KR20140018496A - 건조 장치 - Google Patents

건조 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140018496A
KR20140018496A KR1020120084599A KR20120084599A KR20140018496A KR 20140018496 A KR20140018496 A KR 20140018496A KR 1020120084599 A KR1020120084599 A KR 1020120084599A KR 20120084599 A KR20120084599 A KR 20120084599A KR 20140018496 A KR20140018496 A KR 20140018496A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
station
stage
guide pin
pin
Prior art date
Application number
KR1020120084599A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101977244B1 (ko
Inventor
임대승
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020120084599A priority Critical patent/KR101977244B1/ko
Publication of KR20140018496A publication Critical patent/KR20140018496A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101977244B1 publication Critical patent/KR101977244B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B15/00Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
    • F26B15/10Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form with movement in a path composed of one or more straight lines, e.g. compound, the movement being in alternate horizontal and vertical directions
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B21/00Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
    • F26B21/004Nozzle assemblies; Air knives; Air distributors; Blow boxes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에서는 기판을 건조하는 스테이션과, 상기 스테이션에서 기판을 반송방향으로 전달하는 트랜스퍼를 포함해서 구성되며, 상기 트랜스퍼는, 상기 스테이션에 고정된 채 상기 기판을 지지하는 핀들로 이뤄진 포켓부가 형성된 스테이지와, 상기 포켓부에 로딩된 기판을 전달받아 상기 반송방향으로 이웃한 다른 포켓부에 로딩시키며 핀들로 이뤄진 수납부가 형성된 셔틀을 포함하는 건조 장치를 개시한다.

Description

건조 장치{apparatus for drying a substrate}
본 발명은 기판을 세정한 후 건조할 때 사용되는 건조 장치에 관한 것으로, 스마트폰처럼 화면이 작은 디스플레이에 사용되는 기판을 반송하면서 건조할 때 유용하게 사용될 수 있는 건조 장치에 관한 것이다.
요즘 많이 사용되는 OLED, LCD와 같은 디스플레이는 포토리소그래피 공정을 이용해서 기판 위에 다수의 박막 층을 쌓아 만들어지며, 기계화된 설비를 이용해서 기판을 반송해가며 작업이 이뤄진다.
기판을 반송하는 일반적인 방법은, 롤러를 이용하거나, 벨트를 이용하는 방식이다. 이 방식들은 모두, 일 방향으로 회전하는 롤러 또는 벨트 위에 반송물을 올려 놓고, 롤러 또는 벨트를 일 방향으로 회전시키는 것에 의해 반송물을 반송한다.
그런데, 이 같은 반송 방식은 포토리소그래피 공정 중에서 피처리 기판(유리기판, 플라스틱 기판등)을 세정 후 건조할 때, 5인치 크기 전, 후의 소형 기판에 사용하기에는 부적합하다. 롤러 방식은 반송물을 지지하기 위해서 최소 2개 이상의 지지점이 필요한데, 소형 기판은 크기가 작으므로 롤러 간의 거리 역시 작아질 수밖에 없고, 이에 따라 기판의 배면이 롤러에 가려 건조하기가 힘들다. 그리고, 벨트 방식은 벨트가 물에 젖은 상태에서 건조 작업을 반복하게 되면, 벨트가 변이되면서 불순물이 발생해 기판을 다시 오염시키는 문제가 있다.
본 발명은 이 같은 배경에서 창안된 것으로, 소형 기판을 건조하는데 적합한 반송 설비를 구비한 건조 장치를 제안하는데 있다.
스테이션에서 기판을 반송방향으로 전달하는 트랜스퍼를 포함해서 구성되며, 상기 트랜스퍼는, 상기 스테이션에 고정된 채 상기 기판을 지지하는 핀들로 이뤄진 포켓부가 형성된 스테이지와, 상기 포켓부에 로딩된 기판을 전달받아 상기 반송방향으로 이웃한 다른 포켓부에 로딩시키며 핀들로 이뤄진 수납부가 형성된 셔틀을 포함하는 건조 장치를 개시한다.
