KR20140016310A

KR20140016310A - 육각판상 산화아연 입자, 그 제조 방법, 그것을 배합한 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스 및 방열성 도료 조성물

Info

Publication number: KR20140016310A
Application number: KR1020137025817A
Authority: KR
Inventors: 사토루 스에다; 미츠오 하시모토; 아츠키 데라베; 노부오 와타나베; 고이치로 마가라
Original assignee: 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤
Priority date: 2011-04-28
Filing date: 2012-04-26
Publication date: 2014-02-07
Also published as: US9339445B2; CA2834229A1; US20140050925A1; EP2703352A1; CN103492320A; TW201247548A; CN103492320B; JPWO2012147886A1; EP2703352B1; EP2703352A4; WO2012147886A1; JP5907166B2; KR101907939B1; CA2834229C; TWI530457B

Abstract

[과제] 화장료 원료, 방열성 필러 등으로서 사용할 수 있는 육각판상 산화아연 입자, 그 제조 방법, 그것을 배합한 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스, 방열성 도료 조성물을 얻는다.
[해결 수단] 일차 입자경이 0.01㎛ 이상, 어스펙트비가 2.5 이상이고, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 이하의 (1)(2)를 전부 만족시키는 입자가 50% 이상으로 되는 육각형상면을 갖는 것을 특징으로 하는 육각판상 산화아연 입자.
(1) 육각형상의 면을 가지는 것
(2) Dmin/Dmax≥0.3
Dmax : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최대로 되는 대각선의 길이를 의미함
Dmin : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최소로 되는 대각선의 길이를 의미함

Description

육각판상 산화아연 입자, 그 제조 방법, 그것을 배합한 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스 및 방열성 도료 조성물{HEXAGONAL-PLATE-SHAPED ZINC OXIDE PARTICLES, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND COSMETIC MATERIAL, HEAT-DISSIPATING FILLER, HEAT-DISSIPATING RESIN COMPOSITION, HEAT-DISSIPATING GREASE, AND HEAT-DISSIPATING COATING COMPOSITION HAVING SAME BLENDED THEREIN}

본 발명은, 육각판상 산화아연 입자, 그 제조 방법, 그것을 배합한 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스 및 방열성 도료 조성물에 관한 것이다.

화장품 용도에 있어서, 산화아연 입자는 선블록의 자외선 차폐제로서 평균 입자경 0.1㎛ 이하의 초미립자이며, 입자 형상이 육각판상으로 컨트롤되어 있지 않은 것이 사용되고 있다. 그러나, 이러한 종래의 자외선 차폐용의 초미립자 산화아연은 미끄럼성을 악화시키기 때문에, 파운데이션 그 외의 메이크업 화장료와 같이, 사용감이 중요하게 여겨지는 화장료에서는 거의 사용되고 있지 않다. 이러한 메이크업 화장료에는 탈크, 마이카, 황산바륨 등의 판상 입자를 배합하는 것이 일반적이다.

그러나, 이들 판상 입자에는 자외선 차폐 효과가 없기 때문에, 자외선 차폐성을 부여하기 위해서는, 미끄럼성을 저해하지 않을 정도의 미량의 미립자 산화아연이나 미립자 산화티타늄, 혹은 유기 자외선 차폐제를 병용하지 않을 수 없다. 이 때문에, 양호한 미끄럼성을 갖는 판상의 산화아연 입자가 있으면, 하나의 입자로 미끄럼성과 자외선 차폐성을 부여할 수 있기 때문에, 바람직한 것이다.

또한, 최근 피부에 도포했을 때에 하지(下地)를 흐리게 하는 작용(소위 소프트 포커스(soft focus) 효과)을 갖는 화장료가 알려져 있다. 그러나, 산화아연 입자에 의해 이러한 소프트 포커스 효과를 얻는 것은 행해지고 있지 않았다.

또한, 선블록 화장료의 용도에 있어서는, 입자경이 0.1㎛ 이하인 미립자 산화아연이 사용되어 왔다. 그러나, 이러한 미립자 산화아연은, 소프트 포커스 효과가 부족하여, 하지를 흐리게 하는 효과가 없다는 결점이 있었다.

육각판상의 산화아연으로서는 특허문헌 1∼3의 것이 공지이다. 그러나, 특허문헌 1의 산화아연 입자는 미립자 산화아연이 육각판상으로 응집한 것이기 때문에, 양호한 미끄럼성을 얻을 수 없다. 또한, 입자 형상이 충분히 컨트롤 된 것이 아니므로, 물성의 불균일이 생기기 쉬워, 안정한 품질의 화장료를 얻는 것이 곤란했다.

특허문헌 2에는, 박편판상(薄片板狀) 산화아연 입자가 기재되어 있으며, 화장료에의 사용이나 공업 용도에의 사용이 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 2에 기재되어 있는 박편상 산화아연 입자는, 입자경이 큰 것이 많고, 또한 입자 형상을 곱게, 또한 균일하게 컨트롤하는 것까지는 행해져 있지 않다. 또한, 당해 제법에서는 염기성 아연염이 얻어지기 때문에, 산화아연으로 하기 위해서는 소성 등의 열분해 공정이 필요해진다.

특허문헌 3에는, 육각판상의 산화아연 입자가 기재되어 있다. 그러나, 특허문헌 3의 산화아연 입자는 입경이나 형상의 불균일이 크고, 응집도 생기고 있기 때문에, 상술한 바와 같은 문제를 충분히 개선할 수 없다.

전자·전기 분야 등에 있어서의 방열재 용도에 있어서는, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화붕소, 산화아연 등이 방열성 필러로서 사용되는 경우가 많다. 높은 방열 성능을 얻기 위해서는, 입자경이 다른 2종류 이상의 구상(球狀) 입자를 충전하고, 필러를 수지 등에 높은 비율로 충전하는 것이 일반적으로 알려져 있다. 그러나, 보다 효과적으로 고열전도화를 도모하기 위하여 판상 입자나 침상(針狀) 입자 등의 이형상(異形狀) 입자를 배합함에 의해, 열전도의 이방성을 이용 하는 것이 검토되고 있다. 그러나, 특허문헌 1의 산화아연 입자는 응집체이기 때문에, 판상 입자 내에서의 입자간 열저항의 영향이 커, 판상 입자 특유의 열전도의 이방성을 발휘할 수 없다.

또한, 통상 산화아연 입자의 제조에 있어서는, 소성 공정이 필수인 경우가 대부분이다. 그러나, 소성에 있어서는, 고온에서의 처리를 행할 수 있는 설비가 필요해지거나, 산화아연 전구체의 단계에서 조정·제어한 입자경이나 입자 형상이, 소성에 의해 변화해버리는 등의 문제가 있기 때문에, 소성하지 않고 산화아연 입자를 얻을 수 있으면, 매우 바람직한 것이다.

일본국 특개2007-223874호 공보 일본국 특개평7-187673호 공보 일본국 특개평9-137152호 공보

본 발명은 상기에 감안하여, 화장료 원료, 방열성 필러 등으로서 사용할 수 있는 육각판상 산화아연 입자, 그 제조 방법, 그것을 배합한 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스, 방열성 도료 조성물을 얻는 것을 목적으로 하는 것이다. 또한, 소성 공정을 갖지 않는 산화아연 입자의 제조 방법을 얻는 것도 목적으로 하는 것이다.

본 발명은, 일차 입자경이 0.01㎛ 이상, 어스펙트비가 2.5 이상이고, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 이하의 (1)(2)를 전부 만족시키는 입자가 50% 이상으로 되는 육각형상면을 갖는 것을 특징으로 하는 육각판상 산화아연 입자이다.

(1) 육각형상의 면을 가지는 것

(2) Dmin/Dmax≥0.3

Dmax : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최대로 되는 대각선의 길이를 의미함

Dmin : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최소로 되는 대각선의 길이를 의미함

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성함에 의해 얻어진 것이 바람직하다.

본 발명은, 미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 육각판상 산화아연 입자의 제조 방법이기도 하다.

본 발명은, 상기 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료이기도 하다.

본 발명은, 상기 육각판상 산화아연 입자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방열성 필러이기도 하다.

본 발명은, 상기 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 수지 조성물이기도 하다.

본 발명은, 상기 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 그리스이기도 하다.

본 발명은, 상기 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 도료 조성물이기도 하다.

