KR20170096165A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20170096165A
KR20170096165A KR1020177019841A KR20177019841A KR20170096165A KR 20170096165 A KR20170096165 A KR 20170096165A KR 1020177019841 A KR1020177019841 A KR 1020177019841A KR 20177019841 A KR20177019841 A KR 20177019841A KR 20170096165 A KR20170096165 A KR 20170096165A
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히토시 나카이
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵부 (4) 가 상하 방향으로 이동하여, 컵 배기 포트 (즉, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 일방) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 또는 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 선택적으로 중첩된다. 컵 배기 포트가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태에서는, 제 1 배기 기구 (951) 에 의해 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 제 1 챔버 배기 포트 (631) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 또, 컵 배기 포트가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태에서는, 제 2 배기 기구 (952) 에 의해 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 이와 같이, 컵부 (4) 로부터의 배기를 실시하는 배기 기구를, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 사이에서 용이하게 전환할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE}
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 기판 (이하, 간단히 「기판」이라고 한다.) 의 제조 공정에서는, 회전하는 기판에 대해 처리액을 공급하여 여러 가지 처리를 실시하는 기판 처리 장치가 이용된다. 이와 같은 기판 처리 장치에서는, 원심력에 의해 기판으로부터 비산하는 처리액 등을 받는 컵부가, 기판의 주위에 설치되는 경우가 있다.
예를 들어, 일본 공개특허공보 2010-10251호 (문헌 1) 의 레지스트 도포 처리 장치에서는, 처리컵의 저부에 배기구가 형성된다. 처리컵은, 기판의 주위로부터 직경 방향 외방으로 넓어지는 차양부를 갖는다. 기판 상방의 기체는, 처리컵의 차양부의 내주연과 기판의 간극으로부터 처리컵 내로 유입되고, 배기구를 통하여 처리컵 밖으로 배출된다. 차양부의 외주부에는 복수의 통기 구멍이 형성되고, 차양부의 상방에는, 복수의 통기 구멍을 상방으로부터 덮어 폐색하는 개폐 기구가 설치된다. 기판 상에 레지스트막이 생성될 때에는, 당해 개폐 기구를 상승시켜 차양부로부터 이간시킴으로써, 복수의 통기 구멍이 개방된다. 이 때문에, 기판 상방의 기체는, 처리컵의 차양부의 내주연과 기판의 간극, 및 복수의 통기 구멍으로부터 처리컵 내로 유입된다. 이로써, 기판의 외주연부 근방의 기류가 제어되어, 기판의 외주연부에 있어서 레지스트액이 솟아오르는 현상이 억제된다.
일본 공개특허공보 2010-10555호 (문헌 2) 의 기판의 처리 장치에서는, 컵체의 저부로부터 상방으로 넓어지는 원통상의 가동 칸막이체에 의해, 컵체의 내부 공간이 내주 공간부와 외주 공간부로 격별된다. 가동 칸막이체에는 개구가 형성되어 있고, 당해 개구에는, 기체를 통과하고 액체의 통과를 저지하는 재료 (예를 들어, 포지나 다공질재에 의해 형성된 통기성 부재) 가 설치되어 있다. 기판에 순수가 공급되는 경우, 가동 칸막이체가 하강하여 기판보다 하방에 위치하고, 순수는 외주 공간부로 낙하한다. 외주 공간부의 저부에는, 기액 분리기를 통하여 배기 블로어가 접속되어 있고, 외주 공간부로 낙하한 순수 및 외주 공간부의 분위기가, 기액 분리기를 통하여 컵체의 외부로 배출된다. 기판에 약액이 공급되는 경우, 가동 칸막이체가 상승하여 기판의 주위에 위치하고, 약액은 내주 공간부로 낙하한다. 또, 내주 공간부의 분위기는, 가동 칸막이체의 상기 개구를 통하여 외주 공간부로 흡인되고, 기액 분리기를 통하여 컵체의 외부로 배출된다.
일본 공개특허공보 2012-146835호 (문헌 3) 의 웨이퍼 세정 장치에서는, 스핀컵의 저부 근방에 배기구와 배액구가 형성된다. 당해 웨이퍼 세정 장치에서는, 스핀컵의 저부 근방에 형성된 배기구와, 스핀컵 및 기판보다 상방에서 챔버의 측면에 형성된 배기구가 전환된다. 구체적으로는, 챔버의 측면에 형성된 배기구를 개폐하는 셔터가 설치되고, 당해 셔터는, 스핀컵의 승강과 연동하여 승강한다. 그리고, 기판의 반출입 시에는, 스핀컵이 하강하여 스핀컵의 저부 근방에 형성된 배기구가 폐색되고, 챔버의 측면에 형성된 배기구가 개방된다. 또, 기판의 액처리 시에는, 스핀컵이 상승하여 스핀컵의 저부 근방에 형성된 배기구가 개방되고, 챔버의 측면에 형성된 배기구가 폐색된다. 이로써, 챔버의 내압이 대략 일정하게 유지된다.
그런데, 문헌 1 내지 3 의 장치에서는, 기판의 처리에 사용되는 처리액의 종류가 변경되어도, 처리컵 내의 분위기를 배출하는 배기구는 동일하다. 따라서, 배기구에 접속된 배관 등의 내부에 있어서, 흡인된 처리액의 분위기가 배관 내 등에 잔류하는 다른 처리액의 분위기와 섞여, 혼식 (混蝕) 이 생길 우려가 있다. 문헌 2 의 처리 장치에서는, 상기 서술한 바와 같이 기액 분리기가 컵체의 외부에 설치되므로 처리 장치가 대형화할 우려가 있다. 또, 상기 서술한 바와 같은 기판 처리 장치에서는, 배기구로부터의 배기 유량의 조절이 요구되는 경우, 배기 유량을 조절하는 기구를 배기관 상에 설치하게 되어, 장치 구조가 복잡화함과 함께 장치가 대형화할 가능성이 있다.
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 적합하고, 배기 기구를 용이하게 전환하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명에 관련된 하나의 기판 처리 장치는, 수평 상태로 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 상에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와, 상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하는 환상이고, 상기 기판으로부터의 처리액을 받는 컵부와, 상기 기판 유지부 및 상기 컵부를 내부에 수용하는 챔버와, 상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 컵 승강 기구와, 상기 컵 승강 기구에 의해 상기 컵부를 상대 이동시켜, 상기 컵부의 상기 기판 유지부에 대한 상대 위치를 결정하는 제어부를 구비하고, 상기 컵부가, 원환상의 컵 저부와, 상기 컵 저부의 내주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 내측벽부와, 상기 컵 저부의 외주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 외측벽부를 구비하고, 상기 컵 내측벽부 또는 상기 컵 외측벽부에 컵 배기 포트가 형성되고, 상기 컵 내측벽부의 내측에서 상기 컵 내측벽부와 대향하거나, 또는 상기 컵 외측벽부의 외측에서 상기 컵 외측벽부와 대향하는 제 1 챔버 배기 포트 및 제 2 챔버 배기 포트가 형성되고, 상기 제어부가 상기 컵 승강 기구를 제어함으로써, 상기 컵 배기 포트가 상기 제 1 챔버 배기 포트 또는 상기 제 2 챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩되고, 상기 컵 배기 포트가 상기 제 1 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 제 1 챔버 배기 포트에 접속되는 제 1 배기 기구에 의해, 상기 컵부 내의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 제 1 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출되고, 상기 컵 배기 포트가 상기 제 2 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 제 2 챔버 배기 포트에 접속되는 제 2 배기 기구에 의해, 상기 컵부 내의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 제 2 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출된다. 당해 기판 처리 장치에 의하면, 배기 기구를 용이하게 전환할 수 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 실시형태에서는, 상기 제 2 챔버 배기 포트가, 둘레 방향에 있어서 상기 제 1 챔버 배기 포트와 상이한 위치에 위치하고, 상기 컵 배기 포트가, 상기 제 1 챔버 배기 포트와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제1 컵 배기 포트와, 상기 제 2 챔버 배기 포트와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제 2 컵 배기 포트를 구비한다.
본 발명에 관련된 다른 기판 처리 장치는, 수평 상태로 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 상에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와, 상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하는 환상이고, 상기 기판으로부터의 처리액을 받는 컵부와, 상기 기판 유지부 및 상기 컵부를 내부에 수용하는 챔버와, 상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 컵 승강 기구와, 상기 컵 승강 기구에 의해 상기 컵부를 상대 이동시켜, 상기 컵부의 상기 기판 유지부에 대한 상대 위치를 결정하는 제어부를 구비하고, 상기 컵부가, 원환상의 컵 저부와, 상기 컵 저부의 내주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 내측벽부와, 상기 컵 저부의 외주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 외측벽부를 구비하고, 상기 컵 내측벽부 또는 상기 컵 외측벽부에 컵 배기 포트가 형성되고, 상기 컵 내측벽부의 내측에서 상기 컵 내측벽부와 대향하거나, 또는 상기 컵 외측벽부의 외측에서 상기 컵 외측벽부와 대향하는 챔버 배기 포트가 형성되고, 상기 컵 배기 포트가 상기 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 챔버 배기 포트에 접속되는 배기 기구에 의해, 상기 컵부 안의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출되고, 상기 컵 승강 기구가 상기 제어부에 의해 제어되어, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경됨으로써, 상기 배기 기구에 의한 상기 챔버로부터의 배기 유량이 변경된다.
본 발명의 하나의 바람직한 실시형태에서는, 상기 챔버 배기 포트가, 대챔버 배기 포트와, 상기 대챔버 배기 포트와 함께 상기 상하 방향으로 배열되고, 상기 대챔버 배기 포트보다 단면적이 작은 소챔버 배기 포트를 구비하고, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 컵 배기 포트를, 상기 대챔버 배기 포트 또는 상기 소챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩하는 것이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 컵 배기 포트가, 대컵 배기 포트와, 상기 대컵 배기 포트와 함께 상기 상하 방향으로 배열되고, 상기 대컵 배기 포트보다 단면적이 작은 소컵 배기 포트를 구비하고, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 대컵 배기 포트 또는 상기 소컵 배기 포트를, 상기 챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩하는 것이다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복을 유지하면서 상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써 실현된다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 컵 배기 포트가, 상기 컵 내측벽부에 형성된다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 기판 유지부가, 상기 중심축을 중심으로 하는 원판상의 유지부 본체를 구비하고, 상기 컵부가, 상기 컵 외측벽부의 상단부로부터 내측으로 넓어지는 원환상의 컵 차양부를 추가로 구비하고, 기판의 반출입 시에, 상기 컵 승강 기구가 상기 제어부에 의해 제어되어, 상기 유지부 본체가 상기 컵 차양부의 내주부와 상기 상하 방향에 있어서 동일한 위치에 상기 컵 차양부의 상기 내주부에 근접하여 위치한다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 컵부가, 상기 컵 내측벽부와 상기 컵 외측벽부 사이에서 상기 컵 저부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 중간벽부를 추가로 구비하고, 상기 컵 저부에, 상기 칸막이벽보다 내측에 위치하는 제 1 컵 배액 포트와, 상기 칸막이벽보다 외측에 위치하는 제 2 컵 배액 포트가 형성되고, 상기 제 1 컵 배액 포트는, 상기 챔버의 챔버 저부에 형성된 제 1 챔버 배액 포트를 통하여 상기 챔버 밖의 제 1 배액부에 접속되고, 상기 제 2 컵 배액 포트는, 상기 챔버 저부에 형성된 제 2 챔버 배액 포트를 통하여 상기 챔버 밖의 제 2 배액부에 접속되고, 상기 컵 승강 기구에 의해, 상기 컵부가, 상기 기판 유지부를 기준으로 하는 제 1 위치와 상기 제 1 위치보다 하방인 제 2 위치 사이를 이동하고, 상기 컵부가 상기 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 상기 처리액 공급부로부터 상기 기판 상에 공급된 처리액이, 상기 컵부의 상기 컵 내측벽부와 상기 컵 중간벽부 사이의 공간으로 유입되고, 상기 제 1 배액부로 배출되고, 상기 컵부가 상기 제 2 위치에 위치하는 상태에서는, 상기 처리액 공급부로부터 상기 기판 상에 공급된 처리액이, 상기 컵부의 상기 컵 중간벽부와 상기 컵 외측벽부 사이의 공간으로 유입되고, 상기 제 2 배액부로 배출된다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 기판 유지부가, 상기 중심축을 중심으로 하는 원판상의 유지부 본체를 구비하고, 상기 유지부 본체가, 상기 컵부의 상방에서 상기 컵부와 상기 상하 방향으로 대향하고, 상기 유지부 본체의 하면으로부터 하방으로 돌출됨과 함께 상기 중심축의 주위를 둘러싸는 환상의 돌출부가 형성된다.
