KR20160119224A - 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 - Google Patents

비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 Download PDF

Info

Publication number
KR20160119224A
KR20160119224A KR1020167024948A KR20167024948A KR20160119224A KR 20160119224 A KR20160119224 A KR 20160119224A KR 1020167024948 A KR1020167024948 A KR 1020167024948A KR 20167024948 A KR20167024948 A KR 20167024948A KR 20160119224 A KR20160119224 A KR 20160119224A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
nitrite
cycloalkylalkyl
substituted
branched alkyl
Prior art date
Application number
KR1020167024948A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101860511B1 (ko
Inventor
샤오춘 치엔
Original Assignee
창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드
샹조우 트론리 뉴 일렉트로닉 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드, 샹조우 트론리 뉴 일렉트로닉 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드 filed Critical 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드
Publication of KR20160119224A publication Critical patent/KR20160119224A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101860511B1 publication Critical patent/KR101860511B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/62—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/63—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C249/04—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of oximes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
    • C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/91—Dibenzofurans; Hydrogenated dibenzofurans
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/78—Ring systems having three or more relevant rings
    • C07D311/80—Dibenzopyrans; Hydrogenated dibenzopyrans
    • C07D311/82—Xanthenes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/76—Dibenzothiophenes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12—Thioxanthenes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/02—Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G81/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
    • C08G81/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers at least one of the polymers being obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제에 관한 것이다. 비스옥심 에스테르 그룹과 사이클로알킬알킬 그룹을 화학구조에 도입하므로써, 본 광개시제는 저장 안정성, 감광성, 현상가능성, 패턴 무결성 등의 측면에서 우수한 성능을 가질 뿐만 아니라, 유사한 광개시제와 비교하여 훨씬 더 향상된 감광성과 열 안정성을 나타낸다.

