 A-2를 충족하는 것, 및 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것은, 모두, 일정 레벨의 요철을 부여하면서, 요철의 변동 정도가 적은 것을 의미하는 점에서 공통되어 있다.
조건 A-1 및 A-2, 또는 조건 B-1 및 B-2는, 광학 시트의 대략 전역에서 충족하는 것이 바람직하다. 대략 전역으로 한 것은, 광학 시트의 단부는 절단 시 등에 미소한 결함을 발생시킬 가능성이 있고, 단부에 결함이 있었다고 해도 시인자는 결함으로서 인식하기 어렵기 때문이다. 또한, 광학 시트의 단부 주변은 시각적으로 시인하기 어려운 영역이다. 이 때문에, 조건 A-1 및 A-2, 또는 조건 B-1 및 B-2를, 광학 시트에 4변의 단부로부터 10mm을 제외한 영역의 95％ 이상에 있어서 충족하는 것이 바람직하고, 그 영역에 97％ 이상에 있어서 충족하는 것이 보다 바람직하고, 그 영역에 99％ 이상에 있어서 충족하는 것이 더욱 바람직하다. 후술하는 조건 B-3, B-4 및 그 밖의 파라미터도 마찬가지이다.
또한, 조건 B-1 및 B-2에 의한 효과를 보다 발휘하기 쉽게 하기 위해서, 이하의 조건 B-3 및 B-4를 충족하는 것이 바람직하다.
조건 B-3: C0.125가 30.0％ 이상.
조건 B-4: C2.0이 40.0％ 이상.
조건 B-3은, C0.125가 35.0％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 40.0％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 방현성, 밀착 방지성 및 간섭 줄무늬 방지성 등의 요철 형상에 의해 부여하는 여러 성능을 양호하게 하기 위해서, C0.125는 50.0％ 이하인 것이 바람직하다.
조건 B-4는, C2.0이 50.0％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 55.0％ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 방현성, 밀착 방지성 및 간섭 줄무늬 방지성 등의 요철 형상에 의해 부여하는 여러 성능을 양호하게 하기 위해서, C2.0은 70.0％ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서 SRa는 JIS B0601:1994에 기재되어 있는 2차원 조도 파라미터의 산술 평균 조도 Ra를 3차원으로 확장한 것이며, 기준면에 직교 좌표축 X, Y축을 두고, 조도 곡면을 Z(x, y), 기준면의 크기를 Lx, Ly라 하면 하기 식 (a)로 산출된다.
(식 중, A=Lx×Ly)
또한, X축 방향으로 i번째, Y축 방향으로 j번째의 점의 위치에 있어서의 높이를 Zi,j라 하면, 상기 산술 평균 조도 Sa는, 하기 식 (b)로 산출된다.
또한, 각 영역에서의 SRa를 산출할 때의 기준면은, 각 영역마다 기준면을 구하는 것이 아니라, 측정 범위 전체에서 구한 기준면으로 하였다.
조건 A-1 및 A-2의 측정에서는, 합계 100개 이상의 수의 측정 영역을 형성하는 것으로 한다. 또한, 각 측정 영역은 연속시켜서 간격을 두지 않는 것으로 한다. 또한, 각 측정 영역은, X 방향 및 이것에 직교하는 Y 방향의 2개의 방향으로 연속시키는 것이 바람직하다. 예를 들어, 측정 영역의 합계수를 100개로 하는 경우, 64㎛×6400㎛의 영역으로부터 100개의 측정 영역을 형성하는 것이 아니고, 640㎛ 사방의 영역으로부터 100개의 측정 영역을 형성하는 것이 바람직하다.
삼차원 조도 곡면은, 간편성으로부터 간섭현미경을 사용하여 측정하는 것이 바람직하다. 이러한 간섭현미경으로서는, Zygo사제의 「New View」 시리즈 등을 들 수 있다. 또한, SRa는 상술한 간섭현미경 「New View」 시리즈에 부속된 측정·해석 어플리케이션 소프트웨어 「MetroPro」에 의해 산출할 수 있다.
본 발명의 터치 패널에서 사용하는 광학 시트는, 상술한 조건에 의해 눈부심 방지성을 향상시킬 수 있기 때문에, 내부 헤이즈를 필요 이상으로 높게 할 필요가 없어져서, 초고해상도의 표시 소자의 해상도 저하를 방지할 수 있다.
광학 시트는, JIS K7361-1:1997의 전체 광선 투과율이 80％ 이상인 것이 바람직하고, 85％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 90％ 이상인 것이 더욱 바람직하다.
광학 시트는, JIS K7136:2000의 헤이즈가 25 내지 60％인 것이 바람직하고, 30 내지 60％인 것이 보다 바람직하고, 30 내지 50％인 것이 더욱 바람직하다. 헤이즈를 25％ 이상으로 함으로써, 방현성을 부여함과 함께, 전극의 형상이나 흠집을 보이기 어렵게 할 수 있다. 또한, 헤이즈를 60％ 이하로 함으로써, 초고해상도의 표시 소자의 해상도 저하를 방지함과 함께, 콘트라스트의 저하를 방지하기 쉽게 할 수 있다.
또한, 헤이즈를 표면 헤이즈(Hs)와 내부 헤이즈(Hi)로 나눈 경우, 표면 헤이즈는 5 내지 25％인 것이 바람직하고, 5 내지 20％인 것이 보다 바람직하고, 7 내지 15％인 것이 더욱 바람직하다. 표면 헤이즈를 5％ 이상으로 함으로써, 방현성을 양호하게 함과 함께, 전극의 형상이나 흠집을 보이기 어렵게 할 수 있고, 25％ 이하로 함으로써, 콘트라스트의 저하나 해상도의 저하를 방지하기 쉽게 할 수 있다.
또한, 내부 헤이즈는, 15 내지 40％인 것이 바람직하고, 20 내지 40％인 것이 보다 바람직하고, 25 내지 38％인 것이 더욱 바람직하다. 내부 헤이즈를 15％ 이상으로 함으로써, 표면 요철과의 상승 작용에 의해 눈부심을 방지하기 쉽게 할 수 있고, 40％ 이하로 함으로써, 초고해상도의 표시 소자의 해상도 저하를 방지할 수 있다.
또한, 표면 헤이즈와 내부 헤이즈의 비(Hs/Hi)는 상술한 표면 헤이즈와 내부 헤이즈의 효과의 밸런스의 관점에서, 0.1 내지 0.5인 것이 바람직하고, 0.2 내지 0.4인 것이 보다 바람직하다.
표면 헤이즈 및 내부 헤이즈는, 예를 들어, 실시예에 기재된 방법으로 구할 수 있다.
상술한 광학 시트는, 적어도 한쪽 면에 요철 형상을 갖고, 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것이라면, 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 또한, 요철 형상은 광학 시트의 양면에 갖고 있어도 되지만, 취급성, 영상의 시인성(해상도, 백화)의 관점에서, 요철 형상을 편면에 갖고, 다른 쪽 면은 대략 평활(Ra0.02㎛ 이하)한 것이 바람직하다.
또한, 광학 시트는, 요철층의 단층이어도 되고, 투명 기재 상에 요철층을 갖는 복층이어도 된다. 취급성 및 제조의 용이성으로부터는, 투명 기재 상에 요철층을 갖는 구성이 바람직하다.
요철의 형성 방법으로서는, 예를 들어, 1) 엠보싱 롤을 사용한 방법, 2) 에칭 처리, 3) 형에 의한 성형, 4) 코팅에 의한 도막의 형성 등을 들 수 있다. 이들 방법 중에서는, 요철 형상의 재현성 관점에서는 3)의 형에 의한 성형이 바람직하며, 생산성 및 다품종 대응의 관점에서는 4)의 코팅에 의한 도막의 형성이 바람직하다.
