KR20170073618A - 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20170073618A
KR20170073618A KR1020177012925A KR20177012925A KR20170073618A KR 20170073618 A KR20170073618 A KR 20170073618A KR 1020177012925 A KR1020177012925 A KR 1020177012925A KR 20177012925 A KR20177012925 A KR 20177012925A KR 20170073618 A KR20170073618 A KR 20170073618A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal layer
aluminum
layer
cooler
copper
Prior art date
Application number
KR1020177012925A
Other languages
English (en)
Inventor
소타로 오이
도모야 오오히라키
다케시 기타하라
Original Assignee
미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Priority claimed from PCT/JP2015/078765 external-priority patent/WO2016060079A1/ja
Publication of KR20170073618A publication Critical patent/KR20170073618A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4871Bases, plates or heatsinks
    • H01L21/4882Assembly of heatsink parts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/02Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a press ; Diffusion bonding
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B37/00Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
    • C04B37/02Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles
    • C04B37/023Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used
    • C04B37/026Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating with metallic articles characterised by the interlayer used consisting of metals or metal salts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3731Ceramic materials or glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3736Metallic materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • H05K1/0203Cooling of mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/20Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/02Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/12Metallic interlayers
    • C04B2237/125Metallic interlayers based on noble metals, e.g. silver
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/02Aspects relating to interlayers, e.g. used to join ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/12Metallic interlayers
    • C04B2237/126Metallic interlayers wherein the active component for bonding is not the largest fraction of the interlayer
    • C04B2237/127The active component for bonding being a refractory metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/34Oxidic
    • C04B2237/343Alumina or aluminates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/36Non-oxidic
    • C04B2237/366Aluminium nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/36Non-oxidic
    • C04B2237/368Silicon nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/40Metallic
    • C04B2237/407Copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/50Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/70Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
    • C04B2237/704Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the ceramic layers or articles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/50Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/70Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
    • C04B2237/706Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the metallic layers or articles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)

Abstract

구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속층을 알루미늄제 냉각기에 브레이징할 때의 변형의 발생을 방지하여, 열 저항이 작고, 접합 신뢰성이 높은 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판을 제공한다. 세라믹스 기판의 일방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층을 접합함과 함께, 세라믹스 기판의 타방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속층을 접합하고, 이 금속층에 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 제 2 금속층을 고상 확산 접합하고, 제 2 금속층에 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합한다.

Description

냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법{SUBSTRATE WITH COOLER FOR POWER MODULES AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은, 대전류, 고전압을 제어하는 반도체 장치에 사용되는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본원은, 2014년 10월 16일에 출원된 일본 특허출원 2014-211529호, 및 2015년 10월 9일에 출원된 일본 특허출원 2015-200784호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
종래의 파워 모듈용 기판으로서, 절연층이 되는 세라믹스 기판의 일방의 면에 회로층이 접합됨과 함께, 타방의 면에 방열을 위한 금속층이 접합된 구성의 것이 알려져 있다. 또, 이 파워 모듈용 기판의 금속층에 냉각기가 접합됨으로써, 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판이 구성된다. 그리고, 회로층 상에는 솔더링재를 개재하여 파워 소자 등의 반도체 소자가 탑재되어 파워 모듈이 된다.
이 종류의 파워 모듈용 기판에 있어서, 회로층에 열적 특성, 전기적 특성이 우수한 구리 또는 구리 합금을 사용하고, 냉각기에는 알루미늄 합금으로 이루어지는 구조의 것을 사용한 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판이 보급되어 있다.
그러한 파워 모듈용 기판으로서, 특허문헌 1 에, 세라믹스 기판으로서 질화규소, 질화알루미늄, 산화알루미늄 등을 사용하여, 이 세라믹스 기판에, 금속층을 직접 접합법이나 활성 금속법에 의해 접합하는 것이 개시되어 있고, 그 금속층으로서 구리를 사용하는 것이 바람직하다고 기재되어 있다. 또, 그 파워 모듈용 기판에, 히트싱크를 솔더에 의해 접합하는 것도 기재되어 있다.
일본 공개특허공보 2006-245437호
그런데, 금속층과 히트싱크를 접합하고 있는 솔더층은 열 저항이 커서, 반도체 소자로부터 히트싱크로의 열 전달을 방해하고, 또, 열 신축에 의해 솔더층에 크랙이 생겨 솔더층이 파괴될 우려가 있다. 이 때문에, 열 저항이 작고, 접합 신뢰성도 높은 브레이징 접합이 주목받고 있다.
그러나, 브레이징 공정은, 브레이징재 (brazing filler material) 를 개재하여 적층한 금속판끼리를 적층 방향으로 가압하여 가열함으로써 실시되는 것이기 때문에, 히트싱크로서, 내부에 냉각 유로를 형성한 알루미늄제 냉각기를 브레이징에 의해 파워 모듈용 기판에 접합하는 경우, 그 가압력에 의해 알루미늄제 냉각기가 변형될 우려가 있다.
본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속층을 알루미늄제 냉각기에 브레이징할 때의 변형의 발생을 방지하여, 열 저항이 작고, 접합 신뢰성이 높은 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법은, 세라믹스 기판의 일방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판을 접합하여 회로층을 형성함과 함께, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판을 접합하여 제 1 금속층을 형성하는 제 1 접합 공정과, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 금속판과 상기 제 1 금속층을 고상 확산 접합에 의해 접합하여 제 2 금속층을 형성하는 제 2 접합 공정과, 상기 제 2 금속층에 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하는 제 3 접합 공정을 갖는다.
본 발명의 제조 방법은, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층에 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층을 고상 확산 접합에 의해 접합함으로써, 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하는 것이 가능하다. 이 브레이징은, 질소 또는 아르곤 등의 분위기 중에서 저하중 (예를 들어 0.001 ㎫ ∼ 0.5 ㎫) 으로 실시할 수 있어, 강성이 낮은 알루미늄제 냉각기에서도 변형시키지 않고 확실하게 접합할 수 있다.