상기 포켓부는, 상기 기판을 측면에서 지지하는 제1 가이드 핀과, 상기 기판을 아래에서 점접촉 형태로 접촉해 지지하는 제1 써포팅 핀을 포함한다.
상기 수납부는, 상기 제1 가이드 핀과 엇갈린 위치에서 상기 기판을 측면에서 지지하는 제2 가이드 핀과, 상기 기판을 아래에서 지지하는 제2 써포팅 핀을 포함한다.
상기 수납부는 상기 반송방향으로 이웃한 제1 수납부 및 제2 수납부를 포함하고, 상기 제1 수납부를 이루는 제2 가이드 핀과 제2 써포팅 핀의 위치는 상기 제2 수납부를 이루는 제2 가이드 핀과 제2 써포팅 핀의 위치와 다르다.
상기 셔틀은, 서보모터에 연결돼서 상기 반송방향으로 상기 기판을 이송하는 가이드 레일부와, 실린더에 연결돼서 상기 기판을 상승 및 하강시키는 승강부와, 상기 수납부가 형성된 홀딩부를 포함한다.
상기 스테이션은, 에어나이프, 에어 노즐 또는 열풍 노즐을 포함해서 에어 커튼을 형성하는 제1 스테이션과, 열풍기를 포함해서 건조용 기류를 형성하는 제2 스테이션을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에서는, 기판을 반송하는 설비가 종전처럼 롤러 또는 벨트를 사용하지 않고, 기판을 지지하는 스테이지와 기판을 기계적으로 반송하는 셔틀을 포함해서 구성되므로, 로러 또는 벨트를 사용하기 때문에 발생하던 문제점을 해결할 수가 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에서는 기판을 지지하는 구성들이 기판과 점접촉 형태를 이루고 있기 때문에, 기판과 접촉하는 면적을 최소로 줄여 기판을 효과적으로 건조할 수가 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에서는 핀의 위치가 라인에 따라 다르게 배치되어 있어서, 제1 라인에서 핀에 의해 가려져 미처 건조가 되지 않았던 영역도 다음 제2 라인에서 오픈되기 때문에 핀과 접촉해 건조가 되지 않는 문제가 발생하지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 제1 스테이션의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 제2 스테이션의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 4는 제3 스테이션의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 트랜스퍼의 구성을 스테이지와 셔틀로 나눠서 보여주는 도면이다.
도 6은 도 5 중 스테이지만을 선택적으로 보여주는 도면이다.
도 7은 포켓부를 이루는 가이드 핀과 써포팅 핀의 배치를 간략히 도시한 것이다.
도 8은 수납부를 이루는 가이드 핀과 써포팅 핀의 배치 모습을 보여준다.
도 9a 및 도 9b는 스테이지 및 셔틀에 의해 기판이 반송 방향으로 반송되는 과정을 설명하는 모식도이다.
도 10은 스테이지에 로딩된 기판의 모습을 보여주는 도면이다.
도 11은 반송방향으로 이웃한 두 수납부의 핀 배치 모습을 비교해서 보여주는 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장치의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장치는 5인치 전/후의 크기를 갖는 소형 디스플레이를 구성할 때, 디스플레이를 보호하는 커버 글래스를 세정한 후 건조하는 설비에 유용하게 사용된다. 이러한 건조 장치는 크린 룸 내에 설치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장치(10)는 제1 스테이션(100), 제2 스테이션(200), 제3 스테이션(300)를 포함하고, 도면의 화살표 방향(도면의 x축 방향)으로 기판(11)을 반송하는 트랜스퍼(400)를 포함한다. 본 명세서에서, "스테이션"은 건조 과정에 따른 기능적 분류일 뿐이고, 기판은 인라인 형태로 트랜스퍼(400)에 의해 일 방향으로 반송되면서, 동시에 건조도 이뤄진다.
이 실시예의 건조 장치(10)에서, 기판(11)은 도면의 화살표 방향으로 반송되면서, 세정과정에서 기판(11)에 남아 있던 물기를 포함하는 불순물들이 제거된다. 기판(11)은 스테이지(410)와 셔틀(420)로 구성된 트랜스퍼(400)에 의해 화살표 방향으로 반송되는데, 스테이지(410)는 고정된 채 기판(11)을 도 2에서 예시하는 바처럼 4ⅹ3 행렬 형태로 배치해 이들을 지지하며, 셔틀(420)은 스테이지(410)에 로딩된 기판(11)을 언로딩(unloading)해서 화살표 방향으로 1라인만큼 이동시킨 후에 다시 기판(11)을 스테이지(410)에 로딩(loading)한다.