본 발명의 다른 바람직한 실시형태에서는, 상기 챔버가, 상기 기판 유지부 및 상기 컵부가 배치되는 밀폐 공간을 형성하는 밀폐 공간 형성부이다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 본 발명의 상세한 설명에 의해 분명하게 된다.
도 1 은 제 1 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 2 는 기판 처리 장치의 횡단면도이다.
도 3 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 4 는 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 5 는 기판 처리 장치의 횡단면도이다.
도 6 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 7 은 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 8 은 기판의 처리 흐름을 나타내는 도면이다.
도 9 는 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 10 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 11 은 제 2 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 12 는 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 13 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 14 는 제 3 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 15 는 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 16 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 17 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 18 은 컵 내측벽부 및 챔버 내측벽부의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다.
도 19 는 제 4 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 20 은 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 21 은 제 5 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 22 는 제 6 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 23 은 다른 기판 처리 장치의 종단면도이다.
도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1) 를 나타내는 종단면도이다. 기판 처리 장치 (1) 는, 대략 원판상의 반도체 기판 (9)(이하, 간단히 「기판 (9)」이라고 한다.) 에 처리액을 공급하여 기판 (9) 을 1 장씩 처리하는 매엽식의 장치이다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 순수, 산성의 약액, 알칼리성의 약액 등이 처리액으로서 이용되고, 기판 (9) 의 세정 처리나 그 밖의 여러 가지 처리가 실시된다. 도 1 에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 일부의 구성의 단면에는, 평행 사선의 부여를 생략하고 있다 (다른 종단면도에 있어서도 동일).
기판 처리 장치 (1) 는, 기판 유지부 (31) 와, 기판 회전 기구 (32) 와, 컵부 (4) 와, 컵 승강 기구 (7) 와, 처리액 공급부 (5) 와, 챔버 (6) 와, 제어부 (10) 를 구비한다. 또한, 도 2 이후에서는, 제어부 (10) 의 도시를 생략한다. 챔버 (6) 의 내부에는, 기판 유지부 (31) 와, 기판 회전 기구 (32) 와, 컵부 (4) 와, 처리액 공급부 (5) 가 수용된다.
챔버 (6) 는, 챔버 저부 (61) 와, 챔버 상저부 (62) 와, 챔버 내측벽부 (63) 와, 챔버 외측벽부 (64) 와, 챔버 천장 덮개부 (65) 를 구비한다. 챔버 저부 (61) 는, 컵부 (4) 및 기판 회전 기구 (32) 의 하방을 덮는다. 챔버 상저부 (62) 는, 상하 방향을 향하는 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원환판상의 부위이다. 챔버 상저부 (62) 는, 챔버 저부 (61) 의 상방에서, 기판 회전 기구 (32) 의 상방을 덮음과 함께 기판 유지부 (31) 의 하방을 덮는다. 챔버 (6) 의 측벽부인 챔버 내측벽부 (63) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 부위이다. 챔버 내측벽부 (63) 는, 챔버 상저부 (62) 의 외주부로부터 하방으로 넓어지고, 챔버 저부 (61) 에 이른다. 챔버 내측벽부 (63) 는, 컵부 (4) 의 직경 방향 내측에 위치한다.
챔버 (6) 의 측벽부인 챔버 외측벽부 (64) 는, 컵부 (4) 의 직경 방향 외측에 위치하는 대략 통상의 부위이다. 챔버 외측벽부 (64) 는, 챔버 저부 (61) 의 외주부로부터 상방으로 넓어지고, 챔버 천장 덮개부 (65) 의 외주부에 이른다. 챔버 천장 덮개부 (65) 는, 컵부 (4) 및 기판 유지부 (31) 의 상방을 덮는다. 챔버 외측벽부 (64) 에는, 기판 (9) 을 챔버 (6) 안으로 반입 및 반출하기 위한 반출입구 (66) 가 형성된다. 반출입구 (66) 는, 상하 방향으로 이동 가능한 덮개부 (67) 에 의해 폐색된다. 덮개부 (67) 에 의해 반출입구 (66) 가 폐색됨으로써, 챔버 (6) 의 내부 공간이 밀폐 공간이 된다. 즉, 챔버 (6) 는, 기판 유지부 (31) 및 컵부 (4) 가 배치되는 밀폐 공간을 형성하는 밀폐 공간 형성부이다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 챔버 내측벽부 (63) 및 컵부 (4) 를 나타내는 횡단면도이다. 도 2 는, 상하 방향에 관계되고, 후술하는 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 위치에 있어서의 횡단면이다. 도 2 에서는, 단면보다 하방의 구성의 일부도 아울러 묘사하고 있다. 도 5 에 있어서도 동일하다. 도 3 은, 후술하는 컵 내측벽부 (42) 및 챔버 내측벽부 (63) 의 외측면의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다. 도 3 중의 좌우 방향은, 중심축 J1 을 중심으로 하는 둘레 방향 (이하, 간단히 「둘레 방향」이라고도 한다.) 에 대응한다. 도 6, 도 10, 도 12, 도 13, 도 15 내지 도 18 에 있어서도 동일하다.
도 1 내지 도 3 에 나타내는 바와 같이, 챔버 내측벽부 (63) 에는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 가 형성된다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 컵부 (4) 내의 기체를 챔버 (6) 밖으로 배출할 때에 이용된다.
제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 예를 들어 챔버 내측벽부 (63) 를 대략 직경 방향으로 관통하는 관통 구멍이다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 각각의 유로에 수직인 단면 형상 (이하, 간단히 「단면 형상」이라고도 한다.) 은, 예를 들어 대략 원형이다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 단면 형상은 적절히 변경되어도 된다. 도 1 내지 도 3 에 나타내는 예에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 상하 방향의 대략 동일한 위치에 위치한다. 또, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다.
제 1 챔버 배기 포트 (631) 는, 챔버 내측벽부 (63) 의 내측 (즉, 직경 방향 내측) 에서 상하 방향으로 연장되는 제 1 덕트 (681) 에 접속된다. 바꾸어 말하면, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 는, 챔버 (6) 의 내부 공간과 제 1 덕트 (681) 를 접속한다. 제 1 덕트 (681) 는, 제 1 배기 기구 (951) 에 접속된다. 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 챔버 내측벽부 (63) 의 내측 (즉, 직경 방향 내측) 에서 상하 방향으로 연장되는 제 2 덕트 (682) 에 접속된다. 바꾸어 말하면, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 챔버 (6) 의 내부 공간과 제 2 덕트 (682) 를 접속한다. 제 2 덕트 (682) 는, 제 1 배기 기구 (951) 와는 별도의 제 2 배기 기구 (952) 에 접속된다. 제 1 덕트 (681) 및 제 2 덕트 (682) 는, 챔버 (6) 의 일부이다. 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 는, 챔버 (6) 및 기판 처리 장치 (1) 의 외부에 배치된다. 기판 처리 장치 (1) 가 사용되는 동안, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 에 의한 흡인은, 계속적으로 일정한 출력으로 실시되고 있다.
이하의 설명에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 합쳐서 「챔버 배기 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 챔버 배기 포트는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 구비한다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 일방을, 「챔버 배기 포트」라고도 부른다.
또, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 를 합쳐서 「배기 기구」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 배기 기구는, 제 1 배기 기구 (951) 와, 제 2 배기 기구 (952) 를 구비한다. 제 1 배기 기구 (951) 와 제 2 배기 기구 (952) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 의 일방을 「배기 기구」라고도 부른다.
챔버 저부 (61) 에는, 챔버 내측벽부 (63) 보다 직경 방향 외측에 있어서, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 와, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 가 형성된다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 컵부 (4) 내의 액체를 챔버 (6) 밖으로 배출할 때에 이용된다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 예를 들어 챔버 저부 (61) 를 상하 방향으로 관통하는 관통 구멍이다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는 각각, 챔버 저부 (61) 로부터 상방으로 돌출되는 대략 원기둥상의 챔버 돌출부 (616, 617) 의 내부에 형성된다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 의 각각의 유로에 수직인 단면 형상 (이하, 간단히 「단면 형상」이라고도 한다.) 은, 예를 들어 대략 원형이다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 의 단면 형상은 적절히 변경되어도 된다.
제 1 챔버 배액 포트 (611) 는, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 보다 직경 방향 내측에 위치한다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 챔버 배액 포트 (611) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치, 즉, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치, 즉, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 는, 제 1 배액부 (961) 에 접속된다. 제 2 챔버 배액 포트 (612) 는, 제 2 배액부 (962) 에 접속된다. 제 1 배액부 (961) 및 제 2 배액부 (962) 는, 챔버 (6) 및 기판 처리 장치 (1) 의 외부에 배치된다.
이하의 설명에서는, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 합쳐서 「챔버 배액 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 챔버 배액 포트는, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 와, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 구비한다. 제 1 챔버 배액 포트 (611) 와 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 의 일방을 「챔버 배액 포트」라고도 부른다.
또, 제 1 배액부 (961) 및 제 2 배액부 (962) 를 합쳐서 「배액부」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 배액부는, 제 1 배액부 (961) 와, 제 2 배액부 (962) 를 구비한다. 제 1 배액부 (961) 와 제 2 배액부 (962) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 배액부 (961) 및 제 2 배액부 (962) 의 일방을 「배액부」라고도 부른다.
기판 유지부 (31) 는, 기판 (9) 을 수평 상태로 유지한다. 구체적으로는, 기판 (9) 은, 미세 패턴이 미리 형성된 상면 (91) 을 중심축 J1 에 수직으로 상측을 향하는 상태에서 기판 유지부 (31) 에 의해 유지된다. 기판 유지부 (31) 는, 베이스부 (311) 와, 복수의 척 (312) 과, 돌출부 (34) 를 구비한다. 베이스부 (311) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원판상의 유지부 본체이다. 베이스부 (311) 는, 중심축 J1 에 수직이고, 중앙에 개구를 갖는다. 베이스부 (311) 의 외주부는, 컵부 (4) 의 내주부의 상방에서 컵부 (4) 와 상하 방향으로 대향한다. 베이스부 (311) 의 외주연은, 컵부 (4) 의 외주부의 직경 방향 내측에서 컵부 (4) 와 직경 방향으로 대향한다.
복수 (예를 들어, 3 개) 의 척 (312) 은, 베이스부 (311) 의 상면에 고정된다. 복수의 척 (312) 은, 중심축 J1 을 중심으로 하는 둘레 방향으로 대략 등각도 간격으로 배치된다. 복수의 척 (312) 에 의해, 베이스부 (311) 의 상방에서 기판 (9) 의 외연부가 유지된다. 돌출부 (34) 는, 베이스부 (311) 의 외주부에 있어서, 베이스부 (311) 의 하면으로부터 하방으로 (즉, 컵부 (4) 를 향해) 돌출된다. 돌출부 (34) 는, 중심축 J1 의 주위를 둘러싸는 환상이다. 상세하게는, 돌출부 (34) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 부위이다. 돌출부 (34) 는, 예를 들어 베이스부 (311) 와 일체적으로 형성된다.
기판 회전 기구 (32) 는, 챔버 내측벽부 (63) 의 직경 방향 내측에서, 챔버 저부 (61) 와 챔버 상저부 (62) 사이에 배치된다. 기판 회전 기구 (32) 는, 예를 들어 축회전형의 전동 모터이다. 기판 회전 기구 (32) 의 회전축 (321) 은, 챔버 상저부 (62) 의 중앙부를 관통하여 챔버 (6) 의 내부로 연장된다. 회전축 (321) 은, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상이다. 회전축 (321) 의 선단부에는, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (311) 가 고정된다. 회전축 (321) 과 챔버 상저부 (62) 사이에는, 기체나 액체의 통과를 방지하는 시일이 설치된다. 회전축 (321) 이 회전함으로써, 기판 유지부 (31) 가 기판 (9) 과 함께 중심축 J1 을 중심으로 해서 회전한다.
처리액 공급부 (5) 는, 기판 (9) 상에서 처리액을 흡수한다. 처리액 공급부 (5) 는, 상부 노즐 (51) 과, 하부 노즐 (52) 을 구비한다. 상부 노즐 (51) 은, 기판 유지부 (31) 및 기판 (9) 의 상방에 위치한다. 상부 노즐 (51) 은, 도시 생략한 노즐 지지부에 의해 지시된다. 상부 노즐 (51) 의 하단은, 기판 (9) 의 상면 (91) 의 중앙부에 대향한다. 상부 노즐 (51) 은, 챔버 (6) 의 외부에 설치된 처리액 공급원 (도시 생략) 에 접속된다. 처리액 공급원으로부터 상부 노즐 (51) 로 공급된 처리액은, 상부 노즐 (51) 의 하단으로부터 기판 (9) 의 상면 (91) 상의 중앙부를 향하여 공급된다.
