KR20170032187A - 편광판의 제조 방법 - Google Patents

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KR20170032187A
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resin
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토시유키 나카
다케시 가와카미
다쿠야 안도
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있는 편광판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 편광판의 제조 방법은, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막(12a)을, 필름형 편광자(8)의 표면에 형성하는 도공 공정과, 도포막(12a)을 편광자(8)의 표면에 형성하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 조사하여, 도포막(12a)으로부터 수지층(12b)을 형성하는 경화 공정을 포함한다.

Description

편광판의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING POLARIZER}
본 발명은 편광판의 제조 방법에 관한 것이다.
편광판은, 액정 표시 장치를 구성하는 광학 부품의 하나이다. 편광판은, 필름형의 편광자와, 편광자의 편면 또는 양면에 접착된 보호 필름을 구비한다. 예컨대, 하기 특허문헌 1에 기재된 편광판은, 광양이온 경화형 에폭시 수지계 접착제를 통해 접착된 편광자와 보호 필름을 구비하고 있다.
일본 특허 제5046735호 공보 개요
최근, 스마트폰 등의 모바일 기기의 박형화에 따라, 모바일 기기에 이용되는 편광판을 얇게 하는 것이 요구되고 있다. 편광판을 얇게 하는 하나의 방법은, 종래의 보호 필름 대신에, 보다 얇은 보호층을 편광자에 겹치는 것이다. 예컨대, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을 형성하고, 활성 에너지선의 조사에 의해 도포막을 경화시키면, 종래의 보호 필름보다도 얇은 보호층을 형성하기 쉽다. 편광자와 보호 필름과의 접착에 종래 이용되어 온 활성 에너지선 경화성 수지 그 자체이기 때문에, 얇은 보호층을 형성할 수도 있다. 그러나, 보호층이 얇을수록, 보호층과 겹치는 편광자가 온도 변화(예컨대, 열충격)에 따라 용이하게 변형하여 균열되어 버린다. 편광자와 종래의 보호 필름 사이에 접착제로서 활성 에너지선 경화성 수지가 개재되는 경우도, 온도 변화에 따른 편광자의 균열이 일어날 수 있다.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있는 편광판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1 측면에 따른 편광판의 제조 방법은, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 편광자의 표면에 형성하는 도공 공정과, 도포막을 편광자의 표면에 형성하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 도포막으로부터 수지층을 형성하는 경화 공정을 포함한다.
본 발명의 제2 측면에 따른 편광판의 제조 방법은, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 기재의 표면에 형성하는 도공 공정과, 기재를, 도포막을 통해, 필름형 편광자의 표면에 접합하는 접합 공정과, 기재를 편광자의 표면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 도포막으로부터 수지층을 형성하는 경화 공정을 포함한다.
제2 측면에 따른 편광판의 제조 방법은, 경화 공정 후, 기재를 수지층으로부터 박리하는 박리 공정을 더 포함하여도 좋다.
제2 측면에 따른 편광판의 제조 방법의 도공 공정에서는, 도포막을, 조면화 처리가 행해져 있지 않은 기재의 표면에 형성하여도 좋다.
본 발명의 제1 측면 또는 제2 측면에 있어서는, 수지층은, 편광자를 보호하는 보호층이어도 좋다.
본 발명에 따르면, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있는 편광판의 제조 방법이 제공된다.
도 1 중의 (a), 도 1 중의 (b) 및 도 1 중의 (c)는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법을 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법을 나타낸 모식도이다.
도 3 중의 (a), 도 3 중의 (b) 및 도 3 중의 (c)는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법을 나타낸 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법을 나타낸 모식도이다.
도 5 중의 (a) 및 도 5 중의 (b)는 본 발명의 제3 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법을 나타낸 모식도이다.
이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 설명한다. 도면에 있어서, 동등한 구성 요소에는 동등한 부호를 붙인다. 본 발명은 하기 실시형태로 한정되는 것은 아니다.
(제1 실시형태)
본 발명의 제1 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 적어도 도공 공정과 경화 공정을 포함한다. 도공 공정에서는, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 편광자의 표면에 형성한다. 경화 공정에서는, 도포막을 편광자의 표면에 형성하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 도포막으로부터 수지층을 형성한다. 이하에서는, 각 공정을 상세히 설명한다.
도 1 중의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 제1 실시형태의 도공 공정에서는, 적층체(2a)를 이용한다. 적층체(2a)는, 필름형의 편광자(8)와, 편광자(8)에 겹치는 접착제층(6)과, 접착제층(6)을 통해 편광자(8)에 접합된 보호 필름(4)을 구비한다.
필름형의 편광자(8)는, 예컨대, 이하의 절차로 제작되어도 좋다.
우선, 필름형의 폴리비닐알코올계 수지를, 1축 방향 또는 2축 방향으로 연신한다. 계속해서, 폴리비닐알코올계 수지를, 요오드 또는 이색성 색소에 의해 염색한다. 염색 후의 폴리비닐알코올계 수지를, 가교를 위해, 가교제 용액(예컨대, 붕산 수용액)으로 처리한다. 가교제에 의한 처리 후, 폴리비닐알코올계 수지를 수세하고, 계속해서 건조시킨다. 이상의 절차를 거쳐 편광자(8)를 얻을 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산 비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산 비닐계 수지는, 예컨대, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산 비닐, 또는, 아세트산비닐과 다른 단량체와의 공중합체(예컨대, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체)여도 좋다. 아세트산비닐과 공중합하는 다른 단량체는, 에틸렌 외에, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 또는 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류여도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지는, 변성되어 있어도 좋다. 변성된 폴리비닐알코올계 수지는, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈, 또는 폴리비닐부티랄이어도 좋다.
편광자(8)의 두께는, 10 ㎛ 이하, 또는 8 ㎛ 이하여도 좋다. 편광자(8)가 얇을수록, 편광판의 박형화가 용이하다. 편광자(8)의 두께는 2 ㎛ 이상이어도 좋다. 편광자(8)가 두꺼울수록, 편광자(8)의 기계적 강도가 향상되기 쉽다.
