KR20170115438A - 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법, 및 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법 - Google Patents

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Abstract

[과제] 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송이 가능한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제공한다.
[해결 수단] 이너 카세트와 리테이너 부재를 갖는 이너 부재와, 하부 상자와 상부 덮개를 갖는 용기 본체와, 봉지 테이프를 가지며, 용기 본체 및 이너 부재는, 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지고, 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.8×103ng 이하인 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.

Description

포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법, 및 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법{CONTAINER FOR STORING PHOTOMASK BLANKS SUBSTRATE, KEEPING METHOD OF PHOTOMASK BLANKS SUBSTRATE, AND CONVEYING METHOD OF PHOTOMASK BLANKS SUBSTRATE}
본 발명은 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법, 및 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법에 관한 것이다.
반도체를 비롯한 설계 회로의 디자인 룰은, 해마다 회로의 더한층의 미세화를 진행시키는 것으로 되고 있다. 이에 수반하여, 회로를 형성하기 위한 포토마스크에 대해서도, 그의 선폭, 형상, 피치와 같은 회로 패턴에 요구되는 조건이 더욱 더 엄격해지고 있다.
회로의 형성 방법으로서는, 지금까지 포토리소그래피법이 이용되어 왔는데, 이러한 미세화에 대응하기 위한 레지스트 재료로서, 보다 단파장, 보다 고해상도에 적합한 화학 증폭형 레지스트가 다용되고 있다.
화학 증폭형 레지스트를 이용하는 포토리소그래피법은, 엑시머 레이저와 같은 광 조사, 또는 전자 빔의 조사에 의해, 당해 레지스트 재료 중의 촉매 물질이 생성되고, 다음 공정에서 열처리를 행하는 것에 의해, 당해 촉매 물질과 고분자가 반응하여, 광 또는 전자 조사 부분이 가용(포지티브형), 또는 불용화(네거티브형)되는 것에 의해, 원하는 회로 패턴을 얻는 방법이다.
지금까지, 이 레지스트 재료가 도포된 포토마스크 블랭크스 기판을 광 또는 전자 조사할 때까지 보관, 반송하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(이하, 간단히 수납 용기라고도 함)에 대해서는, 수송, 반송이 용이하기 때문에 경량인 것이 바람직하고, 또한 염가로 대량으로 제조할 수 있는 등의 점에서, 여러 가지의 고분자계 재료를 기재로 하여, 사출 성형 등에 의해 제조한 수납 용기가 이용되고 있다.
그러나, 이들 고분자계 재료로 이루어지는 수납 용기로부터 발생하는 여러 가지의 휘발성 성분이, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 및 수송 중에, 포토마스크 블랭크스 기판 상에 도포된 포토레지스트 재료의 촉매 작용, 그의 가용화 작용 또는 불용화 작용에 어떤 영향을 미쳐, 광 또는 전자선 조사 및 열처리, 현상에 의해 형성된 포토마스크 블랭크스 기판 상의 레지스트 패턴에, 예를 들면 선폭의 확대·축소 등의 치수 변화를 일으키고, 그 결과, 설계대로의 패턴이 얻어지지 않는다는 문제를 일으키는 경우가 있었다.
이와 같은 고분자계 재료에 기인하는 문제에 대해서, 아웃 가스 중의 카프로락탐에 주목하여, 카프로락탐량이 n-데케인 환산으로 수지 중량당 0.01ppm 이하가 되는 열가소성 수지로 이루어지는 수납 용기가 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조).
국제공개 제WO2015/037176호
그러나, 근년, 레지스트에 요구되는 해상성, 콘트라스트 성능은 더욱 더 높아지고 있어, 종래의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기에서는, 치수 변동 제어가 불충분하다는 것이 밝혀져 왔다. 게다가, 지금까지 레지스트 패턴에 대한 영향 억제 수단으로서, 수납 용기로부터의 아웃 가스 제어에 주목되고 있었지만, 본 발명자들이 조사한 바, 전술의 플라스틱제의 수납 용기로부터 발생하는 휘발성 유기물 성분뿐만 아니라, 그 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발 성분도 또한, 포토마스크 블랭크스 기판 상의 레지스트 패턴에 영향을 미친다는 것을 알 수 있었다.
즉, 포토마스크 블랭크스 기판을 보관 또는 수송하기 위한 수납 용기에 더하여, 그 봉지 테이프의 아웃 가스에 대해서도 제어를 요하고, 수납 용기와 봉지 테이프의 조합에 대해서 더한층의 개선을 필요로 한다는 것을 알 수 있었다.