형에 의한 성형은, 요철면과 상보적인 형상으로 되는 형을 제작하고, 당해 형에 고분자 수지나 유리 등의 요철층을 구성하는 재료를 유입하여 경화시킨 후, 형으로부터 취출함으로써 제조할 수 있다. 투명 기재를 사용하는 경우에는, 형에 고분자 수지 등을 흘려 넣고, 그 위에 투명 기재를 중첩한 후, 고분자 수지 등을 경화시키고, 투명 기재마다 형으로부터 취출함으로써 제조할 수 있다.
코팅에 의한 도막의 형성은, 바인더 수지 및 입자를 함유하여 이루어지는 요철층 형성 도포액을, 그라비아 코팅, 바 코팅 등의 공지된 도포 방법에 의해 투명 기재 상에 도포하고, 필요에 따라 건조, 경화함으로써 형성할 수 있다.
조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 조건 B-1 및 B-2를 충족시키기 위해는, 요철층 형성 도포액 내에, 입자로서 유기 입자 및 무기 미립자를 함유시키는 것이 바람직하다. 이렇게 요철층 중에 이종의 입자를 함유함으로써, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 할 수 있다고 생각된다.
도 3은, 바인더 수지, 유기 입자 및 무기 미립자를 함유하여 이루어지는 요철층 형성 도포액을 코팅하여 형성하여 이루어지는, 실시예 1의 광학 시트의 요철층의 단면을 나타내는 주사형 투과 전자 현미경 사진(STEM)이다.
통상, 유기 입자가 존재하지 않는 개소는 요철층의 표면이 대략 평활해지지만, 도 3의 요철층은 유기 입자가 존재하지 않는 개소도 완만한 경사를 갖고 있다. 이 원인은, 무기 미립자에 의해, 도포액의 틱소트로피성 및 용매의 건조 특성이 영향을 받아, 통상과 같은 레벨링이 발생하지 않았기 때문이라 생각된다. 이와 같이, 유기 입자가 존재하지 않는 개소에도 완만한 경사가 형성됨으로써, 요철층의 표면 형상에 변동이 적어져서, 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 조건 B-1 및 B-2를 충족할 수 있다고 생각된다.
유기 입자는, 구형, 원반형, 럭비볼형, 부정형 등의 형상을 들 수 있고, 또한, 이들 형상의 중공 입자, 다공질 입자 및 중실 입자 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 눈부심 방지의 관점에서는, 구형의 중실 입자가 바람직하다.
유기 입자로서는, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴-스티렌 공중합체, 멜라민 수지, 폴리카르보네이트, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 벤조구아나민-멜라민-포름알데히드 축합물, 실리콘 수지, 불소계 수지 및 폴리에스테르 등을 포함하는 입자를 들 수 있다.
유기 입자는 표면이 친수화 처리되어 있지 않은 비친수화 처리 유기 입자가 바람직하다. 무기 미립자의 대표예인 실리카 미립자는 친수성의 정도가 높기 때문에, 비친수화 처리 유기 입자를 사용함으로써, 유기 입자와 실리카가 요철층 내에서 밀집하지 않고(예를 들어, 유기 입자의 주위에 실리카가 편재하지 않고) 균일하게 분산되어, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉽기 때문이다.
또한, 상술한 유기 입자 중에서도, 아크릴-스티렌 공중합체 입자 및 폴리스티렌 입자가 바람직하고, 폴리스티렌 입자가 보다 바람직하다. 아크릴-스티렌 공중합체 입자 및 폴리스티렌 입자는, 비중이 작아 요철층 중에서 가라앉기 어렵기 때문에, 요철층의 표면 형상에 변동이 적어진다고 생각된다. 또한, 폴리스티렌 입자는 소수성의 정도가 강하기 때문에, 요철층 내에서 무기 미립자의 대표예인 실리카 미립자와 밀집하지 않고 균일하게 분산되어, 요철층의 표면 형상에 변동이 적어진다고 생각된다. 또한, 아크릴-스티렌 공중합체 입자는, 굴절률 및 친소수의 정도의 제어가 용이하기 때문에, 내부 헤이즈, 및 응집/분산의 제어가 쉬운 점에서 양호하다.
또한, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하는 관점에서는, [유기 입자의 비중/바인더 수지 및 무기 미립자의 혼합물 비중]이 1.0 미만인 것이 바람직하다.
유기 입자는, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하는 관점에서, 평균 입자 직경이 2 내지 10㎛인 것이 바람직하고, 3 내지 8㎛인 것이 보다 바람직하다.
또한, 유기 입자의 평균 입자 직경과 요철층의 두께의 비(유기 입자의 평균 입자 직경/요철층의 두께)는 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하는 관점에서, 0.4 내지 0.8인 것이 바람직하고, 0.5 내지 0.7인 것이 보다 바람직하다.
유기 입자의 평균 입자 직경은, 이하의 (1) 내지 (3)의 작업에 의해 산출할 수 있다.
(1) 본 발명의 광학 시트를 광학 현미경으로 투과 관찰 화상을 촬상한다. 배율은 500 내지 2000배가 바람직하다.
(2) 관찰 화상으로부터 임의의 10개의 입자를 추출하고, 개개의 입자의 긴 직경 및 짧은 직경을 측정하고, 긴 직경 및 짧은 직경의 평균으로부터 개개의 입자의 입자 직경을 산출한다. 긴 직경은, 개개의 입자의 화면 상에 있어서 가장 긴 직경으로 한다. 또한, 짧은 직경은, 긴 직경을 구성하는 선분의 중점에 직교하는 선분을 긋고, 그 직교하는 선분이 입자와 교차하는 2점 간의 거리를 말하는 것으로 한다.
(3) 동일한 샘플의 다른 화면의 관찰 화상에 있어서 동일한 작업을 5회 행하고, 합계 50개분의 입자 직경의 수 평균으로부터 얻어지는 값을 유기 입자의 평균 입자 직경으로 한다.
무기 미립자의 평균 1차 입자 직경 및 무기 미립자의 응집체의 평균 입자 직경은, 먼저, 본 발명의 광학 시트의 단면을 TEM 또는 STEM으로 촬상한다. 촬상 후, 상기 (2) 및 (3)과 동일한 방법을 행함으로써, 무기 미립자의 평균 1차 입자 직경 및 무기 미립자의 응집체의 평균 입자 직경을 산출할 수 있다. TEM 또는 STEM의 가속 전압은 10kV 내지 30kV, 배율은 5만 내지 30만배로 하는 것이 바람직하다.
유기 입자의 함유량은, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하는 관점에서, 요철층을 형성하는 전체 고형분 중의 2 내지 25질량％인 것이 바람직하고, 5 내지 20질량％인 것이 보다 바람직하고, 6 내지 12질량％인 것이 더욱 바람직하다.
무기 미립자로서는, 실리카, 알루미나, 지르코니아 및 티타니아 등을 포함하는 미립자를 들 수 있다. 무기 미립자는, 요철층 중에 균일하게 분포하고 있음으로써, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉽게 할 수 있다. 또한, 무기 미립자는, 요철층 중에서 응집체를 형성하고, 응집체가 소하게 분포하고 있는 것이 바람직하다. 무기 미립자가 응집체를 형성함으로써, 표면 형상의 변동을 적게 하는 효과가 보다 커지고, 그 응집체가 소하게 분포하고 있음으로써 무기 미립자에 의한 확산의 영향을 작게 할 수 있다.
상기 무기 미립자 중에서도, 투명성의 관점, 및 요철층의 표면 형상의 변동을 보다 적게 하는 관점에서 실리카 미립자가 바람직하다.
「요철층 중에서 균일하게 분포하고 있다」란, TEM, STEM 등의 투과형 전자 현미경으로 배율 1만배의 조건으로 요철층의 두께 방향의 유기 입자가 관찰되지 않는 개소로부터 임의의 단면 10군데를 관찰했을 때에, 각 단면에서 5㎛ 사방의 관찰 영역 중의 실리카 미립자의 면적 비율을 측정했을 때, 그 평균값을 M, 그 표준 편차를 S라 했을 때, S/M≤0.1인 것을 의미한다.
