KR20160124151A - 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 가소제 조성물 - Google Patents

디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 가소제 조성물 Download PDF

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Abstract

디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하고, 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물이 개시된다. 가소제 조성물은 플라스티솔 조성물, 분말 코팅 조성물, 성형 조성물, 및 다양한 다른 조성물에서 사용할 수 있다. 방향족 디-에스테르의 제조 방법이 또한 개시된다. 방법은 가소제 조성물을 제조할 수 있다.
<화학식 I>
Figure pct00013

상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고, R1은 2-에틸헥산과 상이하다.

Description

디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 가소제 조성물 {A PLASTICIZER COMPOSITION COMPRISING DI(2-ETHYLHEXYL) TEREPHTHALATE}
본 개시내용은 일반적으로 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트 (DOTP)를 포함하고 불순물이 실질적으로 없는 가소제 조성물, 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
(DOTP)를 포함하는 종래의 가소제 조성물은 종래의 가소제 조성물의 특정 적용을 제한하거나 방해하는 영향력 있는 양의 불순물 또는 부산물을 또한 포함한다.
종래의 가소제 조성물은 종래의 방법에 의해 제조된다. 전형적으로 종래의 방법 동안에, DOTP는 촉매의 존재하에 2-에틸헥산올 및 테레프탈산을 반응시킴으로써 제조된다. 종래의 방법에서 사용된 특정 반응 조건은 2-에틸헥산올 및/또는 티타늄 촉매를 분해하여 다양한 분해 생성물을 형성하는 경향을 갖는다. 이러한 분해 생성물은 후속적으로 테레프탈산과 반응하여 불순물을 생성한다. 전형적으로, 불순물은 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함한다.
<화학식 I>
Figure pct00001
상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고, R1은 2-에틸헥산과 상이하다.
가장 만연하고 영향력 있는 불순물 중 하나는 메틸(2-에틸헥실) 테레프탈레이트 (MOTP)이다. 종래의 가소제 조성물은 화학식 I에 따른 디-에스테르를 종래의 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.1 중량부 초과의 양으로 포함한다. 전형적으로, 종래의 가소제 조성물은 화학식 I에 따른 디-에스테르를 종래의 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 1, 1.5, 또는 2 중량부 초과의 양으로 포함한다.
화학식 I에 따른 디-에스테르 이외에, 종래의 가소제는 전형적으로 (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물 및/또는 티타늄 촉매의 분해 생성물의 반응 생성물로부터 형성된 다른 불순물을 또한 포함한다.
이러한 불순물은 DOTP와 화학적으로 유사하고, 그러므로, 종래의 분리 기술 (예를 들어 세척, 여과, 증류 등)을 통해 제거될 수 없다. 그러므로, 이러한 불순물, 특히 MOTP는, 종래의 가소제 조성물 및 종래의 가소제 조성물을 함유한 물품, 필름, 또는 조성물의 증가된 휘발성 및 연무화(fogging)를 초래한다. 그러므로, 종래의 가소제 조성물 내에 함유된 불순물의 존재는 다양한 물품, 필름, 및 여러 다른 조성물에서의 종래의 가소제 조성물의 사용을 제한하거나 방해한다. 따라서, 개선된 가소제 조성물을 개발할 기회가 남아 있다.
<발명의 개요 및 이점>
본 개시내용은 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트 (DOTP)를 포함하고, 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물을 제공한다.
<화학식 I>
Figure pct00002
상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고, R1은 2-에틸헥산과 상이하다.
본 개시내용은 또한 방향족 디-에스테르의 제조 방법을 제공한다. 방법은 방향족 디-에스테르 및 선형 또는 분지형 C4-C13 알콜을 조합하여 혼합물을 형성하는 단계를 포함한다. 방법은 혼합물 중에 존재하는 촉매 없이 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 것을 또한 포함한다. 방법은 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 티타늄 촉매를 혼합물과 조합하는 것을 또한 포함한다. 방법은 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 증가시키고, 제2 압력 (P2)을 유지하면서 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 것을 추가로 포함한다.
DOTP를 포함하는 종래의 가소제 조성물과 달리, 본 개시내용의 가소제 조성물은 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없다. 그러므로, 본 개시내용의 가소제 조성물은 종래의 가소제 조성물보다 낮은 휘발성을 갖는다. 이러한 보다 낮은 휘발성의 결과로서, 본 개시내용의 가소제 조성물을 포함하는 물품, 필름, 또는 다른 조성물은 양호한 연무화 거동을 갖고, 이것은 물품, 필름, 및/또는 조성물의 사용 및 내구성에 있어서 중요하다.
<발명의 상세한 설명>
가소제 조성물은 많은 중합체에서 바람직한 가공 및 적용 특성을 얻기 위해 전형적으로 사용되어 중합체를 보다 연성, 보다 가요성 및/또는 보다 신축성으로 만든다. 일반적으로, 가소제 조성물은 보다 낮은 가공 및 적용 온도에서 목적하는 탄성 특성에 도달하도록 중합체의 유리 전이 온도를 낮춘다.
폴리비닐 클로라이드 (PVC)는 플라스틱을 형성하는데 사용되는 가장 널리 제조되는 중합체 중 하나이다. 그의 큰 다용성 때문에, PVC는 일상 생활에서 사용되는 수많은 제품에서 발견된다. 따라서 PVC는 대단히 경제적으로 중요하다. 그러나, 그의 본래 상태의 PVC (즉, 가소제 조성물을 포함하지 않는 PVC)는 80℃의 온도 미만에서 경질이고 취성이다. 그러므로, 가소제 조성물을 PVC 내에 혼입시키는 것이 필수적이다.
가소제 조성물이 전형적으로 사용되는 다른 중요한 중합체의 예는 폴리비닐 부티랄 (PVB), 스티렌의 단독중합체 및 공중합체, 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 아세테이트 (PVAc), 셀룰로스 아세테이트 (CA), 폴리술피드 및 열가소성 폴리우레탄 (TPU)이다.
본 개시내용은 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트 (DOTP)를 포함하고, 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물을 제공한다.
<화학식 I>
Figure pct00003
상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고, R1은 2-에틸헥산과 상이하다.
본 개시내용의 문맥에서 실질적으로 없다는 것은 가소제 조성물이 화학식 I에 따른 디-에스테르를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.1 내지 0 중량부, 약 0.07 내지 0 중량부, 약 0.05 내지 0 중량부, 약 0.03 내지 0 중량부, 또는 약 0.01 내지 0 중량부의 양으로 포함하는 것을 제공한다. 특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 화학식 I에 따른 디-에스테르가 전혀 없다 (즉, 포함하지 않는다).
DOTP는 2몰의 2-에틸헥산올 및 1몰의 테레프탈산의 반응 생성물이다. 전형적으로, 반응은 촉매, 예컨대 티타늄 촉매의 존재하에 일어난다. DOTP의 구조는 하기 화학식 II에서 제공된다.
<화학식 II>
Figure pct00004
DOTP는 2몰의 2-에틸헥산올이 테레프탈산 중에 존재하는 2몰의 카르복실산 관능기와 반응하는 경우에 형성된다. 전형적으로, 과잉 2-에틸헥산올을 사용하여 테레프탈산의 전환을 확보한다. DOTP를 제조하는 반응식이 비교적 수월한 것 같지만, DOTP를 제조하는 종래의 방법은 영향력 있는 양의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 생성한다.
존재하는 경우, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 DOTP를 제조하는 반응 동안에 생성된다. 다시 말해서, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 DOTP 반응으로부터 유래된 불순물/부산물이다. 임의의 특정 이론으로 구속됨 없이, DOTP를 제조하는데 사용된 반응 조건 (또는 한 쌍의 반응 조건)은 2-에틸헥산올 및/또는 티타늄 촉매를 다양한 분해 생성물로 분해하는데 충분하고, 분해 생성물은 후속적으로 테레프탈산 상의 1몰의 카르복실산과 반응하고 (분해되지 않은 몰의 2-에틸헥산올이 또한 동일한 몰의 테레프탈산과 반응한 후) 화학식 I에 따른 디-에스테르를 궁극적으로 생성한다. 종래의 가소제 조성물은 영향력 있는 양의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 형성하는 종래의 방법으로부터 제조된다. 반대로, 본 개시내용의 가소제 조성물은 DOTP를 포함하고, 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없다. 다시 말해서, 본 개시내용의 가소제 조성물의 제조 방법은 2-에틸헥산올의 분해를 제한하고, 특정 실시양태에서는 이를 없애고, 따라서 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물을 제조한다. 본 개시내용의 가소제 조성물의 제조 방법은 하기에 상세히 기재되어 있다.
화학식 I에 따른 디-에스테르를 다시 언급해 보면, R1의 예는 메탄, 에탄, n-프로판, 이소프로판, n-부탄, 이소부탄, n-펜탄, 이소펜탄, n-헥산, 이소헥산, n-헵탄, 이소헵탄, n-옥탄, 이소옥탄, n-노난, 이소노난, n-데칸, 이소데칸, n-운데칸, 이소운데칸, n-도데칸, 이소도데칸, n-트리데칸 및 이소트리데칸을 포함한다. 전형적으로 R1은 메탄이고, 결과적으로 화학식 I에 따른 디-에스테르는 MOTP를 포함한다.
상기에 간단히 기재된 바와 같이, 티타늄 촉매는 또한 DOTP를 제조하는데 사용된 특정 반응 조건 (또는 한 쌍의 반응 조건) 하에 분해될 수 있다. 그러나, 본 개시내용의 가소제 조성물이 티타늄 촉매를 전형적으로 사용하는 방법으로부터 제조된다 하더라도, 특정 실시양태에서, 본 개시내용의 가소제 조성물은 테레프탈산 및 티타늄 촉매의 분해 생성물로부터 형성된 반응 생성물이 또한 실질적으로 없다. 다시 말해서, 특정 실시양태에서, 티타늄 촉매는 분해되지 않는다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합의 반응 생성물이 실질적으로 없다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 디(메틸) 테레프탈레이트 (DMT)가 또한 실질적으로 없다. DMT의 공급원이 다양할 수 있지만, DMT는 다량의 2-에틸헥산올 및/또는 촉매가 분해되어 2몰의 분해 생성물이 1몰의 테레프탈산과 반응할 경우에 전형적으로 형성된다. 다른 실시양태에서, 가소제 조성물은 DMT가 실질적으로 없고 (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합의 반응 생성물이 실질적으로 없다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물 및/또는 티타늄 촉매의 분해 생성물 간의 반응으로부터 형성된 모든 반응 생성물이 실질적으로 없다. 다시 말해서, (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물 및/또는 티타늄 촉매의 분해 생성물의 반응 생성물이 화학식 I에 의해 제시되지 않는 정도까지, 가소제 조성물은 화학식 I에 의해 표현되지 않고 (1) 테레프탈산 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물 및/또는 티타늄 촉매의 분해 생성물의 반응 생성물로부터 형성된 그러한 반응 생성물이 또한 실질적으로 없다. 이론상 이러한 불순물이 또한 가소제 조성물의 성능 및/또는 외관에 악영향을 미칠 수 있기 때문에 이러한 불순물을 피하는 것이 또한 유리하다는 것이 인식되어야 한다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 약 85 내지 약 99.8 중량부, 약 90 내지 약 99.8 중량부, 약 95 내지 약 99.8 중량부 또는 약 97 내지 약 99 중량부의 양으로 포함한다. 이러한 실시양태에서, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.1 내지 0 중량부, 약 0.05 내지 0 중량부, 또는 약 0.03 내지 0 중량부의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.9 중량부 이상의 양으로 포함한다. 그러므로, 이 실시양태에서, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.1 중량부 미만의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.95 중량부 이상의 양으로 포함한다. 그러므로, 이 실시양태에서, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.05 중량부 미만의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.97 중량부 이상의 양으로 포함한다. 그러므로, 이 실시양태에서, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.03 중량부 미만의 양으로 존재한다.
