KR20140013117A - 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물 - Google Patents

비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20140013117A
KR20140013117A KR1020147001567A KR20147001567A KR20140013117A KR 20140013117 A KR20140013117 A KR 20140013117A KR 1020147001567 A KR1020147001567 A KR 1020147001567A KR 20147001567 A KR20147001567 A KR 20147001567A KR 20140013117 A KR20140013117 A KR 20140013117A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
composition
tungsten oxide
oxide particles
meth
binder
Prior art date
Application number
KR1020147001567A
Other languages
English (en)
Inventor
윌리엄 아도치오
그레고리 티 가우데트
다니엘 이 라돈
마크 에이 스틸
Original Assignee
피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 filed Critical 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드
Publication of KR20140013117A publication Critical patent/KR20140013117A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00—Compounds of tungsten
    • C01G41/02—Oxides; Hydroxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/16—Solid spheres
    • C08K7/18—Solid spheres inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C08L67/03—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds the dicarboxylic acids and dihydroxy compounds having the carboxyl- and the hydroxy groups directly linked to aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/30—Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32—Spheres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer

Abstract

본 발명은, 결합제 및 상기 결합제 중 분산된 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자를 포함하는 조성물에 관한 것이다. 텅스텐 옥사이드 입자의 평균 일차 입자 크기는 300nm 이하이다. 조성물은 무색 투명하다.