본 발명의 산화아연 입자는, 화장료에 배합했을 경우에는, 우수한 사용감, 자외선 차폐성을 갖는 것이다. 또한, 입자경에 따라 소프트 포커스 효과 또는 투명성을 갖는 것으로 할 수 있다. 또한, 방열성 필러로서 사용했을 경우에는, 우수한 방열 성능을 발휘하는 것이다.

도 1은 실시예 1에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 주사형 전자현미경 사진.
도 2는 실시예 1에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 3은 실시예 2에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 주사형 전자현미경 사진.
도 4는 실시예 2에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 5는 실시예 2에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 X선 회절의 스펙트럼.
도 6은 실시예 3에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 7은 실시예 3에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 보다 고배율로 관찰한 투과형 전자현미경 사진.
도 8은 실시예 4에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 9는 실시예 4에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 보다 고배율로 관찰한 투과형 전자현미경 사진.
도 10은 실시예 5에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 11은 실시예 5에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 보다 고배율로 관찰한 투과형 전자현미경 사진.
도 12는 실시예 5에 의해 얻어진 본 발명의 산화아연 입자의 X선 회절의 스펙트럼.
도 13은 비교예 1에서 사용한 산화아연 입자(사카이가가쿠고교사제 미세 산화아연)의 투과형 전자현미경 사진.
도 14는 비교예 2에 의해 얻어진 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 15는 비교예 3에 의해 얻어진 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 16은 비교예 3에 의해 얻어진 입자의 X선 회절의 스펙트럼.
도 17은 비교예 4에 의해 얻어진 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 18은 비교예 5에 의해 얻어진 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 19는 비교예 6에 의해 얻어진 산화아연 입자의 투과형 전자현미경 사진.
도 20은 비교예 7에서 사용한 산화아연 입자(사카이가가쿠고교사제 FINEX-50)의 투과형 전자현미경 사진.
도 21은 비교예 8에서 사용한 산화아연 입자(사카이가가쿠고교사제 FINEX-30)의 투과형 전자현미경 사진.
도 22는 본 발명의 산화아연 입자의 청구항 1의 (2)의 파라미터를 도시하는 모식도.
도 23은 본 발명의 산화아연 입자의 청구항 1의 일차 입자경의 계측 방법을 도시하는 모식도.
도 24는 본 발명의 산화아연 입자의 청구항 1의 어스펙트비의 계측 방법을 도시하는 모식도.
도 25는 비교예의 육각주상의 산화아연 입자의 어스펙트비의 계측 방법을 도시하는 모식도.
도 26은 비교예의 부정형상(不定形狀)의 산화아연 입자의 어스펙트비의 계측 방법을 도시하는 모식도.

이하에, 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 일차 입자가 정육각형에 가까운 형상을 가지며, 응집도 적은 것이므로, 화장료용 분체(粉體)로서 호적(好適)하게 사용할 수 있다. 그중에서도 특히 입자경이 0.3㎛ 이상인 육각판상 산화아연 입자를 사용했을 경우, 헤이즈가 높게 하지를 흐리게 하는 작용(소위 소프트 포커스 효과)이 크다. 상기 범위의 입자경을 갖는 본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 입자경이 가까운 일반적인 산화아연과 비교하면, 전(全) 광선 투과율이 대략 동등하면서, 헤이즈가 높다. 이것은, 광(光)의 산란 효율이 높은 것을 의미하며, 피부에 도포했을 때에 소프트 포커스 효과가 높은 것이다. 또한 0.5㎛ 이상의 육각판상 산화아연 입자를 사용했을 경우, 미끄럼이 매우 좋아, 사용감이 우수한 것이며, 파운데이션 용도에 있어서의 입자로서 호적하게 사용할 수 있다.

한편, 0.3㎛ 미만의 육각판상 산화아연 입자를 사용했을 경우, 평행 광선 투과율이 높아 우수한 투명성이 얻어지기 때문에, 썬스크린제 용도에 있어서의 자외선 차폐제로서 호합하게 사용할 수 있다. 또한, 산화아연으로 이루어지는 것이므로, 우수한 자외선 차폐성을 갖는다.

또한, 산화아연의 결정 구조는 우르차이트광형 결정 구조이며, 아연 이온은 4개의 산소 이온에 정사면체적으로 둘러싸여 있다. 실제의 산화아연의 결정 중의 4개의 아연 이온과 산소 이온과의 거리는 전부 등가(等價)이지 않으며, c축 방향(판상면에 대하여 수직인 방향; 두께 방향)과 평행의 관계에 있는 아연 이온과 산소 이온과의 거리만 0.1991㎚로 되어 다른 결합간 거리 0.1976㎚보다도 약간 길게 되어 있다. 이 때문에, 산화아연의 c축 방향의 결합이 약간 약해져, c축 방향의 열진동(포논(phonon))에 의한 열전도가 느려진다. 반대로, a축(판상면 방향), b축 방향(판상면 방향)에의 열전도는, 결합 거리가 c축 방향에 비하여 짧기 때문에, 열전도가 빨라진다. 즉, 본 발명으로 얻어지는 a축, b축 방향으로 성장한 육각판상 산화아연 입자는, 판상면이 전열(傳熱)의 방향과 평행하게 배향할수록 열전도의 이방성을 발휘하여 양호한 열전도율을 얻을 수 있다. 따라서, 방열재로서 호적하게 사용할 수 있을 것으로 추측된다.

본 발명의 산화아연 입자는, 일차 입자경이 0.01㎛ 이상, 어스펙트비가 2.5 이상이며, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 이하의 (1)(2)를 전부 만족시키는 입자가 50% 이상으로 되는 육각형상면을 갖는 것을 특징으로 하는 육각판상 산화아연 입자이다.

(1) 육각형상의 면을 가지는 것

(2) Dmin/Dmax≥0.3

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 일차 입자경이 0.01㎛ 이상이며, 고운 육각판상 형상을 갖는 산화아연 입자이다. 본 발명의 육각판상 산화아연 입자의 일차 입자경을 적의(適宜) 컨트롤함에 의해, 양호한 미끄럼성, 소프트 포커스 효과, 자외선 차폐성, 가시광 투명성 등의 다양한 성능을 선택적으로 부여할 수 있다. 상기 일차 입자경은, 0.02㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.03㎛ 이상인 것이 더 바람직하다.

상기 일차 입자경의 상한은 특히 한정되는 것이 아니지만, 예를 들면 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 50㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 25㎛ 이하인 것이 더 바람직하다.

본 명세서에 있어서의 일차 입자경은, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제) 사진의 2000∼50000배의 시야에서의 정방향경(定方向徑)(입자를 사이에 두는 일정 방향의 2개의 평행선의 간격; 화상 위의 어떠한 형상의 입자에 대해서도, 일정 방향에서 측정했음)으로 정의되는 입자경(㎛)이며, TEM 사진 내의 일차 입자 250개의 정방향경을 계측하고, 그 누적 분포의 평균값을 구한 것이다. 상기 일차 입자경의 측정 방법에 대해서는, 도 23을 첨부했다.

또한, 본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 어스펙트비가 2.5 이상이다. 즉, 육각판상의 형상을 갖는 산화아연 입자이며, 이러한 형상에 의해, 특히 화장료에 사용했을 경우에, 미끄럼이 좋아, 우수한 사용감을 얻을 수 있다. 본 발명에 있어서의 육각판상 산화아연 입자의 어스펙트비는, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제) 사진, 또는 주사형 전자현미경(SEM, JSM-5600, 니혼덴시사제) 사진의 2000∼50000배의 시야에 있어서, 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면이 앞쪽을 향하고 있는 입자에 대해서는 그 정방향경(입자를 사이에 두는 일정 방향의 2개의 평행선의 간격; 화상 위의 육각형상면이 앞쪽을 향하고 있는 입자에 대하여, 일정 방향에서 측정했음)으로 정의되는 입자경(㎛)을 입자 250개분 계측한 평균값을 L, 육각판상 산화아연 입자의 측면이 앞쪽을 향하고 있는 입자(장방형으로 보이는 입자)에 대해서는 그 두께(㎛)(장방형의 짧은 쪽의 변의 길이)를 입자 250개분 계측한 평균값을 T로 했을 때, 그들의 값의 비; L/T로서 구한 값이다. 상기 어스펙트비의 측정 방법에 대해서는, 도 24를 첨부했다. 상기 어스펙트비는, 2.7 이상인 것이 보다 바람직하며, 3.0 이상인 것이 더 바람직하다.

