TWI809399B - 光學片、液晶顯示裝置的背光單元、液晶顯示裝置、資訊機器及光學片的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本公開旨在提供一種光學片，其能夠抑制顯示畫面上閃爍的發生。光 學片5為一種至少在第一面具有凹凸形狀的光學片。根據JIS C 1006：2019測得的前述第一面的閃爍對比度在4%以下。根據JIS B 0601：2001(其中，評價長度設定為290μm)測得的前述第一面的算術平均粗糙度Ra可以為0.6μm以下。根據JIS B 0601：2001(其中，評價長度設定為290μm)測得的前述第一面的峰值計數RPc可以為16以上。

Description

光學片、液晶顯示裝置的背光單元、液晶顯示裝置、資 訊機器及光學片的製造方法
本公開涉及一種光學片、液晶顯示裝置的背光單元、液晶顯示裝置、資訊機器及光學片的製造方法。
近年來，智慧型手機或平板終端等各種資訊機器之顯示裝置廣為利用液晶顯示裝置(以下亦稱為LCD(液晶顯示器))。LCD的背光單元(以下亦稱為BLU)主流為光源配置在液晶面板背面的正下方型或光源配置在液晶面板側面附近的側光型。
圖12所示的習知側光型BLU101包括：光源102；以端部沿著光源102的方式配置的方形板狀的導光板103；重疊配置在導光板103的表面側的多個光學片104；以及配置在導光板103的背面側的反射片105。導光板103一般由合成樹脂製成，使用聚碳酸酯、丙烯酸樹脂等作為導光板103的主要成分。作為光源102，使用LED(發光二極體)或冷陰極管等，但從小型化及節能化等觀點來看，目前廣泛使用LED。作為光學片104，使用：(1)重疊在導光板103的表面側、主要具有光擴散功能的下用光擴散片106；(2)重疊在下用光擴散片106的表面側、具有朝著法線方向一側折射光的折射功能的稜鏡片107；(3)重疊在稜鏡片107的表面側、藉由使光線稍微擴散而抑制稜鏡片107的稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻的上用光擴散片108(參照專利文獻1)。作為上用光擴散 片108，一般而言，係使用包括基材層和積層在基材層的表面側且具有樹脂基質及樹脂珠的光擴散層的上用光擴散片。
[專利文獻1] 日本特開2005-77448號公報。
已知在LCD的顯示畫面中，由於用於BLU的光學片與液晶面板的干涉，會發生被稱為閃爍(也稱為「閃紋」、「閃爍(Sparkle)」、「細微的亮度不均勻」等)之使顯示品質變差的現象。閃爍被認為是因下述原因而發生的：形成BLU的最上面的上用光擴散片的表面凹凸與液晶面板的單元(像素)配列的干涉。隨著近年來液晶面板的高精細化的進展，單元的配列間距變小，而更容易發生閃爍。相同的問題不限定於LCD的顯示畫面，亦有在其他各種顯示裝置中發生的情況。
鑑於此，本公開的目的旨在提供一種光學片，其能夠抑制顯示畫面上閃爍的發生。
為了達成上述目的，本申請發明人等努力進行了檢討，發現在LCD中，藉由使上用光擴散片的光擴散層中含有的擴散劑的粒徑小於7μm左右，同時盡可能地使該粒徑均勻，則與習知產品相比，能夠減少閃爍。即使在減小擴散劑(樹脂珠)的粒徑的情況下，若產生了珠聚集的區域和珠幾乎不存在的稀疏區域的狀態(稱為海島的狀態)，則上用光擴散片的表面的凹凸(表面粗糙度等)變大，而無法充分減少閃爍。
鑑於此，本申請發明人藉由鋪設例如2μm左右以下的更細的樹脂珠，準備沒有珠之聚集(海島)的光學片，亦即均勻地配置有珠的光學片，以 該光學片作LCD(BLU)的上用光擴散片使用。其結果能夠穩定地減少閃爍。具體而言，能夠將根據JIS C 1006：2019測得的閃爍對比度抑制到4%左右以下。此外還發現，具有能夠穩定地得到閃爍減少效果的凹凸形狀的光學片並不限定於將樹脂珠分散在樹脂基質中來形成，也能夠用模具或雷射印表機等來形成光學片。
本公開所涉及之光學片正是基於以上見解而完成的，具體而言，其為至少在第一面具有凹凸形狀的光學片，根據JIS C 1006：2019測得的前述第一面的閃爍對比度為4%以下。需要說明的是，在本公開所涉及之光學片中，霧度值可以為40%以上至70%以下。
在本公開所涉及之光學片中，根據JIS B 0601：2001(其中，評價長度設定為290μm)測得的前述第一面的算術平均粗糙度Ra可以為0.6μm以下，根據JIS B 0601：2001(其中，評價長度設定為290μm)測得的前述第一面的峰值計數RPc可以為16以上。如此，光學片的第一面具有緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。因此，將本公開所涉及之光學片用作各種顯示裝置的表面材料時，能夠穩定地抑制顯示畫面上閃爍的發生。
在本公開所涉及之光學片中，前述算術平均粗糙度Ra可以為0.5μm以下，前述峰值計數RPc可以為18以上。如此，光學片的第一面具有更加緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。因此，當將本公開所涉及之光學片用作各種顯示裝置的表面材料時，能夠進一步地抑制顯示畫面上閃爍的發生。具體而言，能夠將閃爍對比度抑制到3%左右以下。
在本公開所涉及之光學片中，根據JIS B 0601：1994(其中，評價長度設定為290μm)測得的前述第一面的凹凸的平均間隔Sm可以為20μm以下，更佳可以為15μm以下。如此，光學片的第一面具有更加緻密且均勻地形 成有微小凹凸的形狀。因此，當將本公開所涉及之光學片用作各種顯示裝置的表面材料時，能夠進一步地抑制顯示畫面上閃爍的發生。
在本公開所涉及之光學片中，可以包括基材層及形成在前述基材層上且具有前述第一面的光擴散層，可以藉由將樹脂珠分散在成為前述光擴散層的樹脂基質中，來形成前述凹凸形狀。如此，藉由使微小粒徑的樹脂珠均勻地分散在樹脂基質中，能夠在光學片的第一面形成緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。於此情況，若前述樹脂基質與前述樹脂珠的折射率差為0.05以下，則能夠抑制在樹脂基質與樹脂珠的界面的光擴散的影響。需要說明的是，在使微小粒徑的樹脂珠均勻地分散在樹脂基質中時，藉由少量地混和不會成為閃爍發生的主要原因的粒徑稍大(例如5μm左右的粒徑)的樹脂珠，能夠提升本公開所涉及之光學片的耐損壞性及霧度值。
本公開所涉及之光學片可以配置在液晶顯示裝置的背光單元中的稜鏡片的表面側。如此，在以本公開所涉及之光學片作LCD(BLU)的上用光擴散片使用的情況下，能夠抑制上用光擴散片的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。此外，能夠抑制配置在上用光擴散片背面側的稜鏡片的稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。
本公開所涉及之背光單元包括光源；稜鏡片，來自前述光源的光被引入該稜鏡片中；以及形成在前述稜鏡片的光射出面側的光學片；該光學片為前述本公開所涉及之光學片。
