KR20150036522A - 연속처리장치 - Google Patents

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츠키시마기카이가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하고, 게다가 균일한 접촉 처리성을 나타내는 것을 얻는다. [해결수단] 처리기(10) 내의 액 흐름을 선회류로하고, 주입액 (A), (B)를 상기 처리기(10)의 접촉 처리장에 있어서, 처리기(10)의 내표면으로부터 중심측 위치에서 주입하고, 접촉처리를 행하게 한다.

Description

연속처리장치 {CONTINUOUS PROCESSOR}
본 발명은, 처리액을 순환시키는 연속처리장치에 관한다. 특히 반응을 동반하는 연속반응장치에 관한다.
액액반응, 기액반응 또는 촉매반응 등의 반응에 의해, 혹은 정석처리(晶析)처리에 의한 입자를 생성시키는 등, 공업적인 처리를 거쳐 제품 또는 중간품을 얻는 조작으로서는 제한없이 많이 있다.
대표적인 처리는, 예를 들어 도 23에 나타내듯이, A성분, B성분 혹은 C성분을 교반접촉처리조(1) 내에 투입해, 교반모터(2) 부착 교반날개(3)에 의해 교반하고, 각 성분의 반응을 촉진시키는 것이 일반적이다. 적절한 시점에, 배출구(5)로부터 성품액(成品液)을 빼내고, 그 후, 예를 들어 여과, 세정 및 건조에 의해 목적의 정석입자를 얻는다. (4)는 배플이다.
그러나, 이 처리 형태로는, 접촉처리조(1)로서 큰 것을 필요로 하고, 균일한 반응이나 처리를 위해서 교반날개(3)에 의해 교반하고 있으나, 높은 균일성을 기대하는 것에 한계가 있다.
다른 한편, 처리 방법으로서, 각 성분의 접촉처리조(1) 안으로의 투입 및 그 후의 교반을 배치식으로 처리하는 경우에는, 생산효율이 나쁘다. 따라서, 교반 중에 연속적으로 각 성분을 투입하는 연속 생산방식이 높은 효율을 얻을 수 있으나, 접촉처리의 조건 설정(시간에 대해서의 투입량 컨트롤 등)이 어려워, 반드시 균일한 제품을 효율 좋게 얻는 것이 가능한 것도 아니다.
이것들을 개선하는 시도로서, 유로(流路)를 1mm 이하로 한 마이크로 리액터가 제창되고 있으나, 생산량이 부족하고 유로의 폐색에 의한 연속생산의 부적합이 지적되고 있어, 공업규모로의 실용화 사례가 적다.
성분을 사이클론 방식에서 이동시키는 과정으로 다른 성분과 접촉시키는 기술은, 특허문헌1에 기재되어 있다.
특허문헌1: 특개평4-240288
그러나, 선행기술은, 성분의 분리 기술로서, 반응이나 처리를 목적으로 한 것이 아니다.
화학공업계를 시작으로 하는 접촉 처리 분야에 있어서, 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하고, 게다가 균일한 접촉 처리성을 나타내는 반응장치를 필요로 하는 요구가 크다.
따라서, 본 발명의 주된 과제는, 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하고, 게다가 균일한 접촉 처리성을 나타내는 반응장치를 제공하는 것이다.
이 과제를 해결한 본 발명은, 다음과 같다.
[청구항 1 기재의 발명]
처리기와, 이 처리기 내에 주입액을 주입하는 주입수단과, 상기 처리기의 다른 쪽 끝부분으로부터 처리액을 빼내서, 빼낸 처리액의 적어도 일부를 상기 처리기의 한 쪽 끝부분으로 반송하는 순환수단을 갖고,
상기 처리기 내의 액 흐름을 선회류(旋回流)로 해서, 처리기의 내표면으로부터 중심측 위치에서 상기 주입액을 주입하도록 한 것을 특징으로 하는 연속처리장치.
[청구항 2 기재의 발명]
상기 처리기 내의 접촉처리장(接觸處理場)을, 상기 처리기 내에 생성시킨 선회류의 처리기의 내표면으로부터 중심측 영역으로 하고, 이 접촉처리장에서 상기 주입액의 접촉처리를 행하도록 한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
액 흐름으로서 선회류를 나타내는 접촉처리장에 있어서는, 회오리바람과 같이 중심의 소용돌이 부분 혹은 중심의 공동(空洞)부분 근방의 내주 부분의 흐름은, 반응을 좌우하는 물질이동·교반혼합 효과가 높음 등 흐름의 흐트러짐이 크다. 이 부분은, 주입하는 가스 또는 반응물질을 포함하는 주입액의 급격한 확산장이 되어, 균질한 반응이 가능하게 된다.
더욱이, 유로의 벽면에는 선회류의 외주 부분이 접하고 있으므로, 외주의 선회류가 반응물질의 공급체가 되어, 물질·열의 급격한 변화를 완화시키고 있다. 주입한 주입물질(액·가스·고형물)의 반응물질에 대해 배리어(장벽)로서 기능하기 위해서, 반응물질의 유로 내벽으로의 부착이 방지되어, 장시간에 거쳐 안정된 운전이 가능하게 되는 것으로 생각된다.
당초, 본 발명자는, 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하는 장치로서, 튜브 리액터를 사용하는 반응처리장치의 개발을 시도해 봤다. 그러나, 어느 종(種)의 반응처리재료계에서는, 유로의 벽면에 미세한 샤워(1차 핵)가 부착해, 그 후에 이것을 핵으로서 결정이 성장하고, 흐름을 저해해, 장시간의 안정된 운전이 어려운 케이스가 여기저기에서 보여졌다.
