KR20160078244A - 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 - Google Patents

기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판 액처리 장치의 스루풋을 향상시키는 것을 과제로 한다.
본 발명에서는, 기판(2)을 처리액으로 액처리하는 기판 액처리 장치(1)에 있어서, 상기 처리액을 저류하는 처리액 저류부(3)와, 상기 처리액을 가열하는 처리액 가열부[히터(18)]와, 상기 처리액 가열부를 제어하는 제어부(8)와, 상기 제어부(8)에 접속된 온도 센서(21) 및 농도 센서(20)를 가지고, 상기 제어부(8)는, 상기 농도 센서(20)로 상기 처리액의 농도를 계측하며, 상기 온도 센서(21)로 상기 처리액의 온도를 계측하고, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하며, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.

Description

기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체{SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS AND METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM STORING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM}
본 발명은 기판을 가열한 처리액으로 액처리하는 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 부품이나 플랫 패널 디스플레이 등을 제조할 때에는, 기판 액처리 장치를 이용하여 반도체 웨이퍼나 액정 기판 등의 기판에 대하여 에칭액이나 세정액 등의 처리액을 이용하여 에칭이나 세정 등이 처리를 실시한다.
기판 액처리 장치의 하나로서, 인산 등의 약제를 순수로 소정 농도·소정 온도로 조정한 수용액을 처리액으로서 이용하여, 처리액을 저류한 저류조에 기판을 침지시킴으로써, 처리한다. 또한, 그 처리액을 저류조에 저류하고, 저류한 처리액을 기판의 표면을 향하여 토출시킴으로써, 기판을 처리액으로 액처리한다.
종래의 기판 액처리 장치에서는, 처리액을 가열하여 소정 온도로 비등시킴으로써, 처리액을 소정 농도로 관리한다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2013-93478호 공보
상기 종래의 기판 액처리 장치에 있어서, 단위 시간당에 처리할 수 있는 능력(스루풋)을 향상시키기 위해서는, 처리액을 가열하는 히터를 고출력화하여, 처리액의 가열에 요하는 시간을 단축하는 것이 생각된다.
그런데, 상기 종래의 기판 액처리 장치에서는, 히터에 의한 처리액의 가열을 온도만으로 제어하고 있다. 약제를 순수로 희석한 처리액을 고출력의 히터로 단시간에 소정 온도가 되도록 가열하면, 처리액이 비점 근처까지 급격하게 가열되어 버려, 처리액이 지나치게 비등한 강비등 상태가 되어 저류조로부터 처리액이 끓어 넘칠 우려가 있다. 특히 저류조의 메인터넌스 등에 의해 저류조 내를 물로 치환하고, 재차 저류조에 처리액을 저류한 후에는, 메인터넌스 시에 이용한 물과 처리액이 혼합되어 버림으로써 저류조에 저류된 처리액의 농도가 낮아, 그 농도에 대응하는 처리액의 비점이 낮은 경우에, 현저하게 나타날 우려가 있다.
그래서, 본 발명에서는, 기판을 처리액으로 액처리하는 기판 액처리 장치에 있어서, 상기 처리액을 저류하는 처리액 저류부와, 상기 처리액을 가열하는 처리액 가열부와, 상기 처리액 가열부를 제어하는 제어부와, 상기 제어부에 접속된 온도 센서 및 농도 센서를 가지고, 상기 제어부는, 상기 농도 센서로 상기 처리액의 농도를 계측하며, 상기 온도 센서로 상기 처리액의 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어를 행하고, 그 후, 상기 온도 센서로 상기 처리액의 온도를 계측하여, 그 온도에만 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어와, 상기 처리액의 온도에만 따른 상기 처리액 가열부의 제어 사이에, 상기 처리액 가열부의 출력을 일정하게 유지하도록 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구할 때에, 기압에 따른 보정을 행하기로 하였다.
또한, 본 발명에서는, 처리액 저류부에 저류한 처리액을 처리액 가열부에서 가열하여 기판을 처리하는 기판 액처리 방법에 있어서, 상기 처리액의 농도와 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어를 행하고, 그 후, 상기 처리액의 온도를 계측하여, 그 온도에만 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어와, 상기 처리액의 온도에만 따른 상기 처리액 가열부의 제어 사이에, 상기 처리액 가열부의 출력을 일정하게 유지하도록 제어하는 것으로 하였다.
또한, 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구할 때에, 기압에 따른 보정을 행하기로 하였다.
