KR20140018219A - 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 - Google Patents
양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140018219A KR20140018219A KR20137019064A KR20137019064A KR20140018219A KR 20140018219 A KR20140018219 A KR 20140018219A KR 20137019064 A KR20137019064 A KR 20137019064A KR 20137019064 A KR20137019064 A KR 20137019064A KR 20140018219 A KR20140018219 A KR 20140018219A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sheet
- adhesive layer
- double
- adhesive tape
- adhesive
- Prior art date
Links
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 137
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 93
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 93
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229920000103 Expandable microsphere Polymers 0.000 claims abstract description 32
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 84
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 47
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 19
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 24
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 52
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 45
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 35
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 33
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 27
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 27
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 5
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 5
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 5
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 5
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical class CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940113165 trimethylolpropane Drugs 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940114077 acrylic acid Drugs 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 150000003097 polyterpenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- AURYLBASVGNSON-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-3-ylidene)methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC=C1CC(=O)NC1=O AURYLBASVGNSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatoethane Chemical compound O=C=NCCN=C=O ZTNJGMFHJYGMDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 1-(prop-2-enoylamino)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCC(S(O)(=O)=O)NC(=O)C=C IAUGBVWVWDTCJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXQKJEIGFRLGIH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2h-pyrazine Chemical compound C=CN1CC=NC=C1 HXQKJEIGFRLGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZFIGURLAJSLIR-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2h-pyridine Chemical compound C=CN1CC=CC=C1 OZFIGURLAJSLIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNKDTZRRFHHCCV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2h-pyrimidine Chemical compound C=CN1CN=CC=C1 LNKDTZRRFHHCCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCRYNQTXGUTACA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperazine Chemical compound C=CN1CCNCC1 DCRYNQTXGUTACA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBGPBHYPCGDFEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpiperidin-2-one Chemical compound C=CN1CCCCC1=O PBGPBHYPCGDFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-enylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC=CN1CCCC1=O BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)N1C(=O)C=CC1=O NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-1-n,1-n,3-n,3-n-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)benzene-1,3-diamine Chemical group CC1=C(N(CC2OC2)CC2OC2)C(C)=CC=C1N(CC1OC1)CC1CO1 KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGXAFZNONAXBOS-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]methyl]oxirane Chemical compound C=1C=CC(CC2OC2)=CC=1CC1CO1 AGXAFZNONAXBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIAXWFTYAJQENP-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-2h-1,3-oxazole Chemical compound C=CN1COC=C1 NIAXWFTYAJQENP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical group C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)NC1=O FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylmorpholine Chemical compound C=CN1CCOCC1 CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(2-hydroxyethoxy)phosphoryl] prop-2-enoate Chemical compound OCCOP(O)(=O)OC(=O)C=C KJVBXWVJBJIKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- GJKZSOHUVOQISW-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 GJKZSOHUVOQISW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005354 coacervation Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- NRJXUPLBIUZXLW-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene;styrene Chemical compound C=C.CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 NRJXUPLBIUZXLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N ethene;styrene Chemical group C=C.C=CC1=CC=CC=C1 BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019988 mead Nutrition 0.000 description 1
- 239000000289 melt material Substances 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N n-ethenylformamide Chemical class C=CNC=O ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920006113 non-polar polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B18/00—Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B25/00—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber
- B32B25/04—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B25/08—Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/40—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyurethanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B37/00—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating
- C04B37/008—Joining burned ceramic articles with other burned ceramic articles or other articles by heating by means of an interlayer consisting of an organic adhesive, e.g. phenol resin or pitch
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/08—Macromolecular additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/26—Polymeric coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2405/00—Adhesive articles, e.g. adhesive tapes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/16—Capacitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/30—Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
- C04B2237/32—Ceramic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2237/00—Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/50—Processing aspects relating to ceramic laminates or to the joining of ceramic articles with other articles by heating
- C04B2237/70—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness
- C04B2237/708—Forming laminates or joined articles comprising layers of a specific, unusual thickness of one or more of the interlayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/10—Encapsulated ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/10—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet
- C09J2301/12—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers
- C09J2301/124—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers the adhesive layer being present on both sides of the carrier, e.g. double-sided adhesive tape
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/10—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet
- C09J2301/12—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers
- C09J2301/124—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers the adhesive layer being present on both sides of the carrier, e.g. double-sided adhesive tape
- C09J2301/1242—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the arrangement of layers the adhesive layer being present on both sides of the carrier, e.g. double-sided adhesive tape the opposite adhesive layers being different
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
- C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/408—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/412—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components presence of microspheres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
- C09J5/06—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
- C09J5/08—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers using foamed adhesives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/6834—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to protect an active side of a device or wafer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
- Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
- Y10T428/2852—Adhesive compositions
- Y10T428/287—Adhesive compositions including epoxy group or epoxy polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
- Y10T428/2852—Adhesive compositions
- Y10T428/2896—Adhesive compositions including nitrogen containing condensation polymer [e.g., polyurethane, polyisocyanate, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
본 발명은 피착체에 휨이 있어도, 받침대에 고정된 상태를 유효하게 유지할 수 있어, 가압 공정이 있어도, 가압에 의한 가로 어긋남을 방지할 수 있으며, 가열에 의해 가공품을 박리할 수 있는 양면 점착 테이프 또는 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 기재의 한쪽 면 측에 열 팽창성 미소구를 함유하는 열 박리형 점착층을 갖고, 기재의 다른 쪽 면 측에 임시 고정용 점착층을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트로서, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭이고, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하이며, 임시 고정용 점착층이 이소시아네이트계 또는 에폭시계 가교제로 가교되어 있는 양면 점착 테이프 또는 시트를 제공한다.
Description
본 발명은 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하면서 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접착한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시할 때, 피착체에 휨에 의한 응력이 발생하여도, 받침대에 고정한 상태를 유효하게 유지할 수 있고, 또한, 피착체의 가공 시에 가압 공정이 있어도, 가압에 의한 가로 어긋남을 억제 또는 방지할 수 있으며, 또한, 피착체에 가공 처리를 실시한 후에는 가열에 의해 가공품을 손상 없이 용이하게 박리시킬 수 있는 양면 점착 테이프 또는 시트 및 이 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용한 피착체의 가공 방법에 관한 것이다.
최근의 전자 부품에 대한 요구는, 부품 자체의 소형화나 정밀화로서, 예를 들어 세라믹 콘덴서에서는, 소위 「0603」, 「0402」등의 크기로 대표되는 소형화나, 수백층을 크게 초과하는 고적층화에 의한 고용량화가 현저해지고 있다. 특히 세라믹 콘덴서 등의 세라믹의 소성 전 시트(그린 시트)의 적층 분야에서는, 소형화나 정밀화로 인해, 가공 시의 정밀도가 요구되고 있다.
예를 들어, 세라믹 콘덴서의 제조 공정을 일례로 들면, (1) 그린 시트로의 전극 인쇄 공정, (2) 적층 공정, (3) 가압 공정(가압 프레스 공정), (4) 절단 공정, (5) 소성 공정의 공정이 있으며, 적층 공정 (2)와 가압 공정 (3)은, 소정 횟수 반복된 후, 절단 공정 (4)로 옮겨가는 제조 공정을 들 수 있다.
현재, 적층 공정 (2)에서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)이나, 클린 페이퍼, 점착 테이프 위에 적층해 가는 것이 일반적이지만, 반송성이나 정밀도 향상의 관점에서, 금속제의 받침대를 이용하여, 그 위에 PET 필름이나, 클린 페이퍼, 점착 테이프를 고정하고, 적층하는 경우가 있다.
또한, 적층 공정 (2)와 절단 공정 (4)는 별도의 공정이며, 적층 공정 (2)에서, PET 필름이나, 클린 페이퍼, 점착 테이프 위에서 적층한 적층체를, 절단 공정 (4)에서는, 별도의 점착 테이프 등으로 다시 옮겨서, 절단을 행하는 경우가 있다. 그러나, 이 방법에서는, 적층 공정 (2)와 절단 공정 (4)에서 별도의 부재를 사용하게 되어 버린다.
이로 인해, 열 박리형 점착 테이프 또는 시트 위에서, 적층부터 절단까지 행하는 방법이 매우 유효한 수단으로서 주목받아, 실제로 실용화하여 생산되고 있는 실적이 있다. 이러한 점착 테이프로서는, 상온에서는 점착력을 갖고, 적층 공정 (2), 가압 공정 (3), 절단 공정 (4)까지를 확실히 점착(고정)하고, 절단 공정 (4) 후에는 가열에 의해, 점착성을 저하시켜서, 박리시킬 수 있는 기능을 갖는 열 박리형 점착 테이프 또는 시트(예를 들어, 특허문헌 1 내지 특허문헌 5 참조)가 이용되고 있다.
그러나, 최근의 고적층화에 수반하여, 그린 시트의 적층 시에 발생하는 그린 시트 적층체의 휨이 커졌기 때문에, 받침대에 접합하기 위한 임시 고정용 점착층의 점착력이 약한 경우, 그린 시트 적층체의 휨을 완전히 억제할 수 없어, 공정 중에 박리되어 버린다고 하는 문제가 발생하게 되었다. 이 문제에 관해서는, 임시 고정용 점착층을 형성하기 위한 점착제로서 강점착성의 점착제를 이용하면 되지만, 예를 들어 종래의 일반적인 강점착형의 점착 테이프 또는 시트를 이용하면, 그린 시트의 적층 시의 프레스 압력 등의 힘이 계속적으로 가해진 경우, 임시 고정용 점착층 자체에 가로 어긋남이 발생하기 쉬워져서, 그린 시트의 적층 시의 전극 정밀도의 저하 등의 문제가 발생하는 경우가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하면서 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접착한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시할 때에, 피착체에 휨에 의한 응력이 발생하고 있어도, 받침대에 고정한 상태를 유효하게 유지할 수 있으며, 또한, 피착체의 가공 시에 가압 공정이 있어도, 가압에 의한 가로 어긋남을 억제 또는 방지할 수 있고, 또한, 피착체에 가공 처리를 실시한 후에는 가열에 의해 가공품을 손상 없이 용이하게 박리시킬 수 있는 양면 점착 테이프 또는 시트 및 이 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용한 피착체의 가공 방법을 제공함에 있다.