하부 노즐 (52) 은, 기판 회전 기구 (32) 의 회전축 (321) 의 내측에 배치되고, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (311) 의 중앙에 위치하는 개구를 통하여, 베이스부 (311) 로부터 상방으로 돌출된다. 하부 노즐 (52) 은, 회전축 (321) 에는 접촉하고 있지 않고, 회전축 (321) 이 회전할 때에도 회전하지 않는다. 하부 노즐 (52) 과 베이스부 (311) 사이에는, 기체나 액체의 통과를 방지하는 시일이 설치되어 있다. 하부 노즐 (52) 은, 챔버 (6) 의 외부에 설치된 처리액 공급원 (도시 생략) 에 접속된다. 하부 노즐 (52) 의 상단은, 기판 (9) 의 하방에 위치하고, 기판 (9) 의 하면의 중앙부에 대향한다. 처리액 공급원으로부터 하부 노즐 (52) 로 공급된 처리액은, 하부 노즐 (52) 의 상단으로부터 기판 (9) 의 하면의 중앙부를 향하여 공급된다.
컵부 (4) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 환상의 부재이다. 컵부 (4) 는, 기판 유지부 (31) 및 기판 (9) 의 주위 및 하방에 위치하고, 기판 (9) 으로부터의 처리액을 받는다. 컵부 (4) 는, 또 챔버 (6) 의 챔버 내측벽부 (63) 의 직경 방향 외측에 위치하고, 챔버 내측벽부 (63) 및 기판 회전 기구 (32) 의 주위를 둘러싼다.
컵부 (4) 는, 컵 저부 (41) 와, 컵 내측벽부 (42) 와, 컵 칸막이벽 (43) 과, 컵 중간벽부 (44) 와, 컵 외측벽부 (45) 와, 컵 차양부 (46) 를 구비한다. 컵 저부 (41) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원환상의 부위이다. 컵 내측벽부 (42) 는, 컵 저부 (41) 의 내주부로부터 상방으로 넓어지는 대략 통상의 부위이다. 컵 내측벽부 (42) 의 내측 (즉, 직경 방향 내측) 에는 챔버 내측벽부 (63) 가 배치된다. 바꾸어 말하면, 챔버 내측벽부 (63) 는, 컵 내측벽부 (42) 의 내측에서 컵 내측벽부 (42) 와 직경 방향으로 대향한다.
컵 외측벽부 (45) 는, 컵 저부 (41) 의 외주부로부터 상방으로 넓어지는 대략 통상의 부위이다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 컵 내측벽부 (42) 및 컵 외측벽부 (45) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 부위이다. 컵 차양부 (46) 는, 컵 외측벽부 (45) 의 상단부로부터 내방 (즉, 직경 방향 내방) 으로 넓어지는 대략 원환상의 부위이다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 컵 차양부 (46) 는, 컵 외측벽부 (45) 의 상단부로부터 직경 방향 내방을 향함에 따라 상방을 향하는 경사부이다. 컵 차양부 (46) 의 상단 가장자리의 직경은, 기판 유지부 (31) 의 직경보다 약간 크다.
컵 중간벽부 (44) 는, 컵 내측벽부 (42) 와 컵 외측벽부 (45) 사이에서, 컵 저부 (41) 로부터 상방으로 넓어지는 대략 통상의 부위이다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 컵 중간벽부 (44) 는, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 부위이다. 컵 중간벽부 (44) 는, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (311) 보다 직경 방향 외측에 위치한다. 컵 중간벽부 (44) 의 상부는, 상방을 향함에 따라 직경 방향 내방을 향하는 경사부이다. 컵 중간벽부 (44) 의 상단 가장자리의 직경은, 기판 유지부 (31) 의 직경보다 크다. 컵 중간벽부 (44) 의 상단 가장자리의 직경은, 컵 차양부 (46) 의 상단 가장자리의 직경보다 크다.
컵 칸막이벽 (43) 은, 컵 내측벽부 (42) 와 컵 중간벽부 (44) 사이에서, 컵 저부 (41) 로부터 상방으로 넓어지는 대략 통상의 부위이다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 컵 칸막이벽 (43) 은, 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 부위이다. 컵 칸막이벽 (43) 은, 베이스부 (311) 의 하방에 위치한다. 컵 칸막이벽 (43) 은, 기판 유지부 (31) 의 돌출부 (34) 보다 직경 방향 내측에 위치한다. 돌출부 (34) 는, 컵 칸막이벽 (43) 으로부터 상방으로 이간되어, 컵 칸막이벽 (43) 과 직경 방향의 동일한 위치에 위치해도 된다.
이하의 설명에서는, 컵부 (4) 의 컵 중간벽부 (44) 와 컵 외측벽부 (45) 사이의 공간을 「외측 컵 공간 (48)」이라고 부른다. 또, 컵부 (4) 의 컵 내측벽부 (42) 와 컵 중간벽부 (44) 사이의 공간을 「내측 컵 공간 (47)」이라고 부른다. 내측 컵 공간 (47) 은, 컵 칸막이벽 (43) 에 의해, 직경 방향 내측의 공간인 액 회피 공간 (471) 과, 직경 방향 외측의 공간인 액 받이 공간 (472) 으로 분할된다. 외측 컵 공간 (48), 내측 컵 공간 (47), 액 회피 공간 (471) 및 액 받이 공간 (472) 은 각각 중심축 J1 을 중심으로 하는 대략 원통상의 공간이다.
컵 내측벽부 (42) 에는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와, 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 형성된다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 컵부 (4) 내의 기체를 챔버 (6) 밖으로 배출할 때에 이용된다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 예를 들어 컵 내측벽부 (42) 를 대략 직경 방향으로 관통하는 관통 구멍이다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 각각의 유로에 수직인 단면 형상 (이하, 간단히 「단면 형상」이라고도 한다.) 은, 예를 들어 대략 원형이다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 단면의 직경은, 예를 들어 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 단면의 직경보다 크다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 단면 형상은 적절히 변경되어도 된다.
도 1 내지 도 3 에 나타내는 예에서는, 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 상하 방향의 위치는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 의 상하 방향의 위치와 상이하다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 보다 상방에 위치한다. 또, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다.
제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 도 1 내지 도 3 에 나타내는 상태에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 직경 방향으로 대향한다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 보다 상방에 위치한다.
이하의 설명에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 를 합쳐서 「컵 배기 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 컵 배기 포트는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와, 제 2 컵 배기 포트 (422) 를 구비한다. 또, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 2 컵 배기 포트 (422) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 일방을 「컵 배기 포트」라고도 부른다.
컵 저부 (41) 에는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 와, 제 2 컵 배액 포트 (412) 가 형성된다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 컵부 (4) 안의 액체를 챔버 (6) 밖으로 배출할 때에 이용된다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 예를 들어 컵 저부 (41) 를 관통하는 관통 구멍이다.
도 1 에 나타내는 예에서는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 는 각각, 컵 저부 (41) 로부터 하방으로 돌출되는 대략 원기둥상의 컵 돌출부 (416, 417) 의 내부에 형성된다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 의 각각의 유로에 수직인 단면 형상 (이하, 간단히 「단면 형상」이라고도 한다.) 은 예를 들어 대략 원형이다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 의 단면 형상은 적절히 변경되어도 된다.
도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 컵 배액 포트 (411) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치, 즉, 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 제 2 컵 배기 포트 (422) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치, 즉, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다.
제 1 컵 배액 포트 (411) 가 내부에 형성된 컵 돌출부 (416) 는, 챔버 돌출부 (616) 의 내부의 제 1 챔버 배액 포트 (611) 에 삽입된다. 이로써, 제 1 컵 배액 포트 (411) 가, 챔버 (6) 의 챔버 저부 (61) 에 형성된 제 1 챔버 배액 포트 (611) 에 접속되고, 제 1 챔버 배액 포트 (611) 를 통하여 챔버 (6) 밖의 제 1 배액부 (961) 에 접속된다. 제 2 컵 배액 포트 (412) 가 내부에 형성된 컵 돌출부 (417) 는, 챔버 돌출부 (617) 의 내부의 제 2 챔버 배액 포트 (612) 에 삽입된다. 이로써, 제 2 컵 배액 포트 (412) 가, 챔버 (6) 의 챔버 저부 (61) 에 형성된 제 2 챔버 배액 포트 (612) 에 접속되고, 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 통하여 챔버 (6) 밖의 제 2 배액부 (962) 에 접속된다.
제 1 컵 배액 포트 (411) 는, 제 2 컵 배액 포트 (412) 보다 직경 방향 내측에 위치한다. 제 1 컵 배액 포트 (411) 는, 컵 저부 (41) 에 있어서, 컵 중간벽부 (44) 보다 내측에 위치한다. 상세하게는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 는, 컵 중간벽부 (44) 보다 직경 방향 내측, 또한 컵 내측벽부 (42) 및 컵 칸막이벽 (43) 보다 직경 방향 외측에 위치한다. 바꾸어 말하면, 제 1 컵 배액 포트 (411) 는, 내측 컵 공간 (47) 의 하방에서 액 받이 공간 (472) 의 저면으로부터 하방으로 연장된다. 내측 컵 공간 (47) 의 액 받이 공간 (472) 은, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 1 챔버 배액 포트 (611) 를 통하여 제 1 배액부 (961) 에 접속된다.
제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 컵 저부 (41) 에 있어서, 컵 중간벽부 (44) 보다 외측에 위치한다. 상세하게는, 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 컵 중간벽부 (44) 보다 직경 방향 외측, 또한 컵 외측벽부 (45) 보다 직경 방향 내측에 위치한다. 바꾸어 말하면, 제 2 컵 배액 포트 (412) 는, 외측 컵 공간 (48) 의 하방에서 외측 컵 공간 (48) 의 저면으로부터 하방으로 연장된다. 외측 컵 공간 (48) 은, 제 2 컵 배액 포트 (412) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 통하여 제 2 배액부 (962) 에 접속된다.
이하의 설명에서는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 를 합쳐서 「컵 배액 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 컵 배액 포트는, 제 1 컵 배액 포트 (411) 와, 제 2 컵 배액 포트 (412) 를 구비한다. 또, 제 1 컵 배액 포트 (411) 와 제 2 컵 배액 포트 (412) 를 구별할 필요가 없는 경우, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 의 일방을 「컵 배액 포트」라고도 부른다.
컵 승강 기구 (7) 는, 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향의 상대적으로 이동시킨다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 컵 승강 기구 (7) 는, 둘레 방향으로 배치되는 복수의 리니어 액추에이터 (71) 를 구비한다. 각 리니어 액추에이터 (71) 는, 피스톤부 (72) 와 로드 (73) 를 구비한다. 피스톤부 (72) 는, 챔버 (6) 밖에 있어서 챔버 저부 (61) 의 하면에 고정된다. 로드 (73) 는, 피스톤부 (72) 로부터 챔버 저부 (61) 를 관통하여 상방으로 연장된다. 로드 (73) 의 선단부는, 컵부 (4) 에 접속된다. 상세하게는, 로드 (73) 의 선단부는, 컵 외측벽부 (45) 로부터 직경 방향 외방으로 돌출되는 컵 플랜지부 (451) 의 하면에 접속된다. 로드 (73) 의 주위에는, 상하 방향에 있어서 신축 가능한 대략 원통상의 벨로우즈 (74) 가 설치된다. 벨로우즈 (74) 의 상단부는, 컵 플랜지부 (451) 의 하면에 접속되고, 벨로우즈 (74) 의 하단부는, 챔버 저부 (61) 의 상면에 접속된다. 이로써, 로드 (73) 가 배치되는 벨로우즈 (74) 의 내부 공간은, 챔버 (6) 의 내부 공간으로부터 격절된다. 컵 승강 기구 (7) 에 있어서, 각 리니어 액추에이터 (71) 의 피스톤부 (72) 에 의해 로드 (73) 가 상하 방향으로 진퇴함으로써, 컵부 (4) 가 챔버 (6) 내에 있어서 상하 방향으로 이동한다.
