KR20140009413A - 낮은 디스플레이 스파클을 갖는 방현 표면을 구비한 유리 - Google Patents
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Abstract
"스파클", 또는 디스플레이의 시야각이 변화하는 알갱이의 패턴에서의 변화를 갖게 나타날 수 있는 알갱이가 거친 외관을 갖는 유리 제품. 상기 유리 제품은 - 투명한 유리 시트인 몇몇 구체 예에 있어서, - 디스플레이 적용, 특히 높은 주변 광 조건하에서 개선된 시인성 (viewability)을 유도하는, 작은-각의-산란 특성 및/또는 선영성 (DOI)을 갖는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 유리 시트의 방현 표면은 상기 방현 표면상에 존재하는 외부 코팅이 없는, 에칭된 표면이다.
Description
본 출원은 2011년 2월 28일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/447,242호의 우선권을 주장하며, 이의 전체적인 내용은 본 발명에 참조로서 포함된다.
액정 디스플레이 (liquid crystal displays) (LCDs)와 같은 전자 장치의 시야 창 (viewing windows) 또는 디스플레이 또는 터치스크린과 같은 적용에 있어서, 유리 시트 또는 기판은 때때로 방현 표면 (antiglare surface)으로 제공되고, 상기 표면의 방현 특성은 통상적으로 입사광 (incident light)을 산란시키고 이에 의해 번쩍임 (glare)을 감소시키는 거칠어진 표면에 의해 제공된다. 상기 거칠어진 표면은 종종 디스플레이의 전면을 형성하는 유리 시트의 표면에 적용되는 중합체 필름에 의해 제공된다. 이러한 방현 표면은 종종 디스플레이로부터 외부 반사의 명백한 가시성을 감소시키기 위해 전술된 스크린 및 디스플레이의 전면 표면 위에 사용되고, 다른 조명 조건하에서 디스플레이의 판독성 (readability)을 증가시킨다.
디스플레이 "스파클 (sparkle)" 또는 "눈부심 (dazzle)"은 방현 또는 빛 산란 표면이 디스플레이 시스템에 혼입된 경우 발생할 수 있는 현상이다. 스파클은 디스플레이의 시야 각의 변화로 입자의 패턴에서의 이동 (shift)이 있어 나타날 수 있는 매우 미세한 입자 외관과 관련된다. 이러한 타입의 스파클은 LCD와 같은 픽셀화된 디스플레이가 방현 표면을 통해 보여지는 경우 관찰된다. 이러한 스파클은 프로젝션 (projection) 또는 레이저 시스템에서 관찰되고 특징화된 "스파클" 또는 "스펙클 (speckle)"과는 다른 타입이다.
낮은 수준의 스파클을 갖는 유리 제품은 제공된다. 유리 제품 - 유리 제품이 투명한 유리 시트인 몇몇 구체 예에 있어서 -은, 디스플레이 적용, 특히 높은 주변 조명 조건하에서, 개선된 가시성을 유도하는, 작은-각-산란 특성 및/또는 낮은 반사 선영성 (distinctness-of-reflected-image) (DOI)을 갖는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 유리 시트의 표면은 에칭된 표면이고, 방현 표면을 형성하기 위해 사용된 외부 코팅 물질은 없다.
따라서, 본 발명의 제1 관점은 적어도 하나의 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트를 제공하는 데 있다. 상기 방현 표면은 약 80㎛ 내지 약 640㎛의 횡방향 주기 (lateral spatial periods) (때때로 표면 파장이라 한다)의 범위에서 측정된 약 300 nm까지의 제1 RMS 거칠기 Rlong, 약 20㎛ 미만의 횡방향 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 (surface roughness) Rshort, 및 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위에서, 표면 파장 필터링 (filtering)없이 측정된, 제3 RMS 거칠기 Rtotal을 갖고, 여기서 비율 (Rlong/Rshort)는 약 3.9 미만이다.
본 발명의 제2 관점은 디스플레이 시스템을 제공하는 데 있다. 상기 디스플레이 어셈블리는 다수의 픽셀 및 결상면 (imaging plane)을 갖는 픽셀화된 디스플레이; 및 방현 표면을 갖는 투명한 유리시트를 포함한다. 상기 투명한 유리 시트는 상기 방현 표면이 픽셀화된 디스플레이로부터 말단부이고, 미리결정된 거리에 의해 결상면으로부터 분리되기 위해 상기 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치된다. 상기 투명한 유리 시트는 약 7.5% 미만의 픽셀 출력 편차 (pixel power deviation) 및 약 60 미만의 선영성 (distinctness of image)을 갖는다.
본 발명의 제3 관점은 적어도 하나의 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 제조 방법을 제공하는 데 있다. 상기 방법은 적어도 하나의 방현 표면을 형성하기 위해 투명한 유리 시트의 적어도 하나의 표면을 거칠게 하는 단계를 포함하고, 여기서 적어도 하나의 방현 표면은 약 80㎛ 내지 약 640㎛의 횡방향 주기의 범위에서 측정된 약 300 nm까지의 제1 RMS 표면 높이 거칠기 Rlong, 약 20㎛ 미만의 횡방향 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort, 및 표면 파장 필터링 없이 측정된 제3 RMS 거칠기 Rtotal을 가지며, 여기서 비율 (Rlong/Rshort)은 약 3.9 미만이고, 여기서 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이다.
이러한 그리고 다른 관점, 장점, 및 두드러진 특징은 하기 상세한 설명, 첨부된 도면, 및 첨부된 청구항으로부터 더욱 명백해질 것이다.
도 1a는 가시적 스파클이 없음을 나타내는 제1 투명한 유리 시트와 조합된 픽셀화된 디스플레이의 이미지이고;
도 1b는 두드러진 스파클을 나타내는 제2 투명한 유리 시트와 조합된 픽셀화된 디스플레이의 이미지이며;
도 2a는 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이고;
도 2b는 투명한 유리시트의 방현 표면에 걸쳐 배치된 반사방지 코팅을 갖는 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이며;
도 3은 픽셀화된 디스플레이의 전면에 위치된 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이다.
도 1b는 두드러진 스파클을 나타내는 제2 투명한 유리 시트와 조합된 픽셀화된 디스플레이의 이미지이며;
도 2a는 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이고;
도 2b는 투명한 유리시트의 방현 표면에 걸쳐 배치된 반사방지 코팅을 갖는 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이며;
도 3은 픽셀화된 디스플레이의 전면에 위치된 투명한 유리 시트의 개략적인 측면도이다.