화학식 I에 따른 디-에스테르는 휘발성이다. 화학식 I에 따른 디-에스테르의 존재가 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하는 임의의 가소제 조성물의 휘발성을 증가시키기 때문에, 본 개시내용의 가소제 조성물은 종래의 가소제 조성물이 영향력 있는 양의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하고 본 개시내용의 가소제 조성물이 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없다는 사실로 인해 종래의 가소제 조성물보다 낮은 휘발성을 갖는다.
일반적으로, 특정 가소제 조성물의 휘발성이 낮을수록, 그 가소제 조성물 또는 그 특정 가소제 조성물을 포함하는 물품의 연무화 값은 낮다. 연무화 값은 일반적으로 물질 (예를 들어 가소화 PVC)이 유리 표면 상에 광 산란 필름 (즉, "연무")을 생성하는 경향으로서 이해된다. 물질이 특정 가소제 조성물을 포함할 경우에, 가소제 조성물은 물질 중의 가소제 조성물의 농도가 일반적으로 낮다는 사실에도 불구하고 연무화 값에 크게 영향을 미친다. 다시 말해서, 가소제 조성물의 휘발성이 낮을수록, 가소제 조성물을 포함하는 물질의 연무화 값은 낮다. 그러므로, 본 개시내용의 가소제 조성물은 휘발성 및 연무화에 관하여 종래의 가소제 조성물보다 우수하다. 화학식 I에 따른 디-에스테르의 감소가 전형적으로 연무화 값의 감소와 직접 관련되기 때문에 화학식 I에 따른 디-에스테르의 양의 심지어 적은 감소 (예를 들어 0.02%)도 중요하다는 것을 인식해야 한다. 그러므로, 본 개시내용의 가소제 조성물이 종래의 가소제 조성물의 것보다 적은 양의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하기 때문에, 본 개시내용의 가소제 조성물은 또한 종래의 가소제 조성물보다 낮은 연무화 값을 갖는다.
가소제 조성물은 또한 다수의 상이한 가소제와 고도의 상용성을 갖는다. 실제로, 가소제 조성물은 다른 가소제와 유리하게 조합되어 다른 가소제의 특성 (예를 들어 겔화)을 개선시킬 수 있다. 그러므로, 특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP와 상이하고 화학식 I에 따른 디-에스테르와 상이한 부가적 가소제를 추가로 포함한다. 전형적으로, 부가적 가소제는, 시클로헥산디카르복실산 에스테르, 프탈산 디알킬 에스테르, 프탈산 알킬아르알킬 에스테르, 화학식 I에 따른 디-에스테르와 상이하고 디(메틸) 테레프탈레이트와 상이한 테레프탈산 디알킬 에스테르, 트리멜리트산 트리알킬 에스테르, 아디프산 디알킬 에스테르, 벤조산 알킬 에스테르, 글리콜의 디벤조산 에스테르, 히드록시벤조산 에스테르, 포화 모노카르복실산 및 디카르복실산의 에스테르, 불포화 디카르복실산의 에스테르, 아미드의 에스테르, 방향족 술폰산의 에스테르, 알킬술폰산 에스테르, 글리세롤 에스테르, 이소소르비드 에스테르, 인산 에스테르, 시트르산 트리에스테르, 알킬피롤리돈 유도체, 2,5-푸란디카르복실산 에스테르, 2,5-테트라히드로푸란디카르복실산 에스테르, 트리글리세리드 및 포화 또는 불포화 지방산을 기재로 하는 에폭시화 식물성 오일, 및 다가 알콜과 지방족 및 방향족 폴리카르복실산의 폴리에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 에스테르이다.
가소제 조성물이 부가적 가소제를 함유하는 실시양태에서, 가소제 조성물은 화학식 I에 따른 디-에스테르가 여전히 실질적으로 없다. 그러나, 이러한 문맥에서, 화학식 I에 따른 디-에스테르의 양은 부가적 가소제 성분을 고려함 없이 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 한다. 예를 들어, 가소제 조성물이 98 중량부의 DOTP, 1.95 중량부의 부가적 가소제, 및 0.05 중량부의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하는 경우, 적어도 화학식 I에 따른 디-에스테르의 양을 계산하기 위해, 가소제 조성물의 100 중량부는 DOTP 및 화학식 I에 따른 디-에스테르만 차지하는 것으로 정규화되어야 한다. 다시 말해서, 부가적 가소제의 포함은 가소제 조성물 중의 성분의 수를 단순히 증가시킴으로써 화학식 I에 따른 디-에스테르의 양을 감소시키기 위한 희석 매질인 것으로 의도되지 않는다.
1종 이상의 에스테르를 다시 언급해 보면, 특정 실시양태에서, 시클로헥산디카르복실산 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에, 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 8 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 시클로헥산디카르복실산 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에 8 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 1,2-시클로헥산디카르복실산 에스테르이다. 한 실시양태에서, 1,2-시클로헥산-디카르복실산 디이소노닐 에스테르는, 상표명 헥사몰 (HEXAMOLL)® 딘치(DINCH)® 하에, 루트비히스하펜 소재 바스프 에스이(BASF SE)에 의해 공급된다. 특정 실시양태에서, 프탈산 디알킬 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에, 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 8 내지 13개의 탄소 원자를 갖는다. 한 실시양태에서, 프탈산 알킬아르알킬 에스테르는, 예를 들어 벤질부틸 프탈레이트이다. 특정 실시양태에서, 테레프탈산 디알킬 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에, 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 테레프탈산 디알킬 에스테르는 디(n-부틸)테레프탈산 디알킬 에스테르, 디(이소노닐)-테레프탈산 디알킬 에스테르 및/또는 디(2-프로필헵틸)테레프탈산 디알킬 에스테르이다. 트리멜리트산 트리알킬 에스테르는 전형적으로는 독립적으로 각 알킬 쇄에, 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 7 내지 11개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 포화 모노 및 디카르복실산의 에스테르는 아세트산, 부티르산, 발레르산, 숙신산, 아디프산, 세바스산, 락트산 또는 타르타르산의 에스테르이다. 아디프산 디알킬 에스테르는 전형적으로는 독립적으로 각 알킬 쇄에 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 아디프산 디알킬에스테르는 디(2-에틸헥실)아디페이트 및/또는 디이소노닐아디페이트이다. 불포화 디카르복실산의 에스테르는 전형적으로 말레산 및/또는 푸마르산의 에스테르이다. 전형적으로, 벤조산 알킬 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에 7 내지 13개의 탄소 원자 또는 9 내지 13개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 벤조산 알킬 에스테르는 이소노닐 벤조에이트, 이소데실 벤조에이트 및/또는 2-프로필헵틸 벤조에이트이다. 특정 실시양태에서, 글리콜의 디벤조산 에스테르는 디에틸렌 글리콜 디벤조에이트 및 디부틸렌 글리콜 디벤조에이트이다. 특정 실시양태에서, 알킬술폰산 에스테르는 8 내지 22개의 탄소 원자의 알킬 기를 갖는다. 예는 펜타데실술폰산의 페닐 및 크레실 에스테르를 포함한다. 한 실시양태에서, 이소소르비드 에스테르는 각각 독립적으로 C5 내지 C13 카르복실산으로 에스테르화된 이소소르비드 디에스테르이다. 전형적으로 인산 에스테르는 트리-2-에틸헥실 포스페이트, 트리옥틸 포스페이트, 트리페닐 포스페이트, 이소데실디페닐 포스페이트, 2-에틸헥실-디페닐 포스페이트 및 비스-(2-에틸헥실)페닐 포스페이트이다. 시트르산 트리에스테르에서, 히드록실 기는 유리 또는 카르복실화된, 또는 아세틸화된 형태로 존재할 수 있다. 시트르산 트리에스테르의 알킬 기는 전형적으로 각각 독립적으로 4 내지 8개의 탄소 원자 또는 6 내지 8개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 알킬피롤리돈 유도체는 4 내지 18개의 탄소 원자의 알킬 기를 갖는 것들이다. 한 실시양태에서, 2,5-푸란디카르복실산 디알킬 에스테르는 독립적으로 각 알킬 쇄에 4 내지 13개의 탄소 원자 또는 8 내지 13개의 탄소 원자를 갖는다. 특정 실시양태에서, 에폭시화 식물성 오일은, 예를 들어 미국 폴리원(PolyOne)에 의해 상표명 리플렉스(REFLEX)® 하에, 벨기에 프로비론(Proviron)에 의해 상표명 프로비플라스트(PROVIPLAST)® PLS 그린 5 및 프로비플라스트® PLS 그린 8 하에, 및 미국 갈라타(Galata)에 의해 상표명 드라펙스(DRAPEX)®, 드라펙스 알파 하에 공급되는, 에폭시화 대두유 및/또는 에폭시화 톨유 지방산으로 이루어진 에폭시화 지방산 에스테르 (1 내지 8개의 탄소 원자 쇄 길이의 알콜과 반응함)이다. 지방족 및 방향족 폴리카르복실산의 폴리에스테르는 전형적으로 아디프산과 다가 알콜의 폴리에스테르, 특히 알킬렌 기에 2 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 디알킬렌 글리콜 폴리아디페이트이다. 모든 상기에 기재된 에스테르, 및 본원에 기재된 그러한 에스테르에서, 알킬 기는 선형 또는 분지형일 수 있고 동일하거나 상이할 수 있다.
한 실시양태에서, 1종 이상의 에스테르는 알킬 기에 4 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 아디프산 디알킬 에스테르이다. 또 다른 실시양태에서, 1종 이상의 에스테르는 2,5-푸란디카르복실산의 1종 이상의 C5 내지 C11 또는 C7 내지 C10 디알킬 에스테르이다. 한 실시양태에서, 2,5-푸란디카르복실산의 C5 내지 C11 디알킬 에스테르는 2,5-푸란디카르복실산의 디(2-에틸헥실)- 에스테르이다.
2,5-푸란디카르복실산의 디알킬 에스테르는 WO 2012/113608 (C5 디알킬 에스테르), WO 2012/113609 (C7 디알킬 에스테르), WO 2011/023490 (C9 디알킬 에스테르) 및 WO 2011/023491 (C10 디알킬 에스테르)에 기재되어 있다. 2,5-푸란디카르복실산의 디헥실-, 디(2-에틸헥실)- 및 디(2-옥틸)- 에스테르 및 그의 제조는 문헌 (R. D. Sanderson et al., J. Appl. Pol. Sci., 1994, Vol. 53, 1785 - 1793)에 기재되어 있다. 이러한 문헌의 개시내용은 그 전문이 참조로 포함된다.