본 발명은 상기의 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 수납한 포토마스크 블랭크스 기판 상의 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송이 가능한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 의하면, 포토마스크 블랭크스 기판을 수납하기 위한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기로서,
상기 포토마스크 블랭크스 기판을 수용 가능한 이너 카세트와, 해당 이너 카세트에 수납한 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 상방으로부터 고정하는 리테이너 부재를 갖는 이너 부재와,
상기 이너 카세트를 수용 가능한 하부 상자와, 상기 리테이너 부재를 내측에 감합 가능한 상부 덮개를 갖는 용기 본체와,
해당 용기 본체를 봉지하는 봉지 테이프를 가지며,
상기 용기 본체 및 상기 이너 부재는, 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지고,
상기 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.8×103ng 이하인 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제공한다.
이와 같은 것이면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송이 가능해진다.
이때, 상기 용기 본체 및 상기 이너 부재는, 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 500ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지고,
상기 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.0×103ng 이하인 것인 것이 바람직하다.
이와 같은 것이면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하는 것을 보다 확실하게 할 수 있다.
또한 이때, 상기 이너 부재는, 2g의 샘플링 시 100℃에서 20분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.0×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지는 것인 것이 바람직하다.
이와 같은 것이면, 용기 내에 배치되는 이너 부재로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하는 것을 보다 확실하게 할 수 있다.
또한 이때, 상기 용기 본체는, 폴리카보네이트를 주성분으로 하는 고분자계 재료로 이루어지고, 또한 그 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하이며,
상기 봉지 테이프는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 중 어느 하나로 이루어지는 기재와, 폴리아크릴산 에스터로 이루어지는 점착면을 갖는 것인 것이 바람직하다.
이와 같은 것이면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하는 것을 보다 확실하게 할 수 있음과 더불어, 대전되기 어려워져, 먼지의 흡착도 억제할 수 있다.
또한 이때, 상기 용기 본체의 내면으로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량과, 상기 이너 부재의 표면으로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량의 합(용기 내의 아웃 가스 총량)이, 3.0×103μg 미만인 것이고,
상기 용기 본체를 봉지하는 봉지 테이프로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량(테이프의 아웃 가스 총량)이, 1.4×102μg 미만인 것인 것이 바람직하다.
이와 같은 것이면, 용기 본체의 내면, 이너 부재의 표면 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하는 것을 보다 확실하게 할 수 있다.
또한, 본 발명은, 상기 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 보관하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법을 제공한다. 더욱이, 본 발명은, 상기 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 수송하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법을 제공한다.
이와 같이, 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 이용해서, 포토마스크 블랭크스 기판을 보관·수송하면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송을 할 수 있다.
본 발명에 의하면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 수납된 포토마스크 블랭크스 기판을 보관 및 수송할 수 있다.
도 1은 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기의 일례를 나타낸 개략도이다.
도 2는 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기에 있어서, 기판을 수납해서 봉지 테이프로 테이핑한 상태를 나타낸 개략도이다.
이하, 본 발명에 대해서 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.
상기한 바와 같이, 근년, 레지스트에 요구되는 해상성, 콘트라스트 성능은 더욱 더 높아지고 있어, 종래의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기에서는, 치수 변동 제어가 불충분하다는 문제가 있었다.
그래서, 본 발명자들은 상기 문제점을 해결하기 위해서 예의 검토를 거듭했다. 그 결과, 화학 증폭형 레지스트를 도포한 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 및 수송 방법으로서, 수납 용기를 구성하는 고분자계 재료로부터 발생하는 아웃 가스 총량이 일정량 이하인 수납 용기와, 그 봉지 테이프로부터 발생하는 아웃 가스 총량이 일정량 이하인 봉지 테이프를 조합함으로써, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송 후, 노광, 감광 및 현상해서 형성된 레지스트 패턴의 선폭에 발생하는 문제를 방지해서, 고정세한 레지스트 패턴이 얻어진다는 것을 발견하여, 본 발명에 이르렀다. 그리고, 이들을 실시하기 위한 최선의 형태에 대해서 세사하여, 본 발명을 완성시켰다.
도 1, 도 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)는, 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 수용 가능한 이너 카세트(3)와, 해당 이너 카세트(3)에 수납한 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 상방으로부터 고정하는 리테이너 부재(4)를 갖는 이너 부재(5)와, 이너 카세트(3)를 수용 가능한 하부 상자(6)와, 리테이너 부재(4)를 내측에 감합 가능한 상부 덮개(7)를 갖는 용기 본체(8)와, 해당 용기 본체(8)를 봉지하는 봉지 테이프(9)를 갖는다.
이너 카세트(3)는, 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 수직 방향으로 임립(林立)시키고, 일정 간격으로 정렬시켜서 수납 가능한 것으로 할 수 있다.
한편, 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)는, 전술과 같은 복수의 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 수납하는 용기에 한하지 않고, 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 1매마다 수납하는 매엽(枚葉)식 용기여도 된다. 또한, 외기를 차단하는 밀폐형 용기여도 되고, 케미컬 필터를 개재해서 외기와 통하고 있는 수납 용기 등으로 해도 된다.
포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)를 이용해서 보관 또는 수송하는 포토마스크 블랭크스 기판(2)은, 위상 시프트막을 갖는 것, Cr 차광막을 갖는 것 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 화학 증폭형 레지스트를 도포한 것이 바람직하다.