본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 열 박리형 점착층과, 특정한 특성을 갖는 임시 고정용 점착층을 구비한 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용하면, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하면서 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접착한 상태로, 피착체에 가공 처리를 실시할 때에, 피착체가, 그린 시트가 고적층화된 그린 시트 적층체이며, 피착체에 휨에 의한 큰 응력이 발생하고 있어도, 받침대에 견고하게 고정된 상태를 유효하게 유지하여, 피착체의 휨을 억제할 수 있으며, 또한, 피착체의 가공 시에, 프레스 압력 등에 의한 가압 공정이 있어도, 가압에 의한 가로 어긋남을 억제 또는 방지하여, 우수한 가공 정밀도로 가공 공정을 실시할 수 있고, 또한, 피착체에 가공 처리를 실시한 후에는 가열에 의해 가공품을 손상 없이 용이하게 박리시킬 수 있다는 사실을 알아내었다. 본 발명은 이들 지식에 기초하여 완성된 것이다.
즉, 본 발명은 기재의 한쪽 면 측에 열 팽창성 미소구를 함유하는 열 박리형 점착층을 갖고, 기재의 다른 쪽 면 측에 임시 고정용 점착층을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트로서, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭이고, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하이며, 임시 고정용 점착층이 이소시아네이트계 또는 에폭시계 가교제로 가교되어 있는 양면 점착 테이프 또는 시트를 제공한다.
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트에서, 임시 고정용 점착층은, 겔 분율이 50중량% 이상인 특성을 더 갖는 것이 바람직하다.
본 발명은, 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용하여 피착체를 가공하는 방법으로서, 상기한 양면 점착 테이프 또는 시트를, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하고 또한 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접합한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시하는 것을 더 포함하는 피착체의 가공 방법을 제공한다. 이 피착체의 가공 방법에서는, 피착체로서는, 전자계 부품류를 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 피착체가 세라믹 콘덴서용의 그린 시트이고, 또한 이 피착체의 가공 방법이 그린 시트의 적층 공정을 가져도 된다.
본 발명은 나아가 또한, 전술한 피착체의 가공 방법에 의해 제조된 전자 부품이나, 적층 세라믹 콘덴서를 제공한다.
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 상기 구성을 가지므로, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하면서 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접착한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시할 때에, 피착체에 휨에 의한 응력이 발생하고 있어도, 받침대에 고정한 상태를 유효하게 유지할 수 있으며, 또한, 피착체의 가공 시에 가압 공정이 있어도, 가압에 의한 가로 어긋남을 억제 또는 방지할 수 있고, 또한, 피착체에 가공 처리를 실시한 후에는 가열에 의해 가공품을 손상 없이 용이하게 박리시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트의 예를 부분적으로 나타낸 개략 단면도이다.
도 2의 (a) 내지 도 2의 (c)는 실시예에서, 받침대 유지성을 평가하는 방법을 나타낸 개략도이다.
도 2의 (a) 내지 도 2의 (c)는 실시예에서, 받침대 유지성을 평가하는 방법을 나타낸 개략도이다.
이하에, 본 발명의 실시 형태를, 필요에 따라 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 또한, 동일한 부재나 부분 등에는 동일한 부호를 부여하고 있는 경우가 있다.
[양면 점착 테이프 또는 시트]
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 기재의 한쪽 면 측에 열 팽창성 미소구를 함유하는 열 박리형 점착층을 갖고, 기재의 다른 쪽 면 측에 임시 고정용 점착층을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트로서, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭이고, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하면서, 임시 고정용 점착층이 이소시아네이트계 또는 에폭시계 가교제로 가교되어 있는 것을 특징으로 한다.
도 1은, 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트의 예를 부분적으로 나타낸 개략 단면도이다. 도 1에서, 부호 1은 양면 점착 테이프 또는 시트, 부호 2는 기재, 부호 3은 고무 형상 유기 탄성층(중간층), 부호 4는 열 박리형 점착층, 부호 5는 임시 고정용 점착층, 부호 6은 세퍼레이터, 부호 7은 세퍼레이터이다. 도 1에서 도시된 양면 점착 테이프 또는 시트(1)는, 기재(2)의 한쪽 면에, 고무 형상 유기 탄성층(3)과, 열 박리형 점착층(4)이 이 순서로 형성되면서, 기재(2)의 다른 쪽 면에, 임시 고정용 점착층(5)이 형성된 구성을 갖는다. 또한, 고무 형상 유기 탄성층(3)은 임의로 형성된 층이다. 또한, 열 박리형 점착층(4)의 표면(점착면)은 세퍼레이터(6)에 의해 보호되어 있으며, 임시 고정용 점착층(5)의 표면(점착면)은 세퍼레이터(7)에 의해 보호되어 있지만, 이들 세퍼레이터(6)나 세퍼레이터(7)도 임의로 사용된 것이다.
<임시 고정용 점착층>
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트에서, 임시 고정용 점착층은, 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭이고, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하이며, 임시 고정용 점착층이 이소시아네이트계 또는 에폭시계 가교제로 가교되어 있다. 또한, 본 명세서 중에서, 「인장 점착력」의 값은 「SUS304BA판에 대한 박리 각도: 180°, 인장 속도: 300㎜/min, 온도: 23±2℃, 습도: 65±5%RH」의 조건에서, 후술하는 측정 방법에 의해 측정한 값을 가리키며, 「어긋남량」은 「피착체: SUS304BA판, 점착 면적: 20㎜ 폭×10㎜ 길이, 하중 전의 방치 조건: 23±2℃×30분간, 하중: 200g, 하중 후의 방치 조건: 23±2℃×60분간」의 조건에서, 후술하는 측정 방법에 의해 측정한 값을 가리킨다.
임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 2.0N/20㎜ 폭보다 작으면, 임시 고정용 점착층을 개재하여 양면 점착 테이프 또는 시트를 받침대에 접착시킨 경우, 피착체에 휨 등에 의한 응력이 발생하였으면, 열 박리형 점착층 위에 접착된 피착체의 가공 처리 중에, 양면 점착 테이프 또는 시트가 받침대로부터 박리해버려서, 상기 피착체의 가공에 의해 얻어지는 피가공체(가공품)의 정밀도 불량 등이 발생하여, 수율이 저하된다. 임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 20N/20㎜ 폭보다 크면, 박리할 때 점착제 잔여물이나 테이프 떨어짐이 발생하기 쉬워진다.
임시 고정용 점착층의 인장 점착력은, 예를 들어 아크릴계 점착제 등의 점착제의 점착성 성분(베이스 폴리머)을 이소시아네이트계 가교제 또는 에폭시계 가교제를 점착성 성분 100중량부에 대하여 0.01 내지 20중량부, 바람직하게는 0.02 내지 10중량부를 첨가하여 가교함으로써, 2.0 내지 20(N/20㎜ 폭)이 되도록 컨트롤할 수 있다. 가교제의 첨가량은, 가교하는 모노머의 관능기와 가교제의 종류에 따라 다르며, 보다 가교하기 쉬운 조합의 경우에는, 적은 가교제의 양으로도 겔 분이 커진다. 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제의 구체예로서는, 이하에 예시되는 것을 들 수 있다.
또한, 가공 중에는, 피착체의 가공 정밀도를 유지하기 위해서, 양면 점착 테이프 또는 시트의 가로 어긋남이 적은 것이 중요하다. 그로 인해, 임시 고정용 점착층은, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하(예를 들어 0 내지 0.3㎜/20㎜ 폭)로 되어 있는 특성을 갖는다. 임시 고정용 점착층의 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭보다 크면, 열 박리형 점착층 위에 접착된 피착체의 가공 처리 중에, 양면 점착 테이프 또는 시트 또는 피착체의 가로 어긋남이 발생하여, 가공 정밀도가 저하된다.
한편, 임시 고정용 점착층의 어긋남량으로서는, 0.2㎜/20㎜ 폭 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.15㎜/20㎜ 폭 이하인 것이 적합하다. 또한, 임시 고정용 점착층의 어긋남량의 하한으로서는, 특별히 제한되지 않고, 작으면 작을수록 바람직하며, 0㎜/20㎜ 폭이어도 된다.
또한, 임시 고정용 점착층의 어긋남량은, 예를 들어 아크릴계 점착제 등의 점착제의 점착성 성분(베이스 폴리머)을 이소시아네이트계 가교제 또는 에폭시계 가교제를 점착성 성분 100중량부에 대하여 0.01 내지 20중량부, 바람직하게는 0.02 내지 10중량부를 첨가하여 가교함으로써, 0.3㎜/20㎜ 폭 이하로 되도록 컨트롤할 수 있다. 가교제의 첨가량은, 가교하는 모노머의 관능기와 가교제의 종류에 따라 다르며, 보다 가교하기 쉬운 조합의 경우에는, 적은 가교제의 양이어도 겔 분이 커진다. 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제의 구체예로서는, 이하에 예시되어 있는 것을 들 수 있다.
본 발명에서, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력은, 다음의 (인장 점착력의 측정 방법)에 의해 구해진다.
(인장 점착력의 측정 방법)
양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 20㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하고, 상온(23℃±2℃)이면서 습도: 65±5%RH의 조건하에서, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판(스테인리스판)에 접촉하는 형태로, SUS304BA판에, 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합한 후, 30분간 방치한다. 방치 후, 온도: 23±2℃, 습도: 65±5%RH의 조건하, JIS Z 0237에 준하여, SUS304BA판으로부터 양면 점착 테이프 또는 시트를, 박리 각도: 180°, 인장 속도: 300㎜/min의 조건으로 박리하였을 때의 하중(최대 하중)을 측정하고, 인장 점착력(N/20㎜ 폭; SUS304BA판에 대한 박리 각도: 180°, 인장 속도: 300㎜/min, 온도: 23±2℃, 습도: 65±5%RH)을 구한다.
또한, 임시 고정용 점착층의 어긋남량은, 다음의 (어긋남량의 측정 방법)에 의해 구해진다.
