KR20230002866A - 광학 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 정보 기기 - Google Patents

광학 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 정보 기기 Download PDF

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KR20230002866A
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Abstract

광학 시트(5)는, 적어도 제1면에 요철 형상을 갖는 광학 시트이다. 상기 제1면의 JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트가 4% 이하이다. 상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 산술 평균 조도(Ra)가 0.6㎛ 이하여도 된다. 상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 피크 카운트(RPc)가 16 이상이어도 된다.

Description

광학 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 정보 기기
본 개시는, 광학 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 정보 기기에 관한 것이다.
근년, 스마트폰이나 태블릿 단말기 등의 각종 정보 기기의 표시 장치로서, 액정 표시 장치(이하, LCD(액정 디스플레이)라고 하는 경우도 있음)가 널리 이용되고 있다. LCD의 백라이트 유닛(이하, BLU라고도 함)으로는, 광원이 액정 패널의 배면에 배치되는 직하형 방식, 또는, 광원이 액정 패널의 측면 근방에 배치되는 에지라이트 방식이 주류로 되어 있다.
도 12에 나타내는 종래의 에지라이트형 BLU(101)는, 광원(102)과, 광원(102)에 끝단부가 따르도록 배치되는 사각 판 형상의 도광판(103)과, 도광판(103)의 표면 측에 겹쳐 배치되는 여러 장의 광학 시트(104)와, 도광판(103)의 이면 측에 배치되는 반사 시트(105)를 구비한다. 도광판(103)은, 일반적으로는 합성수지로 제작되며, 폴리카보네이트, 아크릴 수지 등이 도광판(103)의 주성분으로 사용된다. 광원(102)으로는, LED(발광 다이오드)나 냉음극관 등이 사용되지만, 소형화 및 에너지 절약화 등의 관점에서 현재는 LED가 널리 사용되고 있다. 광학 시트(104)로는, (1) 도광판(103)의 표면 측에 중첩되고, 주로 광확산 기능을 갖는 하부용 광확산 시트(106), (2) 하부용 광확산 시트(106)의 표면 측에 중첩되고, 법선 방향 측으로의 굴절 기능을 갖는 프리즘 시트(107), (3) 프리즘 시트(107)의 표면 측에 중첩되고, 광선을 근소하게 확산함으로써 프리즘 시트(107)의 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제하는 상부용 광확산 시트(108)가 사용된다(특허문헌 1 참조). 상부용 광확산 시트(108)로는, 일반적으로, 기재층과, 기재층의 표면 측에 적층되며 또한 수지 매트릭스 및 수지 비즈를 갖는 광확산층을 구비하는 것이 사용된다.
특허문헌 1 : 일본 특허공개 2005-77448호 공보
LCD의 표시 화면에서, BLU에 사용되는 광학 시트와 액정 패널과의 간섭에 의해, 스파클이라 불리는("글레어", "미세한 휘도 불균일" 등으로도 불림) 표시 품위를 악화하는 현상이 발생함이 알려져 있다. 스파클은, BLU의 최상면을 구성하는 상부용 광확산 시트의 표면 요철과, 액정 패널의 셀(화소) 배열이 간섭함으로써, 발생하는 것으로 생각되고 있다. 또한, 최근의 액정 패널의 고정세화 진전에 따라 셀의 배열 피치가 작아짐으로써, 스파클이 보다 발생하기 쉬워지고 있다. 마찬가지의 문제는, LCD 표시 화면에 한정되지 않고, 다른 각종 표시 장치에서도 지적되고 있다.
이에, 본 개시는, 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있는 광학 시트의 제공을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명자들이 예의 검토한 결과, LCD에서는 상부용 광확산 시트의 광확산층에 함유시키는 확산제의 입경을 7㎛ 정도보다 작게 함과 함께 당해 입경을 가능한 한 균일하게 함으로써, 종래품과 비교해 스파클을 저감할 수 있음을 알았다. 또한, 확산제(수지 비즈)의 입경을 작게 한 경우에도, 비즈가 응집된 영역과, 비즈가 그다지 존재하지 않는 성긴 영역이 발생한 상태(해도(SEA-ISLAND)라 불리는 상태)에서는, 상부용 광확산 시트의 표면의 요철(표면 조도 등)이 커져, 스파클이 충분히 저감되지 않음을 알았다.
이에, 본원 발명자는, 예를 들어 2㎛ 정도 이하라는 더욱 미세한 수지 비즈를 전면에 깖으로써, 비즈의 응집(해도)이 없는 광학 시트, 즉, 비즈가 균일하게 배치된 광학 시트를 준비하고, 당해 광학 시트를 LCD(BLU)의 상부용 광확산 시트에 적용한 바, 스파클을 안정적으로 저감할 수 있었다. 구체적으로는, JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트를 4% 정도 이하까지 억제할 수 있었다. 또한, 안정적으로 스파클 저감 효과를 얻을 수 있는 요철 형상을 갖는 광학 시트는, 수지 매트릭스 중에 수지 비즈를 분산하여 형성한 것에 한정되지 않고, 몰드나 레이저 프린터 등을 이용하여도 형성할 수 있음을 알았다.
본 개시에 따른 광학 시트는, 이상의 지견에 근거하여 이루어진 것으로, 구체적으로는, 적어도 제1면에 요철 형상을 갖는 광학 시트이며, 상기 제1면의 JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트가 4% 이하이다. 그리고 본 개시에 따른 광학 시트에서, 헤이즈 값은 40% 이상 70% 이하여도 된다.
본 개시에 따른 광학 시트에서, 상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 산술 평균 조도(Ra)가 0.6㎛ 이하이고, 상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 피크 카운트(RPc)가 16 이상이어도 된다. 이와 같이 하면, 광학 시트의 제1면은, 미소한 요철이 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 본 개시에 따른 광학 시트를 각종 표시 장치의 표면재로서 사용하면, 표시 화면에서의 스파클 발생을 안정적으로 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 광학 시트에서, 상기 산술 평균 조도(Ra)가 0.5㎛ 이하이고, 상기 피크 카운트(RPc)가 18 이상이어도 된다. 이와 같이 하면, 광학 시트의 제1면은, 미소한 요철이 한층 더 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 본 개시에 따른 광학 시트를 각종 표시 장치의 표면재로 사용하면, 표시 화면에서의 스파클 발생을 한층 더 억제할 수 있다. 구체적으로는, 스파클 콘트라스트를 3% 정도 이하까지 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 광학 시트에서, 상기 제1면의 JIS B 0601:1994에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 요철의 평균 간격(Sm)이 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하여도 된다. 이와 같이 하면, 광학 시트의 제1면은, 미소한 요철이 한층 더 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 본 개시에 따른 광학 시트를 각종 표시 장치의 표면재로 사용하면, 표시 화면에서의 스파클 발생을 한층 더 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 광학 시트에서, 기재층과, 상기 기재층 상에 형성되며 또한 상기 제1면을 갖는 광확산층을 구비하고, 상기 광확산층이 되는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈를 분산함으로써, 상기 요철 형상이 형성되어도 된다. 이와 같이 하면, 미소 입경의 수지 비즈를 수지 매트릭스 중에 균일하게 분산시킴으로써, 광학 시트의 제1면에, 미소한 요철이 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 형성할 수 있다. 이 경우, 상기 수지 매트릭스와 상기 수지 비즈와의 굴절률 차가 0.05 이하이면, 수지 매트릭스와 수지 비즈와의 계면에서의 광확산의 영향을 억제할 수 있다. 그리고 미소 입경의 수지 비즈를 수지 매트릭스 중에 균일하게 분산시킬 때, 스파클 발생의 요인이 되지 않을 정도의 소량의 다소 입경이 큰(예를 들어, 입경 5㎛ 정도의) 수지 비즈를 혼합함으로써, 본 개시에 따른 광학 시트의 내스크래치성 및 헤이즈 값을 향상시킬 수 있다.
본 개시에 따른 광학 시트는, 액정 표시 장치의 백라이트 유닛에서의 프리즘 시트의 표면 측에 배치되어도 된다. 이와 같이, 본 개시에 따른 광학 시트를 LCD(BLU)의 상부용 광확산 시트에 적용한 경우, 상부용 광확산 시트의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다. 또한, 상부용 광확산 시트의 이면 측에 배치되는 프리즘 시트의 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 백라이트 유닛은, 광원과, 상기 광원으로부터의 광이 도입되는 프리즘 시트와, 상기 프리즘 시트의 출광면 측에 형성되는 광학 시트를 구비하고, 상기 광학 시트는, 전술한 본 개시에 따른 광학 시트이다.