용기 본체(8) 및 이너 부재(5)는, 각각이 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지는 것이다. 그리고, 봉지 테이프(9)는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.8×103ng 이하인 것이다.
한편, 용기 본체(8)와 이너 부재(5)의 재료는, 동일한 고분자계 재료로 할 수도 있고, 상이한 고분자계 재료로 할 수도 있다. 나아가서는, 용기 본체(8)의 하부 상자(6)와 상부 덮개(7)의 재료는, 동일한 고분자계 재료로 할 수도 있고, 상이한 고분자계 재료로 할 수도 있다. 또한, 이너 부재(5)의 이너 카세트(3)와 리테이너 부재(4)의 재료는, 동일한 고분자계 재료로 할 수도 있고, 상이한 고분자계 재료로 할 수도 있다.
그리고, 본 발명에 있어서, 상기 복수의 부품의 재료가 상이한 경우, 그들 재료의 각각은 상기 조건을 만족시키는 고분자계 재료이다. 샘플링은 재료의 종류마다 행하는 것으로 한다.
이와 같은 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)를 조합해서 이용한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)라면, 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판(2)의 보관·수송이 가능해진다.
용기 본체(8)를 구성하는 하부 상자(6)와 상부 덮개(7), 및 이너 부재(5)를 구성하는 이너 카세트(3)와 리테이너 부재(4)에 이용할 수 있는 고분자계 재료에는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메타크릴산 메틸, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트, 아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌을 들 수 있다. 한편, 하부 상자(6), 상부 덮개(7), 이너 카세트(3), 리테이너 부재(4)로서, 이들 고분자계 재료가 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
이때, 용기 본체(8) 및 이너 부재(5)는, 각각이 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이하, 보다 바람직하게는 500ng 이하, 더 바람직하게는 100ng 이하, 가장 바람직하게는 50ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지는 것으로 할 수 있다. 또한, 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.8×103ng 이하, 보다 바람직하게는, 1.0×103ng 이하인 것으로 할 수 있다.
이와 같은 아웃 가스의 총량이 보다 적은, 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)를 조합해서 이용한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)라면, 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 보다 확실히 억제할 수 있다.
아웃 가스가 보다 적은 고분자 재료로서는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 들 수 있다. 수납 용기는 이들 복수의 수지로 구성된 것이 좋다.
또, 이너 부재(5)는, 적어도 하나의 고분자계 재료로 이루어지고, 해당 적어도 하나의 고분자계 재료의 각각은, 2g의 샘플링 시 100℃에서 20분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.0×103ng 이하인 고분자계 재료인 것이 보다 바람직하다.
이너 부재(5)는, 포토마스크 블랭크스 기판(2)에 직접 닿는 것임과 더불어, 전부가 용기 내에 배치되는 것이므로, 상기와 같은, 검출되는 아웃 가스의 총량이 보다 적은 것을 이용함으로써, 이너 부재(5)로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 보다 확실히 억제할 수 있다.
이때, 용기 본체(8) 및 이너 부재(5) 중 어느 하나 이상(특히 용기 본체(8))은, 폴리카보네이트를 주성분으로 하는 적어도 하나의 고분자계 재료로 이루어지고, 또한 그 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하인 것인 것이 바람직하다. 용기 본체(8)의 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하인 것이 바람직하고, 용기 본체(8) 및 이너 부재(5)의 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하인 것이 더 바람직하다. 표면 저항값이 작을수록, 대전되기 어려워지기 때문에, 정전기를 억제하여, 먼지의 흡착이나 파티클 혼입을 방지할 수 있다.
또한, 봉지 테이프(9)는, 기재와 점착면을 갖는 것으로 할 수 있다. 이때, 봉지 테이프(9)의 기재에는, 예를 들면 폴리올레핀계, 폴리에스터계, 폴리염화 바이닐, 나일론을 들 수 있지만, 바람직하게는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 중 어느 하나로 이루어지는 것인 것이 바람직하다. 또한, 봉지 테이프(9)의 점착면에는, 점착제로서, 예를 들면 폴리아크릴산 에스터계, 폴리메타크릴산 에스터계, 폴리아세트산 바이닐, 고무계를 들 수 있지만, 바람직하게는, 폴리아크릴산 에스터로 이루어지는 것인 것이 바람직하다.
이와 같은 봉지 테이프(9)와, 상기와 같은 표면 저항값을 갖는 용기 본체(8) 및 이너 부재(5)를 조합한 것이면, 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하는 것을 보다 확실하게 할 수 있음과 더불어, 대전되기 어려워져, 먼지의 흡착도 억제할 수 있다.
또한, 봉지 테이프(9)는, 수납 용기로의 외기 유입을 막기 위해, 밀착 성능이 높은 것이 바람직하다. 또, 수납 용기의 밀봉 및 개봉을 용이하게 하기 위해, 신축률이 높은 것이 바람직하다.
