KR20170078139A - 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents

아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20170078139A
KR20170078139A KR1020150188342A KR20150188342A KR20170078139A KR 20170078139 A KR20170078139 A KR 20170078139A KR 1020150188342 A KR1020150188342 A KR 1020150188342A KR 20150188342 A KR20150188342 A KR 20150188342A KR 20170078139 A KR20170078139 A KR 20170078139A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
alkyl
formula
aryl
polythiol compound
Prior art date
Application number
KR1020150188342A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102001488B1 (ko
Inventor
심종민
신정환
김상묵
서현명
Original Assignee
에스케이씨 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이씨 주식회사 filed Critical 에스케이씨 주식회사
Priority to KR1020150188342A priority Critical patent/KR102001488B1/ko
Publication of KR20170078139A publication Critical patent/KR20170078139A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102001488B1 publication Critical patent/KR102001488B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/83—Chemically modified polymers
    • C08G18/834—Chemically modified polymers by compounds containing a thiol group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/02—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/02—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/03—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L75/00—Compositions of polyureas or polyurethanes; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L75/04—Polyurethanes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

하나 이상의 알킬 등의 치환기가 도입된 2-머캅토에탄올을 이용하여 합성되어, 분자 구조에 분지된 알킬 등의 치환기를 갖는 폴리티올 화합물은, 폴리티오우레탄으로 중합시에 미세결정 형성을 억제하고 무정 영역을 확장하여, 이로부터 얻은 성형품의 광투과율와 내충격성이 개선될 수 있다. 또한, 상기 폴리티올 화합물은 굴절율 및 아베수도 우수하므로, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료의 제조에 유용하다.