그 대책으로서, 반응경로를 병설하고, 막힘이 발생했다면, 다른 쪽의 반응경로로 바꿔 유통시키고, 그 사이에 막힘이 생긴 반응경로는 청정하는 방책을 생각할 수 있다. 그러나, 바꾸는 짧은 시간에 있어서도, 접촉처리장의 불연속운전에 기인한 입경의 변동을 피해야만 해서, 장시간에 거쳐 안정된 운전에 견뎌야 하는 새로운 기구(機構)가 필요하다고 판단했다.
이것에 대해, 본 발명에 따라, 처리기 내의 액 흐름을 선회류로 하고, 처리해야 할 주입액을, 상기 처리기 내의 접촉처리장에 있어서, 처리기의 내표면으로부터 중심측 위치에서 주입하고, 접촉처리를 행하게 하는 것에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알게 되었다.
[청구항 3 기재의 발명]
상기 순환수단에 의한 처리액의 반송액을 상기 처리기 내에 유입시키는 것에 의해 상기 선회류를 생성시키는 구성으로 한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 4 기재의 발명]
처리기 내에, 그 내주면에 따르는 형태로, 상기 반송액을 유입시키는 것에 의해 선회류를 생성시키는 청구항 3 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
접촉처리장의 생성에 있어서, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액을 포함한 각종의 액을, 예를 들어 용기 내벽면의 접선 방향으로부터 주입 하는 것에 의해, 처리기 내의 액 흐름을 선회류로 하고, 그 선회류를 접촉처리장으로 하는 것이 가능하다.
처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 처리기 내에, 순환액의 반송액을 유입시키는 것에 의해 선회류를 생성시키면, 선회류의 외주부분이 처리기 내면에 있어서 어느 정도 두께의 원통형 부분을 형성한다. 그 결과, 원통형 부분이, 새롭게 주입한 주입액과의 반응에 대해 배리어(장벽)로서 기능하는 현상이 생기고, 반응에 의한 흡열·발열에 동반하는 온도 변화의 완화, 반응물질의 유로 내면으로의 부착을 방지하는 것이 가능하다.
[청구항 5 기재의 발명]
처리기는, 그 내면이 한 쪽 끝부분으로부터 다른 쪽 끝부분을 향해 끝이 좁아지게 되어, 송액의 유입 위치가 상기 처리기의 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리기는 내공간이 균일한 반경을 갖는 원통형 모양의 것이어도 좋으나, 긴 쪽 방향 한쪽 끝부분에서 다른 쪽 끝부분을 향해 내면이 끝이 좁아지게 되어 있는 것이, 선회류의 생성에 매우 적합하다.
또한, 처리기로서는, 선회류의 접촉처리장을 길게 하기 위해서 긴 쪽 방향을 따라 있는 어느 정도 긴 공간을 확보 하는 것이 바람직하다. 거기서, 처리기의 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분으로부터 액을 유입시켜, 긴 쪽 방향의 다른 쪽 끝부분으로부터 유출시키는 것이 매우 적합한 모양이다.
[청구항 6 기재의 발명]
상기 접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가 상기 처리기의 다른 쪽 끝부분인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
순환로를 구성하는 것에 알맞고, 반응부에 복잡한 기구를 만드는 것 없이 반응구간장을 만드는 것이 가능하게 되고, 결과적으로 순환 에너지의 저감 효과를 얻는다.
[청구항 7 기재의 발명]
접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가, 주입액의 주입 위치로부터 한 쪽 끝부분의 끝부분측에 있는 청구항 6 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가, 주입액의 주입 위치로부터 한 쪽 끝 부분의 끝부분측에 있으면, 선회류의 생성장(生成場)에 영향 주는 것 없이 유출 시키는 것이 가능하다.
[청구항 8 기재의 발명]
상기 접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가, 상기 순환 수단을 구성하는 순환 펌프와 상기 처리기의 사이에 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
즉, 순환 펌프 딜리버리측과 처리기의 사이에 있는 태양이다.
(작용효과)
선회류의 생성장에 영향 되는 것 없이 유출 시키는 것이 가능하다.
[청구항 9 기재의 발명]
상기 접촉처리장을 제공하는 처리기가, 직렬적으로 배치되어 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리량을 많게 하고 싶은 경우, 처리기를 직렬적으로 배치하는 것이 바람직하다.
직렬 배치시키는 것으로, 순환방송액량을 늘리는 것 없이, 주입액량을 단수 만큼(단수분) 늘리는 것이 가능하게 되고, 생산량을 증대시키는 것과 함께, 생산량에 비한 장치내 용량을 저감하는 것이 가능하기 때문에, 결과적으로 공간절약화와 장치 비용의 저감이 가능하게 된다. 여기서, 「생산량에 비한 장치 용량이 저감한다」 라는 것은, 순환펌프나 유로 부분의 용량은 일정한 채로, 처리기와 이것들을 연결하는 관의 용량만이 주입이 되기 때문에, 결과로서 장치 전체 용량이 생산량에 비해 저감 가능하다고 하는 의미이다. 또한, 「장치 내용량을 저감」 이라는 것은, 장치 내에 있어서 반응물질의 체류 시간을 짧게 하는 것이 가능하다는 효과도 나타내, 결과적으로 소경화(작은 지름을 갖게 함)로 향한 체류 시간 제어가 가능한 것이 된다.
[청구항 10 기재의 발명]
상기 접촉처리장을 제공하는 처리기가, 병렬적으로 배치되어 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리량을 많게 하고 싶은 경우 등, 처리기를 병렬적으로 배치하는 것이 가능하다.
특히 동일한 처리기를 병렬 배치시킨 경우, 균일한 접촉처리를 한 것에 처리량을 늘리는 것이 가능하다. 직렬 방향에 설치시키는 경우, 흐름 방향에 거쳐 압력 구배가 발생하기 때문에, 모든 처리기를 균일 반응시키고 싶은 경우는 병렬 배치가 바람직하다.