根據本公開所涉及之背光單元，以前述本公開所涉及之光學片作為上用光擴散片使用，因此，能夠抑制上用光擴散片的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。還能夠抑制配置在上用光擴散片背面側的稜鏡片的稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。
本公開所涉及之液晶顯示裝置包括前述本公開所涉及之背光單元、及液晶顯示面板。
根據本公開所涉及之液晶顯示裝置，包括前述本公開所涉及之背光單元，因此能夠抑制顯示畫面上閃爍的發生。
本公開所涉及之資訊機器包括前述本公開所涉及之液晶顯示裝置。
根據本公開所涉及之資訊機器，包括前述本公開所涉及之液晶顯示裝置，因此能夠抑制顯示畫面上閃爍的發生。
根據本公開，能夠提供一種能夠抑制顯示畫面上閃爍的發生的光學片。
1:導光片
2:光源
3:下用光擴散片
4:稜鏡片
5:上用光擴散片
6:反射片
11:基材層
12:光擴散層
13:樹脂基質
14:樹脂珠
15:基材層
16:突條稜鏡部
17:基材層
18:光擴散層
19:黏附防止層
25:上用光擴散片
26:黏附防止層
31:液晶面板
32:表面側偏光片
33:背面側偏光片
34:液晶單元
[圖1]為表示實施方式所涉及之背光單元的示意剖視圖。
[圖2]為表示圖1所示背光單元的上用光擴散片及稜鏡片的配置狀態的示意剖視圖。
[圖3]為表示比較例所涉及之背光單元的示意剖視圖。
[圖4]為表示變形例所涉及之上用光擴散片的示意剖視圖。
[圖5]為表示包括圖1所示的背光單元的液晶顯示裝置的示意剖視圖。
[圖6]為將實施例1的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖7]為將實施例2的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖8]為將實施例3的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖9]為將實施例5的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖10]為將比較例1的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖11]為將比較例2的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
[圖12]為表示習知之側光型背光單元的示意立體圖。
以下，參照圖式說明本公開之實施方式所涉及之光學片、背光單元、液晶顯示裝置及資訊機器。需要說明的是，本公開之範圍不限定於以下實施方式，可在本公開之技術思想範圍內任意變更。在本公開中「表面側」是指液晶顯示裝置的觀察者側，「背面側」是指其相反側。
<背光單元>
圖1為表示本實施方式所涉及之背光單元的示意剖視圖，圖2為表示圖1所示的背光單元的上用光擴散片及稜鏡片的配置狀態的示意剖視圖。
圖1所示的液晶顯示裝置的背光單元包括稜鏡片4、配置在稜鏡片4的表面側的上用光擴散片5。更具體而言，圖1所示的背光單元為側光型背光單元，其包括：將從端面入射的光線引向表面側的導光片1、向導光片1的端面照射光線的光源2、重疊在導光片1的表面側的下用光擴散片3、配置在下用光擴散片3的表面側的稜鏡片4、重疊在稜鏡片4的表面側的上用光擴散片5、以及配置在導光片1的背面側的反射片6。
下用光擴散片3使從背面側入射的光線一邊擴散一邊向法線方向會聚(亦即聚光擴散)。稜鏡片4使從背面側入射的光線向法線方向側折射。上用光擴散片5使從背面側入射的光線稍微擴散，抑制稜鏡片4的稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。於此，本實施方式的上用光擴散片5，如後所述，抑制該上用光擴散片5的表面凹凸與配置在上用光擴散片5表面側的液晶面板(省略圖 示)的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。反射片6使從導光片1的背面側射出的光線向表面側反射，並再次入射到導光片1。
<上用光擴散片>
如圖1及圖2所示，上用光擴散片5配置在稜鏡片4的表面側，在本實施方式中，特別是直接(不經由其他片材等)重疊在稜鏡片4的表面。上用光擴散片5包括基材層11和積層在基材層11的表面側的光擴散層12。上用光擴散片5構成為具有基材層11和光擴散層12的雙層結構體。
因為需要使光線穿透，因此基材層11以透明(例如無色透明)的合成樹脂為主要成分來形成。基材層11的主要成分沒有特別限定，例如可以使用聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚烯烴、乙酸纖維素、耐候性氯乙烯等作為基材層11的主要成分。需要說明的是，「主要成分」是指含量最多的成分，例如是指含量為50質量%以上的成分。
基材層11的平均厚度的下限較佳為10μm左右，更佳為35μm左右，特佳為50μm左右。另一方面，基材層11的平均厚度的上限較佳為500μm左右，更佳為250μm左右，特佳為188μm左右。若基材層11的平均厚度不足前述下限，則藉由塗佈形成光擴散層12時可能會發生捲曲。反之，若基材層11的平均厚度超過前述上限，則液晶顯示裝置的亮度有可能會降低，並且有可能無法滿將足液晶顯示裝置薄型化的要求。需要說明的是，「平均厚度」是指任意10個點處厚度的平均值。
光擴散層12形成上用光擴散片5的最表面。光擴散層12具有樹脂基質13以及分散在樹脂基質13中的樹脂珠14。光擴散層12讓樹脂珠14以大致相同的密度分散而包含在其中。樹脂珠14被樹脂基質13包圍。藉由讓樹脂珠14分散在樹脂基質13中，而在光擴散層12的表面形成微小的凹凸，光擴散層12利用 該凹凸使光線向外部擴散。在本實施方式中，根據JIS C1006：2019測得的光擴散層12的凹凸表面(上用光擴散片5的最表面)的閃爍對比度為4%以下。
光擴散層12的平均厚度的下限例如為1μm左右，更佳為2μm左右。另一方面，光擴散層12的平均厚度的上限例如為7μm左右，更佳為5μm左右，特佳為4μm左右。若光擴散層12的平均厚度不足前述下限，則無法可靠地藉由樹脂基質13固定樹脂珠14，樹脂珠14有可能從光擴散層12脫落。反之，若光擴散層12的平均厚度超過前述上限，則難以在光擴散層12表面形成微小且高密度的凹凸。其結果，有可能無法充分地抑制光擴散層12的表面凹凸與配置在上用光擴散片5的表面側的液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。