보호 필름(4)은, 편광자(8)를 보호하는 기능을 갖는다. 보호 필름(4)은, 투광성을 갖는 열가소성 수지이면 좋고, 광학적으로 투명한 열가소성 수지여도 좋다. 보호 필름(4)을 구성하는 수지는, 예컨대, 쇄상 폴리올레핀계 수지, 환상 폴리올레핀계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 또는 이들의 혼합물 또는 공중합물이어도 좋다.
쇄상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌 수지 또는 폴리프로필렌 수지와 같은 쇄상 올레핀의 단독 중합체여도 좋다. 쇄상 폴리올레핀계 수지는, 2종 이상의 쇄상 올레핀으로 이루어진 공중합체여도 좋다.
환상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 또는 환상 올레핀의 부가 중합체여도 좋다. 환상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀의 공중합체(예컨대, 랜덤 공중합체)여도 좋다. 공중합체를 구성하는 쇄상 올레핀은, 예컨대, 에틸렌 또는 프로필렌이어도 좋다. 환상 폴리올레핀계 수지는, 상기한 중합체를 불포화 카르복실산 혹은 그 유도체로 변성한 그라프트 중합체, 또는 이들의 수소화물이어도 좋다. 환상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 노르보넨 또는 다환 노르보넨계 모노머 등의 노르보넨계 모노머를 이용한 노르보넨계 수지여도 좋다.
셀룰로오스에스테르계 수지는, 예컨대, 셀룰로오스트리아세테이트(트리아세틸셀룰로오스), 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리프로피오네이트 또는 셀룰로오스디프로피오네이트여도 좋다. 이들의 공중합물을 이용하여도 좋다. 수산기의 일부가 다른 치환기로 수식된 셀룰로오스에스테르계 수지를 이용하여도 좋다.
셀룰로오스에스테르계 수지 이외의 폴리에스테르계 수지를 이용하여도 좋다. 폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 다가 카르복실산 또는 그 유도체와 다가 알코올과의 중축합체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 디카르복실산 또는 그 유도체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 예컨대, 테레프탈산, 이소프탈산, 디메틸테레프탈레이트, 또는 나프탈렌디카르복실산디메틸이어도 좋다. 다가 알코올은, 예컨대, 디올이어도 좋다. 다가 알코올은, 예컨대, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 네오펜틸글리콜, 또는 시클로헥산디메탄올이어도 좋다.
폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌나프탈레이트, 폴리시클로헥산디메틸테레프탈레이트, 또는 폴리시클로헥산디메틸나프탈레이트여도 좋다.
폴리카보네이트계 수지는, 카르보네이트기를 통해 중합 단위(모노머)가 결합된 중합체이다. 폴리카보네이트계 수지는, 수식된 폴리머 골격을 갖는 변성 폴리카보네이트여도 좋고, 공중합 폴리카보네이트여도 좋다.
(메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 폴리(메트)아크릴산에스테르(예컨대, 폴리메타크릴산메틸); 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산 공중합체; 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산에스테르 공중합체; 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메트)아크릴산 공중합체; (메트)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(예컨대, MS 수지); 메타크릴산메틸과 지환족 탄화수소기를 갖는 화합물과의 공중합체(예컨대, 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)이어도 좋다.
보호 필름(4)은, 윤활제, 가소제, 분산제, 열안정제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 대전방지제, 및 산화방지제로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 첨가제를 포함하여도 좋다.
보호 필름(4)의 두께는, 90 ㎛ 이하, 50 ㎛ 이하, 또는 30 ㎛ 이하여도 좋다. 보호 필름(4)이 얇을수록, 편광판의 박형화가 용이하다. 보호 필름(4)의 두께는, 5 ㎛ 이상이어도 좋다. 보호 필름(4)이 두꺼울수록, 보호 필름(4)의 기계적 강도 및 취급성이 향상되기 쉽다.
보호 필름(4)은, 위상차 필름 또는 휘도 향상 필름과 같이, 광학 기능을 갖는 필름이어도 좋다. 예컨대, 상기 열가소성 수지로 이루어진 필름을 연신하거나, 상기 필름 상에 액정층 등을 형성하거나 함으로써, 임의의 위상차값이 부여된 위상차 필름을 얻을 수 있다.
접착제층(6)은, 폴리비닐알코올 등의 수계 접착제를 포함하여도 좋고, 후술하는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하여도 좋다. 경화한 접착제층(6)의 두께는, 예컨대, 0.05 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하여도 좋다. 접착제층(6)이 두꺼울수록, 편광자(8)와 보호 필름(4) 사이에 기포가 쉽게 형성되지 않고, 편광자(8) 및 보호 필름(4)이 강고하게 접착되고 쉽다. 접착제층(6)이 얇을수록, 편광판의 박형화가 용이하다.
도 1 중의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 도공 공정에서는, 적층체(2a)를 방향 d2로 반송한다. 계속해서, 도 1 중의 (a) 및 (c)에 도시된 바와 같이, 도공 장치(1)를 이용하여, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막(12a)을, 적층체(2a)가 갖는 편광자(8)의 표면에 형성한다. 환언하면, 도포막(12a)을, 적층체(2a)의 편광자(8) 측의 표면에 형성하여, 적층체(2b)를 얻는다. 도공 장치(1)는, 예컨대, 마이크로 챔버 닥터 등의 그라비아 코터여도 좋다. 도포막(12a)은, 활성 에너지선 경화성 수지만으로 이루어져 있어도 좋다.
활성 에너지선 경화성 수지는, 활성 에너지선이 조사됨으로써, 경화하는 수지이다. 활성 에너지선은, 예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, 또는 X선이어도 좋다. 활성 에너지선 경화성 수지는, 자외선 경화성 수지여도 좋다. 자외선 경화성 수지는, 무용제형의 접착제로서 조제할 수 있다. 따라서, 활성 에너지선 경화성 수지가 자외선 경화성 수지인 경우, 도공 공정 또는 조사 공정 후에, 용제를 제거하기 위한 건조 공정을 실시하지 않아도 좋다. 또한 자외선 경화성 수지는, 수계 접착제에 비하여 투습도가 낮은 보호 필름과 병용하기 쉽다.