Description

아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법{POLYTHIOL COMPOUND FOR OPTICAL MATERIAL HAVING IMPROVED ABBE'S NUMBER AND IMPACT RESISTANCE, AND PREPARATION METHOD THEREOF}
본 발명은 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 폴리티올 화합물을 포함하는 중합성 조성물, 이로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물 및 광학 재료에 관한 것이다.
플라스틱 광학 재료는 유리와 같은 무기 재료로 이루어지는 광학 재료에 비해 경량이면서 쉽게 깨어지지 않으며 염색성이 우수하기 때문에, 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로 널리 이용되고 있다. 최근에는 한층 더 광학 재료의 고성능화가 요구되고 있으며, 구체적으로 고투명성, 고굴절율, 고아베수, 저비중, 고내열성, 고내충격성 등이 요구되고 있다.
폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 사용하여 제조된 폴리티오우레탄계 광학 재료는, 광학 특성 및 기계적 물성이 뛰어나기 때문에 광학렌즈 소재로 널리 사용되고 있다. 그렇지만 기존의 폴리티올 화합물을 이용하여 제조된 폴리티오우레탄계 광학 재료는 티올 화합물의 구조에 따라 렌즈 물성이 낮아지는 문제가 있었다.
특히, 종래에 황을 부가하기 위한 물질로서 주로 2-머캅토에탄올을 사용하여 티올 화합물을 합성한 뒤 이로부터 폴리티오우레탄을 중합하고 있으나, 2-머캅토에탄올의 구조적 특징으로 인해 미세 결정이 형성되어, 이와 같은 폴리티오우레탄은 광투과율과 내충격성 면에서 저조한 문제가 있다.
따라서, 광학 재료의 광투과율과 내충격성을 향상시키기 위해서, 2-머캅토에탄올 외의 다른 물질을 이용하여 합성된 폴리티올 화합물의 개발이 필요하다.
대한민국 등록특허공보 10-0055977호
본 발명은 2-머캅토에탄올 외의 다른 물질을 이용하여 합성되어, 광학 재료의 광투과율과 내충격성을 향상시킬 수 있는 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 하기 화학식 A로 표시되는 그룹을 2개 이상 갖는, 폴리티올 화합물을 제공한다:
[화학식 A]
Figure pat00001
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
본 발명은 또한 (1) 하기 화학식 4의 화합물을 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물과 반응시켜, 황을 함유하는 폴리올 화합물을 제조하는 단계; 및 (2) 상기 황을 함유하는 폴리올 화합물을 티오우레아(thiourea)와 반응 및 가수분해시키는 단계를 포함하는, 폴리티올 화합물의 제조방법을 제공한다:
[화학식 4]
Figure pat00002
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
본 발명은 또한 상기 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물을 포함하는, 중합성 조성물을 제공한다.
본 발명은 또한 상기 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다.
본 발명은 또한 상기 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료를 제공한다.
상기 화학식 A의 그룹을 갖는 폴리티올 화합물은 하나 이상의 알킬 등의 치환기가 도입된 2-머캅토에탄올을 이용하여 합성되었기 때문에, 분자 내에 분지된 알킬 등의 치환기를 갖는다. 이에 따라 상기 폴리티올 화합물은 폴리티오우레탄으로 중합시에 미세결정 형성을 억제하고 무정 영역을 확장하여, 이로부터 얻은 성형품의 광투과율과 내충격성이 개선될 수 있다. 또한, 상기 폴리티올 화합물은 굴절율 및 아베수도 우수하므로, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료의 제조에 유용하다.
이하 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.
상기 폴리티올 화합물은 하기 화학식 A로 표시되는 그룹을 2개 이상 갖는다:
[화학식 A]
Figure pat00003
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 A에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소일 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물과, 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물과의 반응에 의해서 얻어진 폴리올 화합물을, 티오우레아와 반응 및 가수분해시켜 형성될 수 있다:
[화학식 4]
Figure pat00004
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
일 구현예에 따르면, 상기 폴리티올 화합물은 하기 화학식 1로 표시된다:
[화학식 1]
Figure pat00005
상기 식에서, RA 및 RB는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고; R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 1에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소일 수 있다. 또한, 상기 RA가 머캅토C1-3알킬이고, 상기 RB가 수소일 수 있다.
보다 구체적인 일례에 따르면, 상기 폴리티올 화합물은 하기 화학식 1a로 표시될 수 있다:
[화학식 1a]
Figure pat00006
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 1a에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 R1이 메틸이고, 상기 R2가 수소일 수 있다.
상기 폴리티올 화합물은 폴리티오우레탄계 화합물의 제조에 사용될 수 있다. 또한, 폴리티올 화합물은 폴리티오우레탄계 광학 재료의 제조에 사용될 수 있다.
상기 폴리티올 화합물의 제조방법은 (1) 하기 화학식 4의 화합물을 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물과 반응시켜, 황을 함유하는 폴리올 화합물을 제조하는 단계; 및 (2) 상기 황을 함유하는 폴리올 화합물을 티오우레아(thiourea)와 반응 및 가수분해시키는 단계를 포함한다:
[화학식 4]
Figure pat00007
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 4에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소일 수 있다.
상기 단계 (1) 및 (2)를 거쳐 앞서 설명한 폴리티올 화합물을 얻을 수 있다.