因為需要使光線穿透，因此樹脂基質13以透明(特別是無色透明)的合成樹脂為主要成分來形成。作為合成樹脂，能夠使用例如熱固化型樹脂或活性能量線固化型樹脂等。作為熱固性樹脂，例如能夠使用環氧樹脂、聚矽氧樹脂、酚樹脂、尿素樹脂、不飽和聚酯樹脂、三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂、聚醯亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、醯胺官能性共聚物、胺基甲酸酯樹脂等。作為活性能量線固化型樹脂，能夠使用藉由照射紫外線而交聯、固化的紫外線固化型樹脂、藉由照射電子射線而交聯、固化的電子射線固化型樹脂等。能夠從聚合性單體和聚合性低聚物中適當選擇使用。為了提升與基材層11的密接性並且防止樹脂珠14從光擴散層12脫落，作為活性能量線固化型樹脂，例如可以使用丙烯酸系、胺基甲酸乙酯系或丙烯酸胺基甲酸乙酯系紫外線固化型樹脂。
需要說明的是，樹脂基質13除了前述合成樹脂以外，還能夠含有添加劑。作為添加劑，能夠使用例如聚矽氧系添加劑、氟系添加劑、抗靜電劑等。相對於樹脂基質13中的合成樹脂成分100質量份，添加劑的固體成分換算含量例如可以為0.05質量份以上5質量份以下。
樹脂珠14為具有使光線透射擴散之性質的樹脂粒子。樹脂珠14以透明特別是無色透明的合成樹脂為主要成分來形成。作為樹脂珠14的主要成分，例如能夠使用丙烯酸樹脂、丙烯腈樹脂、聚胺基甲酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚丙烯腈等。樹脂珠14的形狀沒有特別限定，例如可以是球狀、立方體狀、針狀、棒狀、紡錘形狀、板狀、鱗片狀、纖維狀等，特佳為光擴散性優異的球狀。
樹脂珠14的粒徑較佳為光源2照射的光線的波長(以下有時也稱為光源波長)以上且盡可能小，樹脂珠14的平均粒徑的上限例如可以為2μm左右，更佳為1μm左右。若樹脂珠14的平均粒徑小於光源波長，則光擴散層12表面的凹凸會過小，光擴散性會不夠充分，而有可能無法充分地抑制稜鏡片4的稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻的發生。反之，若樹脂珠14的平均粒徑超過前述上限，則會在光擴散層12表面形成多個較大的凹凸，有可能無法充分地抑制光擴散層12的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。
作為樹脂珠14的折射率的下限，例如較佳為1.46，更佳為1.48。另一方面，作為樹脂珠14的折射率的上限，例如較佳為1.60，更佳為1.59。藉由使樹脂珠14的折射率在前述範圍內，能夠適度地(例如0.05以下)調整與樹脂基質13的折射率差。藉此，容易抑制稜鏡片4的突條稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。需要說明的是，「折射率」是指波長589.3nm的光(鈉的D線)的折射率。
光擴散層12的表面(即上用光擴散片5的表面)的算術平均粗糙度Ra的下限例如可以為0.1μm左右，更佳為0.2μm左右，特佳為0.3μm左右。另一方面，光擴散層12的表面的算術平均粗糙度Ra的上限例如較佳為0.6μm左右，更佳為0.5μm左右。若光擴散層12的表面的算術平均粗糙度Ra小於前述下限，則光擴散層12表面的凹凸會過小，光擴散性會不夠充分，而有可能無法充 分地抑制稜鏡片4的突條稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。反之，若光擴散層12的表面的算術平均粗糙度Ra超過前述上限，則會在光擴散層12表面形成多個較大的凹凸，而有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。需要說明的是，「算術平均粗糙度Ra」是指「來自平均線的絕對值偏差的平均值」，具體而言，根據JIS B 0601：2001(ISO 4287：1997)，沒有設定截止值，評價長度為290μm。
光擴散層12的表面(即上用光擴散片5的表面)的峰值計數RPc的下限例如可以為10左右，更佳為16左右，特佳為18左右。另一方面，光擴散層12的表面的峰值計數RPc的上限例如較佳為300左右，更佳為250左右，特佳為200左右。若光擴散層12的表面的峰值計數RPc不足前述下限，則會在光擴散層12表面形成多個較大的凹凸，而有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。反之，若光擴散層12的表面的峰值計數RPc超過前述上限，則光擴散層12表面的凹凸過小，光擴散性不足，而有可能無法充分地抑制稜鏡片4的突條稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。需要說明的是，「峰值計數RPc」是指「每個評價長度中的峰的數量」，具體而言，是指根據JIS B 0601：2001(ISO 4287：1997)，將評價長度設定為290μm，將評價長度290μm中粗糙度曲線的平均線兩側的死區寬度設定為0%，從低於平均線的點開始，暫時高於平均線後，再一次低於平均線為止，將其作為一個峰時該峰的數量(峰值計數2)。
光擴散層12的表面(即上用光擴散片5的表面)的凹凸平均間隔Sm的下限例如可以為0.5μm左右，更佳為1.0μm左右，特佳為1.5μm左右。另一方面，作為光擴散層12的表面的凹凸的平均間隔Sm的上限，例如可以較佳為25μm左右，更佳為20μm左右，特佳為15μm左右。若光擴散層12的表面的凹凸的平均間隔Sm不足前述下限，則光擴散層12的表面的凹凸過小，光擴散性不 足，而有可能無法充分地抑制稜鏡片4的突條稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。反之，若光擴散層12的凹凸的平均間隔Sm超過前述上限，則難以在光擴散層12的表面形成微小且高密度的凹凸，而有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。需要說明的是，「凹凸的平均間隔Sm」是指「評價長度中的凹凸的間隔(一個峰和與其相鄰的一個谷之間的距離)的算術平均值」，具體而言，根據JIS B 0601：1994(ISO 468-1982、ISO 3274-1975、ISO 4287/1-1984、ISO 4287/2-1984、ISO 4288/1985)，沒有設定截止值，評價長度為290μm。
光擴散層12的積層量(固體成分換算)的下限例如可以為1g/m2，更佳為2g/m2。另一方面，光擴散層12的積層量的上限例如為15g/m2，更佳可以為10g/m2。若光擴散層12的積層量不足前述下限，則無法可靠地藉由樹脂基質13固定樹脂珠14，樹脂珠14有可能從光擴散層12脫落。反之，若光擴散層12的積層量超過前述上限，則難以在光擴散層12表面形成微小且高密度的凹凸。其結果，有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與配置在上用光擴散片5的表面側的液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。