또한, 본 발명의 산화아연 입자는, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 이하의 (1)(2)를 전부 만족시키는 입자가 50% 이상으로 되는 육각형상면을 갖는 것을 특징으로 하는 육각판상 산화아연 입자이다.

(1) 육각형상의 면을 가지는 것

(2) Dmin/Dmax≥0.3

Dmin/Dmax는, Dmax를 정육각형의 대각선의 길이로 했을 때에, 그 정육각형의 대각선의 길이에 대한 차이를 의미하며, 값이 1에 가까울수록 정육각형에 대한 차이가 작고, 0에 가까울수록 차이가 크다. Dmin/Dmax는 0.3 이상이지만, 0.5 이상인 것이 바람직하며, 0.7 이상인 것이 더 바람직하다.

또, 상기한 정의에 있어서, 3개의 대각선이란, 육각형상면에 있어서의 육각형의 하나의 정점을 A로 했을 때에, A에 인접하는 정점으로부터 차례로 B, C, D, E, F로 했을 경우에, A와 D를 이은 대각선 AD, B와 E를 이은 대각선 BE, C과 F를 이은 대각선 CF를 의미하고 있으며, 대각선 AD, BE, CF 중, 길이가 최대로 되는 대각선의 길이를 Dmax, 길이가 최소로 되는 대각선의 길이를 Dmin으로 했다. 이들의 각 파라미터를 이해하기 쉽도록, 도 22에 모식도를 나타냈다.

상기 각 파라미터의 값의 계측은, 투과형 전자현미경 사진에 의거하여 행하며, Dmax, Dmin은 자로 계측했다.

상술한 (1)(2)의 파라미터를 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자에 대하여 계측한다. 또, 상기 계측에 있어서는, 화상 중에서 육각형상면으로서 관찰되는 입자뿐만 아니라 측면으로서 관찰되는 입자도 전부 카운트한다. 본 발명의 산화아연 입자에 있어서는, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 50% 이상의 입자가 상술한 (1)(2)의 파라미터를 만족시키는 것이다.

상기 각 파라미터를 만족시키는 산화아연 입자로 함으로써, 특히 양호한 성능을 갖는 것으로 된다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자에 있어서는, 투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 전체의 50% 이상의 입자가 상술한 (1)(2)의 파라미터를 만족시키는 것이다. 적어도 50%는 상기 파라미터를 만족시키는 것이 아니면, 상술한 본 발명의 효과를 만족시키지 않기 때문이다. 55% 이상이 상기 파라미터를 만족시키는 것이 보다 바람직하며, 60% 이상이 상기 파라미터를 만족시키는 것이 더 바람직하다.

또, 후술하는 실시예에 의해 얻어지는 본 발명의 육각판상 산화아연 입자에 대하여, 육각형상면으로서 관찰된 입자만에 대해서도, 250개의 입자의 Dmin/Dmax를 계측하고, 그 평균값을 구했다. 그 결과에 대해서는 표 1에 나타냈다.

상술한 형상을 갖는 산화아연 입자는, 그 제조 방법이 특히 한정되는 것이 아니지만, 예를 들면 미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 얻을 수 있다. 이러한 산화아연 입자의 제조 방법도 본 발명의 하나이다. 또한, 이러한 산화아연 입자의 제조 방법에 의해, 소성 등의 열분해의 공정을 거치지 않고, 상술한 바와 같은 본 발명의 육각판상 산화아연 입자를 직접 얻을 수 있다. 또한, 산화아연 순도가 높은 산화아연 입자를 얻을 수도 있다. 단, 결정성을 보다 높이는 등의 목적으로 소성을 행해도 된다.

상술한 바와 같은 육각판상 산화아연 입자의 제조에 있어서는, 미립자 산화아연을 사용한다. 상기 미립자 산화아연으로서는 특히 한정되는 것이 아니지만, 입자경이 0.005㎛ 이상, 0.05㎛ 이하인 것이 바람직하다. 상기 미립자 산화아연의 입자경은, BET법에 의해 구해지는 비표면적(比表面積)과 동일한 표면적을 갖는 구(球)의 직경에 상당한다. 즉, 입자경은, 전자동 BET 비표면적 측정 장치 Macsorb(Mountech사제)에 의해 측정해서 구한 비표면적 : Sg와, 산화아연의 진비중(眞比重) : ρ로부터, 하기 계산식에 의해 구한 값이다.

입자경(㎛)=[6/(Sg×ρ)]

(Sg(㎡/g) : 비표면적, ρ(g/㎤) : 입자의 진비중)

또, 입자의 진비중 : ρ은, 산화아연의 진비중의 값인 5.6을 상기 계산에 사용했다.

원료로서 사용할 수 있는 미립자 산화아연으로서는 특히 한정되지 않으며, 공지의 방법에 의해 제조된 산화아연을 사용할 수 있다. 시판의 것으로서는, 사카이가가쿠고교사제 FINEX-75, FINEX-50, FINEX-30 등을 들 수 있다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자의 제조 방법에 있어서는, 상기 미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성시키는 것이다. 즉, 아연염 수용액 중에 상술한 미립자 산화아연을 분산시키고, 그 상태에서 가열하여, 결정 성장시킴에 의해 얻어진 것이다.

본 발명에 있어서 사용하는 용매는 물이다. 물은 저가이고 취급성도 안전하므로, 제조 관리, 코스트라는 관점에서 가장 바람직하다.

사용하는 아연염 수용액은 특히 한정되지 않으며, 아세트산아연, 질산아연, 황산아연, 염화아연, 포름산아연 등의 수용액을 들 수 있다. 아연염 수용액 중에서도, 특히 아세트산아연 수용액을 사용했을 경우에 호적하게 본 발명의 특정의 육각판상 산화아연 입자가 얻어진다.

또한, 이들 아연염 수용액은, 산화아연과 산과 물을 혼합해서 산화아연을 산 가수분해함으로써 조제한 것이어도 된다. 아연염 수용액을 산화아연과 산과 물로 조제할 때에 사용하는 산화아연의 입자 형상, 입자 사이즈는 특히 한정되지 않지만, 불순물을 되도록 적게 한다는 관점에서, 산화아연의 Zn 순도는 95% 이상인 것이 바람직하다. 또한, 산으로서는, 아세트산, 질산, 황산, 염산, 포름산, 시트르산, 옥살산, 프로피온산, 말론산, 젖산, 타르타르산, 글루콘산, 숙신산 등을 들 수 있지만, 특히 아세트산을 사용했을 경우에 호적하게 본 발명의 특정의 육각판상 산화아연 입자가 얻어진다. 이들 아연염 수용액 중, 2종을 병용해서 사용하는 것이어도 된다.

아연염 수용액 중의 아연염 농도는 0.45mol/ℓ를 초과하고, 4.00mol/ℓ 이하인 것이 바람직하며, 특히 아세트산아연 수용액 중의 아연염 농도는, 0.45mol/ℓ를 초과하고, 2.00mol/ℓ 이하인 것이 바람직하다.

아연염 수용액 중에 미립자 산화아연을 첨가해서 슬러리로 할 경우, 슬러리 전량에 대하여 미립자 산화아연의 농도가 10∼500g/ℓ인 것이 바람직하다.

슬러리의 조제 방법은 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 상기 성분을 물에 첨가하고, 5∼30℃에서 10∼30분간 분산시킴에 의해, 미립자 산화아연의 농도가 10∼500g/ℓ인 균일한 슬러리로 할 수 있다.

상기 숙성에 있어서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 미립자 산화아연, 아연염, 물 이외의 성분을 소량 첨가해도 된다. 예를 들면, 분산제 등을 첨가할 수도 있다.

숙성은, 45∼110℃에 있어서 행하는 것이 바람직하다. 숙성 시간은 0.5∼24시간을 들 수 있다. 숙성 온도, 숙성 시간, 미립자 산화아연 농도, 아연염 농도 등의 조건에 따라 입자경의 조정을 도모할 수 있기 때문에, 이들의 조건에 대해서는 목적으로 하는 육각판상 산화아연 입자에 따라 적의 설정해서 행하는 것이 바람직하다.