또한, 상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 티탄박을 개재시켜, 상기 제 1 금속층과 상기 티탄박 및 상기 제 2 금속층과 상기 티탄박을 각각 고상 확산 접합하고, 상기 제 3 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층과 상기 냉각기를 Al-Si-Mg 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하면 된다.
티탄박을 개재하여 제 1 금속층과 제 2 금속층을 고상 확산 접합에 의해 접합함으로써, 양 금속층에 티탄 원자를 확산시킴과 함께, 티탄박에 알루미늄 원자 및 구리 원자를 확산시켜, 이들 제 1 금속층, 티탄박, 제 2 금속층을 확실하게 접합할 수 있다.
이 경우, 제 2 금속층을 접합한 후, 냉각기를 브레이징할 때에 가열되지만, 티탄박이 개재되어 있으므로, 이 브레이징시에 알루미늄과 구리에 확산이 발생하는 것이 방지된다.
이 제조 방법에 있어서, 상기 티탄박은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것이 바람직하다. 이 경우, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층의 구리와, 냉각기를 접합하는 Mg 함유 Al 계 브레이징재의 알루미늄의 접촉을, 보다 확실하게 방지할 수 있다.
이 제조 방법에 있어서, 상기 제 2 금속층을 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 상기 금속판을 사용하여 형성하는 경우, 냉각기를 접합하는 브레이징재에 알루미늄 산화막에 대한 젖음성이 낮은 Mg 가 함유되어 있으므로, 용융된 Mg 함유 Al 계 브레이징재가, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 제 2 금속층의 측면의 산화막에 튕겨져, 제 1 금속층까지 도달하지 않는다. 이로 인해, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층과 접촉하지 않아, 제 1 금속층을 변형시키는 경우가 없다.
혹은 이 제조 방법에 있어서, 상기 제 2 금속층을 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 상기 금속판을 사용하여 형성하는 경우, 상기 제 1 접합 공정 및 상기 제 2 접합 공정을 동시에 실시해도 된다. 이 경우, 제 2 금속층이 니켈 또는 니켈 합금인 것에 의해, 제 1 접합 공정과 제 2 접합 공정을 동시에 실시할 수 있다. 제 1 접합 공정에는, 예를 들어 Ag-Cu-Ti 계 브레이징재를 사용한 브레이징 접합을 채용할 수 있다.
이 경우, 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 상기 제 2 금속층이 상기 제 1 금속층보다 면적이 크면, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층의 구리와 냉각기를 접합하는 브레이징재의 알루미늄의 접촉을 보다 확실하게 방지할 수 있으므로 바람직하다.
또한, 이 경우, 상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층에 알루미늄판을 적층하여 상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 및 상기 제 2 금속층과 상기 알루미늄판을 각각 고상 확산 접합에 의해 접합해도 된다.
본 발명의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판은, 세라믹스 기판과, 상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층과, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층과, 상기 제 1 금속층에 접합된 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층과, 상기 제 2 금속층에 접합된 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 구비하고, 상기 제 1 금속층 중에, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있음과 함께, 상기 제 2 금속층 중에, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있다.
또, 상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 개재되는 티탄층을 추가로 갖고, 상기 제 1 금속층 중 및 상기 제 2 금속층 중에, 상기 티탄층 중의 티탄이 확산된 상태에서 존재하고 있는 것이 바람직하다.
이 경우, 상기 티탄층은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것이 바람직하다.
이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판에 있어서, 상기 제 2 금속층은 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다.
혹은, 이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판에 있어서, 상기 제 2 금속층은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다.
이 경우, 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 상기 제 2 금속층은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것이 바람직하다.
또, 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 상기 제 2 금속층과 상기 냉각기 사이에 개재되는 알루미늄층을 추가로 가져도 된다.
본 발명에 의하면, 파워 모듈용 기판의 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층에, 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 질소 또는 아르곤 분위기에서 저하중으로 브레이징할 수 있어, 강성이 낮은 냉각기에서도, 변형시키지 않고 확실하게 접합할 수 있다. 또, Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징을 실시하고 있지만, 냉각기와의 사이에 제 2 금속층이 개재됨으로써, 용융된 Mg 함유 Al 계 브레이징재가 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층과 접촉하는 경우가 없어, 제 1 금속층을 변형시키는 경우가 없다. 게다가, 브레이징이므로, 열 저항이 작아, 접합 신뢰성이 높은 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판을 얻을 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 종단면도이다.
도 2a 는, 도 1 의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법에 있어서의 제 1 접합 공정을 나타낸 종단면도이다.
도 2b 는, 도 1 의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법에 있어서의 제 2 접합 공정을 나타낸 종단면도이다.
도 2c 는, 도 1 의 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법에 있어서의 제 3 접합 공정을 나타낸 종단면도이다.
도 3 은, 도 2a ∼ 2c 의 제조 방법에서 사용되는 가압 장치의 예를 나타내는 정면도이다.
도 4 는, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 종단면도이다.
도 5 는, 본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 종단면도이다.
도 6 은, 본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 종단면도이다.
이하, 본 발명에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법의 각 실시형태에 대해 설명한다.
(제 1 실시형태)
도 1 에 나타내는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (10) 은, 세라믹스 기판 (11) 과, 그 세라믹스 기판 (11) 의 일방의 면에 접합된 회로층 (12) 과, 세라믹스 기판 (11) 의 타방의 면에 접합된 제 1 금속층 (13) 과, 이 제 1 금속층 (13) 의 세라믹스 기판 (11) 과는 반대측의 면에 접합된 제 2 금속층 (14) 과, 이 제 2 금속층 (14) 에 접합된 냉각기 (20) 와, 제 1 금속층 (13) 과 제 2 금속층 (14) 사이에 개재되는 티탄층 (42) 을 가지고 있다. 도 1 중 부호 48 은 후술하는 접합층이다. 그리고, 회로층 (12) 위에 도 1 의 이점쇄선으로 나타내는 바와 같이 반도체 소자 (30) 가 솔더링재에 의해 접합되어, 파워 모듈을 구성한다.