다음으로, 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법 및 수송 방법에 대해서 설명한다. 여기에서는, 전술한 바와 같은, 도 1, 2에 나타내는 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)를 이용한 경우에 대해서 설명한다.
우선, 하부 상자(6)에 이너 카세트(3)를 수납하고, 상부 덮개(7)에 리테이너 부재(4)를 감합한다. 그리고, 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 이너 카세트(3)에 수납해서, 상부 덮개(7)를 닫는다. 그 후, 용기 본체(8)를 봉지 테이프(9)로 봉지한다. 그리고, 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1) 내에 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 수납한 상태에서, 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 보관·수송한다. 이와 같이, 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 이용해서, 포토마스크 블랭크스 기판을 보관·수송하면, 용기 본체(8), 이너 부재(5) 및 봉지 테이프(9)로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판(2)의 보관·수송을 할 수 있다.
한편, 전술한 바와 같은 가스 크로마토그래피 질량 분석계에 의해, 아웃 가스의 총량을 검지하는 방법으로서, 구체적으로는, 이하와 같이 해서 행할 수 있다.
GC-MS 분석 방법
(용기 본체와 이너 부재)
용기 본체(8)의 상부 덮개(7)의 일부로부터 0.1g을 입방체 형상으로 절삭한 샘플을, 정칭(精秤) 후에 샘플 셀 내에 넣고, 고순도 헬륨 분위기하에서 40℃×60min의 가열 탈리를 행한다. 발생한 가스 성분을 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent GC7890A)에 의해 분석하고, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 용기 본체(8)를 구성하는 고분자계 재료의 아웃 가스 총량(샘플로부터의 아웃 가스량: x(ng))을 구할 수 있다. 이것을 용기 본체의 아웃 가스 총량이라고 정의한다.
또한 용기 본체를 구성하는 고분자계 재료가 복수 존재하는 경우에는, 그 각각의 고분자계 재료로 이루어지는 용기 본체의 아웃 가스 총량을 구하는 것으로 한다.
예를 들면, 용기 본체(8)의 상부 덮개(7)와 하부 상자(6)의 고분자계 재료가 상이한 경우에는, 각각의 고분자계 재료에 대해서 전술의 분석을 행하고, 각각의 고분자계 재료로 이루어지는 용기 본체의 아웃 가스 총량(상부 덮개(7)로부터 절삭한 샘플로부터의 용기 본체의 아웃 가스 총량을 x1(ng), 하부 상자(6)로부터 절삭한 샘플로부터의 용기 본체의 아웃 가스 총량을 x2(ng)로 함)을 구하는 것으로 한다.
마찬가지로 이너 부재(5)의 일부로부터 0.1g을 입방체 형상으로 절삭한 샘플을, 정칭 후에 샘플 셀 내에 넣고, 고순도 헬륨 분위기하에서 40℃×60min의 가열 탈리를 행한다. 발생한 가스 성분을 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent GC7890A)에 의해 분석하고, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 이너 부재(5)를 구성하는 고분자계 재료의 아웃 가스 총량(샘플로부터의 아웃 가스량: y(ng))을 구할 수 있다. 이것을 이너 부재의 아웃 가스 총량이라고 정의한다.
또한 이너 부재를 구성하는 고분자계 재료가 복수 존재하는 경우에는, 그 각각의 고분자계 재료로 이루어지는 이너 부재의 아웃 가스 총량을 구하는 것으로 한다.
예를 들면, 이너 부재(5)의 이너 카세트(3)와 리테이너 부재(4)의 고분자계 재료가 상이한 경우에는, 각각의 고분자계 재료에 대해서 전술의 분석을 행하고, 각각의 고분자계 재료로 이루어지는 이너 부재의 아웃 가스 총량(이너 카세트(3)로부터 절삭한 샘플로부터의 이너 부재의 아웃 가스 총량을 y1(ng), 리테이너 부재(4)로부터 절삭한 샘플로부터의 이너 부재의 아웃 가스 총량을 y2(ng)로 함)을 구하는 것으로 한다.
추가로, 이들의 결과를 토대로, 용기 본체의 내면적 상당으로부터 발생한 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스 총량과, 이너 부재의 면적 상당으로부터 발생한 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스 총량을 각각 구하고, 그의 합을, 포토마스크 블랭크스 기판이 용기 내에서 폭로되는, 용기 본체의 내면과 이너 부재의 표면으로부터 발생한 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스 총량이라고 정의한다. 이하, 용기 내의 아웃 가스 총량이라고 정의한다.
구체적으로는, 용기 본체의 내면적(B(mm2))을 샘플의 표면적(A(mm2))으로 나누고, 상기 샘플로부터의 아웃 가스량을 곱하는 것에 의해, 용기 본체의 내면으로부터의 아웃 가스 총량을 산출한다((B/A)×x(ng)).