도 2에서 예시하는 바처럼, 제1 스테이션(100)은 반송 방향(도면의 x축 방향)과 직교하는 수직방향(도면의 z축 방향)으로 긴 에어 나이프(110) 및 에어 노즐(120)을 포함한다. 에어 나이프(110)는 4ⅹ3 행렬 형태로 배치된 기판들 중, 1열에 배치된 4개의 기판 전체에 대응하는 크기를 갖는 슬릿 형상의 배출구에 의해 에어를 띠 형상으로 분사하도록 되어 있다. 이 에어 나이프(110)는 기판(11)을 중심으로 위와 아래에 각각 마주하게 배치되어 있으며, 기판(11)을 중심으로 그 위에 배치된 상부 에어 나이프(110a)의 분사 압력이 기판 아래에 배치된 하부 에어 나이프(110b)의 분사 압력보다 크다. 기판(11)은 스테이지(410)에 마련된 핀들에 의해서만 지지된 채 고정되어 있기 때문에, 상부 에어 나이프(110a)의 분사 압력이 하부 에어 나이프(110b)의 분사 압력보다 작으면, 기판(11)은 분사 압력 때문에 스테이지(410)에서 이탈할 수 있다.
에어 노즐(120)은 에어 나이프(110)와 이웃하게 배치돼 있으며, 기판(11)의 반송 방향을 기준으로, 에어 나이프(110) 다음에 배치된다. 에어 나이프(110)가 1열(도면의 z축 방향 기준)에 배치된 모든 기판들에 대응하도록 형성된 반면에, 에어 노즐(120)은 1열에 배치된 기판 각각에 대응하도록 형성된다. 이 실시예처럼, 기판(11)이 1열에 4개가 배치되는 경우에, 에어 노즐(120)은 1열에 배치된 기판 각각에 대응하도록 4개가 한 세트로 구성된다. 에어 나이프와 마찬가지로, 이 에어 노즐(120)은 기판(11)을 중심으로 위와 아래에 각각 마주하게 배치되어 있으며, 기판(11)을 중심으로 그 위에 배치된 상부 에어 노즐(120a)의 분사 압력이 기판 아래에 배치된 하부 에어 노즐(120b)의 분사 압력보다 크다.
본 실시예에서, 제1 스테이션(100)은 이처럼 에어 나이프(110) 및 에어 노즐(120)을 포함하고 있기 때문에, 기판(11)은 에어 나이프(110)를 통과하면서 전체적으로 균일하게 불순문이 제거되고, 에어 노즐(120)을 통과하면서 기판 각각에 부분적으로 잔존하는 불순물이 제거된다.
도 3에서 예시하는 바처럼, 제2 스테이션(200)은 고압의 열풍을 기판(11)의 위와 아래에서 각각 공급하는 열풍 노즐(210)을 포함한다. 열풍 노즐(210)은 하나의 기판에 대해서 2개가 쌍으로 배치되며, 열풍 노즐(210)에서 분사된 열풍은 기판(11)을 사이에 두고, 위와 아래에서 에어 커튼을 형성해 기판(11)에 잔존하는 미세 불순물을 제거한다.
그리고, 기판 위에 마련된 상부 열풍 노즐(210a)의 분사 압력은 기판 아래에 배치된 하부 열풍 노즐(210b)의 분사 압력보다 크다.
도 4에서 예시하는 바처럼, 제3 스테이션(300)은 수평방향(도면의 z축 방향)으로 뜨거운 기류를 형성하는 열풍기(310)를 포함한다. 열풍기(310)는 팬을 포함해서 구성되며, 팬의 회전에 의해 수평방향(도면의 z축 방향)으로 뜨거운 기류가 형성돼, 기판(11)은 제3 스테이션(300)을 통과하면서 최종 건조된다.