樹脂基質13在光擴散層12中的含有率的下限例如為10質量%左右，更佳可以為20質量%左右。另一方面，樹脂基質13在光擴散層12中的含有率的上限例如為80質量%左右，更佳可以為75質量%左右。若樹脂基質13的含有率不足前述下限，則光擴散層12的光擴散性會過高，液晶顯示裝置的亮度有可能不夠高。反之，若樹脂基質13的含有率超過前述上限，則光擴散層12中的樹脂珠14的個數不足，難以在光擴散層12表面形成微小且高密度的凹凸，而有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與配置在上用光擴散片5的表面側的液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。
樹脂珠14在光擴散層12中的含有率的下限例如為20質量%左右，更佳可以為25質量%左右。另一方面，樹脂珠14在光擴散層12中的含有率的上限例如為90質量%左右，更佳可以為80質量%左右。若樹脂珠14在光擴散層12中的含有率不足前述下限，則難以在光擴散層12表面形成微小且高密度的凹凸，有可能無法充分地抑制光擴散層12表面的凹凸與配置在上用光擴散片5的表面側的液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。反之，若樹脂珠14在光擴散層12中的含有率超過前述上限，則光擴散層12的光擴散性變得過高，液晶顯示裝置的亮度有可能不夠高。
上用光擴散片5的霧度值的下限例如可以為10%左右，更佳為30%左右，特佳為40%左右。另一方面，上用光擴散片5的霧度值的上限例如可以為90%左右，更佳為70%左右。若上用光擴散片5的霧度值不足前述下限，則有可能無法充分地抑制稜鏡片4的突條稜鏡部的形狀等所引起的亮度不均勻。反之，若上用光擴散片5的霧度值超過前述上限，則液晶顯示裝置的亮度有可能不足。需要說明的是，「霧度值」是指根據JIS K 7136：2000測得的值。
<上用光擴散片的製造方法>
上用光擴散片5的製造方法並無特別限定，例如可以包括：形成構成基材層11的片體的製程(以下稱為基材層形成製程)、在該片體的一面側積層光擴散層12的製程(以下稱為光擴散層積層製程)。
作為基材層形成製程，並無特別限定，例如能夠使用如下方法：將熔融的熱塑性樹脂從T型模頭擠出成型，接著將該擠出成型體沿層長邊方向和層寬度方向拉伸而形成片體。作為使用了T型模頭的公知擠出成型法，例如能夠使用拋光輥法或冷卻輥法。作為片體的拉伸方法，例如能夠使用管狀膜雙軸拉伸法或平膜雙軸拉伸法等。
光擴散層積層製程例如可以包括：製備含有樹脂基質13及樹脂珠14的塗佈液的製程(以下稱為製備製程)、將在製備製程中製備出的塗佈液塗佈於片體的一面側的製程(以下稱為塗佈製程)、使在塗佈製程中塗佈上的塗布液干燥及固化的製程(以下稱為固化製程)。在製備製程中，可以製備含有活性能量線固化型樹脂作為樹脂基質13的主要成分並且含有樹脂珠14的塗佈液。在上用光擴散片的製造方法中，若使用活性能量線固化型樹脂作為樹脂基質13的主要成分，則在塗佈製程中塗佈塗佈液後，在固化製程中例如藉由照射紫外線，容易使活性能量線固化型樹脂較快地固化。在上用光擴散片的製造方法的製備製程中，藉由製備含有多個粒徑小的樹脂珠且含有多個粒徑大的樹脂珠的塗佈液作為樹脂珠14，能夠藉由粒徑小的樹脂珠抑制上用光擴散片5表面的凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生，並且能夠藉由粒徑大的樹脂珠防止與液晶面板的黏附。
需要說明的是，上用光擴散片5的製造方法還可以包括：在光擴散層積層製程之前，對片體的積層光擴散層的一側的面實施電暈放電處理、臭氧處理、低溫電漿處理、輝光放電處理、氧化處理、底鍍塗層處理(Primer Coat)、底部塗層處理(Under Coat)、初層(Anchor Coat)處理等的表面處理製程。
<稜鏡片>
因為需要使光線穿透，因此稜鏡片4以透明(例如無色透明)的合成樹脂為主要成分來形成。稜鏡片4具有基材層15和由積層在基材層15的表面上的多個突條稜鏡部16所構成的突起列。突條稜鏡部16呈條狀地積層在基材層15的表面上。突條稜鏡部16為背面與基材層15的表面接觸的三角柱狀體。
稜鏡片4的厚度(從基材層15的背面到突條稜鏡部16的頂點的高度)的下限例如為50μm左右，更佳可以為100μm左右。另一方面，稜鏡片4的厚度的上限為200μm左右，更佳可以為180μm左右。稜鏡片4中的突條稜鏡部 16的間距p(參照圖2)的下限例如為20μm左右，更佳可以為30μm左右。另一方面，稜鏡片4中的突條稜鏡部16的間距p的上限例如為100μm左右，更佳可以為60μm左右。突條稜鏡部16的頂角例如可以為85°以上95°以下。突條稜鏡部16的折射率的下限例如為1.5，更佳可以為1.55。另一方面，突條稜鏡部16的折射率的上限例如可以為1.7。
需要說明的是，圖1所示的本實施方式的背光單元不限於僅具有一個稜鏡片4，可以還具有與稜鏡片4重疊的其他稜鏡片。於此情況，較佳為稜鏡片4的多個突條稜鏡部16的稜線與其他稜鏡片的多個突條稜鏡部的棱線正交。如此，能夠利用一個稜鏡片使從下用光擴散片3入射的光線向法線方向側折射，進而利用另一個稜鏡片使從該稜鏡片出射的光線以相對於上用光擴散片5的背面大致垂直地前進的方式折射。其他稜鏡片的形成材料、厚度、突條稜鏡部的間距、突條稜鏡部的頂角及突條稜鏡部的折射率也都可以與稜鏡片4相同。
<導光片>
導光片1為片狀光學部件，使從光源2射出的光線在內部傳輸並從表面射出。導光片1的剖面可呈近似楔形，或者可呈近似平板狀。由於需要具有透光性，因此導光片以透明(例如無色透明)的樹脂為主要成分來形成。導光片1的主要成分並無特別限定，可以是透明性、強度等優異的聚碳酸酯；透明性、耐劃傷性等優異的丙烯酸樹脂等合成樹脂。由於聚碳酸酯的透明性優異且折射率高，因此，若導光片1的主要成分為聚碳酸酯，則容易在與空氣層(形成在導光片1與下用光擴散片3的間隙的層、以及形成在導光片1與反射片6的間隙的層)的界面發生全反射，因此能夠有效地傳輸光線。因聚碳酸酯具有耐熱性，故導光片1難以因光源2發熱而劣化等。
<光源>
光源2的照射面與導光片1的端面相對(或者抵接)而設。光源2能夠使用各種光源，例如能夠使用發光二極體(LED)。具體而言，能夠用多個LED沿著導光片1的端面配置而形成的光源作該光源2。
<下用光擴散片>
下用光擴散片3具有基材層17、配置在基材層17的表面側的光擴散層18、以及配置在基材層17的背面側的黏附防止層19。下用光擴散片3的基材層17可以是與前述上用光擴散片5的基材層11相同的構成。下用光擴散片3的光擴散層18具有光擴散劑及黏合劑。光擴散劑是具有讓光線擴散的性質的粒子，大致分為無機填充劑及有機填充劑。作為無機填充劑，能夠使用例如二氧化矽、氫氧化鋁、氧化鋁、氧化鋅、硫化鋇、矽酸鎂、或該等之混合物。作為有機填充劑，能夠使用例如丙烯酸樹脂、丙烯腈樹脂、聚胺基甲酸酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚丙烯腈等。光擴散劑的形狀沒有特別限定，例如可以是球狀、立方體狀、針狀、棒狀、紡錘形狀、板狀、鱗片狀、纖維狀等，但較佳為光擴散性優異的球狀。