「요철층 중에서 응집체가 소하게 분포하고 있다」란, 국소적으로는, 무기 미립자가 불균일하게 분포하고 있는 것을 나타내고, 상기와 마찬가지로 관찰했을 때에, 각 단면에서 0.5㎛ 사방의 관찰 영역 중의 실리카 미립자의 면적 비율을 측정했을 때, 그 평균값을 M, 그 표준 편차를 S로 했을 때, S/M≥0.2인 것을 의미한다.
또한, 이러한 무기 미립자의 분포는, 요철층의 두께 방향의 단면 전자 현미경 관찰로 용이하게 판별할 수 있다. 예를 들어, 도 3은, 실시예 1의 광학 시트의 단면 STEM 사진이며, 하부의 담색 영역이 기재이며, 기재 상부의 농색 띠상 영역이 요철층의 단면이다. 그 요철층의 단면에 있어서, 검게 얼룩지게 관찰되는 부분이 무기 미립자(실리카 미립자)의 응집체이며, 실리카 미립자의 응집체가 요철층 중에서 균일하게 분산되어 있는 것을 명확하게 확인할 수 있다. 또한, 무기 미립자의 응집체의 면적 비율은, 예를 들어, 화상 해석 소프트웨어를 사용하여 산출할 수 있다.
무기 미립자는, 표면 처리되어 있는 것이 바람직하다. 무기 미립자가 표면 처리되어 있음으로써, 요철층 중에서의 무기 미립자의 분포를 적절하게 제어하기 쉽게 할 수 있다. 또한, 무기 미립자 자체의 내약품성 및 내비누화성의 향상을 도모할 수도 있다.
또한, 유기 입자의 주위에 무기 미립자가 밀집하지 않도록 하기 위해서, 유기 미립자로부터 500nm 외측의 원주 내에서 또한 유기 미립자를 제외한 영역에 차지하는 무기 미립자의 면적 비율을 나타내는 「Mn」과, 유기 미립자로부터 500nm 외측의 원주보다 외측의 영역에서의 무기 미립자의 면적 비율을 나타내는 「Mf」가, Mf/Mn≥1.0의 관계를 충족하는 것이 바람직하다. Mn 및 Mf는, TEM, STEM 등의 투과형 전자 현미경으로 배율 1만배의 조건으로 요철층의 두께 방향의 유기 입자가 관찰되는 단면을 현미경 관찰함으로써 산출할 수 있다.
상기 표면 처리로서는, 무기 미립자의 표면을 소수성으로 하는 소수화 처리가 바람직하다. 소수화 처리로서는, 예를 들어, 무기 미립자를, 메틸기, 옥틸기 등의 아크릴기를 갖는 실란 화합물로 처리하는 방법 등을 들 수 있다.
예를 들어, 실리카 미립자의 표면에는 수산기(실라놀기)가 존재하고 있지만, 상기 표면 처리가 됨으로써 실리카 미립자의 표면 수산기가 적어져서, 실리카 미립자가 과도하게 응집하는 것을 방지할 수 있어, 실리카 미립자가 불균일하게 분산되는 것을 억제할 수 있다.
무기 미립자로서 실리카 미립자를 사용하는 경우, 과도한 응집을 억제하기 위하여 비정질 실리카가 바람직하다. 한편, 실리카 미립자가 결정성 실리카인 경우, 결정 구조 중에 포함되는 격자 결함에 의해 실리카 미립자의 루이스산성이 강해지게 되어, 실리카 미립자가 과도하게 응집해버리는 경우가 있다.
실리카 미립자로서는, 그것 자체가 응집하기 쉬워 후술하는 입자 직경의 범위의 응집체를 형성하기 쉽기 때문에, 예를 들어, 퓸드실리카가 바람직하게 사용된다.
퓸드실리카란, 건식법으로 제작된 입자 직경이 200nm 이하인 입자 직경을 갖는 비정질의 실리카를 말하며, 규소를 포함하는 휘발성 화합물을 기상에서 반응시킴으로써 얻어진다. 퓸드실리카는, 예를 들어, SiCl4 등의 규소 화합물을 산소와 수소의 불꽃 중에서 가수분해함으로써 생성할 수 있고, AEROSIL R805(닛본 에어로실사제) 등을 들 수 있다.
무기 미립자의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 요철층을 형성하는 전체 고형분의 1.0 내지 15.0질량％인 것이 바람직하고, 2.0 내지 10.0질량％인 것이 보다 바람직하고, 3.0 내지 8.0질량％인 것이 더욱 바람직하다. 당해 범위로 함으로써, 레벨링성의 제어, 및 요철층의 중합 수축의 억제에 의해, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉽게 할 수 있다.
또한, 요철층 중에 있어서의 유기 입자 및 무기 미립자의 함유량의 비(유기 입자의 함유량/무기 미립자의 함유량)는 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉽게 하는 관점에서, 0.5 내지 2.5인 것이 바람직하고, 0.8 내지 2.2인 것이 보다 바람직하다.
무기 미립자는, 평균 1차 입자 직경이 1 내지 100nm인 것이 바람직하다. 평균 1차 입자 직경을 1nm 이상으로 함으로써, 적절한 응집체를 형성하기 쉬워지고, 100nm 이하로 함으로써, 광 확산에 의한 콘트라스트의 저하, 및 내부 헤이즈의 과잉 상승을 억제할 수 있다. 더 바람직한 하한은 5nm, 더 바람직한 상한은 50nm, 더욱 바람직한 상한은 20nm이다.
실리카 미립자의 응집체는, 도 3의 단면 전자 현미경 사진과 같이, 임의의 방향으로 이어진 구조를 형성하는 것이 바람직하다. 요철층 중에서 실리카 미립자가 임의의 방향으로 이어진 응집체를 형성하고 있음으로써, 유기 입자에 기초하는 균일한 요철 형상을 형성시키기 쉽게 할 수 있다.
또한, 실리카 미립자가 임의의 방향으로 이어진 구조란, 예를 들어, 실리카 미립자가 직선상으로 연속하여 이어진 구조(직쇄 구조), 그 직쇄 구조가 복수 서로 얽힌 구조, 상기 직쇄 구조에 실리카 미립자가 복수 연속하여 형성된 측쇄를 1 또는 2 이상 갖는 분지 구조 등, 임의의 구조를 들 수 있다.
상기와 같이 실리카 미립자가 임의의 방향으로 이어진 응집체를 형성하기 위해서는, 퓸드실리카를 사용하는 것이 바람직하다.
무기 미립자의 응집체는, 평균 입자 직경이 100nm 내지 1㎛인 것이 바람직하다. 응집체의 평균 입자 직경을 100nm 이상으로 함으로써, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉽게 할 수 있고, 1㎛ 이하로 함으로써, 광 확산에 의한 콘트라스트의 저하를 억제할 수 있다. 응집체의 평균 입자 직경의 보다 바람직한 하한은 200nm, 더 바람직한 상한은 800nm이다.
요철층의 바인더 수지는, 열경화성 수지 조성물 또는 전리 방사선 경화성 수지 조성물을 포함하는 것이 바람직하고, 기계적 강도를 보다 좋게 하는 관점에서, 전리 방사선 경화성 수지 조성물을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 그중에서도 자외선 경화성 수지 조성물을 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
열경화성 수지 조성물은, 적어도 열경화성 수지를 포함하는 조성물이며, 가열에 의해 경화되는 수지 조성물이다.
열경화성 수지로서는, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지 조성물에는, 이들 경화성 수지에, 필요에 따라 경화제가 첨가된다.
전리 방사선 경화성 수지 조성물은, 전리 방사선 경화성 관능기를 갖는 화합물(이하, 「전리 방사선 경화성 화합물」이라고도 한다)을 포함하는 조성물이다. 전리 방사선 경화성 관능기로서는, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화 결합기, 및 에폭시기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 전리 방사선 경화성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합기를 갖는 화합물이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합기를 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하고, 그 중에서도, 에틸렌성 불포화 결합기를 2개 이상 갖는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물이 더욱 바람직하다. 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 모노머 및 올리고머 중 어느 것이든 사용할 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴레이트」는, 메타크릴레이트 및 아크릴레이트를 가리키는 것이다.