일 구현예에 따르면, 상기 폴리티올 화합물은 (1) 하기 화학식 4의 화합물을 하기 화학식 3의 화합물과 반응시켜 하기 화학식 2의 화합물을 제조하는 단계; 및 (2) 화학식 2의 화합물을 티오우레아(thiourea)와 반응 및 가수분해시켜, 하기 화학식 1의 화합물을 제조하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조될 수 있다:
[화학식 1]
Figure pat00008
[화학식 2]
Figure pat00009
[화학식 3]
Figure pat00010
[화학식 4]
Figure pat00011
상기 식에서, RA, RB, RA', RB', RA'', 및 RB''는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고; L 는
Figure pat00012
,
Figure pat00013
,
Figure pat00014
, 또는
Figure pat00015
이고, 여기서 X는 할로겐이며; R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 1, 2 및 4에서, R1이 C1-4알킬이고, R2가 수소일 수 있다.
이때 상기 화학식 4의 화합물은, 하기 화학식 5의 화합물을 가황 반응시켜 제조될 수 있다:
[화학식 5]
Figure pat00016
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1 - 4알킬, 또는 C6 - 10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1 - 4알킬 또는 C6 - 10아릴이다.
상기 화학식 4에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고 상기 R2가 수소일 수 있고, 보다 구체적으로, 상기 R1이 메틸이고 상기 R2가 수소일 수 있다.
이하 각 단계별로 구체적으로 설명한다.
상기 단계 (1)은 하나 이상의 알킬 등의 치환기를 갖는 머캅토에탄올 화합물(예: 화학식 4의 화합물)을, 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물(예: 화학식 3의 화합물)과 반응시켜, 황을 함유하는 폴리올 화합물(예: 화학식 2의 화합물)을 제조하는 단계이다.
상기 단계 (1)의 일례를 하기 반응식 1에 나타내었다.
[반응식 1]
Figure pat00017
상기 식에서, RA', RB', RA'' 및 RB''는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고; L 는
Figure pat00018
,
Figure pat00019
,
Figure pat00020
, 또는
Figure pat00021
이고, 여기서 X는 할로겐이며; R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
상기 화학식 2의 화합물의 일례로서, 상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소일 수 있다. 상기 화학식 2의 화합물의 다른 예로서, 상기 RA'가 히드록시C1-3알킬이고, 상기 RB'가 수소일 수 있다.
보다 구체적인 일례에 따르면, 상기 화학식 2의 화합물은 하기 화학식 2a로 표시될 수 있다:
[화학식 2a]
Figure pat00022
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1 - 4알킬, 또는 C6 - 10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1 - 4알킬 또는 C6 - 10아릴이다.
상기 화학식 2a에서, 상기 R1이 C1-4알킬이고 상기 R2가 수소일 수 있으며, 보다 구체적으로 상기 R1이 메틸이고 상기 R2가 수소일 수 있다.
상기 화학식 3의 화합물은, 일례로서 하기 화학식 3a로 표시될 수 있다:
[화학식 3a]
Figure pat00023
상기 식에서, RA''는 할로C1 - 3알킬이고, RB''는 수소이다.
구체적인 일례로서, 상기 화학식 3의 화합물은 에피클로로히드린일 수 있다. 이때 반응 촉매로서 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 금속수산화물; 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 금속탄산염; 또는 트리에틸아민, 트리부틸아민 등의 염기를 사용할 수 있다. 이들 염기의 사용량은 에피클로로히드린 1 당량에 대하여 0.5~2 당량, 보다 구체적으로 0.8~1.2 당량일 수 있다. 또한 반응 온도는 10~50℃, 보다 구체적으로 25~45℃에서 실시할 수 있으며, 반응 시간은 2~12시간, 보다 구체적으로 3~10시간으로 실시할 수 있다.
구체적인 다른 예로서, 상기 화학식 3의 화합물은 불포화 탄소 결합을 포함하는 화합물, 예를 들어 프로파길알코올, 2-부틴-1,4-다이올 등일 수 있다. 이때 반응 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸바레로니트릴(2,2'-azobis(2,4-dimethyl valeronitrile)), 1,1'-아조비스(시클로헥산카보니트릴(1,1'-azobis(cyclohexanecarbonitrile)) 등의 아조비스알킬렌니트릴계 개시제; 벤조일페록사이드(benzoyl peroxide), 디라우릴페록사이드(dilauryl peroxide), 큐밀하이드로페록사이드(cumyl hydroperoxide) 등의 아조페록사이드계 개시제 등을 사용할 수 있다. 또한 반응 온도는 예를 들어 20~90℃, 보다 구체적으로 30~80℃일 수 있다.
다만 구체적인 반응조건은 유리 라디칼(free radical)의 개시제에 따라 다를 수 있으며, 유리 라디칼의 개시온도와 반감기를 고려하여 조절하는 것이 좋다.
상기 단계 (2)는 황을 함유하는 폴리올 화합물(예: 화학식 2의 화합물)을 티오우레아와 반응 및 가수분해시켜, 폴리티올 화합물(예: 화학식 1의 화합물)을 제조하는 단계이다.
상기 단계 (2)의 일례를 하기 반응식 2에 나타내었다.
[반응식 2]
Figure pat00024
상기 식에서, RA, RB, RA' 및 RB'는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고; R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
구체적으로, 상기 화학식 2의 화합물을 티오우레아와 반응시켜 이소티오우로늄염(isothiouronium salt)을 얻은 뒤, 이를 가수분해하여 상기 화학식 1의 화합물을 얻을 수 있다.
먼저 상기 화학식 2의 폴리올 화합물과 티오우레아를 혼합하고 산 조건에서 환류시켜 이소티오우로늄염을 얻을 수 있다. 상기 티오우레아는 상기 폴리티올 화합물의 히드록시기 1 당량에 대해 1~3 당량, 보다 구체적으로는 1~2 당량으로 반응시킬 수 있다. 상기 환류시의 온도는 60~130℃일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 80~115℃일 수 있다. 상기 환류의 시간은 1~24 시간일 수 있고, 보다 구체적으로 2~12시간일 수 있다.
이후, 상기 이소티오우로늄염을 염기 조건 하에서 가수분해하여 상기 화학식 1의 화합물을 얻을 수 있다. 상기 염기 조건 형성을 위해서는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아 등의 염기성 화합물을 사용할 수 있다. 상기 염기성 화합물은 상기 이소티오우로늄염 1 당량에 대해 1.0~2.5 당량, 보다 구체적으로는 1.1~2.0 당량을 반응시킬 수 있다. 상기 가수분해의 반응온도는 10~130℃ 일 수 있고, 보다 구체적으로는 10~80℃일 수 있다. 상기 가수분해의 시간은 0.1~48 시간일 수 있고, 보다 구체적으로 0.5~24시간일 수 있다.