Description

비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물{TRANSPARENT, COLORLESS INFRARED RADIATION ABSORBING COMPOSITIONS COMPRISING NON-STOICHIOMETRIC TUNGSTEN OXIDE NANOPARTICLES}
본 발명은, 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자를 포함하는 나노입자를 포함하는, 적외선을 흡수하는 무색 투명한 조성물에 관한 것이다.
본 발명은, 본원에서 전체를 참고로 인용하는, 2010년 1월 15일자로 출원된 미국 가출원 제 61/295,394 호 및 2009년 1월 20일자로 출원된 미국 가출원 제 61/145,798 호를 우선권으로 주장한다.
적외선(IR)을 흡수하는 개선된 능력을 갖는 조성물은, 다수의 적용례, 예를 들어 무엇보다도 건축 및 자동차 유리용 태양광 제어 필름, 중합체내 재가열(reheat) 첨가제, 및 중합체 코팅 조성물의 건조 및/또는 경화 속도를 증가시키는 첨가제에서 바람직하다. 그 결과, IR 흡수재, 예를 들어 인듐 주석 옥사이드, 안티몬 주석 옥사이드, 티탄 니트라이드, 및 란탄 헥사보라이드 입자가 종종 이러한 조성물에 포함된다. 그러나, 다수의 적용례의 경우, 이러한 입자는, 종종 산업적으로 중요한, 약 800 내지 1400nm의 파장 범위의 IR 흡수 수준이 충분히 높지 않다. 그 결과, 적절한 성능을 달성하기 위해서, IR 흡수 입자가, 무색 조성물이 요구되는 적용례에서 조성물에 바람직하지 않은 색상을 부여하는 수준의 양으로, 상기 조성물에 내포되어야만 한다. 게다가, 이러한 첨가제는 종종 비교적 값비싸기 때문에, 요구되는 양으로 이러한 첨가제를 사용하는 경우의 비용 초과(cost impact)는 감당하지 못할 정도일 수 있다.
결합제 중 분산된 적외선 흡수 입자를 포함하는, 광학적으로 투명한 IR 흡수 조성물로서, 상기 조성물이 무색 투명하고, 약 800 내지 1400nm의 파장 범위에서 우수한 IR 흡수능을 나타내는 IR 흡수 조성물을 제공하는 것이 바람직하다.
특정 실시양태에서, 본 발명은 무색 투명한 조성물에 관한 것이다. 일부 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 (a) 결합제; 및 (b) 조성물의 총 중량을 기준으로 500ppm(parts per million) 이하의, 결합제 중 분산된 300nm 이하의 평균 일차 입자 크기(average primary particle size)를 갖는 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자를 포함한다.
다른 실시양태에서, 본 발명의 조성물은, (a) 결합제, 및 (b) 결합제 중 분산된 300nm 이하의 평균 일차 입자 크기를 갖는, 일반적으로 구형인 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자를 포함한다. 이러한 본 발명의 조성물은, 무색 투명하고 1.0 x 1010 Ω/□ 초과의 표면 저항을 갖는 필름을 형성한다.
본 발명은, 또한 다른 무엇보다도, 관련된 사출 연신-중공 성형 제품 및 코팅된 제품 및 방법에 관한 것이다.
하기 목적하는 설명을 위해서, 명시적으로 반대로 언급하지 않는 한, 본 발명은 다양한 대안의 변형 및 단계 순서를 취할 수 있음을 이해할 것이다. 게다가, 임의의 작동례 이외에, 또는 다르게 언급되는 경우, 예를 들어 본원 명세서 및 청구의 범위에서 사용된 성분들의 양을 표현하는 모든 수치는 모든 경우에 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야만 한다. 따라서, 반대로 언급되지 않는 한, 하기 명세서 및 첨부된 청구의 범위에서 설명되는 수치 파라미터는, 본 발명에 따라 수득되는 바람직한 특성에 따라 변할 수 있는 추정치이다. 청구의 범위에 대한 균등론(doctrine of equivalent)의 적용을 제한하고자 하는 것이 아니거나, 극소 수준인 경우에, 적어도, 각각의 수치 파라미터는, 적어도 보고된 유효숫자의 개수를 감안하고 일반적인 어림기법을 적용함으로써 추정되어야만 한다.
넓은 범주의 발명을 설명하는 수치 범위 및 파라미터는 어림치임에도 불구하고, 구체적인 실시예에서 설명되는 수치값은 가능한 정확하게 보고되어 있다. 그러나, 어떠한 수치값도 이들의 개별적인 시험 측정에서 발견되는 표준 편차로부터 유발되는 특정 오차를 필수적으로 함유한다.
또한, 본원에서 언급된 임의의 수치 범위는 본원에서 언급된 모든 하부-범위를 포함하는 것으로 이해되어야만 한다. 예를 들어 "1 내지 10"의 범위는 1인 언급된 최소값과 10인 언급된 최대값 사이의 임의의 모든 하부범위를 포함하는 것으로 이해되어야만 하고, 즉, 1인 최소값과 그 이상에서 시작하고 10인 최대값과 그 이하로 끝나는 모든 하부 범위를 포함하고자 한다.
본원에서, 단수형의 사용은, 구체적으로 다르게 언급되지 않는 한, 복수형을 포함하고, 복수형은 단수형을 포함한다. 추가로, 본원에서, 비록 특정 경우에 "및/또는"이 명시적으로 사용될 수 있지만, 구체적으로 다르게 언급되지 않는 한, "또는"의 사용은 "및/또는"을 의미한다.
본 발명의 특정 실시양태는 무색 투명한 조성물에 관한 것이다. 본원에서 사용되는 경우, 가시광선 영역(400 내지 800nm)에서의 광투과도가 입사광의 적어도 80%, 예를 들어 적어도 85%, 또는 일부 경우에, 적어도 90%이고, 바람직하게는 나안으로 관찰시 헤이즈가 없는 경우에, "투명"하다. 본원에서 사용되는 경우, 나안이 조성물을 착색된 색조라기 보다는 "진정한 백색(true white)"으로 인식하는 경우, 조성물은 "무색"이다. 예를 들어, 관찰된 조성물에는 어떠한 진정한 황색, 분홍색 또는 청색 색조도 없다. 투과 모드에서, 조성물이, 전자기 스펙트럼(400 내지 800nm) 중 가시광선 영역내 하나 이상의 25 내지 50nm 범위에서의 조성물의 흡광도가, 전자기 스펙트럼 중 가시광선 영역내 다른 25 내지 50nm 범위에서의 흡광도보다 강하지 않아야만 한다. 나안으로 관찰하지 못하는 한, 작은 %의 차이는 허용가능하다. 즉, 일반적으로 전자기 스펙트럼 중 가시광선 영역의 50nm 영역에서, 0.2 미만, 예를 들어 0.1 미만, 또는 일부 경우에, 0.05 미만의 광학 밀도를 갖는 것이 예시된다. 이러한 종류의 측정치는 반사 또는 투과 모드에서 농도계(densitometer)에 의해 용이하게 측정될 수 있다.
언급한 바와 같이, 본 발명의 조성물은 결합제를 포함한다. 본원에서 사용되는 경우, "결합제"란 본원에서 기술한 텅스텐 옥사이드 입자가 분산되어 있는 연속적인 물질을 지칭한다. 특정 실시양태에서, 상기 결합제는 수지상 결합제, 예를 들어 일례로 열가소성 조성물, 열경화성 조성물, 방사선 경화성 조성물, 뿐만 아니라 금속 알콕사이드-포함 조성물을 포함하는 것이다. 본 발명의 조성물은 수계 또는 용매계 액체 조성물이거나 다르게는 고체 입자형 형태, 즉 분말 조성물일 수 있다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물에 포함된 수지상 결합제는 열경화성 수지를 포함한다. 본원에서 사용되는 경우, "열경화성"이란, 중합체 성분들의 중합체 쇄가 공유 결합에 의해 서로 결합되는, 경화(curing) 또는 가교결합 이후에 비가역적으로 "고정(set)"되는 수지를 지칭한다. 이러한 특성은, 예를 들어 열 또는 방사선에 의해 종종 유도되는 조성물 성분들의 가교결합 반응과 일반적으로 관련된다(문헌[Hawley, Gessner G., The Condensed Chemical Dictionary, Ninth Edition., page 856; Surface Coatings, vol. 2, Oil and Colour Chemists' Association, Australia, TAFE Educational Books (1974)] 참조). 경화 또는 가교결합 반응은 또한 주변 조건하에서 수행될 수 있다. 경화되거나 가교결합되면, 열경화성 수지는 열이 적용되어도 용융되지 않으며 용매에도 불용성이 될 것이다.
본 발명의, 예를 들어 코팅 조성물과 같은, 조성물에 사용하기에 적합한 열경화성 수지는, 예를 들어 적어도 하나의 유형의 반응성 기를 갖는 중합체와, 상기 중합체의 반응성 기와 반응성인 반응성 기를 갖는 경화제 간의 반응으로부터 형성된 것을 포함한다. 본원에서 사용되는 "중합체"란 올리고머를 포함하는 것을 이미하며, 다르게 한정하는 것은 아니지만, 단독중합체 및 공중합체를 둘다 포함한다. 상기 중합체는, 예를 들어 아크릴계, 포화 또는 불포화 폴리에스터, 폴리우레탄, 또는 폴리에터, 폴리비닐, 셀룰로즈계, 아크릴레이트, 규소계 중합체, 이들의 공중합체, 및 이들의 혼합물일 수 있고, 다른 무엇보다도 에폭시, 카복실산, 하이드록실, 아이소시아네이트, 아마이드, 카바메이트 및 카복실레이트 기를 함유하고, 이들의 혼합물도 포함할 수 있다.
적합한 아크릴계 중합체로는, 예를 들어 본원에서 그 전체를 인용하고 있는 미국특허 출원공개 제 2003/0158316 A1 호의 [0030] 내지 [0039]에서 기술된 것을 포함한다. 적합한 폴리에스터 중합체는, 예를 들어 본원에서 그 전체를 인용하고 있는 미국특허 출원공개 제 2003/0158316 A1 호의 [0040] 내지 [0046]에서 기술된 것을 포함한다. 적합한 폴리우레탄 중합체는, 예를 들어 본원에서 그 전체를 인용하고 있는 미국특허 출원공개 제 2003/0158316 A1 호의 [0047] 내지 [0052]에서 기술된 것을 포함한다. 적합한 규소계 중합체는 본원에서 그 전체를 인용하고 있는 미국특허 제 6,623,791 호의 제9컬럼, 제5항 내지 제10행에 정의되어 있다.
다른 실시양태에서, 본 발명의 코팅 조성물에 포함된 필름-형성 수지는 열가소성 수지를 포함한다. 본원에서 사용된 "열가소성"이란, 공유 결합에 의해 결합되지 않은 중합체 성분들을 포함하여, 가열시 액체 유동하고 용매에 가용성인 수지를 지칭한다. 문헌[Saunders, K. J., Organic Polymer Chemistry, pp. 41-42, Chapman and Hall, London (1973)] 참조.
적합한 열가소성 수지는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 코팅 조성물로서 유용한 것 및 용기 프리폼(preform)과 같은 제품을 사출 성형하기에 적합한 것을 포함한다. 이러한 수지의 예로는, 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리올레핀, 폴리스티렌, 비닐 중합체, 아크릴릭 중합체 및 공중합체 및 이들의 블렌드를 포함하지만, 이로서 한정하는 것은 아니다. 특정 실시양태에서, 열가소성 수지는 용기를 제조하기 위해서 적합하게 사용될 수 있는 폴리에스터, 폴리프로필렌 및/또는 배향된 폴리프로필렌을 포함한다. 특정 실시양태에서, 결합제는, 액체 용기, 예를 들어 음료병을 제조하기 위해서 사용되는 열가소성 폴리에스터, 예를 들어 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 또는 이들의 공중합체를 포함한다. 이러한 실시양태에서, 본 발명의 조성물은, 프리폼이 가열되거나 연신-중공 성형 장치에 도입되기 전에, 용기 프리폼과 같은 프리폼을 제조하는데 사용될 수 있다. 적합한 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지는, 예를 들어, 본원에서 전체를 참고로 인용하는 미국특허 출원공개 제 2007/0203279 호의 [0063]에 개시된 것을 포함한다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트 및 다른 폴리에스터 성형 조성물의 사출 성형은, 사출 성형 기기를 사용하여 종종 수행되며, 여기서 최대 배럴 온도는 260℃ 내지 285℃ 이상, 예를 들어 약 310℃까지의 범위이다. 이러한 최대 온도의 체류 시간은 종종 15초 내지 5분 이상, 예를 들어 30초 내지 2분이다.
특정 실시양태에서, 결합제는 방사선 경화성 조성물을 포함한다. 본원에서 사용되는 "방사선 경화성 조성물"은 방사선 경화성 중합체 및/또는 단량체를 포함하는 조성물을 지칭한다. 본원에서 사용된 "방사선 경화성 중합체 및/또는 단량체"는 에너지 공급원, 예를 들어 전자빔(electron beam: EB), 자외선, 또는 가시광선에의 노출에 의해 중합가능한 반응성 성분을 갖는 단량체 및/또는 중합체를 지칭한다.
특정 실시양태에서, 방사선 경화성 조성물은 다중-작용성 (메트)아크릴레이트를 포함한다. 본원에서 사용되는 "다중-작용성 (메트)아크릴레이트"란 1개 초과의 아크릴레이트 작용기를 갖는 단량체 및/또는 올리고머를 지칭한다. 방사선에 노출시, 본 발명의 특정 조성물에서는, 다중-작용성 (메트)아크릴레이트의 라디칼 유도된 중합이 발생한다. 본원에서 사용된 "(메트)아크릴레이트" 및 이로부터 유도된 용어는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 둘다를 포함하고자 한다.