(어긋남량의 측정 방법)
양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 20㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하고, 상온(23℃±2℃)이면서 습도: 65±5%RH의 조건하에서, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판에 접촉하는 형태로, SUS304BA판에, 20㎜ 폭×10㎜ 길이의 접착 면적에서 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합하고, 23±2℃에서 30분간 방치한다. 방치 후, 양면 점착 테이프 또는 시트의 단부에 200g의 하중을 가해, JIS Z 0237에 기재된 유지력의 측정 방법에 준하여, 압착 시로부터의 어긋남의 크기(어긋남량)를 측정하고, 23±2℃에서 30분간 후의 어긋남량(㎜/20㎜ 폭; 피착체: SUS304BA판, 점착 면적: 20㎜ 폭×10㎜ 길이, 하중 전의 방치 조건: 23±2℃×30분간, 하중: 200g, 하중 후의 방치 조건: 23±2℃×60분간)을 구한다.
임시 고정용 점착층을 형성하기 위한 점착제로서는, 상기 특성을 발휘하는 점착층을 형성하는 것이 가능한 점착제이면 특별히 제한되지 않고, 공지된 점착제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 이러한 공지된 점착제로서는, 예를 들어 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 우레탄계 점착제, 불소계 점착제 등의 각종 점착제나, 이들 점착제에 융점이 약 200℃ 이하인 열 용융성 수지를 배합한 크리프 특성 개량형 점착제 등을 들 수 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 소56-61468호 공보, 일본 특허 공개 소61-174857호 공보, 일본 특허 공개 소63-17981호 공보, 일본 특허 공개 소56-13040호 공보 등 참조). 점착제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
점착제로서는, 고무계 점착제나 아크릴계 점착제가 바람직하고, 특히 아크릴계 점착제를 적합하게 이용할 수 있다. 고무계 점착제나 아크릴계 점착제의 구체예로서는, 이하에 구체적으로 예시되어 있는 고무계 점착제(천연 고무나, 각종 합성 고무를 베이스 폴리머로 하는 고무계 점착제 등)나 아크릴계 점착제[(메트)아크릴산 알킬에스테르를 단량체 성분으로서 이용한 아크릴계 중합체(단독중합체 또는 공중합체)를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제 등] 등을 들 수 있다.
고무계 점착제로서는, 천연 고무나 각종 합성 고무[예를 들어, 폴리이소프렌 고무, 스티렌 부타디엔 블록 공중합체(SB) 고무, 스티렌 이소프렌 블록 공중합체(SI) 고무, 스티렌 이소프렌 스티렌 블록 공중합체(SIS) 고무, 스티렌 부타디엔 스티렌 블록 공중합체(SBS) 고무, 스티렌 이소프렌 부타디엔 스티렌 블록 공중합체(SIBS) 고무, 스티렌 에틸렌 부틸렌 스티렌 블록 공중합체(SEBS) 고무, 스티렌 에틸렌 프로필렌 스티렌 블록 공중합체(SEPS) 고무, 스티렌 에틸렌 프로필렌 블록 공중합체(SEP) 고무, 재생 고무, 부틸 고무, 폴리이소부틸렌이나, 이들 변성체 등]를 베이스 폴리머로 한 고무계 점착제를 들 수 있다.
또한, 아크릴계 점착제로서는, (메트)아크릴산 알킬에스테르의 1종 또는 2종 이상을 단량체 성분으로서 이용한 아크릴계 중합체[단독중합체(호모폴리머) 또는 공중합체(코폴리머)]를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제를 들 수 있다. 상기 아크릴계 점착제에서의 (메트)아크릴산 알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 이소프로필, (메트)아크릴산 부틸, (메트)아크릴산 이소부틸, (메트)아크릴산 s-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 펜틸, (메트)아크릴산 헥실, (메트)아크릴산 헵틸, (메트)아크릴산 옥틸, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 이소옥틸, (메트)아크릴산 노닐, (메트)아크릴산 이소노닐, (메트)아크릴산 데실, (메트)아크릴산 이소데실, (메트)아크릴산 운데실, (메트)아크릴산 도데실, (메트)아크릴산 트리데실, (메트)아크릴산 테트라데실, (메트)아크릴산 펜타데실, (메트)아크릴산 헥사데실, (메트)아크릴산 헵타데실, (메트)아크릴산 옥타데실, (메트)아크릴산 노나데실, (메트)아크릴산 에이코실 등의 (메트)아크릴산 C1 -20 알킬에스테르 [바람직하게는 (메트)아크릴산 C4 -18 알킬(직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬) 에스테르] 등을 들 수 있다.
또한, 상기 아크릴계 중합체는, 응집력, 내열성, 가교성 등의 개질을 목적으로 하여, 필요에 따라서, 상기 (메트)아크릴산 알킬에스테르와 공중합 가능한 다른 단량체 성분에 대응하는 단위를 포함할 수도 된다. 이러한 단량체 성분으로서, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 카르복시에틸아크릴레이트 등의 카르복실기 함유 모노머; 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 산 무수물기 함유 모노머; (메트)아크릴산 히드록시에틸, (메트)아크릴산 히드록시프로필, (메트)아크릴산 히드록시부틸 등의 히드록실기 함유 모노머; (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸 (메트)아크릴아미드, N-부틸 (메트)아크릴아미드, N-메틸올 (메트)아크릴아미드, N-메틸올 프로판 (메트)아크릴아미드 등의 (N-치환 또는 비치환) 아미드계 모노머; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르계 모노머; 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 모노머; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르 등의 비닐에테르계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노아크릴레이트계 모노머; (메트)아크릴산 글리시딜 등의 에폭시기 함유 아크릴계 모노머; 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀 또는 디엔계 모노머; (메트)아크릴산 아미노에틸, (메트)아크릴산 N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산 t-부틸아미노에틸 등의 (치환 또는 비치환) 아미노기 함유 모노머; (메트)아크릴산 메톡시에틸, (메트)아크릴산 에톡시에틸 등의 (메트)아크릴산 알콕시 알킬계 모노머; N-비닐피롤리돈, N-메틸비닐피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라진, N-비닐피라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-비닐모르폴린, N-비닐카프로락탐 등의 질소 원자 함유환을 갖는 모노머; N-비닐카르복실산 아미드류; 스티렌술폰산, 알릴술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필 (메트)아크릴레이트 등의 술폰산기 함유 모노머; 2-히드록시에틸 아크릴로일포스페이트 등의 인산기 함유 모노머; N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필 말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 모노머; N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 모노머; N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일-8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴 등의 산소 원자 함유 복소환을 갖는 모노머; 불소계 (메트)아크릴레이트 등의 불소 원자를 함유하는 아크릴산 에스테르계 모노머; 실리콘계 (메트)아크릴레이트 등의 규소 원자를 함유하는 아크릴산 에스테르계 모노머; 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, (폴리)에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, (폴리)프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 (메트)아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 디비닐벤젠, 부틸 디(메트)아크릴레이트, 헥실 디(메트)아크릴레이트 등의 다관능 모노머 등을 들 수 있다. 이들 단량체 성분은 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있다.
또한, 점착제는, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력과 어긋남량을 원하는 범위로 하기 위해서, 점착성 성분(베이스 폴리머) 등의 폴리머 성분 등 외에, 점착제의 종류 등에 따라서, 가교제(예를 들어, 폴리이소시아네이트, 에폭시 화합물 등), 점착 부여제(예를 들어, 로진 유도체 수지, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 페놀 수지 등을 포함하여 이루어지는 상온에서 고체, 반고체 또는 액상의 것), 가소제, 충전제, 노화 방지제 등의 적절한 첨가제를 포함할 수도 있다. 점착제는, 에멀전계 점착제, 용제계 점착제 등 어떤 형태의 점착제이어도 된다.
본 발명에서는, 임시 고정용 점착층은, 열 박리형 점착층 위에 접착되어 있는 피착체의 가공 중인 가로 어긋남을 억제 또는 방지하기 위해서, 겔 분율이 50중량% 이상으로 되어 있는 것이 바람직하고, 특히 60중량% 이상(그 중에서도 70중량% 이상)인 것이 적합하다. 임시 고정용 점착층의 겔 분율이 50중량% 미만이면 프레스 시 등에서, 고온 장시간의 가혹한 조건하에서는, 점착층 자체가 매우 변형되기 쉬워지는 경우가 있으며, 임시 고정용 점착층 자체가 가로 어긋남이 발생하기 쉬워져서, 피착체의 가공 정밀도에 악영향을 미치는 경우가 있다.
임시 고정용 점착층의 겔 분율은, 다음의 (겔 분율의 측정 방법)에 의해 구해진다.
(겔 분율의 측정 방법)
양면 점착 테이프 또는 시트로부터 임시 고정용 점착층만의 부분을 모아 칭량하여, 그 중량을 측정하고, 이 중량을 침지 전 중량 (A)라 한다. 이어서, 이 임시 고정용 점착층만의 부분을, 톨루엔 중에 상온(23±2℃)에서 72시간 침지시킨 후, 미용해 부분을 취출하고, 오븐 등을 이용하여 톨루엔을 완전히 증발시켜서, 건조된 미용해 부분을 칭량하여, 그 중량을 측정하고, 이 중량을 침지 후 중량 (B)라 한다.
그리고, 하기의 식 1로부터 겔 분율을 산출한다.
<식 1>
겔 분율(중량%)=(B/A)×100
(식 1에서, A는 침지 전 중량이며, B은 침지 후 중량임)
임시 고정용 점착층의 겔 분율은, 예를 들어 가교제를 이용하여 조정할 수 있다. 임시 고정용 점착층의 제조에 사용하는 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제 또는 에폭시계 가교제를 이용한다. 가교제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
구체적으로는, 이소시아네이트계 가교제로서는, 예를 들어 1,2-에틸렌 디이소시아네이트, 1,4-부틸렌 디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류; 시클로펜틸렌 디이소시아네이트, 시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 수소 첨가 톨릴렌 디이소시아네이트, 수소 첨가 크실렌 디이소시아네이트 등의 지환족 폴리이소시아네이트류; 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트류 등을 들 수 있고, 그 밖에, 트리메틸올프로판/톨릴렌 디이소시아네이트 삼량체 부가물[닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조, 상품명 「코로네이트 L」], 트리메틸올프로판/헥사메틸렌 디이소시아네이트 삼량체 부가물[닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조, 상품명 「코로네이트 HL」] 등도 이용된다.