본 개시에 따른 백라이트 유닛에 의하면, 전술한 본 개시에 따른 광학 시트를 상부용 광확산 시트에 적용하므로, 상부용 광확산 시트의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다. 또한, 상부용 광확산 시트의 이면 측에 배치되는 프리즘 시트의 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 액정 표시 장치는, 전술한 본 개시에 따른 백라이트 유닛과, 액정 표시 패널을 구비한다.
본 개시에 따른 액정 표시 장치에 의하면, 전술한 본 개시에 따른 백라이트 유닛을 구비하기 때문에, 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다.
본 개시에 따른 정보 기기는, 전술한 본 개시에 따른 액정 표시 장치를 구비한다.
본 개시에 따른 정보기기에 의하면, 전술한 본 개시에 따른 액정 표시 장치를 구비하기 때문에, 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다.
본 개시에 의하면, 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있는 광학 시트를 제공할 수 있다.
도 1은 실시형태에 따른 백라이트 유닛을 나타내는 모식적 단면도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 백라이트 유닛의 상부용 광확산 시트 및 프리즘 시트의 배치 상태를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 3은 비교예에 따른 백라이트 유닛을 나타내는 모식적 단면도이다.
도 4는 변형예에 따른 상부용 광확산 시트를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 5는 도 1에 나타내는 백라이트 유닛을 구비한 액정 표시 장치를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 6은 실시예 1의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 7은 실시예 2의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 8은 실시예 3의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 9는 실시예 5의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 10은 비교예 1의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 11은 비교예 2의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
도 12는 종래의 에지라이트형 백라이트 유닛을 나타내는 모식적 사시도이다.
(실시형태)
이하, 본 개시의 실시형태에 따른 광학 시트, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 및 정보 기기에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 개시의 범위는, 이하의 실시형태에 한정되지 않고, 본 개시의 기술적 사상의 범위 내에서 임의로 변경 가능하다. 또, 본 개시에 있어서, "표면 측"이란, 액정 표시 장치에서의 시인자 측을 의미하고, "이면 측"이란 그 반대를 의미한다.
<백라이트 유닛>
도 1은, 본 실시형태에 따른 백라이트 유닛을 나타내는 모식적 단면도이고, 도 2는, 도 1에 나타내는 백라이트 유닛의 상부용 광확산 시트 및 프리즘 시트의 배치 상태를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 1에 나타내는 액정 표시 장치의 백라이트 유닛은, 프리즘 시트(4)와, 프리즘 시트(4)의 표면 측에 배치되는 상부용 광확산 시트(5)를 구비한다. 보다 상세하게는, 도 1에 나타내는 백라이트 유닛은, 에지라이트형 백라이트 유닛이고, 끝단면으로부터 입사하는 광선을 표면 측으로 유도하는 도광 시트(1)와, 도광 시트(1)의 끝단면을 향해 광선을 조사하는 광원(2)과, 도광 시트(1)의 표면 측에 중첩되는 하부용 광확산 시트(3)와, 하부용 광확산 시트(3)의 표면 측에 배치되는 프리즘 시트(4)와, 프리즘 시트(4)의 표면 측에 중첩되는 상부용 광확산 시트(5)와, 도광 시트(1)의 이면 측에 배치되는 반사 시트(6)를 구비한다.
하부용 광확산 시트(3)는, 이면 측으로부터 입사되는 광선을 확산시키면서 법선 방향 측으로 집광시킨다(즉, 집광 확산시킨다). 프리즘 시트(4)는, 이면 측으로부터 입사되는 광선을 법선 방향 측으로 굴절시킨다. 상부용 광확산 시트(5)는, 이면 측으로부터 입사되는 광선을 약간 정도 확산시켜 프리즘 시트(4)의 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제한다. 여기서, 본 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)는, 후술하는 바와 같이, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 배치되는 액정 패널(도시 생략)의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 억제한다. 반사 시트(6)는, 도광 시트(1)의 이면 측으로부터 출사되는 광선을 표면 측으로 반사시켜, 다시 도광 시트(1)로 입사시킨다.
<상부용 광확산 시트>
상부용 광확산 시트(5)는, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 프리즘 시트(4)의 표면 측에 배치되고, 본 실시형태에서는 특히 프리즘 시트(4)의 표면에 직접(다른 시트 등을 개재하지 않고) 중첩된다. 상부용 광확산 시트(5)는, 기재층(11)과, 기재층(11)의 표면 측에 적층되는 광확산층(12)을 구비한다. 상부용 광확산 시트(5)는, 기재층(11) 및 광확산층(12)의 2층 구조체로 구성된다.
기재층(11)은, 광선을 투과시킬 필요가 있으므로, 투명(예를 들어 무색투명)한 합성수지를 주성분으로 형성된다. 기재층(11)의 주성분은, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리스타이렌, 폴리올레핀, 셀룰로오스 아세테이트, 내후성 염화 바이닐 등을 기재층(11)의 주성분으로 사용하여도 된다. 여기서 "주성분"이란, 가장 함유량이 많은 성분을 말하며, 예를 들어 함유량이 50질량% 이상의 성분을 말한다.
기재층(11)의 평균 두께의 하한으로는, 10㎛ 정도가 바람직하고, 35㎛ 정도가 보다 바람직하며, 50㎛ 정도가 더욱 바람직하다. 한편, 기재층(11)의 평균 두께의 상한으로는, 500㎛ 정도가 바람직하고, 250㎛ 정도가 보다 바람직하며, 188㎛ 정도가 더욱 바람직하다. 기재층(11)의 평균 두께가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12)을 도공에 의해 형성한 경우에 휨(curl)이 발생할 우려가 있다. 반대로, 기재층(11)의 평균 두께가 상기 상한을 초과하면, 액정 표시 장치의 휘도가 저하될 우려가 있음과 함께, 액정 표시 장치 박형화의 요청을 따르지 못할 우려가 있다. 여기서 "평균 두께"란, 임의의 10곳의 두께의 평균값을 말한다.
광확산층(12)은, 상부용 광확산 시트(5)의 최표면을 구성한다. 광확산층(12)은, 수지 매트릭스(13)와, 수지 매트릭스(13) 중에 분산하는 수지 비즈(14)를 갖는다. 광확산층(12)은, 수지 비즈(14)를 대략 등밀도로 분산 함유한다. 수지 비즈(14)는, 수지 매트릭스(13)에 둘러싸인다. 수지 매트릭스(13) 중에 수지 비즈(14)를 분산함으로써, 광확산층(12)의 표면에 미소한 요철이 형성되고, 당해 요철에 의해 광확산층(12)은 광선을 외부 확산시킨다. 본 실시형태에서, 광확산층(12)의 요철 표면(상부용 광확산 시트(5)의 최표면)에서의 JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트(Sparkle Contrast)는 4% 이하이다.
광확산층(12)의 평균 두께의 하한은, 예를 들어 1㎛ 정도이고, 2㎛ 정도가 보다 바람직하다. 한편, 광확산층(12)의 평균 두께의 상한은, 예를 들어, 7㎛ 정도이고, 5㎛ 정도가 보다 바람직하며, 4㎛ 정도가 더욱 바람직하다. 광확산층(12)의 평균 두께가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 수지 매트릭스(13)에 의해 수지 비즈(14)를 확실하게 고정할 수 없어, 광확산층(12)으로부터 수지 비즈(14)가 탈락할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12)의 평균 두께가 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면에 미소한 고밀도의 요철을 형성하기 어려워지고, 그 결과, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 배치되는 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다.