활성 에너지선 경화성 수지는, 1종의 수지여도 좋고, 복수종의 수지를 포함하여도 좋다. 예컨대, 활성 에너지선 경화성 수지는, 양이온 중합성의 경화성 화합물, 또는 라디칼 중합성의 경화성 화합물을 포함하여도 좋다. 활성 에너지선 경화성 수지는, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 개시시키기 위한 양이온 중합개시제 또는 라디칼 중합개시제를 포함하여도 좋다.
양이온 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, 에폭시계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물), 또는 옥세탄계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 옥세탄 고리를 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, (메트)아크릴계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 비닐계 화합물이어도 좋다.
활성 에너지선 경화성 수지는, 필요에 따라, 양이온 중합 촉진제, 이온 트랩제, 산화방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 대전방지제, 레벨링제, 또는 용제 등을 포함하여도 좋다.
경화 공정에서는, 도포막(12a)을 편광자(8)의 표면에 형성하고 나서 5초 이상 경과한 후, 조사 장치(3)를 이용하여, 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 조사한다. 활성 에너지선(L)의 조사에 의해, 도포막(12a)이 경화하여 수지층(12b)이 된다. 이하에서는, 도포막(12a)을 편광자(8)의 표면에 형성하고 나서 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 조사할 때까지의 시간을, 경과 시간 T1로 한다. 즉, 경과 시간 T1은 5초 이상이다.
경과 시간 T1을 5초 이상으로 조정함으로써, 미경화의 도포막(12a)이 편광자(8)의 표면에 불균일 없이 습윤 확산되어, 미경화의 도포막(12a)이 편광자(8)의 표면에 충분히 밀착된다. 미경화의 도포막(12a)이 편광자(8)의 표면에 충분히 밀착된 후에, 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 조사함으로써, 편광자(8)에 강고하게 접착된 수지층(12b)을 얻을 수 있다. 수지층(12b)이 편광자(8)에 강고하게 접착되어 있기 때문에, 편광자(8)가 급격한 온도 변화(열충격)를 받았다고 해도, 온도 변화에 따른 편광자(8)의 변형(예컨대, 팽창 및 수축)이 수지층(12b)에 의해 억제된다. 따라서, 온도 변화에 따른 편광자(8)의 균열이 억제된다.
경과 시간 T1은, 예컨대, 7초 이상이어도 좋다. 경과 시간 T1은, 생산성의 관점에서, 예컨대, 300초 이하, 250초 이하, 또는 240초 이하여도 좋다. 경과 시간 T1이 길수록, 편광자(8)의 균열이 억제되기 쉽다. 경과 시간 T1이 짧을수록, 경화 공정의 소요 시간이 짧아, 편광판의 생산성이 향상된다. 경과 시간 T1은, 도공 장치(1)와 조사 장치(3)와의 거리에 따라 조정하여도 좋다. 경과 시간 T1은, 적층체(2b)의 반송 속도에 따라 조정하여도 좋다.
조사 장치(3)는, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 또는 메탈할라이드 램프여도 좋다.
경화 공정에서는, 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 직접적 또는 간접적으로 조사하여도 좋다. 예컨대, 도 1 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 활성 에너지선(L)을 도포막(12a)의 표면에 직접 조사하여도 좋다. 활성 에너지선(L)이 보호 필름(4) 및 편광자(8)를 투과할 수 있는 경우, 활성 에너지선(L)을 보호 필름(4) 측으로부터 도포막(12a)에 조사하여도 좋다. 즉, 조사 장치(3)를 보호 필름(4) 측에 배치하고, 활성 에너지선(L)을, 보호 필름(4) 및 편광자(8)를 통해, 도포막(12a)에 조사하여도 좋다. 활성 에너지선(L)을, 도포막(12a) 측 및 보호 필름(4) 측으로부터, 도포막(12a)에 조사하여도 좋다. 즉, 활성 에너지선(L)을, 도포막(12a)의 양면(표리)에 조사하여도 좋다.
활성 에너지선(L)을 도포막(12a)에 조사하기 전의 도포막(12a)의 표면 온도는, 예컨대, 20℃ 이상 140℃ 이하, 또는 20℃ 이상 80℃ 이하로 조정되어도 좋다. 도포막(12a)의 표면 온도가 이들 온도 범위 내인 경우, 도포막(12a)이 편광자(8)에 밀착되기 쉬워, 편광자(8)의 균열이 억제되기 쉽다. 도포막(12a)의 표면 온도는, 도포막(12a) 주위의 분위기 또는 환경 온도라고 바꿔 말해도 좋다.
이상의 공정을 거쳐 제조된 편광판(적층체(2b))은, 도 1 중의 (c)에 도시된 바와 같이, 수지층(12b)과, 수지층(12b)에 직접 겹치는 편광자(8)와, 편광자(8)에 직접 겹치는 접착제층(6)과, 접착제층(6)을 통해 편광자(8)에 접합된 보호 필름(4)을 구비한다. 상기한 바와 같이, 편광판이 구비하는 편광자(8)가 급격한 온도 변화(열충격)를 받았다고 해도, 온도 변화에 따른 편광자(8)의 변형이 수지층(12b)에 의해 억제된다. 따라서, 온도 변화에 따른 편광자(8)의 균열이 억제된다.
수지층(12b)은, 편광자(8)를 보호하는 보호층이어도 좋다. 수지층(12b)은, 광학 보상층이어도 좋다. 편광판(적층체(2b))은, 보호 필름(4) 또는 수지층(12b)에 적층된 다른 광학층을 구비하여도 좋다. 다른 광학층은, 예컨대, 반사형 편광 필름, 방현 기능을 구비한 필름, 표면 반사 방지 기능을 구비한 필름, 반사 필름, 반투과 반사 필름, 시야각 보상 필름, 하드 코트층, 점착제층, 터치 센서층, 대전방지층 또는 방오층이어도 좋다.