적합한 방사선 경화성 올리고머 및 중합체는 (메트)아크릴화된 우레탄(즉, 우레탄 (메트)아크릴레이트), (메트)아크릴화된 에폭사이드(즉, 에폭시 (메트)아크릴레이트), (메트)아크릴화된 폴리에스터(즉, 폴리에스터 (메트)아크릴레이트), (메트)아크릴화된 멜라민(즉, 멜라민 (메트)아크릴레이트), (메트)아크릴화된 (메트)아크릴릭, (메트)아크릴화된 실리콘, (메트)아크릴화된 폴리에터(즉, 폴리에터 (메트)아크릴레이트), 비닐 (메트)아크릴레이트, 및 (메트)아크릴화된 오일을 포함한다.
적합한 (메트)아크릴화된 지방족 우레탄은, 하이드록시 말단 아이소시아네이트 연장된 지방족 폴리에스터 또는 지방족 폴리에터의 다이(메트)아크릴레이트 에스터를 포함한다. (메트)아크릴화된 폴리에스터는 지방족 이염기산/지방족 다이올계 폴리에스터와 (메트)아크릴산의 반응 생성물을 포함한다.
시판중인 (메트)아크릴화된 우레탄 및 폴리에스터의 예는, 상품명 포토머(Photomer)로 헨켈 코포레이션(Henkel Corp., 미국 뉴저지주 호보켄 소재)에서 시판중인 것; 상품명 에베크릴(Ebecryl) 시리즈 284, 810, 4830, 8402, 1290, 1657, 1810, 30 2001, 2047, 230, 244, 264, 265, 270, 4833, 4835, 4842, 4866, 4883, 657, 770, 80, 81, 811, 812, 83, 830, 8301, 835, 870, 8800, 8803, 8804로 유씨비 래드큐어 인코포레이티드(UCB Radcure Inc., 미국 조지아주 스미르나 소재)에서 시판중인 것; 상품명 사토머(Sartomer) CN 시리즈 CN964 B-85, CN292, CN704, CN816, CN817, CN818, CN929, CN944B-85, CN945A-60, CN945B-85, CN953, CN961, CN962, CN963, CN 965, CN966, CN968, CN980, CN981, CN982, CN983, CN984, CN985로 사토머 캄파니(Sartomer Co., 미국 팬실바니아주 엑스톤 소재)에서 시판중인 것; 상품명 액틸란(Actilane)으로 액크로스 케미칼스(Akcross Chemicals, 미국 뉴저지주 뉴 브룬스위크 소재)에서 시판중인 것; 및 상품명 유비탄(Uvithane)으로 모르톤 인터내셔날(Morton International, 미국 일리노이주 시카고 소재)에서 시판중인 것을 들 수 있다.
적합한 아크릴화된 아크릴릭으로는, 예를 들어 후속적인 반응을 위한 유리 라디칼을 형성할 수 있는 반응성 펜단트 또는 말단 (메트)아크릴산 기를 갖는 아크릴릭 올리고머 또는 중합체를 포함한다. 시판중인 (메트)아크릴화된 아크릴릭의 예는, 상품명 에베크릴 시리즈 745, 754, 767, 1701, 및 1755로 유씨비 래드큐어 인코포레이티드에서 시판중인 것을 포함한다.
또다른 적합한 방사선 경화성 올리고머는, 2개 이상의 아이소시아네이트기를 포함하는 지방족 폴리아이소시아네이트와, 하나 이상의 방사선 경화성 잔기, 하나 이상의 하이드록실 잔기, 및 하나 이상의 폴리카프로락톤 에스터 잔기를 포함하는 방사선 경화성 알콜의 반응 생성물인 폴리에스터 폴리우레탄 올리고머이다. 폴리아이소시아네이트는, 하나 이상의 아이소포론 다이아이소시아네이트 및/또는 아이소시아네이트 작용성 아이소시아네이트와 함께 사용되는, 종종 2,2,4-트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소시아네이트; 2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소시아네이트, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
다중-작용성 (메트)아크릴레이트 단량체도 본 발명의 조성물에서 사용하기에 적합하고 이작용성, 삼작용성, 사작용성, 오작용성, 육작용성 (메트)아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 포함하되, 이로서 한정하는 것은 아니다.
적합한 이작용성 및 삼작용성 (메트)아크릴레이트 단량체의 대표적인 예로는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 에틸렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄다이올 다이아크릴레이트, 2,3-다이메틸프로판 1,3-다이아크릴레이트, 1,6-헥산다이올 다이(메트)아크릴레이트, 다이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트, 에톡실화된 헥산다이올 다이(메트)아크릴레이트, 프로폭실화된 헥산다이올 다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 알콕실화된 네오펜틸 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 헥실렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 트라이프로필렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트, 티오다이에틸렌 글리콜 다이아크릴레이트, 트라이메틸렌 글리콜 다이메트아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로판 트라이(메트)아크릴레이트, 글리세롤프로폭시 트라이(메트)아크릴레이트, 에톡실화된 트라이메틸올프로판 트라이(메트)아크릴레이트, 및 테트라에틸렌 글리콜 다이(메트)아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.
적합한 사작용성 (메트)아크릴레이트 단량체의 대표적인 예로는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 다이-트라이메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 에톡실화된 4-펜타에리쓰리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 에톡실레이트 테트라아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 프로폭실레이트 테트라아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 포함한다.
적합한 오작용성 및 육작용성 (메트)아크릴레이트 단량체의 대표적인 예로는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 다이펜타에리쓰리톨 펜타아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 에톡실레이트 펜타아크릴레이트, 및 다이펜타에리쓰리톨 프로폭실레이트 펜타아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 및 전술한 것 중 임의의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 특정 실시양태에서, 결합제는 금속 알콕사이드를 포함한다. 특정 실시양태에서, 결합제는 화학식 RxM(OR')z-x(여기서, R은 유기 라이칼이고, M은 규소, 알루미늄, 티탄, 및/또는 지르코늄이고, 각각의 R'은 독립적으로 알킬 라디칼이고, z는 M가이고, x는 z보다 작은 수 및 0일 수 있다)의 알콕사이드를 포함한다. 적합한 유기 라디칼의 예로는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 알킬, 비닐, 메톡시알킬, 페닐, γ-글리시독시 프로필, 및 γ-메타크릴옥시프로필이다. 알콕사이드는 추가로 당업계에 공지된 다른 화합물 및/또는 중합체와 혼합 및/또는 반응될 수 있다. 예를 들어 전술한 화학식의 화합물에 속하는 오가노알콕시실란을 적어도 부분적으로 가수분해함으로써 형성된 실록산을 포함하는 조성물이 특히 적합하다. 적합한 알콕사이드-함유 화합물 및 그의 제조방법의 예가 본원에서 참고로 인용하는 미국특허 제 6,355,189 호; 제 6,264,859 호; 제 6,469,119 호; 제 6,180,248 호; 제 5,916,686 호; 제 5,401,579 호; 제 4,799,963 호; 제 5,344,712 호; 제 4,731,264 호; 제 4,753,827 호; 제 4,754,012 호; 제 4,814,017 호; 제 5,115,023 호; 제 5,035,745 호; 제 5,231,156 호; 제 5,199,979 호; 및 제 6,106,605 호에 개시되어 있다.
특정 실시양태에서, 알콕사이드는 글리시독시[(C1 -C3)알킬]트라이(C1 -C4)알콕시실란 단량체 및 테트라(C1-C6)알콕시실란 단량체의 조합물을 포함한다. 본 발명의 코팅 조성물에서 사용하기에 적합한 글리시독시[(C1 -C3)알킬]트라이(C1 -C4)알콕시실란 단량체는 글리시독시메틸트라이에톡시실란, α-글리시독시에틸트라이메톡시실란, α-글리시독시에틸-트라이에톡시실란, β-글리시독시에틸트라이메톡시실란, β-글리시독시에틸트라이에톡시실란, α-글리시독시-프로필트라이메톡시실란, α-글리시독시프로필트라이에톡시실란, β-글리시독시프로필트라이메톡시실란, β-글리시독시프로필트라이에톡시실란, γ-글리시독시프로필트라이메톡시실란, 이들의 가수분해물, 또는 이러한 실란 단량체의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 코팅 조성물에서 글리시독시[(C1 -C3)알킬]트라이(C1 -C4)알콕시실란과 함께 사용될 수 있는 적합한 테트라(C1-C6)알콕시실란은, 예를 들어 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 테트라펜틸옥시실란, 테트라헥실옥시실란 및 이들의 혼합물과 같은 물질을 포함한다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 코팅 조성물에서 사용되는 글리시독시[(C1 -C3)알킬]트라이(C1 -C4)알콕시실란 및 테트라(C1 -C6)알콕시실란 단량체는, 글리시독시 [(C1-C3)알킬]트라이(C1 -C4)알콕시실란 : 테트라(C1-C6)알콕시실란이 0.5:1 내지 100:1, 예를 들어 0.75:1 내지 50:1이고, 일부 경우에는 1:1 내지 5:1인 중량비로 존재한다.
본원에서 기술한 다양한 결합제 물질의 적합한 혼합물은 본 발명의 조성물의 제조에서도 사용될 수도 있다.
특정 실시양태에서, 결합제는, 본 발명의 조성물에, 적어도 10중량%, 예를 들어 적어도 30중량%, 적어도 50중량%, 적어도 90중량%, 또는 일부 경우에, 적어도 95중량%, 적어도 99중량%, 또는, 다른 일부 경우에, 적어도 99.9중량%, 또는 적어도 99.95중량%의 양으로 존재한다. 특정 실시양태에서, 결합제는, 본 발명의 조성물내에 99.99중량% 이하, 예를 들어 99.9중량% 이하, 99중량% 이하 또는 90중량% 이하의 양으로 존재한다. 본 발명의 조성물에 존재하는 결합제의 양은 언급된 값을 포함하는 언급된 값들의 임의의 조합 사이의 범위일 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 조성물은 또한 결합제 중 분산된 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자를 포함한다. 본원에서 사용되는 "비-화학량적인"이란 용어는, 본원에서 참고로 인용하는, 미국특허 제 6,344,271 호(제9컬럼 제13행 내지 제10컬럼 제45행 참조)에서 기술하는 바와 같이 2종 이상의 원소들 간의 화학론적인 결합을 위해 요구되는 것과 상이한 조성을 갖는 준안정성 물질을 지칭한다. 미국특허 제 6,344,271 호에서 언급된 바와 같이, 2종 이상의 원소들간의 화학량적인 결합은 원소들간의 전하 균형이 달성됨을 의미한다. 따라서, 일반적으로, 화학량적인 텅스텐 옥사이드는 WO3인 반면, 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드는 WO(3-z)(여기서, 0<z이고, 예를 들어 0.001≤z≤1이다)이다.
본 발명의 조성물에서, 텅스텐 옥사이드 입자의 평균 일차 입자 크기는 300㎚ 이하이다. 본 발명의 코팅 조성물의 특정 실시양태는, 투과전자 현미경(transmission electron microscopy; TEM) 상의 현미경 사진을 가시적으로 검사하고, 상기 상의 입자 직경을 특정하고, TEM 상의 배율에 기초하여 측정된 입자의 평균 일차 입자 크기를 계산함으로써 측정된 평균 일차 입자 크기가 200㎚ 이하, 150㎚ 이하, 100㎚ 이하, 예를 들어 50㎚ 이하이거나, 특정 실시양태에서는 30㎚ 이하인, 텅스텐 옥사이드 입자를 포함한다. 당업계의 숙련자라면, 이와 같은 TEM 상을 준비하고 배율에 기초하여 일차 입자 크기를 측정하는 방법을 이해할 것이며, 본원에 포함된 실시예는 TEM 상을 준비하기 위한 적합한 방법을 예시하고 있다. 입자의 일차 입자 크기는 입자들을 완전히 둘러쌀 최소 직경 구를 지칭한다. 본원에서 사용되는 일차 입자 크기란, 2개 이상의 개별적인 입자들의 응집체와는 다르게 개별적인 입자 크기를 지칭한다.