하기 상세한 설명에 있어서, 같은 참조 문자는 도면에 나타낸 여러 도를 통해 같거나 또는 상응하는 부분을 표시한다. 이것은 또한 특별한 언급이 없는 한, "상부", "하부", "외부", "내부", 및 이와 유사한 것과 같은 용어는 편의에 의해 사용된 것이고, 제한을 두는 용어는 아니다. 부가적으로, 어떤 그룹이 그룹의 요소 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 것으로 기술되는 경우, 이것은 상기 그룹이 개별적으로 또는 서로의 조합으로, 열거된 이들 요소의 어떤 수로 이루어지거나 또는 필수적으로 이루어지는 것을 포함할 수 있다는 것으로 이해된다. 유사하게, 어떤 그룹이 그룹의 요소 또는 이들의 조합 중 적어도 하나로 이루어진 것으로 기술되는 경우, 이것은 개별적으로 또는 서로의 조합으로, 열거된 이들 요소의 어떤 수로 이루어질 수 있다는 것으로 이해된다. 별도로 언급하지 않는 한, 열거된 경우, 값의 범위는 상기 범위의 상한 및 하한 모두를 포함한다. 본 발명에 사용된 바와 같은, 용어들의 "단수" 및 "복수"는 특별히 구분하여 사용하지 않으며, 단수적 표현 또한 특별한 언급이 없는 한, "적어도 하나" 또는 "하나 이상"을 의미한다.
일반적으로 도면, 특히 도 1을 참고하여, 실례는 특정 구체 예를 기술하는 목적을 위한 것이고, 본 발명 또는 여기에 첨부된 청구항을 제한하려는 의도가 아닌 것으로 이해될 것이다. 도면은 스케일이 필수적인 것은 아니고, 도면의 어떤 특징 및 어떤 도는 관심의 명확성 및 간결성에서 개략적으로, 또는 스케일적으로 확대되어 나타낼 수도 있다.
디스플레이 "스파클" 또는 "눈부심"은, 예를 들어, 액정 디스플레이 (LCD), 유기 발광 다이오드 (OLED), 터치 스크린 또는 유사한 것과 같은 픽셀화된 디스플레이 시스템에 방현 또는 광 산란 표면이 도입되는 경우에 발생할 수 있는 일반적으로 원하지 않는 역효과이고, 프로젝션 또는 레이저 시스템에서 관측되고 특징화되는 "스파클" 또는 "스펙클"의 타입과는 다르다. 스파클은 디스플레이의 시야 각의 변화로 입자의 패턴에서의 이동 (shift)이 있어 나타날 수 있는 매우 미세한 입자 외관과 관련된다. 디스플레이 스파클은 대략 픽셀-수준 스케일에서 밝고 어두운 또는 착색된 점으로 분명해질 수 있다. 가시적 스파클이 나타나지 않는 제1 투명한 유리 시트 및 가시적 스파클이 나타나는 제2 투명한 유리 시트의 이미지는 도 1a 및 1b에서 각각 나타내었다. 도 1a에서 나타낸 샘플은 어떤 가시적 스파클을 나타내지 않고, 서로 일정하고 규칙적인 픽셀 이미지 (110)를 갖는다.
반대로, 도 1b에서 나타낸 이미지는 픽셀 당 전력에 대한 몇몇 분산 및 가시적 노이즈 (noise)를 나타낸다. 결론적으로, 도 1b에서 나타낸 픽셀 (110)은 더욱 확산되고 서로 합쳐지는 것으로 나타난다.
디스플레이 산업에서 사용된 대부분 일반적인 방현 표면이 코팅된 중합체 필름인 반면, 본 발명은 주로 LCD 또는 다른 픽셀화된 디스플레이에 대한 보호 커버 유리로서 사용된 투명 유리 제품 또는 시트의 광학 및 표면 특성에 주로 관련된다. 특히, 디스플레이 "스파클"을 최소화하는 거칠어진 표면 및 광학 특성을 갖는 투명한 유리 시트 및 이러한 시트를 포함하는 디스플레이 시스템은 제공된다. 부가적으로, 디스플레이 적용, 특히 높은 주변 조명 조건하에서 개선된 가시성을 유도하는 바람직한 작은-각-산란 특성 또는 반사 선영성 (distinctness-of-reflected-image) (DOI)을 갖는 표면은 제공된다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 유리의 표면은 기저가 되는 유리의 에칭된 표면이다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 방현 표면은 (예를 들어, 코팅, 필름, 또는 이와 유사한) 외부 코팅 물질의 다른 사용 또는 적용 없이 형성된다.
디스플레이 스파클의 유래는 이전에 잘 이해되지 않았다. 많은 잠재적인 근거는 간섭 효과 (interference effect), 레일리 (Rayleigh) 또는 밀 (Mie)-형 산란, 및 이와 유사한 것과 같은 것으로, 가설화될 수 있다. 본 발명에 기술된 바와 같이, 방형 표면과 조합된 픽셀화된 디스플레이에서 일반적으로 관찰된 디스플레이 스파클의 타입은 주로 굴절 효과 (refractive effect)이고, 상기 굴절 효과에서 상기 표면상에 몇몇 거시적 (macroscopic) (즉, 광학 파장보다 휠씬 더 큰) 치수를 갖는 특징 (features)이 다양한 각으로 디스플레이 픽셀의 굴절 또는 "렌징 (lensing)"을 일으키고, 따라서 상기 픽셀의 명확한 상대적 강도를 변경하며, 이 효과를 정량화하기 위한 기술은 본 발명에 제공된다. 상기 기술은 '아이 시뮬레이터 (eye simulator)' 카메라 시스템 (즉, 사람 관찰자의 눈의 역학 (mechanics)를 자극하는 시스템)을 사용하여 각 디스플레이 픽셀로부터 수집된 총 전력의 표준 편차를 측정한다. 본 측정 기준은 디스플레이 스파클의 사용자 판단에 잘 연관시킨다.
