KR20160005312A

KR20160005312A - 착색 경화성 수지 조성물

Info

Publication number: KR20160005312A
Application number: KR1020150094396A
Authority: KR
Inventors: 가츠하루 이노우에; 김성수; 미츠오 츠치야; 김태욱
Original assignee: 동우 화인켐 주식회사
Priority date: 2014-07-03
Filing date: 2015-07-01
Publication date: 2016-01-14
Also published as: CN105278245B; KR102124467B1; JP6788331B2; TWI691555B; CN105278245A; TW201609984A; JP2016027149A

Abstract

[과제] 양호한 내약품성을 갖는 컬러 필터를 형성할 수 있는 착색 경화성 수지 조성물을 제공한다.
[해결 수단] 청색 염료, 수지, 중합성 화합물, 중합개시제 및 실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 착색 경화성 수지 조성물. 당해 착색 경화성 수지 조성물은, 실세스퀴옥산 화합물의 함유량이, 청색 염료 100 질량부에 대하여, 25∼3000 질량부인 착색 경화성 수지 조성물인 것이 바람직하다.

Description

착색 경화성 수지 조성물{COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION}

본 발명은 착색 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.

일본 공개특허 특개2012-83652호 공보에는 청색 염료, 바인더 수지, 광 중합성 모노머, 광 중합개시제 및 용제로 이루어지는 착색 경화성 수지 조성물이 기재되어 있다.

상기의 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터의 내약품성을 더 향상하는 것이 요구되고 있었다.

본 발명은 이하의 발명을 포함한다.

[1] 청색 염료, 수지, 중합성 화합물, 중합개시제 및 실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 착색 경화성 수지 조성물.

[2] 실세스퀴옥산 화합물의 함유량이, 청색 염료 100 질량부에 대하여, 25∼3000 질량부인 [1]에 기재된 착색 경화성 수지 조성물.

[3] 청색 염료는 프탈로시아닌 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 시아닌 염료, 포르피린 염료 및 티아졸 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 염료를 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재된 착색 경화성 수지 조성물.

[4] 청색 염료는 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 화합물인 [1] 또는 [2]에 기재된 착색 경화성 수지 조성물.

[5] 청색 염료는, 식 (A-Ⅰ)로 나타내어지는 화합물을 포함하는 [1] 또는 [2]에 기재된 착색 경화성 수지 조성물.

[식 (A-Ｉ) 중, [Y²]^m-은, 임의의 m가의 아니온을 나타낸다.

R⁴¹∼R⁴⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 탄소수 2∼20의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기, 치환되어 있어도 되는 아릴기, 또는 치환되어 있어도 되는 아랄킬기를 나타낸다. R⁴¹과 R⁴²가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 환을 형성해도 되고, R⁴³과 R⁴⁴가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 환을 형성해도 된다.

R⁴⁵∼R⁵²는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 히드록실기, 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기, 또는 탄소수 2∼8의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기를 나타내거나, R⁴⁶과 R⁵⁰이 서로 결합하여 -O-, -NH-, -S- 또는 -SO₂-를 형성하고 있어도 된다.

Y¹은, 치환되어도 되는 아릴기, 또는 치환되어도 되는 헤테로아릴기를 나타낸다.

식 (A-Ⅰ)로 나타내어지는 화합물이 복수의 카티온을 포함하는 경우, 복수의 카티온은 서로 동일한 구조여도 되고, 다른 구조여도 된다.

m은 임의의 자연수를 나타낸다.]

[6] [1] 또는 [2]에 기재된 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터.

[7] [6]에 기재된 컬러 필터를 포함하는 표시 장치.

양호한 내약품성을 갖는 컬러 필터를 형성할 수 있는 착색 경화성 수지 조성물을 제공한다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 청색 염료, 수지 (B), 중합성 화합물 (C), 중합개시제 (D) 및 실세스퀴옥산 화합물 (H)를 함유한다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 또한, 용제 (E), 티올 화합물 (T), 산화방지제 (G), 중합개시조제 (D1) 및/또는 레벨링제 (F)를 함유하고 있어도 되고, 그 중에서도 용제 (E), 티올 화합물 (T), 산화방지제 (G) 및/또는 레벨링제 (F)를 함유하는 것이 바람직하다.

< 청색 염료 (A) >

본 발명 중에서는, 청색 염료란, 클로로포름 용액 중에 있어서, 580 ㎚ 이상 650 ㎚ 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 염료를 의미한다. 청색 염료는, 590 ㎚ 이상 645 ㎚ 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 염료인 것이 바람직하고, 600 ㎚ 이상 645 ㎚ 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 염료인 것이 보다 바람직하다.

본 발명에 있어서의 청색 염료로서, 580 ㎚ 이상 650 ㎚ 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 염료로부터 변환된 화합물로서 후술의 폴리산 아니온을 갖는 화합물도 포함된다.

염료의 극대 흡수 파장이 580 ㎚ 이상 650 ㎚ 이하의 범위 내이면, 염료는 특별히 한정되지 않고 공지의 염료를 사용할 수 있다.

청색 염료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에 있어서 피그먼트 이외에서 색상을 갖는 것으로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(시키센샤(色染社))에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다. 또, 화학 구조에 의하면, 프탈로시아닌 염료, 디아릴메탄 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 폴리메틴 염료, 아조메틴 염료, 시아닌 염료, 포르피린 염료, 티아졸 염료 등을 들 수 있고, 바람직하게는 프탈로시아닌 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 시아닌 염료, 포르피린 염료 및 티아졸 염료이다.

구체적으로는,

C. I. 솔벤트 블루 2, 4, 5, 14, 18, 35, 36, 37, 43, 45, 58, 59, 59:1, 63, 67, 68, 69, 70, 78, 79, 83, 90, 94, 97, 98, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 124, 128, 132, 136, 139;

C. I. 애시드 블루 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 34, 38, 40, 41, 42, 43, 45, 48, 51, 54, 59, 60, 62, 70, 72, 74, 75, 78, 80, 82, 83, 86, 87, 88, 90, 90:1, 91, 92, 93, 93:1, 96, 99, 100, 102, 103, 104, 108, 109, 110, 112, 113, 117, 119, 120, 123, 126, 127, 129, 130, 131, 138, 140, 142, 143, 147, 150, 151, 154, 158, 161, 166, 167, 168, 170, 171, 175, 182, 183, 184, 187, 192, 199, 203, 204, 205, 210, 213, 229, 234, 236, 242, 243, 249, 256, 259, 267, 269, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340;

C. I. 다이렉트 블루 1, 2, 3, 6, 8, 15, 22, 25, 28, 29, 40, 41, 42, 47, 52, 55, 57, 71, 76, 77, 78, 80, 81, 84, 85, 86, 87, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 120, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 195, 196, 198, 199, 200, 201, 202, 203, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 225, 226, 228, 229, 236, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 246, 247, 248, 249, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;

C. I. 디스퍼스 블루 1, 14, 56, 60 등의 C. I. 디스퍼스 염료,

C. I. 베이식 블루 1, 3, 5, 7, 9, 19, 21, 22, 24, 25, 26, 28, 29, 40, 41, 45, 47, 54, 58, 59, 60, 64, 65, 66, 67, 68, 81, 83, 88, 89;

C. I. 모던트 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등을 들 수 있다.

청색 염료로서는 국제공개 제2012/128318호, 한국 공개특허 제2014-0026284호 공보, 한국 공개특허 제2013-0111024호 공보, 한국 공개특허 제2013-0062510호 공보 등에 기재되어 있는 청색 염료를 들 수 있다.

청색 염료 (A)로서는 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 화합물도 들 수 있다. 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 함유하는 아니온으로서는, 당해 원소를 갖는 헤테로폴리산 아니온, 당해 원소를 갖는 이소폴리산 아니온 등의 폴리산 아니온을 들 수 있다.

텅스텐을 필수 원소로서 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 아니온으로서는, 예를 들면 케긴형 인텅스텐산 이온 α-[PW₁₂O₄₀]^3-, 도슨형 인텅스텐산 이온 α-[P₂W₁₈O₆₂]^6-, β-[P₂W₁₈O₆₂]^6-, 케긴형 규텅스텐산 이온 α-[SiW₁₂O₄₀]^4-, β-[SiW₁₂O₄₀]^4-, γ-[SiW₁₂O₄₀]^4-, 또한 기타 예로서 [P₂W₁₇O₆₁]^10-, [P₂W₁₅O₅₆]^12-, [H₂P₂W₁₂O₄₈]^12-, [NaP₅W₃₀O₁₁₀]^14-, α-[SiW₉O₃₄]^10-, γ-[SiW₁₀O₃₆]^8-, α-[SiW₁₁O₃₉]^8-, β-[SiW₁₁O₃₉]^8-, [W₆O₁₉]^2-, [W₁₀O₃₂]^4-, WO₄ ² ^- 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 텅스텐을 필수 원소로서 함유하는 헤테로폴리산 또는 이소폴리산의 아니온으로서는, 인텅스텐산, 규텅스텐산 및 텅스텐계 이소폴리산의 아니온이 바람직하다.

또, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소를 함유하는 아니온도 바람직하고, 당해 아니온으로서는 SiO₃ ² ^-, PO₄ ³ ^-을 들 수 있다.

텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 청색 염료로서는, 프탈로시아닌 골격을 갖는 카티온, 디아릴메탄 골격을 갖는 카티온, 트리아릴메탄 골격을 갖는 카티온, 안트라퀴논 골격을 갖는 카티온, 아조메틴 골격을 갖는 카티온, 시아닌 골격을 갖는 카티온, 및 포르피린 골격을 갖는 카티온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 카티온과 당해 아니온을 갖는 화합물을 들 수 있다. 상기 트리아릴메탄 골격을 갖는 카티온으로는, 적어도 1개의 아릴이, 티아졸 등의 헤테로아릴이어도 된다.

청색 염료로서는, 식 (A-Ⅰ)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.

[식 (A-Ｉ) 중, [Y²]^m-은, 임의의 m가의 아니온을 나타낸다.

m은 임의의 자연수를 나타낸다.]

[Y²]^m-은, 임의의 m가의 아니온을 나타낸다. Y²에 의해 나타내어지는 아니온으로서는, 염료 카티온과 대(對)이온을 형성할 수 있는 아니온이라면 특별히 한정되지 않고, 바람직하게는 함(含)붕소 아니온, 함알루미늄 아니온, 함불소 아니온, 염소 원자 등의 할로겐 원자, 및 상술의 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온이다.

함붕소 아니온 및 함알루미늄 아니온으로서는, 예를 들면 식 (4)로 나타내어지는 아니온을 들 수 있다.

[식 (4) 중, W¹, W²는 각각 독립적으로 1가의 프로톤 공여성 치환기를 2개 갖는 기를 나타낸다. M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.]

1가의 프로톤 공여성 치환기를 2개 갖는 기로서는, 1가의 프로톤 공여성 치환기(예를 들면, 히드록시기, 카르복시기 등)를 적어도 2개 갖는 화합물로부터 각각으로부터 프로톤이 방출되어 이루어지는 기를 들 수 있다. 당해 화합물로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 카테콜, 치환기를 갖고 있어도 되는 2,3-디히드록시나프탈렌, 치환기를 갖고 있어도 되는 2,2'-비페놀, 치환기를 갖고 있어도 되는 3-히드록시-2-나프토산, 치환기를 갖고 있어도 되는 2-히드록시-1-나프토산, 치환기를 갖고 있어도 되는 1-히드록시-2-나프토산, 치환기를 갖고 있어도 되는 비나프톨, 치환기를 갖고 있어도 되는 살리실산, 치환기를 갖고 있어도 되는 벤질산 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 만델산인 것이 바람직하다.