Description

비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도{DUAL OXIME ESTERS PHOTOINITIATOR AND PREPARATION METHOD AND USE THEREOF}
본 발명은 광개시제(photoinitiator)의 기술분야에 관한 것으로, 구체적으로는 비스옥심(bisoxime) 에스테르 광개시제, 그의 제조방법 및 용도에 관한 것이다.
옥심 에스테르 구조를 갖는 화합물의 광개시제로서의 용도는 당분야에 잘 알려져 있으며, 예를 들어 중국 특허출원 공개 CN1241562A, CN101508744A, CN101565472A, CN103293855A 등에서는 다양한 카바졸 옥심 에스테르 광개시제와 케톡심 에스테르 광개시제를 기술하였다. 기술된 광개시제들은 디스플레이 패널, 컬러 필터 등과 같은 현재 광경화 분야의 일반적인 적용 요건을 다양한 범위까지 충족시킬 수 있다.
그러나, 전자기술의 발전이 급변하고 있기 때문에 기존 제품들은 일부 적용 분야에서 결함을 나타내기 시작하였고, 광개시제에 대한 요건은 제품의 대체와 업그레이드로 인해 점점 더 높아지고 있다. 현재, 예를 들어 공간조절물질에 사용되는 대부분의 포토레지스트는 내열성이 약하고 베이킹 또는 포장 과정에서 쉽게 분해되어 공간재료의 수축을 초래하는 반면, 코팅, 노광에 의한 현상 등의 과정에서 공간조절물질 높이의 의도된 증가는 비용을 증가시키게 되고 가열로 인한 분해시에 용융된 작은 분자들은 액정의 오염을 유발하게 된다. 또한, 예를 들어 프리미엄 컬러 필터의 제조에 있어서 광개시제는 높은 용해도와 양호한 열 안정성을 갖는 기본적 요건을 만족하여야 하는 한편, 고컬러 품질 성능을 위해 높은 착색 레지스트가 필요하다. 그러나, 안료 함량이 증가하면 컬러 레지스트의 경화가 매우 어렵게 되고, 또한 경화 후 이미지의 선명도와 무결성에 대한 요구도 상대적으로 높다. 이로 인하여 상기한 문제를 해결하기 위한 높은 감광성(photosensitivity)을 갖는 개시제가 필요하다.
열경화 분야에서, 높은 감광성과 안정성을 갖고 제조가 용이한 광개시제는 이 분야의 개발에서 최우선적 선택이며, 고성능 광개시제의 연구와 개발은 항상 이 분야의 주요 과제이다.
본 발명의 목적은 우수한 적용 성능을 갖는 비스옥심 에스테르 광개시제를 제공하는 것이다. 화학적 구조에 비스옥심 에스테르 구조를 도입하므로써 이러한 광개시제는 저장 안정성, 감광성, 현상가능성(developability), 패턴 무결성(integrity) 등의 측면에서 우수한 성능을 가질 뿐만 아니라, 유사한 광개시제와 비교하여 훨씬 더 향상된 감광성과 열 안정성을 나타낸다.
상기한 기술적 효과를 달성하기 위해 본 발명에서 사용된 기술적 해결방법은 다음과 같다:
화학식 (I)로 표시되는 구조를 갖는 비스옥심 에스테르 광개시제:
Figure pct00001
상기 식에서,
R1은
Figure pct00002
이고, 여기서 *는 결합 위치를 나타내고, X는 없거나 (블랭크, blank) (즉, 왼쪽과 오른쪽의 2개 벤젠 고리가 서로 Y에 의해서만 연결된다), 단일 결합, 또는 C1-C5 알킬렌 그룹이고; Y는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹이고;
R2 및 R3는 각각 독립적으로 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있으나; 단, R2 및 R3 중 적어도 하나는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 사이클로알킬알킬 그룹이며 상기 사이클로알킬알킬 그룹의 구조는
Figure pct00003
이고(여기서 n은 1 내지 5의 정수이고 m은 1 내지 6의 정수이다);
R4는 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C20 헤테로아릴 그룹, 및 C6-C20 아릴 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 페닐 그룹, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있다.
본 발명의 바람직한 선택으로서, 상기한 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제에서:
R1에서 X는 블랭크, 단일 결합, 메틸렌 그룹, 에틸렌 그룹, 또는 프로필렌 그룹이고; Y는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소 또는 C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹이고;
R2 및 R3는 각각 독립적으로 C1-C5 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹 또는 C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있으나; 단, R2 및 R3 중 적어도 하나는 할로겐, 니트로 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 사이클로알킬알킬 그룹이며 상기 사이클로알킬알킬 그룹의 구조는
Figure pct00004
이고(여기서 n은 1 내지 5의 정수이고 m은 1 내지 3의 정수이다);
R4는 C1-C5 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C8 사이클로알킬 그룹, C4-C8 사이클로알킬알킬 그룹, C4-C8 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C5 헤테로아릴 그룹, 및 C6-C10 아릴 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있다.