또한, 본 명세서에 있어서 「전리 방사선」이란, 전자파 또는 하전 입자선 중, 분자를 중합 또는 가교할 수 있는 에너지 양자를 갖는 것을 의미하고, 통상, 자외선(UV) 또는 전자선(EB)이 사용되지만, 기타, X선, γ선 등의 전자파, α선, 이온선 등의 하전 입자선도 사용 가능하다.
전리 방사선 경화성 수지 조성물은, 분자 중에 수산기를 함유하지 않는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물을 50질량％ 이상 포함하는 것이 바람직하고, 60질량％ 이상 포함하는 것이 보다 바람직하다.
분자 중에 수산기를 포함하지 않는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물의 비율을 많게 함으로써, 요철층 형성용 도포액의 용제로서 극성이 높은 용제(예를 들어, 이소프로필알코올)를 사용한 때에, 그 용제를 증발시키기 쉽게 할 수 있어, 무기 미립자의 과잉 응집을 억제할 수 있다.
분자 중에 수산기를 포함하지 않는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 예를 들어, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PETTA), 1,6-헥산디올디아크릴레이트(HDDA), 디프로필렌글리콜디아크릴레이트(DPGDA), 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트(TPGDA), PO 변성 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA), 트리메틸올프로판 에톡시트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA), 펜타에리트리톨에톡시테트라아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PETTA)가 바람직하게 사용된다.
기타의 전리 방사선 경화성 화합물로서는, 에틸(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등의 하나의 불포화 결합을 갖는 화합물, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산트리(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르트리(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르디(메트)아크릴레이트, 비스페놀디(메트)아크릴레이트, 디글리세린테트라(메트)아크릴레이트, 아다만틸디(메트)아크릴레이트, 이소보로닐디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜탄디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디(메트)아크릴레이트 등의 2 이상의 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다.
또한, 본 발명에서는, 전리 방사선 경화성 화합물로서, 상술한 화합물을 PO, EO 등으로 변성한 것도 사용할 수 있다.
또한, 전리 방사선 경화성 화합물로서, 불포화 이중 결합을 갖는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 사용할 수 있다.
전리 방사선 경화성 화합물이 자외선 경화성 화합물일 경우에는, 전리 방사선 경화성 조성물은, 광중합 개시제나 광중합 촉진제 등의 첨가제를 포함하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 아세토페논, 벤조페논, α-히드록시알킬페논, 미힐러 케톤, 벤조인, 벤질메틸케탈, 벤조일벤조에이트, α-아실옥심에스테르, 티오크산톤류 등 중에서 선택되는 1종 이상을 들 수 있다.
이들 광중합 개시제는, 융점이 100℃ 이상인 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 융점을 100℃ 이상으로 함으로써, 터치 패널의 투명 도전막 형성 시나 결정 화 공정의 열에 의해 잔류한 광중합 개시제가 승화되어, 투명 도전막의 저저항화가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 광중합 촉진제는, 경화 시의 공기에 의한 중합 저해를 경감시켜 경화 속도를 빠르게 할 수 있는 것이며, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, p-디메틸아미노벤조산에틸에스테르 등 중에서 선택되는 1종 이상을 들 수 있다.
요철층의 두께는, 컬 억제, 기계적 강도, 경도 및 인성과의 밸런스의 관점에서, 2 내지 10㎛인 것이 바람직하고, 5 내지 8㎛인 것이 보다 바람직하다.
요철층의 두께는, 예를 들어, 주사형 투과 전자 현미경(STEM)을 사용하여 촬영한 단면의 화상으로부터 20군데의 두께를 측정하고, 20군데의 값의 평균값으로부터 산출할 수 있다. STEM의 가속 전압은 10kv 내지 30kV, 배율은 1000 내지 7000배로 하는 것이 바람직하다.
요철층 형성 도포액에는, 통상, 점도를 조절하거나, 각 성분을 용해 또는 분산 가능하게 하기 위하여 용제를 사용한다. 용제의 종류에 따라, 도포, 건조한 후의 요철층의 표면 상태가 상이하기 때문에, 용제의 포화 증기압, 투명 기재에 대한 용제의 침투성 등을 고려하여 용제를 선정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 용제는, 예를 들어, 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등), 에테르류(디옥산, 테트라히드로푸란 등), 지방족 탄화수소류(헥산 등), 지환식 탄화수소류(시클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 에스테르류(아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등), 알코올류(부탄올, 시클로헥산올 등), 셀로솔브류(메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브 아세테이트류, 술폭시드류(디메틸술폭시드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등) 등을 예시할 수 있고, 이들의 혼합물이어도 된다.
용제의 건조가 느린 경우, 요철층 내에서 무기 미립자가 과도하게 응집하여, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 어려워진다. 무기 미립자의 과도한 응집을 방지하기 위해서, 용제는, 극성이 높고, 또한 휘발 속도가 빠른 것을 소정량 함유시키는 것이 바람직하다.
또한, 극성이 높고, 휘발 속도가 빠른 용제는, 다른 용제보다도 먼저 휘발하기 때문에, 도막 형성 시에 유기 미립자의 주위의 소수성이 강해진다. 이 때문에, 극성이 높고, 휘발 속도가 빠른 용제를 사용함으로써, 유기 입자의 주위에 무기 미립자가 편재되는 것을 방지할 수 있어, 요철층 내에서 유기 입자와 무기 미립자가 밀집하지 않고 균일하게 분산될 수 있다.
본 명세서에 있어서 「극성이 높은 용제」란, 용해도 파라미터가 10[(cal/㎤)1/2] 이상인 용제를 의미하고, 「휘발 속도가 빠른 용제」란, 상대 증발 속도가 150 이상인 용제를 의미한다.
용해도 파라미터는, Fedors의 방법으로 계산된다. Fedors의 방법은, 예를 들어 「SP값 기초·응용과 계산 방법」(야마모토 히데키 저, 가부시키가이샤 죠호키코 발행, 2005년)에 기재되어 있다. Fedors의 방법에 있어서, 용해도 파라미터는 하기 식으로부터 산출된다.
용해도 파라미터=[ΣEcoh/ΣV]2
상기 식 중, Ecoh는 응집 에너지 밀도, V는 몰 분자 용적이다. 원자단마다 정해진 Ecoh 및 V에 기초하여, Ecoh 및 V의 총합인 ΣEcoh 및 ΣV를 구함으로써, 용해도 파라미터를 산출할 수 있다.
본 명세서에 있어서 「상대 증발 속도」란, n-아세트산부틸의 증발 속도를 100으로 했을 때의 상대 증발 속도를 말하며, ASTM D3539-87에 준거하여 측정되는 증발 속도이며, 하기 식에 의해 산출된다. 구체적으로는, 25℃, 건조 공기 하에서의 n-아세트산부틸의 증발 시간과 각 용제의 증발 시간을 측정하여 산출한다.
상대 증발 속도=[(n-아세트산부틸 90중량％가 증발하는 데 요하는 시간)/(측정 용제의 90중량％가 증발하는 데 요하는 시간)]×100
극성이 높고, 또한, 휘발 속도가 빠른 용제로서는, 예를 들어, 에탄올, 이소프로필알코올 등을 들 수 있는데, 그중에서도, 이소프로필알코올이 바람직하다.
또한, 극성이 높고, 또한, 휘발 속도가 빠른 용제의 함유량은, 전체 용제의 10 내지 40질량％인 것이 바람직하다. 10질량％ 이상으로 함으로써, 무기 미립자의 과도한 응집을 억제하기 쉽게 할 수 있고, 40질량％ 이하로 함으로써, 용제의 휘발이 너무 빠른 것에 의해 요철층 형성 도포액의 레벨링성이 부족한 것을 억제할 수 있다.