상기 1가의 프로톤 공여성 치환기를 적어도 2개 갖는 화합물로서 예시한 각 화합물에 있어서, 치환기로서는, 포화 탄화수소기(예를 들면, 알킬기, 시클로알킬기 등), 할로겐 원자, 히드록시기, 아미노기, 니트로기, 알콕시기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 살리실산으로서는 살리실산, 3-메틸살리실산, 3-tert-부틸살리실산, 3-메톡시살리실산, 3-니트로살리실산, 4-트리플루오로메틸살리실산, 3,5-디-tert-부틸살리실산, 3-아미노살리실산, 4-아미노살리실산, 5-아미노살리실산, 6-아미노살리실산 등의 모노아미노살리실산; 3-히드록시살리실산(2,3-디히드록시안식향산), 4-히드록시살리실산(2,4-디히드록시안식향산), 5-히드록시살리실산(2,5-디히드록시안식향산), 6-히드록시살리실산(2,6-디히드록시안식향산) 등의 모노히드록시살리실산; 4,5-디히드록시살리실산, 4,6-디히드록시살리실산 등의 디히드록시살리실산; 3-클로로살리실산, 4-클로로살리실산, 5-클로로살리실산, 6-클로로살리실산, 3-브로모살리실산, 4-브로모살리실산, 5-브로모살리실산, 6-브로모살리실산 등의 모노할로살리실산; 3,5-디클로로살리실산, 3,5-디브로모살리실산, 3,5-디요오도살리실산 등의 디할로살리실산; 3,5,6-트리클로로살리실산 등의 트리할로살리실산; 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 벤질산으로서는,

치환기를 갖고 있어도 되는 만델산으로서는,

등을 들 수 있다.

식 (4)로 나타내어지는 아니온 중 바람직한 아니온으로서는, 하기 식으로 나타내어지는 아니온으로서, 표 1에 기재된 치환기를 갖는 아니온 (BC-1)∼아니온 (BC-24), 및, 각각 식 (BC-25), 식 (BC-26), 식 (BC-27) 및 식 (BC-28)로 나타내어지는 아니온 (BC-25)∼아니온 (BC-28) 등을 들 수 있다.

(M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.)

(M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.)

(M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.)

(M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.)

(M은 붕소 또는 알루미늄을 나타낸다.)

식 (4)로 나타내어지는 아니온으로서는 아니온 (BC-1), 아니온 (BC-2), 아니온 (BC-3), 아니온 (BC-25), 아니온 (BC-26), 아니온 (BC-27)이 바람직하고, 아니온 (BC-1), 아니온 (BC-2), 아니온 (BC-25)가 보다 바람직하고, 아니온 (BC-1), 아니온 (BC-2)가 더 바람직하다. 이들 아니온 중 어느 하나와, 식 (A-Ⅰ)로 나타내어지는 화합물과의 염은 유기용제에의 용해성이 우수한 경향이 있다.

함불소 아니온으로서는, 예를 들면 식 (6), (7), (8), (9)로 나타내어지는 기를 들 수 있다.

[식 (6) 중, W³ 및 W⁴는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1∼4의 불화 알킬기를 나타내거나, 또는, W³과 W⁴가 하나가 되어 탄소수 1∼4의 불화 알칸디일기를 나타낸다.]

[식 (7) 중, W⁵∼W⁷은 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1∼4의 불화 알킬기를 나타낸다.]

[식 (8) 중, Y^a는 탄소수 1∼4의 불화 알칸디일기를 나타낸다.]

[식 (9) 중, Y^b는 탄소수 1∼4의 불화 알킬기를 나타낸다.]

식 (6), (7) 및 (9)에 있어서, 탄소수 1∼4의 불화 알킬기로서는 퍼플루오로알킬기가 바람직하다. 당해 퍼플루오로알킬기로서는 -CF₃, -CF₂CF₃, -CF₂CF₂CF₃, -CF(CF₃)₂, -CF₂CF₂CF₂CF₃, -CF₂CF(CF₃)₂, -C(CF₃)₃ 등을 들 수 있다.

식 (6) 및 (8)에 있어서, 탄소수 1∼4의 불화 알칸디일기로서는, 퍼플루오로알칸디일기가 바람직하고, -CF₂-, -CF₂CF₂-, -CF₂CF₂CF₂-, -C(CF₃)₂-, -CF₂CF₂CF₂CF₂- 등을 들 수 있다.

식 (6)으로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (6)」이라고 하는 경우가 있다)으로서는, 각각 식 (6-1)∼식 (6-6)으로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (6-1)」∼「아니온 (6-6)」이라고 하는 경우가 있다)을 들 수 있다.

식 (7)로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (7)」이라고 하는 경우가 있다)으로서는, 하기 식으로 나타내어지는 아니온 (7-1)을 들 수 있다.

식 (8)로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (8)」이라고 하는 경우가 있다)으로서는, 각각 식 (8-1)∼식 (8-4)로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (8-1)」∼「아니온 (8-4)」라고 하는 경우가 있다)을 들 수 있다.

식 (9)로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (9)」라고 하는 경우가 있다)으로서는, 각각 식 (9-1)∼식 (9-4)로 나타내어지는 아니온(이하, 「아니온 (9-1)」∼「아니온 (9-4)」라고 하는 경우가 있다)을 들 수 있다.

[Y²]^m-로서는 함불소 아니온, 폴리산 아니온이 바람직하고, 보다 바람직하게는 식 (6)으로 나타내어지는 아니온, [PW₁₂O₄₀]^3-, [P₂W₁₈O₆₂]^6-, [SiW₁₂O₄₀]^4- 또는 [W₁₀O₃₂]^4-가 바람직하고, 더 바람직하게는 식 (6-1)∼식 (6-5)로 나타내어지는 아니온, [PW₁₂O₄₀]^3-, [P₂W₁₈O₆₂]^6-이고, 특히 바람직하게는 식 (6-2)로 나타내어지는 아니온, [PW₁₂O₄₀]^3-이다.

m은 임의의 자연수를 나타내고, 아니온 [Y²]^m-이 갖는 마이너스의 전하와 같다. 카티온측의 ｍ은, 아니온 [Y²]^m-과 카티온의 전하가 같아지도록 정해진다. m은 바람직하게는 1∼10의 자연수이다.

R⁴¹∼R⁴⁴로 나타내어지는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기는 직쇄상, 분기쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 된다. 또, 당해 포화 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 1∼10이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8이고, 더 바람직하게는 탄소수 1∼6이고, 특히 바람직하게는 탄소수 1∼4이다.

상기 직쇄상 또는 분기쇄상의 포화 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기 등의 직쇄상의 알킬기; 이소프로필기, 이소부틸기, 2-에틸헥실기 등의 분기쇄상 알킬기를 들 수 있다. 직쇄상 또는 분기쇄상의 포화 탄화수소의 탄소수는, 바람직하게는 1∼8이고, 보다 바람직하게는 1∼6이고, 더 바람직하게는 1∼4이다.

또, 상기 환상의 포화 탄화수소기는 단환이어도 되고 다환이어도 된다. 당해 환상의 포화 탄화수소기로서는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 아다만틸기 등을 들 수 있다. 환상 포화 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3∼10이고, 보다 바람직하게는 6∼10이다.

R⁴¹∼R⁴⁴의 포화 탄화수소기의 수소 원자는, 치환기로 치환되어 있어도 된다. 당해 치환기로서는 치환 또는 비치환의 아미노기 또는 할로겐 원자를 들 수 있다. 치환 아미노기로서는, 디메틸아미노기 등의 디알킬아미노기 등을 들 수 있고, 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. 수소 원자가 치환 또는 비치환의 아미노기 또는 할로겐 원자로 치환되어 있는 포화 탄화수소기로서는, 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, *은 질소 원자와의 결합손을 나타낸다.

R⁴¹∼R⁴⁴로 나타내어지는 기 중, 탄소수 2∼20의 알킬기를 구성하는 메틸렌기(탄소 원자) 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기로서는, 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, *은 질소 원자와의 결합손을 나타낸다. 그 중에서도, 당해 알킬기를 구성하는 메틸렌기 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기로서는, 탄소수 2∼10의 기가 바람직하고, 탄소수 2∼6의 기가 보다 바람직하다. 산소 원자가 삽입되는 알킬기는, 직쇄 알킬기가 바람직하다. 또, 산소 원자 사이의 탄소수는, 1∼4개가 바람직하고, 2∼3개가 보다 바람직하다.

R⁴¹∼R⁴⁴에 있어서, 아릴기의 탄소수는 6∼20인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6∼10이고, 아랄킬기의 탄소수는 7∼20인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 7∼10이다.

또, R⁴¹∼R⁴⁴의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기, 톨루일기 등을 들 수 있다.

R⁴¹∼R⁴⁴의 아랄킬기에 있어서의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있고, 아랄킬기로서는, 이들의 아릴기의 결합손과 알칸디일기가 결합한 기를 들 수 있다. 상기 알칸디일기의 탄소수는, 1∼10인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼5이고, 직쇄상 알칸디일기인 것이 바람직하다. 상기 알칸디일기로서는 구체적으로는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부탄디일기, 펜탄디일기 등을 들 수 있고, 아랄킬기로서는 벤질기, 페닐에틸기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기 등을 들 수 있다.

R⁴¹∼R⁴⁴로 나타내어지는 기 중, 아릴기 및 아랄킬기에 있어서, 치환기로서는 불소 원자, 염소 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기; 히드록시기; 메틸술포닐기 등의 탄소수 1∼6의 알킬술포닐기; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 탄소수 2∼6의 알콕시카르보닐기; 등을 들 수 있다.

치환되어도 되는 아릴기의 구체예로서는, 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, *은 질소 원자와의 결합손을 나타낸다.

치환되어도 되는 아랄킬기로서는, 상기 아릴기의 결합손에, 메틸렌기, 에틸렌기 등의 알킬렌기가 결합한 기를 들 수 있다.

R⁴¹과 R⁴²가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 형성하는 환, 및 R⁴³과 R⁴⁴가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 형성하는 환으로서는, 피롤리딘환 등의 5원(員)환; 모르폴린환, 피페리딘환, 피페라진환 등의 6원환; 등을 들 수 있다.

R⁴¹∼R⁴⁴는 합성의 용이성의 점에서, 각각 독립적으로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 치환되어 있어도 되는 아릴기, 또는 치환되어 있어도 되는 아랄킬기인 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기 또는 하기 식으로 나타내어지는 치환되어 있어도 되는 아릴기인 것이 보다 바람직하다. 하기 식 중, *은 질소 원자와의 결합손을 나타낸다.

R⁴⁵∼R⁵²로 나타내어지는 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기는 직쇄상, 분기쇄상 및 환상 중 어느 것이어도 되고, 쇄상인 것이 바람직하다. R⁴⁵∼R⁵²의 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기로서는, R⁴¹∼R⁴⁴의 포화 탄화수소기로서 예시한 기 중 탄소수 1∼8의 기를 들 수 있다. 당해 알킬기를 구성하는 메틸렌기(탄소 원자) 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기로서는, 탄소수 2∼8의 알킬기가 보다 바람직하다. 산소 원자가 삽입되는 알킬기는, 직쇄 알킬기가 바람직하고, 산소 원자 사이의 탄소수는, 1∼4개가 바람직하고, 2∼3개가 보다 바람직하다. 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, *은 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.

R⁴⁵∼R⁵²는, 합성의 용이성의 점에서, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 불소 원자 또는 염소 원자인 것이 보다 바람직하다.

R⁴⁶과 R⁵⁰은 서로 결합하여 -O-, -NH-, -S- 또는 -SO₂-를 형성하고 있어도 된다.

아릴기로서는 단환 및 축합환 중 어느 것이어도 되고, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기, 터페닐기 등의 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.