더욱 바람직하게, R1은 다음 화학식들로 이루어진 군에서 선택된다:
Figure pct00005
Figure pct00006
본 발명은 또한, 다음 단계들을 포함하는 상기한 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제의 제조방법에 관한 것이다:
(1) 중간체 1의 합성; 여기에서는 출발물질인
Figure pct00007
와 R2 그룹 및 R3 그룹을 함유하는 산 할로겐화물 화합물을 사용하여 프리델-크라프트(Friedel-Crafts) 반응에 의해 삼염화알루미늄과 염화아연의 작용 하에서 중간체 1을 합성하며, 반응식은 다음과 같다:
Figure pct00008
상기 식에서, Z는 할로겐, 예컨대 F, Cl, Br 또는 I를 나타낸다;
(2) 중간체 2의 합성: 여기에서는 염화수소, 알콕시화나트륨 또는 알콕시화칼륨의 작용 하에 중간체 1과 아질산염(nitrite) 에스테르(예컨대 아질산 에틸, 아질산 이소펜틸, 아질산 이소옥틸 등) 또는 아질산염(예컨대 아질산나트륨, 아질산칼륨 등) 간의 옥심화 반응을 수행하여 중간체 2를 생성하였으며, 반응식은 다음과 같다:
Figure pct00009
(3) 비스옥심 에스테르 광개시제의 합성: 여기에서는 중간체 2와 R4 그룹을 함유하는 산 무수물 또는 산 할로겐화물 화합물 간의 에스테르화 반응을 수행하여 비스옥심 에스테르 광개시제 생성물을 합성하였으며, 반응식은 다음과 같다:
Figure pct00010
상기 식에서, Z는 할로겐, 예컨대 F, Cl, Br 또는 I를 나타낸다.
상기한 제조방법에서 사용된 모든 원료 물질은 종래기술에서 알려진, 상업적으로 입수가능하거나 공지된 합성방법으로 제조되는 화합물이다. 이 제조방법은 간단하고, 제조과정에서 오염된 폐기물을 생성하지 않으며, 고순도의 생성물을 얻을 수 있고 산업적 회분식 생산에 적합하다.
본 발명은 또한 광경화 조성물(즉, 감광성 조성물)에서 상기한 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제의 용도에 관한 것이다. 한정하는 것은 아니나, 광개시제는 컬러 포토레지스트(RGB), 블랙 포토레지스트(BM), 포토-스페이서(photo-spacer), 드라이 필름, 반도체 포토레지스트, 잉크 등과 같은 측면에서 사용될 수 있다.
이하, 본 발명을 특정한 실시예와 결합하여 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명의 범위가 이에 제한되는 것은 아니다.
제조예
실시예 1
비스-{[4-(3-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)프로필]페닐렌}-설파이드의 제조
Figure pct00011
(화합물 1)
단계 (1): 비스-{[4-(3-사이클로펜틸-1-온)프로필]페닐렌}-설파이드의 제조
Figure pct00012
18.6 g의 디페닐 설파이드, 29.4 g의 AlCl3 (미분), 및 100mL의 디클로로메탄을 500mL 4구 플라스크에 투입하고 교반하여 빙냉조에서 냉각하였다. 온도가 0℃에 이르렀을 때 33.7 g의 사이클로펜틸프로피오닐 클로라이드와 50 g의 디클로로메탄의 혼합액을 온도를 10℃ 이하로 조절하면서 약 1.5 시간 동안 적가하기 시작하고 교반을 2 시간 동안 계속한 다음, 반응을 중지하였다. 반응액을 400 g의 얼음과 65mL의 진한 염산으로 제조된 묽은 염산에 첨가한 다음, 하부층의 액체를 분액깔대기로 분리하고 상부층을 50mL의 디클로로메탄으로 추출하였다. 추출물과 액체를 함께 합하여 10g의 NaHCO3와 200g의 물로 제조된 NaHCO3 용액으로 세척한 다음, 추가로 pH값이 중성이 될 때까지 200mL의 물로 3회 세척하였다. 수분을 30g의 무수 MgSO4로 건조하여 제거하고 디클로로메탄을 회전 증발시켰다. 증발 후에 회전 증발 플라스크 내의 미정제 생성물은 연한 황색 액체의 형태를 나타냈으며, 이를 상압 하에 증발시킨 200mL의 석유 에테르에 첨가하여 교반 및 흡인여과에서 백색 분말상 고체를 얻었고, 50℃의 오븐에서 5 시간 동안 건조 후에 39.1g의 생성물을 얻었다(수율 90%, 순도 96.2%).
단계 (1)의 생성물 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00013
단계 (2): 비스-{[4-(3-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심)프로필]페닐렌}-설파이드의 제조
Figure pct00014
21.7g의 단계 (1)의 생성물, 100mL의 테트라하이드로퓨란, 13.2g의 진한 염산, 및 11.8g의 아질산 이소펜틸을 250mL 4구 플라스크에 첨가하여 상온에서 5 시간 동안 교반한 후, 반응을 중지하였다. 물질들을 2000mL의 커다란 비이커에 투입하고 1000mL의 물을 첨가한 후 교반하고 200g의 디클로로메탄을 추출에 사용하였다. 무수 MgSO4 50g을 첨가하여 추출물을 건조한 후, 흡인여과하였다. 용매를 감압 하에 여과물을 회전증발시켜서 제거한 다음, 유성의 점성 물질을 회전 용기 내에서 얻었다. 점성 물질을 150mL의 석유 에테르에 투입하여 교반하면서 침전시키고 흡인여과하여 백색의 분말상 고체를 얻었으며, 60℃에서 5 시간 동안 건조한 후 20.9g의 생성물을 얻었다(수율 85%, 순도 95.2%).