도 4 는, 컵부 (4) 가 도 1 과는 상이한 위치에 위치하는 기판 처리 장치 (1) 를 나타내는 종단면도이다. 도 5 는, 도 4 에 나타내는 챔버 내측벽부 (63) 및 컵부 (4) 를 나타내는 횡단면도이다. 도 5 는, 상하 방향에 관계되고, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 위치에 있어서의 횡단면이다. 도 6 은, 도 4 에 나타내는 컵 내측벽부 (42) 및 챔버 내측벽부 (63) 의 외측면의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다. 도 7 은, 컵부 (4) 가 도 1 및 도 4 와는 상이한 위치에 위치하는 기판 처리 장치 (1) 를 나타내는 종단면도이다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 제어부 (10)(도 1 참조) 에 의해 컵 승강 기구 (7) 가 제어됨으로써, 컵부 (4) 가 상하 방향으로 상대 이동하여, 컵부 (4) 의 기판 유지부 (31) 에 대한 상하 방향의 상대 위치가 결정된다. 컵부 (4) 는, 컵 승강 기구 (7) 에 의해, 도 1 에 나타내는 위치와, 도 4 에 나타내는 위치와, 도 7 에 나타내는 위치 사이를 이동한다. 이하의 설명에서는, 기판 유지부 (31) 를 기준으로 한 도 1 에 나타내는 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를 「제 1 위치」라고 부른다. 또, 기판 유지부 (31) 를 기준으로 한 도 4 및 도 7 에 각각 나타내는 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를 「제 2 위치」 및 「제 3 위치」라고 부른다. 제 2 위치는, 제 1 위치보다 하방이고, 제 3 위치는, 제 2 위치보다 하방이다.
컵부 (4) 가 도 1 에 나타내는 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 기판 (9) 의 외주연은, 컵 중간벽부 (44) 와 직경 방향으로 대향한다. 처리액 공급부 (5) 의 상부 노즐 (51) 로부터, 기판 회전 기구 (32) 에 의해 회전하는 기판 (9) 의 상면 (91) 상에 공급된 처리액은, 원심력에 의해 기판 (9) 으로부터 직경 방향 외방으로 비산하고, 내측 컵 공간 (47) 의 액 받이 공간 (472) 으로 유입된다. 액 받이 공간 (472) 으로 유입된 처리액은, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 1 챔버 배액 포트 (611) 를 통하여, 제 1 배액부 (961) 로 배출된다.
컵부 (4) 가 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 도 1 내지 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 컵 배기 포트 (421) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 직경 방향으로 중첩된다. 도 3 에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 중복 부분에 평행 사선을 첨부한다 (도 6, 도 10, 도 12, 도 13, 도 15 내지 도 18 에 있어서도 동일). 컵 배기 포트 중 제 1 컵 배기 포트 (421) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 접속되는 제 1 배기 기구 (951) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가, 제 1 컵 배기 포트 (421), 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 1 덕트 (681) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 또, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 보다 상방에 위치하고, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와는 중첩되지 않는다. 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 컵 내측벽부 (42) 에 의해 덮인다. 이 때문에, 컵부 (4) 내의 기체는, 제 2 챔버 배기 포트 (632), 제 2 덕트 (682) 및 제 2 배기 기구 (952) 에는 실질적으로 유입되지 않는다.
컵부 (4) 가 도 4 에 나타내는 제 2 위치에 위치하는 상태에서는, 기판 (9) 의 외주연은, 컵 외측벽부 (45) 의 상단부로부터 넓어지는 컵 차양부 (46) 와 직경 방향으로 대향한다. 기판 (9) 의 외주연은, 컵 외측벽부 (45) 와 직경 방향으로 대향해도 된다. 처리액 공급부 (5) 의 상부 노즐 (51) 로부터 회전 중인 기판 (9) 의 상면 (91) 상에 공급된 처리액은, 원심력에 의해 기판 (9) 으로부터 직경 방향 외방으로 비산하고, 외측 컵 공간 (48) 에 유입된다. 외측 컵 공간 (48) 에 유입된 처리액은, 제 2 컵 배액 포트 (412) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 통하여, 제 2 배액부 (962) 로 배출된다.
컵부 (4) 가 제 2 위치에 위치하는 상태에서는, 도 4 내지 도 6 에 나타내는 바와 같이, 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 직경 방향으로 중첩된다. 컵 배기 포트 중 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태에서는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 접속되는 제 2 배기 기구 (952) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가, 제 2 컵 배기 포트 (422), 제 2 챔버 배기 포트 (632) 및 제 2 덕트 (682) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 또, 제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 보다 하방에 위치하고, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와는 중첩되지 않는다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 는, 컵 내측벽부 (42) 에 의해 덮인다. 이 때문에, 컵부 (4) 내의 기체는, 제 1 챔버 배기 포트 (631), 제 1 덕트 (681) 및 제 1 배기 기구 (951) 에는, 실질적으로 유입되지 않는다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 제어부 (10)(도 1 참조) 가 컵 승강 기구 (7) 를 제어함으로써, 컵 배기 포트 (즉, 제 1 컵 배기 포트 (421) 또는 제 2 컵 배기 포트 (422)) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 또는 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 선택적으로 중첩된다.
컵부 (4) 가 도 7 에 나타내는 제 3 위치에 위치하는 상태에서는, 기판 유지부 (31) 의 베이스부 (311) 가, 컵 차양부 (46) 의 내주부와 상하 방향에 있어서 대략 동일한 위치에 위치한다. 베이스부 (311) 의 외주부는, 직경 방향에 있어서, 약간의 간극을 개재하여 컵 차양부 (46) 의 내주부에 근접한다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 의 반출입 시에, 컵 승강 기구 (7) 가 제어부 (10) 에 의해 제어되고, 컵부 (4) 가 제 3 위치에 위치한다.
도 8 은, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 처리 흐름의 일례를 나타내는 도면이다. 당해 처리예에서는, 하부 노즐 (52) 로부터의 처리액의 공급은 실시되지 않는다. 기판 처리 장치 (1) 에 있어서 기판 (9) 에 대한 처리가 실시될 때에는, 먼저 컵부 (4) 가 도 7 에 나타내는 제 3 위치에 위치하는 상태에서, 반출입구 (66) 로부터 기판 (9) 이 챔버 (6) 안으로 반입되고, 기판 유지부 (31) 에 의해 유지된다 (스텝 S11).
컵부 (4) 가 제 3 위치에 위치하는 상태에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는 컵 내측벽부 (42) 에는 덮여 있지 않다. 이 때문에, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 에 의해 계속적으로 실시되고 있는 흡인에 의해, 컵부 (4) 내에 있어서의 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 근방의 기체가 흡인된다. 한편, 컵 차양부 (46) 의 내주부는, 상기 서술한 바와 같이 베이스부 (311) 의 외주부와 직경 방향에 있어서 근접하기 때문에, 컵부 (4) 보다 상방의 기체가, 컵 차양부 (46) 와 베이스부 (311) 사이의 간극으로부터 컵부 (4) 내로 유입되는 것이 억제된다. 따라서, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 에 의한 컵부 (4) 내의 기체의 흡인도 억제된다. 이로써, 기판 (9) 의 반입 시에, 개방 상태의 반출입구 (66) 로부터 챔버 (6) 밖의 기체가 챔버 (6) 안으로 유입되는 것을 억제할 수 있다.
기판 (9) 이 반입되면, 덮개부 (67) 에 의해 반출입구 (66) 가 폐색되고, 챔버 (6) 의 내부 공간이 밀폐 공간이 된다. 또, 제어부 (10) 에 의해 컵 승강 기구 (7) 가 제어됨으로써, 컵부 (4) 가 제 3 위치로부터 상승하여, 도 1 에 나타내는 제 1 위치로 이동한다 (스텝 S12). 컵부 (4) 가 제 1 위치에 위치하면, 기판 회전 기구 (32) 가 구동되어, 기판 (9) 및 기판 유지부 (31) 의 회전이 개시된다 (스텝 S13). 스텝 S13 은, 스텝 S12 와 병행하여 실시되어도 되고, 스텝 S11 과 스텝 S12 사이에 실시되어도 된다.
계속해서, 처리액 공급부 (5) 의 상부 노즐 (51) 로부터, 회전 중인 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대한 제 1 처리액의 공급이 개시된다 (스텝 S14). 기판 (9) 의 상면 (91) 의 중앙부에 연속적으로 공급된 제 1 처리액은, 원심력에 의해 직경 방향 외방으로 이동한다. 제 1 처리액은, 기판 (9) 의 상면 (91) 상에서 퍼져 상면 (91) 의 전체면을 덮는다. 이로써, 제 1 처리액에 의한 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대한 처리가 실시된다. 제 1 처리액은, 예를 들어 기판 (9) 의 약액 처리에 사용되는 약액 (폴리머 제거액이나 에칭액 등) 이다.
기판 (9) 의 외주연에 도달한 제 1 처리액은, 당해 외주연으로부터 직경 방향 외방으로 비산하고, 컵부 (4) 의 내측 컵 공간 (47) 의 액 받이 공간 (472) 으로 유입된다. 액 받이 공간 (472) 내로 유입된 제 1 처리액은, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 1 챔버 배액 포트 (611) 를 통하여, 챔버 (6) 밖의 제 1 배액부 (961) 로 배출된다. 제 1 배액부 (961) 로 배출된 제 1 처리액은 필요에 따라 회수되어 재이용된다. 제 1 배액부 (961) 로 배출된 제 1 처리액은 폐기되어도 된다.
제 1 처리액에 의한 기판 (9) 의 처리 중에는, 컵부 (4) 내의 기체는, 상기 서술한 바와 같이 제 1 배기 기구 (951) 에 의해 제 1 컵 배기 포트 (421), 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 1 덕트 (681) 를 통하여, 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
상부 노즐 (51) 로부터의 제 1 처리액의 공급 개시로부터 소정 시간이 경과하면, 제 1 처리액의 공급이 정지되고, 제 1 처리액에 의한 기판 (9) 의 처리가 종료한다. 기판 (9) 상에 남아 있는 제 1 처리액은, 기판 (9) 의 회전에 의해 기판 (9) 상으로부터 제거되고, 액 받이 공간 (472), 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 1 챔버 배액 포트 (611) 를 통하여 제 1 배액부 (961) 로 배출된다.
제 1 처리액에 의한 처리가 종료하면, 제어부 (10) 에 의해 컵 승강 기구 (7) 가 제어됨으로써, 컵부 (4) 가 제 1 위치로부터 하강하여, 도 4 에 나타내는 제 2 위치로 이동한다 (스텝 S15). 계속해서, 처리액 공급부 (5) 의 상부 노즐 (51) 로부터, 회전 중인 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대한 제 2 처리액의 공급이 개시된다 (스텝 S16). 기판 (9) 의 상면 (91) 의 중앙부에 연속적으로 공급된 제 2 처리액은, 원심력에 의해 기판 (9) 의 상면 (91) 상에서 퍼져 상면 (91) 의 전체면을 덮는다. 이로써, 제 2 처리액에 의한 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대한 처리가 실시된다. 제 2 처리액은, 예를 들어 기판 (9) 의 세정 처리에 사용되는 순수 (DIW : deionized water) 나 탄산수 등의 세정액이다.
기판 (9) 의 외주연에 도달한 제 2 처리액은, 당해 외주연으로부터 직경 방향 외방으로 비산하고, 컵부 (4) 의 외측 컵 공간 (48) 으로 유입된다. 외측 컵 공간 (48) 내로 유입된 제 2 처리액은, 제 2 컵 배액 포트 (412) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 통하여, 챔버 (6) 밖의 제 2 배액부 (962) 로 배출된다. 제 2 배액부 (962) 로 배출된 제 2 처리액은 폐기되거나, 혹은 필요에 따라 회수되어 재이용된다.
제 2 처리액에 의한 기판 (9) 의 처리 중에는, 컵부 (4) 내의 기체는, 상기 서술한 바와 같이 제 2 배기 기구 (952) 에 의해 제 2 컵 배기 포트 (422), 제 2 챔버 배기 포트 (632) 및 제 2 덕트 (682) 를 통하여, 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
상부 노즐 (51) 로부터의 제 2 처리액의 공급 개시로부터 소정 시간이 경과하면, 제 2 처리액의 공급이 정지되고, 제 2 처리액에 의한 기판 (9) 의 처리가 종료한다. 기판 (9) 상에 남아 있는 제 2 처리액은, 기판 (9) 의 회전에 의해 기판 (9) 상으로부터 제거되고, 외측 컵 공간 (48), 제 2 컵 배액 포트 (412) 및 제 2 챔버 배액 포트 (612) 를 통하여 제 2 배액부 (962) 로 배출된다.