또한, 본 발명에서는, 처리액 저류부에 저류한 처리액을 처리액 가열부에서 가열하여 기판을 처리시키는 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 있어서, 상기 처리액의 농도와 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것으로 하였다.
본 발명에서는, 처리액이 강비등 상태가 되는 것을 방지하면서 처리액을 단시간에 소정 온도로 가열할 수 있어, 기판 액처리 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
도 1은 기판 액처리 장치를 나타내는 설명도이다.
도 2는 기판 액처리 프로그램을 나타내는 흐름도이다.
도 3은 처리액의 농도 및 온도와 처리액 가열부의 출력의 변화를 나타내는 설명도이다.
도 4는 저류조를 나타내는 설명도이다.
이하에, 본 발명에 따른 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램의 구체적인 구성에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이하의 설명에서는, 인산 등의 약제를 순수로 소정 농도 및 소정 온도로 조정한 처리액(예컨대, 에칭액)을 이용하여 기판(예컨대, 반도체 웨이퍼)을 처리하는 기판 액처리 장치(에칭 장치)에 본 발명을 적용한 실시형태에 대해서 설명한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 액처리 장치(1)는, 저류한 처리액으로 기판(2)을 처리하기 위한 처리액 저류부(3)와, 처리액 저류부(3)에 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급부(4)와, 처리액 저류부(3)에 순수를 공급하기 위한 순수 공급부(5)와, 처리액 저류부(3)에 저류된 처리액을 순환시키기 위한 처리액 순환부(6)와, 처리액 저류부(3)로부터 처리액을 배출하기 위한 처리액 배출부(7)를 갖는다. 또한, 기판 액처리 장치(1)는, 상기 각 부를 제어하기 위한 제어부(8)를 갖는다.
처리액 저류부(3)는, 상부를 개방시킨 처리조(9)의 상부 주위에 상부를 개방시킨 외부조(10)를 형성하고, 처리조(9)와 외부조(10)에 처리액을 저류한다. 처리액 저류부(3)에는, 기판(2)을 유지하는 기판 유지체(11)가 승강 가능하게 마련되어 있다. 기판 유지체(11)는, 제어부(8)에서 승강 제어된다.
그리고, 처리조(9)에서는, 기판(2)을 기판 유지체(11)에 의해 처리액에 침지시킴으로써 기판(2)을 액처리한다. 외부조(10)에서는, 처리조(9)로부터 오버 플로우한 처리액이나, 처리액 공급부(4)로부터 공급되는 수용액이나, 순수 공급부(5)로부터 공급되는 순수를 저류하며, 처리액 순환부(6)에 의해 처리조(9)에 처리액을 공급한다.
처리액 공급부(4)는, 처리액을 공급하기 위한 수용액 공급원(12)을 처리액 저류부(3)의 외부조(10)에 유량 조정기(13)를 통해 접속한다. 유량 조정기(13)는, 제어부(8)에서 개폐 제어 및 유량 제어된다.
순수 공급부(5)는, 순수를 공급하기 위한 순수 공급원(14)을 처리액 저류부(3)의 외부조(10)에 유량 조정기(15)를 통해 접속한다. 유량 조정기(15)는, 제어부(8)에서 개폐 제어 및 유량 제어된다.
처리액 순환부(6)는, 처리액 저류부(3)의 외부조(10)의 바닥부와 처리조(9)의 바닥부 사이에 순환 유로(16)를 형성한다. 순환 유로(16)에는, 펌프(17), 히터(18), 필터(19)가 순서대로 마련되어 있다. 또한, 순환 유로(16)에는, 처리액의 농도를 계측하는 농도 센서(20)와 처리액의 온도를 계측하는 온도 센서(21)가 마련되어 있다. 또한, 온도 센서(21)는, 순환 유로(16)에 한정되지 않고 처리액 저류부(3)의 처리조(9) 내에 마련하여도 좋다. 펌프(17)나 히터(18)는, 제어부(8)에서 구동 제어된다. 특히 히터(18)의 출력(가열 온도)은, 제어부(8)에서 가변 제어된다. 또한, 농도 센서(20)나 온도 센서(21)는, 제어부(8)에 접속되어 있으며, 계측한 농도나 온도를 제어부(8)에 통지한다. 제어부(8)에는, 처리액 저류부(3)의 처리조(9)의 개구 근방에 기압을 계측하는 기압 센서(22)도 접속되어 있으며, 계측한 기압이 통지된다.