수지 매트릭스(13)는, 광선을 투과시킬 필요가 있으므로, 투명(특히 무색투명)한 합성수지를 주성분으로 형성된다. 합성수지로는, 예를 들어 열경화형 수지나 활성 에너지선 경화형 수지 등이 사용 가능하다. 열경화형 수지로는, 예를 들어, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 불포화 폴리에스터 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 폴리이미드 수지, 아크릴 수지, 아마이드 관능성 공중합체, 우레탄 수지 등이 사용 가능하다. 활성 에너지선 경화형 수지로는, 자외선을 조사함으로써 가교, 경화하는 자외선 경화형 수지나, 전자선을 조사함으로써 가교, 경화하는 전자선 경화형 수지 등이 사용 가능하고, 중합성 모노머 및 중합성 올리고머 중에서 적절히 선택하여 사용 가능하다. 기재층(11)과의 밀착성을 향상시킴과 함께 수지 비즈(14)의 광확산층(12)으로부터의 탈락을 방지하기 위해, 활성 에너지선 경화형 수지로서, 예를 들어 아크릴계, 우레탄계 또는 아크릴 우레탄계의 자외선 경화형 수지를 사용하여도 된다.
그리고 수지 매트릭스(13)는, 전술한 합성수지 외에 첨가제를 포함하는 것도 가능하다. 첨가제로는, 예를 들어 실리콘계 첨가제, 플루오린계 첨가제, 대전 방지제 등이 사용 가능하다. 수지 매트릭스(13)에서의 합성수지 성분 100질량부에 대한 첨가제의 고형분 환산 함유량은, 예를 들어 0.05질량부 이상 5질량부 이하여도 된다.
수지 비즈(14)는, 광선을 투과 확산시키는 성질을 갖는 수지 입자이다. 수지 비즈(14)는, 투명, 특히 무색투명한 합성수지를 주성분으로 형성된다. 수지 비즈(14)의 주성분으로는, 예를 들어 아크릴 수지, 아크릴로나이트릴 수지, 폴리우레탄, 폴리염화 바이닐, 폴리스타이렌, 폴리아마이드, 폴리아크릴로나이트릴 등이 사용 가능하다. 수지 비즈(14)의 형상은, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 구상, 입방상, 침상, 봉상, 방추 형상, 판상, 인편상, 섬유상 등이어도 되지만, 특히, 광확산성이 우수한 구상이 바람직하다.
수지 비즈(14)의 입경은, 광원(2)이 조사하는 광선의 파장(이하, 광원 파장이라고도 함) 이상이고 가능한 작은 것이 바람직하며, 수지 비즈(14)의 평균 입경의 상한은, 예를 들어 2㎛ 정도, 보다 바람직하게는 1㎛ 정도여도 된다. 수지 비즈(14)의 평균 입경이, 광원 파장을 충족시키지 않으면, 광확산층(12) 표면의 요철이 지나치게 작아져 광확산성이 불충분해지고, 프리즘 시트(4)의 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일의 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 수지 비즈(14)의 평균 입경이 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면에 비교적 큰 요철이 다수 형성되어, 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다.
수지 비즈(14)의 굴절률의 하한으로는, 예를 들어, 1.46이 바람직하고, 1.48이 보다 바람직하다. 한편, 수지 비즈(14)의 굴절률의 상한으로는, 예를 들어, 1.60이 바람직하고, 1.59가 보다 바람직하다. 수지 비즈(14)의 굴절률을 상기 범위 내로 함으로써, 수지 매트릭스(13)와의 굴절률 차를 적절히(예를 들어 0.05 이하로) 조정할 수 있고, 이에 따라, 프리즘 시트(4)의 돌조(凸條) 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제하기 쉬워진다. 여기서 "굴절률"이란, 파장 589.3nm의 광(소듐의 D선)에서의 굴절률을 말한다.
광확산층(12)의 표면(즉, 상부용 광확산 시트(5)의 표면)의 산술 평균 조도(Ra)의 하한은, 예를 들어, 0.1㎛ 정도, 보다 바람직하게는 0.2㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 0.3㎛ 정도여도 된다. 한편, 광확산층(12) 표면의 산술 평균 조도(Ra)의 상한은, 예를 들어, 0.6㎛ 정도가 바람직하고, 0.5㎛ 정도가 더욱 바람직하다. 광확산층(12) 표면의 산술 평균 조도(Ra)가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12) 표면의 요철이 지나치게 작아져 광확산성이 불충분해지고, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12) 표면의 산술 평균 조도(Ra)가 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면에 비교적 큰 요철이 다수 형성되어, 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 여기서 "산술 평균 조도(Ra)"란, "평균선으로부터의 절대값 편차의 평균값"을 의미하고, 구체적으로는, JIS B 0601:2001(ISO 4287:1997)에 준거하며, 컷오프는 없고, 평가 길이는 290㎛로 하였다.
광확산층(12)의 표면(즉, 상부용 광확산 시트(5)의 표면)의 피크 카운트(RPc)의 하한은, 예를 들어, 10 정도, 보다 바람직하게는 16 정도, 더욱 바람직하게는 18 정도여도 된다. 한편, 광확산층(12) 표면의 피크 카운트(RPc)의 상한은, 예를 들어, 300 정도가 바람직하고, 250 정도가 보다 바람직하며, 200 정도가 더욱 바람직하다. 광확산층(12) 표면의 피크 카운트(RPc)가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12) 표면에 비교적 큰 요철이 다수 형성되어, 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12) 표면의 피크 카운트(RPc)가 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면의 요철이 지나치게 작아져 광확산성이 불충분해지고, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 여기서 "피크 카운트(RPc)"란, "평가 길이당 산의 수"를 의미하고, 구체적으로는, JIS B 0601:2001(ISO 4287:1997)에 준거하며, 평가 길이를 290㎛, 평균선 양측의 불감대 폭을 0%로 설정하고, 평균선보다 아래로 나온 점으로부터 일단 평균선 위에 나온 후, 다시 한번 평균선보다 아래로 나오기까지를 하나의 피크(산)로 했을 때의 당해 피크의 수(피크 카운트 2)를 말한다.
광확산층(12)의 표면(즉, 상부용 광확산 시트(5)의 표면)에서의 요철의 평균 간격(Sm)의 하한은, 예를 들어, 0.5㎛ 정도, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 1.5㎛ 정도여도 된다. 한편, 광확산층(12)의 표면에서의 요철의 평균 간격(Sm)의 상한으로는, 예를 들어, 25㎛ 정도가 바람직하고, 20㎛ 정도가 보다 바람직하며, 15㎛ 정도가 더욱 바람직하다. 광확산층(12)의 표면에서의 요철의 평균 간격(Sm)이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12) 표면의 요철이 지나치게 작아져 광확산성이 불충분해지고, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12)에서의 요철의 평균 간격(Sm)이 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면에 미소한 고밀도의 요철을 형성하기 어려워져, 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 여기서 "요철의 평균 간격(Sm)"이란, "평가 길이에서의 요철의 간격(하나의 산과 그에 인접하는 하나의 골의 거리)의 산술 평균값"을 의미하고, 구체적으로는 JIS B 0601:1994(ISO 468-1982, ISO 3274-1975, ISO 4287/1-1984, ISO 4287/2-1984, ISO 4288/1985)에 준거하며, 컷오프는 없고, 평가 길이는 290㎛로 하였다.
광확산층(12)의 적층량(고형분 환산)의 하한은, 예를 들어 1g/㎡, 보다 바람직하게는 2g/㎡여도 된다. 한편, 광확산층(12)의 적층량의 상한은, 예를 들어 15g/㎡, 보다 바람직하게는 10g/㎡여도 된다. 광확산층(12)의 적층량이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 수지 매트릭스(13)에 의해 수지 비즈(14)를 확실하게 고정할 수 없어, 광확산층(12)으로부터 수지 비즈(14)가 탈락할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12)의 적층량이 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 표면에 미소한 고밀도의 요철을 형성하기 어려워지고, 그 결과, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 배치되는 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다.
광확산층(12)에서의 수지 매트릭스(13)의 함유율의 하한은, 예를 들어 10질량% 정도, 보다 바람직하게는 20질량% 정도여도 된다. 한편, 광확산층(12)에서의 수지 매트릭스(13)의 함유율의 상한은, 예를 들어, 80질량% 정도, 보다 바람직하게는 75질량% 정도여도 된다. 수지 매트릭스(13)의 함유율이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12)의 광확산성이 지나치게 높아져 액정 표시 장치의 휘도가 충분히 높아지지 않을 우려가 있다. 반대로, 수지 매트릭스(13)의 함유율이 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12) 중에서의 수지 비즈(14)의 개수가 부족해져, 광확산층(12) 표면에 미소한 고밀도의 요철을 형성하기 어려워지고, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 배치되는 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다.