기판 (9) 상으로부터 제 2 처리액이 제거되면, 기판 (9) 및 기판 유지부 (31) 의 회전이 정지된다 (스텝 S17). 계속해서, 제어부 (10) 에 의해 컵 승강 기구 (7) 가 제어됨으로써, 컵부 (4) 가 제 2 위치로부터 하강하여, 도 7 에 나타내는 제 3 위치로 이동한다 (스텝 S18). 스텝 S18 은, 스텝 S17 과 병행하여 실시되어도 된다. 컵부 (4) 가 제 3 위치에 위치하면, 반출입구 (66) 가 개방되고, 기판 (9) 이 기판 처리 장치 (1) 로부터 반출된다 (스텝 S19).
상기 서술한 바와 같이, 컵부 (4) 가 제 3 위치에 위치하는 상태에서는, 컵 차양부 (46) 의 내주부가, 베이스부 (311) 의 외주부와 직경 방향에 있어서 근접한다. 이로써, 기판 (9) 의 반출 시에, 개방 상태의 반출입구 (66) 로부터 챔버 (6) 밖의 기체가 챔버 (6) 안으로 유입되는 것을 억제할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 복수의 기판 (9) 에 대해, 상기 서술한 스텝 S11 ∼ S19 가 순차 실시되어, 복수의 기판 (9) 에 대한 처리가 순차 실시된다.
이상에 설명한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 제어부 (10) 가 컵 승강 기구 (7) 를 제어함으로써, 컵 배기 포트 (즉, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 일방) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 또는 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 선택적으로 중첩된다. 그리고, 컵 배기 포트가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 접속되는 제 1 배기 기구 (951) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 제 1 챔버 배기 포트 (631) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 또, 컵 배기 포트가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태에서는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 접속되는 제 2 배기 기구 (952) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵 승강 기구 (7) 에 의해 챔버 (6) 내의 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써, 컵부 (4) 로부터의 배기를 실시하는 배기 기구를, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 사이에서 용이하게 전환할 수 있다. 또, 컵부 (4) 로부터의 배기의 송출처 (이하, 「배기처」라고 한다.) 를, 간소한 구조의 기구로 전환할 수 있기 때문에 기판 처리 장치 (1) 의 구조를 간소화할 수 있다. 이로써, 컵부로부터의 배기처를 전환하는 전환기를 챔버의 외부에 설치하는 경우에 비해, 기판 처리 장치 (1) 를 소형화할 수 있다. 또한, 컵부 (4) 로부터의 배기처를 챔버 (6) 내에서 전환함으로써, 챔버 밖의 전환기까지 공통 배관 등에 의해 배기를 유도하는 경우에 비해, 배기 중의 가스상이나 미스트상의 처리액이 혼식하는 것을 억제할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 의 외주연보다 직경 방향 내측에 위치하는 컵 내측벽부 (42) 에 컵 배기 포트 (즉, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422)) 가 형성되고, 챔버 내측벽부 (63) 에 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 가 형성된다. 이로써, 기판 (9) 으로부터 컵부 (4) 로 유입된 처리액이, 컵 배기 포트를 통하여 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 로 진입하는 것을 억제할 수 있다. 또, 컵부 (4) 에서는, 처리액이 유입되는 외측 컵 공간 (48) 및 액 받이 공간 (472) 의 직경 방향 내측에, 컵 저부 (41) 로부터 상방으로 넓어지는 컵 칸막이벽 (43) 이 설치된다. 이로써, 컵부 (4) 로 유입된 처리액이, 컵 배기 포트를 통하여 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 로 진입하는 것을, 한층 더 억제할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 의 처리 시에, 기판 (9) 의 회전 속도를 저하시키고 (혹은, 기판 (9) 의 회전을 정지하고) 기판 (9) 의 상면 (91) 을 처리액에 의해 퍼들하는 경우가 있다. 이때, 기판 (9) 상으로부터 베이스부 (311) 의 상면 상으로 흐른 처리액이, 베이스부 (311) 의 하면으로 돌아 들어갈 (즉, 베이스부 (311) 의 표면을 타고 하면으로 이동할) 가능성이 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 상기 서술한 바와 같이 베이스부 (311) 의 하면으로부터 하방으로 돌출되는 환상의 돌출부 (34) 가 형성되므로, 베이스부 (311) 의 하면으로 돌아 들어간 처리액은, 돌출부 (34) 의 외주면을 타고 컵부 (4) 의 액 받이 공간 (472) 으로 낙하한다. 이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 베이스부 (311) 의 하면으로 돌아 들어간 처리액이, 돌출부 (34) 보다 직경 방향 내측으로 이동하여, 컵 배기 포트를 통하여 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 로 진입하는 것을 방지할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 상이한 위치에 위치한다. 또, 컵 배기 포트는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제 1 컵 배기 포트 (421) 와, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제 2 컵 배기 포트 (422) 를 구비한다. 이로써, 제 1 배기 기구 (951) 에 접속되는 제 1 덕트 (681) 와, 제 2 배기 기구 (952) 에 접속되는 제 2 덕트 (682) 를, 평면으로 볼 때에 있어서 상이한 위치에 배치할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치 (1) 의 구조를 간소화할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵부 (4) 가 제 1 위치에 위치하는 상태 (즉, 컵 배기 포트가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태) 에서는, 처리액 공급부 (5) 로부터 기판 (9) 상에 공급된 처리액이, 컵부 (4) 의 액 받이 공간 (472) 으로 유입되고, 제 1 배액부 (961) 로 배출된다. 또, 컵부 (4) 가 제 2 위치에 위치하는 상태 (즉, 컵 배기 포트가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태) 에서는, 처리액 공급부 (5) 로부터 기판 (9) 상에 공급된 처리액이, 컵부 (4) 의 외측 컵 공간 (48) 으로 유입되고, 제 2 배액부 (962) 로 배출된다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵 승강 기구 (7) 에 의해 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써, 컵부 (4) 로부터의 배기처의 전환과, 컵부 (4) 로부터의 처리액의 송출처 (이하, 「배액처」라고 한다.) 의 전환을, 하나의 기구에 의해 하나의 동작으로 동시에 실시할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치 (1) 의 구조를 간소화할 수 있음과 함께, 기판 처리 장치 (1) 를 소형화할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를, 제 1 위치 또는 제 2 위치로부터 조금 변경함으로써 (즉, 미조정함으로써), 배기 기구의 출력을 변경하는 일 없이, 컵부 (4) 를 통한 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 변경할 수 있다.
구체적으로는, 예를 들어 컵부 (4) 가 도 1 에 나타내는 제 1 위치로부터, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 상하 방향의 크기보다 작은 거리만큼 하강하여, 도 9 에 나타내는 위치에 위치한다. 이로써, 도 9 및 도 10 에 나타내는 바와 같이, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 중복은 유지된 채로, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 중복 면적이 작아진다. 상기 서술한 바와 같이, 제 1 컵 배기 포트 (421) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 접속되는 제 1 배기 기구 (951) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 1 챔버 배기 포트 (631) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 따라서, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 중복 면적이 작아지면, 제 1 배기 기구 (951) 에 의한 컵부 (4) 내의 기체의 배출이 억제되어, 챔버 (6) 안으로부터 챔버 (6) 밖으로의 배기 유량이 감소한다.
또, 예를 들어, 컵부 (4) 가 도 4 에 나타내는 제 2 위치로부터, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 상하 방향의 크기보다 작은 거리만큼 상승함으로써, 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 중복은 유지된 채로, 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 중복 면적이 작아진다. 상기 서술한 바와 같이, 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태에서는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 접속되는 제 2 배기 기구 (952) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 제 2 컵 배기 포트 (422) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 따라서, 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 중복 면적이 작아지면, 제 2 배기 기구 (952) 에 의한 컵부 (4) 내의 기체의 배출이 억제되어, 챔버 (6) 안으로부터 챔버 (6) 밖으로의 배기 유량이 감소한다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵 배기 포트가 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서, 챔버 배기 포트에 접속되는 배기 기구에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 챔버 배기 포트를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 그리고, 컵 승강 기구 (7) 가 제어부 (10) 에 의해 제어되어, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경됨으로써, 배기 기구에 의한 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경된다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를 변경함으로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복을 유지하면서 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써 실현된다. 이로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량의 변경이, 컵부 (4) 를, 컵 배기 포트의 상하 방향의 크기보다 작은 거리만큼 상대 이동시킴으로써 실현된다. 바꾸어 말하면, 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치의 미조정에 의해, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경된다. 이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 배기 유량 변경에 수반하는 컵부 (4) 의 상대 이동 거리를 작게 할 수 있으므로, 기판 처리 장치 (1) 의 상하 방향에 있어서의 대형화를 억제할 수도 있다.
상기 배기 유량의 변경은, 예를 들어 스텝 S16 에 있어서의 제 2 처리액 (예를 들어, 세정액) 에 의한 처리의 종료 후, 기판 (9) 상에 이소프로필알코올 (IPA) 등의 제 3 처리액을 공급하고, 기판 (9) 상에 잔류하는 제 2 처리액을 제 3 처리액으로 치환하는 치환 처리 시에 실시된다. 당해 치환 처리 시에는, 기판 회전 기구 (32) 에 의한 기판 (9) 의 회전 속도를 저하시키거나, 혹은 기판 (9) 의 회전을 정지하고, 기판 (9) 의 상면 (91) 상에 제 3 처리액이 퍼들 (액고임) 된다. 이때, 상기 서술한 바와 같이, 컵부 (4) 가 도 4 에 나타내는 제 2 위치로부터 약간만 상승하고, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 감소한다. 이로써, 기판 (9) 상의 제 3 처리액의 액막 형상을 적절히 유지할 수 있고, 상기 치환 처리를 적절히 실시할 수 있다.
치환 처리가 종료하면, 컵부 (4) 를 제 2 위치로 되돌리고, 기판 (9) 의 회전 속도를 증가시킨다. 이로써, 제 3 처리액이 기판 (9) 상으로부터 주위로 비산하여 제거되어, 기판 (9) 의 건조 처리가 실시된다. 건조 처리 시에는, 상기 서술한 바와 같이 컵부 (4) 가 제 2 위치에 위치하기 때문에, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량은 치환 처리 시보다 증가한다. 그 결과, 기판 (9) 의 건조 처리를 단시간에 완료할 수 있다.
도 11 은, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1a) 를 나타내는 종단면도이다. 도 12 는, 도 11 에 나타내는 컵 내측벽부 (42) 및 챔버 내측벽부 (63) 의 외측면의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다. 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 컵부 (4) 로부터의 배기처의 전환은 실시되지 않고, 컵부 (4) 로부터의 배기 유량의 변경이 실시된다.
도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 의 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 대신에, 1 개의 컵 배기 포트 (423) 가 컵 내측벽부 (42) 에 형성된다. 또, 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 대신에, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 가 챔버 내측벽부 (63) 에 형성된다. 또한, 제 1 덕트 (681) 및 제 2 덕트 (682) 대신에 1 개의 배기 덕트 (683) 가 형성되고, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 대신에 1 개의 배기 기구 (953) 가 설치된다. 이들 점을 제외하고, 기판 처리 장치 (1a) 는, 도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 와 대략 동일한 구조를 갖는다. 이하의 설명에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 각 구성과 대응하는 기판 처리 장치 (1a) 의 구성에 동일 부호를 붙인다.
소챔버 배기 포트 (635) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하고, 대챔버 배기 포트 (634) 와 함께 상하 방향으로 배열된다. 도 11 에 나타내는 예에서는, 소챔버 배기 포트 (635) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 로부터 이간되어 대챔버 배기 포트 (634) 의 하방에 위치한다. 소챔버 배기 포트 (635) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 작다. 당해 단면적은, 각 챔버 배기 포트의 유로에 수직인 단면의 면적이다. 이하의 설명에서는, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 를 합쳐서 「챔버 배기 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 챔버 배기 포트는, 대챔버 배기 포트 (634) 와, 소챔버 배기 포트 (635) 를 구비한다. 대챔버 배기 포트 (634) 와 소챔버 배기 포트 (635) 를 구별할 필요가 없는 경우, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 의 일방을, 「챔버 배기 포트」라고도 부른다.
대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 는, 챔버 내측벽부 (63) 의 직경 방향 내측에서 상하 방향으로 연장되는 배기 덕트 (683) 에 접속되고, 배기 덕트 (683) 는 배기 기구 (953) 에 접속된다. 배기 기구 (953) 는, 챔버 (6) 및 기판 처리 장치 (1a) 의 외부에 배치된다. 기판 처리 장치 (1a) 가 사용되는 동안, 배기 기구 (953) 에 의한 흡인은, 계속적으로 일정한 출력으로 실시되고 있다.