본 발명의 특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자의 화학식은 WOx(여기서 2.2 ≤x ≤2.999, 예를 들어 2.65 ≤ x ≤ 2.95이다)이다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자의 화학식은 WO2 .72 또는 WO2 .9이다. 본 발명의 특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자의 화학식은 MxWyOz(여기서, M은 H, He, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 희토류 원소, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, 및 I 중에서 선택된 하나 이상의 원소이고, W은 텅스텐이고; O는 산소이고; 0.001 ≤ x/y ≤1, 예를 들어 0.001 ≤ x/y ≤ 0.1이고, 2.2 ≤ z/y ≤ 2.999, 예를 들어 2.65 ≤ z/y ≤ 2.95이다)이다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자의 화학식은 MxWyOz(여기서, z/y는 2.72 또는 2.9이다)이다. 이러한 텅스텐 옥사이드 입자는 본원에서 참고로 인용하는 미국특허 출원공개 제 2006/0178254 A1 호의 [0071] 내지 [0087]에 기술되어 있다.
특정 실시양태에서, 전술한 텅스텐 옥사이드 입자는, 일반적으로 또는 실질적으로 구형인 형태 또는 형상을 갖는다. 본원에서 사용된 "실질적으로 구형"이란, 평균 종횡비가 4 이하:1, 예를 들어 3 이하:1, 일부 경우에는 2 이하:1, 및 또다른 경우에는, 1.5 이하:1, 1.2 이하:1 또는 1.1 이하:1임을 의미한다.
본 발명의 조성물에 포함된 텅스텐 옥사이드 입자는, 기상 합성 방법을 비롯한 당분야의 당업계의 숙련자들에게 공지된 다양한 방법, 예를 들어, 그 중에서도, 화염 열분해, 고온벽 반응기(hot walled reactor), 화학 증기 합성(chemical vapor synthesis)에 의해 제조될 수 있다. 그러나, 특정 실시양태에서, 이러한 입자는, 하나 이상의 유기금속성 및/또는 금속 옥사이드 전구체를 패스트 켄칭 플라즈마 시스템(fast quench plasma system)에서 함께 반응시킴으로써 제조된다. 특정 실시양태에서, 이러한 입자들은, (a) 재료를 플라즈마 챔버에 도입하고; (b) 플라즈마에 의해 상기 물질들을 신속하게 가열시켜 기상 생성물 스트림을 수득하고; (c) 상기 기상 생성물 스트림을 제한적인 수축-확대 노즐로 통과시켜 신속한 냉각을 가능하게 하고/하거나 대안의 냉각 방법, 예를 들어 냉각된 표면 또는 켄칭 스트림을 사용하고; (d) 기상 생성물 스트림을 응축시켜 초순수 고체 입자를 수득함으로서 이러한 시스템에서 형성될 수 있다. 특히 적합한 패스트 켄칭 플라즈마 시스템 및 이들의 사용 방법은, 본원에서 참고로 인용하는, 미국특허 제 5,749,937 호, 제 5,851,507 호, 제 5,935,293 호, 제 5,788,738 호, 제 5,984,997 호, 제 6,602,595 호 및 제 RE37,853 E 호 및 미국특허 출원공개 제 2006/0099146 호에 개시되어 있다. 텅스텐 옥사이드 입자는 또한 본원에서 참고로 인용하는 미국특허 출원공개 제 2006-0178254 A1 호의 [0088] 내지 [0100]에서 기술한 방법에 의해서도 제조될 수 있다.
다른 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 습식 화학 공정, 예를 들어 졸-겔 공정, 침전 공정, 습식 분쇄 공정, 역-미셀(inverse-micelle) 방법, 및 이러한 공정들의 조합에 의해 제조된다. 문헌[Beck and Siegel, The Dissociative Adsorption of Hydrogen Sulfide over Nanophase Titanium Dioxide, J. Mater. Res., 7, 2840 (1992)] 및 문헌[Steigerwald and Brus, Synthesis, Stabilization, and Electronic Structure of Quantum Semiconductor Nanoclusters, Ann. Rev. Mater. ScL, 19, 471 (1989)] 참조.
비-화학량적인 텅스텐-옥사이드의 환원된 형태도 다양한 방법에 의해 제조될 수 있다. 일부 실시양태에서, 비-화학량적인 텅스텐-옥사이드의 환원된 형태는 환원재의 도입을 통해 전술한 방법에 의해 동일반응계에서 제조될 수 있다. 다른 실시양태에서, 비-화학량적인 텅스텐 입자는 환원 분위기, 예를 들어 유동층 반응기 등에서 후-가공될 수 있다.
본 발명의 조성물에서, 텅스텐 옥사이드 입자는, 조성물의 총 중량을 기준으로, 500ppm(0.05중량%) 이하, 예를 들어 250ppm(0.025중량%) 이하, 또는 일부 경우에, 150ppm(0.015중량%) 이하, 또는 다른 경우에, 100ppm(0.01중량%)의 양의 조성으로 존재한다. 특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는, 조성물의 총 중량을 기준으로, 적어도 0.5ppm(0.00005중량%) 또는 적어도 1ppm(0.0001중량%) 또는, 일부 경우에, 적어도 5ppm(0.005중량%)의 양으로 조성물에 존재한다. 일부 실시양태에서, 상기 양은, 조성물의 총 중량을 기준으로, 적어도 10ppm(0.001중량%), 일부 경우에 적어도 20ppm(0.002중량%), 또는 적어도 25ppm(0.0025중량%)의 양으로 존재한다. 본 발명의 조성물에 존재하는 결합제의 양은, 언급된 값을 비롯한 언급된 값들의 임의의 조합의 범위일 수 있다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 또한 다른 IR 흡수 입자, 예를 들어 무엇보다도 인듐 주석 옥사이드, 안티몬 주석 옥사이드, 티탄 니트라이드, 및 란탄 헥사보라이드 입자를 또한 포함한다. 적합한 입자들의 구체적인 예는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 본원에서 전체를 참고로 인용하는 국제특허 출원공개 제 WO 2008/127409 호 뿐만 아니라, 그의 일부를 본원에서 참고로 인용하는, 미국특허 출원공개 제 2007/0203279 호의 [0047] 내지 [0058], 미국특허 제 7,368,523 호의 제5컬럼, 제50행 내지 제8컬럼, 제2행 및 미국특허 제 7,300,967 호의 제3컬럼, 제23행 내지 제5컬럼, 제27행에 개시된 것 중 임의의 것을 포함한다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 비-전도성이다. 다시 말해서, 본 발명의 이러한 조성물의 표면 저항은 1.0×1010 Ω/□ 초과이다. 이러한 실시양태에서, 전술한 텅스텐 옥사이드 입자의 형태 또는 형상은, 전술한 바와 같이, 침상 또는 관상이 아니라, 일반적으로 구형이다. 게다가, 이러한 조성물에서, 텅스텐 옥사이드 입자는, 일반적으로, 필름 또는 다른 제품으로 형성되는 경우, 조성물내 텅스텐 옥사이드 입자들간의 최소의 접점을 갖도록, 조성물에 고도로 분산되는 것이 일반적이다. 비-전도성 조성물을 사용하면, 반사한다고 해도 소량으로 적외선 에너지를 반사하는 필름 또는 기타 제품, 예를 들어 용기 프리폼의 제조를 가능하게 하여, 제품이 노출된 에너지를 전부는 아니지만 대부분을 흡수하여, 이러한 에너지에 의해 상기 조성물이 효과적으로 가열되도록 한다.
특정 실시양태에서, 에틸렌 글리콜에 0.05중량%(50ppm)으로 분산된 경우, 본원에서 기술한 텅스텐 옥사이드 입자의 FOM(figure of merit)은, 0.50 이상, 예를 들어 0.75 이상, 1.0 이상, 1.25 이상, 1.5 이상, 1.75 이상, 2.0 이상, 예를 들어 2.0 내지 5.0이다. FOM은, 550nm에서의 흡광 계수(ε550 nm)로 1100nm에서의 복합 물질의 흡광계수(ε1100 nm)를 나눔으로써 정의되는데, 여기서 ε는 비어의 법칙(A=εCl; 여기서 A는 흡광도 또는 광학 밀도(OD)이고, C는 농도이고, l는 경로 길이이다)에 의해 어림된다.
실제로, FOM는 하기 수학식 1과 같은 OD의 비로 결정될 수도 있다:
[수학식 1]
FOM = OD1100nm/OD550nm
이러한 측정에 있어서, 분광광도계는 2nm의 밴드 패스(band pass)를 수용하도록 설정되어야만 한다. FOM이 높을수록, 나노복합체가, 550nm에서 가시광에 대해 투명함을 유지하는 반면, 1100nm에서는 적외선 흡수를 양호하게 수행하고 있음을 의미한다. FOM은 조성물내 나노입자의 담지량에는 크게 영향을 받지 않지만, 입자 크기 및 입자 조성에는 크게 영향을 받는다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물에 존재하는 텅스텐 옥사이드 입자의, D90/D50의 비에 의해 측정된 입자 크기 분포가, 2.0 이하, 예를 들어 1.5 이하, 1.5 내지 3.0, 또는, 일부 경우에, 1.75 내지 2.25이고, 여기서 D90는, 텅스텍 옥사이드 입자의 90체적%가 언급된 D90보다 작은 직경을 갖고; D50는 텅스텐 옥사이드의 50체적%가 언급된 D50보다 작은 직경을 가짐을 의미한다. 예를 들어, D90이 90nm이고 D50이 60nm이면, D90/D50는 1.5이다. 텅스텐 옥사이드 입자 조성 및 평균 입자 크기를 위해, 보다 낮은 D90/D50를 갖는 조성물이, 일반적으로 보다 높은 FOM을 갖는다. D90/D50비는, 광침강(photosedimentation) 기법, 예를 들어 루미사이저 기기(LumiSizer instrument; 루미 게임베하(Lumi GMBH)에서 판매함)에 의해 측정될 수 있다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 코팅, 사출 성형, 및 다른 적용례에서 전형적으로 사용되는 하나 이상의 기타 성분들, 예를 들어 결정화 보조제, 충격 개질제, 표면 윤활제, 디네스팅제(denesting agent), 안정화제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 탈활성화제, 핵화제, 충전제, 아세트알데하이드 환원화 화합물, 기타 재가열 개선 보조제, 및 항 마모 첨가제를 포함할 수 있다.
재가열(reheat)이 필수적이지도 바람직하지도 않는 다양한 제품들이 본 발명의 조성물의 특정 실시양태로부터 제조될 수 있다. 일부 실시양태에서, 제품들은 시트, 필름, 병, 트레이, 기타 포장재, 막대, 튜브, 리드(lid), 섬유 및 사출 성형 제품을 포함한다. 하나의 실시양태에서, 액체와 같은 물질을 보유하기에 적합하고/적합하거나 이를 함유하는 음료병이 제공된다. 다른 실시양태에서, 병에 고온-충전된 음료를 보유하기에 적합하고/적합하거나 이를 함유하는 열-경화(heat-set) 음료병이 제공된다. 또다른 실시양태에서, 상기 병은 탄산 음료를 보유하기에 적합하고/적합하거나 이를 함유한다. 추가로, 또다른 실시양태에서, 상기 병은 알콜성 음료를 보유하기에 적합하고/적합하거나 보유한다. 일부 실시양태에서, 프리폼을 제공한다. 일부 실시양태에서 프리폼을 함유하는 용기를 제공한다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 조성물을, 가소화제, 예를 들어 다이헥실 아디페이트, 인산 에스터, 프탈산 에스터, 및 이들의 혼합물을 포함한다. 일부 실시양태에서, 가소화제의 농도는 조성물의 35중량% 이하의 범위이다.
임의의 실시양태에서, D90/D50비는, 광침강 기법, 예를 들어 루미사이저 기기(루미 게임베하에서 판매함)에 의해 측정될 수 있다. 또한, 일부 실시양태에서, D90/D50비는, 공정중 입자 형성 영역에서 균일한 조건을 보장하도록 나노입자 생산 공정을 작동시킴으로써, 변할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 임의의 다양한 기법에 의해 제조될 수 있다. 특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 화학적 또는 기계적 방법에 의해 결합제에 도입될 수 있다. 예를 들어, 텅스텐 옥사이드 입자는, 적합한 시간 및 위치에서의 이들의 중합 이전에 또는 중합 동안에 중합체 결합제에 도입되거나 단량체에 도입될 수 있다. 게다가, 텅스텐 옥사이드 입자는, 용매 시스템의 도움의 존재 또는 부재하에서, 기계적 혼합, 진탕, 교반, 분쇄, 초음파 등에 의해 중합체에 도입되거나 단량체에 도입될 수 있다.
특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자를 결합제에 도입하는 방법은, 텅스텐 옥사이드 입자를 중합 동안 또는 중합 후에 중합체 반응물에 첨가하거나, 병 프리폼이 형성되는 사출 성형 기기에서 중합체 용융물, 또는 성형 분말 또는 펠렛, 또는 용융된 폴리에스터에 첨가함을 포함한다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 에스터화 반응기의 주입구에 인접한 위치, 에스터화 반응기의 배출구에 인접한 위치, 에스터화 반응기의 주입구와 배출구 사이의 지점, 재순환 로프의 임의의 지점, 예비중합체 반응기의 주입구에 인접한 위치, 예비중합체 반응기의 배출구에 인접한 위치, 예비중합체 반응기의 주입구와 배출기 사이의 지점, 다중축합 반응기의 주입구에 인접한 위치, 다중축합 반응기의 주입구와 배출구 사이의 지점, 또는 다중축합 반응기의 배출구와 펠렛, 시트, 섬유 또는 병 프리폼을 형성하기 위한 다이 사이의 지점에서 첨가될 수 있다.