[청구항 11 기재의 발명]
주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 상기 액의 선회류의 하류 방향으로 향하고 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
후에 설명하듯이, 주입액의 접촉처리장에 대하는 주입방향이, 상기 액의 선회류의 상류 방향으로 향해 있어도 좋으나, 액의 선회류의 하류 방향으로 향해 있는 쪽이, 재료의 내면 부착이 적어진다.
[청구항 12 기재의 발명]
주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 상기 액의 선회류의 상류 방향으로 향하고 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 상기 액의 선회류의 상류 방향으로 향하고 있어도, 재료의 벽 내면으로의 부착량은 실용상 허용범위 내에 있는 경우가 있다.
[청구항 13 기재의 발명]
처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 상기 처리기와는 다른 형식이고, 또한, 교반날개를 갖는 외부 처리조를 만들어, 상기 처리기로부터 최종 접촉 처리액의 일부를 외부로 유출시켜 상기 외부 처리조에 안내하고, 이 외부 처리조에서 처리한 처리액을 상기 처리기에 반송하는 청구항 2 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
이것에 의해, 처리기로부터 나온 접촉 처리액을 외부 처리조에서 재처리하기 때문에, 체류시간을 길게 갖고, 접촉 처리를 확실히 행하게 하는 것이 가능하다.
[청구항 14 기재의 발명]
처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 2개의 외부조를 직렬로 만들어, 하류측 외부조를 주입액을 주입하지 않는 외부 침강 분리조로 해, 이 외부 침강 분리조에서 침강 분리해, 외부 침강 분리조의 상부 미소입자군만을 처리기에 반송하는 청구항 2 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리가 정석처리를 포함하는 경우, 반송액 중의 결정을 종결정으로서 기능시키는 것으로 처리기 내의 입도분포를 조정하는 것이 가능하게 된다. 또한, 상류측 외부조는 버퍼조 또는 처리조로서 이용하는 것도 가능하다.
[청구항 15 기재의 발명]
처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 주입액을 주입하지 않는 외부 분리조를 만들어, 이 외부 분리조에서 고액(固液)분리, 입경분리 혹은 가스분리하고, 외부 분리조의 상부 미소입자군 혹은 가스분리액만을 처리기에 반송하는 청구항 2 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
반송액 중의 결정을 종결정으로서 기능시키는 것으로 처리기 내의 입도분포를 조정하는 것이 가능하게 된다.
가스분리액을 반송하는 경우, 액 중의 반응생성물인 가스를 미리 줄이는 효과를 얻고, 이것에 의해 순환액 중의 반응생성물 농도가 저하하기 때문에 반응이 순방향으로 진행하기 쉽게 되어 반응 속도의 향상 효과를 기대할 수 있다.
[청구항 16 기재의 발명]
본체 블록 내의 공간을 형성하고, 상기 처리기를 형성한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리기로서 금속제 등으로 하는 것도 가능한 것 외에, 투명 플라스틱 등의 본체 블록 내에, 예를 들어, 절삭가공 등에 의해, 상기 처리기를 형성하는 것도 가능하다.
[청구항 17 기재의 발명]
본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기를 직렬로 복수 형성한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 18 기재의 발명]
본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기를 병렬로 복수 형성한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 19 기재의 발명]
본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기, 처리액을 빼내는 발출로, 및 처리액을 반송하는 반송로를 각각 형성한 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 20 기재의 발명]
본체 블록을 투명 또는 반투명 재료로 형성한 청구항 16 내지 19의 어느 한 항에 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
운전 상황으로서 반응물질의 생성 상황, 스케일링 등 폐색 등의 이상 상황을 눈으로 보고 관찰 할 수 있다.
[청구항 21 기재의 발명]
처리기와, 주입수단과, 순환수단을 적어도 일체물로 하고, 이 일체물을 복수 갖는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 22 기재의 발명]
주입 수단이, 처리기 내에서 주입액을 선회류를 갖고 주입하는 것인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
모액에 대하는 주입액의 접촉 효율이 양호한 것이 되고, 더욱 물질 이동이 촉진된 혼합 효과를 얻는다. 또한 압력 변동이 있는 반응기 내에 있어서는 주입액의 안정한 주입을 가능하게 한다.
[청구항 23 기재의 발명]
처리기 내에 주입액을, 역류방지밸브(逆止弁)를 통해 주입하는 주입 수단을 갖고 있는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
처리기 내의 압력 변동이 있다고 해도, 그 압력 변동에 영향 되지 않고 주입액을 주입 가능하다.
[청구항 24 기재의 발명]
순환로의 도중에 처리액의 가열 또는 냉각 수단을 갖는 청구항 1 기재의 연속처리장치.
(작용효과)
액의 순환 과정에서 가열 또는 냉각하는 것에 의해, 처리기 내에서의 온도가 일정하게 보호유지 되어 접촉을 안정해서 행하게 하는 것이 가능하다.
[청구항 25 기재의 발명]
선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 선회류를 형성하는 주류의 주입구경 D1의 비가, D2/D1 = 2.5~10 인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
여기서, 주입구 형상은 원형 단면만이 아니라, 사각 단면 등의 형상 단면이라도 좋다. 또한, 사각 단면(b Ⅹ h)의 경우, 가로 길이 b(높이 h)를 D1이라고 읽는 것으로 한다.
[청구항 26 기재의 발명]
선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 발출부의 구경 D3의 비가, D2/D3 = 0.5~10 인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
[청구항 27 기재의 발명]
선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 유로 방향 길이 H의 비가, H/D2 = 1~10 인 청구항 1 기재의 연속처리장치.
본 발명에 따르면, 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하고, 게다가 균일한 접촉처리성을 나타내는 반응장치를 얻는 것이 가능하다.
[도 1] 본 발명의 제1 예의 개요도이다.
[도 2] 제1 예의 처리기의 개요도이다.
[도 3] 처리기의 상단부의 횡단 개요도이다.