(제2 실시형태)
본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 이하에 기재하는 사항을 제외하고, 제1 실시형태와 동일하다. 제2 실시형태에 있어서도, 제1 실시형태와 마찬가지로, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있다. 이하에서는, 제1 실시형태 및 제2 실시형태에 공통되는 사항의 설명을 생략한다.
제2 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 적어도 도공 공정과 접합 공정과 경화 공정을 포함한다. 제2 실시형태의 도공 공정에서는, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 기재의 표면에 형성한다. 제2 실시형태의 접합 공정에서는, 기재를, 도포막을 통해, 필름형 편광자의 표면에 접합한다. 제2 실시형태의 경화 공정에서는, 기재를 편광자의 표면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 도포막으로부터 수지층을 형성한다. 이하에서는, 각 공정을 상세히 설명한다.
도 2 및 도 3 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태의 도공 공정에서는, 제1 적층체(24)를 이용한다. 제1 적층체(24)는, 필름형의 편광자(38)와, 편광자(38)에 겹치는 접착제층(36)과, 접착제층(36)을 통해 편광자(8)에 접합된 보호 필름(34)을 구비한다. 제2 실시형태의 제1 적층체(24)는, 제1 실시형태의 적층체(2a)와 동일하여도 좋다. 즉, 제2 실시형태의 편광자(38)는, 제1 실시형태의 편광자(8)와 동일하여도 좋다. 제2 실시형태의 접착제층(36)은, 제1 실시형태의 접착제층(6)과 동일하여도 좋다. 제2 실시형태의 보호 필름(34)은, 제1 실시형태의 보호 필름(4)과 동일하여도 좋다.
도 2 및 도 3 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태에서는, 제1 적층체(24)를 방향 d24를 따라 반송하고, 한 쌍의 접합 롤(롤(7a 및 7b)) 사이에 공급한다. 가이드 롤(5a)은, 제1 적층체(24)가 갖는 보호 필름(34)의 표면에 접한다.
도 2 및 도 3 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태의 도공 공정에서는, 도공 장치(1)를 이용하여, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막(32a)을, 필름형 기재(22a)의 표면에 형성한다. 즉 도공 공정에서는, 기재(22a)와, 기재(22a)의 표면에 형성된 도포막(32a)을 구비하는 제2 적층체(22b)를 제작한다. 제2 실시형태의 도포막(32a)의 조성은, 제1 실시형태의 도포막(12a)과 동일하여도 좋다. 제2 실시형태의 기재(22a)는, 제1 실시형태의 보호 필름(4)과 동일한 필름이어도 좋다.
도 2 및 도 3 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태에서는, 제2 적층체(22b)를 방향 d22를 따라 반송하고, 한 쌍의 롤(7a 및 7b) 사이에 공급한다. 가이드 롤(5b)은, 제2 적층체(22b)가 갖는 기재(22a)의 표면에 접한다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태의 접합 공정에서는, 제2 적층체(22b)의 도포막(32a)을, 제1 적층체(24)의 편광자(38)에 대향시켜, 제1 적층체(24) 및 제2 적층체를 겹친다. 겹쳐진 제1 적층체(24) 및 제2 적층체(22b)를 한 쌍의 롤(7a 및 7b) 사이에 끼운다. 환언하면, 한 쌍의 접합 롤을 이용하여, 기재(22a)를, 도포막(32a)을 통해, 편광자(38)의 표면에 접합한다. 그 결과, 기재(22a)와, 기재(22a)에 겹치는 도포막(32a)과, 도포막(32a)에 겹치는 편광자(38)와, 편광자(38)에 겹치는 접착제층(36)과, 접착제층(36)에 겹치는 보호 필름(34)을 구비하는 제3 적층체(26a)를 얻을 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제2 실시형태의 경화 공정에서는, 제3 적층체(26a)를 한 쌍의 롤(7a 및 7b) 사이에서 방향 d26을 따라 반송한다. 그리고, 기재(22a)를 편광자(38)의 표면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 조사 장치(3)를 이용하여, 활성 에너지선(L)을 도포막(32a)에 조사한다. 즉, 활성 에너지선(L)의 조사에 의해, 도포막(32a)이 경화하여 수지층(32b)이 된다. 이하에서는, 도포막(32a)을 통해 기재(22a)를 편광자(38)의 표면에 접합하고 나서 활성 에너지선(L)을 도포막(32a)에 조사할 때까지의 시간을, 경과 시간 T2로 한다.
제2 실시형태의 경과 시간 T2는, 제1 실시형태의 경과 시간 T1에 대응한다. 경과 시간 T2는 7초 이상이어도 좋고, 300초 이하, 250초 이하, 또는 240초 이하여도 좋다. 경과 시간 T2는, 롤(7a 및 7b)과 조사 장치(3)와의 거리에 따라 조정하여도 좋다. 경과 시간 T2는, 제3 적층체(26a)의 반송 속도에 따라 조정하여도 좋다.
도 2에 도시된 바와 같이, 경화 공정에서는, 활성 에너지선(L)을 기재(22a) 측으로부터 도포막(32a)에 조사하여도 좋다. 즉, 활성 에너지선(L)을, 기재(22a)를 통해, 도포막(32a)에 조사하여도 좋다. 활성 에너지선(L)을 보호 필름(34) 측으로부터 도포막(32a)에 조사하여도 좋다. 즉, 조사 장치(3)를 보호 필름(34) 측에 배치하고, 활성 에너지선(L)을, 보호 필름(34) 및 편광자(38)를 통해, 도포막(32a)에 조사하여도 좋다. 활성 에너지선(L)을, 기재(22a) 측 및 보호 필름(34) 측으로부터, 도포막(32a)에 조사하여도 좋다.