단계 (2)의 생성물 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00015
단계 (3): 비스-{[4-(3-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)프로필]페닐렌}-설파이드의 제조
19.7g의 단계 (2)의 생성물, 100g의 디클로로메탄, 및 4.1g의 트리에틸아민을 250mL 4구 플라스크에 첨가하여 실온에서 5분 동안 교반한 다음, 7.8g의 염화프로피오닐을 약 30분 이내에 적가하였다. 2시간 동안 교반을 계속한 후, 중성이 되도록 pH값을 조절하기 위해 5% NaHCO3 수용액을 첨가하였다. 유기층을 분액깔대기로 분리하여 200mL의 물로 2회 세척한 다음, 50g의 무수 MgSO4로 건조하고, 용매를 회전 증발시켜서 점성 액체를 얻었다. 메탄올로 재결정하여 백색 고형 분말을 얻었으며, 이를 여과하여 99% 순도의 생성물 23.1g을 얻었다.
최종 생성물의 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00016
실시예 2
[2-(3-사이클로프로필-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)프로필]-[7-(4-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)부틸]-티오잔텐의 제조
Figure pct00017
(화합물 2)
단계 (1): [2-(3-사이클로프로필-1-온)프로필]-[7-(4-사이클로펜틸-1-온)부틸]-티오잔텐의 제조
Figure pct00018
19.8 g의 티오잔텐(thioxanthene), 14.7 g의 AlCl3 (미분), 및 100mL의 디클로로메탄을 500mL 4구 플라스크에 투입하고 교반하여 빙냉조에서 냉각하였다. 온도가 0℃에 이르렀을 때 13.5 g의 사이클로프로필프로피오닐 클로라이드와 25 g의 디클로로메탄의 혼합액을 온도를 10℃ 이하로 조절하면서 약 1.5 시간 동안 적가하기 시작하였고 교반을 2 시간 동안 계속하였다. 이후, 14.7 g의 AlCl3 (미분)를 4구 플라스크에 첨가하고 17.8 g의 사이클로펜틸부타노일 클로라이드와 25 g의 디클로로메탄의 혼합액을 온도를 10℃ 이하로 조절하면서 약 1.5 시간 동안 적가하였고 온도를 15℃로 올리고 교반을 2 시간 동안 계속한 다음, 반응을 중지하였다. 반응액을 400 g의 얼음과 65mL의 진한 염산으로 제조된 묽은 염산에 첨가한 다음, 하부층의 액체를 분액깔대기로 분리하고 상부층을 50mL의 디클로로메탄으로 추출하였다. 추출물과 액체를 함께 합하여 10g의 NaHCO3와 200g의 물로 제조된 NaHCO3 용액으로 세척한 다음, 추가로 pH값이 중성이 될 때까지 200mL의 물로 3회 세척하였다. 수분을 30g의 무수 MgSO4로 건조하여 제거하고 디클로로메탄을 회전 증발시켰다. 증발 후에 회전 증발 플라스크 내의 미정제 생성물은 연한 황색 액체의 형태를 나타냈으며, 이를 상압 하에 증발시킨 200mL의 석유 에테르에 첨가하여 교반 및 흡인여과에서 백색 분말상 고체를 얻었고, 50℃의 오븐에서 5시간 동안 건조 후에 38.1g의 생성물을 얻었다(수율 88%, 순도 96.2%).
단계 (1)의 생성물 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00019
단계 (2): [2-(3-사이클로프로필-1,2-디온-2-옥심)프로필]-[7-(4-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심)부틸]-티오잔텐의 제조
Figure pct00020
21.6g의 단계 (1)의 생성물, 100mL의 테트라하이드로퓨란, 13.2g의 진한 염산, 및 11.8g의 아질산 이소펜틸을 250mL 4구 플라스크에 첨가하여 상온에서 5 시간 동안 교반한 후, 반응을 중지하였다. 물질들을 2000mL의 커다란 비이커에 투입하고 1000mL의 물을 첨가한 후 교반하고 200g의 디클로로메탄을 추출에 사용하였다. 무수 MgSO4 50g을 첨가하여 추출물을 건조한 후, 흡인여과하였다. 여과물을 감압 하에 회전증발시켜서 제거한 다음, 유성의 점성 물질을 회전 용기 내에서 얻었다. 점성 물질을 150mL의 석유 에테르에 투입하여 교반하면서 침전시키고 흡인여과하여 백색의 분말상 고체를 얻었으며, 60℃에서 5 시간 동안 건조한 후 21.1g의 생성물을 얻었다(수율 86%, 상대적 순도 95.2%).
단계 (2)의 생성물 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00021
단계 (3): [2-(3-사이클로프로필-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)프로필]-[7-(4-사이클로펜틸-1,2-디온-2-옥심-O-프로피오네이트)부틸]-티오잔텐의 제조
19.6g의 단계 (2)의 생성물, 100g의 디클로로메탄, 및 4.1g의 트리에틸아민을 250mL 4구 플라스크에 첨가하여 실온에서 5분 동안 교반한 다음, 7.6g의 염화프로피오닐을 약 30분 이내에 적가하였다. 2시간 동안 교반을 계속한 후, 중성이 되도록 pH값을 조절하기 위해 5% NaHCO3 수용액을 첨가하였다. 유기층을 분액깔대기로 분리하여 200mL의 물로 2회 세척한 다음, 50g의 무수 MgSO4로 건조하고, 용매를 회전에 의해 증발시켜서 점성 액체를 얻었다. 메탄올로 재결정하여 백색 고형 분말을 얻었으며, 이를 여과하여 99% 순도의 생성물 22.1g을 얻었다.
최종 생성물의 구조를 수소 핵자기공명 분광법으로 측정하였고, 특정한 특성 결과는 다음과 같다:
Figure pct00022