用於光擴散層18的光擴散劑的平均粒徑的下限例如可以為8μm左右，更佳為10μm左右。另一方面，該光擴散劑的平均粒徑的上限例如為50μm左右，更佳可以為20μm左右，特佳可以為15μm左右。如果光擴散劑的平均粒徑不足前述下限，則光擴散層18表面的凹凸會變小，而有可能無法滿足作為下用光擴散片3所需要具有的光擴散性。反之，若光擴散劑的平均粒徑超過前述上限，則下用光擴散片3的厚度有可能增大，且擴散有可能難以均勻。
黏合劑在光擴散層18中的含有率的下限例如為15質量%左右，更佳可以為30質量%左右。另一方面，黏合劑在光擴散層18中的含有率的上限例如為48質量%左右，更佳可以為45質量%左右。如果黏合劑的含有率不足前述 下限，則存在光擴散劑不能被黏合劑可靠地固定住的可能性。反之，若黏合劑的含有率超過前述上限，則光擴散性有可能不足。
光擴散層18中的光擴散劑的含有率的下限例如為52質量%左右，更佳可以為55質量%左右。另一方面，光擴散劑在光擴散層18中的含有率的上限例如為85質量%左右，更佳可以為70質量%左右。若光擴散劑的含有率不足前述下限，則光擴散性有可能不足。反之，若光擴散劑的含有率超過前述上限，則存在光擴散劑不能被黏合劑可靠地固定的可能性。
光擴散層18的表面的算術平均粗糙度Ra的下限例如為1.1μm左右，更佳可以為1.3μm左右，特佳可以為1.4μm左右。另一方面，光擴散層18的表面的算術平均粗糙度Ra的上限例如為5μm左右，更佳可以為3μm左右，特佳可以為2μm左右。若光擴散層18的表面的算術平均粗糙度Ra不足前述下限，則光擴散性有可能不足。反之，若光擴散層18的表面的算術平均粗糙度Ra超過前述上限，則光線穿透率降低，液晶顯示裝置的亮度有可能不足。
黏附防止層19為樹脂珠分散在樹脂基質中而形成。該樹脂珠分散地配置在基材層17的背面側。黏附防止層19由於該樹脂珠分散地配置在其中，而具有樹脂珠所形成的多個凸部、以及不存在樹脂珠的平面部。黏附防止層19利用前述多個凸部點狀地分散著與配置在背面側的導光片1抵接且不與整個背面抵接，藉此防止黏附而抑制液晶顯示裝置的亮度不均勻。
下用光擴散片3的霧度值的下限例如為80%左右，更佳可以為85%左右，特佳可以為90%左右。若下用光擴散片3的霧度值不足前述下限，則光擴散性有可能不足。需要說明的是，下用光擴散片3的霧度值的上限例如可以為95%左右。
<反射片>
反射片6例如能夠使用：讓填充劑分散地含在聚酯等基材樹脂中的白色片、或藉由在由聚酯等形成的薄膜表面蒸鍍鋁、銀等金屬而使正反射性得到提高的鏡面片等。
<實施方式的效果>
根據以上說明的本實施方式，對具有凹凸形狀的上用光擴散片5(光擴散層12)的表面，根據JIS C 1006：2019測得的閃爍對比度在4%以下。於此，光擴散層12的凹凸表面的根據JIS B 0601：2001(其中，評價長度設定為290μm)測得的算術平均粗糙度Ra和峰值計數RPc分別可以為0.6μm以下和16以上。即，上用光擴散片5的表面具有緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。因此，能夠抑制上用光擴散片5的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。
相對於此，如圖3所示的比較例所涉及之背光單元那樣，在上用光擴散片5的表面不具有緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀的情況下，無法充分地抑制上用光擴散片5的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。
針對本實施方式的上用光擴散片5的表面，當算術平均粗糙度Ra及峰值計數RPc分別為0.5μm以下及18以上時，上用光擴散片5的表面具有更緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。因此，能夠進一步地抑制上用光擴散片5的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。具體而言，能夠將閃爍對比度抑制到3%左右以下。
本實施方式的上用光擴散片5的表面，若根據JIS B 0601：1994(其中，評價長度設定為290μm)測得的凹凸的平均間隔Sm為20μm以下，更佳為15μm以下，則上用光擴散片5的表面具有進一步緻密且均勻地形成有微小 凹凸的形狀。因此，能夠進一步地抑制上用光擴散片5的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。
本實施方式的上用光擴散片5包括基材層11和形成在基材層11上的光擴散層12，藉由將樹脂珠14分散在成為光擴散層12的樹脂基質13中來形成凹凸形狀。因此，藉由使具有微小粒徑的樹脂珠14均勻地分散在樹脂基質13中，能夠使其呈在上用光擴散片5(光擴散層12)的表面緻密且均勻地形成有微小凹凸的形狀。於此情況，若樹脂基質13與樹脂珠14的折射率差為0.05以下，則能夠抑制在樹脂基質13與樹脂珠14的界面的光擴散的影響。需要說明的是，在使微小粒徑的樹脂珠14均勻地分散在樹脂基質13中時，藉由將少量的不會成為閃爍發生的主要原因的粒徑稍大(例如5μm左右的粒徑)的樹脂珠14混合在樹脂基質13中，能夠提升上用光擴散片5的耐損壞性及霧度值。
在圖1所示的本實施方式的背光單元中，上用光擴散片5形成在稜鏡片4的光射出面側。換句話說，稜鏡片4配置在上用光擴散片5的背面側。因此，能夠利用上用光擴散片5抑制稜鏡片4的突條稜鏡部16的形狀等所引起的亮度不均勻。
<上用光擴散片的變形例>
圖4所示的本變形例的上用光擴散片25能夠代替前述實施方式的上用光擴散片5，應用於圖1所示的背光單元中。上用光擴散片25使從背面側入射的光線稍微擴散而抑制稜鏡片4的突條稜鏡部16的形狀等所引起的亮度不均勻，並且抑制上用光擴散片25表面的凹凸與配置在上用光擴散片25的表面側的液晶面板(省略圖示)的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。上用光擴散片25包括基材層11、積層在基材層11的表面側的光擴散層12、以及積層在基材層11的背面側的黏附防止層26。上用光擴散片25構成為包括基材層11、光擴散層12以及黏 附防止層26的三層結構體。上用光擴散片25的基材層11和光擴散層12可以是與前述實施方式的上用光擴散片5的基材層11和光擴散層12相同的構成。