특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 나노입자는, 텅스텐 옥사이드 입자를 사출 성형 기기내 용융 중합체에 공급하거나, 또는 펠렛을 용융 블렌딩하거나 건식 블렌딩하여, 사출 성형 기기로의 PET의 공급물과 텅스텐 옥사이드 입자를 조합함을 비롯한 임의의 방법에 의해 폴리에스터 중합체, 예를 들어 PET에 첨가되어, 사출 성형 기기에 공급될 수 있다. 텅스텐 옥사이드 입자는 생성된 그대로(as-is) 또는 PET와 같은 중합체 중 농축물 형태, 또는 액체 또는 고체 담체 중 분산제로서 공급될 수 있다. 일부 실시양태에서, 적합한 담체의 예는 폴리에틸렌 글리콜, 광유, 수소화된 카스톨유, 및 글리세롤 모노스테아레이트를 포함한다.
선택적으로, 텅스텐 옥사이드 입자는, 선택적으로 인산과 조합된 에틸렌 글리콜 공급물과 함께 또는 이를 통해, 에스터화 반응기로, 예비중합체 반응기로, 다중축합 반응기로, 고상화를 위한 반응기 중 고체 펠렛에, 또는 이러한 단계 중 임의의 단계 사이의 임의의 지점에 첨가될 수 있다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 PET 또는 PET 함유 농축물과 같이 그대로의 그의 전구체로서 조합될 수 있거나 담체로 희석될 수 있다. 일부 실시양태에서, 담체는 PET에 대해 반응성일 수 있거나 비-반응성일 수 있다. 일부 실시양태에서, 순수한 상태 또는 농축물 중 또는 담체 중 텅스텐 옥사이드 입자, 및 벌크 폴리에스터는, 서로 혼합되기 전에 건조될 수 있다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 건조된 공기 또는 다른 불활성 가스, 예를 들어 질소의 분위기에서, 바람직하게는 대기압 이하에서 건조될 수 있다.
본 발명의 폴리에스터 조성물은 포장 용기를 제조하기 위해 사용되는 프리폼을 형성하는데 사용될 수 있다. 프리폼은, 일련의 석영 적외선 가열 램프를 통해 프리폼을 통과시킴으로써 중합체 조성물의 유리 전이 온도 초과의 온도로 전형적으로 가열시키고, 상기 프리폼을 병 주형에 배치하고, 그다음 주형의 개구 말단을 통해 가압된 공기를 취입한다.
재가열 사출 성형에서, 테스트-튜브형 사출 성형된 병 프리폼을 중합체의 유리 전이 온도 초과의 온도로 가열하고, 그다음 병 주형의 개구부 말단을 통해 가압된 공기를 수용하도록 병 주형을 배치시킨다. 이러한 기법은 예를 들어 본원에서 참고로 인용하는 미국특허 제 3,733,309 호에서 나타낸 바와 같이 당업계에 공지되어 있다. 전형적인 사출 성형 작업에서, 석영 적외선 가열기로부터의 방사선 에너지는 일반적으로 프리폼을 재가열하기 위해서 사용된다.
본 발명의 코팅 조성물은, 다양한 기재, 예를 들어 인간의 및/또는 동물성 기재, 예를 들어 케라틴, 털, 피부, 치아, 손톱 등 뿐만 아니라, 식물, 목재, 씨앗류, 농경지, 예를 들어 방목지, 경지 등; 잔디가 깔린 지역, 예를 들어 잔디밭, 골프 코스, 경기장 등, 및 기타 지대, 예를 들어 숲에 적용하기에 적합한다.
적합한 기재는 셀룰로즈-함유 물질, 예를 들어 종이, 종이판, 카드보드지, 합판 및 가압된 섬유판, 견목, 연재, 베니어판, 파티클보드, 칩보드, 지향 스트랜드보드, 및 섬유보드를 포함한다. 이러한 물질은 완전히 목재, 예를 들어 소나무, 오크목, 단풍나무, 마호가니목, 체리목 등으로만 제조될 수 있다. 그러나, 일부 경우에, 상기 물질들은 다른 물질, 예를 들어 수지성 물질과 함께 목재를 포함할 수 있는데, 그 예로는 목재/수지 복합체, 예를 들어 페놀계 복합체, 목재 섬유와 열가소성 중합체의 복합제, 및 시멘트, 섬유 또는 플라스틱 클래딩으로 강화된 목재 복합체를 포함할 수 있다.
적합한 금속성 기재로는, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 냉연 강; 스테인레스 강; 아연 금속, 아연 화합물과 아연 합금(예를 들어, 전기아연도금강판, 고온-침지 아연도금 강판, 갈바닐(GALVANNEL) 강, 및 아연 합금으로 도금된 강), 구리, 마그네슘 및 그의 합금, 알루미늄 합금, 아연-알루미늄 합금(예를 들어 갈팬(GALFAN), 갈바룸(GALVALUME))으로 표면 처리된 강; 알루미늄 도금 강, 및 알루미늄 합금 도금 강으로 구성된 호일, 시트 또는 작업편이 사용될 수 있다. 용접가능한, 아연-풍부 또는 철 포스파이드-풍부 유기 코팅을 갖는 강 기재(예를 들어, 냉연 강 또는 전술한 임의의 강 기재)도 본 발명의 방법에서 사용하기에 적합한다. 이러한 용접성 코팅 조성물은 예를 들어 미국특허 제 4,157,924 호 및 제 4,186,036 호에 개시되어 있다. 냉연 강은, 예를 들어 금속 포스페이트 용액, 하나 이상의 IIIB족 또는 IVB족 금속을 함유하는 수용액, 유기포스페이트 용액, 유기포스포네이트 용액, 및 이들의 조합으로 구성된 군 중에서 선택된 용액으로 예비처리된 경우에도, 적합한다. 또한, 금속성 기재는 은, 금 및 이들의 합금을 포함한다.
적합한 실리캐틱(silicatic) 기재의 예는, 유리, 자기(porcelain) 및 세라믹이다.
적합한 중합체 기재의 예는, 폴리스티렌, 폴리아마이드, 폴리에스터, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 멜라민 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리우레탄, 폴리카보네이트, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐피롤리돈 및 상응하는 공중합체 및 블록 공중합체, 생분해성 중합체 및 천연 중합체, 예를 들어 젤라틴이다.
적합한 텍스타일 기재의 예는, 폴리에스터, 개질된 폴리에스터, 폴리에스터 혼방 직물, 나일론, 면, 면 혼방 직물, 황마, 아마, 대마 및 모시, 비스코스, 모, 견, 폴리아마이드, 폴리아마이드 혼방 직물, 폴리아크릴로니트릴, 트라이아세테이트, 아세테이트, 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리에스터 미세섬유 및 유리 섬유 패브릭으로 구성된, 섬유, 얀, 트레드, 편직물, 직물, 부직물 및 가멘트이다.
적합한 가죽 기재의 예는 그레인 레더(grain leather)(예를 들면 양, 염소 또는 소에서 나온 나파(nappa), 및 송아지 또는 소에서 나온 박스 레더(box-leather), 스웨이드 가죽(예를 들면 양, 염소 또는 송아지에서 나온 벨루어, 및 사냥 가죽), 스플릿 벨루어(split velour)(예를 들면 소 또는 송아지 가죽), 사슴가죽 및 누벅(nubuk) 가죽이고; 또한 모직 가죽 및 털(예를 들면 털이 있는 스웨이드 가죽)이다. 가죽은 임의의 종래의 무두질 방법, 특히 식물성, 광물성, 합성 또는 조합된 무두질에 의해 무두질될 수 있다(예를 들면 크롬 무두질, 지르코닐 무두질, 알루미늄 무두질 또는 쎄미-크롬 무두질). 경우에 따라, 가죽은 또한 재무두질될 수 있고, 재무두질의 경우, 재무두질을 위해 통상적으로 사용되는 임의의 무두질제, 예를 들면 광물성, 식물성 또는 합금 무두질제, 예를 들면 크롬, 지르코닐 또는 알루미늄 유도체, 케브라초, 밤 또는 미모사 추출물, 방향족 신탠(syntan), 폴리우레탄, (메트)아크릴산 화합물의 (공)중합체 또는 멜라민, 다이시아노다이아마이드 및/또는 우레아/포름알데하이드 수지를 사용할 수 있다.
적합한 압축가능한 기재의 예는 포움 기재, 액체로 충전된 중합체 주머니, 공기 및/또는 가스로 충전된 중합체 주머니 및/또는 플라즈마로 충전된 중합체 주머니를 포함한다. 본원에서 사용되는 용어 "포움 기재"는 개방 셀 포움 및/또는 밀폐 셀 포움을 포함하는 중합성 또는 천연 물질을 의미한다. 본원에서 이용되는, 용어 "개방 셀 포움"은 포움이 다수의 서로 연결된 공기 챔버를 포함함을 의미한다. 본원에서 사용되는 용어 "밀폐 셀 포움"은 포움이 일련의 개별적인 밀폐된 공극을 포함함을 의미한다. 포움 기재의 예는 폴리스티렌 포움, 폴리메타크릴이미드 포움, 폴리비닐클로라이드 포움, 폴리우레탄 포움, 폴리프로필렌 포움, 폴리에틸렌 포움 및 폴리올레핀계 포움을 포함한다. 예시적인 폴리올레핀 포움은 폴리프로필렌 포움, 폴리에틸렌계 포움 및/또는 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA) 포움을 포함한다. EVA 포움은 편평한 시트 또는 슬래브(slab) 또는 성형된 EVA 포움, 예를 들면 신발 가운데 밑창(shoe midsole)을 포함할 수 있다. 서로 다른 유형의 EVA 포움은 서로 다른 유형의 표면 다공도를 가질 수 있다. 성형된 EVA는 밀집된 표면 또는 "껍질"을 가질 수 있는 반면, 편평한 시트 또는 슬래브는 다공성 표면을 나타낼 수 있다.
본 발명의 코팅 조성물은, 다른 방법 중에서도, 침지 또는 함침, 분무, 간헐적 분사, 침지 및 이후의 분사, 분사 및 이후의 침지, 붓칠, 또는 롤-코팅을 포함하는 임의의 다양한 방법에 의해 이러한 기재에 적용될 수 있다. 그러나, 특정 실시양태에서, 본 발명의 코팅 조성물은 분무에 의해서 적용되고, 따라서, 이런 조성물은 종종 주위 조건에서 분무함으로써 적용하기에 적합한 점도를 종종 갖는다.
본 발명의 코팅 조성물을 기재에 적용한 후, 조성물은 응집되어 기재 상에 실질적으로 연속적인 필름을 형성한다. 전형적으로, 필름 두께는 0.01 내지 20밀(약 0.25 내지 508㎛), 예를 들면 0.01 내지 5밀(0.25 내지 127㎛), 또는 일부 경우, 0.1 내지 2밀(2.54 내지 50.8㎛)일 것이다. 따라서, 본 발명에 따른 코팅 필름의 형성 방법은, 본 발명의 코팅 조성물을 코팅될 기재 또는 제품의 표면에 적용하고, 상기 코팅 조성물을 덩어리화하여 실질적으로 연속적인 필름을 형성하고, 그다음 이렇게 수득된 코팅을 경화시킴을 포함한다.
일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 특정 적용례에 따라 작용화될 수 있다. 예를 들어, 텅스텐 옥사이드 입자는 코팅의 특정 성분에 결합되거나 일부 실시양태에서 코팅의 특정 성분과 회합되도록 작용화될 수 있다. 이러한 작용화는, 텅스텐 옥사이드 입자를 중합될 단량체와 회합되도록 함으로써 중합화를 빠르게 할 수 있다. 또다른 예로서, 텅스텐 옥사이드 입자의 표면은 소수성, 친수성, 친유성 또는 소유성이도록 작용화될 수 있다. 이러한 입자들은 일부 실시양태에서 건조 동안 증발시키고자 하는 일부 액체 성분과 회합될 수 있다. 텅스텐 옥사이드 입자는 또한 이들의 분산을 용이하게 하도록 작용화될 수도 있다.
텅스텐 옥사이드 입자가 IR 에너지 이외에 UV도 흡수할 수 있기 때문에, UV 방사선에 의해 일반적으로 야기되는 열화를 늦추거나 예방할 수도 있다. 생성된 코팅은 또한 열이 물질을 통과하는 것을 방지할 수 있다. 이러한 적용은, 코팅이 코팅된 품목이 가열되거나 UV 에너지 또는 전자기 스펙트럼의 다른 부분으로부터의 에너지에 노출되는 것을 방지하기 위해서 사용되는 적용례에서 유용할 수 있다. 따라서, UV 및 IR 에너지 둘다를 흡수하는 IR 흡수 나노입자는 경화 또는 건조를 보조할 수 있고, 코팅의 장기간 성능을 개선시킬 수 있다. 특정 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는, IR 스펙트럼으로부터 흡수하는 것과 같이, 적어도 50%, 적어도 75%, 적어도 85%, 적어도 90%, 적어도 95%, 또는 적어도 100% 정도의 다량의 에너지를 UV 전자기 스펙트럼의 제 2 영역으로부터 흡수한다.
특정 실시양태에서, 본 발명은 IR 에너지를 사용하여 코팅을 건조 또는 경화시키는 방법을 제공한다. 본원에서 기술된 텅스텐 옥사이드 입자는 IR 에너지를 흡수하기 때문에, IR 에너지를 열 형태로 결합제에 전달할 수 있다. 따라서, 본원에서 기술한 텅스텐 옥사이드 입자를 포함하는 조성물은, 텅스텐 옥사이드 입자를 사용하지 않는 코팅 경화에 비해 보다 신속하게 경화될 수 있다. 특정 실시양태에서, 이러한 방법은, 코팅을 본원에서 기술한 텅스텐 옥사이드 입자와 접촉시키는 단계 및 상기 코팅을 IR 에너지에 노출시키는 단계를 포함한다. 접촉 단계는, 임의의 방식으로 수행될 수 있다. 일부 실시양태에서, 텅스텐 옥사이드 입자는 코팅의 하나 이상의 성분, 예를 들어 결합제 또는 용매와 혼합될 수 있다. 텅스텐 옥사이드 입자 또는 매질, 예를 들어 용매 중 텅스텐 옥사이드 입자의 분산액이, 이미 제조된 중합체 결합제로 또는 중합체 결합제를 제조하기 위해서 사용되는 단량체 조성물에 분산될 수 있고, 이로써 중합체 전반에 걸쳐 균일한 분산액 및 코팅의 최종 배합물에서 밀접한 접촉을 달성할 수 있다.
IR 에너지는 임의의 방식으로 적용될 수 있다. 일부 실시양태에서, IR 에너지는 IR 열 공급원, 예를 들어 IR 램프를 사용하여 적용된다. IR 램프는 일반적으로 사용되며 당업계의 숙련자에게 유용하다. 주변 IR 에너지도 적합한다. IR 에너지는 또한 상기 코팅을 일부 기타 광원에 단순히 노출시킴으로써 적용될 수 있다. 다른 광원은 표준 형광 또는 심지어 태양광에 의해 방출되는 광일 수도 있다. 따라서, IR 에너지는, IR 에너지가 경화 또는 건조에 적어도 부분적으로 영향을 미치기에 충분하기만 하다면, 임의의 방식으로도 첨가될 수 있다.
넓은 본 발명의 개념으로부터 벗어나지 않고 상기 개시된 실시양태를 변화시킬 수 있음을 당분야의 숙련자들은 인식할 것이다. 따라서, 본 발명은 개시된 특정한 실시양태로 제한되지 않고, 첨부된 특허청구범위에 의해 정의된 바와 같은 본 발명의 진의 및 범위 이내의 변형을 포함하고자 함이 이해되어야 한다.