이상 얻어진 폴리티올 화합물은 추가로 정제를 거칠 수 있다.
구체적으로는 산세정과 복수회의 수세정을 실시하거나, 산세정과 수세정 후 알칼리 세정을 실시할 수 있다. 세정 공정을 통해 불순물 등을 제거할 수 있고, 폴리티올 화합물의 색상을 개선시켜 이로부터 얻어지는 광학소재의 색상을 향상시킬 수 있다. 산세정은, 단계 (2)에서 얻어진 폴리티올 화합물을 포함하는 용액에 염산을 더하여 실시할 수 있다. 염산의 농도는 30~36%가 적정하며, 산세정의 온도는 20~60℃, 보다 구체적으로는 20~40℃일 수 있다. 수세정은 산소 농도가 5mg/L 이하인 증류수를 사용할 수 있고, 알칼리 세정은 알칼리성 수용액을 더하여, 20~40℃ 범위에서 10분 내지 2시간 교반함으로써 실시할 수 있다.
이후, 용매제거 공정, 여과 공정, 필요시 증류 공정을 실시하여 폴리티올 화합물을 얻을 수 있다. 용매 제거 공정은 감압 조건에서 유기 용매를 제거하는 공정이며, 사용하는 온도에 따라 감압도와 온도를 조절할 수 있지만, 감압 하의 80℃ 이하에서 실시하는 것이 바람직하다. 여과 공정은, 염 등의 고상물질을 제거하는 공정으로, 멤브레인 필터나 카트리지 필터를 사용한 감압 또는 가압 여과 등을 사용할 수 있다. 필터의 기공 크기(pore size)는 5㎛ 이하, 보다 구체적으로는 2㎛ 이하인 것이 바람직하다. 증류 공정은, 폴리티올 화합물을 정제하여 고순도의 폴리티올 화합물을 얻는 공정으로, 감압도 및 온도는 제조된 폴리티올 화합물의 끓는점 및 분해 온도 등을 고려해서 적절히 선택할 수 있다.
이하에서는, 상기 단계 (1)에서 출발물질로 사용되는 하나 이상의 알킬 등의 치환기를 갖는 머캅토에탄올 화합물(예: 화학식 4의 화합물)을 제조하는 방법의 일례를 설명한다.
구체적으로, 하나 이상의 알킬 등의 치환기를 갖는 에폭시드 화합물(예: 화학식 5의 화합물)을 가황 반응시켜, 하나 이상의 알킬 등의 치환기를 갖는 머캅토에탄올 화합물(예: 화학식 4의 화합물)을 제조할 수 있다(하기 반응식 3 참조).
[반응식 3]
Figure pat00025
상기 식에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
구체적으로, 상기 화학식 5의 화합물을 황화 수소 등의 황 함유 물질과 반응시켜, 상기 화학식 4의 화합물을 제조할 수 있다.
상기 가황 반응에서, 촉매 및 희석제로서 티오디글리콜(thiodiglycol) 등을 투입할 수 있다. 상기 티오디글리콜은 상기 화학식 5의 화합물 1몰에 대하여 0.1~0.5 몰을 사용할 수 있고, 보다 구체적으로는 0.2~0.4 몰을 사용할 수 있다. 상기 가황 반응시의 온도는 30~70℃일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 45~65℃일 수 있다. 상기 가황 반응시의 압력은 5~15 bar일 수 있고, 보다 구체적으로 8~12 bar일 수 있다. 상기 가황 반응시의 시간은 15~180분일 수 있고, 보다 구체적으로 30~120분일 수 있다.
본 발명은 또한 앞서 설명한 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 제공한다. 상기 중합성 조성물은 상기 폴리티올 화합물 및 상기 이소시아네이트 화합물을 혼합 상태로 포함하거나 또는 분리된 상태로 포함할 수 있다. 즉, 상기 중합성 조성물 내에서, 상기 폴리티올 화합물 및 상기 이소시아네이트 화합물은, 서로 접촉하여 배합된 상태이거나, 또는 서로 접촉하지 않도록 분리된 상태일 수 있다.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 조성물 내의 SH기/NCO기의 몰비가, 0.5 내지 3.0일 수 있고, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있다.
상기 이소시아네이트 화합물은 이소시아네이트기를 2개 갖는 디이소시아네이트 화합물일 수 있다. 구체적으로, 상기 이소시아네이트 화합물은 톨루엔 디이소시아네이트(TDI), 자일렌 디이소시아네이트(XDI), 및 이소포론 디이소시아네이트(IPDI), 및 헥사메틸렌 디이소시아네이트(HDI)로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 또는, 상기 이소시아네이트 화합물은 이소시아네이트기를 3개 이상 갖는 폴리이소시아네이트 화합물일 수 있다.
상기 중합성 조성물은 황 원자를 함유하는 이소티오시아네이트(isothiocyanate) 화합물을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 중합성 조성물은 상기 화학식 1의 폴리티올 화합물 외에도, 그 외 다른 폴리티올 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 중합성 조성물은, 그 외에도 필요에 따라, 내부 이형제, 자외선 흡수제, 중합개시제, 열안정제, 색상보정제, 사슬연장제, 가교제, 광안정제, 산화방지제, 충전제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 내부 이형제로는, 퍼플루오르알킬기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 지닌 불소계 비이온계면활성제; 디메틸폴리실록산기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 가진 실리콘계 비이온계면활성제; 트리메틸세틸 암모늄염, 트리메틸스테아릴, 디메틸에틸세틸 암모늄염, 트리에틸도데실 암모늄염, 트리옥틸메틸 암모늄염, 디에틸시클로헥사도데실 암모늄염 등과 같은 알킬계 4급 암모늄염; 및 산성 인산에스테르 중에서 선택된 성분이 단독으로 혹은 2종 이상 함께 사용될 수 있다. 상기 자외선 흡수제로는 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 살리실레이트계, 시아노아크릴레이트계, 옥사닐라이드계 등이 사용될 수 있다. 상기 중합개시제로는 아민계, 인계, 유기주석계, 유기구리계, 유기갈륨, 유기지르코늄, 유기철계, 유기아연, 유기알루미늄 등이 사용될 수 있다. 상기 열안정제로는, 금속 지방산염계, 인계, 납계, 유기주석계 등을 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용가능하다.
상기 폴리티오우레탄계 화합물은 앞서 설명한 중합성 조성물로부터 얻는다.
즉, 상기 폴리티오우레탄계 화합물은 상기 중합성 조성물(상기 화학식 1의 폴리티올 화합물 + 이소시아네이트 화합물)이 중합(및 경화)되어 제조될 수 있다.
상기 이소시아네이트 화합물의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.
상기 중합 반응에서 SH기/NCO기의 반응 몰비가 0.5 내지 3.0일 수 있고, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있다.
또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있다. 상기 반응 촉매로는 주석계 촉매를 사용할 수 있으며, 예를 들어 디부틸틴 디클로라이드, 디부틸틴 디라우레이트, 디메틸틴 디클로라이드 등을 사용할 수 있다.