黏附防止層26構成上用光擴散片25的最背面。由於需要使光線穿透，因此黏附防止層26以透明(例如無色透明)的合成樹脂為主要成分來形成。黏附防止層26形成為背面平坦且厚度大致均勻的薄膜狀。黏附防止層26構成為與配置在上用光擴散片25的背面側的稜鏡片4的突條稜鏡部16的頂部局部地抵接，藉此防止上用光擴散片25與稜鏡片4的黏附。作為黏附防止層26的主要成分，例如能夠使用聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲基-苯乙烯共聚物、聚烯烴、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、乙酸纖維素、耐候性氯乙烯、活性能量線固化型樹脂等。特別是，若用丙烯酸樹脂作為黏附防止層26的主要成分，則會提升上用光擴散片25的背面的強度，易於防止該背面遭受損壞。
黏附防止層26的平均厚度的下限例如可以為1μm左右，更佳為2μm左右。另一方面，黏附防止層26的平均厚度的上限例如可以為10μm左右，更佳為8μm左右。若黏附防止層26的平均厚度不足前述下限，則可能無法可靠地防止上用光擴散片25的背面被損壞。反之，若黏附防止層26的平均厚度超過前述上限，則液晶顯示裝置的亮度有可能會降低。
黏附防止層26的背面的算術平均粗糙度Ra的上限例如為0.04μm左右，更佳可以為0.035μm左右，特佳可以為0.03μm左右。若黏附防止層26的背面的算術平均粗糙度Ra超過前述上限，稜鏡片4的突條稜鏡部16則有可能因為與黏附防止層26抵接而被損壞。需要說明的是，黏附防止層26的背面的算術平均粗糙度Ra的下限並無特別限定，例如可以為0.01μm。
上用光擴散片25的製造方法例如可以包括：形成構成基材層11的片體的製程(以下稱為基材層形成製程)、在該片體的一面側積層光擴散層12 的製程(以下稱為光擴散層積層製程)、在構成基材層11的片體的另一面側積層黏附防止層26的製程(以下稱為黏附防止層積層製程)。作為黏附防止層積層製程，例如能夠使用：利用共擠出法同時形成構成基材層11的片體與黏附防止層26的方法、藉由塗佈片體的另一面側來積層黏附防止層26的方法等。
需要說明的是，上用光擴散片25的製造方法中的基材層形成製程，如前所述，可以利用共擠出法與黏附防止層積層製程同時進行，或者也可以與黏附防止層積層製程分開進行。在分別進行基材層形成製程和黏附防止層形成製程的情況下，基材層形成製程能夠以與前述實施方式的上用光擴散片5的基材層形成製程相同的方法來進行。上用光擴散片25的製造方法中的光擴散層積層製程，也能夠以與前述實施方式的上用光擴散片5的光擴散層積層製程相同的方法來進行。
根據以上說明的本變形例的上用光擴散片25，除了與前述實施方式的上用光擴散片5相同的效果之外，還能夠得到如下效果。即，由於在基材層11的背面側積層有黏附防止層26，因此能夠抑制稜鏡片4的突條稜鏡部16的形狀等所引起的亮度不均勻，並且能夠提升防止上用光擴散片25與稜鏡片4黏附的防黏附性及防止上用光擴散片25的背面被損壞的防損壞性。
<液晶顯示裝置>
圖5所示的液晶顯示裝置包括：將從端面入射的光線導向表面側的導光片1、向導光片1的端面照射光線的光源2、重疊在導光片1的表面側的下用光擴散片3、配置在下用光擴散片3的表面側的稜鏡片4、重疊在稜鏡片4的表面側的上用光擴散片5、配置在導光片1的背面側的反射片6、以及重疊在上用光擴散片5的表面側的液晶面板31。即，圖5所示的液晶顯示模組具有下述結構：在圖1所示的前述實施方式的背光單元中，在上用光擴散片5的表面側配置有液晶面板31。
液晶面板31直接地(不經由其他片材等)配置在上用光擴散片5的表面。液晶面板31具有大致平行且留有規定間隔地配置的表面側偏光片32和背面側偏光片33、以及配置在它們之間的液晶單元34。表面側偏光片32和背面側偏光片33分別由例如碘系偏光片、染料系偏光片、多烯系偏光片等偏光片，以及配置在其兩側的一對透明保護膜構成。表面側偏光片32和背面側偏光片33的穿透軸方向正交。
液晶單元34具有控制穿透的光量的功能，能夠採用習知的各種液晶單元。液晶單元34一般而言是由基板、濾色器、相對電極、液晶層、像素電極、基板等構成的積層結構體。該像素電極係使用ITO等透明導電膜。作為液晶單元34的顯示模式，例如能夠使用TN(Twisted Nematic)、VA(Virtical Alignment)、IPS(In-Place Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、HAN(Hybrid Aligned Nematic)等。液晶面板31的像素間距(液晶單元的像素間距)例如可以為25μm左右以下。
根據圖5所示的液晶顯示裝置，由於包括前述實施方式的上用光擴散片5，因此能夠抑制稜鏡片4的突條稜鏡部16的形狀等所引起的亮度不均勻。由於在液晶面板31的背面側配置有上用光擴散片5，因此能夠抑制形成在上用光擴散片5的光擴散層12表面的凹凸與液晶面板31的單元配列的干涉所引起的閃爍的發生。
當將圖5所示的液晶顯示裝置用作智慧型手機或平板終端等各種資訊機器的顯示裝置時，能夠抑制各種資訊機器的顯示畫面上閃爍的發生。
(實施例)
以下，藉由實施例進一步地詳細說明本公開，但本公開並不限定於這些實施例。
<實施例1>
在以聚對苯二甲酸乙二酯為主要成分、平均厚度為75μm的基材層的表面上，積層以紫外線固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了實施例1的光學片(上用光擴散片)。作為樹脂珠，使用以1：55(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑5μm)的第一珠和平均粒徑比第一珠小(平均粒徑0.8μm)的第二珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為3.5g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為31.17質量%，光擴散層的平均厚度為3.5μm。需要說明的是，圖6為將實施例1的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<實施例2>
在以聚對苯二甲酸乙二酯為主要成分、平均厚度為125μm的基材層的表面上，積層以熱固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了實施例2的光學片(上用光擴散片)。作為樹脂珠，使用以2：2：1(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑5μm)的第一珠、平均粒徑比第一珠小(平均粒徑2μm)的第二珠、以及平均粒徑比第一珠小且平均粒徑比第二珠大(平均粒徑3μm)的第三珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為3.5g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為51.93質量%，光擴散層的平均厚度為3.5μm。需要說明的是，圖7為將實施例2的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<實施例3>