다음으로 이너 부재의 표면적(D(mm2))을 샘플의 표면적(C(mm2))으로 나누고, 상기 샘플로부터의 아웃 가스량을 곱하는 것에 의해, 이너 부재의 표면으로부터의 아웃 가스 총량을 산출한다((D/C)×y(ng)).
이들의 합 {(B/A)×x+(D/C)×y}(ng)에 의해, 용기 내의 아웃 가스 총량을 얻을 수 있다.
일반적으로 용기 본체가 복수의 고분자계 재료로 구성되고, 또 이너 부재도 복수의 고분자계 재료로 구성되어 있는 경우에는, 용기 내의 아웃 가스 총량은 이하와 같은 식이 된다.
　 {Σn k=1(Bk/Ak)×xk+Σm l=1(Dl/Cl)×yl}(ng)
여기에서 용기 본체(8)는 n종의 고분자계 재료로 구성되고, 이너 부재(5)는 m종의 고분자계 재료로 구성되어 있는 것을 나타낸다.
용기 내의 아웃 가스 총량은, 3.0×103μg 미만이 바람직하고, 더 바람직하게는 8.0×102μg 이하가 바람직하며, 보다 바람직하게는 6.5×102μg 이하가 바람직하다.
(이너 부재)
이너 부재(5)로부터 2g을 채취하고, 퀴리 포인트·퍼지＆트랩·샘플러(니혼분석공업 JHS-100A)를 이용하여, 100℃×20min, 캐리어 가스 He을 유통시키면서 아웃 가스 성분을 흡착관 TENAX-TA에 흡착 채취한다. 흡착한 아웃 가스 성분을, 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent 5975C-MSD)에 의해 분석하고, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 이너 부재(5)의 아웃 가스 총량을 구할 수 있다.
(봉지 테이프)
봉지 테이프(9)를 10mm×10mm의 크기로 절삭한 샘플을, 퀴리 포인트·퍼지＆트랩·샘플러(니혼분석공업 JHS-100A)를 이용해서 150℃×10min, 캐리어 가스 He을 유통시키면서 아웃 가스 성분을 흡착 채취했다. 흡착한 아웃 가스 성분을, 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent 5975C-MSD)에 의해 분석하고, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 봉지 테이프의 아웃 가스 총량(샘플로부터의 아웃 가스량: z(ng))을 구할 수 있다. 이것을 봉지 테이프의 아웃 가스의 총량이라고 정의한다.
또한, 용기 본체의 주위를 테이핑했을 때의 봉지 테이프로부터 나오는 아웃 가스 총량을 상기 결과로부터 구하여, 이하, 테이프의 아웃 가스 총량이라고 정의한다.
구체적으로는, 이번 사용한 봉지 테이프의 폭은 모두 10mm이다. 용기 본체를 봉지하기 위한 테이프의 전체 길이를 E(mm)로 한다. 다음으로 사용한 봉지 테이프의 면적(10×E(mm2))으로부터 방출되는, 테이프의 아웃 가스 총량을 산출한다({(10×E)/(10×10)}×z(ng)). 한편, 테이프의 전체 길이란 용기 본체의 전체 둘레에 상당하는 길이이다. 용기 본체를 봉지 테이프로 전체 둘레에 걸쳐 밀폐할 때에는, 감겨진 봉지 테이프 위에 겹쳐서 봉지 테이프를 붙이지만, 이 겹친 길이는 포함하지 않는다.
테이프의 아웃 가스 총량은, 1.4×102μg 미만이 바람직하고, 더 바람직하게는 1.0×102μg 이하가 좋으며, 보다 바람직하게는 7.5×10μg 이하가 바람직하다.
한편, GC-MS 측정 조건은, 예를 들면 이하와 같이 설정할 수 있다.
[GC-MS 측정 조건(용기 본체, 이너 부재)]
측정 방법: 다이내믹 헤드 스페이스법
칼럼: DB-1(30m×0.32mmφ×0.25um)
온도: 50℃ 3min(10℃/min), 250℃ 12min
[GC-MS 측정 조건(이너 부재, 봉지 테이프)]
측정 방법: 퍼지＆트랩법
칼럼: DB-5MS(30m×0.25mmφ×0.25um)
온도: 40℃ 5min(10℃/min), 300℃ 5min
실시예
이하, 본 발명의 실시예 및 비교예를 나타내어서 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
용기 본체로서, 도 1에 나타내는 바와 같은, 152mm 각의 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 복수매 임립 가능한 이너 카세트(3)를 수납 가능한, 상부 덮개(7) 및 하부 상자(6)의 2점을, 폴리카보네이트계 수지 A를 이용해서, 사출 성형에 의해 제조했다.
제조한 상부 덮개(7)의 평면의 평탄부에 있어서, 표면 저항 측정기(미쓰비시화학 주식회사제)를 사용해서 표면 저항값을 측정한 결과, 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq였다.