세라믹스 기판 (11) 은, 회로층 (12) 과 제 1 금속층 (13) 사이의 전기적 접속을 방지하는 것으로서, 질화알루미늄 (AlN), 질화규소 (Si3N4), 산화알루미늄 (Al2O3) 등을 사용할 수 있지만, 그 중에서 질화규소가 고강도이기 때문에, 바람직하다. 이 세라믹스 기판 (11) 의 두께는 0.2 ㎜ 이상 1.5 ㎜ 이하의 범위 내로 설정된다.
회로층 (12) 은, 전기 특성이 우수한 구리 또는 구리 합금으로 구성된다. 또, 제 1 금속층 (13) 도 구리 또는 구리 합금으로 구성된다. 이들 회로층 (12) 및 제 1 금속층 (13) 은, 예를 들어, 순도 99.96 질량% 이상의 무산소동의 구리판이 세라믹스 기판 (11) 에 예를 들어 활성 금속 브레이징재에 의해 브레이징 접합됨으로써 형성된다. 이 회로층 (12) 및 제 1 금속층 (13) 의 두께는 0.1 ㎜ ∼ 1.0 ㎜ 의 범위 내로 설정된다.
제 1 금속층 (13) 은, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판 (13') 이 세라믹스 기판 (11) 에 접합됨으로써 형성되어 있다. 이 제 1 금속층 (13) 중에는, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있다.
제 2 금속층 (14) 은, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금 (본 실시형태에서는 알루미늄) 으로 이루어지는 금속판 (14') 이 제 1 금속층 (13) 에 고상 확산 접합에 의해 접합됨으로써 형성된다. 금속판 (14') 의 두께는, 재질이 알루미늄 또는 알루미늄 합금인 경우에는 0.1 ㎜ ∼ 1.0 ㎜ 의 범위 내, 니켈 또는 니켈 합금인 경우에는 50 ㎛ 이상으로 설정된다. 이 제 2 금속층 (14) 중에는, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있다.
냉각기 (20) 는, 반도체 소자 (30) 의 열을 방산하기 위한 것으로서, 본 실시형태에서는, 물 등의 냉각 매체가 유통하는 편평한 통체 (筒體) (21) 내에, 내부의 유로 (22) 를 구획하는 복수의 칸막이벽 (23) 이 편평한 통체 (21) 의 두께 방향을 따라 형성되어 있다. 이 냉각기 (20) 는 예를 들어 알루미늄 합금 (예를 들어 A3003, A6063 등) 의 압출 성형에 의해 형성된다. 그리고, 파워 모듈용 기판 (10) 의 제 2 금속층 (14) 에, 냉각기 (20) 의 통체 (21) 의 상측에 위치하는 천판 (21a) 이 브레이징 접합에 의해 고정되어 있다.
반도체 소자 (30) 는, 반도체를 구비한 전자 부품으로, 필요시되는 기능에 따라 IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), FWD (Free Wheeling Diode) 등의 여러 가지의 반도체 소자가 선택된다.
이 반도체 소자 (30) 는 회로층 (12) 에 솔더링에 의해 접합되고, 그 솔더링재는, 예를 들어 Sn-Sb 계, Sn-Ag 계, Sn-Cu 계, Sn-In 계, 혹은 Sn-Ag-Cu 계의 솔더링재 (이른바 납프리 솔더링재) 가 사용된다.
이와 같이 구성되는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (10) 의 제조 방법에 대해 도 2a ∼ 도 2c 를 참조하면서 설명한다.
(제 1 접합 공정)
먼저, 세라믹스 기판 (11) 의 일방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판 (12') 을 접합하여 회로층 (12) 을 형성함과 함께, 세라믹스 기판 (11) 의 타방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판 (13') 을 접합하여 제 1 금속층 (13) 을 형성한다. 즉, 도 2a 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (11) 의 양면에 은 티탄 (Ag-Ti) 계 또는 은 구리 티탄 (Ag-Cu-Ti) 계의 활성 금속 브레이징재, 예를 들어 Ag-27.4 질량% Cu-2.0 질량% Ti 의 브레이징재의 페이스트를 도포하여 브레이징재 도포층 (40) 을 형성하고, 이들 브레이징재 도포층 (40) 위에 회로층 (12) 및 제 1 금속층 (13) 이 되는 구리판 (금속판) (12', 13') 을 각각 적층한다.
그리고, 그 적층체 (S) 를 도 3 에 나타내는 가압 장치 (110) 에 의해 적층 방향으로 가압한 상태로 한다.
이 가압 장치 (110) 는, 베이스판 (111) 과, 베이스판 (111) 의 상면의 네 귀퉁이에 수직으로 장착된 가이드 포스트 (112) 와, 이들 가이드 포스트 (112) 의 상단부에 고정된 고정판 (113) 과, 이들 베이스판 (111) 과 고정판 (113) 사이에서 자유롭게 상하 이동할 수 있도록 가이드 포스트 (112) 에 지지된 가압판 (114) 과, 고정판 (113) 과 가압판 (114) 사이에 형성되어 가압판 (114) 을 하방으로 탄성 지지하는 스프링 등의 탄성 지지 수단 (115) 을 구비하고 있다.