在以聚對苯二甲酸乙二酯為主要成分、平均厚度為125μm的基材層的表面上，積層以熱固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了實施例3的光學片(上用光擴散片)。作為樹脂珠，使用以2：2：1(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑5μm)的第一珠、平均粒徑比第一珠 小(平均粒徑2μm)的第二珠、以及平均粒徑比第一珠小且平均粒徑比第二珠大(平均粒徑3μm)的第三珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為3.5g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為49.07質量%，光擴散層的平均厚度為3.5μm。需要說明的是，圖8為將實施例3的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<實施例4>
在以聚對苯二甲酸乙二酯為主要成分、平均厚度為125μm的基材層的表面上，積層以熱固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了實施例4的光學片(上用光擴散片)。作為樹脂珠，使用以2：2：1(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑7μm)的第一珠、平均粒徑比第一珠小(平均粒徑2μm)的第二珠、以及平均粒徑比第一珠小且平均粒徑比第二珠大(平均粒徑3μm)的第三珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為3.5g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為50.02質量%，光擴散層的平均厚度為3.5μm。
<實施例5>
在與實施例2的基材層相同的基材層的表面上，積層在以紫外線固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了實施例5的上用光擴散片。作為樹脂珠，使用以2：2：1(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑7μm)的第一珠、平均粒徑比第一珠小(平均粒徑2μm)的第二珠、以及平均粒徑比第一珠小且平均粒徑比第二珠大(平均粒徑3μm)的第三珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為2.0g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為70.02質量%，光擴散層的平均厚度為2.0μm。需要說明的是，圖9為將實施例5的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<比較例1>
在與實施例2的基材層相同的基材層的表面上，積層在以紫外線固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有樹脂珠的光擴散層，製造出了比較例1的上用光擴散片。作為樹脂珠，使用以1.5：1(質量比)的比例混合平均粒徑大(平均粒徑7μm)的第一珠和平均粒徑比第一珠小(平均粒徑2μm)的第二珠而得到的樹脂珠。光擴散層的積層量為2.0g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為77.09質量%，光擴散層的平均厚度為2.0μm。需要說明的是，圖10為將比較例1的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<比較例2>
在以聚對苯二甲酸乙二酯為主要成分、平均厚度為100μm的基材層的表面上，積層以紫外線固化型樹脂為主要成分的樹脂基質中分散有平均粒徑為8μm的丙烯酸樹脂珠的光擴散層，製造出了比較例2的上用光擴散片。光擴散層的積層量為5.0g/m2，樹脂基質在光擴散層中的含有率為76.19質量%，光擴散層的平均厚度為5.0μm。需要說明的是，圖11為將比較例2的上用光擴散片的表面放大了1000倍的顯微鏡照片。
<實施例的評價結果>
將實施例1至實施例5及比較例1、比較例2的上用光擴散片組裝到液晶顯示裝置的側光型背光單元的稜鏡片及液晶面板之間，根據JIS C 1006：2019測量了閃爍程度。該測量結果示於表1。需要說明的是，測量值為JIS C 1006：2019的「閃爍對比度(單位：%)」，測定裝置使用JIS C 1006：2019的附錄A的「測量裝置B」規格的測量裝置(DM&S公司製造SMS-1000)。具體而言，在處於恆溫恆濕狀態(23℃和50%RH)的暗房中，並且以使光擴散層位於上側的方式夾著SMS-1000附屬的像素圖案矩陣(Pixel pattern matrix，latest version2019：厚度2mm，254ppi)將上用光擴散片配置在黏貼有綠膜(Green Film，LEE Filters公司製造的LEE Color Filter(型號：124 Dark Green))的光源上，並 且在Sparkle模式下測量了閃爍程度。攝影機使用50mm的物鏡，將從光源到物鏡的距離設定為約240mm(SMS-1000的像素比(Pixel Ratio)為6.0)，將曝光時間設定為約20ms。用SMS-1000附屬的程式進行了影像過濾處理。
使用SUGA試驗機公司製造的霧度計HZ-2，根據JIS K 7136：2000測量了實施例1至實施例5及比較例1、比較例2的上用光擴散片的霧度值。該測量結果示於表1。
根據JIS B 0601：2001，沒有設定截止值，評價長度290μm，這樣測量了實施例1至實施例5及比較例1、比較例2的上用光擴散片的表面的「算術平均粗糙度Ra」。該測量結果示於表1。需要說明的是，對3個樣品(N1、N2、N3)進行了作為線粗糙度指標的「算術平均粗糙度Ra」的測量，表1示出各樣品的測量值及其平均值。
根據JIS B 0601：2001測量了實施例1至實施例5及比較例1、比較例2的上用光擴散片的表面的「峰值計數RPc」。該測量結果示於表1。需要說明的是，在線粗糙度指標即「峰值計數RPc」的測量中，將評價長度設定為290μm，將平均線兩側的死區寬度設定為0%，從低於平均線的點開始，暫時高於平均線後，再一次低於平均線為止，將其作為一個峰時該峰的數量(峰值計數2)，以該峰數對3個樣品(N1、N2、N3)做了測量，表1示出了各樣品的測量值和該等的平均值。
根據JIS B 0601：1994，沒有設定截止值，評價長度290μm，這樣測量了實施例1至實施例5及比較例1、比較例2的上用光擴散片的表面的「凹凸的平均間隔Sm」。該測量結果示於表1。需要說明的是，對3個樣品(N1、N2、N3)進行了作為線粗糙度指標的「凹凸的平均間隔Sm」的測量，表1示出各樣品的測量值及其平均值。