[도 4] 선회류의 생성 형태의 설명 개요도이다.
[도 5] 처리기의 직렬 배치 예의 개요도이다.
[도 6] 상향 주입 예의 개요도이다
[도 7] 다른 상향 주입 예의 개요도이다.
[도 8] 선회류의 생성 형태의 설명 개요도이다.
[도 9] 처리기의 직렬 배치 예의 개요도이다.
[도 10] 다른 처리기 예의 개요도이다.
[도 11] 다른 처리기 예의 개요도이다.
[도 12] 다른 형태 예의 개요도이다.
[도 13] 다른 형태 예의 개요도이다.
[도 14] 다른 형태 예의 개요도이다.
[도 15] 다른 형태 예의 개요도이다.
[도 16] 블록유닛 예를 나타내고, (a)는 평면도, (b)는 정면도이다.
[도 17] 다른 블록유닛 예의 개요도이다.
[도 18] 다른 블록유닛 예의 개요도이다.
[도 19] 더욱 다른 블록유닛 예의 개요도이다.
[도 20] 다른 형태 예의 개요도이다.
[도 21] 처리 유닛의 형태 예의 개요도로, (a)는 평면도, (b)는 정면도이다.
[도 22] 일체 장치 예의 개요도이다.
[도 23] 종래 예의 개요도이다.
[도 24] 실시예1의 입경의 변화의 그래프이다.
[도 25] 실시예1에서의 입자의 SEM 사진이다.
[도 26] 비교예1의 입경의 변화의 그래프이다.
[도 27] 비교예1에서의 입자의 SEM 사진이다.
다음으로, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 설명한다.
후에 설명하듯이, 본 발명의 적용범위는 광범위하다. 그러나, 종종(種種)의 예를 총합적으로 설명하면, 혼란의 원인이 될 수도 있으므로, 일례를 들어가면서 장치예를 설명하고, 후에 다른 적용범위에 대해서 설명하는 것으로 한다.
본 발명의 전형예는, 예를 들어 리튬이온전지용 정극활물질의 제조에 사용하는 금속입자를 얻기 위한 연속처리장치이다. 구체예는 Ni, Co, Mn의 천이금속을 이용한 응집입자를 제조하는 것을 대상으로 한다.
본 발명에 따라서, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액을, 처리기 내에 선회류(旋回流)의 접촉처리장(接觸處理場)에 있어서, 처리기의 내표면으로부터 중심측 위치에서 주입하고, 접촉처리를 행하게 하는 방법은, 넓게 일반적으로 무기물질에 의해 응집입자를 얻는 경우에 적용할 수 있는 것이기 때문에, 상기 천이금속 이외의 금속이나 다른 무기물질을 대상으로 해도 좋다.
도 1 ~ 도 4는, 본 발명의 제1 예를 나타낸 것으로, 처리기(10) 내의 액 흐름을 선회류로 하고, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액을, 처리기(10) 내의 접촉처리장(도 4에 개념적인 부호 Q로 나타냄)에 있어서, 처리기(10)의 내표면으로부터 중심측 위치에서 주입하고, 접촉처리를 행하게 하는 것이다.
도시예에는, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액으로서, A액, B액 및 C액을 주입했다. 도시하지 않았지만, 합쳐서 병행적인 가스D (질소가스나 이산화탄소가스 등의 불활성 가스)를 주입하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명의 제1예는, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 액의 선회류의 하류 방향으로 향하고 있는 예이다.
도시의 처리기(10)는 세로 방향이지만, 원리적으로 흐름에 영향은 없기 때문에 가로 방향이라도 좋다.
도시의 처리기(10)는, 순환펌프(13)에 의해 액을 순환로(11), (14) (발출로(11),반송로(14))를 통해 순환시키는 것과 함께, 처리기(10) 내에, 순환액의 반송액을 유입시키는 것에 의해 선회류를 생성시키는 것이다. (15)는 액의 가습 또는 냉각의 온도조절기이다.
도면에 나타내 있듯이, 처리기(10)는 그 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분으로부터 다른 쪽 끝부분을 향해 내면이 끝이 좁아지게 되어, 순환액의 반송액의 유입구(10X)를 포함하는 유입 위치가 처리기(10)의 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분이고, 도 3에 나타내고 있듯이, 그 내주면에 따르는 형태로, 거의 접선 방향에 따라, 반송액을 유입시키듯이 하고 있다. 이것에 의해, 선회류(R)가 형성되어 있다.
접촉처리가 된 후의 유출액의 유출구(10Y)를 포함하는 유출 위치는, 긴 쪽 방향 다른 쪽 끝부분이 되어 있다.
더욱이, 최종 접촉처리액은 상기 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분의 오버플로우 포트(10Z)로부터 유출시키도록 되어 있다.
처리기(10) 내의 액 흐름은 선회류(R)가 되지만, 그 상부 중앙, 소용돌이 중심부에는 공동(空洞) 부분(V)이 되는 경향이 있다. 그리고, 특히, 선회류(R)의 소용돌이 중심 근방의 내주 부분의 흐름은, 평균 유속에 비교해서 현저하게 고속이며, 또한, 흐름의 흐트러짐도 크다.
관련된 위치에 있어서, 주입해야 할 금속을 포함하는 추가액 A액 ~ C액을 주입하면, 추가액이 급격히 확산해, 균질한 반응이 가능하게 된다.
거기서, 각 주입액 A액 ~ C액은 주입관 (16A), (16B)…을 사용하여 그 끝단으로부터 토출(吐出)되기까지, 상호의 접촉을 방지하는 것이 바람직하다.
더욱이, 선회류(R)의 영향이 미치지 않도록, 가이드관(17)을 삽입하는 것이 바람직하다.