광확산층(12)에서의 수지 비즈(14)의 함유율의 하한은, 예를 들어, 20질량% 정도, 보다 바람직하게는 25질량% 정도여도 된다. 한편, 광확산층(12)에서의 수지 비즈(14)의 함유율의 상한은, 예를 들어, 90질량% 정도, 보다 바람직하게는 80질량% 정도여도 된다. 광확산층(12)에서의 수지 비즈(14)의 함유율이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(12) 표면에 미소한 고밀도의 요철을 형성하기 어려워져, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 배치되는 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산층(12)에서의 수지 비즈(14)의 함유율이 상기 상한을 초과하면, 광확산층(12)의 광확산성이 지나치게 높아져 액정 표시 장치의 휘도가 충분히 높아지지 않을 우려가 있다.
상부용 광확산 시트(5)의 헤이즈 값의 하한은, 예를 들어 10% 정도, 보다 바람직하게는 30% 정도, 보다 바람직하게는 40% 정도여도 된다. 한편, 상부용 광확산 시트(5)의 헤이즈 값의 상한은 90% 정도, 보다 바람직하게는 70% 정도여도 된다. 상부용 광확산 시트(5)의 헤이즈 값이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 충분히 억제하지 못할 우려가 있다. 반대로, 상부용 광확산 시트(5)의 헤이즈 값이 상기 상한을 초과하면, 액정 표시 장치의 휘도가 불충분해질 우려가 있다. 여기서 "헤이즈 값"이란, JIS K 7136:2000에 준거하여 측정되는 값을 말한다.
<상부용 광확산 시트의 제조 방법>
상부용 광확산 시트(5)의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 기재층(11)을 구성하는 시트체를 형성하는 공정(이하, 기재층 형성 공정이라 함)과, 이 시트체의 일방의 면측에 광확산층(12)을 적층하는 공정(이하, 광확산층 적층 공정이라 함)을 구비하여도 된다.
기재층 형성 공정으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 용융한 열가소성 수지를 T다이로부터 압출 성형하고, 이어서, 그 압출 성형체를 층 길이 방향 및 층 폭 방향으로 연신하여 시트체를 형성하는 방법이 사용 가능하다. T다이를 이용한 주지의 압출 성형법으로는, 예를 들어, 폴리싱 롤법이나 칠 롤법이 사용 가능하다. 또한, 시트체의 연신 방법으로는, 예를 들어, 튜블러 필름 2축 연신법이나 플랫 필름 2축 연신법 등이 사용 가능하다.
광확산층 적층 공정은, 예를 들어, 수지 매트릭스(13) 및 수지 비즈(14)를 포함하는 도공액을 조제하는 공정(이하, 조제 공정이라 함)과, 조제 공정에서 조제한 도공액을 시트체의 일방의 면측에 도포하는 공정(이하, 도포 공정이라 함)과, 도포 공정에서 도포한 도공액을 건조 및 경화시키는 공정(이하, 경화 공정이라 함)을 구비하여도 된다. 조제 공정에서는, 수지 매트릭스(13)의 주성분으로 활성 에너지선 경화형 수지를 포함함과 함께 수지 비즈(14)를 포함하는 도공액을 조제하여도 된다. 상부용 광확산 시트의 제조 방법에서, 수지 매트릭스(13)의 주성분으로 활성 에너지선 경화형 수지를 사용하면, 도포 공정에서 도공액을 도포한 후, 경화 공정에서 예를 들어 자외선을 조사함으로써 활성 에너지선 경화형 수지를 비교적 빠르게 경화시키기 쉬워진다. 또한, 상부용 광확산 시트 제조 방법의 조제 공정에서, 수지 비즈(14)로서, 입경이 작은 수지 비즈를 많이 포함하며 또한 입경이 큰 수지 비즈를 약간 포함하는 도공액을 조제함으로써, 입경이 작은 수지 비즈에 의해 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 억제하면서, 입경이 큰 수지 비즈에 의해 액정 패널과의 스티킹(sticking)을 방지할 수 있다.
그리고 상부용 광확산 시트(5)의 제조 방법은, 광확산층 적층 공정 전에, 시트체에서의 광확산층을 적층하는 측의 면에 대하여, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 저온 플라즈마 처리, 글로우 방전 처리, 산화 처리, 프라이머 코트 처리, 언더코트 처리, 앵커 코트 처리 등을 실시하는 표면 처리 공정을 추가로 구비하여도 된다.
<프리즘 시트>
프리즘 시트(4)는, 광선을 투과시킬 필요가 있으므로, 투명(예를 들어 무색투명)한 합성수지를 주성분으로 형성된다. 프리즘 시트(4)는, 기재층(15)과, 기재층(15) 표면에 적층되는 복수의 돌조 프리즘부(16)로 이루어지는 돌기 열을 갖는다. 돌조 프리즘부(16)는, 기재층(15) 표면에 스트라이프 형상으로 적층된다. 돌조 프리즘부(16)는, 이면이 기재층(15) 표면에 접하는 삼각기둥 형상체이다.
프리즘 시트(4)의 두께(기재층(15)의 이면으로부터 돌조 프리즘부(16) 정점까지의 높이)의 하한은, 예를 들어, 50㎛ 정도, 보다 바람직하게는 100㎛ 정도여도 된다. 한편, 프리즘 시트(4)의 두께의 상한은, 200㎛ 정도, 보다 바람직하게는 180㎛ 정도여도 된다. 프리즘 시트(4)에서의 돌조 프리즘부(16)의 피치(p)(도 2 참조)의 하한은, 예를 들어 20㎛ 정도, 보다 바람직하게는 30㎛ 정도여도 된다. 한편, 프리즘 시트(4)에서의 돌조 프리즘부(16)의 피치(p)의 상한은, 예를 들어, 100㎛ 정도, 보다 바람직하게는 60㎛ 정도여도 된다. 돌조 프리즘부(16)의 꼭지각은, 예를 들어, 85° 이상 95° 이하여도 된다. 돌조 프리즘부(16)의 굴절률의 하한은, 예를 들어, 1.5, 보다 바람직하게는 1.55여도 된다. 한편, 돌조 프리즘부(16)의 굴절률의 상한은, 예를 들어, 1.7여도 된다.
그리고 도 1에 나타내는 본 실시형태의 백라이트 유닛은, 1장의 프리즘 시트(4)만을 갖는 것에 한정되지 않고, 프리즘 시트(4)에 중첩되는 다른 프리즘 시트를 추가로 가져도 된다. 이 경우, 프리즘 시트(4)의 복수의 돌조 프리즘부(16)의 능선과, 다른 프리즘 시트의 복수의 돌조 프리즘부의 능선은 직교하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 하부용 광확산 시트(3)로부터 입사되는 광선을 일방의 프리즘 시트에 의해 법선 방향 측으로 굴절시키고, 추가로 당해 프리즘 시트로부터 출사되는 광선을 타방의 프리즘 시트에 의해 상부용 광확산 시트(5)의 이면에 대해 대략 수직으로 진행하도록 굴절시킬 수 있다. 다른 프리즘 시트의 형성 재료, 두께, 돌조 프리즘부의 피치, 돌조 프리즘부의 꼭지각 및 돌조 프리즘부의 굴절률은, 프리즘 시트(4)와 동일하여도 된다.
<도광 시트>
도광 시트(1)는, 광원(2)으로부터 출사되는 광선을 내부로 전파시키면서, 표면으로부터 출사하는 시트 형상의 광학 부재이다. 도광 시트(1)는, 단면 대략 쐐기 형상으로 형성되어도 되고, 또는, 대략 평판 형상으로 형성되어도 된다. 도광 시트(1)는, 투광성을 가질 필요가 있으므로 투명(예를 들어 무색투명)의 수지를 주성분으로 형성된다. 도광 시트(1)의 주성분은, 특별히 한정되지 않지만, 투명성, 강도 등이 우수한 폴리카보네이트나, 투명성, 내찰상성 등이 우수한 아크릴 수지 등의 합성수지여도 된다. 폴리카보네이트는, 투명성이 우수함과 함께 굴절률이 높으므로, 도광 시트(1)의 주성분이 폴리카보네이트이면, 공기층(도광 시트(1)와 하부용 광확산 시트(3)와의 간극에 형성되는 층, 및 도광 시트(1)와 반사 시트(6)와의 간극에 형성되는 층)과의 계면에서 전반사(total reflection)가 일어나기 쉬워지므로, 광선을 효율적으로 전파할 수 있다. 또한, 폴리카보네이트는 내열성을 가지므로, 광원(2)의 발열에 의한 열화 등이 발생하기 어렵다.