특정 실시양태에서, 2,5-푸란디카르복실산의 디알킬 에스테르는 WO 2011/023490에 기재된 2,5-푸란디카르복실산의 이성질체 노닐 에스테르이다. 이성질체 노닐 기는 WO 2011/023490의 6면 32행 내지 10면 15행에 기재된 바와 같이 이성질체 노난올의 혼합물로부터 유도될 수 있다.
한 실시양태에서, 부가적 가소제는 2,5-테트라히드로푸란 디카르복실산의 C4 내지 C5 디알킬 에스테르 및 2,5-디(히드록시메틸)테트라히드로푸란 및 2,5-디(히드록시에틸)테트라히드로푸란의 C4 내지 C5 디알킬 에스테르 유도체의 군으로부터 선택된다. 특정 실시양태에서, 부가적 가소제는 2,5-테트라히드로푸란 디카르복실산의 C4 내지 C5 디알킬 에스테르, 특히 디(이소부틸)-2,5-테트라히드로푸란 디카르복실레이트 및 디(n-부틸)-2,5-테트라히드로푸란 디카르복실레이트이다.
가소제 조성물은, 특히 특별한 또는 복잡한 적용-기반 요건, 예컨대 저온에서의 고 가요성, 고 추출 및 이동 저항성, 또는 매우 낮은 가소제 휘발성이 있는 경우, 중합체를 가소화하는데 유리하게 사용될 수 있다. 이러한 복잡한 적용-기반 요건은 PVC 적용에서 특히 만연하다.
PVC는 비닐 클로라이드의 단독중합에 의해 수득된다. 본 개시내용의 문맥에서 사용된 PVC는 현탁 중합, 마이크로-현탁 중합, 유화 중합 또는 괴상 중합에 의해 중합될 수 있다. 비닐 클로라이드의 중합에 의한 PVC의 제조 및 가소화 PVC의 제조 및 조성물은, 예를 들어 문헌 (Becker and Braun, Plastics Handbook, Volume 2/1: Polyvinyl Chloride, 2nd Edition, Carl Hanser Verlag, Munich)에 기재되어 있고, 그 전문이 본원에 참조로 포함된다. 전형적으로, 본 개시내용의 가소제 조성물을 포함하는 PVC는 PVC의 몰 질량을 특징짓고 DIN 53726에 따라 결정되는, 약 57 내지 약 90, 약 61 내지 약 85, 또는 약 64 내지 약 75의 K 값을 갖는다.
본 개시내용은 또한 가소제 조성물을 포함하는 성형 조성물을 제공한다. 성형 조성물은 또한 1종 이상의 중합체를 포함한다. 성형 조성물의 중합체는 열가소성 가공에 적합한 임의의 중합체일 수 있다. 구체적으로, 이러한 중합체는 다음의 것들 중에서 선택된다: C2-C10 모노올레핀, 예컨대 에틸렌 또는 프로필렌, 1,3-부타디엔, 2-클로로-1,3-부타디엔, 비닐 알콜 및 그의 C2-C10 알킬 에스테르, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 비닐리덴 플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 분지형 및 비분지형 C1-C10 알콜의 알콜 성분을 포함하는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 비닐 방향족 화합물, 예컨대 폴리스티렌, (메트)아크릴로니트릴, 에틸렌계 불포화 모노 및 디카르복실산, 및 말레산 무수물로부터 선택되는 중합된 형태의 1종 이상의 단량체를 포함하는 단독 및 공중합체, 비닐 아세탈의 단독- 및 공중합체, 폴리비닐 에스테르, 폴리카르보네이트 (PC), 폴리에스테르, 예컨대 폴리알킬렌 테레프탈레이트, 폴리히드록시알카노에이트 (PHA), 폴리부틸렌 숙시네이트 (PBS), 폴리부틸렌 숙시네이트 아디페이트 (PBSA), 폴리에테르, 폴리아미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리스티렌 (PS), 폴리에테르 케톤, 폴리우레탄 (PU), 열가소성 폴리우레탄 (TPU), 폴리술피드, 폴리술폰, 폴리페닐렌 에테르 (PPE), 및 그의 조합.
예는 C4-C8 알콜, 특히 부탄올, 헥산올, 옥탄올 및 2-에틸헥산올로부터 선택되는 동일하거나 또는 상이한 알콜 기를 갖는 폴리아크릴레이트, 폴리(메틸 메타크릴레이트) (PMMA), 메틸 메타크릴레이트-부틸 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 (ABS), 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체 (EPDM), 폴리스티렌 (PS), 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 (SAN), 아크릴로니트릴 스티렌 아크릴레이트 (ASA), 스티렌-부타디엔-메틸 메타크릴레이트 공중합체 (SBMMA), 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 스티렌-메타크릴산 공중합체 (SMA), 폴리옥시메틸렌 (POM), 폴리비닐 알콜 (PVAL), 폴리비닐 아세테이트 (PVA), 폴리비닐 부티랄 (PVB), 폴리카프로락톤 (PCL), 폴리히드록시부티르산 (PHB), 폴리히드록시발레르산 (PHV), 폴리락트산 (PLA), 에틸셀룰로스 (EC), 셀룰로스 아세테이트 (CA), 셀룰로스 프로피오네이트 (CP) 및 셀룰로스 아세테이트 부티레이트 (CAB)이다.
필요한 것은 아니지만, 전형적으로 중합체는 PVC, 폴리비닐 부티랄 (PVB), 비닐 아세테이트의 단독- 및 공중합체, 스티렌의 단독- 및 공중합체, 폴리아크릴레이트, 열가소성 폴리우레탄 (TPU) 또는 폴리술피드이다.
성형 조성물 내에 함유된 중합체는 또한 엘라스토머일 수 있다. 엘라스토머의 적합한 예는 1종 이상의 천연 고무 (NR), 1종 이상의 합성 고무 또는 이들 고무의 혼합물을 포함하나, 이에 제한되지는 않는다. 특정 실시양태에서, 합성 고무는, 예를 들어 폴리이소프렌 고무 (IR), 스티렌-부타디엔 고무 (SBR), 부타디엔 고무 (BR), 니트릴-부타디엔 고무 (NBR) 및 클로로프렌 고무 (CR)이다. 특정 실시양태에서, 고무 및/또는 고무 혼합물은 황으로 가황될 수 있다.
특정 실시양태에서, 성형 조성물은 중합체를 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 20 내지 약 99 중량부, 약 45 내지 약 95 중량부, 약 50 내지 약 90 중량부, 또는 약 55 내지 약 85 중량부의 양으로 포함한다.
특정 실시양태에서, 1종 이상이 성형 조성물 내에 함유되는 중합체는 PVC이다. 특정 실시양태에서, 성형 조성물은 PVC 및 엘라스토머를 모두 포함한다.
성형 조성물은 부가적 가소제를 또한 포함할 수 있다. 포함될 경우에, 성형 조성물 중의 부가적 가소제의 양은 가소제의 총량을 기준으로 한 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 90 중량부, 약 5 내지 약 50 중량부, 또는 약 10 내지 약 30 중량부이다. 가소제의 총량은 성형 조성물 내에 함유된 각 가소제의 합계 (즉, DOTP 및 임의의 부가적 가소제의 양)이다. 예를 들어, 가소제 조성물이 DOTP 및 부가적 가소제를 포함할 경우에, 가소제의 총량은 DOTP의 양 및 부가적 가소제의 양이다.
적합한 부가적 가소제는 상기에 기재되어 있다. 특정 실시양태에서, 부가적 가소제는 알킬 기에 4 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 아디프산 디알킬 에스테르 및 알킬 기에 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 2,5-푸란-디카르복실산 에스테르 중에서 선택되고, 각 에스테르의 에스테르 기는 동일하거나 또는 상이한 수의 탄소 원자를 갖는다.
성형 조성물 중의 가소제의 총량 (즉, DOTP 및 임의의 부가적 가소제의 양)은 전형적으로 중합체 100 중량부를 기준으로 약 0.5 내지 약 400 중량부, 약 0.5 내지 약 130 중량부, 또는 약 1 내지 약 35 중량부이다. 전형적으로, 가소제의 총량은 성형 조성물 중에 함유된 특정 중합체 또는 중합체 블렌드에 의존하는 변수이다.
특정 실시양태에서, 중합체는 PVC만 포함하고 (즉, PVC는 성형 조성물 중에 존재하는 유일한 중합체이고), 가소제 조성물은 DOTP로 본질적으로 이루어지고 부가적 가소제를 포함하지 않는다 (즉, DOTP는 성형 조성물 중의 유일한 가소제이다). 이러한 실시양태에서, 가소제 조성물은 중합체 100 중량부를 기준으로 약 5 내지 약 300 중량부, 약 10 내지 약 100 중량부, 또는 약 30 내지 약 70 중량부의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 중합체는 PVC만 포함하고 (즉, PVC는 성형 조성물 중에 존재하는 유일한 중합체이고), 가소제 조성물은 DOTP 및 부가적 가소제를 모두 포함한다. 이러한 실시양태에서, 가소제 조성물은 중합체 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 400 중량부, 약 10 내지 약 100 중량부, 또는 약 15 내지 약 85 중량부의 양으로 존재한다.
다른 실시양태에서, 중합체는 고무이고, 가소제 조성물은 고무 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 60 중량부, 약 1 내지 약 40 중량부, 또는 약 2 내지 약 30 중량부의 양으로 존재한다.
성형 조성물은 또한 적합한 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제는 첨가제가 강화 충전제, 예컨대 카본 블랙 또는 이산화규소, 기타 충전제, 메틸렌 공여체, 예컨대 헥사메틸렌테트라민 (HMT), 메틸렌 수용체, 예컨대 카르다놀(Cardanol) (캐슈넛으로부터)로 개질된 페놀계 수지, 가황제 또는 가교제, 가황 또는 가교 촉진제, 활성화제, 다양한 유형의 오일, 항산화제 및 다양한 다른 첨가제, 예컨대 안정화제, 윤활제, 충전제, 안료, 난연제, 광 안정화제, 발포제, 중합체 가공 조제, 충격 개질제, 광학 증백제, 대전방지제, 생안정화제, 및 타이어 및 다른 고무 화합물에 혼입될 수 있는 것으로 공지된 다른 첨가제인 것을 포함하나, 이에 제한되지는 않는다.