고정판 (113) 및 가압판 (114) 은, 베이스판 (111) 에 대해 평행하게 배치되어 있고, 베이스판 (111) 과 가압판 (114) 사이에 전술한 적층체 (S) 가 배치된다. 적층체 (S) 의 양면에는 가압을 균일하게 하기 위해서 쿠션 시트 (116) 가 배치 형성된다. 쿠션 시트 (116) 는, 카본 시트와 그라파이트 시트의 적층판으로 형성되어 있다.
이 가압 장치 (110) 에 의해 적층체 (S) 를 가압한 상태에서, 가압 장치 (110) 마다 도시 생략된 가열로 내에 설치하고, 진공 분위기 하에서 접합 온도로 가열하여 세라믹스판 (11) 에 구리판 (12') (회로층 (12)) 과 구리판 (13') (제 1 금속층 (13)) 을 브레이징 접합한다. 이 경우의 접합 조건으로는, 예를 들어 0.05 ㎫ 이상 1.0 ㎫ 이하의 가압력으로, 800 ℃ 이상 930 ℃ 이하의 접합 온도에서, 1 분 ∼ 60 분의 가열로 한다.
이 브레이징은, 활성 금속 브레이징법이며, 브레이징재 중의 활성 금속인 Ti 가 세라믹스 기판 (11) 에 우선적으로 확산되어 질화티탄 (TiN) 을 형성하고, 은 구리 (Ag-Cu) 합금을 개재하여 구리판 (12', 13') 과 세라믹스 기판 (11) 을 접합한다. 이로 인해, 세라믹스 기판 (11) 의 양면에 회로층 (12) 및 제 1 금속층 (13) 을 형성한다.
(제 2 접합 공정)
다음으로, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 금속판 (14') 과 제 1 금속층 (13) 을 고상 확산 접합에 의해 접합하여 제 2 금속층 (14) 을 형성한다. 즉, 제 1 금속층 (13) 의 세라믹스 기판 (11) 과는 반대측의 면에 제 2 금속층 (14) 을 형성한다.
이 경우, 제 2 금속층 (14) 이 되는 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금 (본 실시형태에서는 알루미늄) 의 금속판 (14') 을 제 1 금속층 (13) 에 적층하고, 이들 적층체를 전술한 것과 동일한 가압 장치 (110) 에 의해 적층 방향으로 가압하고, 진공 분위기 하에서 소정의 접합 온도로 가열하고, 제 1 금속층 (13) 에 고상 확산 접합에 의해 접합된 제 2 금속층 (14) 을 형성한다.
도 2b 는, 제 2 금속층 (14) 으로서 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금 (본 실시형태에서는 알루미늄) 으로 이루어지는 금속판 (14') 을 사용하는 경우를 나타내고 있고, 그 금속판 (14') 과 제 1 금속층 (13) 사이에 티탄박 (41) 을 개재시켜 고상 확산 접합한다. 이 티탄박 (41) 은 3 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하의 두께로 설정된다. 그리고, 0.1 ㎫ 이상 3.4 ㎫ 이하로 가압하고, 진공 분위기 하에서 접합 온도 580 ℃ 이상 640 ℃ 이하로 1 분 이상 120 분 이하 가열한다. 이로 인해, 티탄박 (41) 과 제 1 금속층 (13) 사이, 및 티탄박 (41) 과 제 2 금속층 (14) 사이에서 각각 확산 접합된다. 그리고, 제 1 금속층 (13) 과 제 2 금속층 (14) 사이에는 티탄층 (42) 이 형성된다. 또한, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 금속판 (14') 에는, 예를 들어, 순도 99 % 이상, 순도 99.9 % 이상, 순도 99.99 % 이상의 순알루미늄이나, A3003, A6063 등의 알루미늄 합금을 사용할 수 있다.
이 공정에 있어서 제 1 금속층 (13) 과 금속판 (14') (제 2 금속층 (14)) 이 티탄박 (41) 을 개재하여 고상 확산 접합에 의해 접합된 결과, 제 1 금속층 (13) 중에는 그 표면에 접합된 티탄층 (42) 중의 Ti 가 확산된 상태에서 존재함과 함께, 제 2 금속층 (14) 중에도 그 표면에 접합된 티탄층 (42) 중의 Ti 가 확산된 상태에서 존재한다.
(제 3 접합 공정)
다음으로, 제 2 금속층 (14) 에 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기 (20) 를 Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합한다.
이 Mg 함유 Al 계 브레이징재로는, Al-Si-Mg 박, Al-Cu-Mg 박이나 Al-Ge-Cu-Si-Mg 박 등을 사용할 수 있다. 또, 도 2c 에 나타내는 바와 같이, 코어재의 양면에 Mg 함유 Al 계 브레이징재가 형성된 양면 브레이즈 클래드재 (45) 를 사용할 수도 있다.
본 실시형태의 양면 브레이즈 클래드재 (45) 는, 알루미늄 합금 (예를 들어 A3003 재) 으로 이루어지는 코어재 (46) 의 양면에 Al-Si-Mg 계의 브레이징재층 (47) 이 형성된 클래드재이며, 코어재 (46) 의 양면에 브레이징재를 중첩하여 압연함으로써 형성된다. 코어재 (46) 의 두께는 0.05 ㎜ 이상 0.6 ㎜ 이하이며, 양면의 브레이징재층 (47) 은 5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하의 두께이다.
이 양면 브레이즈 클래드재 (45) 를 제 2 금속층 (14) 과 냉각기 (20) 사이에 개재시켜 이것들을 적층하고, 도 3 과 동일한 가압 장치 (110) 를 사용하여 적층 방향으로 가압한 상태에서, 가압 장치 (110) 마다 질소 분위기 또는 아르곤 분위기 하에서 가열하여 브레이징한다. 가압력으로는, 예를 들어 0.001 ㎫ 이상 0.5 ㎫ 이하가 되고, 접합 온도로는 Al 과 Cu 의 공정 (共晶) 온도보다 높은 580 ℃ 이상 630 ℃ 이하가 된다.