처리액 순환부(6)는, 펌프(17)를 구동시킴으로써 외부조(10)로부터 처리조(9)에 처리액을 강제적으로 순환시킨다. 그때에, 히터(18)를 구동시킴으로써 처리액을 가열한다. 그 때문에, 여기서는 히터(18)가 처리액을 가열하기 위한 처리액 가열부로서 기능한다.
처리액 배출부(7)는, 처리액 저류부(3)의 처리조(9)의 바닥부에 드레인(23)을 개폐 밸브(24)를 통해 접속한다. 개폐 밸브(24)는, 제어부(8)에서 개폐 제어된다.
상기 기판 액처리 장치(1)에서는, 처리액 공급부(4)에 의해 처리액을 처리액 저류부(3)에 공급하고, 처리액 순환부(6)에 의해 소정 농도 및 소정 온도가 되도록 처리액 가열부[히터(18)]에서 가열하여 처리액을 조정하고, 조정한 처리액을 처리액 저류부(3)에서 저류한다. 그때에, 기판 액처리 장치(1)에서는, 가열에 의해 증발하는 물의 양에 상응하는 양의 순수를 순수 공급부(5)에 의해 처리액 저류부(3)에 공급한다. 또한, 기판 액처리 장치(1)에서는, 처리액 배출부(7)에 의해 처리액 저류부(3)의 처리액의 일부(또는 전부)를 배출하며, 처리액 공급부(4)에 의해 신규로 수용액을 공급함으로써, 처리액 저류부(3)에 저류하는 처리액을 교환한다.
이들 기판 액처리 장치(1)의 동작은, 제어부(8)에서 제어된다. 제어부(8)는, 예컨대 컴퓨터이며, 컴퓨터로 판독 가능한 기억 매체(25)를 구비한다. 기억 매체(25)에는, 기판 액처리 장치(1)에 있어서 실행되는 각종 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(8)는, 기억 매체(25)에 기억된 프로그램을 읽어내어 실행함으로써 기판 액처리 장치(1)의 동작을 제어한다. 또한, 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체(25)에 기억되어 있던 것이고, 다른 기억 매체로부터 제어부(8)의 기억 매체(25)에 인스톨된 것이어도 좋다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체(25)로서는, 예컨대 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.
또한, 기판 액처리 장치(1)는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 처리조(9)의 내부에 처리액을 토출하는 한쌍의 노즐(26, 26)을 이동 가능하게 수용하여, 각 노즐(26)을 이동시킴으로써 처리조(9)에 저류한 처리액을 교반 혼합할 수 있도록 하여도 좋다. 여기서는, 각 노즐(26)을 아암(27)의 하단에 부착하고, 아암(27)의 상단에 조인트(28)를 회동 가능하게 부착하고 있다. 아암(27)에는, 아암(27)을 요동시키는 기구가 접속되어 있다. 조인트(28)에는, 순환 유로(16)의 단부가 분기하여 접속되어 있다. 처리액은, 순환 유로(16)로부터 조인트(28) 및 아암(27)을 통해 노즐(26)에 공급된다.
또한, 기판 액처리 장치(1)는, 히터(29)를 부착한 덮개(30)를 처리조(9)의 개구부에 개폐 가능하게 마련하고, 덮개(30)를 폐쇄하여 히터(29)를 처리액에 침지함으로써 처리조(9)에 저류한 처리액을 가열(보온)할 수 있도록 하여도 좋다. 여기서는, 처리조(9)의 개구 단부 가장자리부에 한쌍의 덮개(30, 30)를 회동 가능하게 부착하고, 각 덮개(30)의 이면에 히터(29)를 부착하고 있다. 한쌍의 덮개(30, 30)에 의해 처리조(9)의 개구부는 밀폐되도록 하고 있다. 또한, 덮개(30)를 폐쇄한 상태로 히터(29)가 처리액에 잠기도록 하고 있다.
기판 액처리 장치(1)는, 이상에서 설명한 바와 같이 구성하고 있다. 그리고, 기판 액처리 장치(1)로 기판(2)을 액처리하는 경우에는, 기억 매체(25)에 기억된 기판 액처리 프로그램에 따라 제어부(8)에서 기판 액처리 장치(1)를 제어한다. 특히, 상기 기판 액처리 장치(1)에서는, 처리액 저류부(3)에 저류된 처리액을 소정 농도 및 소정 온도로 조정할 때에, 제어부(8)에서 이하에 설명하는 것 같은 제어를 행한다(도 2 및 도 3 참조).
우선, 제어부(8)는, 처리액의 농도 및 온도에 기초하여 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 제어하는 농도·온도 제어를 행한다.