따라서, 하나의 관점에 있어서, 스파클을 최소화하는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트는 제공된다. 상기 방현 표면은 화학적 에칭 및/또는 기계적 (예를 들어, 분쇄, 연마, 등)공정 또는 이와 유사한 것을 사용하여 거칠어지고, 예를 들어, 액정 디스플레이 (LCD)와 같이 픽셀화된 디스플레이에 대한 보호 커버 유리로서 사용될 수 있다. 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 측면도는 도 2a에 나타내었다. 투명 시트 (200)는 제1 방현 표면 (210) 및 투명한 유리 시트 (200)의 반대 면 위에 제2 표면 (220)을 갖는다. 도 2a, 2b, 및 3에 도시된 투명한 유리 시트 (200)가 필수적으로 2차원의, 평면 시트인 반면, 상기 투명한 유리 시트는, 몇몇 구체 예에 있어서, 3차원 시트일 수 있다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 거칠어진 방현 표면 (210)은 투명한 유리 시트 (200)에 통합되는데; 즉, 상기 방현 표면 (210)은 투명한 유리 시트 (200)의 나머지 또는 벌크로서 동일한 물질을 실질적으로 포함하며, 전술된 수단 (예를 들어, 에칭, 분쇄, 연마, 등)을 사용하여 유리 시트의 일 표면 위에 인시튜 형성된다. 몇몇 구체 예에 있어서, 이것의 최종 형태에서 방현 표면 (210)은 어떤 외부 (즉, 투명한 유리 시트와 다른 물질) 물질을 포함하지 않는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 제2 표면은 약 20 nm 미만의 RMS 거칠기를 갖는, 선택적으로 부드럽다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트 (200)은 방현 표면 (210)에 대해 증착된 반사방지층 (antireflective layer) (도 2b에서 215)를 더욱 포함한다. 상기 반사방지층 (215)은, 예를 들어, 스프레이, 스핀, 또는 딥 코팅, 물리적 기상 증착 (예를 들어, 스퍼터링 (sputtering) 또는 증발), 화학적 기상 증착, 이의 조합, 또는 이와 유사한 것과 같은 기술에 알려진 다양한 액체 또는 기상 증착 방법 중 어떤 것에 의해 적용된 코팅 또는 필름일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 선택적으로, 상기 반사방지층 (215)은 프리-스탠딩 필름 (free-standing film)으로서 방현 표면에 적용될 수 있다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 거칠어진 방현 표면 (210)은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위, 다른 구체 예에 있어서, 약 80 nm 내지 약 300 nm의 범위에서 (예를 들어, 공간 주파수 필터링이 없는 약 0.6 mm x 0.6 mm의 창 크기를 사용하여 측정된) 총 RMS 거칠기를 갖는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 제2 표면 (220)은 또한 상기 범위에서 총 RMS 거칠기를 갖게, 거칠어진다. 그러나, 다른 구체 예에 있어서, 제2 표면 (220)은 약 20 nm 미만의 RMS 거칠기를 갖게, 거칠어지지 않은 표면이다.
본 발명에 사용된 바와 같이, 용어 "Rlong"은 특별한 언급이 없는 한, 규정된 범위 (예를 들어, 약 40㎛ 내지 약 640㎛)에 걸쳐 측정된 장-파장 측면 공간의 특성의 RMS 표면 거칠기를 의미한다. 용어 "Rshort"는 특별한 언급이 없는 한, 약 20㎛ 미만의 장-파장 측면 공간 특성의 RMS 표면 거칠기를 의미한다. 용어 "Rtotal"는 특별히 언급하지 않는 한, 규정된 또는 미리 결정된 크기 (예를 들어, 약 0.6 mm x 0.6 mm)의 측정 창을 사용하여 측정된 모든 측면 표면 파장 (즉, 표면 파장 필터링이 없는)에 대해 측정된 총 RMS 거칠기를 의미한다.
감소된 거칠기 진폭 (amplitude) 또는 단-파장 공간 특성에 비하여 장-파장 공간 특성의 비 (Rlong/Rshort)를 갖는 방현 표면이 또한 제공된다. 부가적으로, 원하는 범위에서 총 RMS 거칠기 Rtotal 및 장-파장 공간 특성 Rlong의 RMS 거칠기 대 총 RMS 거칠기 Rtotal의 증가된 비 (Rtotal/Rlong)를 갖는 방현 표면은 제공된다. 낮게 측정된 스파클 및 낮은 반사 선영성의 조합을 갖는 이러한 방현 유리 표면은 무기 또는 유리 방현 표면에서 이전에는 얻을 수 없었다. 방현 표면이 총 RMS 거칠기 및 평균 피크-투-피크 특성 공간의 관점으로 이전에 기술된 반면, 본 발명은 쉽게 한정된 피크-투-피크 특성 공간을 갖지 않는 것도 포함하는, 많은 다른 눈부심 방지 (anti-glare) 표면에 적용할 수 있는 표면 파장 범위 및 거칠기 진폭 사이의 관계를 제공한다. 이러한 관계는 디스플레이 스파클을 정량적으로 감소시키는 것을 보여주고, 따라서 이전에 인식되지 않은 최적 표면 형상 및 표면 파라미터를 유도한다.
상기 방현 표면 (210)은 약 300 nm까지의 제1 RMS 표면 높이 거칠기 (Rlong)를 갖는다. Rlong은 약 40㎛ 및 약 640㎛ 사이, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 60㎛ 및 약 640㎛ 사이, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 80㎛ 및 약 640㎛ 사이의 파장 범위에서의 측면 표면 공간파의 측정으로부터 유도된다. 몇몇 구체 예에 있어서, Rlong은 약 275 nm 미만; 다른 구체 예에 있어서, 약 250 nm 미만; 또 다른 구체 예에 있어서, 약 175 nm 미만; 또 다른 구체 예에 있어서, 약 140 nm 미만; 및 다른 구체 예에 있어서, 약 115 nm 미만이다. 부가적으로, 상기 방현 표면은 제2 RMS 거칠기 (Rshort)을 갖고, 이것은 약 20㎛ 미만 (예를 들어, 약 1㎛ 내지 약 20㎛)의 횡방향 주기를 갖는 표면 공간파의 측정으로부터 유도된다. 몇몇 구체 예에 있어서, Rshort는 적어도 약 30 nm; 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 40 nm; 또 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 45 nm; 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 50 nm이다.
상기 투명한 유리 시트 (200)의 방현 표면 (210)에 대한 제1 RMS 거칠기 Rlong 대 제2 RMS 거칠기 Rshort (Rlong/Rshort)의 비는 약 4.9 미만이다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 방현 표면 (210)에 대한 Rlong/Rshort 비는 약 3.9 미만, 및 다른 구체 예에 있어서, 약 2.9 미만이다.
몇몇 구체 예에 있어서, 본 발명에 기술된 투명한 우리 시트 (200)는 약 85미만의 20°선영성 (DOI)을 갖는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 80 미만, 다른 구체 예에 있어서, 약 60 미만, 및 다른 구체 예에 있어서, 약 40 미만이다. 본 발명에 사용된 바와 같이, 용어 "선영성"은 명칭이 "Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces,"인, ASTM 절차 D5767 (ASTM 5767)의 방법 A에 의해 정의되고, 이의 내용은 본 발명에 참조로서 전체적으로 포함된다. ASTM 5767의 방법 A에 따르면, 유리 반사 인자 (glass reflectance factor)측정은 경면 시야각 (specular viewing angle) 및 경면 경사각과 약간 벗어난 각에서 유리 시트의 적어도 하나의 거칠어진 표면 위에 만들어진다. 이러한 파라미터로부터 얻어진 값은 DOI 값을 제공하기 위해 조합된다. 특히, DOI는 하기 수학 식 1에 따라 계산된다.