성형 조성물은 또한 성형 조성물의 안정성을 증가시키기 위해 1종 이상의 안정화제를 포함할 수 있다. 적합한 안정화제는 PVC 제제에서 사용되는 그러한 고체 또는 액체 안정화제를 포함한다. 예를 들어, 안정화제는 Ca/Zn, Ba/Zn, Pb 또는 Sn 안정화제뿐만 아니라 산-결합 층상 실리케이트, 예컨대 히드로탈사이트를 포함한다. 안정화제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.05 내지 약 7 중량부, 약 0.1 내지 약 5 중량부, 약 0.2 내지 약 4 중량부, 또는 약 0.5 내지 약 3 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 플라스틱, 예를 들어 탄화수소, 예컨대 오일, 파라핀 및 폴리에틸렌 왁스, 6 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜, 케톤, 카르복실산, 예컨대 지방산 및 몬탄산, 산화된 폴리에틸렌 왁스, 카르복실산의 금속 염, 카르복실산 아미드, 및 예를 들어 알콜, 예컨대 에탄올, 지방 알콜, 글리세롤, 에탄디올 및 펜타에리트리톨, 및 산 성분으로서 장쇄 카르복실산을 갖는 카르복실산 에스테르를 가공하기 위한 1종 이상의 윤활제를 포함할 수 있다. 윤활제는 중합체성 펠릿, 특히 PVC 펠릿 사이에 효율적이고, 혼합, 가소화 및 열성형 동안에 마찰력을 감소시키는 양으로 포함된다. 구체적으로, 윤활제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 10 중량부, 약 0.05 내지 약 5 중량부, 약 0.1 내지 약 3 중량부, 또는 약 0.2 내지 약 2 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 1종 이상의 충전제, 예컨대 카본 블랙 및 다른 유기 충전제, 천연 탄산칼슘, 예컨대 백악, 석회석 및 대리석, 합성 탄산칼슘, 돌로마이트, 규산염, 규산, 모래, 규조토, 및 규산알루미늄, 예컨대 카올린, 운모 및 장석을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 충전제는 탄산칼슘, 백악, 돌로마이트, 카올린, 규산염, 활석 및 카본 블랙이다. 일반적으로, 충전제는 특히 성형 조성물, 구체적으로는 PVC 성형 조성물의 압축, 인장 및 굽힘 강도, 경도, 및 열안정성에 긍적적 영향을 미친다. 충전제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 80 중량부, 약 0.1 내지 약 60 중량부, 약 0.5 내지 약 50 중량부, 또는 약 1 내지 약 40 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 성형 조성물의 성능 및/또는 외관을 개질시키기 위해 1종 이상의 안료를 포함할 수 있다. 무기 안료 및 유기 안료를 모두 사용할 수 있다. 적합한 무기 안료는, 예를 들어 카드뮴 안료, 예컨대 CdS, 코발트 안료, 예컨대 CoO/Al2O3, 및 크로뮴 안료, 예컨대 Cr2O3이다. 적합한 유기 안료는, 예를 들어 모노아조 안료, 축합 아조 안료, 아조메틴 안료, 안트라퀴논 안료, 퀴나크리돈, 프탈로시아닌 안료, 디옥사진 안료 및 아닐린 안료이다. 안료는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 10 중량부, 약 0.05 내지 약 5 중량부, 약 0.1 내지 약 3 중량부, 또는 약 0.5 내지 약 2 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 가연성을 감소시키고 연소 동안의 연무 발생을 감소시키기 위해 1종 이상의 난연제를 포함할 수 있다. 적합한 난연제는, 예를 들어 삼산화안티모니, 포스페이트 에스테르, 클로로파라핀, 수산화알루미늄, 붕소 화합물, 삼산화몰리브데넘, 페로센, 탄산칼슘 및 탄산마그네슘이다. 난연제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 10 중량부, 약 0.1 내지 약 8 중량부, 약 0.2 내지 약 5 중량부, 또는 약 0.5 내지 약 2 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 성형 조성물로부터 제조된 물품을 광에의 노출로 인한 표면 손상으로부터 보호하기 위해 광 안정화제를 포함할 수 있다. 적합한 광 화합물의 예는 히드록시벤조페논, 히드록시페닐-벤조트리아졸, 옥살아닐리드, 페닐트리아진, 시아노아크릴레이트 또는 테트라메틸피페리딘 ("HALS(장애 아민 광 안정화제)"-아민)을 포함한다. 전형적으로, 광 안정화제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 7 중량부, 약 0.1 내지 약 5 중량부, 약 0.2 내지 약 4 중량부, 또는 약 0.5 내지 약 3 중량부의 양으로 존재한다.
성형 조성물은 또한 바닥 커버링, 벽 커버링 및 합성 피혁과 같은 발포 성형 조성물 적용을 위한 팽창성 성형 조성물의 제조를 용이하게 하기 위해 기포제를 포함할 수 있다. 적합한 기포제는, 아조디카르본아미드, 옥시비스벤젠술포닐히드라지드, 소듐바이카르보네이트, 톨루엔술포닐히드라지드, 파라-톨루엔술포닐세미카르바지드, 또는 5-페닐테트라졸을 포함한다. 기포제는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 10 중량부, 약 0.1 내지 약 5 중량부, 약 0.2 내지 약 3 중량부, 또는 약 0.5 내지 약 1.5 중량부의 양으로 존재할 수 있다.
성형 조성물은 또한 발포 성형 조성물의 제조 및 성형 조성물 적용에서 기포제의 분해를 촉매화하기 위해 키커를 포함할 수 있다. 키커의 예는 산화아연이다. 키커는 성형 조성물 100 중량부를 기준으로 약 0.01 내지 약 10 중량부, 약 0.1 내지 약 5 중량부, 약 0.2 내지 약 3 중량부, 또는 약 0.3 내지 약 1 중량부의 양으로 존재할 수 있다. 상기 기재된 첨가제는 적합한 첨가제의 예이고 본 개시내용의 범주를 제한하지 않는다는 것을 인식해야 한다.
성형 조성물은 전기 기구용 하우징, 툴, 파이프, 케이블, 호스, 와이어 피복물, 윈도우 프로파일, 차량 제조용 구성부품, 타이어, 가구, 실내장식재 및 매트리스용 발포체, 타폴린, 시일, 복합 필름, 기록 디스크, 합성 피혁, 패키징 용기, 접착 테이프, 코팅, 글러브, 의료 제품, 위생 제품, 식품 패키징, 실내 장식 제품, 장난감 및 육아 물품, 스포츠 및 레저 제품, 의류, 패브릭용 섬유, 일회용 글러브, 바닥 커버링, 스포츠 바닥, 럭셔리 비닐 타일, 코브 베이스 스커팅(cove base skirting), 바닥 매트, 원뿔형 표지판, 벽 커버링, 발포 또는 비발포 벽지, 인테리어 패널링, 차량의 콘솔 커버, 인형, 공기주입식 장난감, 볼, 액션 피규어, 모델링 클레이, 수영 보조물, 유모차 커버, 교체 매트, 탕파(hot-water bottle), 및 치발 고리의 제조를 위해 사용될 수 있다.
본 개시내용은 또한 가소제 조성물을 포함하는 플라스티솔 조성물을 제공한다. 가소제 조성물은 가소제 조성물의 탁월한 겔화 특성으로 인해 플라스티솔 조성물 중의 이상적 성분이다. 플라스티솔 조성물은 가소제 조성물 및 중합체를 모두 포함한다. 적합한 중합체는 상기에 상세히 기재되어 있다. 한 실시양태에서, 중합체는 PVC이어서 플라스티솔 조성물은 PVC 플라스티솔 조성물이 된다.
상기 기재된 바와 같이, 가소제 조성물은 DOTP 및 화학식 I에 따른 디-에스테르와 상이한 부가적 가소제를 포함할 수 있다. 가소제 조성물이 부가적 가소제를 포함할 경우에, 부가적 가소제는 전형적으로 플라스티솔 조성물 중 가소제의 총량 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 90 중량부, 약 5 내지 약 50 중량부, 또는 약 10 내지 약 30 중량부의 양으로 존재한다.
필요한 것은 아니지만, 가소제 조성물이 부가적 가소제를 포함하지 않을 경우에 (즉, DOTP가 유일한 가소제인 경우에), 가소제 조성물은 전형적으로 각각 중합체 100 중량부에 대하여 약 5 내지 약 300 중량부, 또는 약 10 내지 약 100 중량부의 양으로 플라스티솔 조성물 중에 존재한다.
다른 실시양태에서, 가소제 조성물이 DOTP 및 부가적 가소제를 모두 포함할 경우, 가소제의 총량은 전형적으로 각각 중합체 100 중량부에 대하여 약 5 내지 약 300 중량부, 또는 약 10 내지 약 100 중량부의 양으로 플라스티솔 조성물 중에 존재한다.
플라스티솔 조성물은 전형적으로 플라스티솔 조성물을 적용하고 적용된 플라스티솔 조성물을 가열에 의해 후속적으로 겔화시키고 이어서 냉각시켜 균질한 물품을 수득함으로써 완성 제품으로 전환된다. 다양한 적용 공정은 주위 온도에서 수행되는 공정, 예컨대 스프레드 코팅 공정, 캐스팅 공정, 예컨대 슬러시 성형 및 회전 성형, 딥 코팅 공정, 사출 성형 공정 등을 포함한다. PVC 플라스티솔 조성물은 PVC 필름, 무이음매 중공 물품 및 글러브의 제조, 및 텍스타일 코팅과 같은 텍스타일 산업에서의 적용에 특히 적합하다.
본 개시내용은 또한 가소제 조성물을 포함하는 분말 코팅 조성물을 제공한다. 가소제 조성물을 포함하는 분말 코팅 조성물은 전형적으로 낮은 휘발성 및 그에 따른 낮은 연무화 값을 갖는다.
분말 코팅 조성물은 자유-유동, 건조 분말로서 적용되는 유형의 코팅이다. 일반적으로, 분말 코팅 조성물을 사용하여 종래의 코팅보다 거친 경질 마감을 생성한다. 분말 코팅 조성물은 금속, 예컨대 가정용 기구, 알루미늄 압출, 드럼 하드웨어, 및 자동차 및 자전거 부품의 코팅을 위해 주로 사용된다. 그러나, 다른 기재가 또한 사용될 수 있다. 예를 들어, 특정 분말 코팅 조성물은 MDF (중밀도 섬유판) 등에 적합하다. 분말 코팅 조성물은 전형적으로 분무에 의해 또는 유동화 층으로 정전기적으로 적용된다. 적용된 분말 코팅 조성물은 그것이 유동하여 "스킨"을 형성하게 하도록 가열 하에 전형적으로 경화된다. 분말 코팅 조성물은 열가소성 또는 열경화성 분말 코팅 조성물일 수 있다.
가소제 조성물 이외에, 분말 코팅 조성물은 또한 중합체를 포함한다. 중합체는 특별히 제한되지 않고 열경화성 중합체 및 열가소성 중합체 중 하나일 수 있다. 전형적인 중합체의 예는 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에스테르-에폭시, 에폭시 (용융 접합 에폭시(fusion bonded epoxy) 포함), 및 아크릴릭스를 포함하나, 이에 제한되지는 않는다.
일반적으로, 분말 코팅 조성물의 제조 방법은 일반적으로 네 단계를 포함한다. 제1 단계에서, 중합체의 그래뉼을 경화제 (열경화성 중합체의 경우), 안료, 가소제 조성물, 및 첨가제와 혼합한다. 제2 단계에서, 혼합물을 가열하고 압출시킨다. 제3 단계에서, 압출된 혼합물을 평편하게 롤링하고, 냉각시키고 작은 칩으로 부순다. 마지막으로, 제4 단계에서, 칩을 분쇄하고 체질하여 미세한 분말을 만든다.