컵 배기 포트 (423) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 배치된다. 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 소챔버 배기 포트 (635) 의 단면적보다 크다. 도 11 및 도 12 에 나타내는 예에서는, 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 크다. 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 작아도 된다.
컵부 (4) 가, 도 11 에 나타내는 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 도 11 및 도 12 에 나타내는 바와 같이, 컵 배기 포트 (423) 는 대챔버 배기 포트 (634) 에 중첩되고, 소챔버 배기 포트 (635) 는 컵 내측벽부 (42) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 그리고, 이 상태에서, 대챔버 배기 포트 (634) 에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 (423), 대챔버 배기 포트 (634) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
컵부 (4) 가 제 1 위치로부터 하강하여 제 2 위치 (도 4 참조) 에 위치하는 상태에서는, 도 13 에 나타내는 바와 같이, 컵 배기 포트 (423) 는 소챔버 배기 포트 (635) 에 중첩되고, 대챔버 배기 포트 (634) 는 컵 내측벽부 (42) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 그리고, 이 상태에서 소챔버 배기 포트 (635) 에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 (423), 소챔버 배기 포트 (635) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
컵 배기 포트 (423) 를 소챔버 배기 포트 (635) 전체와 중첩시킴으로써, 컵 배기 포트 (423) 가 대챔버 배기 포트 (634) 전체와 중첩되는 상태에 비해, 컵 배기 포트 (423) 와 챔버 배기 포트 (즉, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635)) 의 중복 면적이 작아진다. 이로써, 배기 기구 (953) 에 의한 컵부 (4) 내의 기체의 배출이 억제되어, 챔버 (6) 안으로부터 챔버 (6) 밖으로의 배기 유량이 감소한다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 컵 배기 포트 (423) 가 챔버 배기 포트 (즉, 대챔버 배기 포트 (634) 또는 소챔버 배기 포트 (635)) 에 중첩되는 상태에서, 챔버 배기 포트에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 (423) 및 챔버 배기 포트를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 그리고, 컵 승강 기구 (7) 가 제어부 (10) 에 의해 제어되어, 컵 배기 포트 (423) 와 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경됨으로써, 배기 기구 (953) 에 의한 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경된다.
기판 처리 장치 (1a) 에서는, 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를 변경함으로써, 배기 기구 (953) 의 출력을 변경하는 일 없이, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 컵 배기 포트 (423) 와 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 컵 배기 포트 (423) 를 대챔버 배기 포트 (634) 또는 소챔버 배기 포트 (635) 에 선택적으로 중첩시킴으로써 실현된다. 이로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량의 변경 (즉, 배기 유량의 전환) 을 간소화할 수 있다.
도 14 는, 본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1b) 를 나타내는 종단면도이다. 도 15 는, 도 14 에 나타내는 컵 내측벽부 (42) 및 챔버 내측벽부 (63) 의 외측면의 일부를 전개하여 나타내는 도면이다. 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 와 마찬가지로, 컵부 (4) 로부터의 배기처의 전환은 실시되지 않고, 컵부 (4) 로부터의 배기 유량의 변경이 실시된다.
도 14 에 나타내는 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 의 컵 배기 포트 (423) 대신에, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 가 컵 내측벽부 (42) 에 형성된다. 또, 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 도 11 에 나타내는 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 대신에, 1 개의 챔버 배기 포트 (633) 가 챔버 내측벽부 (63) 에 형성된다. 이들 점을 제외하고, 기판 처리 장치 (1b) 는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 와 대략 동일한 구조를 갖는다. 이하의 설명에서는, 기판 처리 장치 (1a) 의 각 구성과 대응하는 기판 처리 장치 (1b) 의 구성에 동일 부호를 붙인다.
소컵 배기 포트 (425) 는, 대컵 배기 포트 (424) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하고, 대컵 배기 포트 (424) 와 함께 상하 방향으로 배열된다. 도 14 에 나타내는 예에서는, 소컵 배기 포트 (425) 는, 대컵 배기 포트 (424) 로부터 이간되어 대컵 배기 포트 (424) 의 상방에 위치한다. 소컵 배기 포트 (425) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 작다. 당해 단면적은, 각 컵 배기 포트의 유로에 수직인 단면의 면적이다. 이하의 설명에서는, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 를 합쳐서 「컵 배기 포트」라고도 부른다. 바꾸어 말하면, 컵 배기 포트는, 대컵 배기 포트 (424) 와, 소컵 배기 포트 (425) 를 구비한다. 대컵 배기 포트 (424) 와 소컵 배기 포트 (425) 를 구별할 필요가 없는 경우, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 의 일방을, 「컵 배기 포트」라고도 부른다.
챔버 배기 포트 (633) 는, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 와 둘레 방향의 동일 위치에 배치된다. 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 소컵 배기 포트 (425) 의 단면적보다 크다. 도 14 및 도 15 에 나타내는 예에서는, 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 크다. 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 작아도 된다. 챔버 배기 포트 (633) 는, 챔버 내측벽부 (63) 의 직경 방향 내측에서 상하 방향으로 연장되는 배기 덕트 (683) 에 접속되고, 배기 덕트 (683) 는 배기 기구 (953) 에 접속된다. 배기 기구 (953) 는, 챔버 (6) 및 기판 처리 장치 (1b) 의 외부에 배치된다. 기판 처리 장치 (1b) 가 사용되는 동안, 배기 기구 (953) 에 의한 흡인은, 계속적으로 일정한 출력으로 실시되고 있다.
컵부 (4) 가, 도 14 에 나타내는 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 도 14 및 도 15 에 나타내는 바와 같이, 대컵 배기 포트 (424) 가 챔버 배기 포트 (633) 에 중첩되고, 소컵 배기 포트 (425) 는 챔버 내측벽부 (63) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 그리고, 이 상태에서, 챔버 배기 포트 (633) 에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 대컵 배기 포트 (424), 챔버 배기 포트 (633) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
컵부 (4) 가 제 1 위치로부터 하강하여 제 2 위치 (도 4 참조) 에 위치하는 상태에서는, 도 16 에 나타내는 바와 같이, 소컵 배기 포트 (425) 가 챔버 배기 포트 (633) 에 중첩되고, 대컵 배기 포트 (424) 는 챔버 내측벽부 (63) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 그리고, 이 상태에서, 챔버 배기 포트 (633) 에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 소컵 배기 포트 (425), 챔버 배기 포트 (633) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
소컵 배기 포트 (425) 전체를 챔버 배기 포트 (633) 와 중첩시킴으로써, 대컵 배기 포트 (424) 전체가 챔버 배기 포트 (633) 와 중첩되는 상태에 비해, 컵 배기 포트 (즉, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425)) 와 챔버 배기 포트 (633) 의 중복 면적이 작아진다. 이로써, 배기 기구 (953) 에 의한 컵부 (4) 내의 기체의 배출이 억제되어, 챔버 (6) 안으로부터 챔버 (6) 밖으로의 배기 유량이 감소한다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 컵 배기 포트 (즉, 대컵 배기 포트 (424) 또는 소컵 배기 포트 (425)) 가 챔버 배기 포트 (633) 에 중첩되는 상태에서, 챔버 배기 포트 (633) 에 접속되는 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4) 내의 기체가 컵 배기 포트 및 챔버 배기 포트 (633) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다. 그리고, 컵 승강 기구 (7) 가 제어부 (10) 에 의해 제어되어, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트 (633) 의 중복 면적이 변경됨으로써, 배기 기구 (953) 에 의한 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경된다.
기판 처리 장치 (1b) 에서는, 컵부 (4) 의 상하 방향의 위치를 변경함으로써, 배기 기구 (953) 의 출력을 변경하는 일 없이, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트 (633) 의 중복 면적의 변경이, 대컵 배기 포트 (424) 또는 소컵 배기 포트 (425) 를 챔버 배기 포트 (633) 에 선택적으로 중첩시킴으로써 실현된다. 이로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량의 변경 (즉, 배기 유량의 전환) 을 간소화할 수 있다.
도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 에서는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 와 마찬가지로, 컵 배기 포트가 대챔버 배기 포트 또는 소챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩됨으로써, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경되어도 된다.
예를 들어, 도 17 에 나타내는 바와 같이, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 하방에 있어서, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 보다 단면적이 작은 다른 하나의 제 1 챔버 배기 포트 (631a) 가 챔버 내측벽부 (63) 에 형성된다. 제 1 챔버 배기 포트 (631a) 도 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 마찬가지로, 제 1 배기 기구 (951)(도 1 참조) 에 접속된다. 이 경우, 제 1 챔버 배기 포트 (631, 631a) 는 각각 대챔버 배기 포트 및 소챔버 배기 포트에 상당한다. 그리고, 제 1 컵 배기 포트 (421) 가, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 또는 제 1 챔버 배기 포트 (631a) 에 선택적으로 중첩됨으로써, 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 제 1 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 용이하게 변경된다.
또, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 하방에 있어서, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 보다 단면적이 작은 다른 하나의 제 2 챔버 배기 포트 (632a) 가 챔버 내측벽부 (63) 에 형성된다. 제 2 챔버 배기 포트 (632a) 도 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 마찬가지로, 제 2 배기 기구 (952)(도 1 참조) 에 접속된다. 이 경우, 제 2 챔버 배기 포트 (632, 632a) 는 각각 대챔버 배기 포트 및 소챔버 배기 포트에 상당한다. 그리고, 제 2 컵 배기 포트 (422) 가, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 또는 제 2 챔버 배기 포트 (632a) 에 선택적으로 중첩됨으로써, 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 제 2 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 용이하게 변경된다.
도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 에서는, 도 14 에 나타내는 기판 처리 장치 (1b) 와 마찬가지로, 대컵 배기 포트 또는 소컵 배기 포트가 챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩됨으로써, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 변경되어도 된다.
예를 들어, 도 18 에 나타내는 바와 같이, 제 1 컵 배기 포트 (421) 의 상방에 있어서, 제 1 컵 배기 포트 (421) 보다 단면적이 작은 다른 하나의 제 1 컵 배기 포트 (421a) 가 컵 내측벽부 (42) 에 형성된다. 이 경우, 제 1 컵 배기 포트 (421, 421a) 는 각각 대컵 배기 포트 및 소컵 배기 포트에 상당한다. 그리고, 제 1 컵 배기 포트 (421) 또는 제 1 컵 배기 포트 (421a) 가, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 선택적으로 중첩됨으로써, 제 1 컵 배기 포트와 제 1 챔버 배기 포트 (631) 의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 용이하게 변경된다.
또, 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 상방에 있어서, 제 2 컵 배기 포트 (422) 보다 단면적이 작은 다른 하나의 제 2 컵 배기 포트 (422a) 가 컵 내측벽부 (42) 에 형성된다. 이 경우, 제 2 컵 배기 포트 (422, 422a) 는 각각 대컵 배기 포트 및 소컵 배기 포트에 상당한다. 그리고, 제 2 컵 배기 포트 (422) 또는 제 2 컵 배기 포트 (422a) 가, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 선택적으로 중첩됨으로써, 제 2 컵 배기 포트와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 중복 면적이 변경되어, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량이 용이하게 변경된다.
도 19 는, 본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1c) 를 나타내는 종단면도이다. 기판 처리 장치 (1c) 에서는, 도 1 에 나타내는 컵부 (4) 와는 형상이 상이한 컵부 (4a) 가 챔버 (6) 내에 형성된다. 컵부 (4a) 에서는, 도 1 에 나타내는 컵부 (4) 의 컵 중간벽부 (44) 가 생략되고, 제 1 컵 배액 포트 (411) 및 제 2 컵 배액 포트 (412) 대신에 1 개의 컵 배액 포트 (413) 가 형성된다. 컵부 (4a) 로 유입된 액체는, 컵 배액 포트 (413) 및 챔버 배액 포트 (613) 를 통하여 배액부 (963) 로 배출된다.
또, 컵부 (4a) 에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 컵 외측벽부 (45) 에 형성된다. 컵부 (4a) 에서는, 컵 외측벽부 (45) 의 상단부로부터 직경 방향 내방으로 넓어지고, 또한 하방으로 넓어져 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 와 직경 방향으로 각각 대향하는 커버부 (49) 가 설치되는 것이 바람직하다. 커버부 (49) 는, 또한 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 둘레 방향의 양측을 덮는 것이 바람직하다. 커버부 (49) 가 설치됨으로써, 기판 (9) 으로부터 비산한 처리액이 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 로 진입하는 것을 억제할 수 있다. 커버부 (49) 는, 후술하는 기판 처리 장치 (1d, 1e) 에 있어서도 설치되는 것이 바람직하다.