<광원>
광원(2)은, 조사면이 도광 시트(1)의 끝단면에 대향(또는 당접)하도록 배치된다. 광원(2)으로는, 다양한 것을 사용할 수 있고, 예를 들어, 발광 다이오드(LED)를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 광원(2)으로서, 복수의 LED가 도광 시트(1)의 끝단면을 따라 배치된 것을 사용할 수 있다.
<하부용 광확산 시트>
하부용 광확산 시트(3)는, 기재층(17)과, 기재층(17)의 표면 측에 배치되는 광확산층(18)과, 기재층(17)의 이면 측에 배치되는 스티킹 방지층(19)을 구비한다. 하부용 광확산 시트(3)의 기재층(17)은, 전술한 상부용 광확산 시트(5)의 기재층(11)과 마찬가지의 구성이어도 된다. 하부용 광확산 시트(3)의 광확산층(18)은, 광확산제와 그 바인더를 구비한다. 광확산제는, 광선을 확산시키는 성질을 갖는 입자이며, 무기 필러와 유기 필러로 크게 구별된다. 무기 필러로는, 예를 들어 실리카, 수산화 알루미늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 황화 바륨, 마그네슘 실리케이트, 또는 이들의 혼합물이 사용 가능하다. 유기 필러로는, 예를 들어, 아크릴 수지, 아크릴로나이트릴 수지, 폴리우레탄, 폴리염화 바이닐, 폴리스타이렌, 폴리아마이드, 폴리아크릴로나이트릴 등이 사용 가능하다. 광확산제의 형상은, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 구상, 입방상, 침상, 봉상, 방추 형상, 판상, 인편상, 섬유상 등이어도 되지만, 광확산성이 우수한 구상인 것이 바람직하다.
광확산층(18)에 사용되는 광확산제의 평균 입경의 하한은, 예를 들어 8㎛ 정도, 보다 바람직하게는 10㎛ 정도여도 된다. 한편, 당해 광확산제의 평균 입경의 상한은, 예를 들어, 50㎛ 정도, 보다 바람직하게는 20㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 15㎛ 정도여도 된다. 광확산제의 평균 입경이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산층(18)의 표면의 요철이 작아져, 하부용 광확산 시트(3)로서 필요한 광확산성을 충족시키지 못할 우려가 있다. 반대로, 광확산제의 평균 입경이 상기 상한을 초과하면, 하부용 광확산 시트(3)의 두께가 증대되며 또한 균일한 확산이 곤란해질 우려가 있다.
광확산층(18)에서의 바인더의 함유율의 하한은, 예를 들어, 15질량% 정도, 보다 바람직하게는 30질량% 정도여도 된다. 한편, 광확산층(18)에서의 바인더의 함유율의 상한은, 예를 들어, 48질량% 정도, 보다 바람직하게는 45질량% 정도여도 된다. 바인더의 함유율이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산제가 바인더에 의해 확실하게 고정되지 않을 우려가 있다. 반대로, 바인더의 함유율이 상기 상한을 초과하면, 광확산성이 불충분해질 우려가 있다.
광확산층(18)에서의 광확산제의 함유율의 하한은, 예를 들어, 52질량% 정도, 보다 바람직하게는 55질량% 정도여도 된다. 한편, 광확산층(18)에서의 광확산제의 함유율의 상한은, 예를 들어, 85질량% 정도, 보다 바람직하게는 70질량% 정도여도 된다. 광확산제의 함유율이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산성이 불충분해질 우려가 있다. 반대로, 광확산제의 함유율이 상기 상한을 초과하면, 광확산제가 바인더에 의해 확실하게 고정되지 않을 우려가 있다.
광확산층(18)의 표면의 산술 평균 조도(Ra)의 하한은, 예를 들어, 1.1㎛ 정도, 보다 바람직하게는 1.3㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 1.4㎛ 정도여도 된다. 한편, 광확산층(18)의 표면의 산술 평균 조도(Ra)의 상한은, 예를 들어, 5㎛ 정도, 보다 바람직하게는 3㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 2㎛ 정도여도 된다. 광확산층(18)의 표면의 산술 평균 조도(Ra)가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산성이 불충분해질 우려가 있다. 반대로, 광확산층(18)의 표면의 산술 평균 조도(Ra)가 상기 상한을 초과하면, 광선 투과율이 저하되고 액정 표시 장치의 휘도가 불충분해질 우려가 있다.
스티킹 방지층(19)은, 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산되어 형성된다. 이 수지 비즈는, 기재층(17)의 이면 측에 산재되어 배치된다. 스티킹 방지층(19)은, 이 수지 비즈가 산재되어 배치됨으로써, 수지 비즈에 기인하여 형성되는 복수의 볼록부와, 수지 비즈가 존재하지 않는 평탄부를 갖는다. 스티킹 방지층(19)은, 이면 측에 배치되는 도광 시트(1)와 상기 복수의 볼록부에서 산재되어 당접하고, 이면 전면에서 당접하지 않음으로써, 스티킹을 방지하고, 액정 표시 장치의 휘도 불균일을 억제한다.
하부용 광확산 시트(3)의 헤이즈 값의 하한은, 예를 들어, 80% 정도, 보다 바람직하게는 85% 정도, 더욱 바람직하게는 90% 정도여도 된다. 하부용 광확산 시트(3)의 헤이즈 값이 상기 하한을 충족시키지 않으면, 광확산성이 불충분해질 우려가 있다. 그리고 하부용 광확산 시트(3)의 헤이즈 값의 상한은, 예를 들어 95% 정도여도 된다.
<반사 시트>
반사 시트(6)로는, 예를 들어, 폴리에스터 등의 기재 수지에 필러를 분산 함유시킨 백색 시트나, 폴리에스터 등으로 형성되는 필름 표면에, 알루미늄이나 은 등의 금속을 증착시킴으로써 정반사성이 향상된 경면 시트 등이 사용 가능하다.
<실시형태의 효과>
이상 설명한 본 실시형태에 의하면, 요철 형상을 갖는 상부용 광확산 시트(5)(광확산층(12))의 표면에 대해서, JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트가 4% 이하이다. 여기서, 광확산층(12)의 요철 표면에서, JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 산술 평균 조도(Ra) 및 피크 카운트(RPc)가 각각, 0.6㎛ 이하 및 16 이상이어도 된다. 즉, 상부용 광확산 시트(5)의 표면은, 미소한 요철이 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다.
이에 비해, 도 3에 나타내는 비교예에 따른 백라이트 유닛과 같이, 상부용 광확산 시트(5)의 표면이, 미소한 요철이 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖지 않는 경우, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 충분히 억제할 수 없다.
또한, 본 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)의 표면에 대하여, 산술 평균 조도(Ra) 및 피크 카운트(RPc)가 각각 0.5㎛ 이하 및 18 이상이면, 상부용 광확산 시트(5)의 표면은, 미소한 요철이 한층 더 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 한층 더 억제할 수 있다. 구체적으로는, 스파클 콘트라스트를 3% 정도 이하까지 억제할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)의 표면에 대해서, JIS B 0601:1994에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 요철의 평균 간격(Sm)이 20㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15㎛ 이하이면, 상부용 광확산 시트(5)의 표면은, 미소한 요철이 한층 더 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 갖는다. 따라서, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 한층 더 억제할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)는, 기재층(11)과, 기재층(11) 상에 형성된 광확산층(12)을 구비하고, 광확산층(12)이 되는 수지 매트릭스(13) 중에 수지 비즈(14)를 분산함으로써, 요철 형상이 형성된다. 이에 따라, 미소 입경의 수지 비즈(14)를 수지 매트릭스(13) 중에 균일하게 분산시킴으로써, 상부용 광확산 시트(5)(광확산층(12))의 표면에, 미소한 요철이 치밀하고 균일하게 형성된 형상을 형성할 수 있다. 이 경우, 수지 매트릭스(13)와 수지 비즈(14)의 굴절률 차가 0.05 이하이면, 수지 매트릭스(13)와 수지 비즈(14)와의 계면에서의 광확산의 영향을 억제할 수 있다. 그리고 미소 입경의 수지 비즈(14)를 수지 매트릭스(13) 중에 균일하게 분산시킬 때, 스파클 발생의 요인이 되지 않을 정도의 소량의 약간 큰 입경의(예를 들어 입경 5㎛ 정도의) 수지 비즈(14)를 혼합함으로써, 상부용 광확산 시트(5)의 내스크래치성 및 헤이즈 값을 향상시킬 수 있다.