일반적으로, 분말 코팅 조성물의 적용은 세 단계를 포함하며, 이것은 기재를 준비하고 (예를 들어 전처리, 표면 조면화, 표면 세정 등), 상기 기재된 바와 같은 분말 코팅 조성물을 기재에 적용하고, 분말 코팅 조성물을 경화시키는 것이다.
분말 코팅 조성물의 일반적 제조 방법 및 적용 방법은 분말 코팅 조성물을 제조하고 적용하는 템플릿인 것으로 인식해야 한다. 그러므로, 통상의 기술자는 분말 코팅 조성물의 특정 제제화 및/또는 적용을 수용하기 위해 각각의 공정을 수행하는데 필요한 단계의 수를 부가하거나 감소시킬 수 있다. 분말 코팅 조성물의 제조 및 적용의 보다 서술적 방법론은 문헌 (D. Bate: The Science of Powder Coatings, Volume 1 and 2, SITA Technology, London, 1990) 및 (M. D. Howell: The Technology, Formulation and Application of Powder Coatings, Powder Coating, Volume 1, John Wiley & Sons, 2000)에 상세히 기재되어 있고, 이들 문헌은 그 전문이 참조로 포함된다.
분말 코팅 조성물을 다시 언급해 보면, 가소제 조성물이 부가적 가소제를 포함하지 않는 (즉, DOTP가 분말 코팅 조성물 중의 유일한 가소제인) 실시양태에서, 가소제 조성물은 중합체 100 중량부를 기준으로 약 5 내지 약 300 중량부 또는 약 10 내지 약 100 중량부의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 가소제 조성물은 DOTP 및 부가적 가소제를 모두 포함한다. 이러한 실시양태에서, 부가적 가소제는 전형적으로 가소제의 총량 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 90 중량부, 약 5 내지 약 50 중량부, 또는 약 10 내지 약 30 중량부의 양으로 존재한다. 또한, 이러한 실시양태에서, 가소제 조성물은 중합체 100 중량부를 기준으로 약 5 내지 약 400 중량부 또는 약 50 내지 약 200 중량부의 양으로 존재한다.
특정 실시양태에서, 성형 조성물을 사용하여 성형 물품 및 필름을 제조한다. 구체적으로, 이러한 성형 물품 및/또는 필름은 전기 기구, 예컨대 주방용 기구 및 컴퓨터 케이스용 하우징; 툴; 기기; 파이프; 케이블; 호스, 예컨대 플라스틱 호스, 물 호스 및 관개 호스, 산업적 고무 호스 및 화학물질 호스; 와이어 피복물; 윈도우 프로파일; 자동차 제조용 구성부품, 예컨대 차체 부품 및 엔진용 진동 댐퍼, 및 타이어; 가구, 예컨대 의자, 테이블 및 선반; 실내장식재 및 매트리스용 발포체; 타폴린, 예컨대 트럭 타폴린 및 텐트 타폴린; 시일; 복합 필름, 예컨대 적층 안전 유리, 특히 차량 윈도우 및 윈도우 판유리용 필름; 기록 디스크; 합성 피혁; 패키징 용기; 접착 테이프; 코팅; 및 글러브를 포함한다.
추가로, 성형 조성물은 먹을 수 있는 상품을 밀봉 및/또는 접촉하는 사람 또는 상품과 직접 접촉하게 되는 성형 물품 및 필름의 제조에 적합하다. 이러한 성형 물품 및 필름은 위생 제품, 식품 패키징, 실내 장식 제품, 장난감 및 육아 물품, 스포츠 및 레저 제품, 의류, 패브릭용 섬유, 일회용 글러브 등을 포함한다.
성형 조성물로부터 제조될 수 있는 의료 제품은 장내 영양 튜브, 혈액투석용 튜브, 호흡 튜브, 주입 튜브, 주입 백, 혈액 백, 카테터, 기관 튜브, 일회용 주사기, 글러브 및 호흡 마스크를 포함하나, 이에 제한되지는 않는다.
성형 조성물로부터 제조될 수 있는 식품 패키징은 랩(cling film), 식품 호스, 식수 호스, 식품의 저장 또는 동결을 위한 용기, 리드 시일, 캡, 병뚜껑 및 합성 와인 코르크를 포함한다.
성형 조성물로부터 제조될 수 있는 실내 장식 제품은 균질하거나 또는 1개 이상의 발포체 층을 포함하는 여러 층으로 이루어질 수 있는 바닥 커버링, 예컨대 표준 바닥 커버링, 스포츠 바닥 및 럭셔리 비닐 타일 (LVT), 코브 베이스 스커팅, 바닥 매트, 원뿔형 표지판, 합성 피혁, 건물의 벽 커버링 및 발포 또는 비발포 벽지, 및 차량의 인테리어 패널링 및 콘솔 커버를 포함한다.
본 발명의 문맥에서 성형 조성물로부터 제조될 수 있는 장난감 및 육아 물품은, 예를 들어 인형, 공기주입식 장난감, 예컨대 볼, 액션 피규어, 모델링 클레이, 수영 보조물, 유모차 커버, 교체 매트, 탕파, 치발 고리 또는 병을 포함한다.
성형 조성물로부터 제조될 수 있는 스포츠 및 레저 제품은 운동용 볼, 운동용 매트, 쿠션, 마사지 볼 및 롤러, 신발 및 신발 밑창, 볼, 에어 매트리스 및 음용 병을 포함한다.
성형 조성물로부터 제조될 수 있는 의류는 라텍스 의류, 보호 의류, 레인 재킷 및 고무 부츠, 및 인쇄 잉크를 함유한 T-셔츠를 포함한다.
본 개시내용은 또한 가소제 조성물을 포함하는, 압출 보조제, 캘린더링제; 레올로지 개질제; 표면-활성 조성물, 예컨대 용융 유동 증진제, 필름-형성제, 탈포제, 소포제, 습윤제, 유착제 및 유화제; 윤활제, 예컨대 윤활 오일, 그리스 및 페이스트; 화학 반응용 켄처; 지둔화제; 제약 제품; 접착제; 충격 개질제 및 증량제; 및/또는 열 전달 오일 (예를 들어, 냉장고에서)을 제공한다.
본 개시내용은 또한 방향족 디-에스테르의 제조 방법을 제공한다. 방법은 방향족 이-산 및 선형 또는 분지형 C4-C13 알콜을 조합하여 혼합물을 형성하는 것을 포함한다. 전형적으로, 혼합물은 반응기의 내부에서 조합된다. 방법은 또한 혼합물 중에 존재하는 촉매 없이 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 것을 포함한다. 다시 말해서, 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 동안에 촉매는 혼합물 중에 존재하지 않는다. 천연 가스 버너를 사용하거나 또는 내부 가열 코일을 사용하여 반응기를 가열하는 것과 같은 임의의 적합한 수단에 의해 혼합물을 가열할 수 있다.
방법은 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 티타늄 촉매를 혼합물과 조합하는 것을 추가로 포함한다. 방법은 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 증가시키는 것을 추가로 포함한다. 방법은 제2 압력 (P2)을 유지하면서 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 것을 추가로 포함한다.
특정 실시양태에서, 방향족 이-산은 프탈산, 이소프탈산, 및/또는 테레프탈산이다. 전형적으로, 방향족 이-산은 테레프탈산이다. 필요한 것은 아니지만, 특정 실시양태에서, C4-C13 알콜은 n-부탄올, 이소부탄올, n-펜탄올, 이소펜탄올, n-헥산올, 2-에틸헥산올, 이소헥산올, n-헥탄올, 이소헥탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, n-노난올, 이소노난올, n-데칸올, 이소데칸올, n-운데칸올, 이소운데칸올, n-도데칸올, 이소도데칸올, n-트리데칸올 및 이소트리데칸올이다. 전형적으로, C4-C13 알콜은 2-에틸헥산올이다. 한 실시양태에서, 테레프탈산 및 2-에틸헥산올은 조합되어 혼합물을 형성한다.
임의의 특정 이론으로 구속됨 없이, 온도 변화, 압력 제어, 및 촉매 첨가의 시기의 특정 전략적 순서는 C4-C13 알콜의 분해를 방지하거나 감소시키는 것으로 여겨진다. 알콜이 분해 생성물로 분해될 경우, 분해 생성물은 방향족 이-산과 반응하여 부산물/불순물을 생성할 수 있기 때문에 C4-C13 알콜의 분해를 방지하는 것이 유리하다. 게다가, 온도 변화, 압력 제어, 및 촉매 첨가의 시기의 특정 전략적 순서는 촉매의 분해를 또한 방지하거나 감소시키는 것으로 또한 여겨진다. 촉매의 분해 생성물이 또한 반응식에 참여하여 바람직하지 않은 부산물/불순물을 형성할 수 있기 때문에 촉매의 분해를 방지하는 것이 또한 유리하다. 이하에서 C4-C13 알콜의 분해로부터 발생한 불순물 및 방향족 이-산의 분해로부터 발생한 불순물은 모두 총괄적으로 "부산물 불순물"로서 지칭된다. 일반적으로, 이러한 부산물 불순물은 종래의 분리 기술, 예컨대 세척, 증류, 및 여과에 의해 제거될 수 없다. 그러므로, 일단 부산물 불순물이 형성되면 부산물 불순물은 일반적으로 방향족 디-에스테르로부터 분리불가능할 것이기 때문에, 부산물 불순물의 형성을 피하는 것이 필수적이다.
특정 실시양태에서, 제1 온도 (T1)는 약 20 내지 약 22℃이다. 다시 말해서, 이러한 실시양태에서, 제1 온도 (T1)는 약 실온이다. 특정 실시양태에서, 제2 온도 (T2)는 약 175 내지 약 185℃, 약 177 내지 약 183℃, 또는 약 180℃이다. 그러므로, 제1 온도 (T1)가 약 20 내지 약 22℃이고 제2 온도 (T2)가 약 175 내지 약 185℃인 특정 실시양태에서, 혼합물을 약 실온에서 약 175 내지 약 185℃로 가열한다. 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 동안에 촉매의 부족은 C4-C13 알콜의 분해를 방지하거나 감소시키고, 결과적으로 부산물 불순물이 형성되지 않는 것으로 여겨진다.
특정 실시양태에서, 제3 온도 (T3)는 약 210 내지 약 240℃이다. 그러므로, 제1 온도 (T1)가 약 20 내지 약 22℃이고, 제2 온도 (T2)가 약 175 내지 약 185℃이고, 제3 온도 (T3)가 약 210 내지 약 240℃인 실시양태에서, 혼합물을 약 실온에서 약 175 내지 약 185℃로 가열하고, 이어서 촉매를 첨가하고 혼합물을 약 210 내지 약 240℃로 가열한다. 온도가 제2 온도 (T2)에 도달하고 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 올린 후, C4-C13 알콜 및 촉매가 압력에 노출되는 시간의 양, 및 서로에 노출되는 시간의 양 (즉, C4-C13 알콜 및 촉매가 서로에 노출되는 시간의 양)은 부산물 불순물을 방지하거나 감소시키기 ‹š문에, 제2 온도 (T2) 후 촉매를 첨가하는 것이 부산물 불순물을 피하거나 감소시키는 데에 유리한 것으로 여겨진다.