실시예 3 내지 13
실시예 1 또는 2에 예시된 방법을 참조하여, 실시예 3 내지 13에 나타낸 화합물들을
Figure pct00023
과 상응하는 아실화제로부터 제조하였다.
목적 화합물의 구조와 그의 1H-NMR 데이터를 표 1에 기재하였다.
표 1
Figure pct00024
Figure pct00025
성능 평가
예시적인 광경화 조성물을 제제화하여 저장 안정성, 감광성, 현상가능성, 패턴 무결성, 열 안정성 등의 측면을 포함하는, 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 광개시제의 개별 적용 성능을 평가하였다.
1. 광경화 조성물의 배합
(1) 미착색 광경화 조성물 A
아크릴레이트 코폴리머 100
(벤질 메타크릴레이트/메타크릴산/하이드록시에틸 메타크릴레이트 (몰비 70/10/20) 코폴리머 (Mw: 10,000))
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA) 100
광개시제 2
부타논 (용매) 25
(2) 착색 광경화 조성물 B
아크릴레이트 코폴리머 100
(벤질 메타크릴레이트/메타크릴산/메틸 메타크릴레이트 (몰비 50/15/30) 코폴리머 (Mw: 15,000))
디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 100
광개시제 2
부타논 (용매) 25
다이 블루(Dye blue) 15 5
상기한 조성물 A와 B에서, 광개시제는 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 화합물 또는 비교로서 종래기술에서 알려진 광개시제이며, 각각의 성분들은 중량부로 표시하였다.
2. 노광에 의한 현상(Development)
상기한 광경화 조성물 A와 B를 각각 차광하에 교반하였다. 재료들을 PET 템플레이트에 취하여 필름 코팅을 와이어 바(wire bar)로 수행하였고, 용매를 90℃에서 5분 동안 건조하여 제거한 다음, 필름 두께가 약 2μm인 코팅 필름을 형성하였다. 코팅 필름이 형성된 기판을 실온으로 냉각하고, 마스크 플레이트를 그 위에 부착한 후, 장파장 조사는 FWHM 컬러 필터를 통해 고압 수은 램프 1PCS 광원으로 이루어졌다. 파장이 370-420nm인 자외선 하에서 마스크 플레이트의 접합(seam)을 통해 코팅 필름에 대한 노광을 수행하였다. 이후, 25℃에서 20초 동안 2.5% 탄산나트륨 용액에 담가서 현상을 수행한 다음, 초순수 물로 세척하고 공기 건조하였다. 220℃에서 30분 동안 하드 베이킹하여 패턴을 고정하고 얻어진 패턴을 평가하였다.
3. 광경화 조성물의 성능 평가
(1) 저장 안정성
실온에서 1개월 동안 액체 상태 광경화 조성물을 자연적으로 저장한 후, 물질의 침전도를 다음 기준에 따라 육안으로 평가하였다:
A: 침전이 관찰되지 않음;
B: 침전이 약간 관찰됨;
C: 상당한 침전이 관찰됨.
(2) 감광성
노광시, 노광 단계에서 현상 후에 90% 이상의 잔류 필름률(residual film rate)을 갖는 조사된 영역의 최소 노광량을 노광 요구량으로 평가하였다. 노광 요구량이 적을수록 높은 민감도(sensitivity)를 나타낸다.
(3) 현상가능성 및 패턴 무결성
기판상의 패턴을 주사전자현미경(SEM)으로 관찰하여 현상가능성과 패턴 무결성을 평가하였다.
현상가능성은 다음 기준에 따라 평가하였다:
○: 노광되지 않은 부분에서 잔류물이 관찰되지 않음;
◎: 소량의 잔류물이 노광되지 않은 부분에서 관찰되었으나 허용가능:
●: 노광되지 않은 부분에서 상당한 잔류물 관찰.
패턴 무결성은 다음 기준에 따라 평가하였다:
◇: 패턴 결점이 관찰되지 않음;
□: 약간의 결점이 패턴의 일부 부분에서 관찰됨;
◆: 다수의 결점이 패턴에서 상당히 관찰됨.
(4) 열 안정성
하드 베이킹 전후의 필름 두께 변화를 두께 측정기를 사용하여 측량하여 물질들의 열 안정성을 평가하였다.
평가 결과를 표 2와 표 3에 나타내었다:
표 2 광경화 조성물 A
Figure pct00026
표 3 광경화 조성물 B
Figure pct00027
표 2와 표 3에서, PBG-304는 광개시제, 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카바졸-3-일)-(3-사이클로펜틸아세톤)-1-옥심-아세테이트(CN101508744A에 개시)를 나타내고; OXE-01은 1-(4-페닐티오-페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트를 나타내고; OXE-02는 1-(6-o-메틸벤조일-9-에틸카바졸-3-일)-(3-에타논)-1-옥심-아세테이트를 나타내고; Irgacure907은 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모폴리닐-프로판-1-온을 나타낸다.
표 2와 표 3의 결과로부터 본 발명의 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제를 포함하는 광경화 조성물이 양호한 저장 안정성을 갖고, 무색 시스템과 안료 시스템 모두에서 매우 우수한 감광성, 현상가능성 및 패턴 무결성을 나타내며 기존의 광개시제보다 훨씬 더 탁월한 열 안정성을 가지는 것을 알 수 있다. 이에 비해, PBG-304, OXE-01, OXE-02, 및 Irgacure 907은 저장 안정성, 감광성, 현상가능성, 패턴 무결성 및 열 안정성 측면에서 상당한 단점이 있다.
요약하면, 본 발명에 개시된 화학식 (I)로 표시되는 비스옥심 에스테르 광개시제는 우수한 사용성능을 가지며 광경화 조성물에 사용되어 광경화 제품의 성능을 상당히 개선할 수 있다.