이 제 3 접합 공정에서는 브레이징의 접합 온도가 Al 과 Cu 의 공정 온도보다 높기 때문에, 만약 Al 을 함유한 용융 브레이징재가 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (13) 과 접촉하면, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (13) 이 침식되어, 제 1 금속층 (13) 의 변형 등이 발생한다.
그러나 본 실시형태에서는, 알루미늄으로 이루어지는 제 2 금속층 (14) 의 측면에 브레이징재에 잘 젖지 않는 알루미늄 산화물이 존재하기 때문에, 용융된 Mg 함유 Al 계 브레이징재 (본 실시형태에 있어서는 Al-Si-Mg 계의 브레이징재) 는 이 제 2 금속층 (14) 의 측면을 넘어 제 1 금속층 (13) 과 접촉하지 않아, 제 1 금속층 (13) 을 변형시키는 경우가 없다.
이것은, 용융된 Mg 함유 Al 계 브레이징재가 제 2 금속층 (14) 및 제 1 금속층 (13) 으로 올라가고자 했을 때에, 제 2 금속층 (14) 의 측면에 존재하는 산화물이 브레이징재를 튕겨내는 배리어로서의 효과가 발생하기 때문이다.
또, 본 실시형태에서는, 제 2 금속층 (14) 에 냉각기 (20) 를 브레이징하는 제 3 접합 공정시의 접합 온도가 알루미늄과 구리의 공정 온도보다 높지만, 제 2 금속층 (14) 과 제 1 금속층 (13) 의 계면 부분에는 티탄층 (42) 이 개재되어 있으므로, 제 3 접합 공정의 브레이징시에도 제 2 금속층 (14) 의 알루미늄과 제 1 금속층 (13) 의 구리 사이에서 액상이 발생하지 않아, 제 1 금속층 (13) 이 용융되는 것이 방지된다.
또한, 이 브레이징 후, 제 2 금속층 (14) 과 냉각기 (20) 사이에는, 양면 브레이즈 클래드재 (45) 의 코어재 (46) 였던 알루미늄 합금으로 이루어지는 접합층 (48) 이 얇게 개재된다.
이상과 같이 제조되는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (10) 은, 세라믹스 기판 (11) 의 양면에 회로층 (12), 제 1 금속층 (13) 을 형성하고, 그 제 1 금속층 (13) 에 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 제 2 금속층 (14) 을 개재하여 알루미늄 합금제의 냉각기 (20) 를 브레이징하므로, Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 저하중으로 브레이징할 수 있다. 또, Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 냉각기 (20) 의 브레이징을 실시하고 있지만, 용융된 Mg 함유 Al 계 브레이징재는 제 2 금속층 (14) 의 측면에서 튕겨지므로, 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (13) 과 접촉하는 경우가 없어, 제 1 금속층 (13) 을 변형시키는 경우가 없다. 이 냉각기 (20) 는, 알루미늄 합금제이고 내부에 유로 (22) 를 갖기 때문에, 비교적 강성이 낮지만, 이 브레이징이 저하중이므로, 냉각기 (20) 를 변형시키지 않고 확실하게 접합할 수 있다.
또한, 본 발명은, 상기 실시형태의 구성인 것에 한정되는 것이 아니고, 세부 구성에 있어서는, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 여러 가지의 변경을 더하는 것이 가능하다.
상기 실시형태에서는, Al 과 Cu 의 공정 온도 이상의 융점을 갖는 Al-Si-Mg 브레이징재를 사용하고 있기 때문에 제 1 금속층 (13) 과 제 2 금속층 (14) 사이에 티탄층 (42) 이 개재되는 구조로 했지만, Al 과 Cu 의 공정 온도 미만의 융점을 갖는 Mg 함유 Al 계 브레이징재 (예를 들어 Al-15Ge-12Si-5Cu-1Mg : 융점 540 ℃) 를 사용하는 경우, 티탄층을 개재시키지 않고 제 1 금속층 (13) 과 제 2 금속층 (14) 을 직접 고상 확산 접합하는 것도 가능하다. 이 경우, 제 1 금속층 (13) 중에는 접합된 제 2 금속층 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재함과 함께, 제 2 금속층 중에는 제 1 금속층 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재한다.
또, 이 경우, 제 2 금속층 (14) 에 냉각기 (20) 를 브레이징할 때의 온도가 Al 과 Cu 의 공정 온도 미만이 되므로, 제 2 금속층 (14) 의 알루미늄과 제 1 금속층 (13) 의 구리 사이에서 액상이 발생하지 않아, 제 1 금속층 (13) 이 변형되는 것이 방지된다.
냉각기로는, 상기 서술한 바와 같은 구조에 한정되지 않고 평판재를 사용해도 되고, 재질은 알루미늄 합금에 한정되지 않고 Al 계 또는 Mg 계의 저열선 팽창재 (예를 들어 AlSiC 등) 를 사용할 수 있다.
(제 2 실시형태)
본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (210) 은, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (211) 과, 세라믹스 기판 (211) 의 일방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층 (212) 과, 세라믹스 기판 (211) 의 타방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (213) 과, 제 1 금속층 (213) 에 접합된 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층 (214) 과, 제 2 금속층 (214) 에 접합된 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기 (20) 를 구비한다. 또, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 냉각기 (20) 를 브레이징 접합하는 데에 사용된 양면 클래드재의 일부가, 접합층 (48) 으로서 제 2 금속층 (214) 과 냉각기 (20) 사이에 잔존하고 있다.
이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (210) 에서는, 제 1 금속층 (213) 중에, 그 표면에 접합된 제 2 금속층 (214) 중의 Ni 가 확산된 상태에서 존재하고 있음과 함께, 제 2 금속층 (214) 중에, 그 표면에 접합된 제 1 금속층 (213) 중의 Cu가 확산된 상태에서 존재하고 있다.