특정 실시양태에서, 방법은 온도가 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 증가되는 동안에 압력이 제1 압력 (P1)으로부터 증가하는 것을 방지하는 단계를 추가로 포함한다. 방법은 압력이 형성되는 것을 방지하는 임의의 특정 메커니즘으로 제한되지 않지만, 적합한 메커니즘의 한 예는 반응을 환기구가 장착된 반응기에서 수행하고, 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 동안에 환기구를 열어 열린 위치에 그대로 두는 것을 포함한다. 환기구는, 열린 위치에 있는 동안에, 반응기에서 임의의 압력이 형성되는 것을 방지해 반응기는, 환기구가 열린 위치에 있는 한, 승압 또는 감압보다 제1 압력에서 작동하게 된다. 제1 압력 (P1)을 유지하는 것이 부산물 불순물을 감소시키거나 없애기 때문에, 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 동안에 압력이 증가하는 것을 방지하는 것이 유리한 것으로 여겨진다. 다시 말해서, 제1 압력 (P1)을 유지하는 것은 2-에틸헥산올 및 촉매의 분해를 감소시켜 부산물 불순물이 형성되지 않는다. 특정 실시양태에서, 제1 압력 (P1)은 대기압 (즉, 대략 1atm)이다. 특정 실시양태에서, 제2 압력 (P2)은 약 1.3 내지 약 1.6 atm, 또는 약 1.4 내지 약 1.5 atm이다. 특정 실시양태에서, 제1 압력 (P1)은 대기압이고 제2 압력 (P2)은 약 1.3 내지 약 1.6 atm이다.
특정 실시양태에서, 방법은 수산화나트륨의 수용액을 첨가하여 방향족 이-산 (또는 방향족 이-산이 1몰의 C4-C13 알콜과 반응한 경우에는 산 모노에스테르) 상의 임의의 잔존 카르복실산 기를 중화시키고 티타늄 촉매와의 염을 형성하는 단계를 추가로 포함한다. 방향족 이-산이 테레프탈산인 실시양태에서, 수산화나트륨의 수용액은 테레프탈산 상의 임의의 잔존 카르복실산 기를 중화시키고 티타늄 촉매와의 염을 형성한다. 일단 혼합물이 중화된 경우, 티타늄 촉매 염은 여과에 의해 제거될 수 있고 중화된 방향족 이-산은 수용액을 경사분리함으로써 제거될 수 있다. 부산물 불순물은 전통적 분리 기술, 예컨대 여과 및/또는 경사분리을 통해 단리 (즉, 방향족 디-에스테르로부터 분리)될 수 없으므로, 중화된 방향족 이-산 및 티타늄 촉매 염 중 어느 것도 부산물 불순물이 아닌 것으로 인식되어야 한다.
방법은 C4-C13 알콜을 제거하는 증류 단계를 추가로 포함할 수 있다. C4-C13 알콜이 2-에틸헥산올인 실시양태에서, 방법은 2-에틸헥산올을 제거하는 증류 단계를 포함한다. 증류 단계는, 존재할 경우에 물을 또한 제거할 수 있다. 2-에틸헥산올 및 물의 농도가 1000 ppm 미만일 경우에 증류 단계는 전형적으로 완료된다. 특정 실시양태에서, 방법은 물을 제거하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 물의 제거가 반응 평형을 방향족 디-에스테르의 형성 쪽으로 "푸시(push)"하기 때문에 물을 제거하는 것이 유리하다. 전형적으로 방법이 물을 제거하는 단계를 포함할 경우에, 온도가 제2 온도 (T2) 또는 그 초과에 있는 동안에 물은 제거된다. 잔류 물이 증류 동안에 제거될 수 있지만, 물을 제거하는 단계는 증류 단계로부터 별개의 단계인 것으로 인식되어야 한다. 전형적으로, 증류 단계는 반응이 완료된 후에 수행되어 잔류 2-에틸헥산올을 제거하고, 물을 제거하는 단계는 반응이 진행되는 동안에 수행되어 반응을 푸시한다. 방법이 물을 제거하는 임의의 특정 수단으로 제한되지는 않지만, 적합한 수단의 한 예는 물 제거탑을 반응기에 탑재하는 것을 포함한다.
방법은 압력이 제2 압력 (P2)에 도달한 후 온도가 제3 온도 (T3)에 있는 동안에 압력을 제1 압력 (P1) 미만의 제3 압력 (P3)으로 감소시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 압력을 제3 압력 (P3)으로 감소시키는 것은 일반적으로 물의 제거를 돕고 따라서 반응 평형을 방향족 디-에스테르의 형성 쪽으로 추가로 푸시한다. 필요한 것은 아니지만, 제3 압력 (P3)은 전형적으로 약 0.2 내지 약 0.6 atm이다. 제3 압력 (P3)이 약 0.2 내지 약 0.6 atm인 경우에, 제3 압력 (P3)이 대기압 미만이고 물 분자가 일반적으로 대기압 미만의 압력에서 더 많이 추출될 수 있기 때문에, 압력은 일반적으로 물의 제거를 돕는다. 전형적으로, 제3 압력 (P3)은 진공을 도입함으로써 달성된다.
특정 실시양태에서, 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 동안에 제2 압력 (P2)을 유지하는 단계는 진공을 도입하는 것을 포함하고, 불활성 기체를 방출하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 불활성 기체를 방출하는 것은 밸브를 열어 질소를 방출하는 것을 포함하나, 이에 제한되지 않는 다양한 방법에 의해 달성될 수 있다는 것을 인식해야 한다. 진공을 도입하는 것은 압력을 해제하여 압력이 제2 압력 (P2)을 초과하는 것을 방지하는 것이고, 한편 불활성 기체를 방출 (즉, 안으로 펌핑)하는 것은 압력을 증가시키는 것이다. 특정 경우에, 각각의 조치는 분리해서 볼 경우에 정반대로 보일 수도 있지만, 진공을 도입하여 압력을 유지할 수 있고, 한편 동시에 불활성 기체를 방출하여 압력을 추가로 유지할 수 있다. 그러므로, 방법이 진공을 도입하고 불활성 기체를 방출하는 것을 포함할 경우에, 각 사건은 제2 압력 (P2)을 유지하기 위해 서로 협조한다.
DOTP를 포함하고, 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물은 상기 방법의 실시양태에 의해 제조될 수 있다. 방법은 테레프탈산 및 2-에틸헥산올을 조합하여 혼합물을 형성하고, 혼합물 중에 존재하는 촉매 없이 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하고, 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 티타늄 촉매를 혼합물과 조합하고, 혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 증가시키고; 제2 압력 (P2)을 유지하면서 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 단계를 포함한다. 필요한 것은 아니지만, 제1, 제2, 및 제3 온도 (T1), (T2), (T3), 및 제1 및 제2 압력 (P1), (P2)은 방향족 디-에스테르의 제조 방법에서 상기 한정된 범위일 수 있다. 특정 실시양태에서, 제1, 제2, 및 제3 온도 (T1), (T2), (T3), 및 제1 및 제2 압력 (P1), (P2) 중 적어도 하나는 방향족 디-에스테르의 제조 방법에서 상기 한정된 동일한 범위이다. 다른 실시양태에서, 제1, 제2, 및 제3 온도 (T1), (T2), (T3), 및 제1 및 제2 압력 (P1), (P2) 각각은 상기 기재된 방향족 디-에스테르의 제조 방법에서 상기 한정된 동일한 범위이다. 그러므로, 특정 실시양태에서, 제1 온도 (T1)는 약 20 내지 약 22℃이고, 제2 온도 (T2)는 약 175 내지 약 185℃이고, 제3 온도 (T3)는 약 210 내지 약 240℃이고, 제1 압력 (P1)은 대략 대기압이고, 제2 압력 (P2)은 약 1.3 내지 약 1.6 atm이다.
DOTP를 포함하고, 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물의 제조 방법은 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 동안에 압력이 제1 압력 (P1)으로부터 증가하는 것을 방지하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
DOTP를 포함하고, 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물의 제조 방법은 온도가 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 증가되는 동안에 압력이 제1 압력 (P1)으로부터 증가하는 것을 방지하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
DOTP를 포함하고, 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물의 제조 방법은 수산화나트륨의 수용액을 첨가하여 테레프탈산 상의 임의의 잔존 카르복실산 기를 중화시키고 티타늄 촉매 염을 형성하는 단계, 수용액을 제거하는 단계, 증류시켜 과잉 2-에틸헥산올을 제거하는 단계, 및 여과하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
온도 변화, 압력 제어, 및 촉매 첨가의 시기의 특정 전략적 순서는 2-에틸헥산올 및/또는 티타늄 촉매의 분해를 방지하거나 감소시키는 것으로 인식되어야 한다. 분해가 일어날 경우, 분해 생성물이 테레프탈산과 반응하여 화학식 I에 따른 디-에스테르를 생성할 수 있기 때문에, 2-에틸헥산올 및/또는 티타늄 촉매의 분해를 방지하는 것이 유리하다. 상기 기재된 바와 같이, 화학식 I에 따른 디-에스테르는 종래의 분리 기술, 예컨대 세척, 증류, 및 여과에 의해 제거될 수 없다. 그러므로, 일단 적어도 화학식 I에 따른 디-에스테르가 형성되면 적어도 디-에스테르는 DOTP로부터 분리불가능하기 때문에, 화학식 I에 따른 디-에스테르의 형성을 피하는 것이 필수적이다. 추가로, 분해가 일어날 경우, 분해 생성물이 테레프탈산과 반응하여 (1) 테레프탈산, 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합의 반응 생성물을 생성할 수 있기 때문에, 2-에틸헥산올 및/또는 티타늄 촉매의 분해를 피하는 것이 유리하다. 게다가, 분해 생성물은 또한 테레프탈산과 반응하여 DMT를 생성할 수 있다. 그러므로, 특정 실시양태에서, DOTP를 포함하는 가소제 조성물의 제조 방법은 (1) 화학식 I에 따른 디-에스테르, (2) DMT, 및 (3) (i) 테레프탈산, 및 (ii) 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합의 반응 생성물이 실질적으로 없다.
특정 실시양태에서, 상기 기재된 바와 같이 제조된 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.9 중량부 이상의 양으로 포함하고, 가소제 조성물은 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로, 0.1 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함한다.
특정 실시양태에서, 상기 기재된 바와 같이 제조된 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.95 중량부 이상의 양으로 포함하고, 가소제 조성물은 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.05 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함한다.
특정 실시양태에서, 상기 기재된 바와 같이 제조된 가소제 조성물은 DOTP를 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.97 중량부 이상의 양으로 포함하고, 가소제 조성물은 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.03 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함한다.
특정 실시양태에서, 상기 기재된 바와 같이 제조된 가소제 조성물은 또한 (1) 테레프탈산, 및 (2) 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합의 반응 생성물이 실질적으로 없고 DMT가 실질적으로 없다.