여기서, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 주입액 A액 ~ C액의 주입 위치는, 처리기(10) 내의 접촉처리장에 있어서, 처리기(10)의 내벽 표면으로부터 중심측 위치에서 주입하면 충분하지만, 중심으로부터 반경 r의 2/3 이내, 바람직하게는 1/2 이내가 매우 적합하다.
최종 접촉처리액은 오버플로우 포트(10Z)로부터 유출시켜, 발출로(19)를 통해 저류기(貯留器)(20)에 안내하고, 적절한 시점에, 그 저부로부터 발출용 밸브(21)를 열어서 응집입자액을 발출펌프(22)에 의해 최종 제품화 공정에 안내하도록 한다. (23)은 교반기이다.
도 5에 예를 나타냈듯이, 접촉처리장을 제공하는 처리기(10), (10)…을 직렬적으로 배치하는 것이 가능하다.
이 경우, 제1단의 처리기(10)에서의 오버플로우를 저류기(20)에 안내하고, 최종단의 처리기(10)에서의 유출액을 제1단의 처리기(10)에 순환시키는 것이 가능하다.
다른 한편, 도 6에 예를 나타냈듯이, 접촉처리장을 제공하는 처리기(10)에 대해서, 하방으로부터 상방을 향해, 주입해야 할 금속을 포함하는 주입액 A액 ~ C액을 주입하는 것도 가능하다. 즉, 도 6의 예는, 주입해야 할 무기물질을 포함하는 추가액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 액의 선회류의 상류 방향으로 향하고 있는 예이다. 또한, 이 경우, 상부로부터의 유출액은 순환시켜, 일부를 발출로(19)를 통해 저류기(20)에 안내한다.
다른 한편, 도 7에 나타내듯이, 처리기(10)의 하부로부터 발출펌프(24)에 의해 액을 발출하고, 발출로(25)를 통해 저류기(20)에 안내하는 것도 가능하다.
이 아래 쪽으로부터 위 쪽으로의, 주입해야 할 금속을 포함하는 주입액 A액 ~ C액의 주입은, 아래 쪽 선회류에 대해 주입액 A액 ~ C액의 주입이 향류적(向流的)으로 접촉하기 때문에, 확산 반응이 양호하지 않을까라고 당초 예상했으나, 유로의 내벽면에의 재료의 부착이 보이는 경우가 있어, 최적한 형태라고는 말하기 어렵다.
도 9의 예에 나타냈듯이, 하방으로부터 상방으로의, 주입해야 할 금속을 포함하는 주입액 A액 ~ C액의 주입 형태에 있어서도, 접촉처리장을 제공하는 처리기(10), (10)…을 직렬적으로 배치하는 것이 가능하다.
도시는 생략하고 있으나, 접촉처리장을 제공하는 반응처리기(10), (10)…을 병렬적으로 배치하는 것도 가능하다.
처리기는, 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분으로부터 다른 쪽 끝부분을 향하여 내벽이 끝이 좁아지도록 된 것이, 선회류의 생성에 매우 적합하지만, 내공간이 균일한 반경을 갖는 원통형의 것이어도 좋다.
더욱이, 도 10과 같이, 처리기(10) 내의 회전통(40)을 모터(41)에 의해 회전하도록 배치하고, 주입해야 할 금속을 포함하는 주입액 A액 ~ C액을, 주입관(42), (43)을 통해 내벽면의 접선 방향에 주입해, 다른 쪽의 끝부분의 유출관(44)으로부터, 접촉 처리가 된 후의 유출액을 유출하도록 하는 것도 가능하다.
이 경우, 필요에 의해 회전통(40)을 회전시켜, 선회류의 촉진을 도모하는 것이 가능하다.
선회류의 생성에는, 도 11에 나타내듯이, 간격을 둔 복수의 교반날개(50), (50)…을 회전시키는 것에 의해 생성시키는 것도 가능하다.
다른 한편, 도 12의 형태도 사용할 수 있다. 즉, 처리기(10)에 대해 액을 순환로(11A), (11B)를 통해 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 처리기(10)와는 다른 형식이고, 또한, 교반날개를 갖는 완전 혼합체의 외부 처리조(20A)를 만들어, 처리기(10)로부터 최종 접촉처리액의 일부를 외부에 유출시켜 순환로(11A)를 통해 외부 처리조(20A)에 안내하고, 이 외부 처리조(20A)에서도 주입액 A액 ~ C액을 주입하여 처리시켜, 처리액을 처리기(10)에 대해 순환시키는 것이다. 더욱이, 외부 처리조에 있어서는 교반날개를 없애는 것도 가능하다.
이것에 의해, 처리기(10)로부터 나온 접촉처리액을 외부 처리조(20A)에 재반응시키기 위하여, 체류 시간을 길게 잡고, 미소입자경분(微少粒子徑分)을 쇄감 하는 것이 가능하다.
더욱이, 외부 처리조(20A)를 대신해서, 주입액 A액 ~ C액을 주입하지 않는, 단지 외부 침강 분리조(20B)이어도 좋다.
또한 외부 침강 분리조(20B)를 만든 경우, 외부 침강 분리조(20B)에서 침강 분리하고, 그 상부 미소입자군만을 처리기(10)에 반송펌프(13A)에 의해 반송로(19R)를 통해 반송하는 것이 가능하고, 반송액 중의 결정을 종결정으로해서 기능시키는 것으로 처리기(10) 내의 입도분포를 조정하는 것이 가능하게 된다.
이 도 13의 형태는, 부호 (20B)의 조(槽)가 침강 분리조인 예이지만, 조(20B)는 발출펌프(22)를 통해 시스템 계외(系外)에 배출하는 계외 배출량과의 관계로 순환량을 조정하는 버퍼조로서 이용하는 것도 가능하다. 더욱이, 도 12의 형태와 같이, 주입액 A액 ~ C액 혹은 그 중에서 1 또는 2의 필요 주입액을, 조(20B)에 주입해서 처리시켜, 처리액을 반송로(19R)를 통해 반송하는 처리기(10)에 주입하는 것도 가능하다.