또, 이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (210) 에서는, 제 2 금속층 (214) 은 제 1 금속층 (213) 보다 면적이 크다. 이로 인해, 냉각기 (20) 를 접합할 때에 용융된 브레이징재가 제 1 금속층 (213) 에 도달하는 것이 방지되고 있다.
이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (210) 은, 상기 서술한 제 1 실시형태와 동일한 제조 방법에 의해 제조되지만, 제 2 금속층 (214) 이 니켈인 것에 의해, 제 1 접합 공정 및 제 2 접합 공정을 동시에 실시하는 것이 가능하다. 이 경우, 회로층 (212) 및 제 1 금속층 (211) 이 되는 각 금속판을 세라믹스 기판 (211) 에, 은 티탄 (Ag-Ti) 계 또는 은 구리 티탄 (Ag-Cu-Ti) 계의 활성 금속 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하는 것과 동시에, 제 1 금속층 (211) 이 되는 금속판에 제 2 금속층 (214) 이 되는 금속판을 고상 확산 접합한다.
(제 3 실시형태)
본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (310) 은, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (311) 과, 세라믹스 기판 (311) 의 일방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층 (312) 과, 세라믹스 기판 (311) 의 타방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (313) 과, 제 1 금속층 (313) 에 접합된 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층 (314) 과, 제 2 금속층 (314) 에 접합된 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기 (20) 를 구비하고, 추가로 제 2 금속층 (314) 과 냉각기 (20) 사이에 개재되는 알루미늄층 (315) 을 갖는다. 또, 상기 각 실시형태와 마찬가지로, 냉각기 (20) 를 브레이징 접합하는 데에 사용된 양면 클래드재의 일부가, 접합층 (48) 으로서 알루미늄층 (315) 과 냉각기 (20) 사이에 잔존하고 있다.
이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (310) 에서는, 제 1 금속층 (313) 중에, 그 표면에 접합된 제 2 금속층 (314) 중의 Ni 가 확산된 상태에서 존재하고 있음과 함께, 제 2 금속층 (314) 중에, 그 일방의 표면에 접합된 제 1 금속층 (313) 중의 Cu 와, 타방의 표면에 접합된 알루미늄층 (315) 중의 Al 이 확산된 상태에서 존재하고 있다.
(제 4 실시형태)
본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (410) 은, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 세라믹스 기판 (411) 과, 세라믹스 기판 (411) 의 일방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층 (412) 과, 세라믹스 기판 (411) 의 타방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층 (413) 과, 제 1 금속층 (413) 에 접합된 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층 (414) 과, 제 2 금속층 (414) 에 접합된 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기 (20) 를 구비하고, 추가로 제 1 금속층 (413) 과 제 2 금속층 (414) 사이에 개재되는 티탄층 (415) 을 갖는다. 또, 상기 각 실시형태와 마찬가지로, 냉각기 (20) 를 브레이징 접합하는 데에 사용된 양면 클래드재의 일부가, 접합층 (48) 으로서 제 2 금속층 (414) 과 냉각기 (20) 사이에 잔존하고 있다.
이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (410) 에서는, 제 1 금속층 (413) 및 제 2 금속층 (414) 중에, 그 표면에 접합된 티탄층 (415) 중의 Ti 가 확산된 상태에서 존재하고 있다.
또, 이 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 (410) 에서는, 제 2 금속층 (414) 및 티탄층 (415) 의 적어도 어느 것이, 제 1 금속층 (413) 보다 면적이 크다. 이로 인해, 냉각기 (20) 를 접합할 때에 용융된 브레이징재가 제 1 금속층 (413) 에 도달하는 것이 방지되고 있다.
산업상 이용가능성
구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속층을 알루미늄제 냉각기에 브레이징할 때의 변형의 발생을 방지하여, 열 저항이 작고, 접합 신뢰성이 높은 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판을 제공할 수 있다.
10, 210, 310, 410 : 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판
11, 211, 311, 411 : 세라믹스 기판
12, 212, 312, 412 : 회로층
13, 213, 313, 413 : 제 1 금속층
14, 214, 314, 414 : 제 2 금속층
12', 13' : 구리판 (금속판)
14' : 금속판
20 : 냉각기
21 : 통체
21a : 천판
22 : 유로
23 : 칸막이벽
30 : 반도체 소자
40 : 브레이징재 도포층
41 : 티탄박
42, 415 : 티탄층
45 : 양면 브레이즈 클래드재 (Mg 함유 Al 계 브레이징재)
46 : 코어재
47 : 브레이징층
48 : 접합층
315 : 알루미늄층

Claims (14)

  1. 세라믹스 기판의 일방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판을 접합하여 회로층을 형성함과 함께, 상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 금속판을 접합하여 제 1 금속층을 형성하는 제 1 접합 공정과,
    알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 금속판과 상기 제 1 금속층을 고상 확산 접합에 의해 접합하여 제 2 금속층을 형성하는 제 2 접합 공정과,
    상기 제 2 금속층에 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 Mg 함유 Al 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하는 제 3 접합 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 티탄박을 개재시켜, 상기 제 1 금속층과 상기 티탄박 및 상기 제 2 금속층과 상기 티탄박을 각각 고상 확산 접합하고,
    상기 제 3 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층과 상기 냉각기를 Al-Si-Mg 계 브레이징재를 사용하여 브레이징 접합하는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 티탄박은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층은, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 상기 금속판을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층은, 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 상기 금속판을 사용하여 형성하고,
    상기 제 1 접합 공정 및 상기 제 2 접합 공정을 동시에 실시하는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 2 금속층은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 2 접합 공정에 있어서, 상기 제 2 금속층에 알루미늄판을 추가로 적층하여 상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 및 상기 제 2 금속층과 상기 알루미늄판을 각각 고상 확산 접합에 의해 접합하는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판의 제조 방법.