Claims (9)

  1. 화학식 (I)로 표시되는 구조를 갖는 비스옥심 에스테르 광개시제:
    Figure pct00028

    상기 식에서,
    R1은
    Figure pct00029
    이고, 여기서 *는 결합 위치를 나타내고, X는 블랭크(blank), 단일 결합, 또는 C1-C5 알킬렌 그룹이고; Y는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소, C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹이고;
    R2 및 R3는 각각 독립적으로 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있으나; 단, R2 및 R3 중 적어도 하나는 할로겐, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 사이클로알킬알킬 그룹이며 사이클로알킬알킬 그룹의 구조는
    Figure pct00030
    이고(여기서 n은 1 내지 5의 정수이고 m은 1 내지 6의 정수이다);
    R4는 C1-C20 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C20 사이클로알킬 그룹, C4-C20 사이클로알킬알킬 그룹, 또는 C4-C20 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C20 헤테로아릴 그룹, 및 C6-C20 아릴 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 페닐 그룹, 니트로 그룹, 하이드록시 그룹, 카복실 그룹, 술폰산 그룹, 아미노 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, R1에서 X가 블랭크, 단일 결합, 메틸렌 그룹, 에틸렌 그룹, 또는 프로필렌 그룹이고; Y는 O, S, 또는 R5N- 그룹이고, 여기서 R5는 수소 또는 C1-C10 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹인 것을 특징으로 하는 비스옥심 에스테르 광개시제.
  3. 제1항에 있어서, R2 및 R3가 각각 독립적으로 C1-C5 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹 또는 C4-C15 사이클로알킬알킬 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있으나; 단, R2 및 R3 중 적어도 하나는 할로겐, 니트로 그룹, 시아노 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 사이클로알킬알킬 그룹이며 사이클로알킬알킬 그룹의 구조는
    Figure pct00031
    (여기서 n은 1 내지 5의 정수이고 m은 1 내지 3의 정수이다)인 것을 특징으로 하는 비스옥심 에스테르 광개시제.
  4. 제1항에 있어서, R4가 C1-C5 직쇄형 또는 분지형 알킬 그룹, C3-C8 사이클로알킬 그룹, C4-C8 사이클로알킬알킬 그룹, C4-C8 알킬사이클로알킬 그룹, C3-C5 헤테로아릴 그룹, 및 C6-C10 아릴 그룹을 나타내고, 선택적으로 상기 그룹의 수소는 할로겐, 니트로 그룹, 및 알콕시 그룹으로 이루어진 군에서 선택된 그룹으로 치환될 수 있는 것을 특징으로 하는 비스옥심 에스테르 광개시제.
  5. 제1항에 있어서, R1이 다음 화학식으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 비스옥심 에스테르 광개시제:
    Figure pct00032

    Figure pct00033
  6. 다음 단계들을 포함하는, 제1항에 따른 비스옥심 에스테르 광개시제의 제조방법:
    (1) 중간체 1의 합성: 여기에서는 출발물질인
    Figure pct00034
    와 R2 그룹과 R3 그룹을 함유하는 산 할로겐화물 화합물을 사용하여 프리델-크라프트(Friedel-Crafts) 반응에 의해 삼염화알루미늄과 염화아연의 작용 하에서 중간체 1을 합성하며, 반응식은 다음과 같음:
    Figure pct00035