여기서 Ros은 경면 반사 방향에서 떨어져 0.2°및 0.4 사이의 상대적 반사 강도 평균이고, Rs는 경면 방향에서 상대적 반사 강도 평균 (경면 반사 방향 중심으로 +0.05°및 -0.05°사이)이다. 만약 입력 광원각이 (본 발명을 통하여) 샘플 표면 정상으로부터 +20°인 경우, 샘플에 대한 표면 정상은 0°이며, 그 다음 경면 반사 광의 측정 Rs는 약 -19.95°내지 -20.05°의 범위에서 평균이고, Ros는 약 -20.2°내지 -20.4°의 범위에서 평균 반사된 강도 (또는 -19.6°내지 -19.8°또는 이들 두 개의 범위 모두의 평균)로 취한다. 본 발명에서 사용된 바와 같이, DOI 값은 본 발명에 정의된 바와 같은 Ros/Rs의 목표 비 (target ratio)를 구체화하기 위해 직접 해석될 수 있다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트 (200)는 반사된 광전력 (optical power)의 > 95%가 +/- 10°의 콘 (cone) 내에 함유되도록 반사된 산란 프로파일을 갖고, 여기서 상기 콘은 어떤 입력 각에 대해 경면 반사 방향에 중심이 된다.
몇몇 구체 예에 있어서, 본 발명에 기술된 투명한 유리 시트는 약 40% 미만의 투과 헤이즈 (transmission haze) 값이다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 투과 헤이즈는 약 20% 미만이다. 본 발명에 사용된 바와 같이, 용어 "투과 헤이즈" 및 "헤이즈"는 ASTM 절차 D1003에 따라 약 ±2.5°의 각 콘 외부로 산란된 전송 광의 퍼센트를 의미한다. 광학적으로 매끄러운 표면에 대하여, 투과 헤이즈는 일반적으로 0에 가깝다.
DOI, RMS 거칠기 Rlong, 비율 (Rlong/Rshort), RMS 표면 거칠기 Rshort, 및/또는 총 RMS 거칠기 Rtotal의 다양한 조합을 갖는, 본 발명에 기술된 투명한 유리 시트 (100)의 대표적인 구체 예는 표 1에 요약되었다. 본 발명 및 첨부된 청구항은 표 1에서 포함된 것들에 필수적으로 제한되지는 않으며, 본 발명이 투명한 유리 시트가 상기 파라미터의 다른 조합을 소유할 수 있는 구체 예를 포함한다고 이해된다. 표 1에 기술된 구체 예에 있어서, 선영성 (DOI)은 20°에서 측정된다. 구체 예 A-G 및 구체 예 T에 있어서, Rlong은 약 2 mm x 2 mm의 측정 창 크기 및 약 80㎛ 이상 (예를 들어, 약 80㎛ 내지 약 640㎛)의 측면 공간 파장 범위를 사용하여 측정된 방현 표면 (130)의 RMS 거칠기이다. H-S 구체 예에 있어서, Rlong은 약 2 mm x 2 mm의 측정 창 크기 및 약 40㎛ 이상 (예를 들어, 약 40 내지 약 640㎛)의 측면 공간 파장 범위를 사용하여 측정된 방현 표면의 RMS 거칠기이다. 표 1에 기재된 모든 구체 예에 대하여, Rshort는 약 0.15 mm x 0.15 mm의 측정 창 크기 및 20㎛ 이하 (예를 들어, 약 1㎛ 내지 약 20㎛)의 측면 공간 파장 범위를 사용하여 측정된 방현 표면의 RMS 거칠기이다. 표 1에 기재된 모든 구체 예에 대하여, Rtotal은 약 0.6 mm x 0.6 mm의 측정 창 크기를 사용하여 측정된 모든 측면 표면 파장 (표면 파장 필터링 없음)에 대해 측정된 총 RMS 거칠기이다. 반복가능한 결과를 달성하기 위하여 측정 창 크기를 구체화하는 것이 필요하다. 표 1에 기재된 구체 예에서 선택된 측정 창 크기는 각각의 특정한 표면 파장 범위에서 RMS 거칠기를 측정하는데 사용된 관련 측면 표면파를 정확히 포획하는 창 크기를 대표한다. 측정 창 크기에서 작은 편차는 표 1에 기재된 결과를 상당하게 변형시키지 않을 것이다.
| 구체 예 |
투과 헤이즈 (%) |
DOI (20°) |
RMS거칠기 (nm) | Rlong/ Rshort |
Rtotal/ Rlongb |
||
| Rlongd | Rshorte | Rtotalf | |||||
| A | <60 | <115b | <3.9 | ||||
| B | <60 | <250b | <2.9 | ||||
| C | <250b | >45 | <3.9 | ||||
| D | <250b | >30 | <2.9 | ||||
| E | <85a | <200b | >50 | ||||
| F | <140b | >45 | |||||
| G | <85a | <115b | >30 | ||||
| H | <60 | <175c | <4.9 | ||||
| I | <60 | <300c | <3.9 | ||||
| J | <300c | >45 | <4.9 | ||||
| K | <300c | >30 | <3.9 | ||||
| L | <85a | <275c | >50 | ||||
| M | <85a | <220c | >45 | ||||
| N | <85a | <175c | >30 | ||||
| O | <40 | <60 | <300c | <3.9 | |||
| P | <10 | <60 | <300c | <3.9 | |||
| Q | <10a | <60 | <300c | 60-600 | <3.9 | ||
| R | <20 | <40 | <300c | >45 | 60-600 | <4.9 | |
| S | <20 | <300c | <4.9 | ||||
| T | <20a | <300b | 60-600 | <1.9 | |||
| U | 60-600 | ≥2.20 | |||||
| V | >30 | 60-600 | ≥1.80 | ||||
| W | <20 | <60 | 60-600 | ≥1.80 | |||
a 선택적
b 약 80㎛ 이상 (예를 들어, 약 80 내지 약 640㎛)의 측면 공간 파장 범위에서 측정된 Rlong
c 약 40㎛ 이상 (예를 들어, 약 40 내지 약 640㎛)의 측면 공간 파장 범위에서 측정된 Rlong
d 약 2 mm x 2 mm의 측정 창 크기를 사용하여 측정된 Rlong
e 약 0.15 mm x 0.15 mm의 측정 창 크기를 사용하여, 약 20㎛ 이하의 측면 공간 파장 범위에서 측정된 Rshort
f 약 0.6 mm x 0.6 mm의 측정 창 크기를 사용하여 측정된 Rtotal
일 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 A), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 115 nm 미만이고, Rlong/Rshort의 비는 약 3.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 B), 상기 투명한 유리시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 250 nm 미만이고, Rlong/Rshort의 비는 약 2.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 C), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 250 nm 미만이고, Rshort는 약 45 nm 초과이며, Rlong/Rshort의 비는 약 3.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 D), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 250 nm 미만이고, Rshort는 약 30nm 초과이며, Rlong/Rshort의 비는 약 2.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 E), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong는 약 200 nm 미만이고, Rshort는 약 50 nm 초과이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 85 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 F), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 140nm 미만이고, Rshort는 약 45 nm 초과이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 G), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 115 nm 미만이고, Rshort는 약 30nm 초과이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 85 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 H), 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 175 nm 미만이고, Rlong/Rshort비는 약 4.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 I), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방형 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, Rlong/Rshort 비는 약 4.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 J), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300nm 미만이고, Rshort은 약 45 nm 초과이며, Rlong/Rshort 비는 약 4.