헤테로아릴기는 방향족 복소환 유래의 치환기이다. 상기 방향족 복소환은, 단환 및 축합환 중 어느 것이어도 되고, 5∼10원환인 것이 바람직하고, 5∼9원환인 것이 보다 바람직하다.

단환의 방향족 복소환으로서는 피롤환, 옥사졸환, 피라졸환, 이미다졸환, 티아졸환 등의 질소 원자를 갖는 5원환;

푸란환, 티오펜환 등의 산소 원자나 유황 원자를 갖는 5원환;

피리딘환, 피리미딘환, 피리다진환, 피라진환 등의 질소 원자를 갖는 6원환; 등을 들 수 있다. 축합환의 방향족 복소환으로서는 인돌환, 벤즈이미다졸환, 벤조티아졸환, 퀴놀린환 등의 질소 원자를 갖는 축합환;

벤조푸란환 등의 산소 원자나 유황 원자를 갖는 환; 등을 들 수 있다. 치환되어도 되는 헤테로아릴기로서는, 식 (Ab2-x1)로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다.

[환 T²는, 방향족 복소환, 바람직하게는 탄소수 2∼9의 방향족 복소환을 나타낸다.

R⁵³ 및 R⁵⁴는, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환의 아미노기로 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 탄소수 2∼20의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기, 치환되어 있어도 되는 아릴기, 또는 치환되어 있어도 되는 아랄킬기, 또는 수소 원자를 나타낸다.

R⁵⁵는 수소 원자, 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 또는 치환되어 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.

k1은 0 또는 1을 나타낸다.

*은, 카르보카티온과의 결합손을 나타낸다.] 또한, R⁵³∼R⁵⁵의 상세한 사항은 후술한다.

청색 염료로서는, 식 (A-Ⅱ)로 나타내어지는 화합물이 보다 바람직하다.

[식 (A-Ⅱ) 중, [Y²]^m-, R⁴¹∼R⁵² 및 m은 상기와 동일.

R⁵³ 및 R⁵⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 탄소수 2∼20의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기, 치환되어 있어도 되는 아릴기, 또는 치환되어 있어도 되는 아랄킬기를 나타낸다.

X는 산소 원자, -NR⁵⁷- 또는 유황 원자를 나타낸다.

R⁵⁷은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다.

식 (A-Ⅱ)로 나타내어지는 화합물이 복수의 카티온을 포함하는 경우, 복수의 카티온은 서로 동일한 구조여도 되고, 다른 구조여도 된다.]

R⁵³, R⁵⁴ 및 R⁵⁷로서는, R⁴¹∼R⁴⁴에서 예시한 기와 마찬가지의 기를 들 수 있다.

R⁵⁵로 나타내어지는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기로서는, R⁴¹∼R⁴⁴의 포화 탄화수소기로서 예시한 기와 마찬가지의 기를 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 1∼10의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1∼8의 알킬기가 보다 바람직하고, 탄소수 1∼6의 알킬기가 더 바람직하고, 탄소수 1∼4의 알킬기가 특히 바람직하다.

R⁵⁵로 나타내어지는, 상기 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기로서는, R⁴¹∼R⁴⁴에서 예시한 기와 마찬가지의 기를 들 수 있다. 산소 원자가 삽입되는 알킬기는, 직쇄 알킬기가 바람직하다. 또, 산소 원자 사이의 탄소수는, 1∼4개가 바람직하고, 2∼3개가 보다 바람직하다.

R⁵⁵에 있어서, 아릴기의 탄소수는 6∼20인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6∼10이다.

또, R⁵⁵의 아릴기로서는, R⁴¹∼R⁴⁴에서 예시한 기와 마찬가지의 기를 들 수 있고, 페닐기가 바람직하다.

R⁵⁵의 아릴기에 있어서, 치환기로서는 불소 원자, 염소원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자; 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1∼6의 알콕시기; 히드록시기;술파모일기; 메틸술포닐기 등의 탄소수 1∼6의 알킬술포닐기; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 탄소수 2∼6의 알콕시카르보닐기; 등을 들 수 있다.

R⁵⁵는, 합성의 용이성의 점에서, 바람직하게는 탄소수 1∼10의 포화 탄화수소기 또는 치환되어 있어도 되는 아릴기이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 1∼8의 알킬기, 또는, 할로겐 원자, 탄소수 1∼4의 알콕시기, 히드록시기, 또는 메틸술포닐기로 치환되어 있어도 되는 아릴기이고, 더 바람직하게는 하기 식으로 나타내어지는 기이다. 하기 식 중, *은 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.

X는 산소 원자, -NR⁵⁷- 또는 유황 원자를 나타낸다. X를 포함하는 환상 구조로서는, 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 식 중, R⁵³∼R⁵⁵는, 각각 상기와 동의(同義)이고, *은 카르보카티온과의 결합손을 나타낸다. 그 중에서도, X로서는 산소 원자, 또는 유황 원자가 바람직하고, 유황 원자가 특히 바람직하다.

식 (A-Ⅰ)의 카티온 부분으로서는, 하기 표에 나타낸, 식 (A-Ⅰ-1)로 나타내어지는 카티온 1∼카티온 27 등을 들 수 있고, 그 중에서도 카티온 1∼카티온 6 및 카티온 12가 바람직하다.

표 2 중, Ph1∼Ph12는, 하기 식으로 나타내어지는 기를 의미하는 것으로 한다.

식 (A-Ⅰ)에 있어서의 카티온으로서는, 카티온 1∼카티온 6, 카티온 11, 또는 카티온 12가 바람직하고, 카티온 1, 카티온 2, 또는 카티온 12가 특히 바람직하다.

식 (A-Ⅱ)로 나타내어지는 화합물이 복수의 카티온을 포함하는 경우, 복수의 카티온은 서로 동일한 구조여도 되고, 다른 구조여도 된다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 청색 염료를 1종만으로, 또는 2종 이상을 포함하고 있어도 된다.

청색 염료는, 유기용제에 가용(可溶)인 염료가 바람직하다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 청색 염료 이외의 염료를 포함하고 있어도 된다. 청색 염료 이외의 염료로서는 아조 염료, 시아닌 염료, 크산텐 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 아조메틴 염료, 스쿠아릴륨 염료, 아크리딘 염료, 스티릴 염료, 쿠마린 염료, 퀴놀린 염료 및 니트로 염료 등을 들 수 있다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 청색 염료로서 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 화합물에 추가하여, 기타 청색 염료나 청색 염료 이외의 염료를 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 안료를 포함하고 있어도 되지만, 실질적으로 안료를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 실질적으로 안료를 포함하지 않는다는 것은, 청색 염료에 대하여, 안료의 함유량이 0.5 질량% 이하인 것을 의미하고, 바람직하게는 0 질량%이다.

안료는, 공지의 안료를 사용할 수 있고, 예를 들면 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 안료를 들 수 있다.

안료로서는, 예를 들면

C. I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색 안료;

C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료;

C. I. 피그먼트 옐로 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료;

C. I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색의 안료;

C. I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료; C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 58 등의 녹색 안료; C. I. 피그먼트 브라운 23, 25 등의 브라운색 안료; C. I. 피그먼트 블랙 1, 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다.

안료는, 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 행함으로써, 안료 분산제가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액으로 할 수 있다. 안료는, 각각 단독으로 분산 처리해도 되고, 복수 종을 혼합하여 분산 처리해도 된다.

상기 안료 분산제로서는 예를 들면, 카티온계, 아니온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계, 아크릴계 등의 안료 분산제 등을 들 수 있다. 이들 안료 분산제는, 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 안료 분산제로서는, 상품명으로 KP(신에츠화학공업(주) 제), 플로렌(교에이샤화학(주) 제), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네카(주) 제), EFKA(BASF사 제), 아지스파(AJISPER)(아지노모토 파인테크노(주) 제), Disperbyk(빅(BYK)케미사 제) 등을 들 수 있다.

청색 염료의 함유량은, 착색제의 총량에 대하여, 통상 1∼100 질량%이고, 바람직하게는 10∼100 질량%이고, 보다 바람직하게는 40∼100 질량%이고, 더 바람직하게는 70∼100 질량%이다.

청색 염료로서, 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 염료와, 기타 청색 염료나 청색 염료 이외의 염료를 포함하는 경우, 당해 아니온을 갖는 염료의 함유량은, 청색 염료의 총량에 대하여, 바람직하게는 10∼100 질량%이고, 보다 바람직하게는 40∼100 질량%이고, 더 바람직하게는 70∼100 질량%이다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 체질(體質) 안료 (I)을 포함하고 있어도 된다. 체질 안료로서는 산화규소, 황산바륨, 산화티탄, 산화아연, 산화알루미늄, 산화마그네슘 및 탄산칼슘으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 또, 투명성의 점에서, 체질 안료의 평균 입자경이 500 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 그 중에서 신뢰성과 택(tack)성의 관점에서 산화규소가 바람직하다.

체질 안료를 포함하는 경우, 체질 안료 (I)의 함유량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1∼80 질량부, 보다 바람직하게는 1∼30 질량부이다. 체질 안료의 합계량이 이 범위에 있으면, 택성 및 내용제성이 양호해지는 경향이 있다.

< 수지 (B) >

수지 (B)는, 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하다. 알칼리 가용성 수지는, 불포화 카르본산 및 불포화 카르본산 무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 단량체 (a)에 유래하는 구조 단위를 포함하는 공중합체이다.

수지 (B)로서는, 이하의 수지 [K1]∼[K6] 등을 들 수 있다.

수지 [K1] 불포화 카르본산 및 불포화 카르본산 무수물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 단량체 (a)(이하, 「(a)」라고 하는 경우가 있다)와, 탄소수 2∼4의 환상 에테르 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b)(이하, 「(b)」라고 하는 경우가 있다)와의 공중합체;

수지 [K2] (a)와 (b)와, (a)와 공중합 가능한 단량체 (c)(단, (a) 및 (b)와는 다르다.)(이하, 「(c)」라고 하는 경우가 있다)와의 공중합체;

수지 [K3] (a)와 (c)의 공중합체;

수지 [K4] (a)와 (c)의 공중합체에 (b)를 반응시킨 수지;

수지 [K5] (b)와 (c)의 공중합체에 (a)를 반응시킨 수지;

수지 [K6] (b)와 (c)의 공중합체에 (a)를 반응시키고, 추가로 카르본산 무수물을 반응시킨 수지.

(a)로서는 구체적으로는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-, m-, p-비닐안식향산 등의 불포화 모노카르본산류;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 디메틸테트라히드로푸탈산, 1,4-시클로헥센디카르본산 등의 불포화 디카르본산류;

메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르본산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류;

무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 등의 불포화 디카르본산류 무수물;

호박산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르본산의 불포화 모노[(메타)아크릴로일옥시알킬]에스테르류;

α-(히드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다.

이들 중, 공중합 반응성의 점이나 얻어지는 수지의 알칼리 수용액에의 용해성의 점에서, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 바람직하다.

(b)는, 예를 들면 탄소수 2∼4의 환상 에테르 구조(예를 들면 옥시란환, 옥세탄환 및 테트라히드로푸란환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종)와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물을 말한다.

(b)는, 탄소수 2∼4의 환상 에테르와 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 바람직하다.

또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 「(메타)아크릴로일」 및 「(메타)아크릴레이트」 등의 표기도, 마찬가지의 의미를 갖는다.

(b)로서는, 예를 들면 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체, 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체, 테트라히드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 등을 들 수 있다.

(b)로서는, 얻어지는 컬러 필터의 내열성, 내약품성 등의 신뢰성을 보다 높게 할 수 있는 점에서, 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하다.