또한, 에폭시계 가교제로서는, 예를 들어 N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 디글리시딜아닐린, 1,3-비스(N,N-글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 소르비탄폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 아디프산디글리시딜에스테르, o-프탈산디글리시딜에스테르, 트리글리시딜-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 레조르신디글리시딜에테르, 비스페놀-S-디글리시딜에테르 외에, 분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.
이와 같은 가교제의 사용량으로서는, 임시 고정용 점착층의 목적으로 하는 겔 분율, 가교제의 종류나, 점착제의 종류 등에 따라서 적절히 설정할 수 있다. 구체적으로는, 가교제의 사용량으로서는, 예를 들어 점착제 중의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 0.01 내지 20중량부, 바람직하게는 0.02 내지 10중량부의 범위부터 선택할 수 있다. 가교제의 사용량은, 가교제를 2종 이상 사용하는 경우에는, 그 총량을 나타낸다.
또한, 본 발명에서는, 가교제를 이용함과 함께, 전자선이나 자외선 등의 조사에 의해 가교 처리를 실시하여, 임시 고정용 점착층을 형성하는 것도 가능하다.
임시 고정용 점착층의 두께로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 0.5 내지 100㎛, 바람직하게는 2 내지 50㎛의 범위부터 적절히 선택할 수 있다. 임시 고정용 점착층의 두께가 너무 얇으면, 충분한 점착성이 얻어지지 않아, 받침대로부터의 박리나 가로 어긋남의 원인이 되는 경우가 있으며, 또한, 너무 두꺼우면, 점착층의 변형이 커져서, 가로 어긋남에 의한 가공 시의 정밀도 저하의 원인이 되는 경우가 있다. 또한, 임시 고정용 점착층은 단층, 복층의 어느 형태를 가져도 된다.
임시 고정용 점착층의 형성 방법으로서는, 특별히 제한되지 않고, 공지된 점착층의 형성 방법 중에서 적절히 선택할 수 있다. 구체적으로는, 임시 고정용 점착층의 형성 방법으로서는, 예를 들어 점착제와, 가교제와, 필요에 따라서 기타 첨가제 등을 혼합한 점착제 조성물을, 소정의 면(기재 등) 위에 도포하고, 필요에 따라 건조 내지 경화시키는 방법, 적당한 세퍼레이터(박리지 등) 위에 점착제 조성물을 도포하고, 필요에 따라 건조 내지 경화시켜서 점착제층을 형성한 후, 상기 점착제층을 소정의 면(기재 등) 위에 전사(이착)시키는 방법 등을 들 수 있다.
<열 박리형 점착층>
열 박리형 점착층(열 팽창성 점착층)은 열 팽창성 미소구를 함유하는 점착제 조성물에 의해 형성할 수 있다. 이와 같이, 열 박리형 점착층은, 열 팽창성 미소구를 함유하고 있으므로, 가열에 의해 열 팽창성 미소구가 발포 내지 팽창하여, 이 열 팽창성 미소구의 발포 내지 팽창에 의해 박리성을 발휘할 수 있다. 또한, 열 박리형 점착층은, 소정의 박리 개시 온도가 발휘되는 함유 비율로, 열 팽창성 미소구를 포함하고 있는 것이 중요하다. 열 팽창성 미소구는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
열 팽창성 미소구로서는, 특별히 제한되지 않고, 공지된 열 팽창성 미소구(다양한 무기계 열 팽창성 미소구나, 유기계 열 팽창성 미소구 등)로부터 적절히 선택할 수 있다. 열 팽창성 미소구로서는, 혼합 조작이 용이한 관점 등에서, 마이크로 캡슐화되어 있는 발포제를 적합하게 이용할 수 있다. 이러한 열 팽창성 미소구로서는, 예를 들어 이소부탄, 프로판, 펜탄 등의 가열에 의해 용이하게 가스화하여 팽창하는 물질(열 팽창성 물질)을, 탄성을 갖는 외피 내에 내포시킨 미소구 등을 들 수 있다. 상기 외피는, 열 용융성 물질이나 열 팽창에 의해 파괴되는 물질로 형성되는 경우가 많다. 상기 외피를 형성하는 물질로서, 예를 들어 염화 비닐리덴-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리염화비닐리덴, 폴리술폰 등을 들 수 있다. 열 팽창성 미소구는, 관용의 방법, 예를 들어 코아세르베이션법이나, 계면 중합법 등에 의해 제조할 수 있다. 또한, 열 팽창성 미소구에는, 예를 들어 상품명 「마츠모토 마이크로스페어」[마츠모토 유시 세이야쿠(주) 제조] 등의 시판품도 있다.
또한, 열 팽창성 미소구에서, 부여되는 박리 개시 온도는, 열 팽창성 물질의 종류(특히, 기화 온도), 외피를 형성하는 물질의 종류, 외피의 두께나, 열 팽창성 미소구의 입자 직경 등에 의해, 적절한 온도로 조정할 수 있다.
열 팽창성 미소구로서는, 가열 처리에 의해, 열 박리형 점착층의 접착력을 효율적이면서 안정적으로 저하시키기 위해서, 체적 팽창률이 5배 이상, 그 중에서도 7배 이상, 특히 10배 이상으로 될 때까지 파열되지 않는 적당한 강도를 갖는 열 팽창성 미소구가 바람직하다.
열 박리형 점착층에서, 열 팽창성 미소구의 함유 비율(배합량)로서는, 열 박리형 점착층의 팽창 배율이나, 접착력의 저하성 등에 따라서 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 열 박리형 점착층을 형성하는 점착제의 베이스 폴리머 100중량부에 대하여 1 내지 150중량부, 바람직하게는 10 내지 130중량부, 더 바람직하게는 25 내지 100중량부의 범위부터 적절히 선택할 수 있다.
또한, 열 팽창성 미소구의 입경(평균 입자 직경)으로서는, 열 박리형 점착층의 두께 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 열 팽창성 미소구의 평균 입자 직경으로서는, 예를 들어 100㎛ 이하, 바람직하게는 80㎛ 이하, 더 바람직하게는 1 내지 50㎛, 특히 1 내지 30㎛의 범위부터 선택할 수 있다.
열 박리형 점착층을 형성하기 위한 점착제(감압 접착제)로서는, 열 박리형 점착층의 가열 시에 열 팽창성 미소구의 발포 및/또는 팽창을 허용하는 점착제를 이용할 수 있으며, 가열시에 열 팽창성 미소구의 발포 및/또는 팽창을 가급적으로 구속하지 않는 것이 바람직하다. 점착제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.
열 박리형 점착층에서, 점착제로서는, 공지된 점착제 중에서 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 우레탄계 점착제, 불소계 점착제 등의 각종 점착제나, 이들 점착제에 융점이 약 200℃ 이하인 열 용융성 수지를 배합한 크리프 특성 개량형 점착제 등의 공지된 점착제 등을 들 수 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 소56-61468호 공보, 일본 특허 공개 소61-174857호 공보, 일본 특허 공개 소63-17981호 공보, 일본 특허 공개 소56-13040호 공보 등 참조). 이들 점착제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 점착제는, 점착성 성분(베이스 폴리머) 등의 폴리머 성분 등 외에, 점착제의 종류 등에 따라서, 가교제(예를 들어, 폴리이소시아네이트, 알킬에테르화 멜라민 화합물 등), 점착 부여제(예를 들어, 로진 유도체 수지, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 페놀 수지 등을 포함하여 이루어지는 상온에서 고체, 반고체 또는 액상의 것), 가소제, 충전제, 노화 방지제 등의 적절한 첨가제를 포함할 수도 있다. 점착제는, 에멀전계 점착제, 용제계 점착제 등 어떤 형태의 점착제이어도 된다.
점착제로서는, 고무계 점착제나 아크릴계 점착제가 바람직하며, 특히 아크릴계 점착제를 적합하게 이용할 수 있다. 고무계 점착제, 아크릴계 점착제로서는, 상기 임시 고정용 점착층의 항에서 예시한 것을 사용할 수 있다.
열 박리형 점착층은, 예를 들어 점착제와, 열 팽창성 미소구와, 필요에 따라서 용매나 기타 첨가제 등을 혼합하여, 시트 형상의 층에 형성하는 관용의 방법에 의해 형성할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 점착제, 열 팽창성 미소구 및 필요에 따라서 용매나 기타 첨가제를 포함하는 혼합물을, 기재나 고무 형상 유기 탄성층 위에 도포하는 방법, 적당한 세퍼레이터(박리지 등) 위에 상기 혼합물을 도포하여 열 박리형 점착층을 형성하고, 이것을 기재 또는 고무 형상 유기 탄성층 위에 전사(이착)하는 방법 등에 의해, 열 박리형 점착층을 형성할 수 있다. 또한, 열 박리형 점착층은 단층, 복층의 어느 형태를 가져도 된다.
열 박리형 점착층의 두께는, 접착력의 저감성 등에 의해 적절하게 선택할 수 있고, 예를 들어 500㎛ 이하의 범위부터 선택할 수 있으며, 바람직하게는 300㎛ 이하(더 바람직하게는 100㎛ 이하)이다. 열 박리형 점착층의 두께가 너무 두꺼우면 (과대하면), 가열 처리에 의한 팽창 내지 발포 후에, 열 박리형 점착층에 응집 파괴가 발생하기 쉬워져서, 박리 후에 피착체(피착물)에 오염의 원인이 되는 점착제 잔여물(점착 성분의 잔존물)이 발생하는 경우가 있다. 한편, 열 박리형 점착층의 두께가 너무 얇으면(과소하면), 가열 처리에 의한 열 박리형 점착층의 변형도가 작아, 접착력이 원활하게 저하되기 어려워지고, 또한, 첨가하는 열 팽창성 미소구의 입경을 과도하게 작게 할 필요가 발생한다. 그로 인해, 열 박리형 점착층의 두께로서는, 5㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상, 더 바람직하게는 15㎛ 이상인 것이 적합하다. 물론, 열 박리형 점착층의 두께는, 포함되어 있는 열 팽창성 미소구의 최대 입경보다도 두꺼운 것이 중요하다.