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 K), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, Rshort은 약 30 nm 초과이며, Rlong/Rshort의 비는 약 3.9 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 L), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 275 nm 미만이고, Rshort은 약 50 nm 초과이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 85 미만의 DOI을 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 M), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 220 nm 미만이고, Rshort는 약 45 nm 초과이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 85 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 N), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 175 nm 미만이고, Rshort는 약 30 nm 초과이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 85 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 O), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, Rlong/Rshort 비는 약 3.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 40% 미만의 투과 헤이즈 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 P), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, Rlong/Rshort 비는 약 3.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 10% 미만의 투과 헤이즈 및 약 60 미만의 DOI를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 Q), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, RMS 총 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이며, Rlong/Rshort 비는 약 3.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 60 미만의 DOI, 및 선택적으로 약 10% 미만의 투과 헤이즈를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 R), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, RMS 표면 거칠기 Rshort는 약 45 nm 초과이며, RMS 총 거칠기 Rtotal은 선택적으로 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이고, Rlong/Rshort 비는 약 4.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 40 미만의 DOI, 및 선택적으로 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 S), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, Rlong/Rshort 비는 약 4.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 T), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면의 RMS 거칠기 Rlong은 약 300 nm 미만이고, RMS 총 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이며, Rlong/Rshort 비는 약 1.9 미만이다. 상기 투명한 유리 시트는 선택적으로 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 U), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. RMS 총 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이고, Rtotal/Rlong 비는 약 2.20 이상이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 V), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. RMS 표면 거칠기 Rshort는 약 30 nm 초과이고, RMS 총 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이며, Rtotal/Rlong 비는 약 1.80 이상이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 1에서 구체 예 W), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖는다. RMS 총 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위이고, Rtotal/Rshort 비는 약 1.80 이상이다. 상기 투명한 유리 시트는 약 60 미만의 DOI, 및 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 이온 교환가능한 유리를 포함하고, 기술분야에서 알려진 화학적 또는 열적 수단에 의해 강화된다. 일 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 이온 교환에 의해 화학적으로 강화된다. 이러한 공정에 있어서, 유리의 표면에 또는 근처의 금속이온은 유리에서 금속 이온으로서 등가를 갖는 더 큰 금속 이온과 교환된다. 상기 교환은 일반적으로, 예를 들어, 더 큰 금속 이온을 함유하는 용융염 욕과 같은 이온 교환 매체와 유리를 접촉시켜 수행된다. 상기 금속 이온은 통상적으로 예를 들어, 알칼리 금속 이온과 같은 1가 금속 이온이다. 어떤 비-제한적인 실시 예에 있어서, 이온 교환에 의해 나트륨 이온을 함유하는 유리 시트의 화학적 강화는 질산칼륨 (KNO3) 또는 이와 유사한 것과 같은 용융된 칼륨염을 포함하는 이온 교환 욕에 상기 유리 시트를 침지시켜 달성된다.
이온 교환 공정에서 더 큰 금속 이온에 의해 작은 금속 이온의 대체는 압축 응력 (compressive stress) 하에서, 표면으로부터 깊이까지 (또한 "층의 깊이"라 한다) 연장하는 유리에서 영역을 생성한다. 상기 투명한 유리 시트의 표면에서 이러한 압축 응력은 유리 시트의 내부에 인장응력 (tensile stress) (또한 "중심 인장"이라 한다)에 의해 균형을 이룬다. 몇몇 구체 예에 있어서, 여기에 기술된 투명한 유리 시트의 표면은, 이온 교환에 의해 강화된 경우, 적어도 350 MPa의 압축 응력을 가지며, 압축 응력 하의 영역은 표면 아래로 적어도 15 ㎛의 층의 깊이까지 연장한다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 소다 라임 유리 (soda lime glass), 알칼리 알루미노실리케이트 유리 (alkali aluminosilicate glass), 또는 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 (alkali aluminoborosilicate glass)를 포함한다. 일 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 알루미나, 적어도 하나의 알칼리 금속, 몇몇 구체 예에 있어서, 50 mol% SiO2 초과, 다른 구체 예에 있어서, 적어도 58 mol%, 및 다른 구체 예에 있어서, 적어도 60 mol% SiO2를 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 여기서 비는 
이고, 여기서 상기 개질제 (modifiers)는 알칼리 금속 산화물이다. 특정 구체 예에 있어서, 이러한 유리는 약 58 mol% 내지 약 72 mol% SiO2; 약 9 mol% 내지 약 17 mol% Al2O3; 약 2 mol% 내지 약 12 mol% B2O3; 약 8 mol% 내지 약 16 mol% Na2O; 및 0 mol% 내지 약 4 mol % K2O로 이루어지거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 포함하고, 여기서 비는 
이며, 여기서 상기 개질제는 알칼리 금속 산화물이다.
또 다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 약 61 mol% 내지 약 75 mol% SiO2; 약 7 mol% 내지 약 15 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 12 mol% B2O3; 약 9 mol% 내지 약 21 mol% Na2O; 0 mol% 내지 약 4 mol% K2O; 0 mol% 내지 약 7 mol% MgO; 및 0 mol% 내지 약 3 mol% CaO로 이루어지거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함한다.
또 다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 약 60 mol% 내지 약 70 mol% SiO2; 약 6 mol% 내지 약 14 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 15 mol% B2O3; 0 mol% 내지 약 15 mol% Li2O; 0 mol% 내지 약 20 mol% Na2O; 0 mol% 내지 약 10 mol% K2O; 0 mol% 내지 약 8 mol% MgO; 0 mol% 내지 약 10 mol% CaO; 0 mol% 내지 약 5 mol% ZrO2; 0 mol% 내지 약 1 mol% SnO2; 0 mol% 내지 약 1 mol% CeO2; As2O3 약 50 ppm미만; 및 Sb2O3 약 50 ppm 미만으로 이루어지거나, 필수적으로 이루어지거나, 또는 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 여기서 12 mol% ≤ Li2O + Na2O + K2O ≤ 20 mol% 및 0 mol% ≤ MgO + CaO ≤ 10 mol%.