상기 폴리티오우레탄계 화합물은 분자 내에 분지된 알킬 등의 치환기를 갖는 폴리티올 화합물로부터 중합되었기 때문에, 미세결정 형성이 억제되고 무정 영역이 확장되어, 광투과율 및 내충격성이 우수하다.
앞서 설명한 폴리티오우레탄계 화합물로부터 광학재료가 성형된다.
즉, 상기 광학 재료는 중합성 조성물(상기 화학식 1의 폴리티올 화합물 + 이소시아네이트 화합물)이 중합 및 성형되어 제조될 수 있다.
먼저, 상기 중합성 조성물을 감압하에 탈기(degassing)한 후, 광학 재료 성형용 몰드에 주입한다. 이와 같은 탈기 및 몰드 주입은 예를 들어 20~40℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 몰드에 주입한 후에는 통상 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합을 수행한다.
상기 중합 반응의 온도는 예를 들어 30~150℃일 수 있고, 보다 구체적으로 40~130℃일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있으며, 이의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.
그 결과 얻은 폴리티오우레탄계 광학 재료를 몰드로부터 분리한다.
상기 광학 재료는 굴절률이 1.50 내지 1.70일 수 있고, 보다 한정하면 1.55 내지 1.68일 수 있다. 상기 광학 재료는 아베수가 20 내지 50일 수 있고, 보다 한정하면 25 내지 45일 수 있다. 상기 광학 재료는 광투과율이 85.0% 내지 99.9%일 수 있고, 보다 한정하면 87.0% 내지 99.0%일 수 있다.
상기 광학 재료는 바람직하게는 광학 렌즈, 구체적으로 플라스틱 광학 렌즈일 수 있다.
이와 같이 상기 화학식 1의 폴리티올 화합물을 이용하여 얻은 광학 재료는 광학 특성이 우수하다. 특히 상기 광학 재료는 광투과율 및 내충격성이 우수하여, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등으로 유용하게 사용될 수 있다.
이하 본 발명을 실시예에 의해 보다 구체적으로 설명한다. 단 하기 실시예들은 예시하기 위한 것일 뿐, 이에 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
제조예 1: 1-머캅토-2-프로판올의 제조
Figure pat00026
700mL 원통형 반응기에 3몰의 프로필렌옥사이드(PO) 및 3.6몰의 H2S를 투입하고, 촉매 및 희석제로서 11몰%의 양의 티오디글리콜(thiodiglycol)을 투입하였다. 상기 반응기 내 혼합물을 55℃ 및 10 bar 조건에서 1시간 숙성하여, 1-머캅토-2-프로판올을 얻었다(수율: 97%).
실시예 1: 폴리티올 화합물의 제조
Figure pat00027
단계 (1)
콘덴서를 장착한 2L 4구 플라스크에 상기 제조예 1에서 얻은 1-머캅토-2-프로판올(118g, 1.28mol)과 물 52g을 첨가하고, 30℃에서 50중량% 농도의 수산화나트륨 수용액(51.2g)을 30분에 걸쳐 적가하였다. 이후 에피클로로히드린(59.2g, 0.64mol)을 동일 온도에서 2시간에 걸쳐 적가하고 1시간 숙성하였다.
단계 (2)
반응액에 티오우레아(146.14g, 1.92mol)와 진한 염산(35%, 267g, 2.56mol)을 가하고, 110℃ 에서 6시간 동안 환류시켰다. 환류 반응이 끝나면 실온으로 냉각하고, 톨루엔을 첨가한 뒤 암모니아수를 천천히 적가하여 75℃ 에서 1시간 동안 가수분해하였다. 생성물을 실온으로 냉각하고 분액 깔때기로 옮겨 층분리하였다. 이때 물층은 버리고, 산 세정 및 물 세정을 수행하였다. 유기층을 MgSO4로 건조시키고, 감압 여과하였다. 이후 메틸렌클로라이드로 세척하고 수득한 반응 생성물을 감압 농축하여, 폴리티올 화합물을 얻었다(수율: 91%)
수득한 폴리티올 화합물의 구조 분석 결과는 하기와 같았다:
13C-NMR (CDCl3): δ 22.7, 22.8 (-CH3), 30.8 (-CHCH2SH), 33.3, 33.6 (SHCHCH3), 40.6, 43.8 (-SCH2CH), 47.7 (-SCHCH2S-)
IR (cm-1): 2542 (S-H), 2957 (C-H)
MS (70 eV) m/z (rel. intensity): 487 (M+)
Found: C 38.02%; H 7.07%; S 54.91%.
실시예 2: 광학 렌즈의 제조
단계 (1)
상기 실시예 1에서 얻은 폴리티올 화합물을 톨루엔 디이소시아네이트(TDI)와 균일하게 혼합하여, 중합성 조성물을 제조하였다. 여기에 경화 촉매로 디부틸틴 디클로라이드, 자외선 흡수제로 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸(HOPBT), 및 내부 이형제로 Stepan사의 ZelecTM UN을 첨가하여, 중합성 조성물을 제조하였다.
단계 (2)
상기 중합성 조성물에 대해 상온 질소 분위기에서 30분간 감압 교반을 실시하여 기포를 제거하였다. 기포가 제거되고 용해가 완료되면, 점착 테이프에 의해 조립된 유리 몰드에 중합성 조성물을 질소 압력을 이용해 주입하였다. 중합성 조성물이 주입된 유리 몰드를 강제 순환식 오븐에 넣고 30~120℃의 온도로 중합을 진행하였다. 냉각 및 어닐링 후, 유리 몰드로부터 렌즈를 이형시켜 중심 두께 1.2mm인 광학 렌즈를 얻었다.
비교예 1: 폴리티올 화합물의 제조
Figure pat00028
상기 실시예 1과 동일한 절차를 반복하되, 1-머캅토-2-프로판올 대신 2-머캅토에탄올(100g, 1.28mol)을 사용하여, 폴리티올 화합물을 얻었다(155.1g, 수율: 93%).
비교예 2: 광학 렌즈의 제조
상기 실시예 2와 동일한 절차를 수행하되, 폴리티올 화합물로서 상기 비교예 1에서 제조된 화합물을 사용하여, 광학 렌즈를 제조하였다.
상기 실시예 2 및 비교예 2의 구성을 하기 표 1에 요약하였다.
또한, 상기 실시예 2 및 비교예 2에서 얻은 광학 렌즈에 대해 아래와 같이 평가하여 하기 표 1에 정리하였다.
시험예 1: 굴절률 및 아베수의 측정
광학 렌즈에 대해 Atago사에서 제작된 아베굴절계인 DR-M4 모델을 사용하여 20℃에서의 굴절률 및 아베수를 측정하였다.
시험예 2: 광투과율의 측정
광학 렌즈에 대해, 파장 550 nm에 대한 광투과율(%)을 분광광도계를 사용하여 측정하였다.
시험예 3: 내충격성 측정
광학 렌즈 표면 상에, US-FDA에 의거하여, 127cm 높이에서 16.3g의 쇠공을 낙하시킨 뒤, 파손 여부를 육안으로 관찰하고 아래 기준에 따라 분류하였다.
- O : 파손되지 않음
- △ : 균열이 생김
- X : 파손됨
구 분 실시예 2 비교예 2
단량체
조성
(g)		 실시예 1 화합물 28.9 -
비교예 1 화합물 - 26.1
IPDI 33.3 33.3
렌즈
물성		 굴절율 1.5921 1.5959
아베수 34 31
투과율(%) 96.2 92.1
내충격성 O X
상기 표 1에서 보듯이, 본 발명에 따른 폴리티올 화합물(실시예 1의 화합물)을 이용하여 제조한 광학렌즈(실시예 2의 광학렌즈)는 아베수, 광투과율 및 내충격성 면에서 매우 우수한 반면, 종래의 폴리티올 화합물(비교예 1의 화합물)을 이용하여 제조한 광학렌즈(비교예 2의 광학렌즈)는 광투과율과 내충격성 면에서 저조하였다.