이렇게 해서 얻어진 육각판상 산화아연 입자는, 필요에 따라, 여과, 수세, 건조 등의 후처리를 행해도 된다.

상기 방법에 의해 제조된 육각판상 산화아연 입자는, 필요에 따라 체에 의한 분급을 행하는 것이어도 된다. 체에 의한 분급 방법으로서는, 습식 분급, 건식 분급을 들 수 있다. 또한, 습식 분쇄, 건식 분쇄 등의 처리를 행해도 된다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 육각판상 산화아연 입자의 제조 방법은, 소성 처리를 행하지 않고 산화아연 입자를 얻을 수 있는 것이지만, 상술한 방법에 의해 얻어진 육각판상 산화아연 입자에 소성 처리를 실시해도 지장 없다. 소성에 있어서는, 공지의 임의의 장치를 이용한 방법을 들 수 있으며, 처리 조건 등도 특히 한정되지 않는다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 필요에 따라 표면 처리를 더 실시한 것이어도 된다. 표면 처리로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 실리카층, 알루미나층, 지르코니아층, 티타니아층 등의 무기 산화물층을 형성하는 무기 표면 처리, 그 외의 각종 표면 처리 등의 공지의 처리 방법을 들 수 있다. 또한, 복수 종의 표면 처리를 순차 행하는 것이어도 된다.

상기 표면 처리로서 보다 구체적으로는, 유기규소 화합물, 유기알루미늄 화합물, 유기티타늄 화합물, 고급 지방산, 고급 지방산 에스테르, 금속비누, 다가 알코올 또는 알칸올아민에서 선택되는 표면 처리제에 의한 표면 처리 등을 들 수 있다. 이러한 표면 처리제는, 상기 육각판상 산화아연 입자의 입자경에 따라, 적의 처리량을 설정할 수 있다.

상기 유기규소 화합물로서는, 예를 들면 메틸하이드로겐폴리실록산이나 디메틸폴리실록산 등의 오르가노폴리실록산이나, 트리에톡시비닐실란이나 디페닐디메톡시실란 등의 실란커플링제를 들 수 있다.

상기 고급 지방산으로서는, 예를 들면 탄소 원자수 10∼30의 예를 들면 라우르산, 스테아르산, 팔미트산 등의 고급 지방산 등을 들 수 있다.

상기 고급 지방산 에스테르로서는, 예를 들면 팔미트산옥틸과 같은 상기 고급 지방산의 알킬에스테르 등을 들 수 있다.

상기 금속비누로서는, 예를 들면 스테아르산알루미늄, 라우르산알루미늄 등의 상기 고급 지방산의 금속염 등을 들 수 있다. 금속비누를 구성하는 금속종은 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 알루미늄, 리튬, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 아연, 주석 등을 들 수 있다.

상기 다가 알코올로서는, 예를 들면 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨 등을 들 수 있다.

상기 알칸올아민으로서는, 예를 들면 디에탄올아민, 디프로판올아민, 트리에탄올아민, 트리프로판올아민 등을 들 수 있다.

상기 표면 처리제에 의한 처리는, 상기 육각판상 산화아연 입자에 표면 처리제를 소정량 혼합함에 의해 얻을 수 있다. 또한, 상기 육각판상 산화아연 입자를 적의의 매체, 예를 들면 물, 알코올, 에테르 등에 현탁시킨 후, 이 현탁액에 표면 처리제를 가하여 교반하고, 분별하여 건조, 분쇄해서 얻을 수도 있으며, 또한 증발 건고(乾固)하고, 분쇄해서 얻을 수도 있다.

상술한 바와 같은 표면 처리를 실시한 육각판상 산화아연 입자는, 그 표면에 규산아연 등의 각종 피복층을 가지므로, 화장료 중에 배합할 경우에, 그 생리 활성, 화학적 활성이 억제된 것이므로, 화장품으로서 특히 우수한 것으로 할 수 있다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는 그 용도를 특히 한정하는 것이 아니지만, 예를 들면 화장료의 원료, 방열성 필러의 용도에 있어서 호적하게 사용할 수 있다. 이러한 화장료 및 방열성 필러도 본 발명의 일부이다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 화장료는, 자외선 차폐성을 가지며, 판상이므로, 사용감이 좋다는 이점을 갖는다. 또한, 화장료로서 사용했을 경우에, 소프트 포커스 효과를 갖는다는 이점도 갖는다.

본 발명의 화장료로서는, 파운데이션, 메이크업 베이스, 아이섀도, 볼연지, 마스카라, 입술 연지, 썬스크린제 등을 들 수 있다. 본 발명의 화장료는, 유성 화장료, 수성 화장료, O/W형 화장료, W/O형 화장료의 임의의 형태로 할 수 있다.

본 발명의 화장료는, 상기 혼합물을 구성하는 성분 이외에, 화장품 분야에 있어서 사용할 수 있는 임의의 수성 성분, 유성 성분을 병용하는 것이어도 된다. 상기 수성 성분 및 유성 성분으로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 유분(油分), 계면활성제, 보습제, 고급 알코올, 금속이온봉쇄제, 천연 및 합성 고분자, 수용성 및 유용성 고분자, 자외선 차폐제, 각종 추출액, 무기 및 유기 안료, 무기 및 유기 점토 광물, 금속비누 처리 또는 실리콘으로 처리된 무기 및 유기 안료, 유기 염료 등의 색제, 방부제, 산화방지제, 색소, 증점제, pH 조정제, 향료, 냉감제(冷感劑), 제한제(制汗劑), 살균제, 피부부활제(皮膚賦活劑) 등의 성분을 함유하는 것이어도 된다. 구체적으로는, 이하에 열거한 배합 성분의 1종 또는 2종 이상을 임의로 배합해서 통상의 방법에 의해 목적의 화장료를 제조하는 것이 가능하다. 이들 배합 성분의 배합량은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위이면 특히 한정되지 않는다.

상기 유분으로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 아보카도유, 동백유, 거북이유, 마카데미아너트유, 옥수수유, 밍크유, 올리브유, 유채씨유, 난황유, 참기름, 도인유(桃仁油), 행인유(杏仁油), 소맥배아유, 산다화유(sasanqua oil), 피마자유, 아마인유, 서플라워유, 면실유, 들기름, 대두유, 낙화생유, 다실유, 비유(榧油), 미강유, 중국 동유(Chinese tung oil), 일본 동유(Japanese tung oil), 호호바유, 배아유, 트리글리세롤, 트리옥탄산글리세린, 트리이소팔미트산글리세린, 카카오지(脂), 야자유, 마지(馬脂), 경화 야자유, 팜유, 우지(牛脂), 양지(羊脂), 경화 우지, 팜핵유(palm kernel oil), 돈지(豚脂), 우골지(牛骨脂), 목랍핵유(木蠟核油), 경화유, 우각지(牛脚脂), 목랍, 경화 피마자유, 밀랍, 칸델릴라랍(蠟), 면랍(綿蠟), 카나우바랍, 베이베리랍, 백랍(白蠟; insect wax), 경랍(鯨蠟; spermaceti wax), 몬탄랍, 강랍(糠蠟), 라놀린, 카폭랍, 아세트산라놀린, 액상 라놀린, 사탕수수랍, 라놀린 지방산 이소프로필, 라우르산헥실, 환원 라놀린, 호호바랍, 경질 라놀린, 쉘락랍, POE 라놀린알코올에테르, POE 라놀린알코올아세테이트, POE 콜레스테롤에테르, 라놀린 지방산 폴리에틸렌글리콜, POE 수소 첨가 라놀린알코올에테르, 유동 파라핀, 오조케라이트, 프리스탄, 파라핀, 세레신, 스쿠알렌, 바셀린, 마이크로크리스탈린 왁스 등을 들 수 있다.

상기 친유성 비이온 계면활성제로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 소르비탄모노올레에이트, 소르비탄모노이소스테아레이트, 소르비탄모노라우레이트, 소르비탄모노팔미테이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄세스퀴올레에이트, 소르비탄트리올레에이트, 펜타-2-에틸헥실산디글리세롤소르비탄, 테트라-2-에틸헥실산디글리세롤소르비탄 등의 소르비탄 지방산 에스테르류, 모노 면실유 지방산 글리세린, 모노에루크산글리세린, 세스퀴올레산글리세린, 모노스테아르산글리세린, α,α'-올레산피로글루탐산글리세린, 모노스테아르산글리세린말산 등의 글리세린폴리글리세린 지방산류, 모노스테아르산프로필렌글리콜 등의 프로필렌글리콜 지방산 에스테르류, 경화 피마자유 유도체, 글리세린알킬에테르 등을 들 수 있다.