또 다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 약 64 mol% 내지 약 68 mol% SiO2; 약 12 mol% 내지 약 16 mol% Na2O; 약 8 mol% 내지 약 12 mol% Al2O3; 0 mol% 내지 약 3 mol% B2O3; 약 2 mol% 내지 약 5 mol% K2O; 약 4 mol% 내지 약 6 mol% MgO; 및 0 mol% 내지 약 5 mol% CaO로 이루어지거나, 필수적으로 이루어지거나 또는 포함하는 알칼리 알루미노실리케이트 유리를 포함하고, 여기서: 66 mol% ≤ SiO2 + B2O3 + CaO ≤ 69 mol%; Na2O + K2O + B2O3 + MgO + CaO + SrO > 10 mol%; 5 mol% ≤ MgO + CaO + SrO ≤ 8 mol%; (Na2O + B2O3) - Al2O3 ≤ 2 mol%; 2 mol% ≤ Na2O - Al2O3 ≤ 6 mol%; 및 4 mol% ≤ (Na2O + K2O) - Al2O3 ≤ 10 mol%.
다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 SiO2, Al2O3, P2O5, 및 적어도 하나의 알칼리 금속 산화물 (R2O)을 포함하고, 여기서 0.75 ≤ [(P2O5 (mol%) + R2O (mol%))/ M2O3 (mol%)] ≤ 1.2, 여기서 M2O3 = Al2O3 + B2O3이다. 몇몇 구체 예에 있어서, [(P2O5 (mol%) + R2O (mol%))/M2O3 (mol%)] = 1이고, 몇몇 구체 예에 있어서, 유리는 B2O3 및 M2O3 = Al2O3을 포함하지 않는다. 상기 유리는, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 40 내지 약 70 mol% SiO2; 0 내지 약 28 mol% B2O3; 약 0 내지 약 28 mol% Al2O3; 약 1 내지 약 14 mol% P2O5; 및 약 12 내지 약 16 mol% R2O을 포함한다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 유리는 약 40 내지 약 64 mol% SiO2; 0 내지 약 8 mol% B2O3; 약 16 내지 약 28 mol% Al2O3; 약 2 내지 약 12 mol% P2O5; 및 약 12 내지 약 16 mol% R2O을 포함한다. 상기 유리는 MgO 또는 CaO와 같은, 적어도 하나의 알칼리 토 금속 산화물을 더욱 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트를 포함하는 유리는 리튬이 없으며; 즉, 상기 유리는 1 mol% Li2O 미만을 포함하고, 다른 구체 예에 있어서, 0.1 mol% Li2O 미만, 및 다른 구체 예에 있어서, 0 mol% Li2O을 포함한다. 몇몇 구체 예에 있어서, 이러한 유리는 비소, 안티몬, 및 바륨 중 적어도 하나가 없다; 즉, 상기 유리는 1 mol% 미만을 포함하고, 다른 구체 예에 있어서, 0.1 mol% 미만의 As2O3, Sb2O3, 및/또는 BaO를 포함한다.
픽셀 크기 및 픽셀 이미지 평면과 방현 표면 사이의 거리와 같은 디스플레이 시스템 파라미터가 디스플레이 스파클에 영향을 미친다는 것을 발견하였다. 특히, 더 작은 디스플레이 픽셀은 일반적으로 시각적으로 측정가능한 더욱 심각한 스파클을 초래하고; 따라서 고-해상도 (즉, 작은 픽셀) 디스플레이에 방현 표면을 포함시키는 경우 스파클을 낮게 유지하기 위해 좀더 노력해야할 목표가 있다.
도 3은 투명한 유리 시트 (200)의 방현 표면 (210)의 스파클의 정도를 결정하기 위해 사용될 수 있는, 본 발명에 기술된, 픽셀화된 (즉, 다수의 픽셀을 갖는) 디스플레이 및 투명한 유리 시트 (200)의 형상의 개략적인 단면도이다. 투명한 유리 시트 (200)는 다수의 픽셀 (305)를 포함하고 이미지 평면 (310)을 갖는 픽셀화된 디스플레이 (300)의 전면에 배치된다. 도 2에 나타난 바와 같은 형상에 있어서, 투명한 유리 시트 (200)는 상기 투명한 유리 시트 (200)의 방현 표면 (210)이 픽셀화된 디스플레이 (300)으로부터 먼 거리 (즉, 멀리 떨어진 면)에 있고, 미리 결정된 광학 거리 d에 의해 픽셀화된 디스플레이 (300)의 이미지 평면 (310)으로부터 분리되도록 픽셀화된 디스플레이 (200)의 전면에 위치 또는 구성된다.
본 발명에 기술된 투명한 유리 시트와 같은, 예를 들어, LCD 디스플레이 또는 이와 유사한 픽셀화된 디스플레이의 전면에 위치된 또는 구성된 경우, 약 7.5% 미만, 몇몇 구체 예에 이어서, 약 7% 미만의 픽셀 출력 편차 (PPD)를 갖는다. 본 발명에 사용된 바와 같이, 용어 "픽셀 전력 편차" 및 "PPD"는 디스플레이 스파클에 대한 양적 측정을 의미한다. 특별한 언급이 없는 한, PPD는 60㎛ x 180㎛의 원시 서브-픽셀 피치 (native sub-pixel pitch) 및 약 44㎛ x 약 142㎛의 서브-픽셀 오프닝 창 크기를 갖는 에지-발광 (edge-lit) LCD 스크린 (트위스티드 네마틱 (twisted nematic) LCD)을 포함하는 디스플레이 배열을 사용하여 측정된다. 상기 LCD 스크린의 전면 표면은 광택의, 항-반사형 선형 편광 필름을 갖는다. 디스플레이 시스템의 일부를 형성하는 투명한 유리 시트 또는 디스플레이 시스템의 PPD를 결정하기 위하여, 스크린은 사람 관찰자의 눈의 파라미터에 유사한 "아이-시뮬레이터 (eye-simulator)" 카메라의 초점 영역에 위치된다. 이러한 것으로, 상기 카메라 시스템은 광의 수집 각을 조정하기 위해 광학 경로로 삽입된 개구부 (aperture) (또는 "동공 개구 (pupil aperture)")를 포함하고, 따라서 사람 눈의 동공의 개구에 유사하게 된다. 본 발명에 기술된 PPD 측정에 있어서, 조리개 (iris diaphragm)가 18 밀리라디언의 각에 대응한다. 홍채 (iris)를 통해 보여진 바와 같은 LCD 픽셀의 이미지는 LCD 픽셀 당 적어도 약 20 CCD 픽셀을 갖는 CCD (전하-결합 소자 (charge-coupled device)) 카메라에 의해 수집된다. PPD는 CCD 카메라에 의해 수집된 이미지의 분석에 의해 계산된다. 상기 측정 영역은 통상적으로 약 30 x 30 LCD 픽셀을 포함한다. 다른 색 필터 투과에서 온 픽셀 전력 편차를 제거하기 위하여, 디스플레이의 그린 픽셀만이 조명된다. 이러한 측정 시스템에 사용된 LCD 스크린은 약 3.2-3.5%의 (즉, 방현 유리 시트 없이) 단독 측정된 경우의 PPD를 갖는다. 본 발명에 보고된 PPD 값은 어떤 기선 (baseline) 또는 기준 감손 (reference subtraction)없이 계산된다; 즉, 투명한 유리 시트의 부재하에서 결정된 LCD의 기선 PPD 값은 본 발명에 보고된 PPD 값에 포함된다.