(c)로서는, 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0^2,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트(당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트」라고 불리고 있다. 또, 「트리시클로데실(메타)아크릴레이트」라고 하는 경우가 있다.), 트리시클로[5.2.1.0^2,6]데센-8-일(메타)아크릴레이트(당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트」라고 불리고 있다.), 디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 프로파르길(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르류;

2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시기 함유 (메타)아크릴산 에스테르류;

말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸, 이타콘산 디에틸 등의 디카르본산 디에스테르;

비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미도벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미도부티레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미도카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미도프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류;

스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산 비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다.

이들 중, 공중합 반응성 및 내열성의 점에서, 스티렌, 비닐톨루엔, 벤질(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0^2,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔이 바람직하다.

수지 (B)로서는 구체적으로, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.0^2.6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지 [K1]; 글리시딜(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.0^2.6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.0^2.6]데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산/비닐톨루엔 공중합체, 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄/(메타)아크릴산/스티렌 공중합체 등의 수지 [K2]; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 스티렌/(메타)아크릴산 공중합체, 벤질(메타)아크릴레이트/트리시클로데실(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 등의 수지 [K3]; 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지 등의 수지 [K4]; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지 등의 수지 [K5]; 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지에 추가로 테트라히드로프탈산 무수물을 반응시킨 수지 등의 수지 [K6] 등을 들 수 있다.

수지 (B)는 바람직하게는, 수지 [K1], 수지 [K2] 및 수지 [K3]으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종이고, 보다 바람직하게는, 수지 [K2] 및 수지 [K3]으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종이다. 이들 수지이면 착색 경화성 수지 조성물은 현상성이 우수하다. 착색 패턴과 기판의 밀착성의 관점에서, 수지 [K2]가 더 바람직하다.

예를 들면 수지 [K1]은, 예를 들면 문헌 「고분자 합성의 실험법」(오츠 다카유키 저, 발행소 (주)가가쿠도진 제1판 제1쇄 1972년 3월 1일 발행)에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.

수지 (B)의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000∼100,000이고, 보다 바람직하게는 5,000∼50,000이고, 더 바람직하게는 5,000∼30,000이다. 분자량이 상기의 범위에 있으면, 도막 경도가 향상하고, 잔막률도 높고, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호해서, 착색 패턴의 해상도가 향상하는 경향이 있다.

수지 (B)의 분자량 분포 [중량 평균 분자량 (Mw) / 수평균 분자량 (Mn)]은, 바람직하게는 1.1∼6이고, 보다 바람직하게는 1.2∼4이다.

수지 (B)의 산가는, 바람직하게는 30∼170 ㎎-KOH/g이고, 보다 바람직하게는 40∼150 ㎎-KOH/g, 더 바람직하게는 50∼135 ㎎-KOH/g이다. 여기서, 산가는 수지 (B) 1 g을 중화하는 데에 필요한 수산화칼륨의 양(㎎)으로서 측정되는 값이고, 예를 들면 수산화칼륨 수용액을 이용하여 적정하는 것에 의하여 구할 수 있다.

수지 (B)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 바람직하게는 7∼65 질량%이고, 보다 바람직하게는 13∼60 질량%이고, 더 바람직하게는 17∼55 질량%이다. 여기서, 본 명세서에 있어서의 「고형분의 총량」이란, 착색 경화성 수지 조성물의 총량으로부터 용제의 함유량을 뺀 양을 말한다. 고형분의 총량 및 이에 대한 각 성분의 함유량은, 예를 들면 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지의 분석 수단에 의해 측정할 수 있다.

< 중합성 화합물 (C) >

중합성 화합물 (C)는, 중합개시제 (D)로부터 발생한 활성 라디칼 및/또는 산에 의해서 중합할 수 있는 화합물이고, 예를 들면 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메타)아크릴산 에스테르 화합물이다.

에틸렌성 불포화 결합을 1개 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등, 및, 상술의 (a), (b) 및 (c)를 들 수 있다.

에틸렌성 불포화 결합을 2개 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

그 중에서도, 중합성 화합물 (C)는, 에틸렌성 불포화 결합을 3개 이상 갖는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이와 같은 중합성 화합물로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 헵타(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨 데카(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨 노나(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 에틸렌글리콜 변성 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트가 바람직하다.

중합성 화합물 (C)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 150 이상 2,900 이하, 보다 바람직하게는 250∼1,500 이하이다.

중합성 화합물 (C)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 7∼65 질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 13∼60 질량%이고, 더 바람직하게는 17∼55 질량%이다.

또, 수지 (B)와 중합성 화합물 (C)의 함유량 비 [수지 (B) : 중합성 화합물 (C)]는 질량 기준으로, 바람직하게는 20:80∼80:20이고, 보다 바람직하게는 35:65∼80:20이다.

중합성 화합물 (C)의 함유량이 상기의 범위 내에 있으면, 착색 패턴 형성시의 잔막률 및 컬러 필터의 내약품성이 향상하는 경향이 있다.

< 중합개시제 (D) >

중합개시제 (D)는, 빛이나 열의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생하고, 중합을 개시할 수 있는 화합물이라면 특별히 한정되지 않고, 공지의 중합개시제를 이용할 수 있다. 활성 라디칼을 발생하는 중합개시제로서는, 예를 들면 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물을 들 수 있다.

상기 O-아실옥심 화합물로서는, 예를 들면 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-이민, N-벤조일옥시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) OXE01, OXE02(이상, BASF사 제), N-1919(ADEKA사 제) 등의 시판품을 이용해도 된다. 그 중에서도, O-아실옥심 화합물은, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민 및 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민이 보다 바람직하다. 이들 O-아실옥심 화합물이라면, 고명도의 컬러 필터가 얻어지는 경향에 있다.

상기 알킬페논 화합물로서는, 예를 들면 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로펜일페닐)프로판-1-온의 올리고머, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. 이르가큐어 369, 907, 379(이상, BASF사 제) 등의 시판품을 이용해도 된다.

상기 트리아진 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시 페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.

상기 아실포스핀옥사이드 화합물로서는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) 819(BASF사 제) 등의 시판품을 이용해도 된다.

상기 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예를 들면 일본 공개특허 특개평6-75372호 공보, 일본 공개특허 특개평6-75373호 공보 등 참조.), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예를 들면 일본 공고특허 특공소48-38403호 공보, 일본 공개특허 특개소62-174204호 공보 등 참조.), 4,4',5,5'-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물(예를 들면, 일본 공개특허 특개평7-10913호 공보 등 참조) 등을 들 수 있다.

추가로 중합개시제 (D)로서는 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물; 벤조페논, o-벤조일안식향산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물; 9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캄퍼퀴논 등의 퀴논 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 후술의 중합개시조제(D1)(특히, 아민류)와 조합하여 이용하는 것이 바람직하다.

산 발생제로서는, 예를 들면 4-히드록시페닐디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-히드록시페닐디메틸술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 p-톨루엔술포네이트, 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오드늄 p-톨루엔술포네이트, 디페닐요오드늄 헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.

중합개시제 (D)로서는, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 중합개시제가 바람직하고, O-아실옥심 화합물을 포함하는 중합개시제가 보다 바람직하다.

중합개시제 (D)의 함유량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1∼30 질량부이고, 보다 바람직하게는 1∼20 질량부이다. 중합개시제 (D)의 함유량이 상기의 범위 내에 있으면, 고감도화하여 노광 시간이 단축되는 경향이 있기 때문에 컬러 필터의 생산성이 향상한다.

< 중합개시조제 (D1) >

중합개시조제 (D1)은, 중합개시제에 의해서 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위하여 이용되는 화합물, 또는 증감제이다. 중합개시조제 (D1)을 포함하는 경우, 통상, 중합개시제 (D)와 조합하여 이용된다.

중합개시조제 (D1)로서는, 아민 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티옥산톤 화합물 및 카르본산 화합물 등을 들 수 있다.

상기 아민 화합물로서는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노안식향산 메틸, 4-디메틸아미노안식향산 에틸, 4-디메틸아미노안식향산 이소아밀, 안식향산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노안식향산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F(호도가야화학공업(주) 제) 등의 시판품을 이용해도 된다.

상기 알콕시안트라센 화합물로서는 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.

상기 티옥산톤 화합물로서는 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.

상기 카르본산 화합물로서는 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.

이들 중합개시조제 (D1)을 이용하는 경우, 그 함유량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1∼30 질량부, 보다 바람직하게는 1∼20 질량부이다. 중합개시조제 (D1)의 양이 이 범위 내에 있으면, 더 고감도로 착색 패턴을 형성할 수 있어, 컬러 필터의 생산성이 향상하는 경향에 있다.

< 실세스퀴옥산 화합물 (H) >

실세스퀴옥산 화합물 (H)는, 주쇄(主鎖) 골격이 Si-O 결합으로 이루어지는 식 (1)로 나타내어지는 화합물을 의미한다.

[(RSiO₃ _/2)_n] (1)

(식 중, R은 유기기를 나타내고, n은 자연수를 나타낸다.)

R은, 1가의 유기기를 나타내고, 1가의 유기기로서는, 치환되어 있어도 되는 1가의 탄화수소기를 들 수 있다.

탄화수소기로서는 지방족 탄화수소기 및 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 지방족 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기 및 도데실기 등의 탄소수 1∼20의 지방족 탄화수소기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1∼12의 알킬기이다.

방향족 탄화수소기로서는 페닐기, 나프틸기, 벤질기, 톨릴기, 스티릴기 등의 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.

1가의 탄화수소기가 가져도 되는 치환기로서는 (메타)아크릴로일기, 히드록시기, 술파닐기, 카르복시기, 이소시아네이트기, 아미노기, 우레이드기 등의 1가의 치환기를 들 수 있다. 또, 1가의 탄화수소기에 포함되는 -CH₂-는 -O-, -S-, 카르보닐기 등으로 치환되어 있어도 된다.

R로 나타내어지는 1가의 유기기는, 적어도 1개의 반응성 기를 포함하고 있는 것이 바람직하다. 반응성 기란, 화학 반응에 의해서 다른 부위와 반응할 수 있는 기를 의미한다.

반응성 기로서는 비닐기, 알릴기, (메타)아크릴로일기, 스티릴기, 옥시라닐기, 옥세타닐기, 카르복시기, 히드록시기, 티아시클로프로필기, 술파닐기, 이소시아네이트기, 아미노기 및 우레이도기를 들 수 있고, (메타)아크릴로일기, 술파닐기 및 옥시라닐기인 것이 바람직하다.

실세스퀴옥산 화합물 (H)는 바구니형, 사다리형 또는 랜덤형을 들 수 있고, 랜덤형인 것이 바람직하다.

바구니형의 실세스퀴옥산 화합물은, 완전한 바구니형이어도 되고, 바구니의 일부가 개방되어 있는 것과 같은 불완전한 바구니형의 실세스퀴옥산 화합물이어도 된다.

실세스퀴옥산 화합물 (H)로서는, 일본 공개특허 특개2011-128239호 공보에 기재된 실세스퀴옥산, AC-SQ TA-100, MAC-SQ TM-100, AC-SQ SI-20, MAC-SQ SI-20, MAC-SQ HDM, OX-SQ TX-100, OX-SQ SI-20, OX-SQ ME-20, OX-SQ HDX(도아(東亞)합성(주) 제), 콘포라센(등록상표) SQ107, 콘포라센(등록상표) SQ109, 콘포라센(등록상표) SQ506, 콘포라센(등록상표) SQ502-6(아라카와화학공업(주) 제) 등을 들 수 있다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 실세스퀴옥산 화합물 (H)를 2종 이상 포함하고 있어도 된다.

실세스퀴옥산 화합물 (H)는 알칼리 수용액에 불용인 것이 바람직하다.