제2 실시형태에서는, 경화 공정 후에 박리 공정을 실시하여도 좋다. 도 2와 도 3 중의 (b) 및 (c)에 도시된 바와 같이, 박리 공정에서는, 기재(22a)를 제3 적층체(26a)의 수지층(32b)으로부터 박리한다. 박리 공정에 있어서, 가이드 롤(5c)은, 제3 적층체(26a)가 갖는 기재(22a)에 접한다. 기재(22a)가 박리된 제4 적층체(26b)는 방향 d26으로 반송된다.
박리 공정을 실시하는 경우, 제2 실시형태에 있어서 완성된 편광판은, 기재(22a)를 구비하지 않는다. 환언하면, 박리 공정을 거쳐 완성된 편광판(제4 적층체(26b))은, 도 3 중의 (c)에 도시된 바와 같이, 수지층(32b)과, 수지층(32b)에 직접 겹치는 편광자(38)와, 접착제층(36)을 통해 편광자(38)에 접합된 보호 필름(34)을 구비한다. 이 편광판(제4 적층체(26b))은, 제1 실시형태의 편광판(적층체(2b))과 동일하여도 좋다.
박리 공정을 실시하는 경우, 도공 공정에서는, 도포막(32a)을, 조면화 처리가 행해져 있지 않은 기재(22a)의 표면에 형성하여도 좋다. 조면화 처리를 기재(22a)에 행하면, 도포막(32a)이 기재(22a)의 표면에 밀착되기 쉽고, 기재(22a)가 경화 후의 도포막(32a)(수지층(32b))으로부터 박리되기 어려워진다. 따라서, 박리 공정을 실시하는 경우, 도포막(32a)을, 조면화 처리가 행해져 있지 않은 기재(22a)의 표면에 형성함으로써, 박리 공정에 있어서 기재(22a)를 수지층(32b)으로부터 박리하기 쉬워진다. 조면화 처리는, 예컨대, 플라즈마 처리, 코로나 처리, 자외선 조사 처리, 또는 플레임 처리(화염 처리)여도 좋다.
제2 실시형태에서는, 박리 공정을 실시하지 않아도 좋다. 박리 공정을 실시하지 않는 경우, 도공 공정 전에 기재(22a)의 표면에 조면화 처리를 행하여도 좋다. 계속되는 도공 공정에서는, 도포막(32a)을, 조면화된 기재(22a)의 표면에 형성하여도 좋다. 그 결과, 기재(22a)가 수지층(32b)으로부터 박리되기 어려워진다. 박리 공정을 실시하지 않는 경우, 제2 실시형태에 있어서 완성된 편광판은, 기재(22a)를 구비한다. 기재(22a)는 편광자(38)를 보호하는 필름으로서 기능하여도 좋다. 수지층(32b)뿐만 아니라 기재(22a)를 구비하는 편광판의 두께는, 기재(22a)가 박리된 편광판에 비해 두꺼워져 버린다. 그러나, 편광판이 수지층(32b)뿐만 아니라 기재(22a)를 구비함으로써, 온도 변화에 따른 편광자(38)의 균열이 억제되기 쉬워진다. 즉, 두꺼운 기재(22a)는 편광자(38)의 균열의 억제에 기여한다. 기재(22a)를 구비하는 편광판은, 기재(22a)에 적층되는 다른 광학층을 구비하여도 좋다.
(제3 실시형태)
본 발명의 제3 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 이하에 기재하는 사항을 제외하고, 제1 실시형태 및 제2 실시형태와 동일하다. 제3 실시형태에 있어서도, 제1 실시형태 및 제2 실시형태와 마찬가지로, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있다. 이하에서는, 제1 실시형태, 제2 실시형태 및 제3 실시형태에 공통되는 사항의 설명을 생략한다.
제3 실시형태에 따른 편광판의 제조 방법은, 제2 실시형태와 마찬가지로, 적어도 도공 공정과 접합 공정과 경화 공정을 포함한다. 단, 제3 실시형태의 도공 공정에서는, 한 쌍의 기재 각각의 표면에 도포막을 형성한다. 제3 실시형태의 접합 공정에서는, 필름형의 편광자를 한 쌍의 기재 사이에 배치한다. 그리고, 한 쌍의 기재를, 도포막을 통해 편광자의 양면에 접합한다. 제3 실시형태의 경화 공정에서는, 한 쌍의 기재를 편광자의 양면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 도포막에 조사하여, 도포막으로부터 수지층을 형성한다. 이들 공정을 이하에 상세히 설명한다.