<실시예>
본 개시내용의 가소제 조성물의 한 실시양태인, 실시예 1은 환기구 및 반응기에 탑재된 물 제거 칼럼을 갖는 반응기에서 제조되었다. 환기구는 열린 위치 및 폐쇄 위치를 가졌다. 환기구가 열린 위치에 있는 경우 (즉, 환기구가 열린 경우), 압력은 반응기에서 형성되지 않았다. 그러므로, 반응기는 대기압에서 유지되었다. 2-에틸헥산올을 반응기 내에 펌핑하고 교반하였다. 고체 형태의 테레프탈산을 반응기에 첨가하였다. 2-에틸헥산올 및 테레프탈산 이외의 어떤 성분도 반응기에 첨가하지 않았다. 반응기 아래에 위치한 천연 가스 버너를 사용하고 반응기 내의 내부 가열 코일을 통해 8 bar 증기를 사용하여 반응기를 대략 180℃로 가열하였다. 반응기 상의 환기구는 반응기를 가열하기 전에 열린 위치에 있었다. 반응기를 180℃로 가열하는 동안에 환기구는 계속 열린 위치에 있었다. 환기구는, 열린 위치에 있는 동안에, 임의의 압력이 반응기에서 형성되는 것을 방지해 반응기는 대기압에서 작동하게 되었다. 반응기를 180℃로 가열하는 동안에 2-에틸헥산올과 테레프탈산 사이에서 측정가능한 양의 반응은 일어나지 않았다. 일단 반응기가 180℃에 도달하면, 2-에틸헥산올과 테레프탈산 사이의 반응은 시작되었다. 물 제거탑을 통해 반응기로부터 물을 계속 제거하였다.
반응이 180℃에 도달한 후, 티타늄 촉매를 첨가하고 환기구를 폐쇄하였다. 환기구를 폐쇄한 후, 질소 기체를 계속 반응기 내에 펌핑하여 반응 압력을 1 atm (대기압)에서 1.4 atm으로 증가시켰다. 질소 기체를 반응기 내에 펌핑하는 공정은 반응의 지속기간 동안 계속되었다. 반응 압력은 1.4 atm에서 유지되었다. 촉매를 첨가하고 압력이 1.4 atm에 도달한 후, 반응기 내의 온도를 180℃에서 220℃로 올렸다. 진공을 도입하여 (즉, 풀링하여) 임의의 압력이 1.4 atm을 넘는 것을 방지했다.
2-에틸헥산올 및 테레프탈산 반응이 진행되는 동안에, 반응기로부터 물을 계속 제거하였다. 반응이 완료에 가까워짐에 따라, 진공을 증가시켜 반응 압력을 0.4 atm으로 낮추어 가소제 조성물을 형성하였다.
가소제 조성물은 0.07 ㎎ KOH 미만의 산가를 가졌다. 이어서 가소제 조성물을 수산화나트륨의 수용액으로 세척하고, 증류시키고, 여과하였다.
비교 실시예 A는 디(2-에틸헥실)테레프탈레이트 이스트만(Eastman) 168®이었고, 미국 테네시주 킹즈포트 소재 이스트만 케미칼 컴파니(Eastman Chemical Company)에 의해 공급되었다.
실시예 1 및 비교 실시예 A의 가소제 조성물의 특성은 표 1에 비교되어 있다.
<표 1>
Figure pct00005
실시예 1은 메틸 (2-에틸헥실) 테레프탈레이트 (MOTP)가 실질적으로 없었다 (즉, 농도가 < 0.02%였다). 반대로, 비교 실시예 A는 2.04% MOTP를 포함하였다. MOTP의 영향력 있는 존재는 휘발성 및 연무화 값의 차이에 주로 원인이 되는 것으로 여겨졌다. 구체적으로, 휘발성에 관하여, 150℃에서 1시간 후 실시예 1은 비교 실시예 A의 경우 5.60%인 것에 비해 단지 2.83%였다. 마찬가지로, 연무화 값은 비교 실시예 A의 경우 3.50 ㎎인 것에 비해 실시예 1의 경우 단지 1.38 ㎎이었다.
실시예 1 및 비교 실시예 A의 열가소성 가공에서의 가소화 특성을 평가하기 위해, 각각 PVC 100 중량부를 기준으로 40, 50, 및 70, 중량부로, 실시예 1 및 비교 실시예 A를 사용하여 0.5-㎜-두께 가소화 PVC 시트를 제조하였다. 시트는 가소화 PVC를 롤링 및 가압함으로써 제조되었다.
상이한 첨가제를 사용한 효과를 없애기 위해, 6개의 가소화 PVC 시트를 제조하였다. PVC 중에 존재하는 PVC 및 안정화제의 양은 PVC 시트 100 중량부를 기준으로 중량부로 나타냈다. PVC 시트 중에 존재하는 실시예 1 및 비교 실시예 A의 양은 PVC 100 중량부를 기준으로 중량부로 나타냈다. PVC 시트 제제는 다음과 같았다:
Figure pct00006
PVC는 캘리포니아주 로스앤젤레스 소재 옥시비닐스에 의해 공급되는 단독중합체였다.
안정화제는 독일 링겐 소재 배를로허에 의해 공급되는 액체 Ba-Zn 안정화제였다.
성분들을 실온에서 호바트(Hobart) 믹서에서 혼합하였다. 혼합물을 후속적으로 전기 가열되는 실험실 롤 밀 (랩테크(Labtech) 타입 "150") 상에서 가소화하고 거친 시트로 밀어서 폈다. 롤 속도는 20 rpm (프론트 롤) 및 24 rpm (백 롤)이었고, 롤링 시간은 5분이었고 온도는 다음과 같았다:
Figure pct00007
얻은 롤링된 시트를 이어서 25,000 psi의 압력 (보어 5" 상) 및 350 ℉의 온도에서 5분간 그리고 이어서 120 ℉ 미만으로 냉각시키면서 동일한 압력에서 추가 5분간 가압하였다. 이어서 시트를 수행되어야 하는 치수에 따라, 워배시 제네시스 시리즈 유압식 압축 프레스 모델 (Wabash Genesis Series Hydraulic Compression Press Model) G30H/30C-X 상에서 20 또는 70 mil의 두께를 갖는 가소화 PVC 시트로 가압하였다. 얻은 롤링된, 가압된 시트 상에서 적용 시험을 수행하였다.
적용 시험은 표준 방법에 의해 수행되었고 결과는 표 2에 요약되어 있다.
<표 2>
Figure pct00008
표 2는 실시예 1 및 비교 실시예 A가 쇼어 A 경도에 의해 측정된 바와 같은 유사한 기계적 특성, 취성 온도에 의해 측정된 바와 같은 유사한 저온 가요성 특성, 및 물 추출에 의해 측정된 바와 같은 유사한 물에 대한 저항성을 가졌음을 보여준다.
그러나, 70의 가소제 함량을 가진 경우 실시예 1로 제조된 PVC 시트는 비교 실시예 A로 제조된 PVC 시트 (2.6%)보다 훨씬 낮은 휘발성 (1.8%)을 가졌다.
본 개시내용의 많은 변경 및 변형이 상기 교시내용을 고려하여 가능하고, 개시내용은 첨부된 청구범위의 범주 내에 구체적으로 기재된 것과 달리 실시할 수 있다. 독립항 및 종속항, 단일 인용 및 다중 인용 모두의 모든 조합의 대상은 본원에서 명백히 고려된다. 첨부된 청구범위는 상세한 설명에 기재된 특정 화합물, 조성물, 또는 방법을 나타내는 것으로 제한되지 않고, 이것은 첨부된 청구범위의 범주 내에 속하는 특정 실시양태 사이에서 달라질 수 있다는 것을 이해해야 한다. 다양한 실시양태의 특정 특징부 또는 측면을 기재하는데 있어서 본원에서 신뢰하는 임의의 마쿠시 군과 관련하여, 상이한, 특별한, 및/또는 예상치 않은 결과가 모든 다른 마쿠시 멤버로부터 독립적인 각각의 마쿠시 군의 각 멤버로부터 얻어질 수 있다는 것을 인식해야 한다. 마쿠시 군의 각 멤버는 개별적으로 및 또는 조합으로 신뢰할 수 있고 첨부된 청구범위의 범주 내의 구체적 실시양태에 대한 적절한 지지내용을 제공한다.
본 개시내용의 다양한 실시양태를 기재하는데 있어서 신뢰하는 임의의 범위 및 부분범위는 독립적으로 및 총괄적으로 첨부된 청구범위의 범주 내에 속하는 것으로 또한 이해해야 하며, 그 안의 정수 및/또는 분수 값이 본원에 명확히 기재되어 있지 않더라도, 이러한 값을 비롯한 모든 범위를 기재하고 고려한 것으로 이해한다. 통상의 기술자는 열거된 범위 및 부분범위가 본 개시내용의 다양한 실시양태를 충분히 기재하고 가능하게 하고, 이러한 범위 및 부분범위가 관련 있는 이등분, 삼등분, 사등분, 오등분 등으로 추가로 서술될 수 있음을 쉽게 안다. 단지 한 예로서, "0.1 내지 0.9의" 범위는 하위 1/3, 즉 0.1 내지 0.3, 중간 1/3, 즉 0.4 내지 0.6, 및 상위 1/3, 즉 0.7 내지 0.9로 추가로 서술될 수 있으며, 이는 개별적으로 및 총괄적으로 첨부된 청구범위의 범주 내에 있고, 개별적으로 및/또는 총괄적으로 신뢰할 수 있고 첨부된 청구범위의 범주 내의 구체적 실시양태에 대한 적절한 지지내용을 제공한다. 부가적으로, 범위를 한정하거나 수식하는 용어, 예컨대 "이상", "초과", "미만", "이하" 등과 관련하여, 이러한 용어가 부분범위 및/또는 상한 또는 하한을 포함하는 것으로 이해해야 한다. 또 다른 예로서, "10 이상"의 범위는 본질적으로 10 이상 내지 35의 부분범위, 10 이상 내지 25의 부분범위, 25 내지 35의 부분범위 등을 포함하고, 각 부분범위는 개별적으로 및/또는 총괄적으로 신뢰할 수 있으며, 첨부된 청구범위의 범주 내의 구체적 실시양태에 대한 적절한 지지내용을 제공한다. 마지막으로, 개시된 범위 내의 개개의 수는 신뢰할 수 있고 첨부된 청구범위의 범주 내의 구체적 실시양태에 대한 적절한 지지내용을 제공한다. 예를 들어, "1 내지 9의" 범위는 3과 같은 다양한 개개의 정수뿐만 아니라 4.1과 같은 소수점 (또는 분수)을 포함한 개개의 수를 포함하며, 이것은 신뢰할 수 있고 첨부된 청구범위의 범주 내의 구체적 실시양태에 대한 적절한 지지내용을 제공한다.

Claims (48)

  1. 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하고, 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물.
