JP6929729B2 - 基板液処理方法、基板液処理装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
制御部7は、温度センサ60により検出される内槽34A内のリン酸水溶液の温度が設定温度となるように、ヒータ52の出力をフィードバック制御する。このフィードバック制御において、設定温度が設定値SV、温度センサ60の検出温度が測定値(PV)、ヒータ52の出力が操作量MVである。制御部7及びヒータ52により温度調整部が構成される。なお、フィードバック制御を行うにあたり、ヒータ52の出口に設けられた追加のセンサ(このセンサ出力にはヒータ52の出力の変化によるリン酸水溶液の温度変化が直ちに現れる)の値も利用してもよい。
制御部7は、リン酸濃度計55B(濃度センサ)により検出される循環系内のリン酸水溶液(処理液)中のリン酸(薬液成分)の濃度が設定濃度となるように、必要に応じて、純水供給部41から循環系(図示例では外槽34B)への純水(希釈液)の供給量、あるいはリン酸水溶液供給部40から循環系(図示例では外槽34B)へのリン酸供給量をフィードバック制御する。このフィードバック制御において、設定濃度が設定値SV、リン酸濃度計55Bの検出濃度が測定値(PV)、純水供給部41から循環系(図示例では外槽34B)への純水(希釈液)の供給量、あるいはリン酸水溶液供給部40から循環系(図示例では外槽34B)へのリン酸供給量が操作量MVである。制御部7、純水供給部41及びリン酸水溶液供給部40により濃度調整部が構成される。基板8の処理を行うときには、設定濃度は、プロセスレシピにおいて予め定められた値が用いられ、リン酸水溶液の温度変化に応じて変更されることはない。
8 基板(半導体ウエハ)
34(34B)処理槽
38 記憶媒体
40 リン酸水溶液供給部
41 純水供給部
52 加熱部(ヒータ)
55B リン酸濃度計
Claims (12)
- 処理槽内に貯留した沸騰状態にあるリン酸水溶液中に基板を浸漬して、基板に液処理を施す処理工程と、
前記処理工程の後、前記基板を前記リン酸水溶液中から取り出した状態で待機する待機工程と、
を備え、
前記待機工程における前記リン酸水溶液中のリン酸濃度を前記処理工程における前記リン酸水溶液中のリン酸濃度よりも高くすることにより、前記待機工程における前記リン酸水溶液の沸騰状態を前記処理工程における前記リン酸水溶液の沸騰状態よりも低くする、基板液処理方法。 - 前記処理工程及び前記待機工程において、前記リン酸水溶液の実際のリン酸濃度が設定濃度と一致するようにリン酸濃度のフィードバック制御が行われ、前記待機工程における設定濃度は、前記処理工程における設定濃度よりも高く設定される、請求項1記載の基板液処理方法。
- 前記待機工程における設定濃度が、前記リン酸水溶液に沸騰が生じないような値に設定される、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記待機工程から再び前記処理工程に移行するにあたって、前記リン酸水溶液の設定濃度を、前記待機工程における設定濃度より低い基板投入用設定濃度に変更する、請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記リン酸水溶液の設定濃度を、前記待機工程における設定濃度より低い基板投入用設定濃度に変更するにあたって、前記待機工程における設定濃度である初期値から、前記基板投入用設定濃度である最終値に変更する前に、前記リン酸水溶液の設定濃度を、前記初期値よりも低くかつ前記最終値より低い第1の値に変更する、請求項4に記載の基板液処理方法。
- 前記リン酸水溶液の設定濃度を前記第1の値から前記最終値に変更する前に、前記リン酸水溶液の設定濃度を、前記初期値より低く、かつ、前記第1の値より高く、かつ、前記最終値より高い第2の値に変更する、請求項5記載の基板液処理方法。
- 前記待機工程から再び前記処理工程に移行するにあたって前記基板投入用設定濃度に変更された前記リン酸水溶液の設定濃度を、前記処理槽への基板の投入後にもそのまま維持して基板の処理を行う、請求項4から6のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記待機工程から再び前記処理工程に移行するにあたって前記基板投入用設定濃度に変更された前記リン酸水溶液の設定濃度が、前記処理槽への基板の投入後に少なくとも一回変更される、請求項4から6のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記処理工程及び前記待機工程において、温度計により測定されたリン酸水溶液の温度が設定値と一致するように前記リン酸水溶液の温度がフィードバック制御され、前記待機工程におけるリン酸水溶液の温度の設定値は、前記処理工程におけるリン酸水溶液の温度の設定値と同じ値に設定される、請求項1から8のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記処理工程及び前記待機工程のうちの少なくとも一方において、前記処理槽内のリン酸水溶液の水頭圧を監視することにより、前記水頭圧の関数として表すことができる前記リン酸水溶液の沸騰状態を監視することを含む、請求項1から9のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 基板液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記基板液処理装置を制御して請求項1から10のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
- 基板液処理装置において、
リン酸水溶液を貯留する処理槽と、
前記処理槽にリン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、
前記処理槽に純水を供給する純水供給部と、
前記リン酸水溶液中のリン酸濃度を測定するリン酸濃度計と、
前記リン酸水溶液を加熱する加熱部と、
前記リン酸水溶液の温度を測定する温度計と、
前記リン酸水溶液供給部及び前記純水供給部のうちの少なくとも一方を制御することにより、前記基板液処理装置に請求項1から10のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法を実行させる制御部と、
を備えた基板液処理装置。
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