PPD는 하기 절차에 따라 디스플레이 픽셀의 이미지 분석에 의해 계산된다. 그리드 박스 (grid box)는 각각의 LCD 픽셀 주위에서 인발되고, 각각의 그리드 박스 내에 총 전력은 CCD 카메라 데이터로부터 계산되며 각 픽셀에 대한 총 전력으로서 할당된다. 따라서 각 LCD 픽셀에 대한 총 전력은 숫자의 배열에 대해 평균 및 표쥰 편차가 계산될 수 있게 되고, 상기 PPD 값은 픽셀 당 평균 전력 (100배)으로 나눈 픽셀당 총 전력의 표준 편차로서 정의된다. 아이 시뮬레이터 카메라에 의해 각각의 LCD 픽셀로부터 수집된 총 전력은 측정되고, 총 픽셀 전력의 표준 편차 (PPD)는 측정 지역을 가로질러 계산되고, 이것은 통상적으로 약 30 x 30 LCD 픽셀을 포함한다. 다른 색 필터 투과로부터 온 픽셀 전력 편차를 제거하기 위하여, 디스플레이의 그린 픽셀만이 조명된다. 이러한 측정 시스템에 있어서, 사용된 LCD 스크린은 약 3.2-3.5%의 (방현 유리 시트 없이) 단독 측정된 경우의 PPD를 갖는다.
PPD 값을 얻기 위해 사용된 측정 시스템 및 이미지 프로세싱 계산 (image processing calculation)의 상세한 내용은 Jacques Gollier 등에 의해 2011년 2월 28일에 "Sparkle Measurement System,"이란 명칭으로 동시에 출원된, 미국 가 특허출원 제61/447,285호에 기술되었고, 이의 전체적인 내용은 본 발명에 참조로서 포함된다. 상기 측정 시스템은 다수의 픽셀을 포함하는 픽셀화된 소스를 포함하고, 여기서 각각의 다수의 픽셀은 지수 i 및 j로 언급되며; 이미지 시스템은 선택적으로 상기 픽셀화된 소스로부터 유래하는 광학 경로를 따라 배치된다. 상기 이미지 시스템은: 제2 다수의 픽셀 (여기서 각각의 제2 다수의 픽셀은 지수 m 및 n으로 언급됨)을 포함하는 픽셀화된 감응 지역 (sensitive area)을 갖고 광학 경로를 따라 배치된 이미지 장치; 및 픽셀화된 소스 및 이미지 장치 사이의 광학 경로 상에 배치된 조리개 (diaphragm) (여기서 상기 조리개는 픽셀화된 소스에서 기원하는 이미지에 대한 조정가능한 수집 각을 갖는다)를 포함한다. 상기 이미지 프로세싱 계산은: 다수의 픽셀을 포함하는, 투명한 샘플의 픽셀화된 이미지를 획득하는 단계; 상기 픽셀화된 이미지에 인접한 픽셀들 사이에 경계를 결정하는 단계; 상기 픽셀화된 이미지에서 각 소스 픽셀에 대한 통합된 에너지를 얻기 위하여 경계 내에서 통합시키는 단계; 및 각 소스 픽셀에 대한 통합된 에너지의 표준 편차를 계산하는 단계를 포함하고; 여기서 상기 표준 편차는 픽셀 분산 당 전력이다.
몇몇 구체 예에 있어서, 도 2에서 나타낸 바와 같이 픽셀화된 디스 플레이 (210)로 구성된 투명한 유리 시트 (100)는 약 85 미만; 몇몇 구체 예에 있어서, 약 80 미만, 및 몇몇 구체 예에 있어서, 약 60 미만 및 다른 구체 예에 있어서, 약 40 미만의 20°DOI을 갖는다.
본 발명에 기술된 형상의 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 픽셀화된 디스플레이는 또한 (즉, 픽셀 디스플레이 및 아이-시뮬레이터 카메라 사이에 배치되지 않는 투명한 유리 시트 없이) 단독으로 측정된 경우 픽셀 출력 편차 (제2 픽셀 출력 편차, 또는 제2 PPD)를 나타낸다. 이러한 예에 있어서, 픽셀화된 디스플레이와 조합된 경우의 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 PPD는 픽셀화된 디스플레이 단독의 PPD보다 두 배 이상인 경우는 없다. 다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 PPD는 픽셀화된 디스플레이의 PPD보다 약 4% 초과할 뿐이며, 몇몇 구체 예에 있어서, 픽셀화된 디스플레이의 PPD 보다 약 3.5% 초과할 뿐이다.
단독 픽셀화된 디스플레이 (DPPD)의 PPD로부터 디스플레이와 조합된 경우, 상기 투명한 유리 시트의 DOI, PPD, 및/또는 PPD에서 차이의 다양한 조합을 갖는, 본 발명에 기술된 투명한 유리 시트의 대표적인 구체 예는 표 2에 요약되었다. 본 상세한 설명 및 첨부된 청구항은 표 2에 포함된 것에 필수적으로 제한되지 않으며, 본 발명은 투명한 유리 시트가 상기 파라미터의 다른 조합을 소유할 수 있는 구체 예를 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 표 2에서 기술된 구체 예에 있어서, 선영성 (DOI)은 20°에서 측정된다.
| 구체 예 | DOI 20° | PPD (%) | DPPD |
| AA | <80 | <7 | |
| BB | <60 | <7.5 | |
| CC | <80 | <3.5% | |
| DD | <60 | <4% | |
| EE | <60 | <4% | |
| FF | <60 | <2x |
일 구체 예에 있어서 (표 2에서 구체 예 AA), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 80 미만이고, 상기 투명한 유리 시트가 전술된 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 약 7% 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 2에서 구체 예 BB), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 갖고, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 20 미만이고, 상기 투명한 유리 시트가 전술한 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 약 7.5% 미만이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 2에 구체 예 CC), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 80 미만이고, 상기 투명한 유리 시트가 전술된 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 측정된 픽셀화된 디스플레이의 PPD보다 약 3.5%를 초과할 뿐이며 또는 그렇지 않으면 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치/구성된 투명한 유리 시트 없이 결정된다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 2에서 구체 예 DD), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 60 미만이고, 상기 투명한 유리 시트가 전술된 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 측정된 픽셀화된 디스플레이의 PPD보다 약 4%를 초과할 뿐이며 또는 그렇지 않으면 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치/구성된 투명한 유리 시트없이 결정된다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 2에서 구체 예 EE), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 60 미만이고, 상기 투명한 유리 시트가 전술된 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 측정된 픽셀화된 디스플레이의 PPD의 약 4%를 초과할 뿐이며 또는 그렇지 않으면 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치/구성된 투명한 유리 시트 없이 결정된다. 부가적으로, 상기 픽셀화된 디스플레이 시스템에서 가장 작은 (최소) 서브-픽셀 창 오프닝 치수는 약 200㎛ 미만이다. 몇몇 구체 예에 있어서, 가장 작은 서브-픽셀 창 오프닝 치수는 약 100㎛ 미만, 다른 구체 예에 있어서, 약 65㎛ 미만이다. 상기 픽셀화된 디스플레이의 결상면 (예를 들어, LCD 디스플레이에서 색 필터 평면) 및 투명한 유리 시트의 방현/산란 표면 사이의 총 거리는 약 1.0 mm 내지 약 3.5 mm의 범위이다.