또한, 상부 덮개(7)의 일부로부터 0.1g을 절삭하고, 정칭 후에 샘플 셀 내에 넣고, 고순도 헬륨 분위기하에서 40℃×60min의 가열 탈리를 행하여, 발생한 가스 성분을 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent GC7890A)에 의해, 하기의 조건에서 분석했다. 이때, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 용기 본체를 구성하는 고분자계 재료의 아웃 가스 총량을 구했다. 그 결과, 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 18ng이었다. 또한, 마찬가지로 측정한 이너 부재 0.1g을 분석한 결과, 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 9ng이었다. 이로부터 구한 용기 내의 아웃 가스 총량은, 37μg이었다.
[GC-MS 측정 조건(용기 본체, 이너 부재)]
측정 방법: 다이내믹 헤드 스페이스법
칼럼: DB-1(30m×0.32mmφ×0.25μm)
온도: 50℃ 3min(10℃/min), 250℃ 12min
또한, 이너 부재(5)로서, 152mm 각의 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 복수매 임립 가능한 이너 카세트(3)와, 상부 덮개(7)의 내측에 감합 가능하고 상부 덮개(7)를 하부 상자(6)에 감합했을 때에 이너 카세트(3)에 수납한 각각의 포토마스크 블랭크스 기판(2)을 상방으로부터 고정하는 리테이너 부재(4)를, 동일한 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트 수지를 이용해서, 사출 성형에 의해 제조했다.
이너 부재 2g을 퀴리 포인트·퍼지＆트랩·샘플러(니혼분석공업 JHS-100A)를 이용하여, 100℃×20min, 캐리어 가스 He을 유통시키면서 아웃 가스 성분을 흡착관 TENAX-TA에 흡착 채취했다. 흡착한 아웃 가스 성분을, 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent 5975C-MSD)에 의해, 하기의 조건에서 분석했다. 이때, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 이너 부재(5)의 아웃 가스 총량을 구했다. 그 결과, 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 1.3×102ng이었다.
봉지 테이프로서, 기재가 폴리에틸렌 테레프탈레이트계이고 점착면이 폴리아크릴산 에스터인 봉지 테이프 A를 이용했다.
봉지 테이프 A를 10mm×10mm의 크기로 절삭하고, 퀴리 포인트·퍼지＆트랩·샘플러(니혼분석공업 JHS-100A)를 이용해서, 150℃×10min, 캐리어 가스 He을 유통시키면서 아웃 가스 성분을 흡착 채취했다. 흡착한 아웃 가스 성분을, 가스 크로마토그래피 질량 분석계(GC-MS, Agilent 5975C-MSD)에 의해, 하기의 조건에서 분석하고, 검출된 피크의 면적값을 n-테트라데케인으로 작성한 검량선에 의해 환산함으로써, 봉지 테이프(9)의 아웃 가스 총량을 구했다. 그 결과, 봉지 테이프 A에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 5.3×102ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 40μg이었다.
[GC-MS 측정 조건(이너 부재, 봉지 테이프)]
측정 방법: 퍼지＆트랩법
칼럼: DB-5MS(30m×0.25mmφ×0.25μm)
온도: 40℃ 5min(10℃/min), 300℃ 5min
그리고, 화학 증폭형 레지스트를 도포한 3매의 포토마스크 블랭크스 기판(2)을, 상기 제조한 상부 덮개(7)·하부 상자(6)·이너 카세트(3)·리테이너 부재(4)를 조립한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기(1)에 수납했다. 그리고, 상부 덮개(7)와 하부 상자(6)의 간극을 덮도록, 봉지 테이프 A로 테이핑했다.
그리고, 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서 40℃의 항온조에서 보관했다. 20일간 보관 후, EB 묘화, 베이킹, 현상 처리를 행하여, 선폭 400nm의 L/S(라인＆스페이스)의 레지스트 패턴을 형성하고, 그 스페이스 폭을 측정했다.
또한, 마찬가지로 레지스트를 도포한 포토마스크 블랭크스 기판을, 상기의 수납 용기에 수납함이 없이 EB 묘화, 베이킹, 현상 처리를 행하여, 상기의 수납 용기에 보관한 포토마스크 블랭크스 기판(2)과의 레지스트 패턴의 스페이스 폭의 차를 ΔCD로서 정의해서, 이 ΔCD의 값을 구했다.