<기재>
기재는 열 박리형 점착층 등의 지지 모체로서 이용할 수 있다. 또한, 기재는 단층의 형태 또는 적층된 형태의 어느 형태를 가져도 된다.
기재로서는, 예를 들어 종이 등의 종이계 기재; 천, 부직포, 펠트, 네트 등의 섬유계 기재; 금속박, 금속판 등의 금속계 기재; 플라스틱의 필름이나 시트 등의 플라스틱계 기재; 고무 시트 등의 고무계 기재; 발포 시트 등의 발포체나, 이들 적층체[특히, 플라스틱계 기재와 다른 기재의 적층체나, 플라스틱 필름(또는 시트)끼리의 적층체 등] 등의 적절한 박엽체를 이용할 수 있다. 기재로서는, 열 박리형 점착층의 가열 처리 온도로 용융하지 않는 내열성이 우수한 것이, 가열 후의 취급성 등의 점에서 바람직하다. 기재로서는, 플라스틱의 필름이나 시트 등의 플라스틱계 기재를 적합하게 이용할 수 있다. 이러한 플라스틱재에서의 소재로서는, 예를 들어 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체(EVA) 등의 α-올레핀을 모노머 성분으로 하는 올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르; 폴리염화비닐(PVC); 폴리페닐렌술피드(PPS); 폴리아미드 (나일론), 전체 방향족 폴리아미드(아라미드) 등의 아미드계 수지; 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 등을 들 수 있다. 이들 소재는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 기재로서, 플라스틱계 기재가 이용되고 있는 경우에는, 연신 처리 등에 의해 신장률 등의 변형성을 제어할 수도 있다.
기재의 두께는, 강도나 유연성, 사용 목적 등에 따라서 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들어 일반적으로는 1000㎛ 이하(예를 들어, 1 내지 1000㎛), 바람직하게는 1 내지 500㎛, 더 바람직하게는 3 내지 300㎛, 특히 바람직하게는 5 내지 250㎛ 정도이지만, 이들에 한정되지 않는다.
기재의 표면은, 열 박리형 점착층이나 임시 고정용 점착층 등의 밀착성을 높이기 위해서, 관용의 표면 처리, 예를 들어 크롬산 처리, 오존 폭로, 화염 폭로, 고압 전격 폭로, 이온화 방사선 처리 등의 화학적 또는 물리적 방법에 의한 산화 처리 등이 실시되어 있어도 되며, 밑칠제에 의한 코팅 처리 등이 실시되어 있어도 된다.
<세퍼레이터>
본 발명에서는, 세퍼레이터로서는, 관용의 박리지 등을 사용할 수 있다. 세퍼레이터는 열 박리형 점착층이나 임시 고정용 점착층의 보호재로서 이용되고 있으며, 양면 점착 테이프 또는 시트를 피착체나 받침대 등에 점착할 때에 박리된다. 또한, 세퍼레이터는 반드시 설치되어 있지 않아도 된다.
세퍼레이터로서는, 예를 들어 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계, 황화몰리브덴 등의 박리제에 의해 표면 처리된 플라스틱 필름이나 종이 등의 박리층을 갖는 기재; 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌 헥사플루오로프로필렌 공중합체, 클로로 플루오로에틸렌 불화비닐리덴 공중합체 등의 불소계 중합체를 포함하여 이루어지는 저접착성 기재; 올레핀계 수지(예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등) 등의 무극성 폴리머를 포함하여 이루어지는 저접착성 기재 등을 이용할 수 있다.
또한, 세퍼레이터는 공지 내지 관용의 방법에 의해 형성할 수 있다. 또한, 세퍼레이터의 두께 등도 특별히 제한되지 않는다.
<중간층>
본 발명에서는, 기재와 열 박리형 점착층 사이 또는 기재와 임시 고정용 점착층 사이에 1층 또는 2층 이상의 중간층을 형성할 수도 있다. 이 중간층은, 전술한 바와 같이, 박리성의 부여를 목적으로 한 박리제의 코팅층이나, 밀착력의 향상을 목적으로 한 밑칠제의 코팅층 등을 들 수 있다. 또한, 박리제의 코팅층이나 밑칠제의 코팅층 이외의 중간층으로서는, 예를 들어 양호한 변형성의 부여를 목적으로 한 층, 피착체로의 접착 면적의 증대를 목적으로 한 층, 접착력의 향상을 목적으로 한 층, 피착체의 표면 형상에 양호하게 추종시키는 것을 목적으로 한 층, 가열에 의한 접착력 저감의 처리성의 향상을 목적으로 한 층, 가열 후의 피착체로부터의 박리성의 향상을 목적으로 한 층 등을 들 수 있다.
특히, 양면 점착 테이프 또는 시트의 변형성의 부여나 가열 후의 박리성의 향상 등의 점에서, 기재와 열 박리형 점착층 사이의 층(중간층)으로서, 예를 들어 고무 형상 유기 탄성층을 형성할 수 있다. 고무 형상 유기 탄성층을 형성함으로써, 양면 점착 테이프 또는 시트를 피착체에 접착할 때에 상기 양면 점착 테이프 또는 시트에서의 열 박리형 점착층의 표면을 피착체의 표면 형상에 양호하게 추종시켜서, 접착 면적을 크게 할 수 있으며, 또한, 상기 양면 점착 테이프 또는 시트를 피착체로부터 가열 박리할 때에, 열 박리형 점착층의 가열 팽창을 고도로(정밀도 좋게) 컨트롤하여, 열 박리형 점착층을 두께 방향으로 우선적이면서 균일하게 팽창시킬 수 있다. 또한, 고무 형상 유기 탄성층은, 필요에 따라서 형성되는 층이며, 반드시 형성되어 있지 않아도 된다.
고무 형상 유기 탄성층은, 열 박리형 점착층의 기재측의 면에, 열 박리형 점착층에 중첩시킨 형태로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 기재와 열 박리형 점착층 사이의 중간층 이외의 층으로서도 형성할 수 있다. 고무 형상 유기 탄성층은, 기재의 편면 또는 양면에 개재시킬 수 있다.
고무 형상 유기 탄성층은, 예를 들어 ASTM D-2240에 기초한 D형 쇼어-D형 경도가, 50 이하, 특히 40 이하인 천연 고무, 합성 고무 또는 고무 탄성을 갖는 합성 수지에 의해 형성하는 것이 바람직하다.
상기 합성 고무 또는 고무 탄성을 갖는 합성 수지로서는, 예를 들어 니트릴계, 디엔계, 아크릴계 등의 합성 고무; 폴리올레핀계, 폴리에스테르계 등의 열가소성 엘라스토머; 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체, 폴리우레탄, 폴리부타디엔, 연질 폴리염화비닐 등의 고무 탄성을 갖는 합성 수지 등을 들 수 있다. 또한, 폴리염화비닐 등과 같이 본질적으로는 경질계 폴리머이어도, 가소제나 유연제 등의 배합제의 조합에 의해 고무 탄성을 발현할 수 있다. 이러한 조성물도, 상기 고무 형상 유기 탄성층의 구성 재료로서 사용할 수 있다. 또한, 열 박리형 점착층을 구성하는 점착제 등의 점착성 물질 등도 고무 형상 유기 탄성층의 구성 재료로서 바람직하게 이용할 수 있다.
고무 형상 유기 탄성층은, 예를 들어 상기 천연 고무, 합성 고무 또는 고무 탄성을 갖는 합성 수지 등의 고무 형상 유기 탄성층 형성재를 포함하는 코팅액을 기재 위에 도포하는 방식(코팅법), 상기 고무 형상 유기 탄성층 형성재를 포함하여 이루어지는 필름, 또는 미리 1층 이상의 열 박리형 점착층 위에 상기 고무 형상 유기 탄성층 형성재를 포함하여 이루어지는 층을 형성한 적층 필름을 기재와 접착하는 방식(드라이 라미네이트법), 기재의 구성 재료를 포함하는 수지 조성물과 상기 고무 형상 유기 탄성층 형성재를 포함하는 수지 조성물을 공압출하는 방식(공압출법) 등의 형성 방법에 의해 형성할 수 있다.
고무 형상 유기 탄성층의 두께는, 일반적으로는 500㎛ 이하(예를 들어, 1 내지 500㎛), 바람직하게는 3 내지 300㎛, 더 바람직하게는 5 내지 150㎛ 정도이다. 고무 형상 유기 탄성층은 단층이어도 되고, 2 이상의 층으로 구성하여도 된다.
또한, 고무 형상 유기 탄성층은, 천연 고무나 합성 고무 또는 고무 탄성을 갖는 합성 수지를 주성분으로 하는 점착성 물질로 형성되어 있어도 되며, 또한, 이러한 성분을 주체로 하는 발포 필름 등으로 형성되어 있어도 된다. 발포는, 관용의 방법, 예를 들어 기계적인 교반에 의한 방법, 반응 생성 가스를 이용하는 방법, 발포제를 사용하는 방법, 가용성 물질을 제거하는 방법, 스프레이에 의한 방법, 신택틱 폼(syntactic foam)을 형성하는 방법, 소결법 등에 의해 행할 수 있다.
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 기재의 한쪽 면 위에 열 박리형 점착층을, 필요에 따라서 다른 층(고무 형상 유기 탄성층 등)을 개재하여 형성함과 함께, 기재의 다른 쪽 면에, 임시 고정용 점착층을 형성함으로써 제작할 수 있다. 양면 점착 테이프 또는 시트는, 시트 형상의 형태나, 롤 형상으로 감긴 테이프 형상의 형태 등의 적절한 형태를 가질 수 있다.
본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 특정한 특성을 갖는 임시 고정용 점착층이 형성되어 있으므로, 이 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 접착시키면, 박리나 가로 어긋남을 발생시키지 않고, 받침대에 견고하게 접착시킬 수 있다. 그로 인해, 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 피착체의 가공 시에, 열 박리형 점착층 위에 피착체를 점착함과 함께, 임시 고정용 점착층을 받침대에 점착함으로써, 피착체를 받침대 위에 고정시킬 때에는, 피착체에 휨 등에 의한 응력이 발생하고 있어도, 또한, 가압 공정 등에서 가로 어긋남이 발생하는 압력이 가해져도, 각종 가공 공정(적층 공정, 절단 공정이나 가압 공정 등) 중에서, 우수한 접착성을 발휘하여, 피착체를 받침대 위에 박리나 가로 어긋남을 발생시키지 않고, 안정된 위치에서 고정시킬 수 있으며, 또한 가공 후에는 피착체의 가공에 의해 얻어진 가공품(피가공체)을 용이하게 박리시킬 수 있다. 따라서, 피착체의 가공 시의 고정용으로서 우수한 접착성을 발휘하여, 피착체에 우수한 가공 정밀도의 가공성을 부여할 수 있으며, 또한, 점착 목적 달성 후에, 접착 상태를 해제하고 싶을 때에는, 가열에 의해 점착력을 저감하여 피착체 또는 가공품을, 용이하게 박리 내지 분리할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 피착체를 가공할 때에 이용되는 열 박리형의 양면 점착 테이프 또는 시트로서 적합하게 이용할 수 있다. 즉, 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 예를 들어 가공 시에는, 강한 접착력으로 피착체(피가공물)를 접착할 수 있으며, 가공 후에는, 그 접착 상태를 신속히 해제할 수 있는 용도로 적합하게 이용할 수 있다. 상기 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용하면, 피착체를, 우수한 가공 정밀도로 가공하는 것이 가능해진다.
또한, 이와 같은 피착체의 가공 방법으로서는, 임의로 선택할 수 있으며, 하기에 개시된 바와 같이, 예를 들어 절단 가공(연마 처리 가공, 다이싱 가공 등), 그린 시트로의 전극 인쇄 가공(패턴 형성 가공 등), 조립 가공 등의 가공을 들 수 있으며, 그 밖에, 적층 공정에서의 가공, 가압 공정에서의 가공, 소성 공정에서의 가공 등도 들 수 있다.
또한, 본 발명의 양면 점착 테이프 또는 시트는, 피착체를 반송할 때의 보호재로서도 이용할 수 있다.
[피착체의 가공 방법]
본 발명의 피착체(피가공품)의 가공 방법에서는, 상기 양면 점착 테이프 또는 시트를, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하고 또한 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접합한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시함으로써, 피착체를 가공하고 있다. 피착체의 가공 처리할 때의 공정으로서는, 임의로 선택할 수 있으며, 전자 부품의 제조 시의 가압 공정(가압 프레스 공정), 적층 공정, 절단 공정이나, 반도체 부품의 제조 시의 연삭 공정, 절단 공정을 가져도 된다. 보다 구체적으로는, 피착체의 가공 처리할 때의 공정으로서는, 그린 시트로의 전극 인쇄 공정(패턴 형성 공정 등), 적층 공정, 가압 공정(가압 프레스 공정), 절단 공정(연마 처리 공정, 다이싱 공정 등), 연삭 공정(백그라인드 공정 등), 소성 공정 등을 들 수 있으며, 그 밖에, 조립 공정 등도 들 수 있다.
그리고, 피착체에 가공 처리를 실시한 후(특히, 점착 목적 달성 후, 또는 접착 상태를 해제하고 싶을 때)에는, 열 박리형 점착층 중의 열 팽창성 미소구의 발포 개시 온도 또는 그 이상의 온도로 가열함으로써, 점착력을 저감시켜서, 가공 처리가 실시된 피착체(가공품)를 박리 내지 분리하여, 가공 처리가 실시된 피착체를 단리할 수 있다.
또한, 양면 점착 테이프 또는 시트를, 가공 처리가 실시된 피착체(가공품)로부터 박리 내지 분리할 때의 가열 처리는, 예를 들어 핫 플레이트, 열풍 건조기, 근적외선 램프, 에어 드라이어 등의 적당한 가열 수단을 이용하여 행할 수 있다. 가열 온도는, 열 박리형 점착층 중의 열 팽창성 미소구의 열 팽창 개시 온도(발포 개시 온도) 이상이면 되지만, 가열 처리의 조건은, 피착체의 표면 상태나, 열 팽창성 미소구의 종류 등에 의한 접착 면적의 감소성, 기재나 피착체의 내열성, 가열 방법(열 용량, 가열 수단 등) 등에 의해 적절히 설정할 수 있다. 일반적인 가열 처리 조건으로서는, 온도 100 내지 250℃에서, 5 내지 90초간(핫 플레이트 등) 또는 5 내지 15분간(열풍 건조기 등)이다. 이러한 가열 조건으로, 일반적으로, 열 박리형 점착층 중의 열 팽창성 미소구가 팽창 및/또는 발포하여 열 박리형 점착층이 팽창 변형됨으로써 요철 형상으로 변형되어, 접착력이 저하 내지 상실된다. 또한, 가열 처리는 사용 목적에 따라서 적절한 단계에서 행할 수 있다. 또한, 가열원으로서는, 적외선 램프나 가열수를 이용할 수 있는 경우도 있다.
본 발명에서, 양면 점착 테이프 또는 시트를, 임시 고정용 점착층을 개재하여 접합하는 받침대(지지 받침대)로서는, 열 박리형 점착층 위에 접착되어 있는 피착체를 지지할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 상기 피착체를 가공할 때에 이용되고 있는 공지 내지 관용의 받침대를 이용할 수 있다. 구체적으로는, 받침대로서는, 예를 들어 스테인리스판, 유리판, 더미 웨이퍼 등을 들 수 있다. 받침대는, 피착체의 종류, 피착체의 가공 방법 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다.
[피착체]
본 발명에서는, 상기 양면 점착 테이프 또는 시트에 의해 접착 유지하는 물품(피착체 또는 피가공물)은 임의로 선택할 수 있다. 구체적으로는, 피착체(피가공물)로서는, 반도체 웨이퍼(실리콘 웨이퍼 등)나 반도체 칩 등의 전자계 부품류; 세라믹 콘덴서나 발진자 등의 전기계 물품류; 액정 셀 등의 표시 디바이스류 외에, 서멀 헤드, 태양 전지, 프린트 기판(적층 세라믹 시트 등), 소위 「그린 시트」 등의 다양한 물품을 들 수 있다. 피착체는 단독이어도 되고, 또는 2종 이상 조합되어 있어도 된다.
[가공된 피착체; 가공품]
또한, 본 발명에서는, 양면 점착 테이프 또는 시트를 개재하여, 피착체로서 피가공물(피가공체)을 받침대에 접착시킨 후, 가공을 실시함으로써 각종 가공품을 얻을 수 있다. 예를 들어, 피착체(피가공품)로서, 반도체 웨이퍼 등의 전자계 부품류를 이용한 경우, 가공품으로서 전자 부품이나 회로 기판 등을 얻을 수 있다. 또한, 피착체로서, 세라믹 콘덴서용의 그린 시트를 이용한 경우, 가공품으로서 적층 세라믹 콘덴서 등을 얻을 수 있다. 즉, 본 발명에서는, 전자 부품이나, 적층 세라믹 콘덴서는, 상기 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용하여 제조되어 있으며, 또한, 전술한 바와 같은 피착체의 가공 방법에 의해 제조되어 있다.
[실시예]
이하에, 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
아크릴계 공중합체(아크릴산 2-에틸헥실: 100중량부, 아크릴산 에틸: 40중량부, 아크릴산 2-히드록시에틸: 6중량부 및 메타크릴산 메틸: 7중량부를 모노머 성분으로 하는 아크릴계 공중합체): 100중량부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(상품명 「코로네이트 L 」닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조): 2중량부가 배합된 구성을 갖는 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액을 조제하고, 이 톨루엔 용액을, 기재로서의 폴리에스테르제 필름(두께: 100㎛)의 한쪽 면에, 건조 내지 경화 후의 두께가 10㎛가 되도록 도포하고, 120℃에서 2분간 가열 건조하여, 임시 고정용 점착층을 얻었다.
이어서, 아크릴계 공중합체(아크릴산 2-에틸헥실: 100중량부, 아크릴산 에틸: 40중량부, 메타크릴산 메틸: 6중량부 및 아크릴산 2-히드록시에틸: 7중량부를 모노머 성분으로 하는 아크릴계 공중합체): 100중량부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(상품명 「코로네이트 L」닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조): 2중량부가 배합된 구성을 갖는 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액을 조제하고, 이 톨루엔 용액을, 기재로서의 폴리에스테르제 필름(두께: 100㎛)의 다른 쪽 면(상기 임시 고정용 점착층이 형성된 면에 대하여 반대측 면)에, 건조 내지 경화 후의 두께가 15㎛가 되도록 도포하고, 120℃에서 2분간 가열 건조하여, 고무 형상 유기 탄성층을 얻었다.
계속해서, 아크릴계 공중합체(아크릴산 2-에틸헥실: 100중량부, 아크릴산 에틸: 40중량부, 메타크릴산 메틸: 6중량부 및 아크릴산 2-히드록시에틸: 7중량부를 모노머 성분으로 하는 아크릴계 공중합체): 100중량부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(상품명 「코로네이트 L」닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조): 2중량부, 테르펜계 점착 부여 수지(상품명 「YS 폴리스타 T130」야스하라 케미컬(주) 제조): 20중량부, 열 팽창성 미소구(상품명 「F50D」 마츠모토 유시 세이야쿠(주) 제조): 40중량부가 배합된 구성을 갖는 열 팽창성 미소구 함유 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액을 조제하고, 이 톨루엔 용액을, 세퍼레이터 위에, 건조 내지 경화 후의 두께가 35㎛가 되도록 도포하고, 70℃에서 3분간 가열 건조하여, 열 박리형 점착층을 얻은 후, 상기 열 박리형 점착층을, 상기 고무 형상 유기 탄성층에 접합하여, 「임시 고정용 점착층/기재/고무 형상 유기 탄성층/열 박리형 점착층」의 층 구성을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트(가열 박리형 양면 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 1)
임시 고정용 점착층을 형성하기 위한 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액으로서, 아크릴계 공중합체(아크릴산 n-부틸: 100중량부 및 아크릴산: 5중량부를 모노머 성분으로 하는 아크릴계 공중합체): 100중량부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(상품명 「코로네이트 L 」닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조): 2중량부, 중합 로진계 수지(상품명 「해리에스터 KT-2」하리마 카세이(주) 제조): 15중량부, 수소 첨가 로진계 수지(상품명 「스테이베라이트 E」이스트만 케미컬사 제조): 5중량부가 배합된 구성을 갖는 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 「임시 고정용 점착층/기재/고무 형상 유기 탄성층/열 박리형 점착층」의 층 구성을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트(가열 박리형 양면 점착 시트)를 얻었다.
(비교예 2)
임시 고정용 점착층을 형성하기 위한 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액으로서, 아크릴계 공중합체(아크릴산 2-에틸헥실: 100중량부, 아크릴산 에틸: 40중량부, 아크릴산 2-히드록시에틸: 6중량부 및 메타크릴산 메틸: 7중량부를 모노머 성분으로 하는 아크릴계 공중합체): 100중량부에 대하여 이소시아네이트계 가교제(상품명 「코로네이트 L 」닛폰 폴리우레탄 코교(주) 제조): 2중량부, 가소제(상품명 「모노사이저 W-700」다이닛폰 잉크 카가쿠 코교(주) 제조; DOP): 15중량부가 배합된 구성을 갖는 감압성 접착제를 포함하는 톨루엔 용액을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 「임시 고정용 점착층/기재/고무 형상 유기 탄성층/열 박리형 점착층」의 층 구성을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트(가열 박리형 양면 점착 시트)를 얻었다.
(평가)
실시예 1 및 비교예 1 내지 2에서 얻어진 각 양면 점착 테이프 또는 시트에 대하여, 이하의 측정 방법 또는 평가 방법에 의해, 인장 점착력, 어긋남량, X/Y비, 겔 분율, 받침대 유지성, 가로 어긋남 방지성을 측정 또는 평가하였다.
(인장 점착력의 측정 방법)
실시예 또는 비교예에 따른 각 양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 20㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하고, 상온(23℃±2℃)이면서 습도: 65±5%RH의 조건하에서, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판에 접촉하는 형태로, SUS304BA판에, 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합한 후, 30분간 방치하였다. 방치 후, 온도: 23±2℃, 습도: 65±5%RH의 조건하, SUS304BA판으로부터 양면 점착 테이프 또는 시트를, 박리 각도: 180°, 인장 속도: 300㎜/min의 조건으로 박리하였을 때의 하중(최대 하중)을 측정하고, 인장 점착력(N/20㎜ 폭)을 구하였다.
(어긋남량의 측정 방법)
실시예 또는 비교예에 따른 각 양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 20㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하고, 상온(23℃±2℃)이면서 습도: 65±5%RH의 조건하에서, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판에 접촉하는 형태로, SUS304BA판에, 20㎜ 폭×10㎜ 길이의 접착 면적에서 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합하고, 23±2℃에서 30분간 방치하였다. 방치 후, 양면 점착 테이프 또는 시트의 단부에 200g의 하중을 가해, JIS Z 0237에 기재된 유지력의 측정 방법에 준하여, 압착 시로부터의 어긋남의 크기(어긋남량)를 측정하고, 23±2℃에서 60분간 후의 어긋남량(㎜/20㎜ 폭)을 구하였다.
(겔 분율의 측정 방법)
임시 고정용 점착층을 형성하기 위한 점착제 조성물을 박리 라이너 위에 도포 시공한 후, 건조 내지 경화시켜서, 임시 고정용 점착층을 형성하였다. 상기 임시 고정용 점착층을 칭량하여, 그 중량을 측정하고, 이 중량을 침지 전 중량 (A)라 하였다. 이어서, 이 임시 고정용 점착층을, 톨루엔 중에 상온(23±2℃)에서 72시간 침지시킨 후, 미용해 부분을 취출하고, 오븐 등을 이용하여 톨루엔을 완전히 증발시켜서, 건조된 미용해 부분을 칭량하여, 그 중량을 측정하고, 이 중량을 침지 후 중량 (B)라 하였다.
그리고, 하기의 식 1로부터 겔 분율을 산출하였다.
<식 1>
겔 분율(중량%)=(B/A)×100
(식 1에서, A는 침지전 중량이며, B는 침지 후 중량임)
(받침대 유지성의 평가 방법)
실시예 또는 비교예에 따른 각 양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 20㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하여 샘플을 제작하고, 이 샘플을, SUS304BA판에, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판에 접촉하는 형태로, 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합한 후, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 샘플의 일단부에 50g의 추를 매달았다. 이것을, 도 2의 (b)에서 도시된 바와 같이, 샘플측(양면 점착 테이프 또는 시트측)이 아래가 되도록 하여, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 샘플(양면 점착 테이프 또는 시트)에서의 추를 매단 쪽의 단부를 50㎜ 박리하였다. 이 후, 추를 조용히 옮기고, 이 옮겼을 때의 위치를 원점(제로)으로 하여, 1분 후의 박리 거리(㎜)를 측정하였다. 그리고, 하기의 평가 기준에 의해, 받침대 유지성을 평가하였다.
받침대 유지성의 평가 기준
○: 박리 거리가 10㎜ 미만임
×: 박리 거리가 10㎜ 이상임
또한, 도 2의 (a) 내지 도 2의 (c)는 실시예에서, 받침대 유지성을 평가하는 방법을 나타낸 개략도로서, 도 2의 (a)는 SUS304BA판에 접착되어 있는 샘플의 일단부에 50g의 추를 매단 상태를 나타낸 개략도이고, 도 2의 (b)는 샘플측이 아래로 되도록 세트한 상태를 나타낸 개략도이며, 도 2의 (c)는 샘플의 추를 매단 쪽의 단부를 50㎜ 박리한 상태를 나타낸 개략도이다. 도 2의 (a) 내지 도 2의 (c)에서, 부호 8은 샘플(양면 점착 테이프 또는 시트), 부호 9는 SUS304BA판(스테인리스판), 부호 10은 50g의 추이다.
(가로 어긋남 방지성의 평가 방법)
실시예 또는 비교예에 따른 각 양면 점착 테이프 또는 시트를 폭 10㎜, 길이 100㎜의 크기로 절단하여 샘플을 제작하고, 이 샘플을, SUS304BA판에, 폭 10㎜×길이 20㎜의 접착 면적에서, 임시 고정용 점착층이 SUS304BA판에 접촉하는 형태로, 2kg의 롤러를 1 왕복시키는 방법으로 압착하여 접합한 후, 40±2℃의 분위기하에서 접합한 부분에 5N의 하중을 얹고, 또한, 양면 점착 테이프 또는 시트의 SUS304BA판에 접착되지 않은 단부측에, 5N의 힘으로 전단 방향에 하중을 가해, 이 상태에서 1시간 방치한 후, 양면 점착 테이프 또는 시트의 어긋남량(㎜)을 측정하였다. 그리고, 하기의 평가 기준에 의해, 가로 어긋남 방지성을 평가하였다.
가로 어긋남 방지성의 평가 기준
○: 어긋남량이 0.3㎜ 미만임
×: 어긋남량이 0.3㎜ 이상임
표 1로부터, 실시예 1에 따른 양면 점착 테이프 또는 시트는, 임시 고정용 점착층이, 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭인 특성과 함께, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하인 특성을 가지므로, 받침대 유지성이 양호함과 함께, 가로 어긋남이 유효하게 억제 또는 방지되어 있는 것이 확인되었다.
본 발명을 상세히 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변형이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에 있어서 자명하다. 본 출원은, 2011년 1월 19일 출원의 일본 특허 출원 제2011-009255에 기초한 것으로, 그 내용은 여기에 참조로서 인용된다.
1: 양면 점착 테이프 또는 시트
2: 기재
3: 고무 형상 유기 탄성층
4: 열 박리형 점착층
5: 임시 고정용 점착층
6: 세퍼레이터
7: 세퍼레이터
8: 샘플
9: SUS304BA판
10: 50g의 추
2: 기재
3: 고무 형상 유기 탄성층
4: 열 박리형 점착층
5: 임시 고정용 점착층
6: 세퍼레이터
7: 세퍼레이터
8: 샘플
9: SUS304BA판
10: 50g의 추
Claims (7)
- 기재의 한쪽 면 측에 열 팽창성 미소구를 함유하는 열 박리형 점착층을 갖고, 기재의 다른 쪽 면 측에 임시 고정용 점착층을 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트로서, 임시 고정용 점착층의 인장 점착력이 2.0 내지 20N/20㎜ 폭이고, 어긋남량이 0.3㎜/20㎜ 폭 이하이며, 임시 고정용 점착층이 이소시아네이트계 또는 에폭시계 가교제로 가교되어 있는 양면 점착 테이프 또는 시트.
- 제1항에 있어서,
임시 고정용 점착층이, 겔 분율이 50중량% 이상인 특성을 더 갖는 양면 점착 테이프 또는 시트. - 양면 점착 테이프 또는 시트를 이용하여 피착체를 가공하는 방법으로서, 제1항 또는 제2항에 기재된 양면 점착 테이프 또는 시트를, 임시 고정용 점착층을 개재하여 받침대에 고정하고 또한 열 박리형 점착층 위에 피착체를 접합한 상태로 피착체에 가공 처리를 실시하는 것을 포함하는 피착체의 가공 방법.
- 제3항에 있어서,
피착체가 전자계 부품류인 피착체의 가공 방법. - 제3항에 있어서,
피착체가 세라믹 콘덴서용의 그린 시트이고, 또한 그린 시트의 적층 공정을 갖는 피착체의 가공 방법. - 제4항에 기재된 피착체의 가공 방법에 의해 제조된 전자 부품.