Claims (15)

  1. 하기 화학식 A로 표시되는 그룹을 2개 이상 갖는, 폴리티올 화합물:
    [화학식 A]
    Figure pat00029

    상기 식에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고,
    여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이
    하기 화학식 4의 화합물과, 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물과의 반응에 의해서 얻어진 폴리올 화합물을, 티오우레아와 반응 및 가수분해시켜 형성된, 폴리티올 화합물:
    [화학식 4]
    Figure pat00030

    상기 식에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고,
    여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 하기 화학식 1로 표시되는, 폴리티올 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00031

    상기 식에서,
    RA 및 RB는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고;
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 R1이 C1-4알킬이고, 상기 R2가 수소인, 폴리티올 화합물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 하기 화학식 1a로 표시되는, 폴리티올 화합물:
    [화학식 1a]
    Figure pat00032

    상기 식에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고,
    여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 폴리티올 화합물이 폴리티오우레탄계 광학 재료의 제조에 사용되는, 폴리티올 화합물.
  7. (1) 하기 화학식 4의 화합물을 불포화 탄소 결합, 할로겐 및 에폭시로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 관능기를 갖는 화합물과 반응시켜, 황을 함유하는 폴리올 화합물을 제조하는 단계; 및
    (2) 상기 황을 함유하는 폴리올 화합물을 티오우레아(thiourea)와 반응시키는 단계를 포함하는, 폴리티올 화합물의 제조방법:
    [화학식 4]
    Figure pat00033