이하, 이처럼 구성되는 제1 스테이션 내지 제3 스테이션 사이에서 기판(11)을 한 방향(도면의 x축 방향)으로 반송하는 트랜스퍼(400)에 대해서 설명한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 트랜스퍼(400)의 구성을 스테이지와 셔틀로 나눠서 보여주는 도면이다. 스테이지와 셔틀은 세트로 스테이지 바로 아래에 셔틀이 위치해서, 스테이지는 기판을 지지만하고, 셔틀은 기판을 반송 방향으로 전달한다.
도 5에서, 본 발명의 일 실시예에 따른 트랜스퍼(400)는 각 스테이션별로 고정된 채로 기판(11)을 4ⅹ3 행렬 형태로 지지하는 스테이지(410)와 기판을 1라인씩 반송 방향(도면의 x축 방향)으로 전달하는 셔틀(420)을 포함한다.
이러한 셔틀(420)은 실린더(미도시)에 축 연결되어 있어 도면의 z축 방향으로 상승 및 하강 운동을 할 수 있도록 구성되며, 또한 서보 모터(미도시)에 연결돼서 도면의 x축 방향으로 전진 및 후진 운동을 할 수 있도록 구성된다. 셔틀(420)은 이 같은 구성에 의해 스테이지(410)에 안착된 기판(11)을 들어올려, 1라인만큼 전진한 다음에 하강해 이전 라인에 있던 기판을 다음 라인으로 전달한다.
도 6은 도 5의 트랜스퍼(400) 중 스테이지(410)만을 선택적으로 도시한 것이다. 도 5에서는 스테이지 전체를 보여주는 반면, 도 6은 설명의 편의를 위해 제1 스테이션에 배치된 스테이지만을 선택적으로 보여준다. 그리고, 도 7은 포켓부를 이루는 가이드 핀과 써포팅 핀의 배치를 간략히 도시한 것이다.
스테이지(410)는 각 스테이션에서 고정된 채 기판(11)을 4ⅹ3 행렬 형태로 지지한다. 이를 위해서 스테이지(410)는 기판들이 안착되고, 다수의 핀들로 이뤄진 포켓부(410a)를 포함한다.
스테이지는 반송 방향으로 길게 형성된 지지부재(411), 지지부재(411)를 가로지르는 써포팅 부재(413), 그리고, 지지부재(411) 및 써포팅 부재(413)에 각각 마련돼서 포켓부(410a)를 이루는 써포팅 핀(415)과 가이드 핀(417)을 포함한다.
써포팅 핀(415)은 기판(11)보다 아래에 위치해서 기판(11)의 밑면을 점접촉 형태로 접촉해 기판(11)을 지지하며, 가이드 핀(417)은 기판(11)의 측면에 위치해서 선접촉 형태로 접촉해 기판(11)을 측면에서 지지한다.
지지부재(411) 상에는 기판(11)의 장변 길이만큼 떨어진 상태로 한 쌍의 가이드 핀(417a, 417b)이 형성되며, 그 사이에는 2개의 써포팅 부재(413a, 413b)가 배치돼 있다. 써포팅 부재(413a, 413b)는 지지부재(411)를 가로지르며, 기판(11)의 단변 길이에 대응하는 길이를 갖는다. 써포팅 부재(413a, 413b)의 양 단에는 가이드 핀(417c, 417d)이 각각 형성되며, 그 안쪽에는 써포팅 핀(415a, 415b)이 각각 위치한다.
이에 따라, 하나의 기판을 놓고 볼 때, 기판의 단변 중심 각각에 하나씩 가이드 핀(417a, 417b)이 형성되고, 장변 중심에 이웃해 2개의 가이드 핀(417c, 417d)이 형성돼 기판(11)을 측면에서 지지하며, 기판(11)의 아래로는 4개의 써포팅 핀(415a, 415b)이 형성돼 기판(11)을 아래에서 지지한다.
이처럼, 본 실시예의 스테이지(410)는 써포팅 핀(415)과, 가이드 핀(417)을 포함해 구성된 포켓부(410a)를 포함함으로써, 각 스테이션별로 고정된 채, 기판(11) 각각을 포켓부(410a)별로 로딩한다.