또한, 챔버 (6) 의 일부인 제 1 덕트 (681) 및 제 2 덕트 (682) 가, 컵 외측벽부 (45) 의 외측 (즉, 직경 방향 외측) 에 형성된다. 제 1 덕트 (681) 의 측벽부에는, 컵 외측벽부 (45) 와 직경 방향으로 대향하는 제 1 챔버 배기 포트 (631) 가 형성되고, 제 2 덕트 (682) 의 측벽부에는, 컵 외측벽부 (45) 와 직경 방향으로 대향하는 제 2 챔버 배기 포트 (632) 가 형성된다. 이들 점을 제외하고, 기판 처리 장치 (1c) 는, 도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 와 대략 동일한 구조를 갖는다. 이하의 설명에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 각 구성과 대응하는 기판 처리 장치 (1c) 의 구성에 동일 부호를 붙인다.
도 19 에 나타내는 예에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 상하 방향의 대략 동일한 위치에 위치한다. 또, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다.
도 19 에 나타내는 예에서는, 제 2 컵 배기 포트 (422) 의 상하 방향의 위치는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 의 상하 방향의 위치와 상이하다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 보다 상방에 위치한다. 또, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 둘레 방향에 있어서 제 1 컵 배기 포트 (421) 와 상이한 위치에 위치한다. 상세하게는, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 로부터 둘레 방향으로 180 도 어긋난 위치 (즉, 중심축 J1 을 사이에 두고 직경 방향의 반대측의 위치) 에 위치한다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치한다.
도 19 에 나타내는 상태에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩된다. 또, 제 2 컵 배기 포트 (422) 는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 보다 상방에서, 제 2 덕트 (682) 의 측벽부에 의해 실질적으로 폐색된다. 제 1 컵 배기 포트 (421) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 중첩되는 상태에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 에 접속되는 제 1 배기 기구 (951) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 제 1 컵 배기 포트 (421), 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 1 덕트 (681) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
또, 컵부 (4a) 가, 컵 승강 기구 (7) 에 의해 도 19 에 나타내는 위치로부터 하강하여 도 20 에 나타내는 위치에 위치하면, 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩된다. 또, 제 1 컵 배기 포트 (421) 는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 보다 하방에서, 제 1 덕트 (681) 의 측벽부에 의해 실질적으로 폐색된다. 제 2 컵 배기 포트 (422) 가 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 중첩되는 상태에서는, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 접속되는 제 2 배기 기구 (952) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 제 2 컵 배기 포트 (422), 제 2 챔버 배기 포트 (632) 및 제 2 덕트 (682) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
기판 처리 장치 (1c) 에서는, 도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 와 마찬가지로, 컵 승강 기구 (7) 에 의해, 챔버 (6) 를 개방하는 일 없이 챔버 (6) 내의 컵부 (4a) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써, 컵부 (4a) 로부터의 배기를 실시하는 배기 기구를, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 사이에서 용이하게 전환할 수 있다. 또, 컵부 (4a) 로부터의 배기처를, 간소한 구조의 기구로 전환할 수 있으므로, 기판 처리 장치 (1c) 의 구조를 간소화할 수 있다.
도 21 은, 본 발명의 제 5 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1d) 를 나타내는 종단면도이다. 기판 처리 장치 (1d) 에서는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 와 마찬가지로, 컵부 (4a) 로부터의 배기처의 전환은 실시되지 않고, 컵부 (4a) 로부터의 배기 유량의 변경이 실시된다.
도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1d) 에서는, 도 19 에 나타내는 기판 처리 장치 (1c) 의 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 대신에, 1 개의 컵 배기 포트 (423) 가 컵 외측벽부 (45) 에 형성된다. 또, 제 1 덕트 (681) 및 제 2 덕트 (682) 대신에 1 개의 배기 덕트 (683) 가 형성되고, 제 1 배기 기구 (951) 및 제 2 배기 기구 (952) 대신에 1 개의 배기 기구 (953) 가 설치된다. 또한, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 대신에, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 가, 배기 덕트 (683) 의 측벽부에 형성된다. 이들 점을 제외하고, 기판 처리 장치 (1d) 는, 도 19 에 나타내는 기판 처리 장치 (1c) 와 대략 동일한 구조를 갖는다. 이하의 설명에서는, 기판 처리 장치 (1c) 의 각 구성과 대응하는 기판 처리 장치 (1d) 의 구성에 동일 부호를 붙인다.
소챔버 배기 포트 (635) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하고, 대챔버 배기 포트 (634) 와 함께 상하 방향으로 배열된다. 도 21 에 나타내는 예에서는, 소챔버 배기 포트 (635) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 로부터 이간되어 대챔버 배기 포트 (634) 의 하방에 위치한다. 소챔버 배기 포트 (635) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 작다. 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 는, 컵 외측벽부 (45) 의 직경 방향 외측에서 상하 방향으로 연장되는 배기 덕트 (683) 를 통하여 배기 기구 (953) 에 접속된다.
컵 배기 포트 (423) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 배치된다. 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 소챔버 배기 포트 (635) 의 단면적보다 크다. 도 21 에 나타내는 예에서는, 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 크다. 컵 배기 포트 (423) 의 단면적은, 대챔버 배기 포트 (634) 의 단면적보다 작아도 된다.
도 21 에 나타내는 상태에서는, 컵 배기 포트 (423) 는, 대챔버 배기 포트 (634) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩된다. 또, 소챔버 배기 포트 (635) 는, 컵 외측벽부 (45) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 이 상태에서, 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 컵 배기 포트 (423), 대챔버 배기 포트 (634) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
또, 컵부 (4a) 가, 컵 승강 기구 (7) 에 의해 도 21 에 나타내는 위치로부터 하강하여, 컵 배기 포트 (423) 가 소챔버 배기 포트 (635) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩되면, 대챔버 배기 포트 (634) 는, 컵 외측벽부 (45) 에 의해 실질적으로 폐색된다. 이 상태에서, 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 컵 배기 포트 (423), 소챔버 배기 포트 (635) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
기판 처리 장치 (1d) 에서는, 도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 와 마찬가지로, 컵부 (4a) 의 상하 방향의 위치를 변경함으로써, 배기 기구 (953) 의 출력을 변경하는 일 없이, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 기판 처리 장치 (1d) 에서는, 컵 배기 포트 (423) 와 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 컵 배기 포트 (423) 를 대챔버 배기 포트 (634) 또는 소챔버 배기 포트 (635) 에 선택적으로 중첩시킴으로써 실현된다. 이로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량의 변경 (즉, 배기 유량의 전환) 을 간소화할 수 있다.
도 22 는, 본 발명의 제 6 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1e) 를 나타내는 종단면도이다. 기판 처리 장치 (1e) 에서는, 도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1d) 와 마찬가지로, 컵부 (4a) 로부터의 배기처의 전환은 실시되지 않고, 컵부 (4a) 로부터의 배기 유량의 변경이 실시된다.
도 22 에 나타내는 기판 처리 장치 (1e) 에서는, 도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1d) 의 컵 배기 포트 (423) 대신에, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 가 컵 외측벽부 (45) 에 형성된다. 또, 기판 처리 장치 (1e) 에서는, 도 21 에 나타내는 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 대신에, 1 개의 챔버 배기 포트 (633) 가 배기 덕트 (683) 의 측벽부에 형성된다. 이들 점을 제외하고, 기판 처리 장치 (1e) 는, 도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1d) 와 대략 동일한 구조를 갖는다. 이하의 설명에서는, 기판 처리 장치 (1d) 의 각 구성과 대응하는 기판 처리 장치 (1e) 의 구성에 동일 부호를 붙인다.
소컵 배기 포트 (425) 는, 대컵 배기 포트 (424) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하고, 대컵 배기 포트 (424) 와 함께 상하 방향으로 배열된다. 도 22 에 나타내는 예에서는, 소컵 배기 포트 (425) 는, 대컵 배기 포트 (424) 로부터 이간되어 대컵 배기 포트 (424) 의 상방에 위치한다. 소컵 배기 포트 (425) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 작다.
챔버 배기 포트 (633) 는, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 와 둘레 방향의 동일한 위치에 배치된다. 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 소컵 배기 포트 (425) 의 단면적보다 크다. 도 22 에 나타내는 예에서는, 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 크다. 챔버 배기 포트 (633) 의 단면적은, 대컵 배기 포트 (424) 의 단면적보다 작아도 된다. 챔버 배기 포트 (633) 는, 컵 외측벽부 (45) 의 직경 방향 외측에서 상하 방향으로 연장되는 배기 덕트 (683) 를 통하여 배기 기구 (953) 에 접속된다.
도 22 에 나타내는 상태에서는, 대컵 배기 포트 (424) 는, 챔버 배기 포트 (633) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩된다. 또, 소컵 배기 포트 (425) 는, 배기 덕트 (683) 의 측벽부에 의해 실질적으로 폐색된다. 이 상태에서, 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 대컵 배기 포트 (424), 챔버 배기 포트 (633) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
또, 컵부 (4a) 가, 컵 승강 기구 (7) 에 의해 도 22 에 나타내는 위치로부터 하강하여, 소컵 배기 포트 (425) 가 챔버 배기 포트 (633) 와 직경 방향으로 대향하여 중첩되면, 대컵 배기 포트 (424) 는, 배기 덕트 (683) 의 측벽부에 의해 실질적으로 폐색된다. 이 상태에서, 배기 기구 (953) 에 의해, 컵부 (4a) 내의 기체가, 소컵 배기 포트 (425), 챔버 배기 포트 (633) 및 배기 덕트 (683) 를 통하여 챔버 (6) 밖으로 배출된다.
기판 처리 장치 (1e) 에서는, 도 21 에 나타내는 기판 처리 장치 (1d) 와 마찬가지로, 컵부 (4a) 의 상하 방향의 위치를 변경함으로써, 배기 기구 (953) 의 출력을 변경하는 일 없이, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 기판 처리 장치 (1e) 에서는, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트 (633) 의 중복 면적의 변경이, 대컵 배기 포트 (424) 또는 소컵 배기 포트 (425) 를 챔버 배기 포트 (633) 에 선택적으로 중첩시킴으로써 실현된다. 이로써, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량의 변경 (즉, 배기 유량의 전환) 을 간소화할 수 있다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1, 1a ∼ 1e) 에서는, 여러 가지 변경이 가능하다.
도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 에서는, 반드시 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 상하 방향의 대략 동일한 위치에 위치할 필요는 없다. 예를 들어, 도 23 에 나타내는 바와 같이, 제 2 챔버 배기 포트 (632) 가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 보다 하방에서 챔버 내측벽부 (63) 에 형성되어도 된다. 도 23 에 나타내는 예에서는, 제 1 컵 배기 포트 (421) 및 제 2 컵 배기 포트 (422) 가, 상하 방향의 대략 동일한 위치에 위치한다.
도 11 에 나타내는 기판 처리 장치 (1a) 에서는, 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 대신에 1 개의 챔버 배기 포트가 형성되고, 당해 챔버 배기 포트와 컵 배기 포트 (423) 의 중복을 유지하면서 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써, 챔버 배기 포트와 컵 배기 포트 (423) 의 중복 면적이 변경되어도 된다. 이 경우도, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 배기 유량 변경에 수반하는 컵부 (4) 의 상대 이동 거리를 작게 할 수 있으므로, 기판 처리 장치 (1a) 의 상하 방향에 있어서의 대형화를 억제할 수도 있다.
도 14 에 나타내는 기판 처리 장치 (1b) 에서는, 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 대신에 1 개의 컵 배기 포트가 형성되고, 당해 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트 (633) 의 중복을 유지하면서 컵부 (4) 를 기판 유지부 (31) 에 대해 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써, 챔버 배기 포트 (633) 와 컵 배기 포트의 중복 면적이 변경되어도 된다. 이 경우도, 챔버 (6) 로부터의 배기 유량을 용이하게 변경할 수 있다. 또, 배기 유량 변경에 수반하는 컵부 (4) 의 상대 이동 거리를 작게 할 수 있으므로, 기판 처리 장치 (1b) 의 상하 방향에 있어서의 대형화를 억제할 수도 있다.