- 제5항에 기재된 피착체의 가공 방법에 의해 제조된 적층 세라믹 콘덴서.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011009255A JP2012149181A (ja) | 2011-01-19 | 2011-01-19 | 両面粘着テープ又はシート、および被着体の加工方法 |
JPJP-P-2011-009255 | 2011-01-19 | ||
PCT/JP2012/050857 WO2012099122A1 (ja) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 両面粘着テープ又はシート、および被着体の加工方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020187025153A Division KR102070823B1 (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140018219A true KR20140018219A (ko) | 2014-02-12 |
Family
ID=46515745
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197034388A KR102070822B1 (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
KR1020187025153A KR102070823B1 (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
KR20137019064A KR20140018219A (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197034388A KR102070822B1 (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
KR1020187025153A KR102070823B1 (ko) | 2011-01-19 | 2012-01-17 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9120955B2 (ko) |
EP (1) | EP2666834A1 (ko) |
JP (1) | JP2012149181A (ko) |
KR (3) | KR102070822B1 (ko) |
CN (1) | CN103328593A (ko) |
TW (1) | TW201240823A (ko) |
WO (1) | WO2012099122A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180100273A (ko) * | 2011-01-19 | 2018-09-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015021082A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | 電子部品切断用熱剥離型粘着テープおよび電子部品の切断方法 |
KR101795327B1 (ko) * | 2013-11-14 | 2017-11-07 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 장치 |
JP6094921B1 (ja) * | 2015-06-29 | 2017-03-15 | Dic株式会社 | 粘着テープ、ハーネス結束用シート及び物品 |
CN105467693A (zh) * | 2016-02-19 | 2016-04-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板及其制作方法、显示装置 |
GB2554040B (en) * | 2016-05-11 | 2023-01-25 | Flexenable Ltd | Carrier release |
JP6884141B2 (ja) * | 2016-05-12 | 2021-06-09 | ソマール株式会社 | 被着体積層物の製造方法 |
KR102542796B1 (ko) * | 2017-01-20 | 2023-06-14 | 미쓰이 가가쿠 토세로 가부시키가이샤 | 점착성 필름 및 전자 장치의 제조 방법 |
US9909035B1 (en) * | 2017-09-29 | 2018-03-06 | Mayapple Baby Llc | Mountable articles, dual-adhesive-adhesive tape and mounting methods using them |
WO2019187247A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | リンテック株式会社 | 硬化封止体の反り防止用積層体、及び、硬化封止体の製造方法 |
SG11202102426TA (en) * | 2018-09-11 | 2021-04-29 | Mitsui Chemicals Tohcello Inc | Pressure sensitive adhesive film and method for manufacturing electronic device |
WO2020179464A1 (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | Dic株式会社 | 粘着テープおよび接着体 |
US11472985B1 (en) * | 2020-06-05 | 2022-10-18 | Deborah M. Hunnicutt | Peel-away adhesive tape |
KR102501295B1 (ko) * | 2020-08-31 | 2023-02-21 | (주) 대양산업 | 사계절 점착테이프 |
KR102406694B1 (ko) * | 2021-07-15 | 2022-06-10 | (주)인랩 | 온도 감응형 열발포 박리 테이프 및 이를 이용한 전자부품의 분리방법 |
JP2023039829A (ja) * | 2021-09-09 | 2023-03-22 | 日東電工株式会社 | 電子部品仮固定用粘着シート |
JP7151926B1 (ja) | 2022-06-02 | 2022-10-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 粘着剤組成物および粘着シート |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003183596A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-03 | Nitto Denko Corp | 粘着テープの製造方法および粘着テープ |
JP2003327936A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-11-19 | Nitto Denko Corp | 表面保護シート |
KR20080067299A (ko) * | 2007-01-15 | 2008-07-18 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 열박리형 양면 점착 테이프 또는 시트 및 피착체의 가공방법 |
JP2008214500A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Nitto Denko Cs System Kk | セパレーター剥離用粘着テープおよびそれを用いたセパレーター剥離方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE374759B (ko) | 1969-03-24 | 1975-03-17 | Litton Business Systems Inc | |
JPS5013878Y1 (ko) | 1970-04-30 | 1975-04-28 | ||
JPS5013878A (ko) | 1973-06-11 | 1975-02-13 | ||
JPS5124534A (en) | 1974-08-23 | 1976-02-27 | Seiko Instr & Electronics | Tokeiyogaisobuhinno hyomenshorihoho |
JPS595015B2 (ja) | 1979-07-10 | 1984-02-02 | 株式会社荏原製作所 | イオン交換樹脂の洗浄方法 |
JPS5661468A (en) | 1979-10-23 | 1981-05-26 | Matsumoto Yushi Seiyaku Kk | Releasable adhesive |
JPS5661469A (en) | 1979-10-23 | 1981-05-26 | Matsumoto Yushi Seiyaku Kk | Hot-bonding adhesive |
JPS60252681A (ja) | 1984-05-30 | 1985-12-13 | F S K Kk | 熱剥離性粘着シ−ト |
JPH0666749B2 (ja) | 1985-01-30 | 1994-08-24 | 日本電気株式会社 | 分岐回路 |
JPS6317981A (ja) | 1986-07-09 | 1988-01-25 | F S K Kk | 粘着シ−ト |
JP4204835B2 (ja) * | 2002-09-30 | 2009-01-07 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ及び粘着テープの使用方法 |
JP2008266455A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nitto Denko Corp | 層状珪酸塩を含む熱剥離型粘着シート及び該シートを使用する電子部品の製造方法 |
JP2008266456A (ja) | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nitto Denko Corp | 熱剥離型両面粘着シート |
US20100215882A1 (en) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | Nitto Denko Corporation | Heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet for cutting laminated ceramic sheet and method for cut-processing laminated ceramic sheet |
JP2012149181A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Nitto Denko Corp | 両面粘着テープ又はシート、および被着体の加工方法 |
-
2011
- 2011-01-19 JP JP2011009255A patent/JP2012149181A/ja active Pending
-
2012
- 2012-01-17 WO PCT/JP2012/050857 patent/WO2012099122A1/ja active Application Filing
- 2012-01-17 CN CN2012800060302A patent/CN103328593A/zh active Pending
- 2012-01-17 KR KR1020197034388A patent/KR102070822B1/ko active IP Right Grant
- 2012-01-17 US US13/980,619 patent/US9120955B2/en active Active
- 2012-01-17 EP EP20120736134 patent/EP2666834A1/en not_active Withdrawn
- 2012-01-17 KR KR1020187025153A patent/KR102070823B1/ko active IP Right Grant
- 2012-01-17 KR KR20137019064A patent/KR20140018219A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-01-19 TW TW101102308A patent/TW201240823A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003183596A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-03 | Nitto Denko Corp | 粘着テープの製造方法および粘着テープ |
JP2003327936A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-11-19 | Nitto Denko Corp | 表面保護シート |
KR20080067299A (ko) * | 2007-01-15 | 2008-07-18 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 열박리형 양면 점착 테이프 또는 시트 및 피착체의 가공방법 |
JP2008214500A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Nitto Denko Cs System Kk | セパレーター剥離用粘着テープおよびそれを用いたセパレーター剥離方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180100273A (ko) * | 2011-01-19 | 2018-09-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
KR20190133064A (ko) * | 2011-01-19 | 2019-11-29 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201240823A (en) | 2012-10-16 |
US20140002953A1 (en) | 2014-01-02 |
WO2012099122A1 (ja) | 2012-07-26 |
KR102070822B1 (ko) | 2020-01-29 |
KR20180100273A (ko) | 2018-09-07 |
KR20190133064A (ko) | 2019-11-29 |
US9120955B2 (en) | 2015-09-01 |
JP2012149181A (ja) | 2012-08-09 |
KR102070823B1 (ko) | 2020-01-29 |
EP2666834A1 (en) | 2013-11-27 |
CN103328593A (zh) | 2013-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102070823B1 (ko) | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 | |
KR20140018220A (ko) | 양면 점착 테이프 또는 시트, 및 피착체의 가공 방법 | |
JP4588021B2 (ja) | 加熱剥離型粘着シートおよび該加熱剥離型粘着シートを用いた被着体の加工方法 | |
KR101154640B1 (ko) | 가열 피착체 박리 방법 및 가열 피착체 박리 장치 | |
JP4588022B2 (ja) | 加熱剥離型粘着シートおよび該加熱剥離型粘着シートを用いた被着体の加工方法 | |
JP3853247B2 (ja) | 電子部品用加熱剥離型粘着シートおよび電子部品の加工方法並びに電子部品 | |
KR102076986B1 (ko) | 열 박리형 점착 시트 | |
KR102011148B1 (ko) | 점착제용 폴리머, 점착제 조성물 및 열박리성 점착 시트 | |
KR20080067299A (ko) | 열박리형 양면 점착 테이프 또는 시트 및 피착체의 가공방법 | |
KR101492371B1 (ko) | 열박리형 점착 테이프 및 전자 부품의 절단 방법 | |
KR20130110067A (ko) | 가열 박리형 점착 시트 | |
KR20100016645A (ko) | 층 형상 규산염을 포함하는 열박리형 점착 시트 및 상기 시트를 사용하는 전자 부품의 제조 방법 | |
JP2013155295A (ja) | 伸長性加熱剥離型粘着シート | |
JP4947921B2 (ja) | 加熱剥離型粘着シートおよび該加熱剥離型粘着シートを用いた被着体の加工方法 | |
JP2005200505A (ja) | 加熱剥離型粘着シートおよび被着体の加工方法 | |
WO2013114956A1 (ja) | 伸長性加熱剥離型粘着シート | |
JP2007238789A (ja) | 加熱剥離型粘着シート及びチップ部品の製造方法 | |
JP2005101628A (ja) | 電子部品用加熱剥離型粘着シートおよび電子部品の加工方法並びに電子部品 | |
JP2005255829A (ja) | 加熱剥離型粘着シートおよび被着体の加工方法 | |
JP5057678B2 (ja) | 熱剥離型粘着シート | |
JP2006160872A (ja) | 熱剥離型粘着シート及び電子部品、回路基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2018101003634; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20180830 Effective date: 20190823 |