    상기 식에서, Z는 할로겐을 나타냄;
    (2) 중간체 2의 합성: 여기에서는 염화수소, 알콕시화나트륨 또는 알콕시화칼륨의 작용 하에 중간체 1과 아질산염(nitrite) 에스테르(예컨대, 아질산 에틸, 아질산 이소펜틸, 아질산 이소옥틸 등) 또는 아질산염(예컨대, 아질산나트륨, 아질산칼륨 등) 간의 옥심화 반응을 수행하여 중간체 2를 생성하였으며, 반응식은 다음과 같음:
    Figure pct00036

    (3) 비스옥심 에스테르 광개시제의 합성: 여기에서는 중간체 2와 R4 그룹을 함유하는 산 무수물 또는 산 할로겐화물 화합물 간의 에스테르화 반응을 수행하여 비스옥심 에스테르 광개시제 생성물을 합성하였으며, 반응식은 다음과 같음:
    Figure pct00037

    상기 식에서, Z는 할로겐을 나타냄.
  7. 제6항에 있어서, Z가 F, Cl, Br 또는 I로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  8. 제6항에 있어서, 아질산염(nitrite) 에스테르가 아질산 에틸, 아질산 이소펜틸, 및 아질산 이소옥틸로 이루어진 군에서 선택되고, 아질산염이 아질산나트륨 및 아질산칼륨으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  9. 제1항의 비스옥심 에스테르 광개시제의 광경화 조성물에서의 용도.
KR1020167024948A 2014-03-18 2015-03-17 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도 KR101860511B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410100523.3A CN103833872B (zh) 2014-03-18 2014-03-18 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN201410100523.3 2014-03-18
PCT/CN2015/074360 WO2015139601A1 (zh) 2014-03-18 2015-03-17 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160119224A true KR20160119224A (ko) 2016-10-12
KR101860511B1 KR101860511B1 (ko) 2018-05-23

Family

ID=50797796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167024948A KR101860511B1 (ko) 2014-03-18 2015-03-17 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9637444B2 (ko)
JP (1) JP6235171B2 (ko)
KR (1) KR101860511B1 (ko)
CN (1) CN103833872B (ko)
WO (1) WO2015139601A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200068722A (ko) * 2017-10-16 2020-06-15 인사이트 하이 테크놀로지 씨오., 엘티디. 트랜스, 트랜스-디케톡심에스테르 이성질체 및 이의 제조 방법과 용도