도 5로 돌아가서, 본 실시예에서 셔틀(420)은 가이드 레일부(421), 승강부(423), 홀딩부(425)를 포함한다.
가이드 레일부(421)는 홀딩부(425)를 반송 방향으로 전진 및 후진시키는 기계적 구성으로 가이드 레일(미도시)을 포함해서 구성된다. 이 가이드 레일부(421)는 서보모터(미도시)에 축 연결되어 있으며, 서보모터를 통해서 전달된 구동력은 홀딩부(425)를 반송 방향(도면의 x축 방향)으로 1라인만큼 전진 및 후진시켜 기판을 1라인만큼 반송방향으로 전달한다.
승강부(423)는 홀딩부(425)를 도면의 y축 방향으로 상승 및 하강 시키는 기계적 구성으로 암(423a)을 포함해서 구성되며, 암(423a)은 실린더(미도시)에 연결되어 있다. 암(423a)은 홀딩부(425)에 연결되어 있으며, 실린더의 동작에 따라 홀딩부(425)를 상승 및 하강시켜, 스테이지(410)에 위치한 기판(11)을 홀딩부(425)로 로딩하거나, 홀딩부(425)에 로딩된 기판을 스테이지(410)로 전달한다.
홀딩부(425)는 기판(11)을 로딩하는 구성으로, 스테이지(410)에 로딩된 기판(11)을 전달받아, 스테이지에서와 마찬가지로 기판을 4ⅹ3 행렬 형태로 지지한다. 홀딩부(245)는 기판(11)을 지지하기 위해서, 다수의 핀들로 이뤄져 기판을 각각 지지하는 수납부(245a)를 포함한다.
홀딩부(425)는, 반송 방향으로 긴 지지부재(427), 이 지지부재(427) 위에 형성된 핀 부재(429)를 포함한다. 핀 부재(429)는 4개가 모여 기판 하나에 대응하는 크기를 정의하며, 각 핀 부재(429)는 써포팅 핀(428)과 가이드 핀(429)이 배치돼 수납부(245a)를 형성한다.
이 수납부(245a)는 스테이지(410)에 마련된 포켓부(410a)에 1:1로 대응하는 구성으로, 각 스테이션에서 포켓부(410a)에 로딩되었던 기판(11)은 셔틀의 동작에 의해 수납부(245a)로 전달돼 1라인만큼 이동한 다음에 다시 수납부(245a)에서 포켓부(410a)로 로딩된다.
도 8은 수납부(245a)를 이루는 핀의 배치 모습을 보여준다. 스테이지에서 포켓부(410a)를 구성하던 핀들은 기판의 장변 및 단변 중심에 이웃하게 배치되는 반면, 셔틀에서 수납부(245a)를 이루는 핀들은 기판의 4곳 모서리에 이웃하게 배치돼, 둘 사이가 간섭되는 것을 방지한다.
기판의 모서리에서, 장변 쪽에 제1 가이드 핀(429a)이 형성돼 있고, 단변 쪽 제2 가이드 핀(429b)이 형성돼 있다. 제1 가이드 핀(429a)은 기판의 단변에서 제1 거리(d1)만큼 떨어져 있고, 제2 가이드 핀(429b)은 장변에서 제2 거리(d2)만큼 떨어져 있다. 그리고, 기판 아래로 제2 가이드 핀(429b)에 이웃하게 써포팅 핀(428)이 형성돼 있다.
이하, 이처럼 구성된 트랜스퍼(400)에 의해서 기판(11)이 반송 방향으로 1라인씩 전달되는 과정을 설명한다. 도 9a 및 도 9b는 스테이지(410) 및 셔틀(420)에 의해 기판이 반송 방향으로 반송되는 과정을 설명하는 모식도이다.
도 9a 및 도 9b에서 예시하는 바처럼, 스테이지(410)는 스테이션별로 4ⅹ3 행렬 형태로 총 12장의 기판을 로딩할 수 있도록 포켓부(410a)를 포함하고 있다(도 10 참조). 이와 마찬가지로, 셔틀(420)은 스테이션별로 포켓부(410a)에 1:1 대응하는 수납부(245a)를 포함하고 있다. 대기 상태에서, 셔틀(420)은 스테이지(410)의 포켓부(410a) 바로 아래에 수납부(245a)가 1:1 대응하게 위치하고 있다.