또한, 상술한 요철 형상을 얻기 쉽게 하는 관점에서는, 요철층을 형성할 때, 건조 조건을 제어하는 것이 바람직하다. 건조 조건은, 건조 온도 및 건조기 내의 풍속에 의해 조정할 수 있다. 구체적인 건조 온도로서는, 30 내지 120℃, 건조 풍속에서는 0.2 내지 50m/s로 하는 것이 바람직하다. 또한, 건조 조건에 의해 요철층의 레벨링을 제어하기 위해서, 전리 방사선의 조사는 건조 후에 행하는 것이 바람직하다.
또한, 표면 요철을 적절하게 매끄럽게 해서, 상술한 요철 형상을 얻기 쉽게 하는 관점에서는, 요철층 형성 도포액에는, 레벨링제를 함유시키는 것이 바람직하다. 레벨링제는, 불소계 또는 실리콘계의 것을 들 수 있고, 요철층에 버나드 셀 구조가 발생하는 것을 억제하기 쉬운 불소계의 레벨링제가 바람직하다. 레벨링제의 첨가량으로서는, 요철층 형성 도포액의 전체 고형분에 대하여 0.01 내지 0.5 중량 ％가 바람직하고, 0.05 내지 0.2중량％가 보다 바람직하다.
또한, 요철층 형성 도포액은, (1) 용제에 바인더 수지 및 유기 입자를 혼합 및 교반하여 중간 조성물을 조제하는 공정 후, (2) 중간 조성물에 무기 미립자를 혼합, 분산시키는 공정을 행함으로써 조제하는 것이 바람직하다.
요철층 형성 도포액을 상기와 같이 조정함으로써, 요철층의 표면 형상의 변동을 억제하기 쉽게 할 수 있다. 한편, 상기 조정과는 다른 방법의 경우(유기 입자나 바인더 수지를 첨가하기 전에, 무기 미립자를 용제에 첨가한 경우), 용제 어택에 의해 무기 미립자의 과잉 응집이 발생해버려, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 어려워진다.
상기 효과를 보다 확실하게 하기 위해서, 공정 (2)에서 무기 미립자를 첨가할 때, 무기 미립자는 용제에 분산시킨 무기 미립자 분산물인 것이 바람직하다.
광학 시트의 투명 기재로서는, 광투과성, 평활성, 내열성을 구비하고, 기계적 강도가 우수한 것인 것이 바람직하다. 이러한 투명 기재로서는, 폴리에스테르, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산메틸, 폴리카르보네이트, 폴리우레탄 및 비정질 올레핀(Cyclo-Olefin-Polymer: COP) 등의 플라스틱 필름을 들 수 있다. 투명 기재는, 2매 이상의 플라스틱 필름을 접합한 것이어도 된다.
상기한 것 중에서도, 기계적 강도나 치수 안정성의 관점에서는, 연신 가공, 특히 2축 연신 가공된 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트)가 바람직하다.
TAC, 아크릴은 광투과성 광학적 등방성의 관점에서 바람직하다. 또한, TAC, 아크릴은 용제에 의해 녹기 쉽고, 용해된 TAC 성분, 아크릴 성분이 요철층에 유입되어, 비중이 작은 유기 입자를 밀어올리는 작용이 있다. 즉, 투명 기재로서, TAC, 아크릴을 사용함으로써, 유기 입자가 요철층 중에서 가라앉기 어려워져, 요철층의 표면 형상의 변동을 적게 하기 쉬워진다고 생각된다.
COP, 폴리에스테르는 내후성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 리타데이션값 3000 내지 30000nm의 플라스틱 필름 또는 1/4 파장 위상차의 플라스틱 필름은, 편광 선글라스를 통하여 액정 디스플레이의 화상을 관찰한 경우에, 표시 화면에 색이 상이한 분균일이 관찰되는 것을 방지할 수 있는 점에서 바람직하다.
투명 기재의 두께는, 5 내지 300㎛인 것이 바람직하고, 30 내지 200㎛인 것이 보다 바람직하다.
투명 기재의 표면에는, 접착성 향상을 위해 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제 또는 프라이머라고 불리는 도료의 도포를 미리 행해도 된다.
광학 시트는, 요철 형상 위 및/또는 요철 형상과 반대측의 면 상에, 반사 방지층, 방오층, 대전 방지층 등의 기능성층을 갖고 있어도 된다. 또한, 투명 기재 상에 요철층을 갖는 구성의 경우, 상기 개소 외에, 투명 기재와 요철층 사이에 기능성층을 갖고 있어도 된다.
본 발명의 터치 패널은, 방현성 등의 여러 특성을 부여하면서 눈부심 방지성을 보다 양호하게 할 수 있다. 특히, 광학 시트를 터치 패널의 표면 부재로서 사용하고, 또한 광학 시트의 요철 형상측의 면이 표면이 되도록 배치함으로써, 콘트라스트의 저하를 억제하면서 방현성을 부여하기 쉬워지는 점에서 바람직하다.
[표시 장치]
본 발명의 표시 장치는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 광학 시트를 갖고 이루어지는 표시 장치이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것이다.
화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자는, 상술한 바와 같이 눈부심을 발생시키기 쉽지만, 본 발명에서는, 요철 형상을 갖는 광학 시트로서 특정한 광학 시트를 사용함으로써, 방현성 등의 여러 특성을 부여하면서 눈부심을 방지할 수 있다.
본 발명의 표시 장치에 사용하는 광학 시트로서는, 상술한 본 발명의 터치 패널에 사용하는 광학 시트와 동일한 것을 사용할 수 있다.
표시 소자로서는, 액정 표시 소자, 인셀 터치 패널 액정 표시 소자, EL 표시 소자, 플라스마 표시 소자 등을 들 수 있다.
인셀 터치 패널 액정 소자는, 2매의 유리 기판 사이에 액정을 끼워서 이루어지는 액정 소자의 내부에, 저항막식, 정전 용량식, 광학식 등의 터치 패널 기능을 내장한 것이다. 또한, 인셀 터치 패널 액정 소자의 액정 표시 방식으로서는, IPS 방식, VA 방식, 멀티 도메인 방식, OCB 방식, STN 방식, TSTN 방식 등을 들 수 있다. 인셀 터치 패널 액정 소자는, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2011-76602호 공보, 일본 특허 공개 제2011-222009호 공보에 기재되어 있다.
광학 시트는, 예를 들어, 이하의 순서로 표시 소자의 전방면에 설치할 수 있다.
(a) 표시 소자/표면 보호판/광학 시트
(b) 표시 소자/광학 시트
(c) 표시 소자/광학 시트를 구성 부재로서 갖는 터치 패널
(d) 표시 소자/광학 시트/표면 보호판
(a) 및 (b)의 경우, 광학 시트의 요철면이 표면을 향하도록(요철면이 표시 소자와는 반대측을 향하도록) 배치함으로써, 방현성을 부여할 수 있음과 함께, 눈부심을 방지할 수 있고, 나아가, 표면이나 표시 소자에 발생한 흠집을 보이기 어렵게 할 수 있다.
(c)의 경우, 상술한 본 발명의 터치 패널의 실시 형태와 같이 광학 시트를 배치함으로써, 방현성 등의 여러 특성을 부여하면서, 눈부심을 방지할 수 있다.
또한, (b) 및 (d)의 경우, 광학 시트의 요철면이 표시 소자측을 향하도록 하여 공기층을 개재하여 배치하면, 밀착 및 간섭 줄무늬를 방지함과 함께, 표시 소자에 발생한 흠집을 잘 보이지 않게 할 수 있다.
최근의 스마트폰으로 대표되는 휴대 정보 단말기는, 옥외에서 사용하는 경우가 많다. 이 때문에, 본 발명의 표시 장치는, 표시 장치의 최표면에 광학 시트를 배치하고, 또한 요철면이 표면측(표시 소자와는 반대측)을 향하도록 하여 사용하는 것이 바람직하다.