도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 에서는, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 는, 둘레 방향에 있어서 180 도 어긋난 위치에 위치할 필요는 없다. 제 1 챔버 배기 포트 (631) 와 제 2 챔버 배기 포트 (632) 의 둘레 방향에 있어서의 위치 관계는, 적절히 변경되어도 된다. 예를 들어, 제 1 챔버 배기 포트 (631) 및 제 2 챔버 배기 포트 (632) 가 둘레 방향의 동일한 위치에서 상하 방향으로 나란히 배치되고, 제 1 덕트 (681) 및 제 2 덕트 (682) 에 각각 접속되어도 된다. 이 경우, 컵 내측벽부 (42) 에는 1 개의 컵 배기 포트가 형성되고, 당해 컵 배기 포트가 제 1 챔버 배기 포트 (631) 또는 제 2 챔버 배기 포트 (632) 에 선택적으로 중첩됨으로써, 배기처의 전환이 용이하게 실시된다. 도 19 에 나타내는 기판 처리 장치 (1c) 에 있어서도 동일하다.
도 1 에 나타내는 기판 처리 장치 (1) 에서는, 컵 차양부 (46) 는, 반드시 경사부일 필요는 없고, 예를 들어 컵 외측벽부 (45) 의 상단부로부터 대략 수평으로 직경 방향 내방으로 넓어져도 된다. 기판 처리 장치 (1a ∼ 1e) 에 있어서도 동일하다.
제 1 컵 배기 포트 (421), 제 2 컵 배기 포트 (422), 컵 배기 포트 (423), 대컵 배기 포트 (424) 및 소컵 배기 포트 (425) 의 단면 형상은, 예를 들어 각 변이 상하 방향으로 평행 또는 수직인 대략 사각형이어도 된다. 제 1 챔버 배기 포트 (631), 제 2 챔버 배기 포트 (632), 챔버 배기 포트 (633), 대챔버 배기 포트 (634) 및 소챔버 배기 포트 (635) 의 단면 형상도, 마찬가지로 각 변이 상하 방향으로 평행 또는 수직인 대략 사각형이어도 된다. 이와 같이, 각 배기 포트의 단면 형상이 대략 사각형이면, 컵부 (4, 4a) 의 상하 위치를 미조정하여 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복을 유지하면서 중복 면적을 변경하는 경우, 컵부 (4, 4a) 의 상하 방향의 이동 거리에 따라 중복 면적이 선형으로 변화한다. 이 때문에, 컵 배기 포트와 챔버 배기 포트의 중복 면적을, 용이하게 원하는 면적으로 할 수 있다.
기판 처리 장치 (1, 1a ∼ 1e) 에서는, 컵 승강 기구 (7) 의 구조는, 여러 가지로 변경되어도 된다. 또, 기판 (9) 에 대한 처리에 있어서, 하부 노즐 (52) 로부터 기판 (9) 의 하면으로의 처리액의 공급이 실시되어도 된다.
기판 처리 장치 (1, 1a ∼ 1e) 에서는, 기판 (9) 으로부터 컵부로 유입된 처리액은, 공통 배관에 의해 챔버 밖 또한 하우징 밖으로 배출되고, 하우징 밖에 있어서 밸브 등에 의해 배출처가 전환되어도 된다. 이 경우라도, 처리액용의 밸브나 배관은 비교적 소형이기 때문에, 기판 처리 장치 (1, 1a ∼ 1e) 의 대형화는 억제된다.
상기 서술한 기판 처리 장치에서는, 반도체 기판 이외에, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이, FED (field emission display) 등의 표시 장치에 사용되는 유리 기판의 처리에 이용되어도 된다. 혹은, 상기 서술한 기판 처리 장치는, 광 디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 및 태양전지용 기판 등의 처리에 이용되어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 기술의 설명은 예시적이고 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 말할 수 있다.
1, 1a ∼ 1e : 기판 처리 장치
4, 4a : 컵부
5 : 처리액 공급부
6 : 챔버
7 : 컵 승강 기구
9 : 기판
10 : 제어부
31 : 기판 유지부
34 : 돌출부
41 : 컵 저부
42 : 컵 내측벽부
44 : 컵 중간벽부
45 : 컵 외측벽부
46 : 컵 차양부
47 : 내측 컵 공간
48 : 외측 컵 공간
61 : 챔버 저부
311 : 베이스부
411 : 제 1 컵 배액 포트
412 : 제 2 컵 배액 포트
413 : 컵 배액 포트
421, 421a : 제 1 컵 배기 포트
422, 422a : 제 2 컵 배기 포트
423 : 컵 배기 포트
424 : 대컵 배기 포트
425 : 소컵 배기 포트
611 : 제 1 챔버 배액 포트
612 : 제 2 챔버 배액 포트
613 : 챔버 배액 포트
631, 631a : 제 1 챔버 배기 포트
632, 632a : 제 2 챔버 배기 포트
633 : 챔버 배기 포트
634 : 대챔버 배기 포트
635 : 소챔버 배기 포트
951 : 제 1 배기 기구
952 : 제 2 배기 기구
953 : 배기 기구
961 : 제 1 배액부
962 : 제 2 배액부
963 : 배액부
J1 : 중심축
S11 ∼ S19 : 스텝

Claims (11)

  1. 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,
    수평 상태로 기판을 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 상에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와,
    상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하는 환상이고, 상기 기판으로부터의 처리액을 받는 컵부와,
    상기 기판 유지부 및 상기 컵부를 내부에 수용하는 챔버와,
    상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 컵 승강 기구와,
    상기 컵 승강 기구에 의해 상기 컵부를 상대 이동시켜, 상기 컵부의 상기 기판 유지부에 대한 상대 위치를 결정하는 제어부
    를 구비하고,
    상기 컵부가,
    원환상의 컵 저부와,
    상기 컵 저부의 내주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 내측벽부와,
    상기 컵 저부의 외주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 외측벽부
    를 구비하고,
    상기 컵 내측벽부 또는 상기 컵 외측벽부에 컵 배기 포트가 형성되고,
    상기 컵 내측벽부의 내측에서 상기 컵 내측벽부와 대향하거나, 또는 상기 컵 외측벽부의 외측에서 상기 컵 외측벽부와 대향하는 제 1 챔버 배기 포트 및 제 2 챔버 배기 포트가 형성되고,
    상기 제어부가 상기 컵 승강 기구를 제어함으로써, 상기 컵 배기 포트가 상기 제 1 챔버 배기 포트 또는 상기 제 2 챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩되고,
    상기 컵 배기 포트가 상기 제 1 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 제 1 챔버 배기 포트에 접속되는 제 1 배기 기구에 의해, 상기 컵부 내의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 제 1 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출되고,
    상기 컵 배기 포트가 상기 제 2 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 제 2 챔버 배기 포트에 접속되는 제 2 배기 기구에 의해, 상기 컵부 내의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 제 2 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출되는, 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 챔버 배기 포트가, 둘레 방향에 있어서 상기 제 1 챔버 배기 포트와 상이한 위치에 위치하고,
    상기 컵 배기 포트가,
    상기 제 1 챔버 배기 포트와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제 1 컵 배기 포트와,
    상기 제 2 챔버 배기 포트와 둘레 방향의 동일한 위치에 위치하는 제 2 컵 배기 포트
    를 구비하는, 기판 처리 장치.
  3. 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,
    수평 상태로 기판을 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 상에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와,
    상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하는 환상이고, 상기 기판으로부터의 처리액을 받는 컵부와,
    상기 기판 유지부 및 상기 컵부를 내부에 수용하는 챔버와,
    상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 컵 승강 기구와,
    상기 컵 승강 기구에 의해 상기 컵부를 상대 이동시켜, 상기 컵부의 상기 기판 유지부에 대한 상대 위치를 결정하는 제어부
    를 구비하고,
    상기 컵부가,
    원환상의 컵 저부와,
    상기 컵 저부의 내주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 내측벽부와,
    상기 컵 저부의 외주부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 외측벽부
    를 구비하고,
    상기 컵 내측벽부 또는 상기 컵 외측벽부에 컵 배기 포트가 형성되고,
    상기 컵 내측벽부의 내측에서 상기 컵 내측벽부와 대향하거나, 또는 상기 컵 외측벽부의 외측에서 상기 컵 외측벽부와 대향하는 챔버 배기 포트가 형성되고,
    상기 컵 배기 포트가 상기 챔버 배기 포트에 중첩되는 상태에서는, 상기 챔버 배기 포트에 접속되는 배기 기구에 의해, 상기 컵부 내의 기체가 상기 컵 배기 포트 및 상기 챔버 배기 포트를 통하여 상기 챔버 밖으로 배출되고,
    상기 컵 승강 기구가 상기 제어부에 의해 제어되어, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적이 변경됨으로써, 상기 배기 기구에 의한 상기 챔버로부터의 배기 유량이 변경되는, 기판 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 챔버 배기 포트가,
    대챔버 배기 포트와,
    상기 대챔버 배기 포트와 함께 상기 상하 방향으로 배열되고, 상기 대챔버 배기 포트보다 단면적이 작은 소챔버 배기 포트
    를 구비하고,
    상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 컵 배기 포트를, 상기 대챔버 배기 포트 또는 상기 소챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩시키는 것인, 기판 처리 장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 컵 배기 포트가,
    대컵 배기 포트와,
    상기 대컵 배기 포트와 함께 상기 상하 방향으로 배열되고, 상기 대컵 배기 포트보다 단면적이 작은 소컵 배기 포트
    를 구비하고,
    상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 대컵 배기 포트 또는 상기 소컵 배기 포트를, 상기 챔버 배기 포트에 선택적으로 중첩시키는 것인, 기판 처리 장치.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복 면적의 변경이, 상기 컵 배기 포트와 상기 챔버 배기 포트의 중복을 유지하면서 상기 컵부를 상기 기판 유지부에 대해 상기 상하 방향으로 상대 이동시킴으로써 실현되는, 기판 처리 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 컵 배기 포트가, 상기 컵 내측벽부에 형성되는, 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 유지부가, 상기 중심축을 중심으로 하는 원판상의 유지부 본체를 구비하고,
    상기 컵부가, 상기 컵 외측벽부의 상단부로부터 내방으로 넓어지는 원환상의 컵 차양부를 추가로 구비하고,
    기판의 반출입 시에, 상기 컵 승강 기구가 상기 제어부에 의해 제어되어, 상기 유지부 본체가 상기 컵 차양부의 내주부와 상기 상하 방향에 있어서 동일한 위치에 상기 컵 차양부의 상기 내주부에 근접하여 위치하는, 기판 처리 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 컵부가, 상기 컵 내측벽부와 상기 컵 외측벽부 사이에서 상기 컵 저부로부터 상방으로 넓어지는 통상의 컵 중간벽부를 추가로 구비하고,
    상기 컵 저부에,
    상기 칸막이벽보다 내측에 위치하는 제 1 컵 배액 포트와,
    상기 칸막이벽보다 외측에 위치하는 제 2 컵 배액 포트
    가 형성되고,
    상기 제 1 컵 배액 포트는, 상기 챔버의 챔버 저부에 형성된 제 1 챔버 배액 포트를 통하여 상기 챔버 밖의 제 1 배액부에 접속되고,
    상기 제 2 컵 배액 포트는, 상기 챔버 저부에 형성된 제 2 챔버 배액 포트를 통하여 상기 챔버 밖의 제 2 배액부에 접속되고,
    상기 컵 승강 기구에 의해, 상기 컵부가, 상기 기판 유지부를 기준으로 하는 제 1 위치와 상기 제 1 위치보다 하방인 제 2 위치 사이를 이동하고,
    상기 컵부가 상기 제 1 위치에 위치하는 상태에서는, 상기 처리액 공급부로부터 상기 기판 상에 공급된 처리액이, 상기 컵부의 상기 컵 내측벽부와 상기 컵 중간벽부 사이의 공간으로 유입되고, 상기 제 1 배액부로 배출되고,
    상기 컵부가 상기 제 2 위치에 위치하는 상태에서는, 상기 처리액 공급부로부터 상기 기판 상에 공급된 처리액이, 상기 컵부의 상기 컵 중간벽부와 상기 컵 외측벽부 사이의 공간으로 유입되고, 상기 제 2 배액부로 배출되는, 기판 처리 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 유지부가, 상기 중심축을 중심으로 하는 원판상의 유지부 본체를 구비하고,
    상기 유지부 본체가, 상기 컵부의 상방에서 상기 컵부와 상기 상하 방향으로 대향하고,
    상기 유지부 본체의 하면으로부터 하방으로 돌출됨과 함께 상기 중심축의 주위를 둘러싸는 환상의 돌출부가 형성되는, 기판 처리 장치.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 챔버가, 상기 기판 유지부 및 상기 컵부가 배치되는 밀폐 공간을 형성하는 밀폐 공간 형성부인, 기판 처리 장치.
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