제1 라인(#1)에 배치된 포켓부(410a)에는 세정이 끝난 기판들이 로봇에 의해 로딩되어 있다(도 9a의 (A) 참조).
이 상태에서, 셔틀(420)은 수납부(245a)를 상승(화살표①)시킨다. 수납부(245a)를 이루는 핀들은 기판의 모서리에 대응하는 위치로 형성된 반면에, 포켓부(410a)를 이루는 핀들은 기판의 장변 및 단변 각각의 중심 근처에 형성돼 있다. 따라서, 셔틀(420)이 수납부(245a)를 상승시킴에 따라, 포켓부(410a)에 로딩되어 있던 기판(11)은 수납부(245a)로 전달된다. 이처럼, 셔틀(420)의 상승 동작에 의해 기판(11)은 스테이지(410)의 포켓부(410a)에서 셔틀(420)의 제1 라인(#1)에 배치된 수납부(245a)로 전달된다(도 9a의 (B) 참조).
이 상태에서, 셔틀(420)은 반송 방향(도면의x축 방향)으로 1라인만큼 전진(화살표 ②)한 다음에, 아래로 하강(화살표 ③)한다. 이에 따라, 셔틀(420)의 제1 라인 수납부(245a)에 로딩되었던 기판(11)은 스테이지(410) 중 제2 라인(#2)에 위치하는 포켓부(410a)에 전달된다(도 9a의 (C), 도 9b의 (D) 참조). 여기서, 1 라인은 반송 방향으로 이웃한 기판과 기판 사이의 거리에 해당하는 거리를 의미한다. 하강한 셔틀(420)은 그 위치에서, 1라인만큼 후진(화살표 ④)해 포켓부(410a)를 원위치시킨다(도 9b의 (E) 참조).
이처럼, 본 실시예에는 스테이지(410)는 고정된 채 기판(11)을 지지하고, 셔틀(420)이 동작해서 스테이지(410)에 로딩된 기판(11)을 1라인씩 전진시킨다.
한편, 도 11은 제1 라인(#1)에 형성된 수납부(245a)(도 11의 (A))의 핀 배치 모습과 제2 라인(#2)에 형성된 수납부(245a)(도 11의 (B))의 핀 배치 모습을 비교해서 보여준다.
수납부(245a)는 상술한 바처럼, 기판(11)의 4 곳 모서리에 이웃하게 배치돼 있다. 제1 라인(#1)에서, 제1 가이드 핀(429a)은 기판의 단변에서 제1 거리(d1)만큼 떨어져 있고, 제2 가이드 핀(429b)은 기판의 장변에서 제2 거리(d2)만큼 떨어져 있다. 그리고, 써포팅 핀(428)은 제2 가이드 핀(429b)에 이웃하게 형성돼 있다.
이와 비교해 제2 라인(#2)에서, 제1 가이드 핀(429a)은 기판의 단변에서 제3 거리(d3)만큼 떨어져 있으며, 제3 거리(d3)는 제1 거리(d1)와 다르다. 제2 가이드 핀(429b)은 기판의 장변에 제4 거리(d4)만큼 떨어져 있으며, 제4 거리(d4)는 제2 거리(d2)와 다르다. 그리고, 써포팅 핀(428)은 제1 가이드 핀(429a)에 이웃하게 형성돼 있다.
이처럼, 제1 라인(#1)에서 수납부(245a)를 이루는 핀들의 위치는 제2 라인(#2)에서 수납부(245a)를 이루는 핀들의 위치와 다르게 구성된다. 이에 따라, 셔틀(420)의 동작에 의해 기판(11)을 수납부(245a)에 로딩한 채 반송방향으로 기판이 이송될 때, 제1 라인(#1)과 제2 라인(#2)에서 기판이 핀에 의해 지지되는 부분은 달라진다.