친수성 비이온 계면활성제로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면POE 소르비탄모노스테아레이트, POE 소르비탄모노올레에이트, POE 소르비탄테트라올레에이트 등의 POE 소르비탄 지방산 에스테르류, POE 소르비트모노라우레이트, POE 소르비트모노올레에이트, POE 소르비트펜타올레에이트, POE 소르비트모노스테아레이트 등의 POE 소르비트 지방산 에스테르류, POE 글리세린모노스테아레이트, POE 글리세린모노이소스테아레이트, POE 글리세린트리이소스테아레이트 등의 POE 글리세린 지방산 에스테르류, POE 모노올레에이트, POE 디스테아레이트, POE 모노디올레에이트, 디스테아르산에틸렌글리콜 등의 POE 지방산 에스테르류, POE 라우릴에테르, POE 올레일에테르, POE 스테아릴에테르, POE 베헤닐에테르, POE 2옥틸도데실에테르, POE 콜레스탄올에테르 등의 POE 알킬에테르류, POE 옥틸페닐에테르, POE 노닐페닐에테르, POE 디노닐페닐에테르 등의 POE 알킬페닐에테르류, 플루로닉 등의 플루아로닉형류, POE·POP 세틸에테르, POE·POP 2데실테트라데실에테르, POE·POP 모노부틸에테르, POE·POP 수첨 라놀린, POE·POP 글리세린에테르 등의 POE·POP 알킬에테르류, 테트로닉 등의 테트라 POE·테트라 POP 에틸렌디아민 축합물류, POE 피마자유, POE 경화 피마자유, POE 경화 피마자유 모노이소스테아레이트, POE 경화 피마자유 트리이소스테아레이트, POE 경화 피마자유 모노피로글루탐산모노이소스테아르산디에스테르, POE 경화 피마자유 말레산 등의 POE 피마자유 경화 피마자유 유도체, POE 소르비트 밀랍 등의 POE 밀랍·라놀린 유도체, 야자유 지방산 디에탄올아미드, 라우르산모노에탄올아미드, 지방산 이소프로판올아미드 등의 알칸올아미드, POE 프로필렌글리콜 지방산 에스테르, POE 알킬아민, POE 지방산아미드, 자당 지방산 에스테르, POE 노닐페닐포름알데히드 축합물, 알킬에톡시디메틸아민옥사이드, 트리올레일인산 등을 들 수 있다.

그 외의 계면활성제로서는, 예를 들면 지방산 비누, 고급 알킬황산에스테르염, POE 라우릴황산트리에탄올아민, 알킬에테르황산에스테르염 등의 음이온 계면활성제, 알킬트리메틸암모늄염, 알킬피리디늄염, 알킬사급암모늄염, 알킬디메틸벤질암모늄염, POE 알킬아민, 알킬아민염, 폴리아민 지방산 유도체 등의 양이온 계면활성제, 및 이미다졸린계 양성 계면활성제, 베타인계 계면활성제 등의 양성 계면활성제를 안정성 및 피부 자극성에 문제가 없는 범위에서 배합해도 된다.

상기 보습제로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 자일리톨, 소르비톨, 말티톨, 콘드로이틴황산, 히알루론산, 무코이틴황산, 카로닌산, 아텔로콜라겐(atelocollagen), 콜레스테릴-12-히드록시스테아레이트, 젖산나트륨, 담즙산염, dl-피롤리돈카르복시산염, 단쇄 가용성 콜라겐, 디글리세린(EO) PO 부가물, 이자요이바라(Rosa roxburghii) 추출물, 서양톱풀(yarrow) 추출물, 멜릴로트 추출물 등을 들 수 있다.

상기 고급 알코올로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 라우릴알코올, 세틸알코올, 스테아릴알코올, 베헤닐알코올, 미리스틸알코올, 올레일알코올, 세토스테아릴알코올 등의 직쇄 알코올, 모노스테아릴글리세린에테르(바틸알코올), 2-데실테트라데시놀, 라놀린알코올, 콜레스테롤, 피토스테롤, 헥실도데칸올, 이소스테아릴알코올, 옥틸도데칸올 등의 분기쇄 알코올 등을 들 수 있다.

금속이온봉쇄제로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 1-히드록시에탄-1,1-디포스폰산, 1-히드록시에탄-1,1-디포스폰산사나트륨염, 시트르산나트륨, 폴리인산나트륨, 메타인산나트륨, 글루콘산, 인산, 시트르산, 아스코르브산, 숙신산, 에데트산 등을 들 수 있다.

상기 천연의 수용성 고분자로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면아라비아 검, 트라가칸트 검, 갈락탄, 구아 검, 캐로브 검, 카라야 검, 카라기난, 펙틴, 한천, 퀸스 시드(마르멜로), 앨지(algae) 콜로이드(갈조 엑기스), 전분(쌀, 옥수수, 감자, 밀), 글리시리진산 등의 식물계 고분자, 잔탄 검, 덱스트란, 석시노글루칸, 풀루란 등의 미생물계 고분자, 콜라겐, 카세인, 알부민, 젤라틴 등의 동물계 고분자를 들 수 있다.

반합성(半合成)의 수용성 고분자로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 카르복시메틸 전분, 메틸히드록시프로필 전분 등의 전분계 고분자, 메틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸히드록시프로필셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 셀룰로오스황산나트륨, 히드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스나트륨(CMC), 결정 셀룰로오스, 셀룰로오스 분말 등의 셀룰로오스계 고분자, 알긴산나트륨, 알긴산프로필렌글리콜에스테르 등의 알긴산계 고분자 등을 들 수 있다.

합성의 수용성 고분자로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 폴리비닐알코올, 폴리비닐메틸에테르, 폴리비닐피롤리돈 등의 비닐계 고분자, 폴리에틸렌글리콜 20,000, 40,000, 60,000 등의 폴리옥시에틸렌계 고분자, 폴리옥시에틸렌폴리옥시프로필렌 공중합체 공중합계 고분자, 폴리아크릴산나트륨, 폴리에틸아크릴레이트, 폴리아크릴아미드 등의 아크릴계 고분자, 폴리에틸렌이민, 양이온 폴리머 등을 들 수 있다.

무기의 수용성 고분자로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 벤토나이트, 규산AlMg(비검(veegum)), 라포나이트, 헥토라이트, 무수 규산 등을 들 수 있다.

자외선 차폐제로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 파라아미노벤조산(이하 PABA로 약칭함), PABA모노글리세린에스테르, N,N-디프로폭시PABA에틸에스테르, N,N-디에톡시PABA에틸에스테르, N,N-디메틸PABA에틸에스테르, N,N-디메틸PABA부틸에스테르 등의 벤조산계 자외선 차폐제; 호모멘틸-N-아세틸안트라닐레이트 등의 안트라닐산계 자외선 차폐제; 아밀살리실레이트, 멘틸살리실레이트, 호모멘틸살리실레이트, 옥틸살리실레이트, 페닐살리실레이트, 벤질살리실레이트, p-이소프로판올페닐살리실레이트 등의 살리실산계 자외선 차폐제; 옥틸신나메이트, 에틸-4-이소프로필신나메이트, 메틸-2,5-디이소프로필신나메이트, 에틸-2,4-디이소프로필신나메이트, 메틸-2,4-디이소프로필신나메이트, 프로필-p-메톡시신나메이트, 이소프로필-p-메톡시신나메이트, 이소아밀-p-메톡시신나메이트, 2-에톡시에틸-p-메톡시신나메이트, 시클로헥실-p-메톡시신나메이트, 에틸-α-시아노-β-페닐신나메이트, 2-에틸헥실-α-시아노-β-페닐신나메이트, 글리세릴모노-2-에틸헥사노일-디파라메톡시신나메이트 등의 신남산계 자외선 차폐제; 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-설폰산염, 4-페닐벤조페논, 2-에틸헥실-4'-페닐-벤조페논-2-카복실레이트, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 4-히드록시-3-카르복시벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 차폐제; 3-(4'-메틸벤질리덴)-d,l-캠퍼, 3-벤질리덴-d,l-캠퍼, 우로칸산, 우로칸산에틸에스테르, 2-페닐-5-메틸벤즈옥사졸, 2,2'-히드록시-5-메틸페닐벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐벤조트리아졸, 디벤잘아진, 디아니소일메탄, 4-메톡시-4'-t-부틸디벤조일메탄, 5-(3,3-디메틸-2-노르보르닐리덴)-3-펜탄-2-온 등을 들 수 있다.