  8. 세라믹스 기판과,
    상기 세라믹스 기판의 일방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 회로층과,
    상기 세라믹스 기판의 타방의 면에 접합된 구리 또는 구리 합금으로 이루어지는 제 1 금속층과,
    상기 제 1 금속층에 접합된 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 혹은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 제 2 금속층과,
    상기 제 2 금속층에 접합된 알루미늄 합금으로 이루어지는 냉각기를 구비하고,
    상기 제 1 금속층 중에, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있음과 함께,
    상기 제 2 금속층 중에, 그 표면에 접합된 부재 중의 금속 원자가 확산된 상태에서 존재하고 있는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 금속층과 상기 제 2 금속층 사이에 개재되는 티탄층을 추가로 갖고,
    상기 제 1 금속층 중 및 상기 제 2 금속층 중에, 상기 티탄층 중의 티탄이 확산된 상태에서 존재하고 있는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 티탄층은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 금속층은 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 금속층은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 금속층은 상기 제 1 금속층보다 면적이 큰 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 금속층과 상기 냉각기 사이에 개재되는 알루미늄층을 추가로 갖는 것을 특징으로 하는 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판.
KR1020177012925A 2014-10-16 2015-10-09 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법 KR20170073618A (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014211529 2014-10-16
JPJP-P-2014-211529 2014-10-16
JPJP-P-2015-200784 2015-10-09
JP2015200784A JP6048558B2 (ja) 2014-10-16 2015-10-09 冷却器付パワーモジュール用基板及びその製造方法
PCT/JP2015/078765 WO2016060079A1 (ja) 2014-10-16 2015-10-09 冷却器付パワーモジュール用基板及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20170073618A true KR20170073618A (ko) 2017-06-28

Family

ID=55956621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177012925A KR20170073618A (ko) 2014-10-16 2015-10-09 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10211068B2 (ko)
EP (1) EP3208839B1 (ko)
JP (2) JP6048558B2 (ko)
KR (1) KR20170073618A (ko)
CN (1) CN107112298A (ko)
TW (1) TWI702693B (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210026818A (ko) * 2019-09-02 2021-03-10 현대자동차주식회사 전력 반도체용 냉각 장치 및 그 제조 방법
WO2022211329A1 (ko) * 2021-03-31 2022-10-06 주식회사 아모센스 파워모듈의 제조방법
WO2023163439A1 (ko) * 2022-02-24 2023-08-31 주식회사 아모그린텍 세라믹 기판 유닛 및 그 제조방법
WO2023163438A1 (ko) * 2022-02-24 2023-08-31 주식회사 아모그린텍 세라믹 기판 유닛 및 그 제조방법

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101656723B1 (ko) * 2015-06-30 2016-09-12 재단법인 오송첨단의료산업진흥재단 피드스루 제조방법
DE102015224464A1 (de) * 2015-12-07 2017-06-08 Aurubis Stolberg Gmbh & Co. Kg Kupfer-Keramik-Substrat, Kupferhalbzeug zur Herstellung eines Kupfer-Keramik-Substrats und Verfahren zur Herstellung eines Kupfer-Keramik-Substrats
US11535086B2 (en) * 2016-12-20 2022-12-27 Lg Innotek Co., Ltd. Heating rod, heating module including same, and heating device including same
CN110476244B (zh) * 2017-03-31 2023-11-03 罗姆股份有限公司 功率模块及其制造方法
JP1602558S (ko) * 2017-04-25 2018-04-23
US11167363B2 (en) * 2017-05-10 2021-11-09 Board Of Trustees Of Michigan State University Brazing methods using porous interlayers and related articles
JP7135716B2 (ja) * 2017-10-27 2022-09-13 三菱マテリアル株式会社 接合体、ヒートシンク付絶縁回路基板、及び、ヒートシンク
CN108337862B (zh) * 2018-03-02 2019-09-06 惠州市博宇科技有限公司 一种新能源电动车专用铝基板
EP3780085A4 (en) * 2018-03-28 2021-12-29 Mitsubishi Materials Corporation Insulated circuit board with heat sink
WO2020085377A1 (ja) * 2018-10-24 2020-04-30 ローム株式会社 半導体装置
CN113614261A (zh) * 2019-03-25 2021-11-05 京瓷株式会社 电路衬底及具备它的散热衬底或电子设备
JP7359647B2 (ja) * 2019-10-30 2023-10-11 日立Astemo株式会社 パワー半導体装置およびパワー半導体装置の製造方法
US10945333B1 (en) 2019-11-22 2021-03-09 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Thermal management assemblies having cooling channels within electrically insulated posts for cooling electronic assemblies
TWI795199B (zh) * 2022-01-28 2023-03-01 奇鋐科技股份有限公司 散熱模組製造方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2999760B2 (ja) * 1998-02-05 2000-01-17 日本碍子株式会社 ベリリウムと銅合金のhip接合体の製造方法およびhip接合体
US6071389A (en) * 1998-08-21 2000-06-06 Tosoh Smd, Inc. Diffusion bonded sputter target assembly and method of making
EP1043111B1 (en) * 1999-03-23 2006-05-31 Ngk Insulators, Ltd. Method of manufacturing beryllium-copper alloy hot isostatic press (Hip) bonded body and hip-bonded body
US6619537B1 (en) * 2000-06-12 2003-09-16 Tosoh Smd, Inc. Diffusion bonding of copper sputtering targets to backing plates using nickel alloy interlayers
JP2002203932A (ja) 2000-10-31 2002-07-19 Hitachi Ltd 半導体パワー素子用放熱基板とその導体板及びヒートシンク材並びにロー材