다른 한편, 전술한 도 12 및 도 13에 나타낸 형태를 발전시켜서, 도 14에 나타내듯이, 2개의 외부조(20B1), (20B2)를 만들어, 외부조(20B1)를 버퍼조로서 이용하고, 이행펌프(22A)에 의해, 침강 분리조로서 기능시키는 외부조(20B2)에 액을 이행시켜, 예를 들어 시크너의 피드웰(24)에 주입하는 등 해서 외부조(20B2)에 액을 이행시켜, 이 외부조(20B2)에서 침강 분리하고, 그 상부 미소입자군만을 처리기(10)로 반송펌프(13A)에 의해 반송로(19R)를 통해 반송하는 것이 가능하고, 반송액 중의 결정을 종결정으로서 기능시키는 것으로 처리기(10) 내의 입도분포를 조정하는 것이 가능하게 된다.
이 형태에 있어서, 외부조(20B1), (20B2)의 한 쪽 또는 양 쪽에 대해, 주입액 A액 ~ C액을 주입하여 처리한 후, 처리기(10)로 반송펌프(13A)에 의해 반송로(19R)를 통해 반송하는 것도 가능하다.
도 14에 있어서는, 2개의 외부조(20B1), (20B2)를 만든 예이다. 도 12의 형태의 외부 처리조(20A)의 하류측에 도 14의 외부조(20B2)를 만들고, 도 12의 형태의 외부 처리조(20A)의 예를 들어 그 오버플로우를 도 14의 외부조(20B2)에 이행시켜, 외부조(20B2)에서 침강분리처리 등을 행하는 것이 가능하다(이 형태는 도시하지 않음.).
앞에 나타낸 도 2의 형태에는, 처리기(10)의 비교적 아래 쪽에서 주입액을 주입했으나, 도 15처럼, 가이드관(17)을 짧게 해, 주입액 A액 ~ C액의 주입관(16A), (16B)…을 상류측에 만들어도 좋다. 또는, 가이드관을 없애고 끝에 주입관을 만들어도 좋다. 또한, 도 2에 나타내듯이 주입관(16A), (16B)…끝 부분 위치를 다르게 하는 것 외에, 주입관(16A), (16B)…끝 부분 위치를 일치시키듯이 해도 좋다.
도 15에 나타내는 형태에 의하면, 선회류장(旋回流場)에의 반응장을 얻을 수 있으므로, 하류측에서의 유로 내의 재료의 부착이 격감한다.
또한, 오버플로우 위치로서 유입 전의 배관부로 하는 형태도 도시되어 있다.
본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 금속의 응집입자를, 리튬이온전지용 정극활물질에 이용해 리튬이온전지용 정극활물질을 제조 할 수 있는 것 외에, 결국에는 리튬이온전지를 얻는 것이 가능하다.
본 발명에 의해 얻어진 입자경이 작고 입자경이 고르고, 또한 우수한 구 형상인 금속의 응집입자를, 리튬이온전지용 정극활물질에 이용하면, 정극으로서의 특성이 향상한다.
본 발명에 관련된 장치는, 처리 재료나 액에 의해 적절한 치수 관계로 하는 것이 가능하지만, 소형의 처리장치이면서, 충분한 처리량을 발휘하고, 게다가 균일한 접촉 처리성을 나타내는 것을 얻는 관점으로부터, 선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 선회류를 형성하는 주류의 주입구경 D1의 비가, D2/D1 = 2.5~10 인 것이 바람직하다. 이 비가 작으면 선회류의 생성이 충분하지 않고, 과도하게 큰 경우에는, 속도가 느려져서, 선회류가 불안정하게 된다.
또한, 선회류가 안정하게 생성되기 위해서는, 선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 발출부의 구경 D3의 비가, D2/D3 = 0.5~10 인 것이 바람직하다.
더욱이, 접촉 반응시간을 확보하기 위해서, 선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 유로 방향 길이 H의 비가, H/D2 = 1~10 인 것이 바람직하다.
본 발명장치는, 접촉 효율이 높은 것이 되므로, 작은(내부용적이 작은)처리기로 충분하다. 따라서, 도 17 ~ 도 22에 나타내듯이, 본체 블록(100)(또는 101)에 절삭 가공 등에 의해 공간을 형성하는 것에 의해, 처리기(처리부)로 하는 것이 가능하다.
약품주입부는 용이하게 교환할 수 있는 착탈식이 바람직하다.
본체 블록(100)(또는 101)의 재질은 SUS재 뿐만 아니라, 폴리에스테르, 아크릴, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리카보네이트 등의 플라스틱 재료를, 더욱 바람직하게는 투명 또는 반투명 재료를 사용 가능하다.
이 경우, 유로(14A), (18)나 주입부는 간단하게 교환 가능한 착탈식이 바람직하다.
가이드관(17)의 설치를 행할지 아닐지, 가이드관(17)이나 주입관(16A), (16B)…의 설치 위치나 길이는 적절히 선택 가능하다.
도 20에는, 유통로(15A)를 형성하고, 그 내부에 열 매체를 유통시켜 처리기(10)에서 온도 컨트롤 하는 태양을 나타내었다.
더욱이, 주입관(16A), (16B)로부터 주입액을 선회류를 갖고 주입하는 예도 아울러 도시되어 있다.
처리액의 배출이 원활하지 않으면, 곧 처리기(10) 내에의 선회류의 생성이 불안정하게 되거나, 막힘의 원인이 된다. 거기서, 엘보 이음(60) 등을 사용하여 배출 경로에 체류 장소를 형성시키지 않는 것이 중요하다.
적절한 시점에서의 메인티넌스 시 등에 있어서, 액을 계외에 배출시키는 경우, 일시용기(61)에 모아, 전후를 밸브(62), (63)로 폐색(閉塞)시키듯이 하는 것이 바람직하다.