실세스퀴옥산 화합물 (H)의 함유량은, 청색 염료 100 질량부에 대하여, 통상 5∼3000 질량부이고, 바람직하게는 15∼3000 질량부이고, 보다 바람직하게는 25∼3000 질량부이고, 더 바람직하게는 35∼2500 질량부이고, 특히 바람직하게는 60∼2000 질량부이다. 청색 염료에 대한 실세스퀴옥산의 함유량이 높아질수록, 내약품성의 개선 효과가 현저해진다.

< 티올 화합물 (T) >

티올 화합물 (T)는, 분자 내에 술파닐기를 갖는 화합물이다.

티올 화합물 (T)의 구체예로서는, 예를 들면 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올 비스티오프로피오네이트, 부탄디올 비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜 비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판 트리스티오글리콜레이트, 부탄디올 비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판 트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판 트리스티오글리콜레이트, 펜타에리스리톨 테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨 테트라키스티오글리콜레이트, 트리스히드록시에틸 트리스티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-메르캅토부틸레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 디펜타에리스리톨 헥사키스티오프로피오네이트, 디펜타에리스리톨 헥사키스(3-메르캅토부틸레이트), 1,3,5-트리스메르캅토프로피오네이트-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등을 들 수 있다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 있어서의 티올 화합물 (T)의 함유량은, 중합개시제 (D) 전량에 대하여 질량 분률로, 바람직하게는 2∼70 질량%, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이다. 티올 화합물 (T)의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 감도가 높아지고, 또한 현상성이 양호해지는 경향이 있어, 바람직하다.

< 용제 (E) >

용제 (E)는, 에스테르 용제(분자 내에 -COO-를 포함하고, -O-를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제(분자 내에 -O-를 포함하고, -COO-를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제(분자 내에 -COO-와 -O-를 포함하는 용제), 케톤 용제(분자 내에 -CO-를 포함하고, -COO-를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제(분자 내에 OH를 포함하고, -O-, -CO- 및 -COO-를 포함하지 않는 용제), 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제, 디메틸술폭시드 등을 들 수 있다.

에스테르 용제로서는 락트산 메틸, 락트산 에틸, 락트산 부틸, 2-히드록시이소부탄산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 펜틸, 아세트산 이소펜틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 피루빈산 메틸, 피루빈산 에틸, 피루빈산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 시클로헥산올아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.

에테르 용제로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다.

에테르에스테르 용제로서는 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 부틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.

케톤 용제로서는 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온, 아세톤, 2-부탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 이소포론 등을 들 수 있다.

알코올 용제로서는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다.

방향족 탄화수소 용제로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다.

아미드 용제로서는 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.

용제 (E)는 에스테르 용제, 에테르 용제, 에테르에스테르 용제 또는 케톤 용제인 것이 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산 에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올 또는 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온이 보다 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산 에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올, 3-에톡시프로피온산 에틸 또는 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온이 더 바람직하다.

용제 (E)는 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 용매를 2종 이상 병용하는 경우, 에테르에스테르 용제 및 케톤 용제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 함유하는 것이 바람직하고, 에테르에스테르 용제 및 케톤 용제의 양방(兩方)을 함유하는 것이 보다 바람직하다.

용제 (E)의 함유량은, 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 70∼95 질량%이고, 보다 바람직하게는 75∼92 질량%이다. 환언하면, 착색 경화성 수지 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5∼30 질량%, 보다 바람직하게는 8∼25 질량%이다. 용제 (E)의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 도포시의 평탄성이 양호해지고, 또한 컬러 필터를 형성하였을 때에 색 농도가 부족하지 않기 때문에 표시 특성이 양호하게 되는 경향이 있다.

< 레벨링제 (F) >

레벨링제 (F)로서는, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 측쇄에 중합성 기를 갖고 있어도 된다.

실리콘계 계면활성제로서는, 분자 내에 실록산 결합을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는 도레이실리콘 DC3PA, 동(同) SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 동 SH8400(상품명 : 도레이다우코닝(주) 제), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에츠화학공업(주) 제), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452 및 TSF4460(모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 재팬 합동회사 제) 등을 들 수 있다.

상기의 불소계 계면활성제로서는, 분자 내에 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는 플로라드(Fluorad)(등록상표) FC430, 동 FC431(스미토모 쓰리엠(주) 제), 메가팍(등록상표) F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 F554, 동 R30, 동 RS-718-K(DIC(주) 제), 에프톱(FTOP)(등록상표) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(미츠비시 머티리얼 전자 가세이(주) 제), 서프론(Surflon)(등록상표) S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105(아사히글래스(주) 제) 및 E5844((주) 다이킨 파인 케미컬 연구소 제) 등을 들 수 있다.

상기의 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로서는, 분자 내에 실록산 결합 및 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는 메가팍(등록상표) R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477 및 동 F443(DIC(주) 제) 등을 들 수 있다.

레벨링제 (F)의 함유량은, 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하이고, 바람직하게는 0.002 질량% 이상 0.1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 0.05 질량% 이하이다. 또한, 이 함유량에, 상기 안료분산제의 함유량은 포함되지 않는다. 레벨링제 (F)의 함유량이 상기의 범위 내에 있으면, 컬러 필터의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.

< 산화방지제 (G) >

산화방지제 (G)는, 페놀계 산화방지제, 아민계 산화방지제, 인계 산화방지제 및 유황계 산화방지제를 들 수 있고, 페놀계 산화방지제 및 인계 산화방지제가 바람직하다.

페놀계 산화방지제란, 분자 내에 페놀성 히드록시기를 갖는 산화방지제이고, 바람직하게는 그 페놀성 히드록시기의 -OH기의 오르토 위치에 분기한 알킬기를 갖는 것이다. 본 명세서에서는, 페놀성 히드록시기와 인산 에스테르 구조 또는 아인산 에스테르 구조를 함께 갖는 산화방지제는, 인계 산화방지제로서 분류한다.

페놀계 산화방지제로서는, 예를 들면 1,1,3-트리스(2-메틸-4-히드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트, (테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 펜타에리스리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 3,3',3",5,5',5"-헥사-t-부틸-a,a',a"-(메시틸렌-2,4,6-트리일)트리-p-크레졸, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스((4-t-부틸-3-히드록시-2,6-크실릴)메틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 벤젠프로판산, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시, C7-C9 측쇄 알킬에스테르, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, Irganox(등록상표) 3125(BASF사 제), 2,4-비스(n-옥틸티오)-6-(4-히드록시3',5'-디-t-부틸아닐리노)-1,3,5-트리아진, 3,9-비스(2-(3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시)-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로(5,5)운데칸, 스미라이저(등록상표) BHT(스미토모화학(주) 제), 스미라이저(등록상표) GA-80(스미토모화학(주) 제), 스미라이저(등록상표) GS(스미토모화학(주) 제), 시아녹스(등록상표) 1790((주)사이텍 제) 및 비타민 E(에이자이(주) 제) 등을 들 수 있다.

아민계 산화방지제란, 분자 내에 아미노기를 갖는 산화방지제이다.

아민계 산화방지제로서는 예를 들면, 1-나프틸아민, 페닐-1-나프틸아민, p-옥틸페닐-1-나프틸아민, p-노닐페닐-1-나프틸아민, p-도데실페닐-1-나프틸아민, 페닐-2-나프틸아민 등의 나프틸아민계 산화방지제; N,N'-디이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디이소부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-디-β-나프틸-p-페닐렌디아민, N-페닐-N'-이소프로필-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-1,3-디메틸부틸-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 디옥틸-p-페닐렌디아민, 페닐헥실-p-페닐렌디아민, 페닐옥틸-p-페닐렌디아민 등의 페닐렌디아민계 산화방지제; 디피리딜아민, 디페닐아민, p,p'-디-n-부틸디페닐아민, p,p'-디-t-부틸디페닐아민, p,p'-디-t-펜틸디페닐아민, p,p'-디옥틸디페닐아민, p,p'-디노닐디페닐아민, p,p'-디데실디페닐아민, p,p'-디도데실디페닐아민, p,p'-디스티릴디페닐아민, p,p'-디메톡시디페닐아민, 4,4'-비스(4-α,α-디메틸벤조일)디페닐아민, p-이소프로폭시디페닐아민, 디피리딜아민 등의 디페닐아민계 산화방지제; 페노티아진, N-메틸페노티아진, N-에틸페노티아진, 3,7-디옥틸페노티아진, 페노티아진카르본산 에스테르, 페노셀레나진 등의 페노티아진계 산화방지제를 들 수 있다.

인계 산화방지제란, 인산 에스테르 구조 또는 아인산 에스테르 구조를 갖는 산화방지제이다.

인계 산화방지제로서는, 예를 들면 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 디페닐이소옥틸포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)옥틸포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 트리페닐포스페이트, 트리부틸포스페이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 사이클릭 네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(모노-&디노닐페닐 믹스드)포스파이트, 디페닐모노(트리데실)포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀)플루오로포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리스(2-에틸헥실)포스파이트, 트리스(이소데실)포스파이트, 트리스(트리데실)포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌-디-포스포나이트, 4,4'-이소프로필리덴디페닐테트라알킬(C12-C15)디포스파이트, 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페닐)-디트리데실포스파이트, 비스(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리스리톨-디-포스파이트, 사이클릭 네오펜탄테트라일비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐-포스파이트), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-디트리데실포스파이트-5-t-부틸페닐)부탄, 테트라키스(2,4-디-t-부틸-5-메틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 트리-2-에틸헥실포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 트리스테아릴포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리라우릴트리티오포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 트리스(노닐라티드페닐)포스파이트트리스[2-[[2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스핀-6-일]옥시]에틸]아민, 비스(2,4-비스(1,1-디메틸에틸)-6-메틸페닐)에틸에스테르 아인산, 아데카스타브(등록상표) 329K((주)ADEKA 제), 아데카스타브(등록상표) PEP36((주)ADEKA 제), 아데카스타브(등록상표) PEP-8((주)ADEKA 제), Sandstab(등록상표) P-EPQ(클라리언트사 제), 웨스톤(등록상표) 618(GE사 제), 웨스톤(등록상표) 619G(GE사 제), 울트라녹스(등록상표) 626(GE사 제), 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀 등을 들 수 있다.

유황계 산화방지제란, 분자 내에 유황 원자를 갖는 산화방지제이다.

유황계 산화방지제로서는, 예를 들면 티오디프로피온산 디라우릴, 디미리스틸 또는 디스테아릴 등의 디알킬티오디프로피오네이트 화합물 및 테트라키스[메틸렌(3-도데실티오)프로피오네이트]메탄 등의 폴리올의 β-알킬메르캅토프로피온산 에스테르 화합물 등을 들 수 있다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 산화방지제를 2종 이상 함유해도 된다.

본 발명에 있어서의 산화 방지제 (G)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 통상 0.1∼10 질량%, 바람직하게는 0.5∼8 질량%, 보다 바람직하게는 1∼6 질량%이다. 상기 범위 내이면, 착색 경화성 수지 조성물 중에 양호하게 분산하여, 불필요 성분의 석출이 적어, 얻어지는 컬러 필터의 색 특성에 영향을 주기 어렵다는 점에서 바람직하다.

< 기타의 성분 >

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 필요에 따라서 충전제, 기타 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 광 안정제, 연쇄 이동제 등, 당해 기술 분야에서 공지의 첨가제를 포함해도 된다.

< 착색 경화성 수지 조성물의 제조 방법 >

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 예를 들면 청색 염료 (A), 수지 (B), 중합성 화합물 (C), 중합개시제 (D), 실세스퀴옥산 화합물 (H), 및 필요에 따라서 이용되는 용제 (E), 레벨링제 (F), 산화방지제(G), 중합개시조제 (D1), 티올 화합물 (T), 안료 및 기타 성분을 혼합함으로써 조제할 수 있다.