그 외 약제 성분으로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 비타민A유, 레티놀, 팔미트산레티놀, 이노시트, 염산피리독신, 니코틴산벤질, 니코틴산아미드, 니코틴산DL-α-토코페롤, 아스코르브산인산마그네슘, 2-O-α-D-글루코피라노실-L-아스코르브산, 비타민D2(에르고칼시페롤), dl-α-토코페롤, 아세트산dl-α-토코페롤, 판토텐산, 비오틴 등의 비타민류; 에스트라디올, 에티닐에스트라디올 등의 호르몬; 아르기닌, 아스파라긴산, 시스틴, 시스테인, 메티오닌, 세린, 로이신, 트립토판 등의 아미노산; 알란토인, 아줄렌 등의 항염증제, 알부틴 등의 미백제; 탄닌산 등의 수렴제; L-멘톨, 캠퍼 등의 청량제나 황, 염화리소자임, 염화피리독신 등을 들 수 있다.

각종 추출액으로서는 특히 한정되지 않으며, 예를 들면 삼백초(Houttuynia cordata) 엑기스, 황벽나무껍질(Phellodendron bark) 엑기스, 멜릴로트 엑기스, 광대수염(dead nettle) 엑기스, 감초(licorice) 엑기스, 작약(peony root) 엑기스, 비누풀(soapwort) 엑기스, 수세미외(luffa) 엑기스, 키나(cinchona) 엑기스, 바위취(strawberry geranium) 엑기스, 고삼(sophora root) 엑기스, 개연꽃(nuphar) 엑기스, 회향 엑기스, 앵초(primrose) 엑기스, 장미 엑기스, 지황 엑기스, 레몬 엑기스, 자근(lithospermum) 엑기스, 알로에 엑기스, 창포근 엑기스, 유칼립투스 엑기스, 쇠뜨기(field horsetail) 엑기스, 세이지 엑기스, 타임 엑기스, 차 엑기스, 해조 엑기스, 오이 엑기스, 정향나무(clove) 엑기스, 나무딸기(bramble) 엑기스, 멜리사 엑기스, 당근 엑기스, 마로니에(horse chestnut) 엑기스, 복숭아 엑기스, 도엽 엑기스, 뽕나무 엑기스, 수레국화(knapweed) 엑기스, 하마멜리스 엑기스, 태반 엑기스, 흉선(胸腺) 추출물, 실크 추출액, 감초 엑기스 등을 들 수 있다.

상기 각종 분체(粉體)로서는, 벵갈라, 황산화철, 흑산화철, 운모티타늄, 산화철 피복 운모티타늄, 산화티타늄 피복 유리 플레이크 등의 광휘성 착색 안료, 마이카, 탈크, 카올린, 세리사이트, 이산화티타늄, 실리카 등의 무기 분말이나 폴리에틸렌 분말, 나일론 분말, 가교 폴리스티렌, 셀룰로오스 파우더, 실리콘 분말 등의 유기 분말 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 관능 특성 향상, 화장 지속성 향상을 위하여, 분말 성분의 일부 또는 전부를 실리콘류, 불소 화합물, 금속비누, 유제(油劑), 아실글루탐산염 등의 물질로, 공지의 방법으로 소수화 처리해서 사용된다. 또한, 본 발명에 해당하지 않는 다른 산화아연 입자를 혼합해서 사용하는 것이어도 된다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 방열성 필러로서 사용할 수도 있다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자를 방열성 필러로서 사용할 경우, 단독으로의 사용, 다른 방열성 필러와의 병용의 어느 방법으로 할 수도 있다. 단독으로의 사용, 다른 방열성 필러와의 병용 사용에 상관없이, 본 발명의 방열성 필러를 수지 조성물, 그리스 조성물 등의 방열성 조성물의 전량에 대하여, 10∼90체적%의 비율로 사용하는 것이 바람직하다.

상기 육각판상 산화아연 입자를 방열성 필러로서 사용할 경우, 수지와 혼합한 방열성 수지 조성물로서 사용할 수 있다. 이 경우, 사용하는 수지는, 열가소성 수지이어도 열경화성 수지이어도 되며, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리페닐렌설파이드(PPS) 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 불소 수지, 폴리메타크릴산메틸, 에틸렌·아크릴산에틸 공중합체(EEA) 수지, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리아세탈, 폴리페닐렌에테르, 폴리에테르이미드, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS) 수지, 액정 수지(LCP), 실리콘 수지, 아크릴 수지 등의 수지를 들 수 있다.

본 발명의 방열성 수지 조성물은, 열가소성 수지와 상기 육각판상 산화아연 입자를 용융 상태에서 혼련(混練)함에 의해 얻어진 열성형용의 수지 조성물, 또는 열경화성 수지와 상기 육각판상 산화아연 입자를 혼련 후, 가열 경화시킴에 의해 얻어진 수지 조성물, 또는 수지 용액 또는 분산액 중에 상기 육각판상 산화아연 입자를 분산시킨 도료용의 수지 조성물이어도 된다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 그 외의 방열성 필러와 조합시킨 방열성 필러 조성물로서 사용할 수도 있다. 특히, 본 발명에 있어서는, 그 외의 방열성 필러와 조합시켜서 사용할 경우, 입자경이 보다 큰 방열성 필러와 조합시켜서 사용하는 것도, 입자경이 보다 작은 방열성 필러와 조합시켜서 사용하는 것도, 그 양쪽과 조합시켜서 사용하는 것도 생각할 수 있다.

상기 그 외의 방열성 필러로서는 특히 한정되지 않으며, 산화아연, 산화마그네슘, 산화티타늄, 산화알루미늄 등의 금속 산화물, 질화알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 질화규소, 질화티타늄, 금속 실리콘, 다이아몬드 등을 들 수 있다. 이렇게 다른 방열성 필러와 병용해서 사용할 경우, 방열성 필러 전량에 대하여 본 발명의 육각판상 산화아연 입자를 10∼90체적%의 비율로 함유하는 것이 바람직하다.

본 발명의 방열성 수지 조성물이 열성형용의 수지 조성물일 경우, 용도에 따라 수지 성분을 자유롭게 선택할 수 있다. 예를 들면, 열원과 방열판에 접착하여 밀착시킬 경우에는, 실리콘 수지나 아크릴 수지와 같은 접착성이 높고 경도가 낮은 수지를 선택하면 된다.

본 발명의 방열성 수지 조성물이 도료용의 수지 조성물일 경우, 수지는 경화성을 갖는 것이어도, 경화성을 갖지 않는 것이어도 된다. 도료는, 유기 용매를 함유하는 용제계의 것이어도, 수중(水中)에 수지가 용해 또는 분산한 수계의 것이어도 된다.

상기 육각판상 산화아연 입자를 방열성 필러로서 사용할 경우, 광유(鑛油) 또는 합성유를 함유하는 기유(基油)와 혼합한 방열성 그리스로서 사용할 수도 있다. 이러한 방열성 그리스로서 사용할 경우에는, 합성유로서 α-올레핀, 디에스테르, 폴리올에스테르, 트리멜리트산에스테르, 폴리페닐에테르, 알킬페닐에테르 등을 사용할 수 있다. 또한, 실리콘 오일과 혼합한 방열성 그리스로서 사용할 수도 있다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 방열성 필러로서 사용할 경우, 그 외의 성분을 병용해서 사용할 수도 있다. 병용해서 사용할 수 있는 그 외의 성분으로서는, 산화마그네슘, 산화티타늄, 산화알루미늄 등의 금속 산화물, 질화알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 질화규소, 질화티타늄, 금속 실리콘, 다이아몬드 등의 산화아연 이외의 방열성 필러, 수지, 계면활성제 등을 들 수 있다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 상술한 화장료나 방열성 필러 외에, 고무의 가황촉진제, 도료·잉크용 안료, 페라이트나 배리스터 등의 전자 부품, 의약품 등의 분야에 있어서도 사용할 수 있다.