도 21 및 도 22에 나타내듯이, 본체 블록(101) 내에, 공간을 형성하고, 처리기(10), 처리액을 빼내는 발출로(11), 및 처리액을 반송하는 반송로(14)를 각각 형성하는 것이 가능하다.
공간(64)은, 도 20에 나타내는 일시용기와 같은 것으로 하는 것이 가능하다.
관련된 블록유닛은, 예를 들어 도 23과 같이, 순환로(11A), 순환펌프(13) 및 반송로(14A), 가열ㆍ냉각기(64), 오버플로우부(65), 저류기(20) 및 이행펌프(22) 등과 조합해, 예를 들어 베이스(66) 상에 처리 유닛으로서 일체물로 하고, 필요에 의해 캐스터(67)에 의해 이동 가능한 것에 형성 가능하다. (68)은 온도나 pH 등의 계측 센서이다.
관련된 블록유닛이나 처리유닛은, 예를 들어 지면을 관통하는 방향에 복수 또는 다수 늘어놓아 배치하고, 처리량이 큰 것으로서 얻는 것이 가능하다.
그렇지만 본 발명은, 반응보다 물질이동속도제한(物質移動律速)이 되어 있는 반응장에 있어서, 물질이동과 화학반응을 효율 좋게 행하는 것이고, 무기반응, 유기반응에 관계없이 이용 가능한 것이다.
또한, 액액추출에 있어서 본 장치의 적용, 물과 기름의 에멀션 등, 액액의 혼합장치로 서도 이용 가능하다.
다른 것으로도 기액반응, 고체 입자 표면에의 반응(코팅) 등, 액액반응 이외의 프로세스에도 용도 전개 가능한 장치이다.
더욱이, 선회류를 적은 동력으로 얻기 위해서는 액점성으로서 1000 cP 이하, 특히 100 cP 이하의 것이 바람직하다.
실시예
다음으로 실시예 및 비교예를 나타내, 본 발명의 효과를 명백하게 한다.
(실시예1) 니켈망간코발트수산화물의 예
반응물질A로서 황산니켈, 황산망간, 황산코발트를 1:1:1의 비율로 1.6 M으로 한 액. 반응물질B로서 25% 농도의 수산화나트륨, 반응물질C로서 25% 농도의 암모니아수를 사용했다. 반응물질A에는 소정의 반응을 진행시키기 위해서 황산암모늄, 과산화수소수, 에탄올, 글리세린 등의 첨가에 의한 용매 조정을 행하지만, 여기서는 황산암모늄을 0.1 M 더한 예를 나타낸다.
도 1 ~ 도 4의 태양으로, 반응물질A, 반응물질B 및 반응물질C를 처리기(10) 내에 주입했다.
스타트 모액으로서는 이온교환수 2 kg에 암모니아수 40 g 첨가한 것을 사용했다.
순환펌프는 20 L/min으로 운전하고, A는 약 120 g/min, B는 약 40 g/min, C는 약 3 g/min으로 주입했다. 더욱이, N2 가스를 50 ml/min 주입했다.
시간 경과 후의 입경의 변화 결과를 도 24의 그래프로서 나타냈다. 20시간 실시한 시점에의 입자의 SEM 사진을 도 25 (a) (b) (c)로 나타냈다.
<고찰>
입자경이 작고, 시간이 지남에 따라 안정되어 있다.
또한, 이 운전을 20시간 실시해도, 순환로의 내벽면에 재료의 부착이 없었다(순환로는 투명의 플라스틱관을 사용하고, 외부로부터 재료의 부착의 유무를 눈으로 보고 판별했다).
(비교예1) 니켈망간코발트수산화물의 예
도 23에 나타내듯이 일반적인 드래프트 튜브 부착 교반혼합조에서, 니켈망간코발트수산화물 입자를 얻었다.
반응물질A로서 황산니켈, 황산망간, 황산코발트를 1:1:1이 비율로 1.6 M으로 한 액.
반응물질B로서 25 % 농도의 수산화나트륨, 반응물질C로서 25 % 농도의 암모니아수를 사용했다.
교반기 회전수는 2000 rpm으로 운전하고, A는 약 10 g/min, B는 약 4 g/min, C는 약 0.6 g/min으로 교반조 회전날개 둘레에 주입하고, 교반조 하부에 N2 가스를 100 ml/min 주입했다. 이 장치계 내의 용량은 약 4 L로 해서 운전했다.
이 운전을 30시간 실시한 입경의 변화 결과가 도 26의 그래프이고, 15시간 실시한 시점에의 입자의 SEM 사진을 도 27(a) (b) (c)에 나타냈다.
이것들의 결과에 의하면, 비교예1의 경우에는, 입자경이 크고, 시간이 지남에 따라서도 불안정하다.
(실시예2) 에멀션 연료의 제조예
미리 물 1 L, 경유 1 L 유화제를 물 1 L에 대해 3.4 % 주입한 것을 본 장치로 10 L/min의 유량으로 1분간 순환시킨 후, 반응부에 물 200 mL/min, 경유 250 mL/min, 유화제 34 g/min 첨가하고, 오버플로우로 배출시켰다.
O/W형의 에멀션 연료가 얻어졌고, 1주간 경과 후에도 유화한 상태였다.
반응부에 스테틱 믹서를 사용한 경우, 1일 경과 후에 유수분리가 일어나 있다.
리튬이온전지용 정극활물질용 외에 각종의 용도의 것에 적용할 수 있다. 그 예를 열거하면 다음과 같다.