이 농도·온도 제어에 있어서, 처음에 제어부(8)는, 펌프(17)를 구동시켜 처리액 순환부(6)에서 처리액을 순환시키며, 히터(18)를 구동시켜 처리액을 가열한다(S1). 그때에, 제어부(8)는, 히터(18)를 소정의 출력[예컨대, 히터(18)의 최대 출력]으로 구동시킨다.
이에 의해, 처리액은, 히터(18)로 가열되어, 시간의 경과와 함께 온도가 상승하며, 처리액에 함유되는 수분이 증발함으로써 농도도 상승한다. 또한, 시간의 경과와 함께 처리액의 농도가 상승함으로써, 도 3의 횡축의 농도는 시간의 경과에 대응한다.
그 후, 제어부(8)는, 농도 센서(20)로 처리액의 농도를 계측하며(S2), 온도 센서(21)로 처리액의 온도를 계측한다(S3).
그 후, 제어부(8)는, 농도 센서(20)로 계측된 농도에 대응하는 처리액의 비점을 산출한다(S4). 이 비점의 산출은, 미리 사용하는 처리액의 농도와 비점의 대응을 데이터로서 유지하여, 그 데이터로부터 비점을 구할 수 있다. 또한, 농도로부터 비점을 구하는 함수를 미리 작성해 두어도 좋다.
처리액의 비점을 산출할 때에는, 비점이 농도뿐만 아니라 기압에 의해서도 영향을 받는 것을 고려하여, 기판 액처리 장치(1)의 실제의 설치 장소에서의 기압 변동 요소(예컨대, 고도나 평균 기압 등)에 따른 보정을 행하여도 좋다. 예컨대, 기판 액처리 장치(1)의 실제의 설치 장소가 고도에 따른 보정 계수를 데이터로서 유지하고, 농도로부터 구한 비점에 보정 계수를 곱하여 제어에 사용하는 비점을 구하여도 좋다. 또한, 보다 정확하게 보정하는 경우에는, 기압 센서(22)를 마련하고, 그 기압 센서(22)로 계측된 기압에 따라 비점을 리얼 타임으로 보정하도록 하여도 좋다.
그 후, 제어부(8)는, 온도 센서(21)로 계측된 처리액의 온도(계측 온도)와 산출된 비점(산출 비점)을 비교한다(S5). 또한, 온도 센서(21)에 의한 계측은, 산출 비점과의 비교 시까지 행하면 좋고, 농도 센서(20)에 의한 농도 계측과 함께 온도 계측을 행하지 않아도 좋다.
그리고, 계측 온도가 산출 비점에 대하여 충분히 높은 경우(계측 온도와 산출 비점의 차가 소정 온도차 이상인 경우)에는, 히터(18)를 소정의 출력으로 유지한 채로, 상기 S2∼S5의 제어를 반복해서 행한다.
한편, 계측 온도가 산출 비점에 가까운 경우(계측 온도와 산출 비점의 차가 소정 온도차 미만인 경우)에는, 그대로 히터(18)의 출력(최대 출력)으로 처리액을 가열하면, 처리액의 온도가 비점에 급접근하여 처리액이 급격하게 비등(강비등)하여, 처리액이 처리조(9)로부터 끓어 넘쳐 주위를 오손하게 된다.
그래서, 계측 온도와 산출 비점을 비교하여, 계측 온도가 산출 비점에 가까운 경우(계측 온도와 산출 비점의 차가 소정 온도차 미만인 경우)에는, 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 소정의 출력에까지 저하하여 일정하게 유지하는 제어(일정 제어)를 행한다.
이 일정 제어에 있어서, 제어부(8)는, 히터(18)의 출력이 소정의 출력(예컨대, 최대 출력의 40％)이 되도록 히터(18)의 출력을 저하시킨다(S6).
이와 같이, 계측 온도가 산출 비점에 근접하였을 때에 히터(18)의 출력을 저하시킴으로써, 처리액의 강비등을 방지할 수 있어, 처리액의 끓어 넘침에 의한 오손을 방지할 수 있다.
그 후, 제어부(8)는, 일정 시간이 경과할 때까지 히터(18)의 출력을 일정하게 유지한다(S7). 또한, 여기서는, 일정 시간 경과할 때까지 히터(18)의 출력을 일정하게 유지하고 있지만, 농도 센서(20)나 온도 센서(21)로 처리액의 농도나 온도를 계측하여, 소정의 농도나 온도에 도달할 때까지 히터(18)의 출력을 일정하게 유지하도록 하여도 좋다.
일정 시간이 경과한 후에, 제어부(8)는, 처리액의 온도에만 기초하여 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 제어하는 온도 제어를 행한다.