또한, 도 1에 나타내는 본 실시형태의 백라이트 유닛에서, 상부용 광확산 시트(5)는, 프리즘 시트(4)의 출광면 측에 형성된다. 바꿔 말하면, 상부용 광확산 시트(5)의 이면 측에 프리즘 시트(4)가 배치된다. 이에 따라, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 상부용 광확산 시트(5)에 의해 억제할 수 있다.
<상부용 광확산 시트의 변형예>
도 4에 나타내는 본 변형예의 상부용 광확산 시트(25)는, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5) 대신에, 도 1에 나타내는 백라이트 유닛에 적용 가능하다. 상부용 광확산 시트(25)는, 이면 측으로부터 입사되는 광선을 약간 정도 확산시켜 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제함과 함께, 상부용 광확산 시트(25)의 표면 측에 배치되는 액정 패널(도시 생략)의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 억제한다. 상부용 광확산 시트(25)는, 기재층(11)과, 기재층(11)의 표면 측에 적층되는 광확산층(12)과, 기재층(11)의 이면 측에 적층되는 스티킹 방지층(26)을 구비한다. 상부용 광확산 시트(25)는, 기재층(11), 광확산층(12) 및 스티킹 방지층(26)의 3층 구조체로 구성된다. 상부용 광확산 시트(25)의 기재층(11) 및 광확산층(12)은, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)의 기재층(11) 및 광확산층(12)과 마찬가지의 구성으로 하여도 된다.
스티킹 방지층(26)은, 상부용 광확산 시트(25)의 최이면을 구성한다. 스티킹 방지층(26)은, 광선을 투과시킬 필요가 있으므로, 투명(예를 들어 무색투명)한 합성수지를 주성분으로 형성된다. 스티킹 방지층(26)은, 이면이 평탄하고 두께가 대략 균일한 필름 형상으로 구성된다. 스티킹 방지층(26)은, 상부용 광확산 시트(25)의 이면 측에 배치되는 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)의 꼭대기부와 부분적으로 당접하도록 구성되고, 이에 의해, 프리즘 시트(4)와의 스티킹을 방지한다. 스티킹 방지층(26)의 주성분으로는, 예를 들어, 폴리카보네이트, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리스타이렌, (메타)아크릴산 메틸-스타이렌 공중합체, 폴리올레핀, 시클로올레핀 폴리머, 시클로올레핀 코폴리머, 셀룰로오스 아세테이트, 내후성 염화 바이닐, 활성 에너지선 경화형 수지 등이 사용 가능하다. 특히, 스티킹 방지층(26)의 주성분으로, 아크릴 수지를 사용하면, 상부용 광확산 시트(25)의 이면의 강도를 높이고, 당해 이면의 스크래치를 방지하기 쉬워진다.
스티킹 방지층(26)의 평균 두께의 하한은, 예를 들어 1㎛ 정도, 보다 바람직하게는 2㎛ 정도여도 된다. 한편, 스티킹 방지층(26)의 평균 두께의 상한은, 예를 들어 10㎛ 정도, 보다 바람직하게는 8㎛ 정도여도 된다. 스티킹 방지층(26)의 평균 두께가 상기 하한을 충족시키지 않으면, 상부용 광확산 시트(25)의 이면의 스크래치를 확실하게 방지하지 못할 우려가 있다. 반대로, 스티킹 방지층(26)의 평균 두께가 상기 상한을 초과하면, 액정 표시 장치의 휘도가 저하될 우려가 있다.
스티킹 방지층(26)의 이면의 산술 평균 조도(Ra)의 상한은, 예를 들어, 0.04㎛ 정도, 보다 바람직하게는 0.035㎛ 정도, 더욱 바람직하게는 0.03㎛ 정도여도 된다. 스티킹 방지층(26)의 이면의 산술 평균 조도(Ra)가 상기 상한을 초과하면, 스티킹 방지층(26)과의 당접에 기인하여 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)에 스크래치가 발생할 우려가 있다. 그리고 스티킹 방지층(26)의 이면의 산술 평균 조도(Ra)의 하한은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 0.01㎛여도 된다.
상부용 광확산 시트(25)의 제조 방법은, 예를 들어, 기재층(11)을 구성하는 시트체를 형성하는 공정(이하, 기재층 형성 공정이라 함)과, 시트체의 일방의 면측에 광확산층(12)을 적층하는 공정(이하, 광확산층 적층 공정이라 함)과, 기재층(11)을 구성하는 시트체의 타방의 면측에 스티킹 방지층(26)을 적층하는 공정(이하, 스티킹 방지층 적층 공정이라 함)을 구비하여도 된다. 스티킹 방지층 적층 공정으로는, 예를 들어, 공압출법에 의해 기재층(11)을 구성하는 시트체와 동시에 스티킹 방지층(26)을 형성하는 방법이나, 시트체의 타방의 면측으로의 도공에 의해 스티킹 방지층(26)을 적층하는 방법 등이 사용 가능하다.
그리고 상부용 광확산 시트(25)의 제조 방법에서의 기재층 형성 공정은, 전술한 바와 같이, 공압출법에 의해 스티킹 방지층 적층 공정과 동시에 실시하여도 되고, 또는, 스티킹 방지층 적층 공정과는 별도로 실시하여도 된다. 기재층 형성 공정과 스티킹 방지층 형성 공정을 별도로 실시하는 경우, 기재층 형성 공정은, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)의 기재층 형성 공정과 마찬가지의 방법으로 실시할 수 있다. 또한, 상부용 광확산 시트(25)의 제조 방법에서의 광확산층 적층 공정도, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)의 광확산층 적층 공정과 마찬가지의 방법에 의해 실시할 수 있다.
이상으로 설명한 본 변형예의 상부용 광확산 시트(25)에 따르면, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)와 마찬가지의 효과와 더불어, 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 기재층(11)의 이면 측에 스티킹 방지층(26)이 적층되므로, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제하면서, 프리즘 시트(4)와의 스티킹 방지성 및 상부용 광확산 시트(25)의 이면의 스크래치 방지성을 향상시킬 수 있다.
<액정 표시 장치>
도 5에 나타내는 액정 표시 장치는, 끝단면으로부터 입사하는 광선을 표면 측으로 유도하는 도광 시트(1)와, 도광 시트(1)의 끝단면을 향해 광선을 조사하는 광원(2)과, 도광 시트(1)의 표면 측에 중첩되는 하부용 광확산 시트(3)와, 하부용 광확산 시트(3)의 표면 측에 배치되는 프리즘 시트(4)와, 프리즘 시트(4)의 표면 측에 중첩되는 상부용 광확산 시트(5)와, 도광 시트(1)의 이면 측에 배치되는 반사 시트(6)와, 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 중첩되는 액정 패널(31)을 구비한다. 즉, 도 5에 나타내는 액정 표시 모듈은, 도 1에 나타내는 상기 실시형태의 백라이트 유닛에서의 상부용 광확산 시트(5)의 표면 측에 액정 패널(31)이 배치된 구성을 갖는다.
액정 패널(31)은, 상부용 광확산 시트(5)의 표면에 직접(다른 시트 등을 개재하지 않고) 배치된다. 액정 패널(31)은, 대략 평행하게 배치되며 또한 소정 간격을 두고 배치되는 표면 측 편광판(32) 및 이면 측 편광판(33)과, 그 사이에 배치되는 액정 셀(34)을 갖는다. 표면 측 편광판(32) 및 이면 측 편광판(33)은 각각, 예를 들어, 아이오딘계 편광자, 염료계 편광자, 폴리엔계 편광자 등의 편광자, 및, 그 양측에 배치되는 한 쌍의 투명 보호 필름으로 구성된다. 표면 측 편광판(32) 및 이면 측 편광판(33)의 투과 축 방향은 직교한다.