Claims (20)

  1. (a) 결합제; 및
    (b) 조성물의 총 중량을 기준으로 500ppm(parts per million) 이하의, 결합제 중 분산된 300nm 이하의 평균 일차 입자 크기(average primary particle size)를 갖는 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자
    를 포함하는, 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자의 화학식이 WO2 .2 내지 2.999인, 조성물.
  3. 제 2 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자의 화학식이 WO2 .65 내지 2.95인, 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    투명한, 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    무색인, 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서,
    결합제가, 적어도 하나의 유형의 반응성 기를 갖는 중합체와, 상기 중합체의 반응성 기와 반응성인 반응성 기를 갖는 경화제를 포함하는 열경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서,
    결합제가, 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 또는 그의 공중합체를 포함하는 열경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서,
    결합제가 다중-작용성 (메트)아크릴레이트를 포함하는 방사선 경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자의 평균 일차 입자 크기가 150㎚ 이하인, 조성물.
  10. 제 1 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자가 실질적으로 구형인, 조성물.
  11. 제 1 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자가, 조성물의 총 중량을 기준으로, 0.5ppm 이상 150ppm 이하의 양으로 조성물 내에 존재하는, 조성물.
  12. (a) 결합제, 및
    (b) 결합제 중 분산된 300nm 이하의 평균 일차 입자 크기를 갖는, 일반적으로 구형인 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 입자
    를 포함하는 조성물로서, 상기 조성물이 무색 투명하고, 1.0 x 1010 Ω/□ 초과의 표면 저항을 갖는 필름을 형성하는, 조성물.
  13. 제 12 항에 있어서,
    일반적으로 구형인 입자가, 조성물의 총 중량을 기준으로, 500ppm 이하의 양으로 조성물에 존재하는, 조성물.
  14. 제 12 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자의 화학식이 WO2 .2 내지 2.999인, 조성물.
  15. 제 14 항에 있어서,
    텅스텐 옥사이드 입자의 화학식이 WO2 .65 내지 2.95인, 조성물.
  16. 제 12 항에 있어서,
    결합제가, 적어도 하나의 유형의 반응성 기를 갖는 중합체와, 상기 중합체의 반응성 기와 반응성인 반응성 기를 갖는 경화제를 포함하는 열경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  17. 제 12 항에 있어서,
    결합제가, 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 또는 그의 공중합체를 포함하는 열경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  18. 제 12 항에 있어서,
    결합제가 다중-작용성 (메트)아크릴레이트를 포함하는 방사선 경화성 조성물을 포함하는, 조성물.
  19. 제 12 항에 있어서,
    일반적으로 구형인 입자의 평균 일차 입자 크기가 150㎚ 이하인, 조성물.
  20. 제 13 항에 있어서,
    일반적으로 구형인 입자가, 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5ppm 이상 150ppm 이하의 양으로 조성물 내에 존재하는, 조성물.
KR1020147001567A 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물 KR20140013117A (ko)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14579809P 2009-01-20 2009-01-20
US61/145,798 2009-01-20
US29539410P 2010-01-15 2010-01-15
US61/295,394 2010-01-15
US12/690,325 2010-01-20
US12/690,325 US8324300B2 (en) 2009-01-20 2010-01-20 Transparent, colorless infrared radiation absorbing compositions comprising nanoparticles
PCT/US2010/021477 WO2010085472A1 (en) 2009-01-20 2010-01-20 Transparent, colorless infrared radiation absorbing compositions comprising non-stoichiometric tungsten oxide nanoparticles

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117019330A Division KR20110107858A (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167000751A Division KR101676229B1 (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20140013117A true KR20140013117A (ko) 2014-02-04

Family

ID=42008467

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147001567A KR20140013117A (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물
KR1020117019330A KR20110107858A (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물
KR1020167000751A KR101676229B1 (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117019330A KR20110107858A (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물
KR1020167000751A KR101676229B1 (ko) 2009-01-20 2010-01-20 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물

Country Status (18)

Country Link
US (1) US8324300B2 (ko)
EP (1) EP2382262B1 (ko)
JP (1) JP2012515808A (ko)
KR (3) KR20140013117A (ko)
CN (1) CN102292387B (ko)
AU (1) AU2010206906A1 (ko)
BR (1) BRPI1005142A2 (ko)
CA (1) CA2749599C (ko)
DK (1) DK2382262T3 (ko)
ES (1) ES2548153T3 (ko)
MX (1) MX2011007665A (ko)
MY (1) MY183190A (ko)
NZ (1) NZ593929A (ko)
PL (1) PL2382262T3 (ko)
PT (1) PT2382262E (ko)
RU (1) RU2506284C2 (ko)
SG (1) SG172860A1 (ko)
WO (1) WO2010085472A1 (ko)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2518363C (en) 2003-04-02 2013-01-08 Valspar Sourcing, Inc. Aqueous dispersions and coatings
AU2005295228B2 (en) 2004-10-20 2012-02-16 Swimc Llc Coating compositions for cans and methods of coating
DE102011106816B9 (de) * 2011-05-30 2018-05-30 Kulzer Gmbh Nach Härtung bruchresistentes Prothesenbasismaterial, erhalten aus autopolymerisierenden oder kaltpolymerisierenden Zusammensetzungen
EP2734581B1 (en) * 2011-07-21 2017-04-26 Colormatrix Holdings, Inc. Polymeric materials
US9017815B2 (en) 2012-09-13 2015-04-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Near-infrared radiation curable multilayer coating systems and methods for applying same
KR102127868B1 (ko) * 2013-01-23 2020-06-29 컬러매트릭스 홀딩즈 아이엔씨. 폴리머 재료
DE102013103679A1 (de) * 2013-04-11 2014-10-30 Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg Licht absorbierende Schicht und die Schicht enthaltendes Schichtsystem, Verfahren zur dessen Herstellung und dafür geeignetes Sputtertarget
US9870842B2 (en) * 2013-06-12 2018-01-16 Ppg Industries Ohio, Inc. Rapidly curable electrically conductive clear coatings
US9434652B2 (en) 2013-07-23 2016-09-06 Industrial Technology Research Institute Infrared absorption material, method for fabricating the same, and thermal isolation structure employing the same
RU2599583C2 (ru) * 2013-12-30 2016-10-10 ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ "Некс-Т" Материал для изготовления светокорректирующей полимерной пленки
RU2573508C1 (ru) * 2014-11-19 2016-01-20 ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ НАУКИ ИНСТИТУТ ОРГАНИЧЕСКОЙ ХИМИИ им. Н.Д. ЗЕЛИНСКОГО РОССИЙСКОЙ АКАДЕМИИ НАУК (ИОХ РАН) Способ получения полимерного материала, содержащего неорганические нано- или микрочастицы
WO2016176570A1 (en) * 2015-04-30 2016-11-03 Kansas State University Research Foundation Coating for animals to manage solar radiation
US10751063B2 (en) 2015-05-26 2020-08-25 Lawrence Livermore National Security, Llc Shape memory polymer nanocomposites and uses thereof
US20180133367A1 (en) * 2016-11-14 2018-05-17 Desktop Metal, Inc. Debindable resins for stereolithographic manufacturing
WO2018144032A1 (en) 2017-02-06 2018-08-09 Hewlett Packard Development Company, L.P. Three-dimensional (3d) printing with discolorable near-infrared absorbing dye
JP7081183B2 (ja) * 2017-09-22 2022-06-07 住友金属鉱山株式会社 セシウムタングステン酸化物膜とその製造方法
JP7276159B2 (ja) * 2018-02-08 2023-05-18 住友金属鉱山株式会社 近赤外線吸収材料微粒子分散体、近赤外線吸収体、近赤外線吸収物積層体および近赤外線吸収用合わせ構造体
US20230398770A1 (en) * 2022-06-09 2023-12-14 Stek Co., Ltd. Exterior film of building for protecting glass

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3407032A (en) * 1966-01-05 1968-10-22 American Cyanamid Co Method for preparing reduced tungsten oxide
US3733309A (en) * 1970-11-30 1973-05-15 Du Pont Biaxially oriented poly(ethylene terephthalate)bottle
FR2396420A1 (fr) * 1977-06-29 1979-01-26 Commissariat Energie Atomique Materiau transparent photoconducteur, son procede de fabrication et des dispositifs d'application
US4157924A (en) * 1978-08-25 1979-06-12 The Dow Chemical Company Process of applying weldable coating compositions to a metallic substrate
US4186036A (en) 1978-08-25 1980-01-29 The Dow Chemical Company Weldable coating compositions
US4754012A (en) * 1986-10-03 1988-06-28 Ppg Industries, Inc. Multi-component sol-gel protective coating composition
US4799963A (en) 1986-10-03 1989-01-24 Ppg Industries, Inc. Optically transparent UV-protective coatings
EP0486469B2 (en) 1986-10-03 2000-06-21 PPG Industries Ohio, Inc. Organic-inorganic hybrid polymer
US4731264A (en) 1986-10-03 1988-03-15 Ppg Industries, Inc. Sol-gel compositions containing silane and alumina
US4753827A (en) 1986-10-03 1988-06-28 Ppg Industries, Inc. Abrasion-resistant organosiloxane/metal oxide coating
US4814017A (en) * 1986-10-03 1989-03-21 Ppg Industries, Inc. Aqueous organoalkoxysilane/metal oxide sol-gel compositions
US6264859B1 (en) 1986-10-03 2001-07-24 Ppg Industries Ohio, Inc. Optically transparent UV-protective coatings
US5344712A (en) 1990-06-29 1994-09-06 Ppg Industries, Inc. Abrasion resistant siloxane coatings containing ceria
US5916686A (en) * 1990-06-29 1999-06-29 Ppg Industries, Inc. Siloxane organic hybrid polymer catalyst
US5401579A (en) 1987-12-16 1995-03-28 Ppg Industries, Inc. Siloxane organic hybrid polymers
US6180248B1 (en) * 1987-12-16 2001-01-30 Ppg Industries Ohio, Inc. Siloxane organic hybrid polymers
US5115023A (en) 1987-12-16 1992-05-19 Ppg Industries, Inc. Siloxane organic hybrid polymers
US5253101A (en) 1987-12-28 1993-10-12 Ford Motor Company Electrochromic material and method of making an electrochromic material
US5199979A (en) 1988-11-25 1993-04-06 Ppg Industries, Inc. UV resistant, abrasion resistant coatings
JP2585128B2 (ja) * 1989-06-02 1997-02-26 テイカ株式会社 有色微粒子無機顔料
US5035745A (en) * 1990-06-29 1991-07-30 Ppg Industries, Inc. Ion-exchanged abrasion resistant coatings
US5693422A (en) * 1990-10-02 1997-12-02 Ppg Industries, Inc. Silica-free UV-absorbing abrasion resistant coatings
US5106796A (en) * 1991-09-13 1992-04-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Low-firing capacitors dielectrics
US5749937A (en) 1995-03-14 1998-05-12 Lockheed Idaho Technologies Company Fast quench reactor and method
US6344271B1 (en) * 1998-11-06 2002-02-05 Nanoenergy Corporation Materials and products using nanostructured non-stoichiometric substances
US5851507A (en) * 1996-09-03 1998-12-22 Nanomaterials Research Corporation Integrated thermal process for the continuous synthesis of nanoscale powders
US7559494B1 (en) * 1996-09-03 2009-07-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of forming non-stoichiometric nanoscale powder comprising temperature-processing of a stoichiometric metal compound
US5905000A (en) * 1996-09-03 1999-05-18 Nanomaterials Research Corporation Nanostructured ion conducting solid electrolytes
US5788738A (en) 1996-09-03 1998-08-04 Nanomaterials Research Corporation Method of producing nanoscale powders by quenching of vapors
US6202471B1 (en) * 1997-10-10 2001-03-20 Nanomaterials Research Corporation Low-cost multilaminate sensors
US6290735B1 (en) * 1997-10-31 2001-09-18 Nanogram Corporation Abrasive particles for surface polishing
US5984997A (en) * 1997-08-29 1999-11-16 Nanomaterials Research Corporation Combustion of emulsions: A method and process for producing fine powders
US6277187B1 (en) * 1998-03-16 2001-08-21 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Film for cutting off heat rays and a coating liquid for forming the same
JP2000233929A (ja) 1998-11-30 2000-08-29 High Frequency Heattreat Co Ltd Ｖ（１−ｘ）Ｏ２Ｍｘ組成の超微粒子粉末とその製造方法及び赤外線遮蔽材料
IL129718A0 (en) 1999-05-02 2000-02-29 Yeda Res & Dev Synthesis of nanotubes of transition metal chalcogenides
US6623791B2 (en) 1999-07-30 2003-09-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved adhesion, coated substrates and methods related thereto
RU2229496C2 (ru) * 2001-08-14 2004-05-27 Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" Полимерная композиция для изготовления пленочного покрытия
US7220793B2 (en) 2002-02-20 2007-05-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Curable film-forming composition exhibiting improved resistance to degradation by ultraviolet light
US7708974B2 (en) * 2002-12-10 2010-05-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Tungsten comprising nanomaterials and related nanotechnology
CN100590154C (zh) * 2003-10-20 2010-02-17 住友金属矿山株式会社 红外线遮蔽材料微粒分散体、红外线遮蔽体、红外线遮蔽材料微粒的制法及红外线遮蔽材料微粒
JP4096205B2 (ja) * 2003-10-20 2008-06-04 住友金属鉱山株式会社 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
DE10352177A1 (de) * 2003-11-05 2005-06-02 Röhm GmbH & Co. KG Antistatisch beschichteter Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
US7368523B2 (en) * 2004-11-12 2008-05-06 Eastman Chemical Company Polyester polymer and copolymer compositions containing titanium nitride particles
GB0407114D0 (en) * 2004-03-30 2004-05-05 Colormatrix Europe Ltd Polymer additives and methods of use thereof
KR100982871B1 (ko) * 2004-08-31 2010-09-16 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 도전성 입자, 가시광 투과형 입자 분산 도전체 및 그제조방법, 투명 도전 박막 및 그 제조방법, 이를 이용한투명 도전물품, 적외선 차폐물품
JP4355945B2 (ja) 2004-11-08 2009-11-04 住友金属鉱山株式会社 近赤外線吸収繊維およびこれを用いた繊維製品
US7601331B2 (en) 2004-11-10 2009-10-13 National University Of Singapore NIR-sensitive nanoparticle
US7300967B2 (en) 2004-11-12 2007-11-27 Eastman Chemical Company Polyester polymer and copolymer compositions containing metallic titanium particles
JP4182357B2 (ja) * 2005-01-17 2008-11-19 住友金属鉱山株式会社 熱線遮蔽樹脂シート材および熱線遮蔽樹脂シート材積層体、並びにそれらを用いた建築構造体
US20060181774A1 (en) * 2005-02-16 2006-08-17 Konica Minolta Opto, Inc. Antireflection film, production method of the same, polarizing plate and display
JP4623093B2 (ja) 2005-03-18 2011-02-02 住友金属鉱山株式会社 農園芸用覆土フィルム
US7399571B2 (en) * 2005-05-06 2008-07-15 General Electric Company Multilayered articles and method of manufacture thereof
US20090320894A1 (en) 2006-02-17 2009-12-31 Fabio Angiuli Method for preparing nanocrystalline transparent films of tungsten oxide
JP4632094B2 (ja) * 2006-07-25 2011-02-16 住友金属鉱山株式会社 高耐熱性マスターバッチの製造方法、熱線遮蔽透明樹脂成形体、並びに熱線遮蔽透明積層体
WO2008127409A2 (en) 2006-11-07 2008-10-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Infrared absorber
JP4853710B2 (ja) * 2006-11-22 2012-01-11 住友金属鉱山株式会社 レーザー溶着用光吸収樹脂組成物及び光吸収樹脂成形体、並びに光吸収樹脂成形体の製造方法
JP2008156386A (ja) * 2006-12-20 2008-07-10 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物および得られるペレット、並びにポリカーボネート樹脂成形体
JP2008150548A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ポリカーボネート樹脂成形体
JP2008214554A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 熱線遮蔽ポリカーカーボネート樹脂組成物及びそれから得られる成形体
RU2407770C2 (ru) * 2007-03-09 2010-12-27 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственная фирма "СВЕТ" Светопреобразующий материал и композиция для его получения
US8216683B2 (en) * 2007-08-03 2012-07-10 Solutia Inc. Interlayers comprising stabilized tungsten oxide agents
US8168711B2 (en) * 2007-11-05 2012-05-01 BASF SE Ludwigshafen Heat shielding additives
UA30868U (en) * 2007-12-10 2008-03-11 Николай Васильевич Косинов Universal nanomodifier

Also Published As

Publication number Publication date
CA2749599A1 (en) 2010-07-29
PL2382262T3 (pl) 2016-02-29
KR101676229B1 (ko) 2016-11-14
MX2011007665A (es) 2011-08-08
ES2548153T3 (es) 2015-10-14
NZ593929A (en) 2014-01-31
CA2749599C (en) 2014-10-07
EP2382262A1 (en) 2011-11-02
RU2506284C2 (ru) 2014-02-10
US20100184901A1 (en) 2010-07-22
MY183190A (en) 2021-02-18
CN102292387B (zh) 2013-10-30
CN102292387A (zh) 2011-12-21
AU2010206906A1 (en) 2011-07-28
PT2382262E (pt) 2015-10-22
JP2012515808A (ja) 2012-07-12
KR20160014097A (ko) 2016-02-05
DK2382262T3 (en) 2015-12-07
BRPI1005142A2 (pt) 2016-03-22
RU2011134843A (ru) 2013-03-20
US8324300B2 (en) 2012-12-04
EP2382262B1 (en) 2015-08-26
WO2010085472A1 (en) 2010-07-29
KR20110107858A (ko) 2011-10-04
SG172860A1 (en) 2011-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101676229B1 (ko) 비-화학량적인 텅스텐 옥사이드 나노입자를 포함하는, 무색 투명한 적외선 흡수 조성물
US20150252166A1 (en) Black ceramic additives, pigments, and formulations
KR20070105303A (ko) 티타늄 나이트라이드 입자를 함유하는 폴리에스터 중합체및 공중합체 조성물
JP6456906B2 (ja) ポリマー材料
KR102123800B1 (ko) 중공 입자 및 그 용도
CN110325606B (zh) 抗菌聚合物涂料组合物和抗菌聚合物膜
JPWO2019177006A1 (ja) 中空粒子、その製造方法及びその用途
AU2014201745B2 (en) Transparent, colorless infrared radiation absorbing compositions comprising nanoparticles
JP6946393B2 (ja) ポリマー材料
US20230048141A1 (en) Aqueous energy curable inkjet inks
Gläsel et al. Novel aluminium carboxylate nanofillers for radiation-cured protective polymeric coatings

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
E902 Notification of reason for refusal
N231 Notification of change of applicant
E601 Decision to refuse application
A107 Divisional application of patent