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103833872B (zh) 2014-03-18 2016-04-06 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104910053B (zh) * 2014-06-09 2017-09-12 北京英力科技发展有限公司 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
CN104672354A (zh) * 2015-02-04 2015-06-03 天津墨森科技有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104614940B (zh) * 2015-02-05 2019-04-09 常州强力先端电子材料有限公司 一种感光性树脂组合物及其应用
WO2016126070A1 (ko) * 2015-02-06 2016-08-11 한국화학연구원 신규한 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR101892086B1 (ko) * 2016-05-19 2018-08-27 주식회사 삼양사 옥심에스테르 유도체 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제, 및 감광성 조성물
CN109957349B (zh) * 2017-12-14 2022-02-22 常州强力电子新材料股份有限公司 各向异性导电膜、用于形成其的组合物及其应用
CN109957351B (zh) * 2017-12-14 2021-11-26 常州强力电子新材料股份有限公司 各向异性导电膜、用于形成其的组合物及其应用
CN110066225B (zh) * 2018-01-23 2022-06-03 常州强力先端电子材料有限公司 双肟酯类光引发剂、制备方法、感光性树脂组合物及应用
US10935695B2 (en) 2018-03-02 2021-03-02 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Polymerizable absorbers of UV and high energy visible light
KR102335614B1 (ko) * 2018-03-21 2021-12-03 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치
KR102228630B1 (ko) * 2018-12-28 2021-03-16 주식회사 삼양사 카바졸 멀티 베타 옥심에스테르 유도체 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제와 포토레지스트 조성물
JP6677330B2 (ja) * 2019-02-21 2020-04-08 三菱ケミカル株式会社 カルバゾール化合物
CN109970885B (zh) * 2019-03-21 2021-03-23 江南大学 一种长共轭咔唑基肟酯光引发剂及其制备方法
CN110105315A (zh) * 2019-04-30 2019-08-09 同济大学 含有芳基硫醚呋喃或芳基硫醚噻吩的肟酯类化合物及其制备方法和应用
US11958824B2 (en) 2019-06-28 2024-04-16 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Photostable mimics of macular pigment
US11543683B2 (en) 2019-08-30 2023-01-03 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Multifocal contact lens displaying improved vision attributes
CN111233719B (zh) * 2020-02-27 2021-08-20 泰兴先先化工有限公司 α-肟基苯乙酮衍生物的制备方法
CN113444017B (zh) * 2020-03-26 2022-05-13 优禘股份有限公司 一种二苯硫醚酮肟酯化合物、制备方法、组合物及用途
JP7371554B2 (ja) 2020-03-30 2023-10-31 日油株式会社 ビスオキシムエステル系光重合開始剤、重合性組成物、ならびに硬化物およびその製造方法
JP7267532B1 (ja) 2022-04-20 2023-05-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性組成物、光学フィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子
JP7274078B1 (ja) 2022-04-20 2023-05-16 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物、及びその用途
JP7267533B1 (ja) 2022-04-20 2023-05-02 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性組成物、光学フィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子
WO2024043108A1 (ja) * 2022-08-25 2024-02-29 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
CN100528838C (zh) * 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
JP2008037930A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化型インクジェットインキ
CN102015633B (zh) * 2008-04-25 2014-08-06 三菱化学株式会社 酮肟酯类化合物及其应用
CN101508744B (zh) * 2009-03-11 2011-04-06 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类光引发剂
CN101565472B (zh) * 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
JP5760374B2 (ja) * 2009-10-23 2015-08-12 三菱化学株式会社 ケトオキシムエステル系化合物及びその利用
JP5657405B2 (ja) * 2010-09-27 2015-01-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
CN102020727B (zh) 2010-11-23 2013-01-23 常州强力先端电子材料有限公司 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
CN103130919B (zh) 2013-02-08 2015-02-25 常州强力先端电子材料有限公司 一种咔唑酮肟酯类高感光度光引发剂
CN103293855B (zh) 2013-05-20 2015-12-23 常州强力先端电子材料有限公司 一种丙烯酸酯类光固化组合物
CN103833872B (zh) 2014-03-18 2016-04-06 常州强力先端电子材料有限公司 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN103819583B (zh) * 2014-03-18 2016-05-18 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含硝基双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200068722A (ko) * 2017-10-16 2020-06-15 인사이트 하이 테크놀로지 씨오., 엘티디. 트랜스, 트랜스-디케톡심에스테르 이성질체 및 이의 제조 방법과 용도

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017512886A (ja) 2017-05-25
CN103833872B (zh) 2016-04-06
JP6235171B2 (ja) 2017-11-22
US20160376226A1 (en) 2016-12-29
US9637444B2 (en) 2017-05-02
WO2015139601A1 (zh) 2015-09-24
CN103833872A (zh) 2014-06-04
KR101860511B1 (ko) 2018-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101860511B1 (ko) 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도
KR101798220B1 (ko) 니트로 함유 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도
KR101700476B1 (ko) 고감광도 카르바졸 옥심 에스테르계 광개시제, 그 제조방법 및 용도
KR102197059B1 (ko) 플루오렌 광개시제, 그 제조 방법, 이를 갖는 광경화성 조성물, 및 광경화 분야에서 그 용도
KR101435652B1 (ko) 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
TWI520940B (zh) 肟酯
KR101742473B1 (ko) 카바졸 케톡심 에스테르 고-감광도 광개시제
CA2836817C (en) Compounds with oxime ester and/or acyl groups
TWI761261B (zh) 著色組成物及化合物
KR101883164B1 (ko) 비대칭 디옥심에테르 화합물 및 그 제조 방법과 응용
CN107522633B (zh) 一种含芴肟酯类光引发剂
JP2016500710A (ja) シクロペンタンジオンオキシムエステルとその応用
CN102010475B (zh) 光聚合引发剂及感光性组合物
CZ298405B6 (cs) O-acyloximové fotoiniciátory, prostredky, které je obsahují, a jejich použití
JP6816067B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを含むカラーフィルタおよびこれを含む表示装置
KR20180101385A (ko) 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
TW201739735A (zh) 一種含芴酮肟酯類光引發劑
CN108794315B (zh) 混杂型光引发剂及其制备方法和应用
CN113372259B (zh) 可溶性手性非对映异构体肟酯化合物及其混合物
KR20150015102A (ko) 아미노티옥산톤 유도체
CN109324479A (zh) 一种光刻胶组合物

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant