KR20150097552A - 4가염기성 염화아연 및 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 제품 - Google Patents

4가염기성 염화아연 및 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 제품 Download PDF

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라톤야 킬패트릭-리버맨
쯔치앙 리우
롱 판
잉 양
궈펑 수
마이클 에이. 스트라닉
지강 하오
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콜게이트-파아므올리브캄파니
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Abstract

본 발명은 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 4가염기성 아연 할라이드 및 트리메틸글리신의 혼합물을 포함하는 구강 관리 조성물을 제공한다. 또한, 조성물의 제조 방법 및 사용 방법이 제공된다.

Description

4가염기성 염화아연 및 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 제품{ORAL CARE PRODUCTS COMPRISING TETRABASIC ZINC CHLORIDE AND TRIMETHYLGLYCINE}
치아 침식증은 비세균성 공급원으로부터의 산 공격으로 인한 치아 구조로의 탈회 및 손상을 포함한다. 침식증은 초기에는 법랑질에서 발견되며, 그대로 둘 경우 그 아래의 상아질까지 진행될 수 있다. 치아 침식증은 산성 식품 및 음료, 염소 처리한 수영장 물 및 위산의 역류에 의하여 야기되거나 또는 악화될 수 있다. 치아 법랑질은 음으로 하전된 이온, 예컨대 플루오라이드 이온을 견디면서 양으로 하전된 이온, 예컨대 수소 및 칼슘 이온을 자연적으로 끌어들이기 쉬운 음으로 하전된 표면이다. 주위 타액의 상대적 pH에 의존하여, 치아 법랑질은 양으로 하전된 이온, 예컨대 칼슘 이온을 잃거나 또는 얻을 것이다. 일반적으로, 타액의 pH는 7.2 내지 7.4이다. pH가 감소되며 그리고 수소 이온의 농도가 상대적으로 높아질 경우, 수소 이온은 법랑질에서 칼슘 이온을 대체할 것이며, 이는 인산수소염 (인산)을 형성하며, 이는 법랑질을 손상시키며, 다공성의 스폰지 같은 거친 면을 생성한다. 타액이 오랜 시간에 걸쳐 산성을 유지할 경우, 재석회화가 발생되지 않을 수 있으며, 치아는 계속 미네랄을 잃어서 치아가 약하게 되고, 결국에는 구조를 잃게 될 것이다.
상아질 과민증은 노출된 상아질의 열적 (고온 또는 저온) 삼투성, 열적, 삼투성 및 촉각 자극의 촉각 조합에 의하여서와 같이 상아질 표면의 물리적 자극에 반응하는 급성 국소 치통이다. 일반적으로 잇몸 퇴축 또는 법랑질 상실로 인한 상아질의 노출은 종종 과민증을 초래한다. 표면으로 개방된 상아질 세관은 상아질 과민증과의 높은 상관관계를 갖는다. 상아질 세관은 수질로부터 백악질로 연결된다. 치근의 표면 백악질이 침식될 경우, 상아질 세관은 외부 환경으로 노출된다. 노출된 상아질 세관은 수질 신경으로의 유체 흐름의 전달을 위한 경로를 제공하며, 전달은 온도, 압력 및 이온 구배에서의 변화에 의하여 유도된다.
중금속 이온, 예컨대 아연은 산 공격에 대한 저항성을 갖는다. 아연은 전기화학 서열에서 수소보다 서열이 더 높으며, 그리하여 아연이 용액을 통과하여 2가 양이온 Zn2+을 형성함에 따라 산성 용액 중의 금속 아연은 반응하여 수소 기체를 방출하게 될 것이다. 아연은 치태 및 충치 실험에서 항세균성을 갖는 것으로 밝혀졌다.
가용성 아연 염, 예컨대 구연산아연은 치약 조성물에 사용되어 왔으나, (예를 들면 미국 특허 제6,121,315호를 참조함), 그러나, 몇몇 단점을 갖는다. 용액 중의 아연 이온은 불쾌한 톡쏘는 듯한 맛을 부여하므로, 효과적인 농도의 아연을 제공하며 그리고 허용 가능한 관능성을 갖는 배합물을 얻기가 곤란하였었다. 마지막으로, 아연 이온은 음이온성 계면활성제, 예컨대 나트륨 라우릴 술페이트와 반응하여 발포 및 세정을 방해할 것이다. 다른 한편으로, 산화아연 및 불용성 아연 염은 그의 불용성으로 인하여 치아에 아연을 전달하는 작업을 잘 수행하지 못할 수 있다.
4염기성 염화아연 (TBZC)은 화학식 Zn5(OH)8Cl2·H2O를 갖는 아연 히드록시 화합물이다. 또한, 이는 염화아연 수산화물 1수화물, 염기성 염화아연, 아연 히드록시클로라이드 또는 아연 옥시클로라이드로서 지칭한다. 이는 미네랄 시몬콜레이트로서 자연 발생된다. 염화아연과 달리, TBZC는 물 중에서 불용성이다. TBZC는 구강 관리 조성물에서의 용도에 대하여 제안되어 있으나 (예를 들면 GB2243775A를 참조함), 그러한 배합물은 TBZC의 불용성으로 인하여 치아에 아연을 효율적으로 전달하지 못한다.
N,N,N-트리메틸글리신 (TMG 또는 글리신 베타인)은 4차 아미노산이다. 중성 pH에서, 화합물은 쯔비터이온으로서 존재하여 분자의 4차 암모늄 및 카르복시 부분 사이에서 내부 염을 형성한다. 강산의 존재하에서, 산 부가 염, 예를 들면 염산염을 형성할 것이다. 화합물은 초기에는 사탕무로부터 분리되며, 동물 사료에서의 식이 보조제로서 그리고 예를 들면 폴리머라제 연쇄 반응에서 실험실 시약 안정화제로서 사용된다. 예를 들면 US 6,156,293에서 구강 건조증을 치료하기 위한 그리고 예를 들면 US 6,969,510에서 발한 억제 제품에서의 그의 용도가 보고되어 있다.
종래 기술은 상아질 과민증, 충치 및 법랑질 침식증 및 탈회의 치료를 위한 다양한 경구 조성물의 사용을 개시하나, 그러한 치료에서의 개선된 성능을 제공하는 추가의 조성물 및 방법에 대한 수요가 여전히 존재한다.
TBZC는 종래 기술의 배합물에서는 실질적으로 불용성이기는 하나, 4가염기성 염화아연은 그의 유리 형태 및 산성화된 형태 둘다에서 TMG와 가용성 착체를 형성할 수 있는 것으로 밝혀졌다. 배합물 중에 있을 경우, 이러한 착체는 유효 농도의 아연 이온을 법랑질 및/또는 상아질 표면에 제공하여 침식증의 예방, 세균 집락 및 균막 발생의 감소 및 치아에 개선된 광택을 제공한다. 게다가, 사용 중 희석시, 배합물은 상아질 세관을 폐색시킬 수 있어서 치아의 민감성을 감소시킬 수 있는 침전물을 제공한다. 이는 예상 밖이며, 적어도 부분적으로는 더 우수한 가용화가 일반적으로 희석과 함께 예상되기 때문이다. 불용성 TBZC를 갖는 통상의 배합물에 비하여 아연의 우수한 전달을 제공하면서, TBZC 및 TMG를 포함하는 배합물은 가용성 아연 염을 사용하는 통상의 아연계 구강 관리 제품과 관련된 좋지 못한 미각 및 입맛, 불량한 플루오라이드 전달 및 불량한 발포 및 세정을 나타내지 않는다.
아연 및 예를 들면 크레아틴 (암모늄 모이어티보다는 염기성 구아니딘 모이어티를 갖는 아미노산) 또는 세틸피리디늄 클로라이드 또는 이 둘의 산성화된 형태 사이에 유사한 착체가 형성되지 않으므로 이러한 가용성 착체의 형성은 특히 놀랍다. TMG가 그의 산성화된 형태 (예컨대 TMG 염산염의 형태)로 존재할 경우, 가용성 착체는 이온성 종의 주요 성분을 설명한다. TMG를 그의 유리 형태로 사용할 경우, 이러한 가용성 착체는 여전히 형성될 수 있으나, 이는 소량이며, TMG 단량체 및 올리고머에 비하여 다소 미미한 양이다. 특정 이론으로 한정하지는 않지만, 수용액 중에서 TBZC 및 트리메틸글리신 염산염의 조합시 아연, TMG 및 클로라이드를 포함하는 착체 및, 아연 및 클로라이드를 포함하는 제2의 착체인 2종의 가용성이 큰 종이 형성되는 것으로 보인다. 용액의 추가의 희석시, 이들 착체는 분해되며, 침전물은 주로 아연-함유 화합물 (예컨대 TBZC, 수산화아연)로 이루어진다.
그래서, 본 발명은 한 실시양태에서, 그의 유리 또는 산성화된 형태의 TBZC 및 TMG를 포함하는 착체, 예를 들면 아연-TMG-HCl 착체, 예를 들면 수용액 중에서 TBZC 및 트리메틸글리신 염산염을 조합하여 형성된 것을 제공한다.
추가의 실시양태에서, 본 발명은 예를 들면 상기 기재된 바와 같은 착체를 포함하는, 그의 유리 또는 산성화된 형태의 TMG와 조합된 TBZC를 포함하는 구강 관리 조성물, 예를 들면 구강 청결제, 경구 겔 또는 치약 조성물을 제공한다. 조성물은 임의로 플루오라이드 공급원 및/또는 추가의 인산염 공급원을 더 포함할 수 있다. 조성물은 예를 들면 1종 이상의 연마제, 계면활성제, 발포제, 비타민, 중합체, 효소, 습윤제, 증점제, 항균제, 방부제, 풍미제 및/또는 착색제를 포함하는 적절한 구강 관리 배합물, 예를 들면 통상의 치약, 경구 겔 또는 구강 청결제 베이스 중에 배합될 수 있다.
본 발명은 본 발명의 조성물을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소를 위하여 본 발명의 조성물을 사용하는 방법을 추가로 제공한다. 본 발명은 코팅을 치아에 부여하며, 코팅이 본래의 치아보다 더 희게 하는, 치아를 미백시키기 위한 본 발명의 조성물의 사용 방법을 추가로 제공한다.
본 발명의 이용 가능성의 추가의 분야는 하기에 제공된 상세한 설명으로부터 자명할 것이다. 상세한 설명 및 구체적인 예는 본 발명의 바람직한 실시양태를 나타내지만 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범주를 한정하고자 하는 것이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
하기 바람직한 실시양태(들)의 설명은 사실상 단지 예시를 위한 것이며, 어떠한 방법으로도 본 발명, 그의 적용예 또는 용도를 한정하고자 하는 것이 아니다.
본원에서 사용한 바와 같이, "트리메틸글리신"은 N,N,N-트리메틸글리신을 지칭하며; 그러한 용어는 본원에서 번갈아 사용할 수 있다.
그러므로, 본 발명은 제1의 실시양태에서 유리 또는 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태의 4가염기성 염화아연 (TBZC) 및 N,N,N-트리메틸글리신 (TMG)의 혼합물을 포함하거나 또는 이로부터 생성된 구강 관리 조성물 (조성물 1)을 제공하며; 예를 들면
1.1. 원소 기준으로 배합물 중의 아연의 레벨이 0.25-4 중량%, 예를 들면 1-2 중량%, 예를 들면 0.5-1.5 중량%, 예컨대 약 1 중량%인 조성물 1.
1.2. TMG가 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태, 예를 들면 염산염 형태로 제공되거나 또는 TMG가 1:5 내지 5:1의 몰비 (TMG의 몰 대 산으로부터 배출된 양성자의 몰)로 별개의 실체로서 TMG 및 산 (예컨대 HCl)을 제공하여 현장내에서 형성되는 조성물 1 또는 1.1.
1.3. TBZC 대 TMG의 몰비가 1:1 내지 1:10, 예컨대 약 1:5인 임의의 상기 조성물.
1.4. 아연 대 TMG의 몰비가 5:1 내지 1:2, 예컨대 약 1:1인 임의의 상기 조성물.
1.5. pH가 pH 5 내지 pH 6인 임의의 상기 조성물.
1.6. 배합물이 TBZC 및 트리메틸글리신 염산염을 수용액 중에서 조합하는 단계를 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.7. TMG가 히드로할라이드 염 형태로 제공되며, TBZC 및 TMG가 아연-TMG-할라이드 착체, 아연-할라이드 착체 및 그의 혼합물로부터 선택된 가용성 착체를 형성하며, 예를 들면 할라이드는 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 및 그의 혼합물로부터 선택되는 임의의 상기 조성물.
1.8. TMG가 히드로할라이드 염 형태로 제공되며, TBZC 및 TMG가 화학 조성 Zn2O8H6X2를 갖는 것 및 화학 조성 Zn2O8H5X2-TMG를 갖는 것인 2종의 가용성 착체를 형성하며, 여기서 X가 Cl, F, Br 및 그의 혼합물로부터 선택되는 임의의 상기 조성물.
1.9. TMG가 염산염 형태로 제공되며, TBZC 및 TMG가 아연-TMG-클로라이드 착체, 아연-클로라이드 착체 및 그의 혼합물로부터 선택된 가용성 착체를 형성하는 임의의 상기 조성물.
1.10. TMG가 염산염 형태로 제공되며, TBZC 및 TMG가 화학 조성 Zn2O8H6Cl2를 갖는 것 및 화학 조성 Zn2O8H5Cl2-TMG를 갖는 것인 2종의 가용성 착체를 형성하는 임의의 상기 조성물.
1.11. TBZC 및 TMG를 포함하는 착체가 조성물의 적용후 전부 또는 부분적으로 현장내에서 형성되는 임의의 상기 조성물.
1.12. TBZC 및 TMG를 포함하는 착체가 조성물을 배합한 후 전부 또는 부분적으로 현장내에서 형성되는 임의의 상기 조성물.
1.13. 예를 들면 조성물의 pH가 5 내지 6이 되도록 산, 예를 들면 염산을 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.14. 염기성 아미노산, 예를 들면 리신 또는 아르기닌을 더 포함하는임의의 상기 조성물.
1.15. 실질적으로 무수 상태인 캐리어, 예를 들면 10% 미만의 물을 포함하는 캐리어 중의 임의의 상기 조성물.
1.16. 크림치약, 겔, 구강 청결제, 파우더, 크림, 스트립 또는 껌의 형태인 임의의 상기 조성물.
1.17. 경구 허용 가능한 베이스, 예를 들면 구강 청결제, 겔 또는 치약 베이스 중의 임의의 상기 조성물.
1.18. 예를 들면 TBZC 및 TMG가 치약 베이스 중에서 유효량, 예를 들면 0.05-4 중량% 아연, 예컨대 약 0.5-3 중량%, 예를 들면 약 1 중량% 아연의 양으로 존재하는 치약 형태의 임의의 상기 조성물.
1.19. 치약 베이스가 연마제, 예를 들면 유효량, 예를 들면 10-30%, 예컨대 약 20%의 실리카 연마제를 포함하는 조성물 1.1.
1.20. 예를 들면 TBZC가 유효량, 예를 들면 0.05-4 중량%의 아연, 예컨대 약 1 중량%의 아연의 양으로 존재하는 구강 청결제 형태의 조성물 1.
1.21. 유효량의 플루오라이드 이온 공급원을 더 포함하며, 예를 들면 500 내지 3,000 ppm 플루오라이드를 제공하는 임의의 상기 조성물.
1.22. 유효량의 플루오라이드를 더 포함하며, 예를 들면 플루오라이드가 불소화제1주석, 불소화나트륨, 불소화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 플루오라이드 (예를 들면 N'-옥타데실트리메틸렌디아민-N,N,N'-트리스(2-에탄올)-디히드로플루오라이드), 불소화암모늄, 불소화티타늄, 헥사플루오로술페이트 및 그의 조합으로부터 선택된 염인 임의의 상기 조성물.
1.23. 유효량의 1종 이상의 알칼리 인산염, 예를 들면 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염, 예를 들면 2염기성 알칼리 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택된, 예를 들면 2염기성 인산나트륨, 2염기성 인산칼륨, 인산2칼슘 2수화물, 피로인산칼슘, 피로인산테트라나트륨, 피로인산테트라칼륨, 트리폴리인산나트륨 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택된 알칼리 인산염을 예를 들면 조성물의 1-20 중량%, 예를 들면 2-8 중량%, 예를 들면 약 5 중량%의 양으로 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.24. 완충제, 예를 들면 인산나트륨 완충제 (예를 들면 1염기성 인산나트륨 및 인산2나트륨)를 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.25. 습윤제, 예를 들면 글리세린, 소르비톨, 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 자일리톨 및 그의 혼합물로부터 선택된 것, 예를 들면 20% 이상, 예를 들면 20-40%, 예를 들면 25-35% 글리세린을 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.26. 1종 이상의 계면활성제, 예를 들면 음이온성, 양이온성, 쯔비터이온성 및 비이온성 계면활성제 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것, 예를 들면 음이온성 계면활성제, 예를 들면 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 에테르 라우릴 술페이트 및 그의 혼합물로부터 선택된 계면활성제, 예를 들면 약 0.3% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들면 1-2% 양의 나트륨 라우릴 술페이트 (SLS); 및/또는 쯔비터이온성 계면활성제, 예를 들면 베타인 계면활성제, 예를 들면 코카미도프로필베타인, 예를 들면 약 0.1% 내지 약 4.5 중량%, 예를 들면 0.5-2% 코카미도프로필베타인의 양으로 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.27. 다당류 껌, 예를 들면 크산탄 껌 또는 카라기난, 실리카 증점제 및 그의 조합 중 1종 이상의 점도 변경양을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.28. 껌 스트립 또는 단편을 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.29. 풍미제, 향료 및/또는 착색제를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.30. 유효량의 1종 이상의 항세균제, 예를 들면 할로겐화 디페닐 에테르 (예를 들면 트리클로산), 허브 추출물 및 에센셜 오일 (예를 들면 로즈마리 추출물, 티 추출물, 목련 추출물, 티몰, 멘톨, 유칼립톨, 게라니올, 카르바크롤, 시트랄, 히노키톨, 카테콜, 메틸 살리실레이트, 에피갈로카테킨 갈레이트, 에피갈로카테킨, 갈산, 미즈왁 추출물, 산자나무 추출물), 비스구아니드 방부제 (예를 들면 클로르헥시딘, 알렉시딘 또는 옥테니딘), 4차 암모늄 화합물 (예를 들면 세틸피리디늄 클로라이드 (CPC), 벤즈알코늄 클로라이드, 테트라데실피리디늄 클로라이드 (TPC), N-테트라데실-4-에틸피리디늄 클로라이드 (TDEPC)), 페놀성 방부제, 헥세티딘, 옥테니딘, 산구이나린, 포비돈 요오드, 델모피놀, 살리플루오르, 금속 이온 (예를 들면 아연 염, 예를 들면 구연산아연, 제1주석 염, 구리 염, 철 염), 산구이나린, 프로폴리스 및 산소화제 (예를 들면 과산화수소, 완충 나트륨 퍼옥시보로네이트 또는 퍼옥시카르보네이트), 프탈산 및 그의 염, 모노페르탈산 및 그의 염 및 에스테르, 아스코르빌 스테아레이트, 올레일 사르코신, 알킬 술페이트, 디옥틸 술포숙시네이트, 살리실아닐리드, 도미펜 브로마이드, 델모피놀, 옥타피놀 및 기타 피페리디노 유도체, 니신 제제, 아염소산염; 임의의 상기의 혼합물로부터 선택된 항세균제; 예를 들면 트리클로산 또는 세틸피리디늄 클로라이드를 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.31. 항세균성 유효량의 트리클로산을, 예를 들면 0.1-0.5%, 예를 들면 약 0.3% 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.32. 미백제, 예를 들면 퍼옥시드, 금속 아염소산염, 과붕산염, 과탄산염, 퍼옥시산, 차아염소산염 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.33. 과산화수소 또는 과산화수소 공급원, 예를 들면 우레아 퍼옥시드 또는 퍼옥시드 염 또는 착체 (예를 들면 퍼옥시포스페이트, 퍼옥시카르보네이트, 과붕산염, 퍼옥시실리케이트 또는 과황산염; 예를 들면 퍼옥시인산칼슘, 과붕산나트륨, 탄산나트륨 퍼옥시드, 나트륨 퍼옥시포스페이트 및 과황산칼륨)를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.34. 세균 부착을 방해 또는 방지하는 물질, 예를 들면 솔브롤 또는 키토산을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.35. (i) 칼슘-유리 착체, 예를 들면 칼슘 나트륨 포스포실리케이트 및 (ii) 칼슘-단백질 착체, 예를 들면 카제인 포스포펩티드-무정형 인산칼슘으로부터 선택된 칼슘 및 인산염의 공급원을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.36. 가용성 칼슘 염, 예를 들면 황산칼슘, 염화칼슘, 질산칼슘, 아세트산칼슘, 락트산칼슘 및 그의 조합으로부터 선택된 것을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.37. 상아질 민감도를 감소시키는 유효량으로 생리학적 또는 경구 허용 가능한 칼륨 염, 예를 들면 질산칼륨 또는 염화칼륨을 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.38. 음이온성 중합체, 예를 들면 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트를 더 포함하며, 예를 들면 음이온성 중합체가 말레산 무수물 또는 산과 또 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체의 1:4 내지 4:1 공중합체로부터 선택되며; 예를 들면 음이온성 중합체가 약 30,000 내지 약 1,000,000, 예를 들면 약 300,000 내지 약 800,000의 평균 분자량 (M.W.)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 (PVM/MA) 공중합체이며, 예를 들면 음이온성 중합체가 조성물의 약 1-5 중량%, 예컨대 약 2 중량%인 임의의 상기 조성물.
1.39. 구강 청량제, 향료 또는 풍미제를 더 포함하는 임의의 상기 조성물.
1.40. 조성물의 pH가 대략 중성, 예를 들면 pH 6 내지 pH 8, 예를 들면 약 pH 7인 임의의 상기 조성물.
1.41. TBZC 및 트리메틸글리신 염산염을 수계 매체 중에서 혼합하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 생성된 임의의 상기 조성물.
1.42. 물로 희석시 물에 대하여 예를 들면 1% 미만의 아연, 아연 침전물, 예를 들면 TBZC 침전물이 형성되는 임의의 상기 조성물.
본 발명은 유효량의 본 발명의 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제, 치아 미백 및 상아질 과민증의 감소 방법을 추가로 제공한다.
본 발명은 TMG의 경구 허용 가능한 산 부가 염, 예를 들면 TMG-HCl 및 TBZC를 수성 매체 중에서 조합하는 단계를 포함하는, TBZC 및 TMG를 포함하는 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)의 제조 방법을 추가로 제공한다.
예를 들면 다양한 실시양태에서, 본 발명은 상기 기재된 바와 같은 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 치료를 필요로 하는 사람의 구강에 예를 들면 1일 1회 이상 적용하는 것을 포함하는, (i) 치아 과민증의 감소, (ii) 치태 축적의 감소, (iii) 치아의 탈회의 감소 또는 억제 그리고 재석회화의 촉진, (iv) 구강에서 미생물 균막 형성의 억제, (v) 치은염의 감소 또는 억제, (vi) 입에서의 궤양 또는 자상의 치유 촉진, (vii) 산 생성 세균 농도의 감소, (viii) 비-우식원 및/또는 비-치태 형성 세균의 상대적 농도의 증가, (ix) 치아 우식 형성의 감소 또는 억제, (x) 예를 들면 정량적 광-유도된 형광 (QLF) 또는 전기 충치 측정 (ECM)에 의하여 검출된 바와 같이 법랑질의 전-우식 병변의 감소, 복구 또는 억제, (xi) 구강 건조증의 치료, 완화 또는 감소, (xii) 치아 및 구강의 세정, (xiii) 침식증의 감소, (xiv) 치아 미백; (xv) 치석 축적의 감소 및/또는 (xvi) 예를 들면 구강 조직을 통한 전신 감염에 대한 가능성을 감소시켜 심혈관계 건강을 비롯한 건강의 촉진을 위한 방법을 제공한다. 본 발명은 이들 방법 중 임의의 방법에 사용하기 위한 조성물 1 (이하 참조)을 추가로 제공한다.
본 발명은 구강 관리 조성물, 예를 들면 임의의 조성물 1 (이하 참조)을 생성하기 위한, 유리 또는 경구 허용 가능한 염, 예를 들면 트리메틸글리신 염산염 형태의 TBZC 및 TMG의 용도를 추가로 제공한다.
본 발명은 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소를 위한 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 TMG와 함께 TBZC의 용도; (ii) 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및 상아질 과민증의 감소를 위한 조성물의 제조에서 (a) 4가염기성 염화아연 및 아미노산 할라이드 및/또는 (b) 4가염기성 염화아연, 아미노산 및 임의로 할로겐 산으로부터 선택된 아연 아미노산 할라이드 전구체의 용도를 추가로 제공한다.
아연 및 TMG의 상호작용은 불용성 TBZC를 가용성이 큰 착체로 변환시키는 것으로 밝혀졌다. 바람직하게는, TMG는 산 부가 염 형태, 예를 들면 염산염 형태로 존재한다. 착체는 물 중의 농도, 예를 들면 약 1% 이상의 아연에 해당하는 레벨에서 가용성이 크다. 그러나, 물 중에서 희석율을 증가시킴에 따라, 예를 들면 물 중에서 0.1 내지 1%, 예를 들면 약 0.5%의 아연의 농도에서 착체는 분해되며, 착체 중의 아연 이온은 산화아연을 제외한 불용성 형태 (예컨대 TBZC 및 수산화아연)로 다시 돌아간다. TBZC 및 아미노산, 예컨대 리신 또는 아르기닌을 사용하여 착체를 형성하는 실험에서, 더 높은 희석율에서도 그러하기는 하나, 희석시 침전이 또한 관찰되지만, 침전물은 산화아연이어서 TBZC 침전물의 형성이 예상밖이다.
희석율의 증가시 용해도가 감소되는 이와 같은 역학은 특이하며, 예상밖이다. 칫솔질 또는 헹굼 또는 타액과의 조합시 희석은 투여시 치아에 아연 침전물의 침착을 도우며, 이는 상아질 세관을 폐색시켜 과민증을 감소시키며, 또한 아연을 법랑질에 제공하여 산식증, 균막 및 치태 형성을 감소시킨다.
아연 및 TMG가 주로 전구체 물질 (예를 들면 TBZC 및 TMG-HCl)의 형태로 또는 착체의 형태로 존재할 수 있기는 하나, 어느 정도의 평형 상태가 존재할 수 있어서 전구체 형태의 비율에 비하여 실질적으로 착체인 물질의 비율이 배합의 정확한 조건, 물질의 농도, pH, 물의 존재 또는 부재, 기타 하전된 분자의 존재 또는 부재 등에 의존하여 변경될 것으로 이해될 것이다.
활성 물질은 임의의 구강 관리 배합물, 예를 들면 크림치약, 겔, 구강 청결제, 파우더, 크림, 스트립, 껌 또는 당업계에 공지된 임의의 기타의 것의 형태로 전달될 수 있다.
활성 물질이 구강 청결제의 형태로 전달될 경우, 잇점을 원하는 사람은 스톡 용액으로 헹구고, 타액에 의한 스톡 용액의 자연 희석은 아연의 침전을 개시할 것이다. 대안으로, 스톡 용액을 적량의 수성 희석제와 혼합하고 (예를 들면 약 0.1-1%의 물에 대한 아연의 농도를 제공하고), 혼합액으로 헹굴 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 혼합액을 생성하고, 즉시 보유 트레이, 예컨대 미백 겔을 유지하는데 사용되는 것으로 옮기고, 유효한 시간 동안 트레이를 착용할 수 있다. 혼합액과 접촉되는 치아가 처리될 것이다. 보유 트레이와 함께 사용하는 경우, 혼합액은 저 점도 액체 또는 겔의 형태로 존재할 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 스톡 용액 또는, 스톡 용액과 물의 혼합액을 겔 배합물 중의 치아에 적용하며, 예를 들면 겔은 효과적인 처리를 위하여 연장된 시간 동안 치아에 머물 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 활성 물질은 크림치약에 제공될 수 있다. 칫솔질을 하면, 활성 물질은 타액 및 물에 의하여 희석되어 침전이 야기되며, 침착물 및 폐색 입자를 형성한다.
배합물로부터의 침전 속도는 스톡 용액 중의 착체의 농도를 조절하고, 스톡 대 물의 비를 변경시켜 조절될 수 있다. 배합물이 희석될수록 침전은 더 신속하게 이루어져서 신속 처리를 희망할 때 바람직하게 된다.
본 발명의 구강 관리 조성물은 다수의 잇점을 갖는다. 아연 이온 및, 구강에서 아연 이온을 배출할 수 있는 아연 함유 화합물을 제공하여 본 발명의 구강 관리 조성물은 항균, 치태 방지, 치은염 방지, 악취 방지, 충치 예방 및 치석형성 억제의 잇점을 제공한다. 폐색 입자 및 표면 침착물은 아연 이온을 구강에 배출할 수 있으며, 상기에서 인지하는 바와 같이 다양한 잇점을 제공할 수 있는 아연 염을 함유하는 화합물이다. 침착으로 인한 치아 표면에 형성된 코팅은 치아 표면의 미백을 향상시킬 수 있어서 미백의 잇점을 제공할 수 있다. 추가의 잇점으로는 부착 방지, 치주염 방지 및 골 손실 방지뿐 아니라, 상처 치유 촉진을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
제2의 잇점은 산화 및 가수분해에 의하여 치아 표면에서의 부식 방지성 침착물을 형성하는 아연 이온의 부식 방지성이다. 표면 침착물뿐 아니라, 폐색 입자는 산과 반응하여 중화되어 치아 표면을 산의 부식 효과로부터 보호할 수 있다. 또한, 표면 침착물 및 폐색 입자가 산을 중화시킬 때, 이로운 아연 이온이 배출되어 침식 방지증을 제외한 구강 관리 잇점을 제공할 수 있다는 점에 유의한다.
제3의 잇점은 폐색의 결과로서 민감 방지성 효과이다. 상아질 세관의 폐색은 민감성 완화를 초래한다.
제4의 잇점은 TMG와 관련된 잇점이다. TMG는 그의 쯔비터이온성으로 인하여 치아를 손상시킬 수 있는 산에 대응하는 완충 효과를 제공하며, 이는 충치 방지 효과를 제공할 수 있다. 게다가, TMG는 구강 건조증으로부터의 완화를 제공하는 것으로 알려져 있다.
특정한 실시양태에서, 본 발명은 TBZC, TMG 및 음이온성 종, 예를 들면 할라이드, 예를 들면 클로라이드를 포함하는 이온성 착체를 제공한다. 특정한 실시양태에서, 본 발명은 TBZC 및 TMG HCl를 수성 매체 중에서 조합하여 TBZC-TMG HCl 착체로 흔히 지칭되는 착체를 형성하는, 착체를 제공한다.
또 다른 실시양태에서, 본 발명은 예를 들면 구강세정액, 겔, 크림치약, 크림, 분말, 스트립 또는 껌의 형태의 TBZC-TMG HCl 착체를 포함하는 구강 관리 배합물, TBZC-TMG HCl 착체를 포함하는 조성물 1 (이하 참조)에 의한 조성물을 제공한다.
한 실시양태에서, 원하는 배합물이 구강세정액의 형태로 존재할 경우, 2성분 전달계도 고려된다. 제1의 성분은 TBZC-TMG HCl 착체의 농축된 용액이며, 제2의 성분은 실질적으로 물이다. 2종의 성분을 처리 직전에 관리자/사용자에 의하여 혼합된다. 대안으로, 구강세정액 형태의 단일 성분 전달계가 고려되며, 이러한 전달계는 TBZC-TMG HCl 착체의 농축된 용액을 포함하며, 희석제는 통상의 구강 관리 처리에 자연적으로 포함되는 물 및/또는 사용자에 의하여 생성된 타액의 형태로 관리자/사용자에 의하여 제공된다.
또한, 본 발명은 추가의 실시양태에서 조절된 배출계 및, 조성물 1 (이하 참조)에 의한 조성물을 투여하는 것을 포함하는 구강 내에서 연장된 시간에 걸쳐 아연 이온 및 TMG를 전달하는 방법에 관한 것이다.
특정한 실시양태에서, 조성물 1 (이하 참조)은 현장내에서 물과 반응하여 착체를 형성할 수 있는, TBZC 및 TMG로부터의 착체, 예를 들면 아연-TMG-클로라이드 착체 및/또는, 착체 전구체로서 TBZC 및 유리 또는 산 부가 염 형태의 TMG, 예를 들면 TMG-HCl을 제공한다. 현장내 형성은 배합의 용이성을 제공한다. 또 다른 실시양태에서, 전구체로부터 착체를 형성하는 물은 적용후 조성물과 접촉하게 되는 타액 및/또는 헹굼수로부터 발생한다.
특정한 실시양태에서, TMG는 수성 매체 중의 착체와 TBZC의 착체를 형성하는, 산 부가 염, 예를 들면 히드로할라이드, 예를 들면 트리메틸글리신 염산염의 형태로 제공된다.
본원에서 다양한 아연 염 및 착체의 몰수 또는 중량%는 특정한 염 또는 착체 형태를 기준으로 하여 변경될 것이므로, 그의 염 또는 착체 형태와는 무관하게, 중량 또는 몰량에 의한 배합물 중의 아연의 총량을 종종 지칭한다. 일부 실시양태에서, 조성물 중의 아연의 총량은 조성물의 0.05 내지 8 중량%이다. 기타 실시양태에서, 아연의 총량은 조성물의 0.1 이상, 0.2 이상, 0.3 이상, 0.4 이상, 0.5 이상 또는 1 내지 8 중량%이다. 기타 실시양태에서, 조성물 중의 아연의 총량은 조성물의 5 미만, 4 미만, 3 미만, 2 미만 또는 1 미만 내지 0.05 중량%이다. 예를 들면 일부 실시양태에서, 조성물 중의 아연의 총량은 약 1%일 수 있다.
활성 물질: 본 발명의 조성물은 법랑질 및 치아 구조의 강도의 강도 및 온전함을 보호 및 향상시키고 및/또는 아연-아미노산-할라이드 착체를 비롯한 또는 그 외에 세균 및 관련 충치 및/또는 잇몸 질환을 감소시키기 위하여 활성인 각종 물질을 포함할 수 있다. 본원에서 사용된 활성 성분의 유효 농도는 사용된 특정 물질 및 전달계에 의존할 것이다. 크림치약은 예를 들면 통상적으로 사용시 물로 희석될 것이지만, 구강 헹굼액은 통상적으로 그렇지 않을 것으로 이해하여야 한다. 그래서, 크림치약 중의 활성 물질의 유효 농도는 일반적으로 구강 헹굼액에 대하여 요구되는 것보다 5-15배 더 높을 수 있다. 농도는 또한 선택된 정확한 염 또는 중합체에 의존할 것이다. 예를 들면 활성 물질이 염 형태로 제공될 경우, 반대이온은 염의 중량에 영향을 미칠 것이며, 그래서 반대이온이 더 무거울 경우 최종 생성물 중의 활성 이온의 동일한 농도를 제공하기 위하여서는 더 많은 염 (중량 기준)이 요구될 것이다. 아르기닌이 존재할 경우 소비재 크림치약의 경우 예컨대 약 0.1 내지 약 20 중량% (유리 염기의 중량으로 나타냄), 예컨대 약 1 내지 약 10 중량% 또는 전문 또는 처방 치료 제품의 경우 약 7 내지 약 20 중량%의 레벨로 존재할 수 있다. 플루오라이드가 존재한다면 소비재 크림치약의 경우 예컨대 약 25 내지 약 25,000 ppm, 예컨대 약 750 내지 약 2,000 ppm 또는 전문 또는 처방 치료 제품의 경우 약 2,000 내지 약 25,000 ppm의 레벨로 존재할 수 있다. 항세균제의 레벨은 매우 유사하게 변경될 것이며, 크림치약에 사용된 레벨은 구강세정액 중에 사용된 것보다 예컨대 약 5 내지 약 15 배 더 크다. 예를 들면 트리클로산 크림치약은 약 0.3 중량% 트리클로산을 함유할 수 있다.
플루오라이드 이온 공급원: 구강 관리 조성물은 1종 이상의 플루오라이드 이온 공급원, 예를 들면 가용성 플루오라이드 염을 더 포함할 수 있다. 광범위한 플루오라이드 이온-산출 물질은 조성물 중에 가용성 플루오라이드의 공급원으로서 사용될 수 있다. 적절한 플루오라이드 이온-산출 물질의 예는 미국 특허 제3,535,421호 (Briner et al.); 미국 특허 제4,885,155호 (Parran, Jr. et al.) 및 미국 특허 제3,678,154호 (Widder et al.)에서 찾아볼 수 있다. 대표적인 플루오라이드 이온 공급원으로는 불소화제1주석, 불소화나트륨, 불소화칼륨, 모노플루오로인산나트륨, 플루오로규산나트륨, 플루오로규산암모늄, 아민 플루오라이드, 불소화암모늄 및 그의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 특정한 실시양태에서, 플루오라이드 이온 공급원으로는 불소화제1주석, 불소화나트륨, 모노플루오로인산나트륨뿐 아니라, 그의 혼합물을 들 수 있다. 특정한 실시양태에서, 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 플루오라이드 이온 또는 불소-제공 성분의 공급원을 약 25 ppm 내지 약 25,000 ppm의 플루오라이드 이온, 일반적으로 약 500 ppm 이상, 예컨대 약 500 내지 약 2,000 ppm, 예컨대 약 1,000 내지 약 1,600 ppm, 예컨대 약 1,450 ppm을 제공하기에 충분한 양으로 함유할 수 있다. 플루오라이드의 적절한 레벨은 특정한 적용예에 의존할 것이다. 일반적인 소비재 용도를 위한 크림치약은 통상적으로 약 1,000 내지 약 1,500 ppm를 가질 것이며, 소아용 크림치약은 다소 적게 갖는다. 전문 적용예용 치약 또는 코팅은 약 5,000 또는 심지어 약 25,000 ppm 플루오라이드 정도로 많이 갖는다. 플루오라이드 이온 공급원은 한 실시양태에서 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 10 중량% 또는 또 다른 실시양태에서 조성물의 약 0.03 중량% 내지 약 5 중량%, 또 다른 실시양태에서 약 0.1 중량% 내지 약 1 중량%의 레벨로 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있다. 적절한 레벨의 플루오라이드 이온을 제공하기 위한 플루오라이드 염 (중량)은 염에서 반대이온의 중량을 기준으로 하여 명백하게 변경될 것이다
다양한 실시양태에서, 아미노산은 치약의 경우 조성물 총 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 20 중량%, 조성물 총 중량의 약 0.5 중량% 내지 약 10 중량%, 예컨대 조성물 총 중량의 약 1.5 중량%, 약 3.75 중량%, 약 5 중량% 또는 약 7.5 중량% 또는 구강 청결제의 경우 예컨대 약 0.5-2 중량%, 예컨대 약 1%의 양으로 존재한다.
연마제: 본 발명의 조성물, 예를 들면 조성물 1 (이하 참조)은 실리카 연마제를 포함하며, 추가의 연마제, 예를 들면 인산칼슘 연마제, 예를 들면 인산3칼슘 (Ca3(PO4)2), 히드록시아파타이트 (Ca10(PO4)6(OH)2) 또는 인산2칼슘 2수화물 (CaHPO4·2H2O, 또한 때때로 본원에서는 다이칼(DiCal)로 지칭함) 또는 피로인산칼슘; 탄산칼슘 연마제; 또는 연마제, 예컨대 메타인산나트륨, 메타인산칼륨, 규산알루미늄, 하소된 알루미나, 벤토나이트 또는 기타 규산질 물질 또는 그의 조합을 포함할 수 있다.
본원에서 유용한 기타 실리카 연마 마모 물질뿐 아니라, 기타 연마제는 일반적으로 약 0.1 내지 약 30 ㎛, 약 5 내지 약 15 ㎛ 범위내의 평균 입도를 갖는다. 실리카 연마제는 침전된 실리카 또는 실리카 겔, 예컨대 미국 특허 제3,538,230호 (Pader et al.) 및 미국 특허 제3,862,307호 (Digiulio)에 기재된 실리카 크세로겔로부터 일 수 있다. 특정한 실리카 크세로겔은 더블유. 알. 그레이스 앤 컴파니(W. R. Grace & Co.)의 데이비슨 케미칼 디비젼(Davison Chemical Division)이 상표명 실로이드(Syloid)®로 시판한다. 침전된 실리카 물질로는 제이.엠. 휴버 코포레이션(J. M. Huber Corp.)이 상표명 제오덴트(Zeodent)®로 시판하는 것 (명칭 제오덴트 115 및 119를 갖는 실리카 포함)을 들 수 있다. 이들 실리카 연마제는 미국 특허 제4,340,583호 (Wason)에 기재되어 있다. 특정한 실시양태에서, 본 발명에 의한 구강 관리 조성물의 실시에서 유용한 연마제 물질로는 흡유량이 약 100 cc/100 g 실리카, 약 45 cc/100 g 내지 약 70 cc/100 g 실리카 범위내인 실리카 겔 및 침전된 무정형 실리카를 들 수 있다. 흡유량은 ASTA 럽-아웃(Rub-Out) 방법 D281을 사용하여 측정한다. 특정한 실시양태에서, 실리카는 평균 입도가 약 3 ㎛ 내지 약 12 ㎛ 및 약 5 내지 약 10 ㎛인 콜로이드성 입자이다. 본 발명의 실시에서 특히 유용한 저 흡유성 실리카 연마제는 미국 매릴랜드주 21203 볼티모어에 소재하는 더블유. 알. 그레이스 앤 컴파니의 데이비슨 케미칼 디비젼이 상표명 실로덴트(Sylodent) XWA®로 시판한다. 물 함유량이 29 중량%이고, 평균 직경이 약 7 내지 약 10 ㎛이며, 흡유량이 약 70 cc/100 g의 실리카 미만인 콜로이드성 실리카의 입자로 이루어진 실리카 히드로겔인 실로덴트 650 XWA®은 본 발명의 실시에 유용한 저 흡유성 실리카 연마제의 일례이다.
발포제: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 구강을 칫솔질할 때 발생하는 기포의 양을 증가시키는 물질을 포함할 수 있다. 발포의 양을 증가시키는 물질의 예로는 알기네이트 중합체를 비롯한 (이에 한정되지 않음) 특정 중합체 및 폴리옥시에틸렌을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 캐리어 성분에 의하여 생성된 발포의 양 및 발포의 두께를 증가시킬 수 있다. 폴리옥시에틸렌은 또한 통상적으로 폴리에틸렌 글리콜 ("PEG") 또는 폴리에틸렌 옥시드로서 공지되어 있다. 본 발명에 적절한 폴리옥시에틸렌은 약 200,000 내지 약 7,000,000의 분자량을 가질 것이다. 한 실시양태에서, 분자량은 약 600,000 내지 약 2,000,000이며, 또 다른 실시양태에서 약 800,000 내지 약 1,000,000이다. 폴리옥스(Polyox)®는 유니온 카바이드(Union Carbide)가 제조한 고 분자량 폴리옥시에틸렌에 대한 상표명이다. 폴리옥시에틸렌은 본 발명의 구강 관리 조성물의 구강 관리 캐리어 성분의 약 1% 내지 약 90%, 한 실시양태에서 약 5% 내지 약 50%, 또 다른 실시양태에서, 약 10% 내지 약 20 중량%의 양으로 존재할 수 있다. 존재할 경우, 구강 관리 조성물 중의 발포제의 양 (즉, 1회 투여량)은 약 0.01 내지 약 0.9 중량%, 약 0.05 내지 약 0.5 중량%, 또 다른 실시양태에서 약 0.1 내지 약 0.2 중량%이다.
계면활성제: 본 발명에서 유용한 조성물은 예를 들면 음이온성 계면활성제을 함유할 수 있다.
i. 고급 지방산 모노글리세리드 모노술페이트의 수용성 염, 예컨대 수소화 코코넛 오일 지방산의 모노술페이트화 모노글리세리드의 나트륨 염, 예컨대 나트륨 N-메틸 N-코코일 타우레이트, 나트륨 코코모노글리세리드 술페이트,
ii. 고급 알킬 술페이트, 예컨대 나트륨 라우릴 술페이트,
iii. 예를 들면 화학식 CH3(CH2)mCH2(OCH2CH2)nOSO3X의 고급 알킬-에테르 술페이트 (여기서 m은 6-16, 예를 들면 10이고, n은 1-6, 예를 들면 2, 3 또는 4이고, X는 Na 또는 K임), 예를 들면 나트륨 라우레쓰-2 술페이트 (CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na),
iv. 고급 알킬 아릴 술포네이트, 예컨대 나트륨 도데실 벤젠 술포네이트 (나트륨 라우릴 벤젠 술포네이트),
v. 고급 알킬 술포아세테이트, 예컨대 나트륨 라우릴 술포아세테이트 (도데실 나트륨 술포아세테이트), 1,2 디히드록시 프로판 술포네이트의 고급 지방산 에스테르, 술포코라우레이트 (N-2-에틸 라우레이트 칼륨 술포아세트아미드) 및 나트륨 라우릴 사르코시네이트.
"고급 알킬"은 예를 들면 C6-30 알킬을 의미한다. 특정한 실시양태에서, 음이온성 계면활성제은 나트륨 라우릴 술페이트 및 나트륨 에테르 라우릴 술페이트로부터 선택된다. 음이온성 계면활성제은 예를 들면 배합물의 >0.01 중량%인 효과적인 양으로 존재할 수 있으나, 구강 조직에 자극이 되는 농도, 예를 들면 <10%로는 존재하지 않으며, 최적의 농도는 특정한 배합 및 특정한 계면활성제에 의존한다. 예를 들면 사용된 농도 또는 구강 청결제는 통상적으로 크림치약에 사용되는 것의 1/10 정도이다. 한 실시양태에서, 음이온성 계면활성제은 크림치약 중에 약 0.3% 내지 약 4.5 중량%, 예컨대 약 1.5%로 존재한다. 본 발명의 조성물은 예를 들면 음이온성, 양이온성, 쯔비터이온성 또는 비이온성일 수 있는 기타 계면활성제 및 음이온성 계면활성제을 포함하는 계면활성제의 혼합물을 임의로 함유할 수 있다. 일반적으로, 계면활성제은 넓은 pH 범위에 걸쳐 타당하게 안정한 것이다. 계면활성제은 예를 들면 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.); 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele); 및 미국 특허 제4,051,234호 (Gieske et al.)에서 보다 구체적으로 기재되어 있다. 특정한 실시양태에서, 본원에서 유용한 음이온성 계면활성제로는 알킬 라디칼에서 약 10 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 술페이트의 수용성 염 및 약 10 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 술포네이트화 모노글리세리드의 수용성 염을 들 수 있다. 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트 및 나트륨 코코넛 모노글리세리드 술포네이트는 이러한 유형의 음이온성 계면활성제의 예이다. 특정한 실시양태에서, 본 발명의 조성물, 예를 들면 조성물 1 (이하 참조)은 나트륨 라우릴 술페이트를 포함한다.
계면활성제 또는 적합한 계면활성제의 혼합물은 총 조성물의 약 0.1% 내지 약 5.0%, 또 다른 실시양태에서 약 0.3% 내지 약 3.0%, 또 다른 실시양태에서 약 0.5% 내지 약 2.0 중량%로 본 발명의 조성물 중에서 존재할 수 있다.
치석 조절제: 본 발명의 다양한 실시양태에서, 조성물은 치석형성 억제제 (치석 조절제)를 포함한다. 적절한 치석형성 억제제의 비제한적인 예로는 인산염 및 폴리인산염 (예를 들면 피로인산염), 폴리아미노프로판술폰산 (AMPS), 헥사메타인산염, 구연산아연 3수화물, 폴리펩티드, 폴리올레핀 술포네이트, 폴리올레핀 인산염, 2인산염을 들 수 있다. 그래서, 본 발명은 인산염을 포함할 수 있다. 특정한 실시양태에서, 이들 염은 알칼리 인산염, 즉 알칼리 금속 수산화물 또는 알칼리 토금속 수산화물의 염, 예를 들면 나트륨, 칼륨 또는 칼슘 염이다. 본원에서 사용된 바와 같은 "인산염"은 경구 허용 가능한 모노- 및 폴리인산염, 예를 들면 P1-6 인산염, 예를 들면 단량체 인산염, 예컨대 1염기성, 2염기성 또는 3염기성 인산염; 이량체 인산염, 예컨대 피로인산염; 및 다합체 인산염, 예를 들면 나트륨 헥사메타인산염을 포함한다. 특정한 예에서, 선택된 인산염은 2염기성 알칼리 인산염 및 알칼리 피로인산염으로부터 선택되며, 예를 들면 2염기성 인산나트륨, 2염기성 인산칼륨, 인산2칼슘 2수화물, 피로인산칼슘, 피로인산테트라나트륨, 피로인산테트라칼륨, 트리폴리인산나트륨 및 이들 중 임의의 2종 이상의 혼합물로부터 선택된다. 특정한 실시양태에서, 예를 들면 조성물은 피로인산테트라나트륨 (Na4P2O7), 피로인산칼슘 (Ca2P2O7) 및 2염기성 인산나트륨 (Na2HPO4)의 혼합물을 예를 들면 약 3-4%의 2염기성 인산나트륨 및 약 0.2-1%의 각각의 피로인산염의 양으로 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 조성물은 피로인산테트라나트륨 (TSPP) 및 트리폴리인산나트륨 (STPP) (Na5P3O10)의 혼합물을 예를 들면 약 1-2%의 TSPP 및 약 7% 내지 약 10%의 STPP의 비율로 포함한다. 그러한 인산염은 법랑질의 침식증의 감소, 치아의 세정에 도움 및/또는 치아에서 치석 축적의 감소에 효과적인 양으로, 예를 들면 조성물의 중량의 2-20%, 예를 들면 약 5-15%의 양으로 제공된다.
풍미제: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 풍미제를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시에 사용되는 풍미제의 예로는 에센셜 오일뿐 아니라, 다양한 풍미 알데히드, 에스테르, 알콜 및 유사 물질을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 에센셜 오일의 예로는 스피어민트, 페퍼민트, 윈터그린, 사사프러스, 클로브, 세이지, 유칼립투스, 마조람, 시나몬, 레몬, 라임, 그레이프프루트 및 오렌지의 오일을 들 수 있다. 또한, 멘톨, 카르본 및 아네톨과 같은 화학물질도 유용하다. 특정 실시양태는 페퍼민트 및 스피어민트의 오일을 사용한다. 풍미제는 경구 조성물 중에 약 0.1 내지 약 5 중량%, 예를 들면 약 0.5 내지 약 1.5 중량%의 농도로 혼입될 수 있다.
중합체: 본 발명의 구강 관리 조성물은 또한 배합물의 점도를 조절하거나 또는 기타 성분의 용해도를 향상시키는 추가의 중합체를 포함할 수 있다. 상기 추가의 중합체는 폴리에틸렌 글리콜, 다당류 (예를 들면 셀룰로스 유도체, 예를 들면 카르복시메틸 셀룰로스 또는 다당류 껌, 예를 들면 크산탄 껌 또는 카라기난 껌)를 포함한다. 산성 중합체, 예를 들면 폴리아크릴레이트 겔은 그의 유리 산 또는 부분 또는 완전 중화된 수용성 알칼리 금속 (예를 들면 칼륨 및 나트륨) 또는 암모늄 염의 형태로 제공될 수 있다.
수성 매체 중에서 중합체 구조 또는 겔을 형성하는 실리카 증점제가 존재할 수 있다. 이들 실리카 증점제는 매우 미세하게 분쇄되며 그리고 연마 작용이 매우 적거나 또는 전혀 없으므로, 조성물 중에 존재하는 입자상 실리카 연마제와는 물리적 그리고 기능적으로 상이하다는 점에 유의한다. 기타 증점제는 나트륨 카르복시메틸 셀룰로스 및 나트륨 카르복시메틸 히드록시에틸 셀룰로스 등의 셀룰로스 에테르의 수용성 염, 카르복시비닐 중합체, 카라기난 및 히드록시에틸 셀룰로스이다. 천연 껌, 예컨대 카라야, 아라비아 껌 및 트라가칸트 껌도 또한 혼입될 수 있다. 콜로이드성 규산마그네슘알루미늄은 또한 조성물의 질감을 추가로 개선시키기 위한 증점 조성물의 성분으로서 사용될 수 있다. 특정한 실시양태에서, 총 조성물의 약 0.5% 내지 약 5.0 중량%의 양으로 증점제를 사용한다.
본 발명의 조성물은 음이온성 중합체를 예를 들면 약 0.05 내지 약 5%의 양으로 포함할 수 있다. 상기 물질은 이러한 특정한 적용예에 대하여서는 아니지만, 일반적으로 치약에서의 용도가 공지되어 있으며, 본 발명에서 유용하며, 미국 특허 제5,188,821호 및 제5,192,531호에 개시되어 있으며; 합성 음이온성 중합체 폴리카르복실레이트, 예컨대 말레산 무수물 또는 산과 또 다른 중합성 에틸렌형 불포화 단량체의 1:4 내지 4:1 공중합체, 바람직하게는 약 30,000 내지 약 1,000,000, 가장 바람직하게는 약 300,000 내지 약 800,000의 분자량 (M.W.)을 갖는 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물을 들 수 있다. 이들 공중합체는 예를 들면 미국 뉴저지주 08805 바운드 브룩에 소재하는 아이에스피 테크놀로지즈, 인코포레이티드(ISP Technologies, Inc.)로부터 입수 가능한 강트레즈(Gantrez), 예를 들면 AN 139 (M.W. 500,000), AN 119 (M.W. 250,000) 및 바람직하게는 S-97 제약 등급 (M.W. 700,000)으로서 입수 가능하다. 증강제가 존재할 경우 약 0.05 내지 약 3 중량% 범위내의 양으로 존재한다. 기타 작동 중합체로는 예컨대 말레산 무수물과 에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈 또는 에틸렌의 1:1 공중합체 (후자는 예를 들면 몬샌토(Monsanto) EMA No. 1103, M.W. 10,000 및 EMA 그레이드 61로 입수 가능함) 및 아크릴산과 메틸 또는 히드록시에틸 메타크릴레이트, 메틸 또는 에틸 아크릴레이트, 이소부틸 비닐 에테르 또는 N-비닐-2-피롤리돈의 1:1 공중합체를 들 수 있다. 일반적으로, 활성화된 탄소-대-탄소 올레핀성 이중 결합 및 1종 이상의 카르복실 기를 함유하는 중합된 올레핀형 또는 에틸렌형 불포화 카르복실산, 즉 말단 메틸렌 기의 일부로서 또는 카르복실 기에 대하여 알파-베타 위치에서 단량체 분자 중에 그의 존재로 인하여 중합에서 쉽게 작용하는 올레핀성 이중 결합을 함유하는 산이 적절하다. 그러한 산의 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 알파-클로로아크릴산, 크로톤산, 베타-아크릴옥시 프로피온산, 소르브산, 알파-클로르소르브산, 신남산, 베타-스티릴아크릴산, 무콘산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산, 글루타콘산, 아코니트산, 알파-페닐아크릴산, 2-벤질아크릴산, 2-시클로헥실아크릴산, 앤젤산, 움벨산, 푸마르산, 말레산 및 무수물을 들 수 있다. 상기 카르복실 단량체와 공중합성을 갖는 기타 상이한 올레핀성 단량체로는 비닐아세테이트, 비닐 클로라이드, 디메틸 말레에이트 등을 들 수 있다. 공중합체는 수용해도에 대하여 충분한 카르복실염 기를 함유한다. 추가의 부류의 중합체 물질로는 치환 아크릴아미드의 단독중합체 및/또는 불포화 술폰산 및 그의 염의 단독중합체를 함유하는 조성물을 들 수 있으며, 특히 중합체는 미국 특허 제4,842,847호 (1989년 6월 27일, Zahid)에 기재된 약 1,000 내지 약 2,000,000의 분자량을 갖는 아크릴아미도알칸 술폰산, 예컨대 2-아크릴아미드 2 메틸프로판 술폰산으로부터 선택된 불포화 술폰산에 기초한다. 중합체 물질의 또 다른 유용한 유형으로는 소정 비율의 음이온성 계면활성 아미노산, 예컨대 아스파르트산, 글루탐산 및 포스포세린을 함유하는 폴리아미노산, 예를 들면 미국 특허 제4,866,161호 (Sikes et al.)에 개시되어 있는 바와 같다.
물: 경구 조성물은 상당한 레벨의 물을 포함할 수 있다. 시판 경구 조성물의 제조에 사용된 물은 탈이온화되어야 하며, 유기 불순물이 없어야 한다. 조성물 중의 물의 양은 기타 물질과 함께 투입되는 양에 더하여 첨가되는 유리 물을 포함한다.
습윤제: 경구 조성물의 특정한 실시양태에서, 또한 대기에 노출시 조성물이 경화되는 것을 방지하기 위하여 습윤제를 혼입하는 것이 바람직하다. 특정한 습윤제는 또한 치약 조성물에 바람직한 감미 또는 풍미를 부여할 수 있다. 적절한 습윤제로는 식용 다가 알콜, 예컨대 글리세린, 소르비톨, 자일리톨, 프로필렌 글리콜뿐 아니라, 기타 폴리올 및 이들 습윤제의 혼합물을 들 수 있다. 본 발명의 한 실시양태에서, 주요 습윤제는 25% 초과, 예를 들면 25-35%, 약 30%의 레벨로 존재할 수 있는 글리세린이며, 기타 습윤제는 5% 이하이다.
기타 임의의 성분: 상기 기재된 성분 이외에, 본 발명의 실시양태는 일부가 하기 기재된 각종 임의의 치약 성분을 함유할 수 있다. 임의의 성분으로는 예를 들면 접착제, 거품생성제(sudsing agent), 풍미제, 감미제, 추가의 치태 방지제, 연마제 및 착색제를 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 이들 및 기타 임의의 성분은 미국 특허 제5,004,597호 (Majeti); 미국 특허 제3,959,458호 (Agricola et al.) 및 미국 특허 제3,937,807호 (Haefele)에 추가로 기재되어 있으며, 이들 문헌 모두는 본원에 참조로 포함된다.
반대의 의미로 명시하지는 않지만, 본 명세서에 제공된 조성물 성분의 모든 비율(%)은 전체 조성물 또는 100%의 배합물 중량을 기준으로 한 중량이다.
그렇지 않고 구체적으로 명시하지 않는다면, 본 발명의 조성물 및 배합물에 사용하기 위한 성분은 화장품용으로 허용되는 성분인 것이 바람직하다. "화장품적으로 허용되는"이라는 것은 사람 피부로의 국소 적용을 위한 배합물에 사용하기에 적절하다는 것을 의미한다. 화장품적으로 허용되는 부형제는 예를 들면 본 발명의 배합물 중에서 고려되는 양 및 농도로 외용에 적절한 부형제이며, 예를 들면 미국 식품의약관리국에 의한 "일반적으로 안전한 물질로 인정되는 물질" (GRAS)인 부형제를 들 수 있다.
본원에서 제공된 바와 같은 조성물 및 배합물은 당업계에서 일반적인 바와 같이 그의 성분을 참조하여 기재 및 청구한다. 당업자에게 명백한 바와 같이 성분은 일부의 경우에서 서로 반응할 수 있어서 최종 배합물의 진정한 조성물이 제시된 성분에 정확하게 부합하지 않을 수 있다. 그래서, 본 발명은 제시된 성분의 조합의 생성물로 확장되는 것으로 이해하여야 한다.
본원에서 사용한 바와 같이, 범위는 해당 범위내의 각각의 값 및 모든 값을 기재하기 위하여 약칭으로서 사용된다. 상기 범위내의 임의의 값은 범위의 말단으로서 선택될 수 있다. 게다가, 본원에 인용된 모든 참고문헌은 그의 전체가 참조로서 포함된다. 본 개시내용의 정의 및 인용된 문헌의 것에서 충돌이 존재할 경우, 본 개시내용이 우선한다.
반대의 의미로 명시되지 않는다면, 본원 및 본 명세서의 다른 부분에 나타낸 모든 비율 및 양은 중량%를 지칭하는 것으로 이해하여야 한다. 제시된 양은 물질의 활성 중량을 기준으로 한다.
실시예
실시예 1
TBZC는 TMG HCl과 반응하여 흔히 TBZC-TMG HCl로 지칭하는 아연 종의 가용성 형태를 형성할 수 있는 것으로 나타난다. 놀랍게도, TBZC-TMG HCl은 적량의 물로 희석시 고체 물질을 생성하는 것으로 밝혀졌다. 고체 물질은 침전물 또는 폐색의 형태로 존재하며, 치아면이 반응 혼합물에 노출될 경우, 치아면에 부착된다. 고체 물질은 또한 구강 관리 구멍내의 연질 조직에 부착 가능할 것으로 예상된다. 폐색/침전 형성에서의 TBZC-TMG HCl의 능력은 독특하며, 예상밖이다.
TBZC-TMG는 산성화 없이 가용화되지만, 희석시 침전/폐색을 생성하지 못한다. 그러므로, 희석시 침전이 요구될 경우, 첨가에 의하여 또는 산 부가 염의 형태로 TMG를 제공하여 산이 존재하는 것이 바람직하다. 관련 구조를 갖는 기타 착체를 테스트하며, 산성화에 의하여 또는 산성화 없이 침전/폐색을 생성하지 못한다. 이들 중에서는 TBZC-세틸 피리디늄 클로라이드 (CPC), TBZC-CPC HCl (부분 HCl 사용, HCl 대 CPC의 몰비가 1 미만이라는 것을 의미함), TBZC-크레아틴, TBZC-크레아틴 HCl (둘다 부분 HCl 및 동몰의 HCl 사용)이 있다.
착체의 안정한 용액을 생성하고, 이를 특징화한다. 이들 착체로는 TBZC-TMG, TBZC-TMG HCl, TBZC-CPC, TBZC-CPC HCl (부분 HCl), TBZC-크레아틴 및 TBZC-크레아틴 HCl (2 타입)을 들 수 있다:
샘플 1, TBZC-TMG는 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5178 g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 TMG 용액 (5.8577 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 TMG)에 서서히 첨가한다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거한 후, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 1>
Figure pct00001
샘플 2, TBZC-TMG는 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5193 g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 TMG 용액 (5.8573 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 TMG)에 서서히 첨가한다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거하고, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 2>
Figure pct00002
샘플 3, TBZC-TMG HCl은 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5188 g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 TMG 용액 (7.68 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 TMG HCl)에 서서히 첨가한다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거하고, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 3>
Figure pct00003
샘플 4, TBZC-TMG HCl은 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5207g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 TMG 용액 (7.6804 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 TMG HCl)에 서서히 첨가한다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거하고, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 4>
Figure pct00004
샘플 5, TBZC-크레아틴은 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5183 g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 크레아틴 일수화물 용액 (7.4595 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 크레아틴 일수화물)에 서서히 첨가한다. 음파 처리를 사용하여 용해를 돕는다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거하고, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 5>
Figure pct00005
샘플 6, TBZC-크레아틴 1/3 HCl은 하기와 같이 생성한다. 크레아틴 일수화물을 실온에서 교반하면서 HCl 수용액에 첨가한다. 그후, 약 15 분 후 TBZC를 첨가한다. 현탁액을 7,200 rpm에서 30 분 동안 원심분리한 후, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 투명한 용액을 수집하고, 미반응 백색 고체를 버린다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 6>
Figure pct00006
샘플 7, TBZC-CPC은 하기와 같이 생성한다. 실온에서, 5.5183 g (0.01 mol)의 TBZC 분말을 50 ㎖의 세틸 피리디늄 클로라이드 용액 (17.8998 g, 50 ㎖ 탈이온수 중의 0.05 mol의 세틸 피리디늄 클로라이드)에 서서히 첨가한다. 음파 처리를 사용하여 용해를 돕는다. 혼합물을 밤새 약 20 시간 동안 교반한다. 미반응 TBZC를 원심분리에 의하여 제거하고, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 최종 생성물은 투명한 용액이다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 7>
Figure pct00007
샘플 8, TBZC-CPC 1/3 HCl은 하기와 같이 생성한다. 세틸 피리디늄 클로라이드를 실온에서 교반하면서 HCl 수용액에 첨가한다. 그후, 약 15 분 후 TBZC를 첨가한다. 현탁액을 7,200 rpm에서 30 분 동안 원심분리한 후, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 투명한 용액을 수집하고, 미반응 백색 고체를 버린다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 8>
Figure pct00008
크레아틴으로서 등몰의 HCl을 갖는 샘플 9, TBZC-크레아틴 HCl은 하기와 같이 생성한다. 크레아틴 일수화물을 실온에서 교반하면서 HCl 수용액에 첨가한다. 완전 용해가 달성된 후, TBZC를 첨가하고, 현탁액이 생성되었다. 현탁액을 7,200 rpm에서 30 분 동안 원심분리한 후, 0.45 ㎛ 멤브레인에 여과한다. 투명한 용액을 수집하고, 미반응 백색 고체를 버린다. 아연 농도는 산 소화후 원자 흡수 분광학에 의하여 측정한다.
<표 9>
Figure pct00009
CPC로서 등몰의 HCl을 사용하여 TBZC-CPC HCl을 생성하고자 한다. 세틸 피리디늄을 실온에서 교반하에 HCl 수용액에 첨가하고, 백색 현탁액이 형성된다 (15 분 동안 교반한 후 완전 용해되지 않는다). 그후, TBZC를 첨가한다. 잠시 교반한 후, 혼합물은 더 이상 교반이 불가한 "연질 고체"가 되었다. 그후, 실험을 증지한다.
<표 10>
Figure pct00010
CPC HCl (TBZC-CPC 1/3 HCl, 샘플 8)을 포함하는 제제의 경우, HCl을 1:3 몰비 (HCl:CPC)로 첨가한다. HCl을 CPC와 등몰로 첨가할 경우, 반응 혼합물은 짙은 슬러리가 되며, 액체를 추출할 수 없다.
크레아틴 HCl을 포함하는 제제의 경우, 2가지 유형이 생성된다. 제1의 유형은 크레아틴에 대한 1:3 몰비로 HCl의 사용을 포함하며, 샘플은 TBZC-크레아틴 1/3 HCl, 즉 샘플 6으로 코딩한다. 제2의 유형은 크레아틴에 대한 1:1 몰비로 HCl의 사용을 포함하며, 샘플은 TBZC-크레아틴 HCl, 즉 샘플 9로 코딩한다.
각각의 착체는 희석시 침전 또는 폐색을 형성하는 그의 능력 및 속도에 대하여 평가한다. 이러한 분석의 경우, 다양한 희석율 (예를 들면 2x 내지 32x)의 샘플을 생성하고, 37℃에서 유지한다. 샘플을 주기적으로 모니터하고, 침전/폐색을 생성하는 그의 효율을 기록한다.
희석 실험은 TBZC-TMG HCl이 침전/폐색을 생성할 수 있는 유일한 것이며, 그리하여 상아질 표면 위에 고체 입자를 침착시키는 것이 바람직하다는 것을 나타낸다. 폐색/침전 속도는 물이 원하는 비율로 스톡 용액과 혼합시 초기 아연 농도와 관련된 희석율에 의존한다.
제1의 희석 실험은 아연 농도가 3.77 중량%인 샘플 TBZC-TMG HCl의 배취를 사용하여 실시한다. 희석은 0.118 중량%, 0.236 중량%, 0.471 중량%, 0.628 중량%, 0.942 중량% 및 1.88 중량%의 초기 아연 농도 (침전 이전)로 생성한다. 희석된 샘플을 37℃에서 유지하고, 폐색/침전이 발생되는 속도를 모니터한다. 0.471 중량%, 0.628 중량% 및 0.942 중량%에서의 초기 아연 농도를 사용한 희석은 스톡 용액을 물과 혼합할 때의 시점으로부터 2 분 이내에 일부 눈에 보이는 폐색이 생성될 수 있다. 혼합으로부터 1 시간에, 눈에 보이는 폐색이 0.236 중량%, 0.471 중량%, 0.628 중량% 및 0.942 중량%의 초기 아연 농도로 희석시 관찰된다. 20 시간 후, 폐색 및 침전은 모든 샘플에서 관찰될 수 있다.
제2의 희석 실험은 아연 농도가 3.42 중량%인 샘플 TBZC-TMG HCl의 배취를 사용하여 실시한다. 초기 아연 농도가 0.107 중량%, 0.214 중량%, 0.428 중량%, 0.855 중량% 및 1.71 중량%인 희석을 생성한다. 희석된 샘플을 37℃에서 약 24 시간 동안 휴지한 후, 검사한다. 초기 아연 농도가 0.428 중량%, 0.855 중량% 및 1.71 중량%인 샘플은 폐색/침전을 생성할 수 있다. 초기 아연 농도가 0.107 중량% 및 0.214 중량%인 샘플은 24 시간 항온처리후조차 임의의 가시적인 양의 폐색/침전을 생성하지 못한다.
폐색/침전을 생성하는 제제를 사용하여 치아 및 점막면을 비롯한 구강면에 활성 물질을 침착시킬 수 있다. 이에 관하여, 물에 대하여 약 0.118 중량% 내지 약 1.88 중량%의 초기 아연 농도를 사용한 희석을 사용할 수 있다. 실제의 배합물에서, 물론 배합물 중의 아연의 농도는 물에 대한 희석 농도보다 더 낮은데, 이는 전체 배합물이 물 이외의 성분을 포함하기 때문이다. 농도 스펙트럼의 하한 및 상한에서의 제제는 더 긴 처리 시간을 필요로 하는 경향이 있으며, 침전/폐색을 생성하는 것에 있어서 신뢰도가 가장 크지는 않다. 물에 대한 약 0.236 중량% 내지 약 0.942 중량%의 초기 아연 농도를 사용한 희석은 1 시간 이내에 침전/폐색을 생성할 수 있는 그의 능력으로 인하여 바람직하다. 물에 대한 약 0.471 중량% 내지 약 0.942 중량%의 초기 아연 농도를 사용한 희석은 희석 개시로부터 2 분 이내에 폐색을 생성하는 그의 능력으로 인하여 더욱 바람직하다.
육안으로 식별 가능한 폐색/침전을 생성하지 않는 제제는 또한 구강면에 활성 물질을 침착시키는데 사용될 수 있다. 뚜렷한 폐색/침전 생성의 실패는 바람직하지 않은 희석비 또는 부적절한 처리 기간으로 인한 것일 수 있다. 그러나, 제제는 여전히 입자, 예컨대 콜로이드성 입자를 생성할 수 있다. 이들 입자는 처리 기간 이내에 침전물을 형성하지 않으면서, 표면 침착물을 구강면에 형성할 수 있다. 이와 관련하여, 희석율 및/또는 처리 기간의 작동 가능한 범위는 전술한 희석 실험으로부터 직접 추론할 수 있는 것보다 더 넓다.
TBZC-TMG-HCl은 상기 샘플 3 및 4에 대한 데이타로부터 알 수 있는 바와 같이, 비교적 높은 레벨의 가용화된 아연을 제공하며, 게다가, 희석시 침전/폐색을 제공한다.
기타 샘플을 희석하며, 산성화를 사용하거나 또는 산성화 없이 침전/폐색을 생성하지 못한다. 테스트한 배합물 중에서 독특한, 폐색/침전을 생성하는데 있어서의 TBZC-TMG HCl의 능력은 예상밖이다. 예를 들면 TMG 산 부가 염으로부터 또는 산으로서 별도로 제공된 음이온의 존재는 이러한 관점에서 성능을 향상시킨다. TBZC-CPC 및 TBZC-CPC 1/3 HCl 샘플은 희석시 침전을 나타내지 않으며, 이는 폐색/침전을 형성하는 능력이 4차 아민 모이어티를 포함하는 모든 구조에 대하여서는 공통적이지 않다는 것을 시사한다. TBZC-크레아틴, TBZC-크레아틴 1/3 HCl 및 TBZC-크레아틴 HCl 샘플은 또한 희석시 침전을 나타내지 않으며, 이는 폐색/침전을 형성하는 능력이 강한 염기성 모이어티를 갖는 모든 구조에 대하여서는 공통적이지 않다는 것을 시사한다. TBZC-TMG-HCl과 본질적으로 동일한 pH 값 및 실질적인 아연 적재량을 갖는 TBZC-크레아틴 1/3 HCl을 사용한 실패는 TBZC-TMG-HCl의 독특성을 추가로 입증한다. 또한, TBZC-TMG (산성화 없음)는 침전물 생성에 작용하지 않는다는 점이 놀랍다. 산성화 없이는 TMG가 TBZC를 가용화시키는 매우 제한된 능력을 갖는다는 것을 알 수 있다. 게다가, TMG는 TBZC-TMG-HCl을 사용하여 알 수 있는 바와 같이 아연-함유 이온과의 착체 중에서보다는 그의 단량체 및 올리고머로서 TBZC-TMG 중에 주로 존재한다.
실시예 2
상기 실시예에서 기재된 바와 같이 TBZC-TMG-HCl 착체 용액은 치아에 적용되고, 희석되어 침전을 유발할 경우 상아질 세관을 폐색시키는데 있어서 효과적인 것으로 나타난다. 이러한 침착 및 세관 폐색은 민감성이 감소되어야만 하며, 게다가, 법랑질을 침식증 및 세균 집락으로부터 보호하는 것을 돕는 아연의 저장소를 제공한다.
사람 상아질 절편의 얇은 슬라이스는 전체 사람 치아로부터 설정된 절차를 수행하여 생성된다. 상아질 슬라이스는 사람 치아를 두께가 약 800 ㎛인 얇은 상아질 절편으로 절단하고, 시험면을 표시하고, 약 600 그릿의 샌드페이퍼를 사용하여 상기 시험면을 샌딩하고, 뷸러(Buehler) 연마포 및 5 ㎛ 뷸러 산화알루미늄을 사용하여 상기 시험면을 연마시키고, 상기 상아질 절편을 1% (중량) 구연산 용액 중에서 약 20 초 동안 산-에칭시키고, 상기 상아질 절편을 10 분 동안 음파 처리하고, 상기 상아질 절편을 인산염 완충 염수 (PBS, pH 7.4, 깁코(Gibco) Cat. No. 10010) 중에 보관하여 생성하였다.
사람 상아질 절편의 얇은 슬라이스를 우선 기준선 특징화에 대하여 공초점 현미경에서 영상화한다. 상면 화상을 XYZ 모드로 촬영하고, 측면 화상은 XZY 모드로 촬영한다. 통상의 화상은 50x 대물 렌즈 및 x4 줌 (디지탈 배율)로 촬영한다. 더 낮은 배율에서 보다 전반적인 화상을 원할 경우, 상면 화상의 경우 x1 또는 x1.6 줌에서 그리고 측면 화상의 경우 x1.6 줌에서 촬영한다.
그후, 각각의 처리 용액을 사용하여 사람 상아질 절편의 얇은 슬라이스를 테스트한다. TBZC-TMG HCl (3.42 중량%의 아연 포함)의 스톡 용액을 우선 바이알내에서 1:3 부피비로 적량의 물과 혼합하여 0.855 중량% 출발 아연 농도를 얻는다. 수초 이내에, 상아질 슬라이스를 바이알에 첨가하고, 바이알에 뚜껑을 덮고, 항온처리기내에서 37℃에서 1 시간 처리 동안 보관한다. 처리 종반에, 바아알을 항온처리기에서 꺼내고, 액체 및 침전물 (만약 있을 경우)을 피펫을 사용하여 제거한다. 상아질 디스크를 매회 1 ㎖의 PBS (pH=7.4) 용액을 사용하여 4회 헹군다. 티슈를 사용하여 상아질 디스크를 건조시킨다.
처리된 얇은 슬라이스를 표면에서의 폐색 및 침착의 징후에 대하여 공초점 현미경하에서 조사한다. 사전 처리와 동일한 처리 절차를 사용하여 처리된 디스크에 반복 처리를 실시한다. 공초점 화상을 촬영하여 1회 이상의 반복 처리후 추가의 폐색 및 침착의 진행을 모니터한다.
공초점 화상에 의하여 보고된 바와 같이 TBZC-TMG HCl은 1 시간 처리후 상아질 세관을 실질적으로 완전하게 폐색시키고, 상아질 슬라이스의 표면에 실질적으로 완전한 피복을 형성하는 것으로 나타난다.
기준선 화상은 구멍 사이의 깨끗한 표면 및 개방 세관을 나타낸다. 1회 처리시, 상당한 세관 폐색뿐 아니라, 세관 구멍 사이의 실질적인 침착이 관찰될 수 있다. 공초점 현미경하에서 2개의 스폿을 조사한다. 제1의 스폿에서, 측면 및 상면 화상 모두는 낮은 해상도에서 (더 큰 면적을 나타냄) 촬영된 화상에서 확인된 바와 같이 침착 및 폐색의 존재를 나타냈다. 제2의 스폿에서는 거의 완전한 표면 침착 및 폐색이 관찰된다.
제2의 처리시, 보다 큰 세관 폐색 및 표면 침착이 관찰된다. 측면 화상은 세관 구멍을 포함하는 표면에서의 완전한 피복을 나타낸다. 상면 화상은 분리된 패취에서를 제외한 실질적으로 완전한 표면 피복 및 세관 폐색을 나타낸다. 측면 화상은 약 10 ㎛의 높이에 대하여 기준선으로부터 (이웃하는 부위에서 상아질 표면 또는 침착물의 상면에서) 상부를 향하여 연장된 표면 침착물의 플레어(flare)를 나타낸다.
제3의 처리후, 실질적인 표면 침착 및 세관 폐색이 관찰된다. 상면 및 측면 화상 모두는 개방 상아질 표면 및 세관의 일부 패취를 나타내지만, 그럼에도 불구하고 피복은 상당하다. 또한, 개방된 것으로 보이는 세관은 아마도 공초점 화상을 빠져나가는 깊이에서 여전히 차단되어 있다는 점이 유의할 만하다.
반복된 처리, 특히 제1의 처리로부터 제2의 처리에서 침착/폐색의 상당한 증가는 상아질 디스크의 표면이 사전 처리에 의하여 상태조절되며, 차후의 처리 중에 더 많음 침착물/폐색물을 수용할 수 있다는 것을 시사한다. 제3의 처리로부터의 결과는 포화점을 나타낸다. 반대로, TBZC-TMG를 사용한 반복된 처리는 공초점 화상에서 눈에 보이는 표면 침착물 또는 세관 폐색을 생성하지 못한다.
처리 시간은 이러한 분석에 사용된 1 시간 기간으로부터 감소될 수 있다. 희석 실험에서 이미 보고된 바와 같이, 초기 아연 농도가 물 중의 약 0.45 중량% 내지 약 0.95 중량% 범위내인 TBZC-TMG HCl 제제는 물 및 스톡 용액의 초기 혼합으로부터 수분 이내에 눈에 보이는 양의 폐색/침전을 생성한다. 또한, 1-시간 처리 ?험에서, 물 및 스톡 용액의 혼합으로부터 1 분 이내에 용액 (물 중의 0.855 중량% 초기 아연 농도) 중에 혼탁이 관찰된다. 그러므로, 예를 들면 1 분 이하의 짧은 처리 시간을 사용할 수 있다. 이들 짧은 처리 시간은 1 시간 처리로 실질적이지 않은 다수의 전달 플랫폼, 예컨대 크림치약 및 구강세정액을 가능케 한다. 침착 입자에서의 효율의 임의의 잠재적인 감소는 더 많이 반복된 처리에 의하여 보상된다. 예를 들면 처리 요법은 3회 이상 처리를 포함할 수 있으며, 각각 약 1 내지 2 분 지속된다.
처리된 상아질 디스크는 또한 ESCA (화학 분석용 전자 분광학)를 사용하여 아연의 존재 및 상태뿐 아니라, TMG의 존재를 확인하기 위하여 특정화한다. 게다가, TBZC-TMG HCl 희석으로부터의 독립 침전물을 생성하고, ESCA를 사용하여 특징화한다.
침전물의 조성은 ESCA를 사용하여 독립 실체로서 그리고 상아질 표면에서의 코팅으로서 모두 조사하였다. 그러한 데이타는 침전물이 아연 함유 화합물 및 변동하는 양의 베타인의 조합을 포함한다는 것을 시사한다.
ESCA 분석은 생성된 상태 그대로 그리고 탈이온수를 사용한 헹굼 후 둘다에서 TBZC-TMG HCl 희석으로부터 침전물에 대하여 실시한다. 두 샘플은 상당량의 Cl (염소)을 함유한다. 헹군 샘플은 TBZC, Zn(OH)2뿐 아니라, 기타 아연 종으로 이루어지며, 헹군 샘플에서는 TMG가 발견되지 않는다. 생성된 바와 같은 샘플은 TBZC 및 Zn(OH)2의 혼합물뿐 아니라, 기타 아연 종을 함유한다. 게다가, 생성된 바와 같은 샘플은 소량의 TMG를 함유하였다. TBZC-아미노산 착체를 사용한 실험과는 대조적으로, ZnO는 헹군 또는 생성된 바와 같은 침전물 중의 아연의 주요 형태로서 나타나지 않는다.
ESCA 결과는 또한 TBZC-TMG HCl로 처리한 상아질 디스크에서 Zn-함유 화합물 (인산염뿐 아니라, Zn-함유 화합물의 적어도 1개 이상의 형태)의 존재를 나타낸다. Zn은 상당한 레벨 (기준선으로부터 15.07 대 0)에서 검출된다. 인 (P)은 또한 미처리 디스크 (기준선으로부터 8.75 대 1.92 또는 2.09)에 대하여서보다 상당히 더 높은 레벨에서 검출되며, 이는 적어도 일부의 Zn이 표면에서 인-함유 화합물로서 존재한다는 것을 시사한다. Zn 피크는 Zn3(PO4)2의 형태의 Zn과 일치하지 않는다. 그래서, 그러한 데이타는 Zn이 오르토인산염이 아닌 인산염으로서 존재한다는 것을 시사한다. Zn 및 P의 상대적인 양은 또한 인산염 이외에 Zn의 적어도 하나 이상의 형태가 디스크 위에 존재한다는 것을 시사한다. 그러한 데이타는 ZnO의 존재를 시사하지는 않는다.
ESCA 분석은 TBZC-TMG HCl로 처리된 상아질 디스크에서의 TMG의 존재를 나타내지 않는다. 질소 (N) 원자는 또한 표면에 Zn 코팅을 나타내는, 미처리 디스크 (기준선으로부터 3.55 대 13.77 또는 14.51)에 대한 것보다 낮은 레벨에서 디스크의 표면에서 검출되었다. 검출된 질소는 아마도 상아질로부터인 것인데, 이는 비하전 상태로 존재하기 때문이다. TMG 질소는 표면에서 N+로서 검출되며, 그의 존재는 뚜렷하지 않다. SIMS 분석은 임의의 TMG를 나타내지 못한다. ESCA는 침착 입자의 외부면에서의 화학적 조성을 검출하며, TMG는 외부면 아래에 존재할 수 있어서 검출을 배제한다. 표면층 및 침착의 벌크 사이의 유기물 함유량에서의 차이는 TBZC-아미노산 제제를 사용하여 관찰되며, 그러한 차이는 TBZC-TMG의 경우에서 타당하게 예상될 수 있다. 이러한 차이는 헹굼시 표면층으로부터 유기물 함유량의 결여에 기인할 수 있다. 헹군 침전물에서의 TMG의 부재 및 생성된 바와 같은 침전물에서의 TMG의 존재는 이러한 개념을 지지한다.
음이온의 부재하의 TBZC-TMG는 TBZC-TMG HCl과는 대조적으로 희석후 상아질로의 상당한 침착물을 제공하지 않는다. ESCA 분석은 TBZC-TMG로 처리한 상아질 표면에서 아연-함유 화합물이 소량으로만 존재하며, TMG는 존재하지 않는다는 것을 나타낸다. C, O 및 N 레벨은 표면에서 거의 적은 침착을 나타내는 미처리 디스크에 대한 것과 유사하다. Zn는 낮은 레벨에서 검출되며, 이는 처리로부터의 소량의 흡수를 나타낸다. P는 미처리 디스크에 대하여 약간 증가된 레벨에서 검출되며, 이는 Zn이 인산염으로서 표면에 존재할 수 있다는 것을 시사한다. 그러나, Zn 피크는 Zn3(PO4)2로서 존재하는 Zn과 일치하지 않는다. Zn 피크는 또한 Zn이 ZnO로서 존재하지 않는다는 것을 나타낸다. SIMS 분석은 임의의 TMG를 발견하지 못한다. 그래서, 희석시 아연의 침착이 요구될 경우, 음이온은 산 부가 염으로서 또는 TMG에 대하여 대략 등몰의 첨가된 산으로서 제공될 수 있다.
실시예 3
TBZC-TMG HCl, 1,450 ppm 플루오라이드 및 인산염을 포함하는 테스트 치약은 하기와 같이 생성한다:
<표 11>
Figure pct00011
실시예 4
안정한 구강 청결제 배합물은 하기와 같이 제공한다:
<표 12>
Figure pct00012
본 발명은 본 발명을 실시하는 바람직한 방식을 비롯한 구체적인 예에 관하여 기재하였으나, 당업자는 상기 기재된 시스템 및 기법의 다양한 변형 및 치환이 존재한다는 것을 이해할 것이다. 기타 실시양태를 사용할 수 있으며, 구조적 및 기능적 변형은 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있는 것으로 이해하여야 한다. 그래서, 본 발명의 범주는 하기 첨부된 특허청구범위에서 명시된 바와 같이 광의로 해석하여야 한다.

Claims (17)

  1. 유리 또는 경구 허용 가능한 염 형태의 4가염기성 아연 할라이드 및 트리메틸글리신 (TMG)의 혼합물을 포함하는 구강 관리 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 할라이드가 클로라이드, 브로마이드 및 플루오라이드로부터 선택되는 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 할라이드가 클로라이드인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, TMG가 경구 허용 가능한 산 부가 염 형태로 제공되는 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, TMG가 염산염의 형태로 제공되는 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 아연의 양이 0.05-4 중량%인 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 4가염기성 아연 할라이드가 배합물 중에 가용화되지만, 타액 및/또는 헹굼액과 함께 사용 및 이로써 희석시 아연 침전물을 제공하는 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 구강 관리 조성물 중에 혼입 이전에 4가염기성 아연 할라이드 및 TMG의 혼합물이 생성되는 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 크림치약, 겔, 구강 청결제, 파우더, 크림, 스트립 또는 껌의 형태인 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 유효량의 플루오라이드 이온 공급원을 더 포함하는 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 연마제, 완충제, 습윤제, 계면활성제, 증점제, 껌 스트립 또는 단편, 구강 청량제, 풍미제, 향료, 착색제, 항세균제, 미백제, 세균 부착을 방해 또는 예방하는 물질, 칼슘 공급원, 인산염 공급원, 경구 허용 가능한 칼륨 염, 음이온성 중합체 및 그의 2종 이상의 조합으로부터 선택된 성분을 포함하는 경구 허용 가능한 베이스를 포함하는 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물의 첨가 이전에 혼합물의 pH가 pH 5 내지 pH 6인 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 법랑질의 산식증의 감소 및 억제, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 구취 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소에 사용하기 위한 조성물.
  14. 4가염기성 아연 할라이드, TMG 및 음이온성 종을 포함하는 이온성 착체.
  15. 구강 관리 제품의 제조에서의 TMG와 함께 4가염기성 아연 할라이드의 용도.
  16. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 의한 조성물을 치아에 적용하는 것을 포함하는, 치아 법랑질 침식증의 치료 또는 감소, 치아의 세정, 세균에 의하여 생성된 균막 및 치태의 감소, 치은염의 감소, 충치 및 와동 형성의 억제 및/또는 상아질 과민증의 감소 방법.
  17. 4가염기성 아연 할라이드-트리메틸글리신 착체.
KR1020157016637A 2012-12-19 2012-12-19 4가염기성 염화아연 및 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 제품 KR20150097552A (ko)

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KR1020157016637A KR20150097552A (ko) 2012-12-19 2012-12-19 4가염기성 염화아연 및 트리메틸글리신을 포함하는 구강 관리 제품

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2636612C2 (ru) * 2012-12-19 2017-11-24 Колгейт-Палмолив Компани Композиции для ухода за полостью рта, содержащие комплекс цинка с аминокислотой и галогенидом
CN104853723B (zh) 2012-12-19 2017-12-08 高露洁-棕榄公司 包含锌‑氨基酸络合物的口腔凝胶
EP3308793B1 (en) 2015-06-12 2020-10-14 JFE Mineral Company, Ltd. Therapeutic agent for skin wound or rough skin
KR101978828B1 (ko) * 2016-03-21 2019-05-15 주식회사 엘지생활건강 바이오필름 제거용 조성물
GB2565511B (en) 2016-05-26 2022-04-13 Kimberly Clark Co Anti-adherent compositions and methods of inhibiting the adherence of microbes to a surface
CN109803634A (zh) 2016-09-28 2019-05-24 高露洁-棕榄公司 口腔护理组合物和其分配系统
CN111417437B (zh) * 2017-12-19 2023-02-17 高露洁-棕榄公司 口腔护理组合物
EP3727283A1 (en) * 2017-12-19 2020-10-28 Colgate-Palmolive Company Personal care compositions
US11117906B2 (en) 2018-12-21 2021-09-14 Colgate-Palmolive Company Methods for synthesizing zinc-lysine-chloride complex
EP3897864A1 (en) 2018-12-21 2021-10-27 Colgate-Palmolive Company Zinc-arginine-halide complex
US11229591B2 (en) 2018-12-21 2022-01-25 Colgate-Palmolive Company Methods for synthesizing zinc-lysine-chloride complex
US11091502B2 (en) 2018-12-21 2021-08-17 Colgate-Palmolive Company Methods for synthesizing zinc-lysine-chloride complex

Family Cites Families (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1538230A (en) 1921-12-05 1925-05-19 Ernest F Wiederholdt Insulated spark-plug connecter
DE735096C (de) 1940-12-09 1943-05-06 Ig Farbenindustrie Ag Verfahren zur Herstellung von Sulfonsaeuren
US2527686A (en) 1945-12-26 1950-10-31 Max H Sandberg Mouthwash
US2503280A (en) 1947-10-24 1950-04-11 Du Pont Azo catalysts in preparation of sulfonic acids
US2507088A (en) 1948-01-08 1950-05-09 Du Pont Sulfoxidation process
US2893918A (en) 1957-04-24 1959-07-07 Harold A Abramson Deodorant composition
FR1247957A (fr) 1958-09-28 1960-12-09 Ajinomoto Kk Procédé de séparation continue d'aminoacides racémiques
US3320174A (en) 1964-04-20 1967-05-16 Colgate Palmolive Co Detergent composition
US3372188A (en) 1965-03-12 1968-03-05 Union Oil Co Sulfoxidation process in the presence of sulfur trioxide
US3538230A (en) 1966-12-05 1970-11-03 Lever Brothers Ltd Oral compositions containing silica xerogels as cleaning and polishing agents
US3678154A (en) 1968-07-01 1972-07-18 Procter & Gamble Oral compositions for calculus retardation
US3535421A (en) 1968-07-11 1970-10-20 Procter & Gamble Oral compositions for calculus retardation
US3741911A (en) 1970-12-21 1973-06-26 Hart Chemical Ltd Phosphate-free detergent composition
US3959458A (en) 1973-02-09 1976-05-25 The Procter & Gamble Company Oral compositions for calculus retardation
US3937807A (en) 1973-03-06 1976-02-10 The Procter & Gamble Company Oral compositions for plaque, caries, and calculus retardation with reduced staining tendencies
US3862307A (en) 1973-04-09 1975-01-21 Procter & Gamble Dentifrices containing a cationic therapeutic agent and improved silica abrasive
US3941818A (en) 1973-08-20 1976-03-02 Zinpro Corporation 1:1 Zinc methionine complexes
US4051234A (en) 1975-06-06 1977-09-27 The Procter & Gamble Company Oral compositions for plaque, caries, and calculus retardation with reduced staining tendencies
US4340583A (en) 1979-05-23 1982-07-20 J. M. Huber Corporation High fluoride compatibility dentifrice abrasives and compositions
CA1139229A (en) 1979-06-20 1983-01-11 Thomas W. Ritchey Zinc salt with glycine in oral composition
US4339432A (en) 1979-06-20 1982-07-13 Lever Brothers Company Oral mouthwash containing zinc and glycine
US4316824A (en) 1980-06-26 1982-02-23 The Procter & Gamble Company Liquid detergent composition containing alkyl sulfate and alkyl ethoxylated sulfate
JPS57158724A (en) 1981-03-26 1982-09-30 Shiseido Co Ltd Antimicrobial composition
US4565693A (en) 1981-11-09 1986-01-21 Colgate-Palmolive Company Deodorant composition
US4487757A (en) 1981-12-28 1984-12-11 Colgate-Palmolive Company Dispensing container of toothpaste which effervesces during toothbrushing
IL64700A0 (en) 1982-01-01 1982-03-31 Binderman Itzhak Dental care compositions
US4885155A (en) 1982-06-22 1989-12-05 The Procter & Gamble Company Anticalculus compositions using pyrophosphate salt
DE3238118A1 (de) 1982-10-14 1984-04-19 Verla-Pharm, Arzneimittelfabrik Apotheker H.J. v. Ehrlich GmbH & Co KG, 8132 Tutzing Verfahren zur herstellung von komplexverbindungen aus aminodicarbonsaeuren, zweiwertigen metallionen und halogenidionen
US4687663B1 (en) 1983-03-01 1997-10-07 Chesebrough Ponds Usa Co Dental preparation article and method for storage and delivery thereof
CA1243952A (en) 1984-06-11 1988-11-01 John C. Godfrey Flavor of zinc supplements for oral use
US4599152A (en) 1985-05-24 1986-07-08 Albion Laboratories Pure amino acid chelates
US5192531A (en) 1988-12-29 1993-03-09 Colgate-Palmolive Company Antibacterial antiplaque oral composition
US5188821A (en) 1987-01-30 1993-02-23 Colgate-Palmolive Company Antibacterial antiplaque oral composition mouthwash or liquid dentifrice
US4866161A (en) 1987-08-24 1989-09-12 University Of South Alabama Inhibition of tartar deposition by polyanionic/hydrophobic peptides and derivatives thereof which have a clustered block copolymer structure
US5004597A (en) 1987-09-14 1991-04-02 The Procter & Gamble Company Oral compositions comprising stannous flouride and stannous gluconate
US4842847A (en) 1987-12-21 1989-06-27 The B. F. Goodrich Company Dental calculus inhibiting compositions
US5287539A (en) * 1988-03-10 1994-02-15 Scientific-Atlanta, Inc. Interdiction program denial system for jamming audio and video signals
US5061815A (en) 1988-07-06 1991-10-29 Zinpro Corporation Metal lysine complexes and method for producing metal lysine complexes
US5156845A (en) * 1990-05-04 1992-10-20 Colgate-Palmolive Company Dry mouth lozenge
GB2243775A (en) 1990-05-09 1991-11-13 Unilever Plc Oral compositions
JPH0578243A (ja) 1990-12-11 1993-03-30 Shiseido Co Ltd 鎮痒剤及び鎮痒組成物
GB9107833D0 (en) 1991-04-12 1991-05-29 Unilever Plc Treatment of periodontitis
US5643559A (en) 1991-10-30 1997-07-01 Colgate-Palmolive Company Deodorant compositions comprising inhibitors of odor-producing axillary bacterial exoenzymes
US5504055A (en) 1994-03-15 1996-04-02 J.H. Biotech, Inc. Metal amino acid chelate
US5707679A (en) 1994-09-30 1998-01-13 Kemin Industries, Inc. Metal propionates for use as animal feed supplements
EP1203575B1 (en) 1995-05-03 2010-09-01 Unilever N.V. Clear gel-type dentrifices
US5714447A (en) 1996-01-24 1998-02-03 Church & Dwight Co., Inc. Deodorant soap or detergent composition containing a zinc compound and a polyamine
US5698724A (en) 1996-04-30 1997-12-16 Zinpro Corporation Amino acid metal complexes using hydrolyzed protein as the amino acid source and methods re same
AU4428397A (en) 1996-09-20 1998-04-14 Warner-Lambert Company Oral compositions containing a zinc compound
GB9622659D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Unilever Plc Hair treatment composition
US5897891A (en) 1996-11-18 1999-04-27 Godfrey; John C. Flavorful zinc compositions for oral use incorporating copper
FI106923B (fi) 1997-01-03 2001-05-15 Cultor Ltd Finnsugar Bioproduc Trimetyyliglysiinin käyttö kehon limakalvojen hygieniaan ja hoitoon tarkoitetuissa valmisteissa
US5993784A (en) 1997-07-24 1999-11-30 Whitehill Oral Technologies Low foaming therapeutic toothpastes with improved cleaning and abrasion performance
DK176196B1 (da) 1997-10-07 2007-01-08 Ejvind Jersie Pedersen Mundhygejnepræparat til behandling af halitosis samt anvendelse af et chelat omfattende en metaliondel og en aminosyredel som en komponent i præparatet
CN1311628A (zh) 1998-06-09 2001-09-05 威廉·J·恩布罗 治疗皮肤过敏和感染的方法和组合物
US6558710B1 (en) 1999-06-14 2003-05-06 Helen Rebecca Godfrey Topical zinc compositions and methods of use
US6685920B2 (en) 1999-11-12 2004-02-03 The Procter & Gamble Company Method of protecting teeth against erosion
US7164035B2 (en) 2000-01-07 2007-01-16 Newsome David A Zinc-monocysteine complex and method of using zinc-cysteine complexes
JP3490950B2 (ja) 2000-03-15 2004-01-26 三洋電機株式会社 ２シリンダ型２段圧縮式ロータリーコンプレッサ
DE10160933B4 (de) 2001-12-12 2018-06-21 Evonik Degussa Gmbh Zubereitungen mit desodorierender Wirkung, enthaltend das Zinksalz der Ricinolsäure und mindestens eine aminofunktionelle Aminosäure
US6670494B1 (en) 2001-12-17 2003-12-30 J H Brotech, Inc. Method for preparation of metal organic acid chelates
US20040033916A1 (en) 2002-06-28 2004-02-19 Kuzmin Vladimir Semenovich Disinfecting composition
JP2004175790A (ja) 2002-11-12 2004-06-24 Arita Junichi α−グルコシダーゼ阻害作用を有する亜鉛含有物
US7022351B2 (en) 2003-01-14 2006-04-04 Zinpro Corporation Composition for supplementing animals with solutions of essential metal amino acid complexes
US20040198998A1 (en) 2003-04-04 2004-10-07 Marian Holerca Glycine-free antiperspirant salts with betaine for enhanced cosmetic products
US7270806B2 (en) 2004-07-27 2007-09-18 Coty S.A. Liquid stick antiperspirant
US7700079B2 (en) 2005-09-26 2010-04-20 Jamie Collins Doss Therapeutic soap product with UV protection
KR20080072876A (ko) * 2005-11-29 2008-08-07 더 프록터 앤드 갬블 캄파니 친수성 점토 물질을 함유하는 결합제 시스템을 포함하는치약 조성물
BRPI0622284A2 (pt) 2006-05-25 2011-03-29 Yiqiang Huang processo de obtenção de cloreto básico de zinco utilizado como aditivo micronutriente
DE102006040302A1 (de) 2006-08-29 2008-03-20 Henkel Kgaa Antitranspirant- und Deodorant-Zusammensetzungen mit verbesserter Pflegewirkung
EP1935395B1 (en) 2006-12-20 2013-06-05 Unilever PLC Oral composition
US8247398B2 (en) 2007-02-17 2012-08-21 Ssv Therapeutics, Inc. Zinc complexes of natural amino acids for treating elevated copper caused toxicities
RU2355420C2 (ru) * 2007-06-29 2009-05-20 Леонид Леонидович Клопотенко Зубная паста, содержащая лактулозу, бетаин, хондроитин сульфат и ферменты: папаин, лизоцим, рибонуклеазу и лидазу
JP2009084201A (ja) 2007-09-28 2009-04-23 Riken Koryo Kogyo Kk パーマネントウェーブ剤用消臭処理剤並びにこれを含有するパーマネントウェーブ剤
JP2011518227A (ja) * 2008-04-28 2011-06-23 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 口腔ケア組成物
KR20110021853A (ko) 2008-05-12 2011-03-04 타그라 바이오테크놀로지스 리미티드 마이크로캡슐화된 착색제를 포함하는 국소 적용용 조성물
US20100021573A1 (en) 2008-07-22 2010-01-28 Michael J Gonzalez Compositions and methods for the prevention of cardiovascular disease
JP2010132639A (ja) 2008-11-10 2010-06-17 Nikko Chemical Co Ltd Ｄｎａ損傷抑制剤及びマトリックスメタロプロテアーゼ−１産生抑制剤
WO2011005577A1 (en) 2009-06-24 2011-01-13 Soparkar Charles N S Zinc supplementation to increase responsiveness to metalloprotease therapy
CN101606639B (zh) 2009-07-20 2012-07-25 曹江山 一种保育猪浓缩饲料
WO2011040911A1 (en) 2009-09-30 2011-04-07 Colgate-Palmolive Company Antiperspirant/deodorant composition
CA2775444C (en) 2009-10-29 2015-04-21 Colgate-Palmolive Company Dentifrice comprising stannous fluoride plus zinc citrate and low levels of water
TWI458497B (zh) 2010-01-13 2014-11-01 Colgate Palmolive Co 口腔組成物中氧化鋅薄膜之安定化
MX2012010608A (es) 2010-03-31 2012-10-03 Colgate Palmolive Co Composicion para el cuidado oral.
CN103156073B (zh) 2011-12-13 2015-02-18 北京东方联鸣科技发展有限公司 奶牛产后营养补充剂
CN103535536A (zh) 2012-07-15 2014-01-29 新沂市佳威饲料有限公司 一种哺乳母猪饲料的配制方法
WO2014098825A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Oral care products comprising a tetrabasic zinc - amino acid - halide complex
WO2014204439A1 (en) 2013-06-18 2014-12-24 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid halide complex with cysteine
CN104853723B (zh) 2012-12-19 2017-12-08 高露洁-棕榄公司 包含锌‑氨基酸络合物的口腔凝胶
WO2014098819A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Antiperspirant products with protein and antiperspirant salts
RU2636612C2 (ru) 2012-12-19 2017-11-24 Колгейт-Палмолив Компани Композиции для ухода за полостью рта, содержащие комплекс цинка с аминокислотой и галогенидом
US10494589B2 (en) 2012-12-19 2019-12-03 Colgate-Palmolive Company Method for indicating time for washing or indicating delivery of antibacterial agent
CA2892427C (en) 2012-12-19 2021-06-08 Colgate-Palmolive Company Two component compositions containing zinc amino acid halide complexes and cysteine
WO2014098828A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Teeth whitening methods, visually perceptible signals and compositions therefor|comprising zinc amino acid halides
MX355285B (es) 2012-12-19 2018-04-13 Colgate Palmolive Co Composicion con precursores de haluros de zinc aminoacidos/trimetilglicina.
WO2014098829A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Oral care products comprising zinc oxide and trimethylglycine
EP2934447B1 (en) 2012-12-19 2017-07-26 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid halide mouthwashes
WO2014098821A1 (en) 2012-12-19 2014-06-26 Colgate-Palmolive Company Method for indicating time for washing or indicating delivery of antibacterial agent
AU2012397259B2 (en) 2012-12-19 2015-09-17 Colgate-Palmolive Company Zinc-lysine complex
AU2012397254B2 (en) 2012-12-19 2015-09-17 Colgate-Palmolive Company Zinc amino acid/trimethylglycine halide

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