1) 에멀션 연료 제조
2) 소경입자제조 나노입자를 결정 성장시키기 등
3) 디아조 화합물 제조
4) 촉매 반응
5) 그 외 마이크로 리액터에서의 반응처리예
가. 기액계면반응
불소가스에 의한 불소화반응
일산화탄소가스에 의한 카르보닐화반응
나. 액액계면반응
니트로화반응(유기상/수상)
에스테르 환원
디아조 커플링
다. 고액계면반응
고체담지촉매이용반응
라. 기ㆍ액ㆍ고계면반응
수소화반응
10 … 처리기, 10X … 유입구, 10Y … 유출구, 10Z … 오버플로우 포트,
11,14 … 순환로, 16A, 16B … 주입관, 17 … 가이드관, 20 … 저류기,
40 … 회전통, A,B,C … 주입액.

Claims (27)

  1. 처리기와, 이 처리기 내에 주입액을 주입하는 주입수단과, 상기 처리기의 다른 쪽 끝부분으로부터 처리액을 빼내서, 빼낸 처리액의 적어도 일부를 상기 처리기의 한 쪽 끝부분으로 반송하는 순환수단을 갖고,
    상기 처리기 내의 액 흐름을 선회류(旋回流)로 해서, 처리기의 내표면으로부터 중심측 위치에서 상기 주입액을 주입하도록 한 것을 특징으로 하는 연속처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 처리기 내의 접촉처리장(接觸處理場)을, 상기 처리기 내에 생성시킨 선회류의 처리기의 내표면으로부터 중심측 영역으로 하고, 이 접촉처리장에서 상기 주입액의 접촉처리를 행하도록 한 연속처리장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 순환수단에 의한 처리액의 반송액을 상기 처리기 내에 유입시키는 것에 의해 상기 선회류를 생성시키는 구성으로 한 연속처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    처리기 내에, 그 내주면에 따르는 형태로, 상기 반송액을 유입시키는 것에 의해 선회류를 생성시키는 연속처리장치.
  5. 제1항에 있어서,
    처리기는, 그 내면이 한 쪽 끝부분으로부터 다른 쪽 끝부분을 향해 끝이 좁아지게 되어, 송액의 유입 위치가 상기 처리기의 긴 쪽 방향 한 쪽 끝부분인 연속처리장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가 상기 처리기의 다른 쪽 끝부분인 연속처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가, 주입액의 주입 위치로부터 한 쪽 끝부분의 끝부분측에 있는 연속처리장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 접촉처리가 된 후의 유출액의 유출 위치가, 상기 순환 수단을 구성하는 순환 펌프와 상기 처리기의 사이에 있는 연속처리장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 접촉처리장을 제공하는 처리기가, 직렬적으로 배치되어 있는 연속처리장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 접촉처리장을 제공하는 처리기가, 병렬적으로 배치되어 있는 연속처리장치.
  11. 제1항에 있어서,
    주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 상기 액의 선회류의 하류 방향으로 향하고 있는 연속처리장치.
  12. 제1항에 있어서,
    주입액의 접촉처리장에 대하는 주입 방향이, 상기 액의 선회류의 상류 방향으로 향하고 있는 연속처리장치.
  13. 제2항에 있어서,
    처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 상기 처리기와는 다른 형식이고, 또한, 교반날개를 갖는 외부 처리조를 만들어, 상기 처리기로부터 최종 접촉 처리액의 일부를 외부로 유출시켜 상기 외부 처리조에 안내하고, 이 외부 처리조에서 처리한 처리액을 상기 처리기에 반송하는 연속처리장치.
  14. 제2항에 있어서,
    처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 2개의 외부조를 직렬로 만들어, 하류측 외부조를 주입액을 주입하지 않는 외부 침강 분리조로 해, 이 외부 침강 분리조에서 침강 분리해, 외부 침강 분리조의 상부 미소입자군만을 처리기에 반송하는 연속처리장치.
  15. 제2항에 있어서,
    처리기에 대해 액을 순환시키는 것과 함께, 그 순환계의 도중에, 주입액을 주입하지 않는 외부 분리조를 만들어, 이 외부 분리조에서 고액분리, 입경분리 혹은 가스분리하고, 외부 분리조의 상부 미소입자군 혹은 가스분리액만을 처리기에 반송하는 연속처리장치.
  16. 제1항에 있어서,
    본체 블록 내의 공간을 형성하고, 상기 처리기를 형성한 연속처리장치.
  17. 제1항에 있어서,
    본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기를 직렬로 복수 형성한 연속처리장치.
  18. 제1항에 있어서,
    본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기를 병렬로 복수 형성한 연속처리장치.
  19. 제1항에 있어서,
    본체 블록 내에 공간을 형성하고, 상기 처리기, 처리액을 빼내는 발출로, 및 처리액을 반송하는 반송로를 각각 형성한 연속처리장치.
  20. 제16항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    본체 블록을 투명 또는 반투명 재료로 형성한 연속처리장치.
  21. 제1항에 있어서,
    처리기와, 주입수단과, 순환수단을 적어도 일체물로 하고, 이 일체물을 복수 갖는 연속처리장치.
  22. 제1항에 있어서,
    주입 수단이, 처리기 내에서 주입액을, 선회류를 갖고 주입하는 것인 연속처리장치.
  23. 제1항에 있어서,
    처리기 내에 주입액을, 역류방지밸브(逆止弁)를 통해 주입하는 주입 수단을 갖고 있는 연속처리장치.
  24. 제1항에 있어서,
    순환로의 도중에 처리액의 가열 또는 냉각 수단을 갖는 연속처리장치.
  25. 제1항에 있어서,
    선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 선회류를 형성하는 주류(主流)의 주입구경 D1의 비가, D2/D1 = 2.5~10 인 연속처리장치.
  26. 제1항에 있어서,
    선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 발출부의 구경 D3의 비가, D2/D3 = 0.5~10 인 연속처리장치.
  27. 제1항에 있어서,
    선회류를 형성하는 접촉처리장의 직경 D2에 대한 유로 방향 길이 H의 비가, H/D2 = 1~10 인 연속처리장치.
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