[광학 시트]
본 발명의 광학 시트는, 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트이며, 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 것이다.
본 발명의 광학 시트로서는, 상술한 본 발명의 터치 패널에 사용하는 광학 시트와 동일한 것을 들 수 있다.
본 발명의 광학 시트는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용함으로써 방현성 등의 여러 특성을 부여하면서, 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심 및 해상도의 저하를 방지할 수 있는 점에서 바람직하다.
최근의 스마트폰으로 대표되는 휴대 정보 단말기는, 옥외에서 사용하는 경우가 많다. 이 때문에, 본 발명의 광학 시트는, 터치 패널이나 표시 장치의 최표면에 있어서, 요철면이 표면측(표시 소자와는 반대측)을 향하도록 하여 사용하는 것이 바람직하다.
[광학 시트의 선별 방법]
본 발명의 광학 시트의 선별 방법은, 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 선별 방법이며, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것을 광학 시트로서 선별하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 선별 방법이다.
본 발명의 광학 시트의 선별 방법에서는, 표시 장치에 광학 시트를 내장하지 않아도, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자에 사용한 때에 눈부심 방지성이 양호한 광학 시트를 선별할 수 있어, 광학 시트의 품질 관리를 효율적으로 할 수 있다.
광학 시트를 선별하는 판정 조건은, 상기 조건 A-1 및 A-2, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 필수 조건으로 한다. 광학 시트를 선별하는 판정 조건은, 상기 조건 A-1 및 A-2, 및 상기 조건 B-1 및 B-2를 필수 조건으로 하는 것이 바람직하다.
각 조건의 수치 범위는, 상술한 광학 시트의 바람직한 수치 범위인 것이 바람직하다. 예를 들어, 조건 A-1의 판정 조건은, σSRa가 0.040㎛ 이하인 것이 바람직하다.
판정 조건으로서 조건 B-1 및 B-2를 포함하는 경우, 보다 정확하게 눈부심을 방지할 수 있는 광학 시트를 선별하는 관점에서, 추가로 이하의 조건 B-3 및 B-4를 판정 조건으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 판정 조건으로서 조건 A-1 및 A-2를 포함하는 경우, 및 판정 조건으로서 조건 B-1 및 B-2를 포함하는 경우, 보다 정확하게 눈부심을 방지할 수 있는 광학 시트를 선별하는 관점에서, 추가로 이하의 조건 C-1을 판정 조건으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 조건 B-3, B-4 및 C-1의 수치 범위는, 상술한 광학 시트의 적합한 수치 범위인 것이 바람직하다.
조건 B-3: C0.125가 30.0％ 이상.
조건 B-4: C2.0이 40.0％ 이상.
조건 C-1: 광학 시트의 내부 헤이즈가 15 내지 40％.
[광학 시트의 제조 방법]
본 발명의 광학 시트의 제조 방법은, 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 제조 방법이며, 상기 광학 시트가, 상기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 제조 방법이다.
본 발명의 광학 시트의 제조 방법에서는, 방현성 등의 여러 특성을 부여할 수 있음과 함께, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 영상광의 눈부심을 방지할 수 있는 광학 시트를 효율적으로 제조할 수 있다.
본 발명의 광학 시트의 제조 방법은, 상기 조건 A-1 및 A-2, 또는, 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조 조건을 제어하는 것을 필수로 한다. 본 발명의 광학 시트의 제조 방법은, 상기 조건 A-1 및 A-2, 및 상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조 조건을 제어하는 것이 바람직하다.
각 조건의 수치 범위는, 상술한 광학 시트의 적합한 수치 범위인 것이 바람직하다. 예를 들어, 조건 A-1은, σSRa가 0.040㎛ 이하인 것이 바람직하다.
상기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조 조건을 제어하는 경우, 또한 상기 조건 B-3 및 B-4를 충족하도록 제조 조건을 제어하는 것이 바람직하다.
또한, 제조 조건의 제어에 조건 A-1 및 A-2를 포함하는 경우, 및 제조 조건의 제어에 조건 B-1 및 B-2를 포함하는 경우, 또한 상기 조건 C-1을 충족하도록 제조 조건을 제어하는 것이 바람직하다.
조건 A-1, A-2, B-1 내지 B-4는, 요철층의 표면 형상에 변동이 적게 함으로써 제어할 수 있다.
조건 A-1, A-2, B-1 내지 B-4를 제어하는 구체적 수단은, 요철층을 형에 의해 형성하는 경우에는 형의 형상을 제어하면 된다. 또한, 요철층을 코팅에 의해 형성하는 경우의 조건 A-1, A-2, B-1 내지 B-4를 제어하는 구체적 수단은, 유기 입자, 무기 미립자, 바인더 수지, 레벨링제, 용제 및 건조 조건을 상술한 바람직한 실시 형태로 하는 것을 들 수 있다.
조건 C-1은, 내부 확산 요소에 의해 제어할 수 있다. 구체적으로는, 바인더 수지의 굴절률, 유기 입자의 형상, 유기 입자의 입자 직경, 유기 입자의 첨가량 및 유기 입자의 굴절률 등의 조정에 의해, 내부 확산 요소를 제어할 수 있다. 또한, 바인더 수지에 첨가하는 유기 입자 이외의 재료(무기 미립자)의 농도 등도 내부 확산 요소에 영향을 준다.
실시예
이어서, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들의 예에 의해 전혀 한정되지 않는다. 또한, 「부」 및 「％」는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준으로 한다.
1. 광학 시트의 물성 측정 및 평가
이하와 같이, 실시예 및 비교예의 광학 시트의 물성 측정 및 평가를 행하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
1-1. 광학 시트의 요철 형상
<SRa>
실시예 및 비교예에서 얻어진 각 광학 시트의 요철층이 형성되어 있는 면과는 반대측의 면에, 투명 점착제를 통하여, 유리판에 부착하여 샘플로 하고, 백색 간섭 현미경(New View7300, Zygo사제)을 사용하여, 이하의 조건으로, 광학 시트의 표면 형상의 측정·해석을 행하였다.
또한, 측정·해석 소프트웨어에는 MetroPro ver 8.3.2의 Microscope Application을 사용하였다.
(측정 조건)
대물 렌즈: 50배
Zoom: 1배
측정 영역: 1mm×1mm
해상도(1점당의 간격): 0.44㎛
(해석 조건)
Removed: None
Filter: BandPass
FilterType: GaussSpline
Low wavelength: 800㎛
High wavelength: 3㎛
Remove spikes: on
Spike Height(xRMS): 2.5
Low wavelength는, 조도 파라미터에 있어서의 컷오프값 λc에 상당한다.
측정 데이터를 12×12의 144개의 영역(하나의 영역은 64㎛ 사방)으로 분할하고, Surface Map 화면 상에 각 영역의 SRa를 표시시켰다. 각 영역의 SRa로부터 σSRa 및 SRaAVE를 산출하였다.
1-2. 투과상 선명도
스가 시껭끼사제의 사상성 측정기(상품명: ICM-1T)를 사용하여, JIS K7374에 따라서, 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1mm 및 2mm의 폭을 갖는 광학 빗을 통과한 5종류의 투과상 선명도를 측정하였다.
1-3. 헤이즈
먼저, 헤이즈 미터(HM-150, 무라카미시키사이 기쥬츠 겐큐죠제)를 사용하여, JIS K-7136: 2000에 따라서 헤이즈(전체 헤이즈)를 측정하였다. 또한, 광학 시트의 표면에, 투명 점착제를 통하여, 두께 80㎛의 TAC 필름(후지필름사제, TD80UL)을 부착함으로써 요철 형상을 찌부러뜨려서 평탄하게 하여, 표면 형상에 기인한 헤이즈 영향을 없앤 상태에서 헤이즈를 측정하고, 내부 헤이즈(Hi)를 구하였다. 그리고, 전체 헤이즈값으로부터 내부 헤이즈값을 차감하여, 표면 헤이즈(Hs)를 구하였다. 광 입사면은 기재측으로 하였다.