그 결과, 실시예 1에 있어서의 ΔCD값은 20일 동안에 +1.0nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 2)
봉지 테이프로서, 기재가 폴리프로필렌계이고 점착면이 폴리아크릴산 에스터인 봉지 테이프 B를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
봉지 테이프 B의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 봉지 테이프 B에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 9.3×102ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 71μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 2의 용기 본체를 봉지 테이프 B로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 2에 있어서의 ΔCD값은 +0.3nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 3)
봉지 테이프로서, 기재가 폴리에틸렌계이고 점착면이 폴리아크릴산 에스터인 봉지 테이프 C를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 마찬가지로 해서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
봉지 테이프 C의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 봉지 테이프 C에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산 7.2×102ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 55μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 3의 용기 본체를 봉지 테이프 C로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 3에 있어서의 ΔCD값은 -0.3nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 4)
실시예 1과 마찬가지로 해서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 4의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 4에 있어서의 ΔCD값은 +0.2nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 5)
실시예 2과 마찬가지로 해서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 5의 용기 본체를 봉지 테이프 B로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 5에 있어서의 ΔCD값은 -0.8nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 6)
용기 본체의 고분자계 재료로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 폴리카보네이트계 수지 B를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
폴리카보네이트계 수지 B의 아웃 가스의 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 폴리카보네이트계 수지 B에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 21ng이었다. 또한 실시예 1과 마찬가지로, 이너 부재의 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 9ng이다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 42μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 6의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 6에 있어서의 ΔCD값은 -0.1nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 7)
용기 본체의 고분자계 재료로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 폴리카보네이트계 수지 C를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
폴리카보네이트계 수지 C의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 폴리카보네이트계 수지 C에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 34ng이었다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 61μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 7의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 7에 있어서의 ΔCD값은 +0.5nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다.
(실시예 8)
용기 본체의 고분자계 재료로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 폴리프로필렌계 수지 D를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
폴리프로필렌계 수지 D의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 폴리프로필렌계 수지 D에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 4.9×102ng이었다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 635μg(6.4×102μg)이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 실시예 8의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 실시예 8에 있어서의 ΔCD값은 -1.2nm로, 수납 용기 및 봉지 테이프의 영향은 거의 받고 있지 않았다. 이상의 실시예 1∼8의 결과를 하기의 표 1에 정리했다.
Figure pat00001
(비교예 1)
용기 본체로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 메타크릴산 메틸계 수지 E를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
메타크릴산 메틸계 수지 E의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 메타크릴산 메틸계 수지 E에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 2.0×103ng이었다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 3032μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 1의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 1에 있어서의 ΔCD값은 +7.4nm로, 수납 용기의 영향을 받고 있었다.
(비교예 2)　
봉지 테이프로서, 기재가 폴리염화 바이닐계이고 점착면이 천연 고무계인 봉지 테이프 D를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
봉지 테이프 D의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 봉지 테이프 D에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 1.7×104ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 1291μg(1.3×103μg)이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 2의 용기 본체를 봉지 테이프 D로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 2에 있어서의 ΔCD값은 -12.9nm로, 봉지 테이프의 영향을 받고 있었다.
(비교예 3)
봉지 테이프로서, 기재가 폴리에틸렌계이고 점착면이 폴리아크릴산 에스터인 봉지 테이프 E를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
또한, 봉지 테이프 E의 아웃 가스의 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 봉지 테이프 E에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 144μg(1.4×102μg)이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 3의 용기 본체를 봉지 테이프 E로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 3에 있어서의 ΔCD값은 -3.9nm로, 봉지 테이프의 영향을 받고 있었다.
(비교예 4)
봉지 테이프로서, 기재가 폴리에틸렌계이고 점착면이 폴리아크릴산 에스터인 봉지 테이프 F를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
또한, 봉지 테이프 F의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 봉지 테이프 F에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 2.4×103ng이었다. 이로부터 구한 테이프의 아웃 가스 총량은, 182μg(1.8×102μg)이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 4의 용기 본체를 봉지 테이프 F로 테이핑한 상태에서, 실시예 1과 마찬가지로 40℃에서 20일간 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 4에 있어서의 ΔCD값은 -2.3nm로, 봉지 테이프의 영향을 받고 있었다.
(비교예 5)
비교예 2과 마찬가지로 해서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 5의 용기 본체를 봉지 테이프 D로 테이핑한 상태에서, 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 5에 있어서의 ΔCD값은 -2.4nm로, 봉지 테이프의 영향을 받고 있었다.
(비교예 6)
용기 본체로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 F를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 F의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 F에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, 5.2×103ng이었다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 7259μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 6의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 6에 있어서의 ΔCD값은 -4.7nm로, 수납 용기의 영향을 받고 있었다.
(비교예 7)
용기 본체로서, 상부 덮개 및 하부 상자의 재료에 아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 G를 사용한 것 이외에, 실시예 1과 동일한 조건에서 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기를 제조했다.
아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 G의 아웃 가스 총량에 대해서, 실시예 1과 마찬가지로 해서 GC-MS 분석했다. 그 결과, 아크릴로나이트릴 뷰타다이엔 스타이렌계 수지 G에 있어서 검출된 아웃 가스 총량은, n-테트라데케인 환산으로 5.9×103ng이었다. 따라서 용기 내의 아웃 가스 총량은, 8234μg이었다.
포토마스크 블랭크스 기판을 수납한 비교예 7의 용기 본체를 봉지 테이프 A로 테이핑한 상태에서, 실시예 4와 마찬가지로 상온에서 3개월간(90일간) 보관했다.