도 4 및 도 5 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 제3 실시형태의 도공 공정에서는, 도공 장치(1a)를 이용하여, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막(54a)을, 필름형 기재(44a)의 표면에 형성하여, 적층체(44b)를 제작한다. 제3 실시형태의 적층체(44b)는, 제2 실시형태의 제2 적층체(22b)와 동일하여도 좋다. 또한 도공 공정에서는, 도공 장치(1b)를 이용하여, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막(52a)을, 필름형 기재(42a)의 표면에 형성하여, 적층체(42b)를 제작한다. 제3 실시형태의 적층체(42b)는, 제2 실시형태의 제2 적층체(22b)와 동일하여도 좋다. 적층체(44b)의 도포막(54a)의 조성은, 적층체(42b)의 도포막(52a)과 동일하여도 좋다. 적층체(44b)의 도포막(54a)의 조성은, 적층체(42b)의 도포막(52a)과 상이하여도 좋다. 적층체(44b)의 기재(44a)의 조성은, 적층체(42b)의 기재(42a)와 동일하여도 좋다. 적층체(44b)의 기재(44a)의 조성은, 적층체(42b)의 기재(42a)와 상이하여도 좋다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제3 실시형태에서는, 적층체(44b)를 방향 d44를 따라 반송하고, 한 쌍의 접합 롤(롤(7c 및 7d)) 사이에 공급한다. 가이드 롤(5d)은, 적층체(44b)가 갖는 기재(44a)의 표면에 접한다. 또한, 적층체(42b)를 방향 d42를 따라 반송하고, 롤(7c 및 7d) 사이에 공급한다. 가이드 롤(5e)은, 적층체(42b)가 갖는 기재(42a)의 표면에 접한다. 또한, 필름형의 편광자(38)를, 롤(7c 및 7d) 사이에 공급한다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 제3 실시형태의 접합 공정에서는, 편광자(38)를 한 쌍의 적층체(44b 및 42b) 사이에 끼운다. 적층체(44b)의 도포막(54a)은, 편광자(38)의 한쪽 표면에 대향한다. 적층체(42b)의 도포막(52a)은, 편광자(38)의 다른 쪽 표면에 대향한다. 그리고, 적층체(44b), 편광자(38) 및 적층체(42b)를 겹쳐 한 쌍의 롤(7c 및 7d) 사이에 끼운다. 그 결과, 도 5 중의 (b)에 도시된 바와 같이, 기재(44a)가, 도포막(54a)을 통해, 편광자(38)의 한쪽 표면에 접합되고, 기재(42a)가, 도포막(52a)을 통해, 편광자(38)의 다른 쪽 표면에 접합된다. 즉, 접합 공정에서는, 기재(42a)와, 기재(42a)에 겹치는 도포막(52a)과, 도포막(52a)에 겹치는 편광자(38)와, 편광자(38)에 겹치는 도포막(54a)과, 도포막(54a)에 겹치는 기재(44a)를 구비하는 적층체(46)를 얻을 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제3 실시형태의 경화 공정에서는, 적층체(46)를 한 쌍의 롤(7c 및 7d) 사이에서 방향 d46을 따라 반송한다. 그리고, 기재(42a 및 44a)를 편광자(38)의 표면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 조사 장치(3a)를 이용하여, 활성 에너지선(L)을 도포막(52a 및 54a)에 조사한다. 즉, 활성 에너지선(L)의 조사에 의해, 도포막(52a 및 54a)을 경화시킨다. 계속해서, 적층체(46)를, 가이드 롤(5f)을 통해 반송한 후, 조사 장치(3b)를 이용하여, 다시 활성 에너지선(L)을 도포막(52a 및 54a)에 조사한다. 두 번째 활성 에너지선(L)의 조사에 의해, 각 도포막의 경화를 촉진한다. 이상의 경화 공정에 의해, 도포막(52a)으로부터 수지층(52b)이 형성되고, 도포막(54a)으로부터 수지층(54b)이 형성된다. 이하에서는, 도포막(52a 및 54a)을 통해 기재(42a 및 44a)를 편광자(38)의 표면에 접합하고 나서, 맨 처음 활성 에너지선(L)을 도포막(32a 및 54a)에 조사할 때까지의 시간을, 경과 시간 T3으로 한다.
제3 실시형태의 경과 시간 T3은, 제2 실시형태의 경과 시간 T2에 대응한다. 경과 시간 T3은 7초 이상이어도 좋고, 300초 이하, 250초 이하, 또는 240초 이하여도 좋다. 경과 시간 T3은 롤(7c 및 7d)과 조사 장치(3a)와의 거리에 따라 조정하여도 좋다. 경과 시간 T3은 적층체(46)의 반송 속도에 따라 조정하여도 좋다.
제3 실시형태의 경화 공정에서는, 적층체(46)의 기재(42a) 측의 표면에 냉각 롤(9)을 접촉시킨 상태에서, 활성 에너지선(L)을 기재(44a) 측으로부터 도포막(52a 및 54a)에 조사한다. 즉, 활성 에너지선(L)을, 기재(44a)를 통해, 도포막(52a 및 54a)에 조사한다.
제3 실시형태의 변형례에서는, 활성 에너지선(L)을 적층체(46)의 기재(42a) 측으로부터 도포막(32a)에 조사하여도 좋다. 즉, 조사 장치(3)를 적층체(46)의 기재(42a) 측에 배치하고, 활성 에너지선(L)을, 기재(42a)를 통해, 도포막(52a 및 54a)에 조사하여도 좋다. 활성 에너지선(L)을, 적층체(46)의 양면측으로부터, 도포막(52a 및 54a)에 조사하여도 좋다.
제3 실시형태에서는, 경화 공정 후에 박리 공정을 실시하여도 좋다. 예컨대, 박리 공정에서는, 기재(42a)를 적층체(46)의 수지층(52b)으로부터 박리하여도 좋다. 기재(44a)를 적층체(46)의 수지층(54b)으로부터 박리하여도 좋다.
박리 공정을 실시하는 경우, 제3 실시형태에 있어서 완성된 편광판은, 기재(42a 또는 44a)를 구비하지 않는다. 예컨대, 박리 공정을 거쳐 완성된 편광판은, 적어도, 수지층(52b)과, 수지층(52b)에 직접 겹치는 편광자(38)와, 편광자(38)에 직접 겹치는 별도의 수지층(54b)을 구비하고 있으면 좋다. 편광판은, 수지층(52b 또는 54b)에 적층된 다른 광학층을 구비하여도 좋다.
박리 공정을 실시하는 경우, 조면화 처리가 행해져 있지 않은 기재(42a 및 44a)를 도공 공정에 이용하면 좋다.
제3 실시형태에서는, 박리 공정에 있어서 기재(42a 또는 44a) 중 어느 한쪽만을 박리하여도 좋다. 기재(42a 또는 44a) 중 어느 한쪽만을 박리하는 경우, 박리하지 않는 쪽의 기재로서, 조면화 처리가 행해진 기재를 도공 공정에 이용하면 좋다. 제3 실시형태에서는, 박리 공정을 실시하지 않아도 좋다. 박리 공정을 실시하지 않는 경우, 조면화 처리가 행해진 기재를 도공 공정에 이용하면 좋다. 박리 공정을 실시하지 않는 경우, 제3 실시형태에 있어서 완성된 편광판은, 도 5 중의 (b)에 도시된 적층체(46) 그 자체여도 좋다. 이 편광판은, 기재(42a 또는 44a)에 적층된 다른 광학층을 구비하여도 좋다.