따라서, 본 발명과 같은 건조 장치는, 인라인 형태로 기판이 반송되는 과정에서 건조가 이뤄지는데, 기판이 셔틀(420)의 제1 라인(#1)에 배치된 수납부(245a)에 로딩된 채 건조 과정이 이뤄져, 제1 라인에서 핀에 의해 가려져 건조가 되지 않았던 부분이 있더라도, 제2 라인(#2)에서는 수납부(245a)를 이루는 핀의 위치가 달라져 제1 라인에서 가려졌던 부분이 오픈되면서, 제2 라인에서 건조가 이뤄진다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
100: 제1 스테이션 200: 제2 스테이션 300: 제3 스테이션
400: 트랜스터 410: 스테이지 420: 셔틀

Claims (6)

  1. 기판을 건조하는 스테이션과,
    상기 스테이션에서 기판을 반송방향으로 전달하는 트랜스퍼를 포함해서 구성되며,
    상기 트랜스퍼는,
    상기 스테이션에 고정된 채 상기 기판을 지지하는 핀들로 이뤄진 포켓부가 형성된 스테이지와,
    상기 포켓부에 로딩된 기판을 전달받아 상기 반송방향으로 이웃한 다른 포켓부에 로딩시키며 핀들로 이뤄진 수납부가 형성된 셔틀을 포함하는 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 포켓부는,
    상기 기판을 측면에서 지지하는 제1 가이드 핀과,
    상기 기판을 아래에서 점접촉 형태로 접촉해 지지하는 제1 써포팅 핀을 포함하는 건조 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 수납부는,
    상기 제1 가이드 핀과 엇갈린 위치에서 상기 기판을 측면에서 지지하는 제2 가이드 핀과,
    상기 기판을 아래에서 지지하는 제2 써포팅 핀을 포함하는 건조 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 수납부는 상기 반송방향으로 이웃한 제1 수납부 및 제2 수납부를 포함하고,
    상기 제1 수납부를 이루는 제2 가이드 핀과 제2 써포팅 핀의 위치는 상기 제2 수납부를 이루는 제2 가이드 핀과 제2 써포팅 핀의 위치와 다른 건조 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 셔틀은,
    서보모터에 연결돼서 상기 반송방향으로 상기 기판을 이송하는 가이드 레일부와,
    실린더에 연결돼서 상기 기판을 상승 및 하강시키는 승강부와,
    상기 수납부가 형성된 홀딩부를 포함하는 건조 장치.
  6. 제1 항에 있어서, 상기 스테이션은,
    에어나이프, 에어 노즐 또는 열풍 노즐을 포함해서 에어 커튼을 형성하는 제1 스테이션과,
    열풍기를 포함해서 건조용 기류를 형성하는 제2 스테이션을 포함하는 건조 장치.
KR1020120084599A 2012-08-01 2012-08-01 건조 장치 KR101977244B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120084599A KR101977244B1 (ko) 2012-08-01 2012-08-01 건조 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120084599A KR101977244B1 (ko) 2012-08-01 2012-08-01 건조 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140018496A true KR20140018496A (ko) 2014-02-13
KR101977244B1 KR101977244B1 (ko) 2019-05-10

Family

ID=50266486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120084599A KR101977244B1 (ko) 2012-08-01 2012-08-01 건조 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101977244B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019134582A1 (zh) * 2018-01-03 2019-07-11 惠科股份有限公司 一种烘烤方法、装置及烘烤炉
KR102399081B1 (ko) * 2021-09-16 2022-05-18 주식회사 엠아이티 검사 대상물을 건조할 수 있는 불량 소자 초음파 검사 장치 및 이를 이용한 검사방법

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050001482A (ko) * 2003-06-25 2005-01-07 주식회사 디엠에스 기판의 수평 및 상하 이송장치
JP2005147621A (ja) * 2003-11-19 2005-06-09 Tokyo Kakoki Kk 基板材の乾燥装置
KR20060000819A (ko) * 2004-06-29 2006-01-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 기판의 회전건조장치
JP2006131372A (ja) * 2004-11-08 2006-05-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びローダ装置及びアンローダ装置