액정 셀(34)은, 투과하는 광량을 제어하는 기능을 가지며, 공지의 다양한 것이 채용된다. 액정 셀(34)은, 일반적으로 기판, 컬러 필터, 대향 전극, 액정층, 화소 전극, 기판 등으로 이루어지는 적층 구조체이다. 이 화소 전극에는, ITO 등의 투명 도전막이 사용된다. 액정 셀(34)의 표시 모드로는, 예를 들어 TN(Twisted Nematic), VA(Virtical Alignment), IPS(In-Place Switching), FLC(Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC(Anti-ferroelectric Liquid Crystal), OCB(Optically Compensatory Bend), STN(Supper Twisted Nematic), HAN(Hybrid Aligned Nematic) 등을 이용할 수 있다. 액정 패널(31)의 화소 피치(액정 셀의 화소 피치)는, 예를 들어 25㎛ 정도 이하여도 된다.
도 5에 나타내는 액정 표시 장치에 따르면, 상기 실시형태의 상부용 광확산 시트(5)를 구비하므로, 프리즘 시트(4)의 돌조 프리즘부(16)의 형상 등에 기인하는 휘도 불균일을 억제할 수 있다. 또한, 액정 패널(31)의 이면 측에 상부용 광확산 시트(5)가 배치되므로, 상부용 광확산 시트(5)의 광확산층(12) 표면에 형성되는 요철과, 액정 패널(31)의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 스파클 발생을 억제할 수 있다.
또한, 도 5에 나타내는 액정 표시 장치를, 스마트폰이나 태블릿 단말기 등의 각종 정보 기기의 표시 장치로 사용하면, 각종 정보 기기의 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제할 수 있다.
(실시예)
이하, 실시예에 의해 본 개시를 더욱 상세하게 설명하나, 본 개시는 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
폴리에틸렌 테레프탈레이트를 주성분으로 하는 평균 두께 75㎛의 기재층의 표면에, 자외선 경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 실시예 1의 광학 시트(상부용 광확산 시트)를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 5㎛의) 제1 비즈, 및 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 0.8㎛의) 제2 비즈를 1:55(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 3.5g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 31.17질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 3.5㎛였다. 그리고 도 6은, 실시예 1의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<실시예 2>
폴리에틸렌 테레프탈레이트를 주성분으로 하는 평균 두께 125㎛의 기재층의 표면에, 열경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 실시예 2의 광학 시트(상부용 광확산 시트)를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 5㎛의) 제1 비즈, 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 2㎛의) 제2 비즈, 및, 제1 비즈보다 평균 입경이 작으며 또한 제2 비즈보다 평균 입경이 큰(평균 입경 3㎛의) 제3 비즈를 2:2:1(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 3.5g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 51.93질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 3.5㎛였다. 그리고 도 7은, 실시예 2의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<실시예 3>
폴리에틸렌 테레프탈레이트를 주성분으로 하는 평균 두께 125㎛의 기재층의 표면에, 열경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 실시예 3의 광학 시트(상부용 광확산 시트)를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 5㎛의) 제1 비즈, 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 2㎛의) 제2 비즈, 및, 제1 비즈보다 평균 입경이 작으며 또한 제2 비즈보다 평균 입경이 큰(평균 입경 3㎛의) 제3 비즈를 2:2:1(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 3.5g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 49.07질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 3.5㎛였다. 그리고 도 8은, 실시예 3의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<실시예 4>
폴리에틸렌 테레프탈레이트를 주성분으로 하는 평균 두께 125㎛의 기재층의 표면에, 열경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 실시예 3의 광학 시트(상부용 광확산 시트)를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 7㎛의) 제1 비즈, 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 2㎛의) 제2 비즈, 및, 제1 비즈보다 평균 입경이 작으며 또한 제2 비즈보다 평균 입경이 큰(평균 입경 3㎛의) 제3 비즈를 2:2:1(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 3.5g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 50.02질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 3.5㎛였다.
<실시예 5>
실시예 2의 기재층과 마찬가지의 기재층의 표면에, 자외선 경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 실시예 5의 상부용 광확산 시트를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 7㎛의) 제1 비즈, 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 2㎛의) 제2 비즈, 및, 제1 비즈보다 평균 입경이 작으며 또한 제2 비즈보다 평균 입경이 큰(평균 입경 3㎛의) 제3 비즈를 2:2:1(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 2.0g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 70.02질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 2.0㎛였다. 그리고 도 9는, 실시예 5의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<비교예 1>
실시예 2의 기재층과 마찬가지의 기재층의 표면에, 자외선 경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 비교예 1의 상부용 광확산 시트를 제조하였다. 수지 비즈로는, 평균 입경이 큰(평균 입경 7㎛의) 제1 비즈, 및 제1 비즈보다 평균 입경이 작은(평균 입경 2㎛의) 제2 비즈를 1.5:1(질량비)의 비율로 혼합한 것을 사용하였다. 광확산층의 적층량은 2.0g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 77.09질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 2.0㎛였다. 그리고 도 10은, 비교예 1의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<비교예 2>
폴리에틸렌 테레프탈레이트를 주성분으로 하는 평균 두께 100㎛의 기재층의 표면에, 자외선 경화형 수지를 주성분으로 하는 수지 매트릭스 중에 평균 입경 8㎛의 아크릴 수지 비즈가 분산한 광확산층을 적층하여, 비교예 2의 상부용 광확산 시트를 제조하였다. 광확산층의 적층량은 5.0g/㎡, 광확산층에서의 수지 매트릭스의 함유율은 76.19질량%이고, 광확산층의 평균 두께는 5.0㎛였다. 그리고 도 11은, 비교예 2의 상부용 광확산 시트의 표면을 1000배로 확대한 현미경 사진이다.
<실시예의 평가 결과>
실시예 1~5 및 비교예 1, 2의 상부용 광확산 시트를, 액정 표시 장치의 에지라이트형 백라이트 유닛의 프리즘 시트 및 액정 패널 사이에 내장하고, 스파클 정도를, JIS C 1006:2019에 준거하여 측정하였다. 이 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 그리고 측정값은, JIS C 1006:2019의 "스파클 콘트라스트(단위: %)"이며, 측정 장치는, JIS C 1006:2019의 부속서 A의 "측정 장치 B" 사양의 것(DM&S사제 SMS-1000)을 이용하였다. 구체적으로는, 항온 항습(23℃ 50%RH) 상태의 암실에서, Green 필름(LEE Filters사제 LEE Color Filter(형식: 124 Dark Green))을 붙인 광원 위에 SMS-1000 부속의 Pixel pattern matrix(latest version 2019: 두께 2mm, 254ppi)를 사이에 끼우고 상부용 광확산 시트를 광확산층이 상측이 되도록 배치하여, Sparkle 모드에서, 스파클 정도를 측정하였다. 촬상 카메라로는, 50mm 대물 렌즈를 사용하고, 광원에서 대물 렌즈까지의 거리를 약 240mm(SMS-1000의 Pixel Ratio를 6.0)로 설정하고, 노광 시간을 약 20ms로 설정하였다. 화상 필터링 처리는, SMS-1000 부속의 어플리케이션으로 실시하였다.
또한, 실시예 1~5 및 비교예 1, 2의 상부용 광확산 시트의 헤이즈 값을, 스가 시험기 가부시키가이샤제의 Haze meter HZ-2를 이용하고, JIS K 7136:2000에 준거하여 측정하였다. 이 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
또한, 실시예 1~5 및 비교예 1, 2의 상부용 광확산 시트의 표면의 "산술 평균 조도(Ra)"를, JIS B 0601:2001에 준거하여, 컷오프 없음, 평가 길이 290㎛로 측정하였다. 이 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 그리고 선 조도(line roughness)의 지표인 "산술 평균 조도(Ra)"의 측정은, 3 샘플(N1, N2, N3)에 대해 실시하고, 표 1에는 각 샘플의 측정값 및 그들의 평균값을 나타낸다.
또한, 실시예 1~5 및 비교예 1, 2의 상부용 광확산 시트의 표면의 "피크 카운트(RPc)"를 JIS B 0601:2001에 준거하여 측정하였다. 이 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 그리고 선 조도의 지표인 "피크 카운트(RPc)" 측정에서는, 평가 길이를 290㎛, 평균선 양측의 불감대 폭을 0%로 설정하고, 평균선보다 아래로 나온 점으로부터 일단 평균선 위로 나온 후, 다시 한번 평균선보다 아래로 나오기까지를 하나의 피크(산)로 했을 때의 당해 피크의 수(피크 카운트 2)를 3 샘플(N1, N2, N3)에 대해 측정하고, 표 1에는, 각 샘플의 측정값 및 그들의 평균값을 나타낸다.