실시예
이하, 본 발명의 내용을 실시예 및 비교예를 이용하여 보다 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
(1) 프라이머층 형성 공정
폴리비닐알코올 분말을 95℃의 열수에 용해하고, 농도 3 중량%의 폴리비닐알코올 수용액을 조제하였다. 폴리비닐알코올 분말로는, 닛폰고세이카가쿠고교(주) 제조의 「Z-200」(평균 중합도 1100, 비누화도 99.5 몰%)을 이용하였다. 폴리비닐알코올 수용액에 가교제를 혼합하였다. 가교제의 첨가량은, 폴리비닐알코올 분말 6 중량부에 대하여 5 중량부로 조정하였다. 가교제로는, 타오카카가쿠고교(주) 제조의 「스미레즈레진 650」을 이용하였다. 이상의 공정에 의해, 프라이머층 형성용 도공액(도공액 1)을 얻었다.
기재 필름으로서, 두께 90 ㎛의 미연신 폴리프로필렌 필름(융점: 163℃)을 준비하였다. 기재 필름의 편면에 코로나 처리를 행하였다. 코로나 처리가 행해진 기재 필름의 표면에, 직경이 작은 그라비아 코터를 이용하여, 도공액 1을 도포하였다. 기재 필름에 도포된 도공액 1을 80℃에서 10분간 건조시킴으로써, 프라이머층을 형성하였다. 프라이머층의 두께는 0.2 ㎛였다.
(2) 적층 필름의 제작(수지층 형성 공정)
폴리비닐알코올 분말을 95℃의 열수에 용해하고, 농도 8 중량%의 폴리비닐알코올 수용액을 조제하였다. 폴리비닐알코올 분말로는, (주)쿠라레 제조의 「PVA124」(평균 중합도 2400, 비누화도 98.0∼99.0 몰%)를 이용하였다. 이 폴리비닐알코올 수용액을, 폴리비닐알코올계 수지층 형성용 도공액(도공액 2)으로서 이용하였다.
기재 필름에 형성된 프라이머층의 표면에, 립 코터를 이용하여, 도공액 2를 도포하였다. 프라이머층의 표면에 도포된 도공액 2를, 80℃에서 20분간 건조시킴으로써, 폴리비닐알코올계 수지층을 프라이머층 상에 형성하였다. 이상의 공정에 의해, 기재 필름과, 기재 필름에 겹치는 프라이머층과, 프라이머층에 겹치는 폴리비닐알코올계 수지층으로 이루어진 적층 필름을 얻었다.
(3) 연신 필름의 제작(연신 공정)
160℃에서 5.3배의 적층 필름의 자유단 1축 연신을 실시하여, 연신 필름을 얻었다. 적층 필름의 연신에는, 플로팅식의 세로 1축 연신 장치를 이용하였다. 연신 후의 폴리비닐알코올계 수지층의 두께는 5.0 ㎛였다.
(4) 편광성 적층 필름의 제작(염색 공정)
연신 필름을, 요오드 및 요오드화칼륨의 수용액(염색액)에 약 180초간 침지하여, 폴리비닐알코올계 수지층의 염색 처리를 행하였다. 염색액의 온도는 30℃로 조정하였다. 염색액 중의 요오드의 중량은, 물 100 중량부당 0.6 중량부로 조정하였다. 염색액 중의 요오드화칼륨의 중량은, 물 100 중량부당 10 중량부로 조정하였다. 염색 처리 후, 10℃의 순수를 이용하여, 여분의 염색액을 폴리비닐알코올계 수지층으로부터 씻어내었다.
계속되는 제1 가교 처리에서는, 연신 필름을, 붕산을 포함하는 수용액(제1 가교액)에 120초간 침지하였다. 제1 가교액의 온도는 78℃로 조정하였다. 제1 가교액 중의 붕산의 중량은, 물 100 중량부당 9.5 중량부로 조정하였다.
계속되는 제2 가교 처리에서는, 연신 필름을, 붕산 및 요오드화칼륨을 포함하는 수용액(제2 가교액)에 60초간 침지하였다. 제2 가교액의 온도는 70℃로 조정하였다. 제2 가교액 중의 붕산의 중량은, 물 100 중량부당 9.5 중량부로 조정하였다. 제2 가교액 중의 요오드화칼륨의 중량은, 물 100 중량부당 4 중량부로 조정하였다.
제2 가교 처리 후, 연신 필름을 10℃의 순수로 10초간 세정하였다. 세정 후의 연신 필름을 40℃에서 300초간 건조시켰다.
이상의 공정에 의해, 기재 필름과, 기재 필름에 겹치는 필름형의 편광자로 이루어진 편광성 적층 필름을 얻었다. 또한, 필름형 편광자의 두께는 5.0 ㎛였다.
(5) 보호 필름을 구비한 편광자의 제작
제1 보호 필름으로서, 트리아세틸셀룰로오스계 수지로 이루어진 필름을 준비하였다. 제1 보호 필름의 두께는 25 ㎛였다. 제1 보호 필름은, 편광판을 표시용 셀 상에 배치할 때에 외측(표시용 셀과의 반대측)에 배치된다.
제1 보호 필름의 표면에 코로나 처리를 행하였다. 코로나 처리가 행해진 제1 보호 필름의 표면에, 자외선 경화성 접착제를 도포하여, 제1 접착제층을 형성하였다. 자외선 경화성 접착제로는, (주)ADEKA 제조의 「KR-70T」를 이용하였다. 자외선 경화성 접착제의 도포에는, 직경이 작은 그라비아 코터를 이용하였다.
제1 접착제층을 통해, 제1 보호 필름을, 편광성 적층 필름이 갖는 편광자의 표면에 접합하였다. 제1 보호 필름의 접합에는, 한 쌍의 접합 롤을 이용하였다.