    상기 식에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고,
    여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  8. 제 7 항에 있어서,
    (1) 하기 화학식 4의 화합물을 하기 화학식 3의 화합물과 반응시켜 하기 화학식 2의 화합물을 제조하는 단계; 및
    (2) 상기 화학식 2의 화합물을 티오우레아(thiourea)와 반응 및 가수분해시켜, 하기 화학식 1의 폴리티올 화합물을 제조하는 단계를 포함하는, 폴리티올 화합물의 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure pat00034

    [화학식 2]
    Figure pat00035

    [화학식 3]
    Figure pat00036

    [화학식 4]
    Figure pat00037

    상기 식에서,
    RA, RB, RA', RB', RA'', 및 RB''는 각각 독립적으로 수소, 히드록시, 할로겐, C1-3알킬, 히드록시C1-3알킬, 할로C1-3알킬, 또는 머캅토C1-3알킬이고;
    L 는
    Figure pat00038
    ,
    Figure pat00039
    ,
    Figure pat00040
    , 또는
    Figure pat00041
    이고, 여기서 X는 할로겐이며;
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고, 여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 화학식 3의 화합물이 하기 화학식 3a로 표시되는, 폴리티올 화합물의 제조방법:
    [화학식 3a]
    Figure pat00042

    상기 식에서,
    RA''는 할로C1 - 3알킬이고, RB''는 수소이다.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 화학식 4의 화합물이, 하기 화학식 5의 화합물을 가황 반응시켜 제조되는, 폴리티올 화합물의 제조방법:
    [화학식 5]
    Figure pat00043

    상기 식에서,
    R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-4알킬, 또는 C6-10아릴이고,
    여기서 R1 및 R2 중 적어도 하나는 C1-4알킬 또는 C6-10아릴이다.
  11. 제 1 항의 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
  12. 제 11 항의 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물.
  13. 제 12 항의 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 광학 재료가 플라스틱 광학 렌즈인 것을 특징으로 하는, 광학 재료.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 광학 재료가 85.0% 내지 99.9%의 광투과율 및 20 내지 50의 아베수를 갖는, 광학 재료.
KR1020150188342A 2015-12-29 2015-12-29 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법 KR102001488B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150188342A KR102001488B1 (ko) 2015-12-29 2015-12-29 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150188342A KR102001488B1 (ko) 2015-12-29 2015-12-29 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170078139A true KR20170078139A (ko) 2017-07-07
KR102001488B1 KR102001488B1 (ko) 2019-07-18

Family

ID=59353524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150188342A KR102001488B1 (ko) 2015-12-29 2015-12-29 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102001488B1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110300743A (zh) * 2017-02-15 2019-10-01 Ks试验研究株式会社 多元醇或多硫醇化合物、其制备方法、由其制备的透明氨基甲酸酯类树脂以及光学体
KR102045150B1 (ko) * 2018-06-21 2019-11-14 에스케이씨 주식회사 티올화합물 및 이의 제조방법
EP3786154A4 (en) * 2018-04-25 2022-04-06 SKC Co., Ltd. PROCESS FOR PRODUCTION OF POLYTHIOL WITH IMPROVED STORAGE STABILITY
WO2022114805A1 (ko) * 2020-11-27 2022-06-02 에스케이씨 주식회사 폴리티올 조성물, 광학 조성물 및 광학 제품
KR20220074760A (ko) * 2020-11-27 2022-06-03 에스케이씨 주식회사 폴리티올 조성물, 광학 조성물 및 광학 제품

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4163832A (en) * 1970-03-26 1979-08-07 Exxon Research & Engineering Co. Polythioethers formed by anionic ring opening of episulfides
DE2934948A1 (de) * 1979-08-29 1981-03-19 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von 2-mercaptoalkylsulfiden und 2-mercaptoalkylethern
DE2944092A1 (de) * 1979-10-31 1981-05-14 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Schwefelhaltige polymere, verfahren zur herstellung, verwendung zur herstellung von dispersionen sowie dispersionen
EP0243546B1 (en) * 1984-01-30 1991-09-04 Products Research And Chemical Corporation Thioethers having a high sulfur content and method therefor
KR20130050263A (ko) * 2011-11-07 2013-05-15 주식회사 케이오씨솔루션 폴리티올 화합물의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학재료용 중합성 조성물

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4163832A (en) * 1970-03-26 1979-08-07 Exxon Research & Engineering Co. Polythioethers formed by anionic ring opening of episulfides
DE2934948A1 (de) * 1979-08-29 1981-03-19 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von 2-mercaptoalkylsulfiden und 2-mercaptoalkylethern
DE2944092A1 (de) * 1979-10-31 1981-05-14 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Schwefelhaltige polymere, verfahren zur herstellung, verwendung zur herstellung von dispersionen sowie dispersionen
EP0243546B1 (en) * 1984-01-30 1991-09-04 Products Research And Chemical Corporation Thioethers having a high sulfur content and method therefor
KR20130050263A (ko) * 2011-11-07 2013-05-15 주식회사 케이오씨솔루션 폴리티올 화합물의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학재료용 중합성 조성물