用由基恩斯股份有限公司製造的雷射顯微鏡VX-K100測量了上述線粗糙度指數即「算術平均粗糙度Ra」、「峰值計數RPc」以及「凹凸的平均間隔Sm」。具體而言，將倍率設定為1000倍、間距設定為0.20、死區寬度設定為0，一邊以線粗糙度模式進行自動傾斜修正，一邊進行對象表面的雷射攝影，使用VK-X100專用的解析程式對所拍攝的影像進行了解析。
Figure 110118361-A0305-02-0027-1
如表1所示，就實施例1至實施例5而言，能夠將根據JIS C 1006：2019測得的閃爍對比度抑制到4%左右以下。對於上用光擴散片的表面，在算術平均粗糙度Ra及峰值計數RPc分別為0.6μm以下及16以上時，如實施例1至實施例4那樣，能夠使閃爍對比度低於4%。若算術平均粗糙度Ra、峰值計數RPc以及凹凸的平均間隔Sm分別為0.5μm以下、18μm以上以及20μm以下，則如實施例1至實施例3所示，能夠充分地抑制上用光擴散片的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。具體而言，能夠將閃爍對比度抑制到3%左右以下。相對於此，就比較例1、比較例2而言，閃爍對比度超過5%。具體而言，如比較例1、比較例2那樣，若算術平均粗糙度Ra、峰值計數RPc或凹凸的平均間隔Sm在前述範圍之外，則無法充分地抑制顯示畫面上閃爍的發生。
(其它實施方式)
以上說明了本公開的實施方式(包括變形例、實施例，以下相同)，但本公開不限定於前述實施方式，可在本公開的範圍內進行各種變更。亦即，前述實施方式僅為從本質上說明本公開的示例而已，而無限制本公開、其適用對象或其用途的意圖。
具體而言，如前述實施方式般，本公開所涉及之上用光擴散片，可以是包括基材層及光擴散層的雙層結構體、或者包括基材層、光擴散層以及黏附防止層的三層結構體，或者也可以在基材層及光擴散層之間、或者基材層及黏附防止層之間具有其他層。
本公開所涉及之背光單元除了前述實施方式以外，還能夠以施予了各種變更、改良的樣態來實施。例如，背光單元還可以在導光片的表面側包括上用光擴散片、稜鏡片以及下用光擴散片以外的其他光學片。背光單元不限定於側光型背光單元，例如可以是在下用光擴散片的背面側配置有擴散板及光 源的正下方型背光單元。背光單元中的稜鏡片、光擴散片、導光片、光源以及反射片的具體構成並無特別限定，能夠採用各種構成。
本公開所涉及之背光單元能夠應用的用途範圍廣泛，例如個人電腦或液晶電視等較大型的顯示裝置、智慧型手機等手機終端裝置、平板電腦終端等可攜式資訊終端等。
在前述實施方式中，在包括基材層和形成在基材層上的光擴散層的光學片中，在成為光擴散層的樹脂基質中分散樹脂珠，在光學片的表面形成凹凸形狀。然而，也可以取而代之，例如使用樹脂珠向樹脂基質中的分散而形成的凹凸形狀已轉印到其上的模具，或者使用記憶了該凹凸形狀的雷射印表機裝置，在光學片的表面形成凹凸形狀。
在前述實施方式中，示例了下述情況：抑制背光單元的上用光擴散片的表面凹凸與液晶面板的單元配列的干涉所引起的顯示畫面上閃爍的發生。然而，並不限定於此，也可以藉由將具有與本公開的上用光擴散片相同構成的光學片應用在例如CRT(Cathode Ray Tube；陰極射線管)或平板顯示器等顯示器上，或將其用作該等顯示器中使用的觸控面板等的表面材料，來抑制顯示畫面上閃爍的發生。
4:稜鏡片
5:上用光擴散片
11:基材層
12:光擴散層
13:樹脂基質
14:樹脂珠
15:基材層
16:突條稜鏡部

Claims (12)

  1. 一種光學片，係具備：基材層；及光擴散層，係形成於前述基材層上且具有第一面；至少在前述第一面具有在作為前述光擴散層之樹脂基質中將樹脂珠分散而形成之凹凸形狀；前述基材層的平均厚度為10μm至500μm；前述光擴散層的平均厚度為1μm至7μm；前述光擴散層的表面的凹凸的平均間隔Sm為0.5μm至25μm；前述光擴散層的積層量為1g/m2至15g/m2；前述光擴散層中的樹脂基質的含有率為10質量%至80質量%；前述光擴散層中的樹脂珠的含有率為20質量%至90質量%；前述樹脂珠的平均粒徑為2μm以下；前述樹脂珠的折射率為1.46至1.60。
  2. 如請求項1所記載之光學片，其中根據JIS B 0601：1994測得的前述第一面的凹凸的平均間隔Sm為18μm以下，此時評價長度設定為290μm。
  3. 如請求項1所記載之光學片，其中前述光學片配置在液晶顯示裝置的背光單元中的稜鏡片的表面側。
  4. 如請求項1所記載之光學片，其中前述樹脂基質與前述樹脂珠的折射率差為0.05以下。
  5. 如請求項1所記載之光學片，其中前述光擴散層的表面的前述算數平均粗糙度Ra為0.1μm至0.6μm；前述光擴散層的表面的前述峰值計數RPc為16至300； 前述峰值計數RPc係指根據JIS B 0601：2001而評價長度設定為290μm所測得之凹凸形狀中，每個評價長度290μm中的峰的數量，亦即將評價長度290μm中粗糙度曲線的平均線兩側的死區寬度設定為0%，從低於前述平均線的點開始，暫時高於前述平均線後再一次低於前述平均線為止作為一個前述峰時的前述峰的數量。
  6. 如請求項5所記載之光學片，其中前述基材層的平均厚度為35μm至250μm；前述光擴散層的平均厚度為2μm至5μm；前述光擴散層的表面的凹凸的平均間隔Sm為1.0μm至20μm；前述光擴散層的積層量為2g/m2至10g/m2；前述光擴散層中的前述樹脂基質的含有率為20質量%至75質量%；前述光擴散層中的前述樹脂珠的含有率為25質量%至80質量%；前述樹脂珠的平均粒徑為1μm以下；前述樹脂珠的折射率為1.48至1.59；前述光擴散層的表面的前述算數平均粗糙度Ra為0.2μm至0.5μm；前述光擴散層的表面的前述峰值計數RPc為18至250。
  7. 一種液晶顯示裝置的背光單元，包括：光源；稜鏡片，來自前述光源的光被引入前述稜鏡片中；以及光學片，係形成在前述稜鏡片的光射出面側；前述光學片為如請求項1至6中任一項所記載之光學片。
  8. 一種液晶顯示裝置，包括如請求項7所記載之背光單元、及液晶顯示面板。
  9. 一種資訊機器，包括如請求項8所記載之液晶顯示裝置。
  10. 一種光學片的製造方法，前述光學片係如請求項1至6中任一項所記載之光學片，前述光學片的製造方法係具有：形成前述光學片之步驟；及於前述光學片的第一面，藉由於樹脂基質中將樹脂珠分散而形成凹凸形狀，以作為前述光學片的一部分之步驟。
  11. 一種光學片的製造方法，前述光學片係如請求項1所記載之光學片，前述光學片的製造方法係具有：形成前述光學片之步驟；及使用具有凹凸形狀之模具，於前述光學片的第一面形成凹凸形狀之步驟。
  12. 一種光學片的製造方法，前述光學片係如請求項1所記載之光學片，前述光學片的製造方法係具有：形成前述光學片之步驟；及使用儲存了凹凸形狀之雷射印表機裝置，於前述光學片的第一面形成凹凸形狀之步驟。
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