계속해서, 고압 수은 램프를 이용하여, 자외선을 편광성 적층 필름측으로부터 제1 접착제층으로 조사함으로써, 제1 접착제층을 경화시켰다. 경화 후의 제1 접착제층의 두께는 1.2 ㎛였다. 자외선의 적산 광량은 200 mJ/㎠로 조정하였다.
이상의 공정에 의해, 기재 필름과, 기재 필름에 겹치는 편광자와, 편광자에 겹치는 제1 접착제층과, 제1 접착제층을 통해 편광자에 접합된 제1 보호 필름으로 이루어진 적층체를 얻었다. 이 적층체로부터 기재 필름을 박리함으로써, 편광자와, 편광자에 겹치는 제1 접착제층과, 제1 접착제층을 통해 편광자에 접합된 제1 보호 필름으로 이루어진 보호 필름을 구비한 편광자를 얻었다.
(6) 편광판의 제작(도공 공정)
보호층을 형성하기 위해서, 자외선 경화성 수지의 1종인 에폭시계 수지를 준비하였다. 보호층은, 편광판을 표시용 셀 상에 배치할 때에 표시용 셀측에 배치된다. 에폭시계 수지로는, (주)ADEKA 제조의 「KR-25T」를 이용하였다. 직경이 작은 그라비아 코터를 이용하여, 에폭시계 수지를, 보호 필름을 구비한 편광자를 구성하는 편광자의 표면에 도포하여 도포막을 형성하였다.
(경화 공정)
도포막을 편광자의 표면에 형성하고 나서 7초 경과한 시점에서, 고압 수은 램프를 이용하여, 도포막에 자외선을 조사하였다. 자외선을 조사하기 전의 도포막은, 25℃의 환경 하에 있었다. 자외선의 조사에 의해 도포막을 경화하여, 수지층을 형성하였다. 도포막에 조사된 자외선의 적산 광량은 200 mJ/㎠로 조정하였다. 수지층의 두께는 3.5 ㎛였다.
이상의 공정에 의해, 수지층과, 수지층에 겹치는 편광자와, 제1 접착제층과, 제1 접착제층을 통해 편광자에 접합된 제1 보호 필름을 구비하는 실시예 1의 편광판을 제작하였다.
(7) 열충격 시험(온도 사이클 시험)
실시예 1의 편광판을 절단하여, 50장의 샘플을 제작하였다. 샘플의 치수는, 50 ㎜×50 ㎜였다. 각 샘플이 갖는 제1 보호 필름의 표면에 점착제를 부착시켰다. 점착제를 통해, 각 샘플을 유리판에 접합하였다. 이 유리판을 시험조 내에 설치하였다. 시험조 내를 냉각시켜 시험조 내의 온도를 30분간 -40℃로 유지한 후, 시험조 내를 가열하여 시험조 내의 온도를 30분간 85℃로 유지하였다. 이 냉각 및 가열로 이루어진 사이클을 100회 반복한 후, 유리판을 시험조로부터 꺼내었다. 사이클의 반복에 의해 균열된 편광자를 갖는 샘플의 수를 세었다. 50장의 샘플 중, 균열된 편광자를 갖는 샘플의 비율(균열 발생률)을 산출하였다. 실시예 1의 균열 발생률을 하기 표 1에 나타낸다.
[실시예 2, 3]
실시예 2, 3에서는, 도포막을 편광판의 표면에 형성하고 나서 도포막에 자외선을 조사할 때까지의 시간(경과 시간)을, 하기 표 1에 나타내는 시간으로 조정하였다. 경과 시간 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 2, 3 각각의 편광판을 제작하였다. 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 2, 3 각각의 열충격 시험을 행하였다. 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 2, 3 각각의 균열 발생률을 산출하였다. 실시예 2, 3 각각의 균열 발생률을 하기 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
비교예 1의 도공 공정에서는, 에폭시계 수지로 이루어진 도포막을, 필름형 전사 기재의 표면에 형성하였다. 계속해서, 전사 기재를, 도포막을 통해, 보호 필름을 구비한 편광자를 구성하는 편광자의 표면에 접합하였다.
비교예 1의 경화 공정에서는, 도포막을 통해 전사 기재를 편광자의 표면에 접합하고 나서 2초 경과한 시점에서, 고압 수은 램프를 이용하여, 자외선을 도포막에 조사하였다.
상기한 공정 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1의 편광판을 제작하였다. 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1의 열충격 시험을 행하였다. 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1의 균열 발생률을 산출하였다. 비교예 1의 균열 발생률을 하기 표 1에 나타낸다.
Figure pat00001
본 발명에 따르면, 온도 변화에 따른 편광자의 균열을 억제할 수 있는 편광판을 제조하는 것이 가능하다.
8, 38 : 편광자, 12a, 32a, 52a, 54a : 도포막, 12b, 32b, 52b, 54b : 수지층(보호층), 22a, 42a, 44a : 기재, L : 활성 에너지선

Claims (5)

  1. 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 편광자의 표면에 형성하는 도공 공정과,
    상기 도포막을 상기 편광자의 표면에 형성하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 상기 도포막에 조사하여, 상기 도포막으로부터 수지층을 형성하는 경화 공정
    을 포함하는 편광판의 제조 방법.
  2. 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 도포막을, 필름형 기재의 표면에 형성하는 도공 공정과,
    상기 기재를, 상기 도포막을 통해, 필름형 편광자의 표면에 접합하는 접합 공정과,
    상기 기재를 상기 편광자의 표면에 접합하고 나서 5초 이상 경과한 후, 활성 에너지선을 상기 도포막에 조사하여, 상기 도포막으로부터 수지층을 형성하는 경화 공정
    을 포함하는 편광판의 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 경화 공정 후, 상기 기재를 상기 수지층으로부터 박리하는 박리 공정을 더 포함하는 편광판의 제조 방법.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 도공 공정에서는, 상기 도포막을, 조면화 처리가 행해져 있지 않은 상기 기재의 표면에 형성하는 편광판의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지층은, 상기 편광자를 보호하는 보호층인 편광판의 제조 방법.
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