1-4. 눈부심
실시예 및 비교예에서 얻어진 각 광학 시트에 있어서, 광학 시트의 요철층이 형성되어 있지 않은 면과, 블랙 매트릭스(유리 두께 0.7mm)의 매트릭스가 형성되어 있지 않은 유리면을 투명 점착제로 접합하였다. 이렇게 하여 얻어진 시료에 대하여 블랙 매트릭스측에 백색면 광원(HAKUBA사제, LIGHTBOX, 평균 휘도 1000cd/㎡)을 설치함으로써, 의사적으로 눈부심을 발생시켰다. 이것을 광학 시트측으로부터 CCD 카메라(KP-M1, C 마운트 어댑터, 접사 링; PK-11A 니콘, 카메라 렌즈; 50mm, F 1.4s NIKKOR)로 촬영하였다. CCD 카메라와 광학 시트의 거리는 250mm로 하고, CCD 카메라의 포커스는 광학 시트에 맞게 조절하였다. CCD 카메라로 촬영한 화상을 퍼스널 컴퓨터에 도입하고, 화상 처리 소프트웨어(ImagePro Plus ver. 6.2; Media Cybernetics사제)로 다음과 같이 해석을 행하였다.
먼저, 도입한 화상으로부터 200×160 픽셀의 평가 개소를 선택하고, 그 평가 개소에 있어서, 16bit 그레이스케일로 변환하였다. 이어서, 필터 커맨드의 강조 탭으로부터 저역 통과 필터를 선택하여 「3×3, 횟수 3, 강도 10」의 조건으로 필터를 걸었다. 이에 의해 블랙 매트릭스 패턴 유래의 성분을 제거하였다. 이어서, 평탄화를 선택하고, 「배경: 어두움, 오브젝트 폭 10」의 조건으로 쉐이딩 보정을 행하였다. 이어서, 콘트라스트 강조 커맨드로 「콘트라스트: 96, 휘도: 48」로 하여 콘트라스트 강조를 행하였다. 얻어진 화상을 8비트 그레이스케일로 변환하고, 그 중에 150×110 픽셀에 대하여 픽셀마다의 값의 변동을 표준 편차값으로 하여 산출함으로써, 눈부심을 수치화하였다. 이 수치화한 눈부심값이 작을수록, 눈부심이 적다고 말할 수 있다. 또한, 평가는, 블랙 매트릭스가 화소 밀도 350ppi 상당의 것과, 화소 밀도 200ppi 상당의 것의 2가지로 행하였다.
1-5. 방현성
얻어진 광학 시트의 기재측에, 흑색 아크릴판을, 투명 점착제를 통하여 접합한 평가용 샘플을 수평면에 두고, 평가용 샘플로부터 1.5m 상방에 형광등을 배치하여, 평가용 샘플 상에 형광등을 투영하고, 또한 평가용 샘플 상의 조도를 800 내지 1200Lx로 한 환경 하에서, 여러가지 각도로부터 육안 관능 평가를 행하고, 이하의 기준에 따라서 평가하였다.
A: 어떤 각도로부터든 형광등의 상을 인식할 수 없다.
B: 형광등의 상은 투영되지만, 형광등의 윤곽이 희미해져서, 윤곽의 경계부를 인식할 수 없다.
C: 형광등의 상이 경면과 같이 투영되어, 형광등의 윤곽(윤곽의 경계부)을 분명히 인식할 수 있다.
1-6. 백화
광학 시트의 투명 기재측의 면과, 흑색의 아크릴판을 투명 점착제를 통하여 접합한 샘플을 제작하였다. 제작한 샘플에 대해서, 암실에서, 3 파장 형광등관을 광원으로 하는 탁상 스탠드 하에서, 이하의 기준으로 백탁감을 관찰하였다.
A: 백탁감이 관찰되지 않았다.
C: 백탁감이 관찰되었다.
1-7. 간섭 줄무늬
2매의 광학 시트를, 한쪽 광학 시트의 요철면측과, 다른 쪽 광학 시트의 투명 기재측이 대향하도록 하여 중첩하였다. 그 결과, 간섭 줄무늬가 발생하지 않은 것을 「A」, 간섭 줄무늬가 발생한 것을 「C」라 하였다.
2. 요철층 형성 도포액의 조제
2-1. 요철층 형성 도포액 1
하기에 나타낸 배합을 비즈 밀로 분산시켜서 중간 조성물을 얻었다. 계속해서, 하기에 나타낸 배합을 비즈 밀로 분산시켜서 무기 미립자 분산물을 얻었다. 또한, 중간 조성물을 디스퍼로 교반하면서, 무기 미립자 분산물을 서서히 첨가해도 되는, 요철층 형성 도포액 1을 얻었다.
(중간 조성물)
·유기 입자(비친수화 처리 폴리스티렌 입자, 평균 입자 직경 3.5㎛, 굴절률 1.59, 비중 1.05, 세키스이 플라스틱사제)/11질량부
·펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(비중 1.165)/60질량부
·우레탄 아크릴레이트(상품명 「V-4000BA」, DIC사제)/40질량부
·광중합 개시제(상품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제)/5질량부
·폴리에테르 변성 실리콘(상품명 「TSF4460」, 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사제)/0.025질량부
·톨루엔/100질량부
·이소프로필알코올/40질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트/25질량부
(무기 미립자 분산물)
·퓸드실리카(옥틸 실란 처리; 평균 1차 입자 직경 12nm, 비중 2.00, 닛본 에어로실사제)/7질량부
·톨루엔/55질량부
·이소프로필알코올/20질량부
2-2. 요철층 형성 도포액 2
중간 조성물에 있어서의 유기 입자의 배합량을 14질량부로 한 것 이외에는, 요철층 형성 도포액 1과 동일하게 하여 요철층 형성 도포액 2를 얻었다.
2-3. 요철층 형성 도포액 3
중간 조성물에 있어서의 유기 입자의 배합량을 8질량부로 하고, 또한 무기 미립자 분산물에 있어서의 퓸드실리카의 배합량을 9질량부로 한 것 이외에는, 요철층 형성 도포액 1과 동일하게 하여 요철층 형성 도포액 3을 얻었다.
2-4. 요철층 형성 도포액 4
중간 조성물에 있어서의 유기 입자를, 비친수화 처리 아크릴-스티렌 공중합체 입자(평균 입자 직경 3.5㎛, 굴절률 1.57, 비중 1.08, 세키스이 플라스틱사제)로서 배합량을 12질량부로 한 것 이외에는, 요철층 형성 도포액 1과 동일하게 하여 요철층 형성 도포액 4를 얻었다.
2-5. 요철층 형성 도포액 5
하기에 나타낸 배합을 비즈 밀로 분산시켜서 요철층용 조성물 5를 얻었다.
·유기 입자(비친수화 처리 폴리스티렌 입자, 평균 입자 직경 3.5㎛, 굴절률 1.59, 비중 1.06, 소껜 가가꾸사제)/14질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트/100질량부
·아크릴 중합체(분자량 75,000, 미쯔비시 레이온사제)/10질량부
·광중합 개시제(상품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제)/5질량부
·폴리에테르 변성 실리콘(상품명 「TSF4460」, 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사제)/0.025질량부
·톨루엔/120질량부
·시클로헥사논/30질량부
2-6. 요철층 형성 도포액 6
유기 입자를, 비친수화 처리 아크릴-스티렌 공중합체 입자(평균 입자 직경 3.5㎛, 굴절률 1.57, 비중 1.08, 세키스이 플라스틱사제)로 한 것 이외에는, 요철층용 조성물 5와 동일하게 하여 요철층용 조성물 6을 얻었다.
2-7. 요철층 형성 도포액 7
유기 입자를 배합하지 않는 이외에는 요철층용 조성물 5와 동일하게 하여 요철층용 조성물 7을 얻었다.