[실시예]

이하에, 실시예를 들어서 본 발명을 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 하등 한정되는 것이 아니다.

(실시예 1)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 266.07g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 1mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온(昇溫)하고, 교반하면서 100℃에서 7시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 1.12㎛인 육각판상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 주사형 전자현미경(SEM, JSM-5600, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 1에 나타냈다. 또한, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 2에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(실시예 2)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 266.07g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 1mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.53㎛인 육각판상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 주사형 전자현미경(SEM, JSM-5600, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 3에 나타냈다. 또한, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 4에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 X선 회절의 스펙트럼을 도 5에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(실시예 3)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 266.07g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 1mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 1시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.30㎛인 육각판상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 6에 나타냈다. 더 고배율로의 전자현미경 사진을 도 7에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(실시예 4)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 133.02g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 0.5mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.11㎛인 육각판상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 8에 나타냈다. 더 고배율로의 전자현미경 사진을 도 9에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 또한 판상면; (002)면의 결정자경(結晶子徑)은 0.07㎛이다.

(실시예 5)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 133.02g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 0.5mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.11㎛인 육각판상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 10에 나타냈다. 더 고배율로의 전자현미경 사진을 도 11에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 X선 회절의 스펙트럼을 도 12에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 또한 판상면; (002)면의 결정자경은 0.07㎛이다.

(비교예 1)

미세 산화아연(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.11㎛)에 대하여 실시예와 같은 평가를 행했다. 전자현미경 사진을 도 13에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 2)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 물 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 60분간으로 100℃로 승온하고, 교반하면서 100℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉각 급랭한 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.02㎛인 부정형의 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 14에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 3)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 133.02g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 0.5mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 24분간으로 40℃로 승온하고, 교반하면서 40℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉시 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 24분간으로 40℃로 승온하고, 교반하면서 40℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 부정형의 불순물이 섞인 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 15에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 X선 회절의 스펙트럼을 도 16에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 4)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛) 10g을, 알루미나제 도가니(세로·가로·높이=100㎜·100㎜·35㎜)에 넣고, 전기 머플 로(도요세이사쿠쇼사제)로 675℃에서 2시간 정치 소성함에 의해, 일차 입자경이 0.30㎛인 부정형의 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 17에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 5)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 일차 입자경 0.02㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 66.51g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 0.25mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 3시간 숙성했다. 숙성 후, 즉시 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.04㎛인 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 18에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 6)

SF-15(사카이가가쿠고교사제 미립자 산화아연 입자경 0.08㎛) 80g을, 아세트산아연이수화물(호소이가가쿠고교사제 아세트산아연) 106.42g을 물에 용해해서 아세트산아연이수화물로서의 농도가 0.4mol/ℓ로 되도록 조제한 아세트산아연 수용액 1200㎖에 리펄핑하여 슬러리로 했다. 계속해서, 그 슬러리를 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 5시간 숙성했다. 숙성 후, 즉시 여과, 수세했다. 계속해서, 얻어진 고형물을 물 3리터에 리펄핑해서 슬러리로 하고, 교반하면서 42분간으로 70℃로 승온하고, 교반하면서 70℃에서 30분간 가열 세정했다. 가열 세정 후, 여과, 수세하고, 110℃에서 12시간 건조함에 의해, 일차 입자경이 0.12㎛인 육각주상 산화아연 입자를 얻었다. 얻어진 입자의 사이즈·형태를 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제)으로 관찰했다. 얻어진 전자현미경 사진을 도 19에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 7)

FINEX-50(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.02㎛)에 대하여 실시예와 같은 평가를 행했다. 전자현미경 사진을 도 20에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

(비교예 8)

FINEX-30(사카이가가쿠고교사제 입자경 0.04㎛)에 대하여 실시예와 같은 평가를 행했다. 전자현미경 사진을 도 21에 나타냈다. 또한, 얻어진 입자의 물성, 및 도막의 물성의 평가 결과를 표 1에 나타냈다.

[표 1]

(얻어진 입자의 조성)

도 5, 도 12, 도 16에 나타내는 X선 회절의 스펙트럼, 및 표 1에 있어서의 얻어진 입자의 조성은, 구리 관구(管球)를 갖는 X선 회절 장치 Ultima Ⅲ(리가쿠사제)에 의해 분석한 결과를 나타낸 것이다. 이들 결과로부터, 실시예의 것에 대해서는 산화아연이 얻어져 있음이 명백하다. 비교예 3의 산화아연 입자는 불순물이 섞인 상태임이 명백하다.

(어스펙트비)

실시예의 육각판상 산화아연 입자의 어스펙트비는, 상술한 측정 방법에 의해 측정을 행했다.

비교예에 있어서의 입자 형상이 부정형인 산화아연 입자의 어스펙트비에 대해서는, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제) 사진의 2000∼50000배의 시야에 있어서, 부정형의 산화아연 입자의 장경(長徑)과, 장경의 중심을 통과하는 단경(長徑)을 계측하고, 장경과 단경의 길이의 비; 장경/단경을 구한다. 그렇게 해서 TEM 사진 내의 부정형의 산화아연 입자 250개에 대하여 장경/단경을 계측하고, 그 누적 분포의 평균값을 어스펙트비로서 구한 것이다. 부정형의 산화아연 입자의 어스펙트비의 계측 방법에 대하여 도 26에 나타냈다.

또한, 비교예에 있어서의 입자 형상이 육각주상인 산화아연 입자의 어스펙트비는, 이하의 방법에 의해 구해진다. 육각주상 산화아연 입자의 어스펙트비에 대해서는, 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제) 사진의 2000∼50000배의 시야에 있어서, 육각주상 산화아연 입자의 측면이 정면을 향하고 있는 입자(장방형이나 정방형의 형상으로서 관찰되는 입자)에 대하여, 장경과 단경을 계측하고, 장경과 단경의 길이의 비; 장경/단경을 구한다. 그렇게 해서 TEM 사진 내의 육각주상 산화아연 입자 250개에 대하여 장경/단경을 계측하고, 그 누적 분포의 평균값을 어스펙트비로서 구한 것이다. 또, 육각형상면이 정면을 향하고 있는 육각판상 산화아연 입자에 대해서는, 그 두께를 확인하는 것이 곤란하기 때문에, 계측의 대상으로부터 제외했다. 육각주상 산화아연 입자의 어스펙트비의 계측 방법에 대하여 도 25에 나타냈다.

(결정자경)

본 명세서에 있어서의 결정자경(㎛)은, 구리 관구를 갖는 X선 회절 장치 Ultima Ⅲ(리가쿠사제)에 의해 분석한 결과를 나타낸 것이다. 결정자란, 통상 결정 물질을 구성하는 현미경적 레벨에서의 작은 단결정을 의미한다. 또한, 본 명세서에 있어서, 결정자경(㎛)은, 육방정(六方晶) 우르차이트형 산화아연 입자의 X선 회절 패턴에 있어서의 산화아연의 판상면; (002)면의 회절 피크의 반가폭(半價幅)으로부터 구한 값이다.

(결정자경/일차 입자경)

본 명세서에 있어서의 결정자경/일차 입자경으로 표시되는 값은, 분말을 구성하는 일차 입자의 독립성의 높이의 지표로 되는 값이다. 일차 입자경은 이미 기술한 바와 같이 투과형 전자현미경(TEM, JEM-1200EX Ⅱ, 니혼덴시사제) 사진의 2000∼50000배의 시야에서의 정방향경(입자를 사이에 두는 일정 방향의 2개의 평행선의 간격; 화상 위의 어떠한 형상의 입자에 대해서도, 일정 방향에서 측정했음)으로 정의되는 입자경(㎛)으로서, TEM 사진 내의 일차 입자 250개의 정방향경을 계측하고, 그 누적 분포의 평균값을 구한 기하학적 입자경이다. 한편, 결정자경은 이미 기술한 바와 같이 X선 회절 패턴에 있어서의 산화아연의 판상면; (002)면의 회절 피크의 반가폭으로부터 구한 값을 나타낸 것이다. 따라서, 이 결정자경/일차 입자경의 값이 1에 가까울수록, 기하학적 입자경과 단결정의 크기가 가까워지고 있는, 즉 일차 입자가 응집 입자가 아니라 단결정 입자로서 독립하여 존재하고 있는 것을 의미한다. 실시예 4, 5에 의해 얻어진 육각판상 산화아연 입자의 결정자경/일차 입자경의 값은 모두 0.64이며, 응집 입자가 아닌 단결정에 가까운 일차 입자이다.

(분체 감촉)

본 명세서에 있어서의 분체 감촉은, 소량의 분체를 피부 위에 놓고, 손가락으로 분체를 펴발랐을 때에 느껴지는 감촉에 있어서, 분체의 미끄럼성과 꺼끌거림감을 나타내는 지표이다. 본 명세서에 있어서는, 미끄럼이 대단히 좋고 꺼끌거림을 느끼지 않는 것을 5점, 미끄럼이 좋고 꺼끌거림감을 거의 느끼지 못하는 것을 4점, 미끄럼성과 꺼끌거림감이 모두 평균적인 것을 3점, 미끄럼이 나쁘고 꺼끌거림감을 느끼는 것을 2점, 미끄럼이 대단히 나쁘고 꺼끌거림감을 느끼는 것을 1점으로 해서 5단계의 점수 평가를 행하고, 그 결과를 표 1에 나타냈다. 점수가 높을수록 분체 감촉이 양호한 것을 의미하며, 분체 감촉이 양호할수록, 파운데이션 그 외의 메이크업 화장료 용도에 호적하게 사용할 수 있다.

(도막의 작성)

상기 실시예, 비교예에서 얻어지는 산화아연 입자 2g, 바니시 10g(아크리딕 A-801-P DIC사제), 아세트산부틸 5g(시약 특급 와코쥰야쿠고교사제), 자일렌 5g(순정 특급 쥰세이가가쿠사제), 유리 비드 38g(1.5㎜ 포터스 발로티니사제)을 용적 75㎖의 마요네즈 병에 넣고, 잘 뒤섞은 후, 페인트 컨디셔너 5410형(RED DEVIL사제)에 고정하고, 90분간 진동을 부여해서 분산 처리함에 의해 도료를 작성했다. 다음으로, 작성한 도료를 슬라이드 유리(세로·가로·두께=76㎜·26㎜·0.8∼1.0㎜ 마쯔나미쇼시고교사제) 위에 소량 적하하여, 바 코터(No.579 ROD No.6 야스다세이키세이사쿠쇼사제)로 도막을 작성했다. 작성한 도막을 20℃에서 12시간 건조한 후, 전 광선 투과율 1, 전 광선 투과율 2, 전 광선 투과율 3, 평행 광선 투과율 1, 평행 광선 투과율 2, 헤이즈의 측정에 사용했다.

(전 광선 투과율 1, 전 광선 투과율 2, 전 광선 투과율 3, 평행 광선 투과율 1, 평행 광선 투과율 2)

본 명세서에 있어서, 전 광선 투과율 1(%), 전 광선 투과율 2(%), 전 광선 투과율 3(%) 및 평행 광선 투과율 1(%), 평행 광선 투과율 2(%)는, 작성한 도막을 분광 광도계 V-570(니혼분코사제)으로 측정한 값이다. 또, 전 광선 투과율 1(%)의 값은 파장 310㎚에 있어서의 전 광선 투과율의 값, 전 광선 투과율 2(%)의 값은 파장 350㎚에 있어서의 전 광선 투과율의 값, 전 광선 투과율 3(%)의 값은 파장 375㎚에 있어서의 전 광선 투과율의 값, 평행 광선 투과율 1(%)의 값은 파장 500㎚에 있어서의 평행 광선 투과율의 값, 평행 광선 투과율 2(%)의 값은 파장 700㎚에 있어서의 평행 광선 투과율의 값이다. 전 광선 투과율 1(%)의 값이 작을수록, UVB의 파장의 자외선에 대한 자외선 차폐 효과가 높은 것을 의미하고, 전 광선 투과율 2(%)과 전 광선 투과율 3(%)의 값이 작을수록, UVA의 파장의 자외선에 대한 자외선 차폐 효과가 높은 것을 의미한다. 특히, 전 광선 투과율 3(%)의 값이 작을 경우, UVA의 파장의 자외선에 대한 차폐 영역이 보다 광역에 걸쳐 있는 것을 의미한다. 또한, 평행 광선 투과율 1(%), 평행 광선 투과율 2(%)의 값이 클수록 가시광 투명성이 높은 것을 의미한다.

(전 광선 투과율 4, 헤이즈)

표 1의 전 광선 투과율 4(%), 헤이즈(%)는, 작성한 도막을 헤이즈미터 HM-150(무라카미시키사이기쥬쯔겐큐쇼사제)으로 측정한 값이다. 전 광선 투과율 4(%)의 값이 같은 정도의 것을 비교했을 경우, 헤이즈(%)의 값이 높은 것일수록, 하지를 흐리게 하는 효과(소위 소프트 포커스 효과)가 높은 것을 의미한다.

상기 표 1로부터, 본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 일차 입자경이 0.5㎛ 이상인 경우에는, 미끄럼이 좋고 꺼끌거림감이 없는 양호한 분체 감촉을 나타냄이 명백하다. 또한, 일차 입자경이 0.3㎛ 이상인 경우에는, 헤이즈가 높아 우수한 소프트 포커스 효과를 가짐이 명백하다. 특히, 실시예 1, 2의 입자는 양호한 분체 감촉과 소프트 포커스 효과를 겸비한 산화아연 입자임이 명백하다. 또한, 일차 입자경이 0.3㎛ 이하인 경우에는, 전 광선 투과율 1과 전 광선 투과율 2가 낮아, 우수한 자외선 차폐성을 가짐이 명백하다. 특히, 실시예 3의 입자에 대해서는 우수한 소프트 포커스 효과와 자외선 차폐성을 겸비한 산화아연 입자임과 동시에, 같은 정도의 일차 입자경을 갖는 비교예 4의 부정형의 산화아연 입자보다도 우수한 분체 감촉을 가짐이 명백하다. 또한, 일차 입자경이 0.1㎛정도인 경우, 평행 광선 투과율 1과 평행 광선 투과율 2가 높아, 우수한 가시광 투명성을 가짐이 명백하다. 특히, 실시예 4, 5의 입자에 대해서는 우수한 자외선 차폐성과 가시광 투명성을 겸비한 산화아연 입자임과 동시에, 같은 정도의 일차 입자경을 갖는 비교예 1의 부정형의 산화아연 입자보다도 우수한 분체 감촉을 가짐이 명백하다. 또한 실시예 4, 5의 입자는 전 광선 투과율 3이 낮아, 375㎚의 UVA의 파장 영역에 있어서도 우수한 자외선 차폐성을 가짐이 명백하다. 한편, 일차 입자경이 0.02㎛인 비교예 7의 산화아연 입자, 및 0.04㎛인 비교예 8의 산화아연 입자에서는, 375㎚의 UVA의 파장 영역에 있어서 충분한 자외선 차폐성을 얻을 수 없었다. 또한, 본 발명의 제조 범위로부터 벗어난 비교예 2, 3, 5, 6의 조건에서는, 본 발명의 육각판상 산화아연 입자를 얻을 수는 없었다.

본 발명의 육각판상 산화아연 입자는, 화장료, 방열성 필러, 방열성 수지 조성물, 방열성 그리스 및 방열성 도료 조성물의 성분으로서 사용할 수 있다.

Claims

일차 입자경이 0.01㎛ 이상, 어스펙트비가 2.5 이상이고,
투과형 전자현미경 사진에 있어서의 250개의 입자 중, 이하의 (1)(2)를 전부 만족시키는 입자가 50% 이상으로 되는 육각형상면을 갖는 것을 특징으로 하는 육각판상 산화아연 입자.
(1) 육각형상의 면을 가지는 것
(2) Dmin/Dmax≥0.3
Dmax : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최대로 되는 대각선의 길이를 의미함
Dmin : 육각판상 산화아연 입자의 육각형상면의 3개의 대각선 중, 최소로 되는 대각선의 길이를 의미함
제1항에 있어서,
미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성함에 의해 얻어진 것인 육각판상 산화아연 입자.
미립자 산화아연을 아연염 수용액 중에서 숙성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자의 제조 방법.
제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방열성 필러.
제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 수지 조성물.
제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 그리스.
제1항 또는 제2항에 기재된 육각판상 산화아연 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 방열성 도료 조성물.