안료를 포함하는 경우, 안료는 미리 용제 (E)의 일부 또는 전부와 혼합하여, 안료의 평균 입자경이 0.2 ㎛ 이하 정도가 될 때까지, 비즈 밀 등을 이용하여 분산시키는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라서 상기 안료분산제, 수지 (B)의 일부 또는 전부를 배합해도 된다. 이와 같이 하여 얻어진 안료 분산액에, 나머지 성분을, 소정의 농도가 되도록 혼합함으로써, 목적으로 하는 착색 경화성 수지 조성물을 조제할 수 있다.

염료는, 용제 (E)의 일부 또는 전부에 각각 용해시켜서 미리 용액을 조제해도 되고, 용제 (E)의 일부 또는 전부에 분산시켜서 미리 염료 분산액을 조제해도 된다. 염료 분산액을 조제할 때, 본 분야에서 사용되고 있는 분산제를 이용해도 된다. 당해 용액을, 구멍 지름 0.01∼1 ㎛ 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.

혼합 후의 착색 경화성 수지 조성물을, 구멍 지름 0.01∼10 ㎛ 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.

< 컬러 필터의 제조 방법 >

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로 착색 패턴을 제조하는 방법으로서는, 포토리소그래프법, 잉크젯법, 인쇄법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 포토리소그래프법이 바람직하다. 포토리소그래프법은, 상기 착색 경화성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 건조시켜서 착색 조성물층을 형성하고, 포토마스크를 개재하여 당해 착색 조성물층을 노광하고, 현상하는 방법이다. 포토리소그래프법에 있어서, 노광 시에 포토마스크를 이용하지 않는 것, 및/또는 현상하지 않는 것에 의해, 상기 착색 조성물층의 경화물인 착색 도막을 형성할 수 있다. 이와 같이 형성한 착색 패턴이나 착색 도막이 본 발명의 컬러 필터이다.

제조하는 컬러 필터의 막두께는, 특별히 한정되지 않고, 목적이나 용도 등에 따라서 적당히 조정할 수 있고, 예를 들면 0.1∼30 ㎛, 바람직하게는 0.1∼20 ㎛, 더 바람직하게는 0.5∼6 ㎛이다.

기판으로서는 석영 유리, 붕규산 유리, 알루미나규산염 유리, 표면을 실리카 코팅한 소다라임 유리 등의 유리판이나, 폴리카보네이트, 폴리메타크릴산메틸, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 수지판, 실리콘, 상기 기판 상에 알루미늄, 은, 은/구리/팔라듐 합금 박막 등을 형성한 것이 이용된다. 이들 기판 상에는, 별도의 컬러 필터층, 수지층, 트랜지스터, 회로 등이 형성되어 있어도 된다.

포토리소그래프법에 의한 각 색 화소의 형성은, 공지 또는 관용의 장치나 조건으로 행할 수 있다. 예를 들면, 하기와 같이 하여 제조할 수 있다.

먼저, 착색 경화성 수지 조성물을 기판 상에 도포하고, 가열 건조(프리베이크) 및/또는 감압 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 건조시켜, 평활한 착색 조성물층을 얻는다.

도포 방법으로서는 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 슬릿 앤드 스핀 코팅법 등을 들 수 있다.

가열 건조를 행하는 경우의 온도는 30∼120℃가 바람직하고, 50∼110℃가 보다 바람직하다. 또, 가열 시간으로서는 10초간∼60분간인 것이 바람직하고, 30초간∼30분간인 것이 보다 바람직하다.

감압 건조를 행하는 경우에는, 50∼150 Pa의 압력 하, 20∼25℃의 온도 범위에서 행하는 것이 바람직하다.

착색 조성물층의 막두께는, 특별히 한정되지 않고, 목적으로 하는 컬러 필터의 막두께에 따라서 적당히 선택하면 된다.

다음으로, 착색 조성물층은, 목적으로 하는 착색 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 개재하여 노광된다. 당해 포토마스크 상의 패턴은 특별히 한정되지 않고, 목적으로 하는 용도에 따른 패턴이 이용된다.

노광에 이용되는 광원으로서는, 250∼450 ㎚의 파장의 빛을 발생하는 광원이 바람직하다. 예를 들면 350 ㎚ 미만의 빛을, 이 파장 영역을 커트하는 필터를 이용하여 커트하거나, 436 ㎚ 부근, 408 ㎚ 부근, 365 ㎚ 부근의 빛을, 이들 파장 영역을 취출하는 밴드패스 필터를 이용하여 선택적으로 취출하거나 해도 된다. 구체적으로는 수은등, 발광 다이오드, 메탈 할라이드 램프, 할로겐 램프 등을 들 수 있다.

노광면 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하거나, 포토마스크와 착색 조성물층이 형성된 기판과의 정확한 위치 맞춤을 행할 수 있기 때문에, 마스크 얼라이너 및 스테퍼 등의 노광 장치를 사용하는 것이 바람직하다.

노광 후의 착색 조성물층을 현상액에 접촉시켜서 현상함으로써, 기판 상에 착색 패턴이 형성된다. 현상에 의해, 착색 조성물층의 미노광부가 현상액에 용해되어 제거된다. 현상액으로서는, 예를 들면 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 바람직하다. 이들 알칼리성 화합물의 수용액 중의 농도는, 바람직하게는 0.01∼10 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.03∼5 질량%이다. 또한, 현상액은, 계면활성제를 포함하고 있어도 된다.

현상 방법은 패들법, 디핑법 및 스프레이법 등의 어느 것이어도 된다. 또한, 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다.

현상 후에는 수세(水洗)하는 것이 바람직하다.

또한, 얻어진 착색 패턴에, 포스트베이크를 행하는 것이 바람직하다. 포스트베이크 온도는 150∼250℃가 바람직하고, 160∼235℃가 보다 바람직하다. 포스트베이크 시간은 1∼120분간이 바람직하고, 10∼60분간이 보다 바람직하다.

본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 의하면, 특히 명도가 우수한 컬러 필터를 제조할 수 있다. 당해 컬러 필터는, 표시 장치(예를 들면 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 전자 페이퍼 등) 및 고체 촬상 소자에 이용되는 컬러 필터로서 유용하다. 그 중에서도, 액정 표시 장치용 컬러 필터로서 유용하다.

[실시예]

이하에서, 실시예에 의해서 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 대하여, 보다 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특기하지 않는 한, 질량% 및 질량부이다.

이하의 합성예에 있어서, 화합물은, 질량 분석(LC; Agilent제 1200형(型), MASS; Agilent제 LC/MSD형) 또는 원소 분석(엘리멘타르(주) 제 VARIO-EL)에 의해 동정(同定)하였다.

[합성례 1]

이하의 반응은, 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산 칼륨 36.3부 및 아세톤 160부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반하였다. 이어서, 안식향산 클로라이드(도쿄가세이(주) 제) 50부를 10분 걸려 적하하고, 실온 하에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭(氷冷)한 후, N-에틸-o-톨루이딘(도쿄가세이(주) 제) 45.7부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 30% 수산화나트륨 수용액 34.2부를 적하하고, 추가로 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물에, 실온 하에서 클로로아세트산 35.3부를 적하하고, 가열 환류 하에서 7시간 교반하고, 실온까지 방랭(放冷)하였다. 얻어진 반응 용액을 물 120부 중에 첨가하고, 추가로 톨루엔 200부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 용액을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 1규정 염산 200부로 세정하고, 이어서 물로 세정하고, 마지막으로 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초(芒硝)를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (B-I-1)로 나타내어지는 화합물을 52.0부 얻었다. 수율 50%

이하의 반응은, 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-I-1)로 나타내어지는 화합물 9.3부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(도쿄가세이(주) 제) 10부 및 톨루엔 20부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 얻어진 희석 후의 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 청자색(靑紫色) 고체를 얻었다. 얻어진 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-1)로 나타내어지는 화합물을 19.8부 얻었다. 수율 100%

식 (A-Ⅱ-1)로 나타내어지는 화합물의 동정

(질량 분석) 이온화 모드 = ESI + : m/z = 601.3[M-Cl]⁺

Exact Mass : 636.3

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-1)로 나타내어지는 화합물 10부, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(도쿄가세이(주) 제) 4.5부, 및 N,N-디메틸포름아미드 100부를 투입한 후, 50∼60℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온으로 냉각한 후, 물 2000부에 1시간 교반하면서 적하함으로써, 암청색 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과하여, 청록색 고체를 얻었다. 얻어진 청록색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-1)로 나타내어지는 화합물을 11.3부 얻었다. 수율 82%

식 (A-Ⅰ-1)로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028 g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은, λmax = 628 ㎚에서 흡광도 2.9(임의 단위)를 나타내었다.

[합성례 2]

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산 칼륨 32.2부 및 아세톤 160부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 2-플루오로안식향산 클로라이드(도쿄가세이(주) 제) 50부를 10분 걸려 적하하고, 실온 하에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭하였다. 얻어진 반응 혼합물에 N-에틸-o-톨루이딘(도쿄가세이(주) 제) 40.5부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭하고, 30% 수산화나트륨 수용액 34.2부를 적하하고, 추가로 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 실온 하에서 클로로아세트산 31.3부를 적하하고, 7시간 가열 환류 교반하였다. 이어서, 반응 혼합물을 실온까지 방랭한 후, 반응 용액을 물 120부 중에 부은 후, 톨루엔 200부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 1규정 염산으로 세정하고, 이어서 물로 세정하고, 마지막으로 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (B-I-2)로 나타내어지는 화합물을 49.9부 얻었다. 수율 51%

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-I-2)로 나타내어지는 화합물 9.9부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(도쿄가세이(주) 제) 10부 및 톨루엔 20부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 얻어진 희석 후의 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 이배퍼레이터로 용매 증류 제거하여, 청자색 고체를 얻었다. 얻어진 청자색 고체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-2)로 나타내어지는 화합물을 17.2부 얻었다. 수율 85%

식 (A-Ⅱ-2)로 나타내어지는 화합물의 동정

(질량 분석) 이온화 모드 = ESI + : m/z = 619.3[M-Cl]⁺

Exact Mass : 654.3

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-2)로 나타내어지는 화합물 10부, 비스(트리플루오로메탄 술포닐)이미드리튬(도쿄가세이(주) 제) 5.7부, 및 N,N-디메틸포름아미드 30부를 투입한 후, 40℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 물 500부에 1시간 교반하면서 적하함으로써, 암청색 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과하여, 청록색 고체를 얻었다. 얻어진 청록색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-2)로 나타내어지는 화합물을 11.9부 얻었다. 수율 86%

식 (A-Ⅰ-2)로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은, λmax = 630 ㎚에서 흡광도 3.1(임의 단위)을 나타내었다.

[합성례 3]

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산 칼륨 23.3부 및 아세톤 160부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 2-브로모안식향산 클로라이드(도쿄가세이(주) 제) 50부를 10분 걸려 적하하고, 추가로 실온 하에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 얻어진 혼합물에 N-에틸-o-톨루이딘(도쿄가세이(주) 제) 29.3부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 30% 수산화나트륨 수용액 34.2부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 실온 하에서, 클로로아세트산 22.6부를 적하하고, 7시간 가열 환류 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 방랭한 후, 반응 용액을 물 120부 중에 부은 후, 톨루엔 200부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 1규정 염산으로 세정하고, 물로 세정하고, 마지막으로 포화 식염수로 세정하였다. 얻어진 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (B-I-3)으로 나타내어지는 화합물을 41.6부 얻었다. 수율 45%

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-I-3)으로 나타내어지는 화합물 12.9부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(도쿄가세이(주) 제) 10부 및 톨루엔 20부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 얻어진 희석 후의 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 세정하였다. 얻어진 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 청자색 고체를 얻었다. 얻어진 청자색 고체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-3)으로 나타내어지는 화합물을 17.6부 얻었다. 수율 80%

식 (A-Ⅱ-3)으로 나타내어지는 화합물의 동정

(질량 분석) 이온화 모드 = ESI + : m/z = 679.3[M-Cl]⁺

Exact Mass : 714.2

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-3)으로 나타내어지는 화합물 10부, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(도쿄가세이(주) 제) 5.2부, 및 N,N-디메틸포름아미드 30부를 투입한 후, 40℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온으로 냉각한 후, 물 500부에 1시간 교반하면서 적하함으로써, 암청색 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과함으로써, 청록색 고체를 얻었다. 얻어진 청록색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-3)으로 나타내어지는 화합물을 12.9부 얻었다. 수율 96%

식 (A-Ⅰ-3)으로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028 g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은 λmax = 632 ㎚에서 흡광도 2.6(임의 단위)을 나타내었다.

[합성례 4]

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산 칼륨 33부 및 아세톤 160부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 2-메틸안식향산 클로라이드(도쿄가세이(주) 제) 50.0부를 10분 걸려 적하하고, 실온 하에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 얻어진 혼합물에 N-에틸-o-톨루이딘(도쿄가세이(주) 제) 41.6부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 30% 수산화 나트륨 수용액 34.2부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 실온 하에서 클로로아세트산 32.1부를 적하하고, 7시간 가열 환류 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 방랭하고, 얻어진 용액을 물 120부 중에 부은 후, 톨루엔 200부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 1규정 염산으로 세정하고, 물로 세정하고, 마지막으로 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (B-I-4)로 나타내어지는 화합물을 40.5부 얻었다. 수율 41%

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-I-4)로 나타내어지는 화합물 9.7부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(도쿄가세이(주)사 제) 10부 및 톨루엔 20부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 얻어진 희석 후의 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 청자색 고체를 얻었다. 얻어진 청자색 고체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-4)로 나타내어지는 화합물을 15.1부 얻었다. 수율 75%

식 (A-Ⅱ-4)로 나타내어지는 화합물의 동정

(질량 분석) 이온화 모드 = ESI + : m/z = 615.4[M-Cl]⁺

Exact Mass : 650.3

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-4)로 나타내어지는 화합물 10부, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(도쿄가세이(주) 제) 5.7부, 및 N,N-디메틸포름아미드 30부를 투입한 후, 40℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 물 500부에 1시간 교반하면서 적하함으로써, 암청색 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과하여, 청록색 고체를 얻었다. 얻어진 청록색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-4)로 나타내어지는 화합물을 13.2부 얻었다. 수율 96%

식 (A-Ⅰ-4)로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028 g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은 λmax = 627 ㎚에서 흡광도 2.7(임의 단위)을 나타내었다.

[합성례 5]

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산 칼륨 24.5부 및 아세톤 160부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 2-트리플루오로메틸안식향산 클로라이드(도쿄가세이(주) 제) 50부를 10분 걸려 적하하고, 실온 하에서 2시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭한 후, 얻어진 혼합물에 N-에틸-o-톨루이딘(도쿄가세이(주) 제) 30.8부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 빙랭하였다. 얻어진 혼합물에 30% 수산화나트륨 수용액 34.2부를 적하하고, 실온 하에서 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 실온 하에서, 클로로아세트산 23.8부를 적하하고, 7시간 가열 환류 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 방랭하고, 물 120부 중에 부은 후, 톨루엔 200부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 1규정 염산으로 세정하고, 물로 세정하고, 마지막으로 포화 식염수로 세정하였다. 얻어진 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (B-I-5)로 나타내어지는 화합물을 31.1부 얻었다. 수율 36%

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-I-5)로 나타내어지는 화합물 11.4부, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논(도쿄가세이(주)사 제) 10부 및 톨루엔 20.0부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 얻어진 희석 후의 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 분액 조작에 의해 유기층과 수층으로 분리하고, 얻어진 유기층을 포화 식염수로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 용매 증류 제거하여, 청자색 고체를 얻었다. 얻어진 청자색 고체를 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-5)로 나타내어지는 화합물을 15.2부 얻었다. 수율 70%

식 (A-Ⅱ-5)로 나타내어지는 화합물의 동정

(질량 분석) 이온화 모드 = ESI + : m/z = 669.3[M-Cl]⁺

Exact Mass : 704.3

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-5)로 나타내어지는 화합물 10부, 비스(트리플루오로메탄 술포닐)이미드리튬(도쿄가세이(주)사 제) 4.1부, 및 N,N-디메틸포름아미드 30.0부를 투입한 후, 40℃에서 3시간 교반하였다. 얻어진 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 물 500부에 1시간 교반하면서 적하함으로써, 암청색 현탁액을 얻었다. 얻어진 현탁액을 여과함으로써, 청록색 고체를 얻었다. 얻어진 청록색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-5)로 나타내어지는 화합물을 11.4부 얻었다. 수율 85%

식 (A-Ⅰ-5)로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028 g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은 λmax = 631 ㎚에서 흡광도 1.9(임의 단위)를 나타내었다.

[합성례 6]

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에 N-메틸아닐린(도쿄가세이공업(주) 제) 15.3부 및 N,N-디메틸포름아미드 60부를 투입한 후, 혼합 용액을 빙랭하였다. 빙랭 하에 60% 수소화나트륨(도쿄가세이공업(주) 제) 5.7부를 30분 걸려 조금씩 첨가한 후, 실온으로 승온하면서 1시간 교반하였다. 4,4'-디플루오로벤조페논(도쿄가세이공업(주) 제) 10.4부를 조금씩 반응액에 첨가하여 실온에서 24시간 교반하였다. 반응액을 얼음물 200부에 조금씩 첨가한 후, 실온에서 15시간 정치하고, 물을 디캔테이션에 의해 제거하면 잔사로서 점조(粘調) 고체가 얻어졌다. 이 점조 고체에 메탄올 60부를 첨가한 후, 실온에서 15시간 교반하였다. 석출한 고체를 여과 분리한 후, 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 정제한 담황색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (C-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물 9.8부를 얻었다.

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (B-Ⅰ-2)로 나타내어지는 화합물 8.2부, 식 (C-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물 10부 및 톨루엔 20부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 12.2부를 첨가하여 95∼100℃에서 3시간 교반하였다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 냉각한 후, 이소프로판올 170부로 희석하였다. 이어서, 희석한 반응 용액을 포화 식염수 300부 중에 부은 후, 톨루엔 100부를 첨가하여 30분 교반하였다. 이어서, 교반을 정지하고, 30분 정치한 바, 유기층과 수층으로 분리되었다. 수층을 분액 조작에 의해 폐기한 후, 유기층을 포화 식염수 300부로 세정하였다. 유기층에 적당량의 망초를 첨가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 이배퍼레이터에 의해 용매 증류 제거하여, 청자색 고체를 얻었다. 추가로, 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅱ-18)로 나타내어지는 화합물을 18.4부 얻었다.

이하의 반응은 질소 분위기 하에서 행하였다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식 (A-Ⅱ-18)로 나타내어지는 화합물 8부, 메탄올 396부를 투입한 후, 실온에서 30분 교반하여 청색 용액을 조제하였다. 이어서, 청색 용액에 물 396부를 투입한 후에, 추가로 실온에서 30분 교반하여 반응 용액을 얻었다.

비이커 중에 물 53부에 투입하고, 또한 케긴형 인텅스텐산(Aldrich사 제) 11.8부 및 메탄올 53부를 당해 물 중에 투입하고, 공기 분위기 하, 실온에서 혼합하여 인텅스텐산 용액을 조제하였다.

얻어진 인텅스텐산 용액을, 먼저 조제한 반응 용액 중에 1시간 걸려 적하하였다. 추가로 실온에서 30분 교반한 후, 여과하여 청색 고체를 얻었다. 얻어진 청색 고체를 메탄올 200부 중에 투입하여 1시간 분산시킨 후, 여과하는 조작을 2회 반복하였다. 당해 조작에 의해 얻어진 청색 고체를 물 200부 중에 투입하여 1시간 분산시킨 후, 여과하는 조작을 2회 반복하였다. 당해 조작에 의해 얻어진 청색 고체를 감압 하 60℃에서 건조하여, 식 (A-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물을 17.1부 얻었다.

식 (A-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물 0.35 g을 클로로포름에 용해하여 체적을 250 ㎤로 하고, 그 중 2 ㎤를 클로로포름으로 희석하여 체적을 100 ㎤로 하여(농도 : 0.028 g/L), 분광 광도계(석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝)를 이용하여 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 이 화합물은 λmax = 626 ㎚에서 흡광도 1.1(임의 단위)을 나타내었다.

[합성례 7]

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및, 적하 깔때기를 구비한 플라스크 내에 질소를 0.02 L/분으로 흐르게 하여 질소 분위기로 하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 305부를 넣고, 교반하면서 70℃까지 가열하였다. 이어서, 아크릴산 60부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.0^2.6]데실아크릴레이트(식 (I-1)로 나타내어지는 화합물 및 식 (Ⅱ-1)로 나타내어지는 화합물을, 몰비로, 50:50으로 혼합.) 440부를, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 140부에 용해하여 용액을 조제하고, 당해 용해액을, 적하 깔때기를 이용하여 4시간 걸려, 70℃로 보온한 플라스크 내에 적하하였다.

한편, 중합개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 225부에 용해한 용액을, 별도의 적하 깔때기를 이용하여 4시간 걸려 플라스크 내에 적하하였다. 중합개시제의 용액의 적하가 종료된 후, 4시간, 70℃로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각하여, 중량 평균 분자량 (Mw)는 9.1×10³, 분자량 분포가 2.16, 고형분 34.8%, 고형분 환산의 산가는 81 ㎎-KOH/g인 수지 B1 용액을 얻었다. 수지 B1은 하기에 나타낸 구조 단위를 갖는다.

[합성례 8]

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 적당량 흐르게 하여 질소 분위기로 치환하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 371 중량부를 넣고, 교반하면서 85℃까지 가열하였다. 이어서, 아크릴산 54 중량부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.0^2,6]데칸-8 또는/및 9-일아크릴레이트의 혼합물 225 중량부, 비닐톨루엔(이성체 혼합물) 81 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80 중량부의 혼합 용액을 4시간 걸려 적하하였다.

한편, 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30 중량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 160 중량부에 용해한 혼합 용액을 5시간 걸려 적하하였다. 적하 종료 후, 4시간 동 온도에서 유지한 후, 실온까지 냉각하여, B형 점도(23℃) 246 mPas, 고형분 37.5중량%, 용액 산가 43 ㎎-KOH/g인 공중합체(수지 B2)를 얻었다. 수지 B2의 중량 평균 분자량 Mw는 1.1×10⁴, 분자량 분포 2.01이었다. 수지 B2는, 이하의 구조 단위를 갖는다.

합성례 7 및 8에서 얻어진 수지의 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수평균 분자량 (Mn)의 측정은, GPC법을 이용하여, 이하의 조건으로 행하였다.

장치; K2479((주)시마즈제작소 제)

컬럼; SHIMADZU Shim-pack GPC-80M

컬럼 온도; 40℃

용매; THF(테트라히드로푸란)

유속; 1.0 mL/min

검출기; RI 교정용 표준 물질; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500(도소(주) 제)

상기에서 얻어진 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 비 (Mw/Mn)을 분자량 분포라고 하였다.

조제예 1

< 분산액 (1)의 조제 >

식 (A-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물 10부, 분산제(BYK(등록상표)-LPN6919(빅(BYK)케미 재팬사 제)) 2부, 수지 B2(고형분 환산) 4부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 84부를 혼합하고, 비즈 밀을 이용하여 식 (A-Ⅰ-18)로 나타내어지는 화합물을 충분히 분산시킴으로써, 분산액 (1)을 얻었다.