3. 광학 시트의 제작
[실시예 1]
투명 기재(두께 80㎛트리아세틸셀룰로오스 수지 필름, 후지필름사제, TD80UL) 상에 요철층 형성 도포액 1을 도포하고, 70℃, 풍속 5m/s로 30초간 건조한 후, 자외선을 질소 분위기(산소 농도 200 ppm 이하) 하에서 적산 광량이 100mJ/㎠가 되도록 조사하여, 요철층을 형성하여, 광학 시트를 얻었다. 요철층의 막 두께는 6.0㎛였다.
[실시예 2 내지 4]
요철층 형성 도포액 1을 요철층 도포액 2 내지 4로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2 내지 4의 광학 시트를 얻었다.
[비교예 1]
요철층 형성 도포액 1을 요철층 도포액 5로 하고, 또한 요철층의 막 두께를 4.5㎛로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 광학 시트를 얻었다.
[비교예 2]
요철층 형성 도포액 5를 요철층 도포액 6으로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 광학 시트를 얻었다.
[비교예 3]
요철층 형성 도포액 5를 요철층 도포액 7로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 광학 시트를 얻었다.
표 1의 결과로부터 명백해진 바와 같이, 실시예 1 내지 4의 광학 시트는, 방현성 등의 여러 특성을 부여할 수 있음과 함께, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자의 눈부심을 방지할 수 있고, 나아가 콘트라스트도 우수한 것이었다. 또한, 실시예 1 내지 4의 광학 시트는, 화소 밀도 350ppi의 표시 소자의 눈부심 방지성에 대해서는, 비교예 1 내지 2의 광학 시트보다도 매우 양호한 효과를 나타내고 있지만, 화소 밀도 200ppi의 표시 소자의 눈부심 방지 성능에 대해서는, 비교예 1 내지 2의 광학 시트와의 효과의 차가 적게 되어 있다. 이것으로부터, 실시예 1 내지 4의 광학 시트는, 화소 밀도 300ppi 이상의 초고해상도의 표시 소자에 대하여 극히 유용함을 알 수 있다.
또한, 비교예 3의 것은, 요철층 중에 투광성 입자를 함유하지 않기 때문에 눈부심 방지성은 우수하지만, 방현성이 열화됨과 함께, 간섭 줄무늬가 발생해버려, 사용에 견딜 수 없는 것이었다.
4. 터치 패널의 제작
실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 광학 시트의 투명 기재측에, 두께 20nm의 ITO의 도전성 막을 스퍼터링법으로 형성하여, 상부 전극판으로 하였다. 계속해서, 두께 1mm의 강화 유리판의 한쪽 면에, 두께 약 20nm의 ITO의 도전성 막을 스퍼터링법으로 형성하여, 하부 전극판으로 하였다. 계속해서, 하부 전극판의 도전성 막을 갖는 면에, 스페이서용 도포액으로서 전리 방사선 경화형 수지(Dot Cure TR5903: 태양 잉크사)를 스크린 인쇄법에 의해 도트상으로 인쇄한 후, 고압 수은등으로 자외선을 조사하고, 직경 50㎛, 높이 8㎛의 스페이서를 1mm의 간격으로 배열시켰다.
계속해서, 상부 전극판과 하부 전극판을, 도전성 막끼리를 대향하도록 배치시켜, 두께 30㎛, 폭 3mm의 양쪽면 접착 테이프로 테두리를 접착하여, 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 저항막식 터치 패널을 제작하였다.
얻어진 저항막식 터치 패널을, 시판하고 있는 초고해상도 액정 표시 장치(화소 밀도 350ppi) 상에 적재하고, 눈부심의 유무를 눈으로 평가한 바, 실시예 1 내지 4의 터치 패널은 눈부심이 억제되고, 외광의 투영도 적어, 시인성이 양호했다. 또한, 실시예 1 내지 4의 터치 패널은 초고해상도의 영상 해상도가 손상되는 일도 없고, 명실 환경 하의 콘트라스트도 양호하였다. 한편, 비교예 1 내지 2의 터치 패널은 눈부심이 눈에 띄는 것이었다. 또한, 비교예 3의 터치 패널은 외광이 투영되어버려, 시인성이 양호하지 않았다.
5. 표시 장치의 제작
실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 광학 시트와, 시판하고 있는 초고해상도 액정 표시 장치(화소 밀도 350ppi)를 투명 점착제를 통하여 접합하여, 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3의 표시 장치를 제작하였다. 또한, 접합 시에는, 광학 시트의 요철면이 표시 소자와는 반대측을 향하도록 하였다.
얻어진 표시 장치의 눈부심 유무를 눈으로 평가한 바, 실시예 1 내지 4의 표시 장치는 눈부심이 억제되고, 외광의 투영도 적어, 시인성이 양호하였다. 또한, 실시예 1 내지 4의 표시 장치는 초고해상도의 영상 해상도가 손상되지도 않고, 명실 환경 하의 콘트라스트도 양호하였다. 한편, 비교예 1 내지 2의 표시 장치는 눈부심이 눈에 띄는 것이었다. 또한, 비교예 3의 표시 장치는 외광이 투영되어버려, 시인성이 양호하지 않았다.
1: 저항막식 터치 패널
11: 투명 기판
12: 투명 도전막
13: 스페이서
2: 정전 용량식 터치 패널
21: 투명 기판
22: 투명 도전막(X축 전극)
23: 투명 도전막(Y축 전극)
24: 접착제층
11: 투명 기판
12: 투명 도전막
13: 스페이서
2: 정전 용량식 터치 패널
21: 투명 기판
22: 투명 도전막(X축 전극)
23: 투명 도전막(Y축 전극)
24: 접착제층
Claims (7)
- 광학 시트를 구성 부재로서 갖는 터치 패널이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 터치 패널.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상. - 제1항에 있어서, 상기 광학 시트의 내부 헤이즈가 15 내지 40％인 터치 패널.
- 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 광학 시트를 갖고 이루어지는 표시 장치이며, 상기 광학 시트는 표면에 요철 형상을 갖고, 또한 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 표시 장치.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상. - 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트이며, 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상. - 제4항에 있어서, 상기 광학 시트는, 내부 헤이즈가 15 내지 40％인 광학 시트.
- 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 선별 방법이며, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하는 것을 광학 시트로서 선별하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 선별 방법.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
조건 B-2: C2.0과 C1.0의 차가 10.0％ 이상. - 표면에 요철 형상을 갖는 광학 시트의 제조 방법이며, 상기 광학 시트가, 하기 조건 A-1 및 A-2를 충족하거나, 또는, 하기 조건 B-1 및 B-2를 충족하도록 제조하는, 화소 밀도 300ppi 이상의 표시 소자의 전방면에 사용되는 광학 시트의 제조 방법.
조건 A-1: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 표준 편차 σSRa를 산출했을 때에, σSRa가 0.050㎛ 이하.
조건 A-2: 상기 요철 형상의 표면을 64㎛ 사방의 측정 영역으로 분할하고, 각 측정 영역에서의 삼차원 산술 평균 조도 SRa를 구하고, 전체 측정 영역의 삼차원 산술 평균 조도의 평균 SRaAVE를 산출했을 때에, SRaAVE가 0.100㎛ 이상.
조건 B-1: JIS K7374에 준거하여, 사상성 측정기의 광학 빗의 폭이 0.125mm, 0.25mm, 0.5mm, 1.0mm 및 2.0mm 각각에 대하여 상기 광학 시트의 투과상 선명도를 측정한다. 광학 빗의 폭이 0.125mm인 투과상 선명도를 C0.125, 광학 빗의 폭이 0.25mm인 투과상 선명도를 C0.25, 광학 빗의 폭이 0.5mm인 투과상 선명도를 C0.5, 광학 빗의 폭이 1.0mm인 투과상 선명도를 C1.0, 광학 빗의 폭이 2.0mm인 투과상 선명도를 C2.0이라 했을 때에, C0.125, C0.25, C0.5 및 C1.0의 최댓값과 최솟값의 차가 6.0％ 이내.
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