보관 후의 포토마스크 블랭크스 기판을, 실시예 1과 마찬가지로 해서, EB 묘화, 베이킹, 현상해서 얻어진 패턴을 측정했다. 그 결과, 비교예 7에 있어서의 ΔCD값은 -4.5nm로, 수납 용기의 영향을 받고 있었다. 비교예 1∼7의 결과를 하기의 표 2에 정리했다.
Figure pat00002
표 2에 나타내는 바와 같이, 비교예 1, 6, 7에서는, 이너 부재 및 봉지 테이프의 아웃 가스 총량은 적었지만, 용기 본체의 아웃 가스 총량이, n-테트라데케인 환산으로 2.0×103ng 이상이었다. 또한 용기 내의 아웃 가스 총량은, 3.0×103μg 이상이었다. 그 때문에, 비교예 1, 6, 7에서는, 수납 용기에 있어서의, 특히 용기 본체의 영향을 받아서 ΔCD값이 악화되었다고 생각된다.
또한, 비교예 2∼5에서는, 이너 부재 및 용기 본체의 아웃 가스 총량은 적었지만, 봉지 테이프의 아웃 가스 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이상이었다. 또한 테이프의 아웃 가스 총량은 1.4×102μg 이상이었다. 그 때문에, 비교예 2∼5에서는, 봉지 테이프의 영향을 받아서 ΔCD값이 악화되었다고 생각된다.
한편, 표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼8에서는, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프의 아웃 가스 총량이 모두 본 발명의 범위 내였으므로, ΔCD값의 악화를 억제할 수 있었다.
이와 같은, 본 발명의 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기라면, 용기 본체, 이너 부재 및 봉지 테이프로부터 발생하는 휘발성 유기 성분에 의한 레지스트 패턴에 대한 영향을 억제하면서, 포토마스크 블랭크스 기판의 보관·수송이 가능해진다는 것을 알 수 있었다.
한편, 본 발명은 상기 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고, 마찬가지의 작용 효과를 발휘한다는 것은, 어떠한 것이라도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
1: 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기
2: 포토마스크 블랭크스 기판
3: 이너 카세트 4: 리테이너 부재
5: 이너 부재 6: 하부 상자
7: 상부 덮개 8: 용기 본체
9: 봉지 테이프

Claims (10)

  1. 포토마스크 블랭크스 기판을 수납하기 위한 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기로서,
    상기 포토마스크 블랭크스 기판을 수용 가능한 이너 카세트와, 해당 이너 카세트에 수납한 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 상방으로부터 고정하는 리테이너 부재를 갖는 이너 부재와,
    상기 이너 카세트를 수용 가능한 하부 상자와, 상기 리테이너 부재를 내측에 감합 가능한 상부 덮개를 갖는 용기 본체와,
    해당 용기 본체를 봉지하는 봉지 테이프를 가지며,
    상기 용기 본체 및 상기 이너 부재는, 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.9×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지고,
    상기 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.8×103ng 이하인 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 용기 본체 및 상기 이너 부재는, 0.1g의 샘플링 시 40℃에서 60분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 500ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지고,
    상기 봉지 테이프는, 10mm×10mm 크기로 샘플링 시 150℃에서 10분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.0×103ng 이하인 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이너 부재는, 2g의 샘플링 시 100℃에서 20분 유지하에서 방출되는 아웃 가스 성분 중, 가스 크로마토그래피 질량 분석계로 검출되는 아웃 가스의 총량이, n-테트라데케인 환산으로 1.0×103ng 이하인 고분자계 재료로 이루어지는 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 용기 본체는, 폴리카보네이트를 주성분으로 하는 고분자계 재료로 이루어지고, 또한 그 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하이며,
    상기 봉지 테이프는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 중 어느 하나로 이루어지는 기재와, 폴리아크릴산 에스터로 이루어지는 점착면을 갖는 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 용기 본체는, 폴리카보네이트를 주성분으로 하는 고분자계 재료로 이루어지고, 또한 그 표면 저항값은 2.0×104Ω/sq 이하이며,
    상기 봉지 테이프는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌 중 어느 하나로 이루어지는 기재와, 폴리아크릴산 에스터로 이루어지는 점착면을 갖는 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  6. 제 1 항, 제 2 항, 제 4 항 및 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용기 본체의 내면으로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량과, 상기 이너 부재의 표면으로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량의 합이, 3.0×103μg 미만인 것이고,
    상기 용기 본체를 봉지하는 봉지 테이프로부터 발생하는 아웃 가스 성분에 의한 아웃 가스의 총량이, 1.4×102μg 미만인 것인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기.
  7. 제 1 항, 제 2 항, 제 4 항 및 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 보관하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법.
  8. 제 6 항에 기재된 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 보관하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 보관 방법.
  9. 제 1 항, 제 2 항, 제 4 항 및 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 수송하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법.
  10. 제 6 항에 기재된 포토마스크 블랭크스 기판 수납 용기 내에 수납해서 상기 포토마스크 블랭크스 기판을 수송하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크스 기판의 수송 방법.
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