US6635360B2 (en) 2001-10-26 2003-10-21 Sky Aluminum Co., Ltd. Aluminum alloy brazing sheet
WO2003106733A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-24 Tosoh Smd, Inc. Target and method of diffusion bonding target to backing plate
JP4793622B2 (ja) 2005-03-04 2011-10-12 日立金属株式会社 セラミックス回路基板およびパワーモジュール並びにパワーモジュールの製造方法
JP2008147308A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Hitachi Metals Ltd 回路基板およびこれを用いた半導体モジュール
JP2008198706A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Hitachi Metals Ltd 回路基板、その製造方法およびそれを用いた半導体モジュール
WO2011030754A1 (ja) * 2009-09-09 2011-03-17 三菱マテリアル株式会社 ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
CN102596488B (zh) * 2009-10-26 2013-09-18 株式会社新王材料 铝接合合金、具有由该合金形成的接合合金层的覆层材料和铝接合复合材料
JP5707886B2 (ja) * 2010-11-15 2015-04-30 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュールおよびパワーモジュール用基板の製造方法
JP5548722B2 (ja) 2012-03-30 2014-07-16 三菱マテリアル株式会社 ヒートシンク付パワーモジュール用基板、及び、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法
JP5918008B2 (ja) 2012-05-08 2016-05-18 昭和電工株式会社 冷却器の製造方法
JP5991103B2 (ja) 2012-09-14 2016-09-14 三菱マテリアル株式会社 ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール、及びヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法
JP2014097529A (ja) * 2012-10-18 2014-05-29 Fuji Electric Co Ltd 発泡金属による接合方法、半導体装置の製造方法、半導体装置
CN104885206B (zh) * 2012-12-25 2018-03-30 三菱综合材料株式会社 功率模块
JP6307832B2 (ja) * 2013-01-22 2018-04-11 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール
JP5725061B2 (ja) 2013-03-14 2015-05-27 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、及びヒートシンク付パワーモジュール用基板
JP5725060B2 (ja) * 2013-03-14 2015-05-27 三菱マテリアル株式会社 接合体、パワーモジュール用基板、及びヒートシンク付パワーモジュール用基板
CN105189109B (zh) * 2013-03-14 2017-04-05 三菱综合材料株式会社 接合体、功率模块用基板及自带散热器的功率模块用基板
JP6127833B2 (ja) * 2013-08-26 2017-05-17 三菱マテリアル株式会社 接合体の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法
JP6079505B2 (ja) * 2013-08-26 2017-02-15 三菱マテリアル株式会社 接合体及びパワーモジュール用基板
US9735085B2 (en) * 2014-03-20 2017-08-15 Mitsubishi Materials Corporation Bonded body, power module substrate, power module and method for producing bonded body
JP6432466B2 (ja) * 2014-08-26 2018-12-05 三菱マテリアル株式会社 接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク、接合体の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、及び、ヒートシンクの製造方法
JP6432465B2 (ja) * 2014-08-26 2018-12-05 三菱マテリアル株式会社 接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク、接合体の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、及び、ヒートシンクの製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210026818A (ko) * 2019-09-02 2021-03-10 현대자동차주식회사 전력 반도체용 냉각 장치 및 그 제조 방법
WO2022211329A1 (ko) * 2021-03-31 2022-10-06 주식회사 아모센스 파워모듈의 제조방법
KR20220135685A (ko) * 2021-03-31 2022-10-07 주식회사 아모센스 파워모듈의 제조방법
WO2023163439A1 (ko) * 2022-02-24 2023-08-31 주식회사 아모그린텍 세라믹 기판 유닛 및 그 제조방법
WO2023163438A1 (ko) * 2022-02-24 2023-08-31 주식회사 아모그린텍 세라믹 기판 유닛 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP3208839A4 (en) 2018-12-05
JP2016219852A (ja) 2016-12-22
TW201626519A (zh) 2016-07-16
JP2016082234A (ja) 2016-05-16
JP6323522B2 (ja) 2018-05-16
US20170309499A1 (en) 2017-10-26
EP3208839B1 (en) 2021-07-28
TWI702693B (zh) 2020-08-21
JP6048558B2 (ja) 2016-12-21
CN107112298A (zh) 2017-08-29
US10211068B2 (en) 2019-02-19
EP3208839A1 (en) 2017-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20170073618A (ko) 냉각기가 장착된 파워 모듈용 기판 및 그 제조 방법
KR102300972B1 (ko) 파워 모듈용 기판 유닛 및 파워 모듈
KR102220852B1 (ko) 접합체의 제조 방법 및 파워 모듈용 기판의 제조 방법
KR102097177B1 (ko) 파워 모듈용 기판, 히트싱크가 부착된 파워 모듈용 기판 및 파워 모듈
KR102224535B1 (ko) 파워 모듈용 기판의 제조 방법
US20170309544A1 (en) Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
EP3166140B1 (en) Substrate unit for power modules, and power module
JP6435945B2 (ja) ヒートシンク付きパワーモジュール用基板
JP5957862B2 (ja) パワーモジュール用基板
JP6417834B2 (ja) 冷却器付パワーモジュール用基板及び冷却器付パワーモジュール用基板の製造方法
JP5989465B2 (ja) 絶縁基板の製造方法
JP2017174927A (ja) パワーモジュール及びその製造方法
JP7484268B2 (ja) 金属部材の仮止め方法、接合体の製造方法、及び、絶縁回路基板の製造方法
JP2016152385A (ja) パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP6481409B2 (ja) パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP5904257B2 (ja) パワーモジュール用基板の製造方法
WO2016060079A1 (ja) 冷却器付パワーモジュール用基板及びその製造方法
JP6201297B2 (ja) 銅板付きパワーモジュール用基板及び銅板付きパワーモジュール用基板の製造方法
JP5666372B2 (ja) 絶縁基板用積層材
JP6819385B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2016152383A (ja) パワーモジュール用基板及びパワーモジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application