또한, 실시예 1~5 및 비교예 1, 2의 상부용 광확산 시트의 표면의 "요철의 평균 간격(Sm)"을, JIS B 0601:1994에 준거하여, 컷오프 없음, 평가 길이 290㎛로 측정하였다. 이 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 그리고 선 조도의 지표인 "요철의 평균 간격(Sm)"의 측정은, 3 샘플(N1, N2, N3)에 대하여 실시하고, 표 1에는, 각 샘플의 측정값 및 그들의 평균값을 나타낸다.
이상의 선 조도의 지표인 "산술 평균 조도(Ra)", "피크 카운트(RPc)", "요철의 평균 간격(Sm)"의 측정은, 가부시키가이샤 키엔스제의 레이저 현미경 VX-K100을 이용하여 실시하였다. 구체적으로는, 배율을 1000배, 피치를 0.20, 불감대 폭을 0으로 설정하고 선 조도 모드에서 자동 기울기 보정을 실시하면서 대상 표면의 레이저 촬영을 실시하고, 촬영한 화상에 대해서, VK-X100 전용 해석 어플리케이션을 이용하여 해석하였다.
Figure pct00001
표 1에 나타내는 바와 같이, 실시예 1~5에 대해서는, JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트를 4% 정도 이하로 억제할 수 있었다. 또한, 상부용 광확산 시트의 표면에 대해, 산술 평균 조도(Ra) 및 피크 카운트(RPc)가 각각 0.6㎛ 이하 및 16 이상이면, 실시예 1~4와 같이, 스파클 콘트라스트를 4%보다 낮게 할 수 있다. 또한, 산술 평균 조도(Ra), 피크 카운트(RPc) 및 요철의 평균 간격(Sm)이 각각 0.5㎛ 이하, 18 이상 및 20㎛ 이하이면, 실시예 1~3과 같이, 상부용 광확산 시트의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 충분히 억제할 수 있다. 구체적으로는, 스파클 콘트라스트를 3% 정도 이하까지 억제할 수 있다. 그에 비해, 비교예 1, 2에서는, 스파클 콘트라스트가 5%를 초과한다. 구체적으로는, 비교예 1, 2와 같이, 산술 평균 조도(Ra), 피크 카운트(RPc) 또는 요철의 평균 간격(Sm)이 전술한 범위 외이면, 표시 화면에서의 스파클 발생을 충분히 억제할 수 없다.
(그 밖의 실시형태)
이상, 본 개시에 관한 실시형태(변형예, 실시예를 포함함. 이하 동일)를 설명하였으나, 본 개시는 상기 실시형태에만 한정되지 않고, 개시의 범위 내에서 여러 가지 변경이 가능하다. 즉, 상기 실시형태의 설명은, 본질적으로 예시에 지나지 않으며, 본 개시, 그 적용물 또는 그 용도의 제한을 의도하는 것이 아니다.
구체적으로는, 본 개시에 따른 상부용 광확산 시트는, 상기 실시형태와 같이, 기재층 및 광확산층의 2층 구조체, 또는 기재층, 광확산층 및 스티킹 방지층의 3층 구조체여도 되고, 또는, 기재층 및 광확산층의 사이, 또는, 기재층 및 스티킹 방지층의 사이에 다른 층을 가져도 된다.
또한, 본 개시에 따른 백라이트 유닛은, 상기 실시형태 이외에, 다양한 변경, 개량을 실시한 양태로 실시할 수 있다. 예를 들어, 백라이트 유닛은, 도광 시트의 표면 측에, 상부용 광확산 시트, 프리즘 시트 및 하부용 광확산 시트 이외의 다른 광학 시트를 구비하여도 된다. 또한, 백라이트 유닛은, 에지라이트형 백라이트 유닛에 한정되지 않고, 예를 들어, 하부용 광확산 시트의 이면 측에 확산판 및 광원이 배치된 직하형 백라이트 유닛이어도 된다. 또, 백라이트 유닛에서의 프리즘 시트, 광확산 시트, 도광 시트, 광원 및 반사 시트의 구체적인 구성은, 특별히 한정되지 않고, 다양한 구성을 채용할 수 있다.
또한, 본 개시에 따른 백라이트 유닛은, 퍼스널 컴퓨터나 액정 텔레비전 등의 비교적 대형 표시 장치, 스마트 폰 등의 휴대 전화 단말기, 태블릿 단말기 등의 휴대형 정보 단말기 등 광범위한 용도로 사용할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에서는, 기재층과, 기재층 상에 형성된 광확산층을 구비하는 광학 시트에서 광확산층이 되는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈를 분산하여, 광학 시트의 표면에 요철 형상을 형성하였다. 그러나 이 대신에, 예를 들어, 수지 매트릭스 중에 수지 비즈를 분산함으로써 형성한 요철 형상을 전사한 몰드를 이용하거나, 또는, 당해 요철 형상을 기억시킨 레이저 프린터 장치를 이용하여, 광학 시트의 표면에 요철 형상을 형성하여도 된다.
또한, 상기 실시형태에서는, 백라이트 유닛의 상부용 광확산 시트의 표면 요철과 액정 패널의 셀 배열과의 간섭에 기인하는 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제하는 경우를 예시하였다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 본 개시의 상부용 광확산 시트와 마찬가지의 구성을 갖는 광학 시트를, 예를 들어, CRT 또는 평면 패널 디스플레이 등의 디스플레이 또는 이들 디스플레이에 사용되는 터치 패널 등의 표면재에 적용함으로써, 표시 화면에서의 스파클 발생을 억제하여도 된다.
1 : 도광 시트
2 : 광원
3 : 하부용 광확산 시트
4 : 프리즘 시트
5 : 상부용 광확산 시트
6 : 반사 시트
11 : 기재층
12 : 광확산층
13 : 수지 매트릭스
14 : 수지 비즈
15 : 기재층
16 : 돌조 프리즘부
17 : 기재층
18 : 광확산층
19 : 스티킹 방지층
25 : 상부용 광확산 시트
26 : 스티킹 방지층
31 : 액정 패널
32 : 표면 측 편광판
33 : 이면 측 편광판
34 : 액정 셀

Claims (11)

  1. 적어도 제1면에 요철 형상을 갖는 광학 시트로서,
    상기 제1면의 JIS C 1006:2019에 준거하여 측정되는 스파클 콘트라스트가 4% 이하인,
    광학 시트.
  2. 제1항에 있어서,
    헤이즈 값이 40% 이상 70% 이하인,
    광학 시트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 산술 평균 조도(Ra)가 0.6㎛ 이하이고,
    상기 제1면의 JIS B 0601:2001에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 피크 카운트(RPc)가 16 이상인,
    광학 시트.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 산술 평균 조도(Ra)가 0.5㎛ 이하이고,
    상기 피크 카운트(RPc)가 18 이상인,
    광학 시트.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 제1면의 JIS B 0601:1994에 준거(단, 평가 길이는 290㎛로 설정)하여 측정되는 요철의 평균 간격(Sm)이 20㎛ 이하인,
    광학 시트.
  6. 제1항에 있어서,
    기재층과, 상기 기재층 상에 형성되며 또한 상기 제1면을 갖는 광확산층을 구비하고,
    상기 광확산층이 되는 수지 매트릭스 중에 수지 비즈를 분산함으로써, 상기 요철 형상이 형성되는,
    광학 시트.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수지 매트릭스와 상기 수지 비즈의 굴절률 차는, 0.05 이하인,
    광학 시트.
  8. 제1항에 있어서,
    액정 표시 장치의 백라이트 유닛에서의 프리즘 시트의 표면 측에 배치되는,
    광학 시트.
  9. 광원과,
    상기 광원으로부터의 광이 도입되는 프리즘 시트와,
    상기 프리즘 시트의 출광면 측에 형성되는 광학 시트를 구비하고,
    상기 광학 시트는, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 시트인,
    액정 표시 장치의 백라이트 유닛.
  10. 제9항에 기재된 백라이트 유닛과,
    액정 표시 패널을 구비하는,
    액정 표시 장치.
  11. 제10항에 기재된 액정 표시 장치를 구비하는,
    정보 기기.
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