    <화학식 I>
    Figure pct00009

    상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고,
    R1은 2-에틸헥산과 상이하다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.9 중량부 이상의 양으로 존재하고, 상기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.1 중량부 미만의 양으로 존재하는 것인 가소제 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 상기 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.95 중량부 이상의 양으로 존재하고, 상기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.05 중량부 미만의 양으로 존재하는 것인 가소제 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.97 중량부 이상의 양으로 존재하고, 상기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.03 중량부 미만의 양으로 존재하는 것인 가소제 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 메틸 (2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 것인 가소제 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    i. 테레프탈산; 및
    ii. 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합
    의 반응 생성물이 또한 실질적으로 없는 가소제 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 디(메틸) 테레프탈레이트가 또한 실질적으로 없는 가소제 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트와 상이한 1종 이상의 에스테르를 추가로 포함하고; 상기 1종 이상의 에스테르가 시클로헥산디카르복실산 에스테르, 프탈산 디알킬 에스테르, 프탈산 알킬아르알킬 에스테르, 상기 화학식 I에 따른 디-에스테르 및 상기 디(메틸) 테레프탈레이트와 상이한 테레프탈산 디알킬 에스테르, 트리멜리트산 트리알킬 에스테르, 아디프산 디알킬 에스테르, 벤조산 알킬 에스테르, 글리콜의 디벤조산 에스테르, 히드록시벤조산 에스테르, 포화 모노카르복실산 및 디카르복실산의 에스테르, 불포화 디카르복실산의 에스테르, 방향족 술폰산의 아미드 및 에스테르, 알킬술폰산 에스테르, 글리세롤 에스테르, 이소소르비드 에스테르, 인산 에스테르, 시트르산 트리에스테르, 알킬피롤리돈 유도체, 2,5-푸란디카르복실산 에스테르, 2,5-테트라히드로푸란디카르복실산 에스테르, 트리글리세리드 및 포화 또는 불포화 지방산을 기재로 하는 에폭시화 식물성 오일, 및 다가 알콜과 지방족 및 방향족 폴리카르복실산의 폴리에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 가소제 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 상기 가소제 조성물을 포함하는 플라스티솔 조성물.
  10. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 상기 가소제 조성물을 포함하는 분말 코팅 조성물.
  11. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 상기 가소제 조성물을 포함하는, 압출 보조제 조성물, 캘린더링제 조성물, 레올로지 개질제 조성물, 표면-활성 조성물, 용융 유동 증진제 조성물, 필름-형성제 조성물, 탈포제 조성물, 소포제 조성물, 습윤제 조성물, 유착제 조성물, 유화제 조성물, 윤활제 조성물, 윤활 오일 조성물, 윤활 그리스 조성물, 화학 반응용 켄처, 지둔화제 조성물, 제약 조성물, 접착제 조성물, 충격 개질제 조성물, 증량제 조성물 또는 열 전달 오일 조성물.
  12. 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.9 중량부 이상의 양으로 존재하는 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 가소제 조성물이며,
    상기 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 합해서 총 0.1 중량부 미만의, 다음의 것:
    i. 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르:
    <화학식 I>
    Figure pct00010

    (상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고,
    R1은 2-에틸헥산과 상이함);
    ii. a. 테레프탈산, 및
    b. 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합
    의 반응 생성물; 및
    iii. 디(메틸) 테레프탈레이트
    를 포함하는 가소제 조성물.
  13. 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하는 가소제 조성물이며,
    <화학식 I>
    Figure pct00011

    (상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고, R1은 2-에틸헥산과 상이함);
    테레프탈산 및 2-에틸헥산올을 조합하여 혼합물을 형성하는 단계;
    혼합물 중에 존재하는 촉매 없이 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하는 단계;
    혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 티타늄 촉매를 혼합물과 조합하는 단계;
    혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 증가시키는 단계; 및
    제2 압력 (P2)을 유지하면서 혼합물의 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 단계
    를 포함하는 방법에 의해 제조되는 가소제 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 제2 온도 (T2)가 약 175 내지 약 185℃인 가소제 조성물.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 제3 온도 (T3)가 약 210 내지 약 240℃인 가소제 조성물.
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 방법이, 온도가 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 증가되는 동안에 압력이 제1 압력 (P1)으로부터 증가하는 것을 방지하는 단계를 추가로 포함하는 것인 가소제 조성물.
  17. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 압력 (P1)이 대략 대기압인 가소제 조성물.
  18. 제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 압력 (P2)이 약 1.3 내지 약 1.6 atm인 가소제 조성물.
  19. 제13항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 방법이:
    수산화나트륨의 수용액을 첨가하여 테레프탈산 상의 임의의 잔존 카르복실산 기를 중화시키고 티타늄 촉매와의 염을 형성하고;
    수용액을 제거하고;
    증류시켜 과잉 2-에틸헥산올을 제거하고;
    여과하는 것
    을 추가로 포함하는 것인 가소제 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.9 중량부 이상의 양으로 존재하고, 가소제 조성물이 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.1 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하는 것인 가소제 조성물.
  21. 제20항에 있어서, 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.95 중량부 이상의 양으로 존재하고, 가소제 조성물이 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 0.05 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하는 것인 가소제 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트가 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 99.97 중량부 이상의 양으로 존재하고, 가소제 조성물이 가소제 조성물 100 중량부를 기준으로 합해서 총 0.03 중량부 미만의 화학식 I에 따른 디-에스테르를 포함하는 것인 가소제 조성물.
  23. 제13항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    i. a. 테레프탈산, 및
    b. 2-에틸헥산올의 분해 생성물, 티타늄 촉매의 분해 생성물, 또는 그의 조합
    의 반응 생성물; 및
    ii. 디(메틸) 테레프탈레이트
    가 또한 실질적으로 없는 가소제 조성물.
  24. 제1항에 따른 상기 가소제 조성물을 포함하는 성형 조성물.
  25. 제24항에 있어서, 1종 이상의 C2-C10 모노올레핀의 반응 생성물, 1,3-부타디엔, 2-클로로-1,3-부타디엔, 비닐 알콜의 C2-C10 알킬 에스테르, 비닐 클로라이드, 비닐리덴 클로라이드, 비닐리덴 플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 분지형 및 비분지형 C1-C10 알콜의 알콜 성분을 포함하는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 비닐 방향족 화합물, 폴리스티렌, (메트)아크릴로니트릴, 에틸렌계 불포화 모노카르복실산, 에틸렌계 불포화 디카르복실산, 말레산 무수물, 비닐 아세탈, 폴리비닐 에스테르, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 폴리알킬렌 테레프탈레이트, 폴리히드록시알카노에이트, 폴리부틸렌 숙시네이트, 폴리부틸렌 숙시네이트 아디페이트, 폴리에테르, 폴리아미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리스티렌, 폴리에테르 케톤, 폴리우레탄, 열가소성 폴리우레탄, 폴리술피드, 폴리술폰, 및 폴리페닐렌 에테르
    의 단독중합체 및 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 중합체를 추가로 포함하는 성형 조성물.
  26. 제25항에 있어서, 상기 중합체가 폴리비닐 클로라이드인 성형 조성물.
  27. 제25항 또는 제26항에 있어서, 상기 가소제 조성물이 상기 중합체 100 중량부를 기준으로 약 1 내지 약 400 중량부의 양으로 존재하는 것인 성형 조성물.
  28. 제25항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가소제 조성물이 상기 중합체 100 중량부를 기준으로 약 5 내지 약 300 중량부의 양으로 존재하는 것인 성형 조성물.
  29. 제24항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 전기 기구용 하우징, 툴, 파이프, 케이블, 호스, 와이어 피복물, 윈도우 프로파일, 차량 제조용 구성부품, 타이어, 가구, 실내장식재 및 매트리스용 발포체, 타폴린, 시일, 복합 필름, 기록 디스크, 합성 피혁, 패키징 용기, 접착 테이프, 코팅, 글러브, 의료 제품, 위생 제품, 식품 패키징, 실내 장식 제품, 장난감 및 육아 물품, 스포츠 및 레저 제품, 의류, 패브릭용 섬유, 일회용 글러브, 바닥 커버링, 스포츠 바닥, 럭셔리 비닐 타일, 코브 베이스 스커팅(cove base skirting), 바닥 매트, 원뿔형 표지판, 벽 커버링, 발포 또는 비발포 벽지, 인테리어 패널링, 차량의 콘솔 커버, 인형, 공기주입식 장난감, 볼, 액션 피규어, 모델링 클레이, 수영 보조물, 유모차 커버, 교체 매트, 탕파(hot-water bottle) 또는 치발 고리의 제조를 위해 사용되는 성형 조성물.
  30. 방향족 이-산 및 선형 또는 분지형 C4-C13 알콜을 조합하여 혼합물을 형성하고;
    혼합물 중에 존재하는 촉매 없이 혼합물을 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 가열하고;
    혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 티타늄 촉매를 혼합물과 조합하고;
    혼합물이 제2 온도 (T2)에 있은 후 압력을 제1 압력 (P1)에서 제2 압력 (P2)으로 증가시키고;
    제2 압력 (P2)을 유지하면서 혼합물의 온도를 제2 온도 (T2)에서 제3 온도 (T3)로 증가시키는 것
    을 포함하는 방향족 디-에스테르의 제조 방법.
  31. 제30항에 있어서, 선형 또는 분지형 C4-C13 알콜이 2-에틸헥산올인 방법.
  32. 제30항 또는 제31항에 있어서, 방향족 이-산이 테레프탈산인 방법.
  33. 제30항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 온도 (T1)가 약 20 내지 약 22℃인 방법.
  34. 제30항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 온도 (T2)가 약 175 내지 약 185℃인 방법.
  35. 제30항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서, 제3 온도 (T3)가 약 210 내지 약 240℃인 방법.
  36. 제30항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서, 온도가 제1 온도 (T1)에서 제2 온도 (T2)로 증가되는 동안에 압력이 제1 압력 (P1)으로부터 증가하는 것을 방지하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  37. 제30항 내지 제36항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 압력 (P1)이 대략 대기압인 방법.
  38. 제30항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 압력 (P2)이 약 1.3 내지 약 1.6 atm인 방법.
  39. 제32항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서, 혼합물이 테레프탈산 및 과잉 2-에틸헥산올로부터 형성되는 것인 방법.
  40. 제30항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서, 수산화나트륨의 수용액을 첨가하여 방향족 이-산 상의 임의의 잔존 카르복실산 기를 중화시키고 티타늄 촉매 염을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  41. 제31항 내지 제40항 중 어느 한 항에 있어서, 증류시켜 2-에틸헥산올을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  42. 제30항 내지 제41항 중 어느 한 항에 있어서, 여과하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  43. 제30항 내지 제42항 중 어느 한 항에 있어서, 물을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  44. 제30항 내지 제43항 중 어느 한 항에 있어서, 압력이 제2 압력 (P2)에 도달한 후 온도가 제3 온도 (T3)에 있는 동안에 압력을 제1 압력 (P1) 미만의 제3 압력 (P3)으로 감소시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  45. 제44항에 있어서, 제3 압력 (P3)이 약 0.2 내지 약 0.6 atm인 방법.
  46. 제30항 내지 제45항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 압력 (P2)이 진공 도입에 의해 유지되는 것인 방법.
  47. 제46항에 있어서, 제2 압력 (P2)이 불활성 기체 방출에 의해 추가로 유지되는 것인 방법.
  48. 폴리비닐클로라이드; 및
    디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트를 포함하고, 하기 화학식 I에 따른 디-에스테르가 실질적으로 없는 가소제 조성물
    을 포함하는 식품 랩.
    <화학식 I>
    Figure pct00012

    상기 식에서, R1은 1 내지 13개의 탄소 원자를 갖는 직쇄형 또는 분지형 알킬 기이고,
    R1은 2-에틸헥산과 상이하다.
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