이 온도 제어에 있어서, 제어부(8)는, 온도 센서(21)로 처리액의 온도를 계측한다(S8).
그 후, 제어부(8)는, 온도 센서(21)로 계측된 온도(계측 온도)와 미리 설정된 소정 온도를 비교한다(S9).
그리고, 처리액의 온도가 소정 온도에 달하고 있지 않은 경우에는, 계측 온도에 기초하여 히터(18)의 출력을 가변한다(S10).
이에 의해, 기판 액처리 장치(1)에서는, 처리액의 온도를 소정 온도로 가열할 수 있고, 그때에 처리액의 농도가 소정 농도가 되어, 처리액을 소정 농도 및 소정 온도로 조정할 수 있다.
이상에 설명한 바와 같이, 상기 기판 액처리 장치(1)에서는, 제어부(8)를 이용하여, 농도 센서(20)로 처리액의 농도를 계측하며, 온도 센서(21)로 처리액의 온도를 계측하여, 계측된 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 처리액의 온도에 기초하여 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 제어(농도·온도 제어)하고 있다.
그 때문에, 상기 기판 액처리 장치(1)에서는, 처리액이 강비등 상태가 되는 것을 방지하면서 처리액을 단시간에 소정 온도로 가열할 수 있어, 기판 액처리 장치(1)의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명은, 기판을 가열한 처리액으로 액처리할 수 있으면 좋고, 복수매의 기판을 처리액 저류부에 저류한 처리액에 동시에 침지시키는 배치 처리형의 기판 액처리 장치여도 좋으며, 또한, 처리액 저류부로부터 공급된 처리액으로 기판을 1장씩 액처리하는 매엽 처리형의 기판 액처리 장치여도 좋다.
상기 기판 액처리 장치(1)에서는, 계측 온도와 산출 비점을 비교하여, 계측 온도가 산출 비점에 가까운 경우(계측 온도와 산출 비점의 차가 소정 온도차 미만인 경우)에는, 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 소정의 출력까지 저하시켜 일정하게 유지하는 제어(일정 제어)를 행하도록 하고 있지만, 이에 한정되지 않고, 계측 온도가 산출 비점에 가까운 경우(계측 온도와 산출 비점의 차가 소정 온도차 미만인 경우)에는, 처리액의 계측 온도가 산출 비점에 가까운 상태를 유지한 채로, 처리액이 소정 온도 및 처리 농도가 되도록 처리액 가열부[히터(18)]의 출력을 가변하여도 좋다.
1 기판 액처리 장치
2 기판
3 처리액 저류부
8 제어부
18 히터(처리액 가열부)

Claims (9)

  1. 기판을 처리액으로 액처리하는 기판 액처리 장치에 있어서,
    상기 처리액을 저류하는 처리액 저류부와,
    상기 처리액을 가열하는 처리액 가열부와,
    상기 처리액 가열부를 제어하는 제어부와,
    상기 제어부에 접속된 온도 센서 및 농도 센서
    를 가지고,
    상기 제어부는, 상기 농도 센서로 상기 처리액의 농도를 계측함과 아울러, 상기 온도 센서로 상기 처리액의 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어를 행하고, 그 후, 상기 온도 센서로 상기 처리액의 온도를 계측하며, 그 온도에만 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어와, 상기 처리액의 온도에만 따른 상기 처리액 가열부의 제어 사이에, 상기 처리액 가열부의 출력을 일정하게 유지하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구할 때에, 기압에 따른 보정을 행하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 장치.
  5. 처리액 저류부에 저류한 처리액을 처리액 가열부에서 가열하여 기판을 처리하는 기판 액처리 방법에 있어서,
    상기 처리액의 농도와 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어를 행하고, 그 후, 상기 처리액의 온도를 계측하여, 그 온도에만 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 처리액의 농도 및 온도에 따른 상기 처리액 가열부의 제어와, 상기 처리액의 온도에만 따른 상기 처리액 가열부의 제어 사이에, 상기 처리액 가열부의 출력을 일정하게 유지하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구할 때에, 기압에 따른 보정을 행하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 방법.
  9. 처리액 저류부에 저류한 처리액을 처리액 가열부에서 가열하여 기판을 처리시키는 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체에 있어서,
    상기 처리액의 농도와 온도를 계측하여, 계측된 상기 처리액의 농도에 대응하는 비점을 구하고, 그 비점과 계측된 상기 처리액의 온도에 기초하여 상기 처리액 가열부의 출력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.
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