KR20080032482A (ko) * 2006-10-10 2008-04-15 주식회사 인지디스플레이 디스플레이 장치용 프레임 자동 세척장치
KR20080044509A (ko) * 2006-11-16 2008-05-21 주식회사 와이아이테크닉스 평판디스플레이용 유리기판 건조장치 및 건조방법
KR20100035519A (ko) * 2008-09-26 2010-04-05 주식회사 디엠에스 기판처리장치
JP2010181761A (ja) * 2009-02-09 2010-08-19 Hitachi High-Technologies Corp 基板乾燥装置、基板乾燥方法、及び表示用パネル基板の製造方法
KR20100103247A (ko) * 2009-03-13 2010-09-27 (주) 디바이스이엔지 평판 디스플레이용 에어 나이프 건조장치

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050001482A (ko) * 2003-06-25 2005-01-07 주식회사 디엠에스 기판의 수평 및 상하 이송장치
KR100500170B1 (ko) * 2003-06-25 2005-07-07 주식회사 디엠에스 기판의 수평 및 상하 이송장치
JP2005147621A (ja) * 2003-11-19 2005-06-09 Tokyo Kakoki Kk 基板材の乾燥装置
KR20060000819A (ko) * 2004-06-29 2006-01-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 기판의 회전건조장치
JP2006131372A (ja) * 2004-11-08 2006-05-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及びローダ装置及びアンローダ装置
KR20080032482A (ko) * 2006-10-10 2008-04-15 주식회사 인지디스플레이 디스플레이 장치용 프레임 자동 세척장치
KR20080044509A (ko) * 2006-11-16 2008-05-21 주식회사 와이아이테크닉스 평판디스플레이용 유리기판 건조장치 및 건조방법
KR20100035519A (ko) * 2008-09-26 2010-04-05 주식회사 디엠에스 기판처리장치
JP2010181761A (ja) * 2009-02-09 2010-08-19 Hitachi High-Technologies Corp 基板乾燥装置、基板乾燥方法、及び表示用パネル基板の製造方法
KR20100103247A (ko) * 2009-03-13 2010-09-27 (주) 디바이스이엔지 평판 디스플레이용 에어 나이프 건조장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019134582A1 (zh) * 2018-01-03 2019-07-11 惠科股份有限公司 一种烘烤方法、装置及烘烤炉
KR102399081B1 (ko) * 2021-09-16 2022-05-18 주식회사 엠아이티 검사 대상물을 건조할 수 있는 불량 소자 초음파 검사 장치 및 이를 이용한 검사방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR101977244B1 (ko) 2019-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4554397B2 (ja) ステージ装置および塗布処理装置
JP6039260B2 (ja) 基板搬送システム
JP5274339B2 (ja) 基板処理装置および基板搬送方法
KR102391430B1 (ko) 다이 본딩 장치
US20120031438A1 (en) Substrate cleaning/drying apparatus and substrate processing apparatus comprising the same, and substrate cleaning/drying method and method for manufacturing display panel
TWI386354B (zh) 基板搬送裝置
JP5152469B2 (ja) 基板搬送装置
KR20080059070A (ko) 감압건조장치
JP4313284B2 (ja) 基板処理装置
KR102011519B1 (ko) 노즐 세정 장치, 도포 처리 장치, 노즐 세정 방법, 도포 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체
JP2012146862A (ja) 基板処理装置
KR101977244B1 (ko) 건조 장치
KR20090060321A (ko) 기판 반송 장치
JP2018083700A (ja) 基板供給装置の制御方法、および、基板供給回収装置の制御方法
JP5163860B2 (ja) 基板搬送装置
KR102401361B1 (ko) 다이 본딩 장치
CN106548965B (zh) 基板处理装置及基板处理方法
KR100959680B1 (ko) 기판 이송 시스템
KR102401362B1 (ko) 다이 본딩 장치
KR20220005790A (ko) 약액 토출 장치
JP2007134734A (ja) 液晶基板の搬送装置
JP3752414B2 (ja) 基板の製造装置および基板の製造方法
KR101731261B1 (ko) 기립형 기판 이송시스템
JPH09252040A (ja) 基板搬送装置
JP5663297B2 (ja) 塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right