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110300743A (zh) * 2017-02-15 2019-10-01 Ks试验研究株式会社 多元醇或多硫醇化合物、其制备方法、由其制备的透明氨基甲酸酯类树脂以及光学体
US20200031986A1 (en) * 2017-02-15 2020-01-30 Keun Sik Kim Polyol or polythiol compound, preparation method therefor, transparent polyurethane-based resin prepared therefrom, and optical body
CN113372250A (zh) * 2017-02-15 2021-09-10 Ks试验研究株式会社 多硫醇化合物、其制备方法、由其制备的透明氨基甲酸酯类树脂以及光学体
CN110300743B (zh) * 2017-02-15 2023-01-17 Ks试验研究株式会社 多元醇或多硫醇化合物、其制备方法、由其制备的透明氨基甲酸酯类树脂以及光学体
CN113372250B (zh) * 2017-02-15 2023-12-08 Ks试验研究株式会社 多硫醇化合物、其制备方法、由其制备的透明氨基甲酸酯类树脂以及光学体
EP3786154A4 (en) * 2018-04-25 2022-04-06 SKC Co., Ltd. PROCESS FOR PRODUCTION OF POLYTHIOL WITH IMPROVED STORAGE STABILITY
US11453643B2 (en) 2018-04-25 2022-09-27 Skc Co., Ltd. Preparation method for polythiol having improved storage stability
KR102045150B1 (ko) * 2018-06-21 2019-11-14 에스케이씨 주식회사 티올화합물 및 이의 제조방법
WO2022114805A1 (ko) * 2020-11-27 2022-06-02 에스케이씨 주식회사 폴리티올 조성물, 광학 조성물 및 광학 제품
KR20220074760A (ko) * 2020-11-27 2022-06-03 에스케이씨 주식회사 폴리티올 조성물, 광학 조성물 및 광학 제품
GB2615967A (en) * 2020-11-27 2023-08-23 Skc Co Ltd Polythiol composition, optical composition, and optical product
GB2615967B (en) * 2020-11-27 2024-09-11 Sk Pucore Co Ltd Polythiol composition, optical composition and optical product

Also Published As

Publication number Publication date
KR102001488B1 (ko) 2019-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102001488B1 (ko) 아베수 및 내충격성이 우수한 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법
KR101533207B1 (ko) 폴리티올 조성물, 광학재료용 중합성 조성물 및 그 용도
KR101885879B1 (ko) 광학 재료용 폴리티올 조성물 및 이의 제조방법
KR101945883B1 (ko) 광학 재료용 폴리티올 조성물 및 이의 제조방법
CN1171924C (zh) 一种制备聚硫代氨基甲酸酯光学塑料的方法
US9505700B2 (en) High refractive index (meth) acrylates
TWI653220B (zh) 用於製備使用於光學材料製造之多元硫醇化合物的方法
KR20110021371A (ko) 광 조사에 의해 얻은 광학렌즈용 폴리티올 화합물을 포함한 수지 조성물 및 이를 이용한 광학렌즈
JP2014234429A (ja) 光学材料用重合性組成物およびその製造方法
US20150284324A1 (en) Sulphur containing high refractive index monomer
KR101788159B1 (ko) 내열성 및 내충격성이 우수한 광학재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법
KR101788175B1 (ko) 고굴절률의 광학 재료용 폴리티올 화합물 및 이의 제조방법
KR101915818B1 (ko) 폴리티올에스테르 화합물을 이용한 광학렌즈용 수지 조성물 및 이를 이용한 광학렌즈
JPH0816144B2 (ja) 高屈折率プラスチックレンズ用樹脂の製造方法およびその製造方法で得られる樹脂からなるレンズ
KR101637541B1 (ko) 맑으면서 투명하고 내열성과 내충격성이 뛰어난 광학수지 조성물, 이를 이용한 플라스틱 안경 렌즈 및 그 제조 방법
JP4460682B2 (ja) ペンタエリスリトールポリ（チオグリコレート）の精製方法
JPH1143493A (ja) 新規な燐酸エステル及び該化合物からなる離型剤
KR101971115B1 (ko) 수율이 향상된 에스터 폴리티올의 제조방법
KR102448166B1 (ko) 폴리티올 조성물 및 이를 포함하는 광학용 중합성 조성물
JP3891652B2 (ja) 含硫アリルカーボネート化合物、それを用いた樹脂及びレンズ、それらの製造方法
KR101791221B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR20220074752A (ko) 폴리티올 조성물, 광학 조성물 및 광학 제품
KR101870380B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR101859739B1 (ko) 내충격성이 우수한 광학 재료용 에스터 티올 화합물
KR20230100162A (ko) 내열성이 우수한 광학 수지용 조성물 및 이를 이용한 광학 수지

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right