실시예 1∼12 및 비교예 1

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 3 및 표 4의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표3 및 표 4 중, 수지의 부수(部數)는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 3 및 표 4 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A) :

A1; 식 (A-Ⅰ-1)로 나타내어지는 화합물

A2; 식 (A-Ⅰ-2)로 나타내어지는 화합물

A3; 식 (A-Ⅰ-3)으로 나타내어지는 화합물

A4; 식 (A-Ⅰ-4)로 나타내어지는 화합물

A5; 식 (A-Ⅰ-5)로 나타내어지는 화합물

수지 (B) : 수지 B1

중합성 화합물 (C) : 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼가야쿠(주) 제)

중합개시제 (D) : N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(이르가큐어 (등록상표) OXE-01; BASF사 제; O-아실옥심 화합물)

티올 화합물 (T) : 펜타에리스리톨 테트라키스티오프로피오네이트(PEMP; SC유기화학(주) 제)

산화방지제 (G) : 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀(스미라이저(등록상표) GP; 스미토모화학(주) 제)

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H1; 콘포세란(등록상표) SQ109; 아라카와화학공업(주) 제

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H2; AC-SQ TA-100; 도아합성(주) 제

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

레벨링제 (F) : 폴리에테르 변성 실리콘 오일(도레이실리콘 SH8400; 도레이다우코닝(주) 제)

< 착색 패턴의 제조 >

5 ㎝ 모서리(角)의 유리 기판(이글 XG; 코닝사 제) 상에, 착색 경화성 수지 조성물을 스핀 코팅법에 의해 도포한 후, 100℃에서 3분간 프리베이크하여 착색 조성물층을 형성하였다. 방랭 후, 착색 조성물층이 형성된 기판과 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 100 ㎛로 하여, 노광기(TME-150RSK; 탑콘(주) 제)를 이용하여, 대기 분위기 하, 150 mJ/㎠의 노광량(365 ㎚ 기준)으로 광 조사하였다. 포토마스크로서는 100 ㎛ 라인 앤드 스페이스 패턴이 형성된 것을 사용하였다. 광 조사 후의 착색 조성물층을, 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 포함하는 수계 현상액에 25℃에서 80초간 침지 현상하고, 수세 후, 오븐 중, 230℃에서 20분간 포스트베이크를 행함으로써, 착색 패턴을 얻었다.

< 막두께 측정 >

얻어진 착색 패턴에 대하여, 막두께를, 막두께 측정 장치(DEKTAK3; 일본진공기술(주) 제)를 이용하여 측정하였다. 결과를 표 5에 나타낸다.

< 내약품성 평가 >

얻어진 착색 패턴에 대하여, 측색기(OSP-SP-200; 올림푸스(주) 제)를 이용하여 분광을 측정하고, C 광원의 특성 함수를 이용하여 CIE의 XYZ 표색계에 있어서의 xy 색도 좌표 (x, y)와 3자극치 Y를 측정하였다.

얻어진 착색 패턴을 N-메틸피롤리돈에 23℃에서 40분간 침지하였다. 침지 후에 침지 전과 마찬가지로 하여 xy 색도 좌표 (x, y) 및 Y를 측정하고, 당해 측정값으로부터 JIS Z 8730 : 2009(7. 색차의 계산 방법)에 기재된 방법에 의해 색차 △Eab*을 계산하였다. 비교예 1에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 5에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 1의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 1의 △Eab*} × 100

실시예 13∼실시예 16 및 비교예 2

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 6의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 6 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 6 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A); A6 : C. I. 베이식 블루 7(도쿄가세이(주), 클로로포름 용액 중의 극대 흡수 파장; 631 ㎚)

수지 (B) : 수지 B1

중합개시제 (D) : N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF사 제; O-아실옥심 화합물)

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H1; 콘포세란(등록상표) SQ109; 아라카와화학공업(주) 제)

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

실시예 1과 마찬가지로 착색 패턴을 제조하고, 내약품성 평가를 행하였다. 비교예 2에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 7에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 2의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 2의 △Eab*} × 100

실시예 17∼20 및 비교예 3

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 8의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 8 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 8 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A);

A7 : 식 (3-1), 식 (3-2), 식 (3-3) 및 식 (3-4)로 나타내어지는 화합물의 혼합물(일본 특허 제3961078호의 합성례에 준한 방법에 의해 조제. 클로로포름 용액 중의 극대 흡수 파장; 594 ㎚ )

수지 (B) : 수지 B1

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

레벨링제 (F) : 폴리에테르 변성 실리콘 오일(도레이실리콘 SH8400;도레이다우코닝(주) 제)

실시예 1과 마찬가지로 착색 패턴을 제조하고, 내약품성 평가를 행하였다. 비교예 3에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 9에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 3의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 3의 △Eab*} × 100

실시예 21∼24 및 비교예 4

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 10의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 10 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 10 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A) : A8; CERAFIS BLUE 603(오리엔트화학공업(주) 제, 클로로포름 용액 중의 극대 흡수 파장; 611 ㎚ )

수지 (B) : 수지 B1

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H2; AC-SQ TA-100; 도아합성(주) 제)

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

실시예 1과 마찬가지로 착색 패턴을 제조하고, 내약품성 평가를 행하였다. 비교예 4에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 11에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 4의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 4의 △Eab*} × 100

실시예 25∼28 및 비교예 5

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 12의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 12 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 12 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A) : A9; C. I. 솔벤트 블루 45(Savinyl Blue RS; 클라리언트사 제, 클로로포름 용액 중의 극대 흡수 파장; 625 ㎚)

수지 (B) : 수지 B1

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

실시예 1과 마찬가지로 착색 패턴을 제조하고, 얻어진 착색 패턴을 N-메틸피롤리돈에 40℃에서 30분간 침지하여 내약품성 평가를 행하였다. 비교예 5에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 13에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 5의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 5의 △Eab*} × 100

실시예 29∼32 및 비교예 6

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 14의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 14 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

분산액 (1) : 조제예 1에 의해 조제한 분산액 (1)

수지 (B) : 수지 B2

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E3 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르

< 내약품성 평가 >

얻어진 착색 패턴에 대하여, 측색기(OSP-SP-200; 올림푸스(주) 제)를 이용하여 분광을 측정하고, C 광원의 특성 함수를 이용하여 CIE의 XYZ 표색계에 있어서의 xy 색도 좌표(x, y)와 3자극치 Y를 측정하였다.

얻어진 착색 패턴을 N-메틸피롤리돈에 23℃에서 30분간 침지하였다. 침지 후에 침지 전과 마찬가지로 하여 xy 색도 좌표(x, y) 및 Y를 측정하고, 당해 측정값으로부터 JIS Z 8730 : 2009(7. 색차의 계산 방법)에 기재된 방법에 의해 색차 △Eab*을 계산하였다. 비교예 6에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 15에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 6의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 6의 △Eab*} × 100

실시예 33∼36 및 비교예 7

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 16의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 16 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

분산액 (1) : 조제예 1에 의해 조제한 분산액 (1)

청색 염료 (A); A7 : 식 (3-1), 식 (3-2), 식 (3-3) 및 식 (3-4)로 나타내어지는 화합물의 혼합물

수지 (B) : 수지 B2

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H2; AC-SQ TA-100; 도아합성(주) 제

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E3 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르

< 내약품성 평가 >

얻어진 착색 패턴을 N-메틸피롤리돈에 40℃에서 30분간 침지하였다. 침지 후에 침지 전과 마찬가지로 하여 xy 색도 좌표 (x, y) 및 Y를 측정하고, 당해 측정값으로부터 JIS Z 8730 : 2009(7. 색차의 계산 방법)에 기재된 방법에 의해 색차 △Eab*을 계산하였다. 비교예 7에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 17에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 7의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 7의 △Eab*} × 100

실시예 37∼40 및 비교예 8

< 착색 경화성 수지 조성물의 조제 >

표 18의 각 성분을 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다. 표 중, 수지의 부수는 고형분 환산의 값을 나타낸다.

또한, 표 18 중, 각 성분은 이하의 것을 나타낸다.

청색 염료 (A); A2 : 식 (A-Ⅰ-2)로 나타내어지는 화합물

크산텐 염료 (X); X1 : 식 (X-1)로 나타내어지는 화합물(일본 공개특허 특개2013-253168호의 실시예에 준한 방법에 의해 합성)

수지 (B) : 수지 B1

산화방지제 (G) : 6-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀(스미라이저(등록상표) GP; 스미토모 화학(주) 제)

실세스퀴옥산 화합물 (H) : H2; AC-SQ TA-100; 도아합성(주) 제

용제 (E) : E1 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트

용제 (E) : E2 : 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온

< 내약품성 평가 >

얻어진 착색 패턴을 N-메틸피롤리돈에 40℃에서 30분간 침지하였다. 침지 후에 침지 전과 마찬가지로 하여 xy 색도 좌표 (x, y) 및 Y를 측정하고, 당해 측정값으로부터 JIS Z 8730 : 2009(7. 색차의 계산 방법)에 기재된 방법에 의해 색차 △Eab*을 계산하였다. 비교예 8에서 얻어진 착색 경화성 조성물의 △Eab*을 기준으로 하고, 하기 식에 따라서 내약품성의 개선율을 계산하였다. 결과를 표 19에 나타낸다.

개선율(%) = {(비교예 8의 △Eab* - 실시예의 △Eab*) ／ 비교예 8의 △Eab*} × 100

Claims

청색 염료, 수지, 중합성 화합물, 중합개시제 및 실세스퀴옥산 화합물을 함유하는 착색 경화성 수지 조성물.
제 1 항에 있어서,
실세스퀴옥산 화합물의 함유량이, 청색 염료 100 질량부에 대하여, 25∼3000 질량부인 착색 경화성 수지 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
청색 염료는, 프탈로시아닌 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 시아닌 염료, 포르피린 염료 및 티아졸 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 염료를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
청색 염료는, 텅스텐, 몰리브덴, 규소 및 인으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 원소와 산소 원자를 갖는 아니온을 갖는 화합물인 착색 경화성 수지 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
청색 염료는, 식 (A-Ⅰ)로 나타내어지는 화합물을 포함하는 착색 경화성 수지 조성물.

[식 (A-Ｉ) 중, [Y²]^m-는 임의의 m가의 아니온을 나타낸다.
R⁴¹∼R⁴⁴는, 각각 독립적으로 수소 원자, 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼20의 포화 탄화수소기, 탄소수 2∼20의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기, 치환되어 있어도 되는 아릴기, 또는 치환되어 있어도 되는 아랄킬기를 나타낸다. R⁴¹과 R⁴²가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 환을 형성해도 되고, R⁴³과 R⁴⁴가 결합하여 그들이 결합하는 질소 원자와 함께 환을 형성해도 된다.
R⁴⁵∼R⁵²는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 히드록실기, 탄소수 1∼8의 포화 탄화수소기, 또는 탄소수 2∼8의 알킬기를 구성하는 탄소 원자 사이에 산소 원자가 삽입되어 있는 기를 나타내거나, R⁴⁶과 R⁵⁰이 서로 결합하여 -O-, -NH-, -S- 또는 -SO₂-를 형성하고 있어도 된다.
Y¹은, 치환되어도 되는 아릴기, 또는 치환되어도 되는 헤테로아릴기를 나타낸다.
식 (A-Ⅰ)로 나타어내지는 화합물이 복수의 카티온을 포함하는 경우, 복수의 카티온은 서로 동일한 구조여도 되고, 다른 구조여도 된다.
m은 임의의 자연수를 나타낸다.]
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 착색 경화성 수지 조성물로부터 형성되는 컬러 필터.
제 6 항에 기재된 컬러 필터를 포함하는 표시 장치.