또 다른 구체 예에 있어서 (표 2에서 구체 예 FF), 상기 투명한 유리 시트는 적어도 하나의 거칠어진 방현 표면을 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트의 DOI는 약 60 미만이고, 투명한 유리 시트가 전술한 바와 같이 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치 또는 구성된 경우 측정된 PPD는 측정된 바와 같은 픽셀화된 디스플레이의 PPD보다 2배를 초과하지 않으며 또는 그렇지 않으면 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치/구성된 유리 시트 없이 결정된다.
또 다른 관점에 있어서, 본 발명에 기술된 바와 같이, 최소화된 스파클을 갖는 투명한 유리 시트를 포함하는 디스플레이 시스템 (도 2에서 200)이 제공된다. 상기 디스플레이 시스템 (150)은, 예를 들어, 다수의 픽셀 및 결상면을 갖는 LCD 디스플레이와 같은 픽셀화된 디스플레이 (210) 및 방현 표면 (도 2에서 110)을 갖는, 전술한 것과 같은, 투명한 유리 시트 (도 2에서 100)를 포함한다. 상기 투명한 유리 시트는 방현 표면이 픽셀화된 디스플레이로부터 멀리 있고, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 1.0 mm 내지 약 3.5 mm의 범위에 있는, 소정의 거리에 의해 결상면으로부터 분리되는 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치된다. 본 발명에 기술된 투명한 유리 시트는 약 7.5% 미만, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 7% 미만의 픽셀 출력 편차 (PPD)를 갖는다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트는 약 80, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 60 미만의 선영성 (DOI)을 갖는다. 상기 디스플레이 시스템의 투명한 유리 시트의 다양한 비-제한적인 구체 예는 표 1 및 2에 요약되었다.
디스플레이 시스템의 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 픽셀화된 디스플레이는 또한 방현 표면 (제2 픽셀 출력 편차,또는 제2 PPD)를 갖는 유리 시트 없이 단독으로 측정된 경우의 픽셀 출력 편차를 갖는다. 여기서, 디스플레이와 조합된 경우 투명한 유리 시트의 PPD는, 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 픽셀화된 디스플레이의 제2 PPD보다 2배를 초과하지 않는다. 다른 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 PPD는 픽셀화된 디스플레이의 제2 PPD보다 약 4%를 초과할 뿐이고, 몇몇 구체 예에 있어서, 제2 PPD보다 약 3.5% 초과할 뿐이다. 상기 픽셀화된 디스플레이는, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 200㎛ 미만의 서브-픽셀 창 오프닝 치수를 가질 수 있다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 서브-픽셀 창 오프닝 치수는 약 100㎛ 미만이고, 몇몇 구체 예에 있어서, 약 65 nm 미만이다.
단일 거칠어진 방현 표면을 갖는 유리 샘플은 카메라를 향하여 접하는 거칠어진 방현 표면을 갖는 LCD 스크린의 전면에 위치된다. 상기 샘플은 LCD의 전면 표면 및 방현 유리 샘플의 근 표면 사이에 0.635 mm의 에어 갭 (air gap)을 갖게 위치된다. 각 방현 유리 샘플은 0.7 mm의 두께를 갖는다. 상기 전면 LCD 유리의 두께, 상기 전면 LCD 편광기, 상기 에어 갭, 및 상기 방현 샘플의 두께를 차지하여, 상기 LCD 이미지 평면 (색 필터 평면) 및 거친 방현 표면 사이의 총 광학 거리는 약 2.0 mm이다. 상기 LCD 스크린은 "그린 스크린" 모드에 놓이며, 여기서 모든 그린 픽셀은 완전히 조명되고, 모든 다른 픽셀은 꺼놓는다. 상기 픽셀의 이미지는 아이 시뮬레이터 카메라를 사용하여 포획되고, 각각 그린 픽셀을 위한 총 픽셀 전력의 표준 편차는 PPD 값으로 계산되고 보고된다.
DOI, Ros, Rs, 및 반사된 산란 프로파일은 Rhopoint 기기로부터 Novo-gloss IQ 배광측정기 (goniophotometer)를 사용하여 (ASTM D5767에 따른) 20°입력 각에서 반사로 측정된다. 대부분의 경우에 있어서, 이러한 기기는 동일한 기기로부터 고유 (raw) 측정된 Ros 및 Rs 값과 정확히 일치하지 않는 자동적으로 계산된 DOI 값이 보고된다. 이러한 예에 있어서, 고유 Ros 및 Rs 값은 DOI의 자동 기기 계산을 보정하기 위해 사용된다. 이러한 값은 "보정된" DOI 값 (즉, 고유 Rs 및 Ros 데이터에 기초한)으로서 본 발명에 보고된다. 특별한 언급이 없는 한, 본 발명을 통해 보고된 모든 DOI 값은 "보정된" DOI 값으로 해석될 수 있다. 투과 헤이즈는 BYK-Gardner Haze-Gard Plus을 사용하여 측정된다.
2D 표면 프로파일 맵 (maps)을 발생하는, 예를 들어, Zygo NewView 광학 표면 프로파일러와 같은 표면 프로파일로미터 (profilometer)는 낮은-스파클 방현 표면을 발생하기 위해 최적의 거칠기 파라미터를 연구하는데 사용된다. 표면 공간 파장 필터링 기술은 이 분석의 목적을 위하여 사용된다. 이 기술은 Fourier 변형 기술을 사용하여 표면 거칠기 파의 공간 파장 내용 (또한 전력 스펙트럼 밀도 (power spectral density)라 한다)을 분석하는 단계를 포함한다. 이러한 방법에 있어서, "파장 필터"는 적용될 수 있고, 효과적인 RMS 거칠기 값은 소정의 파장 범위에서 오직 표면 공간파 (spatial waves)를 사용하여 계산될 수 있다. 실제 실행에 있어서, 파장 필터는 실제 표면 거칠기 프로파일의 일부가 아닌 "노이즈 (noise)" 또는 "굴곡 (waviness)"를 제거하기 위하여 거칠기 측정에 종종 적용된다. 그러나, 이러한 종래의 방식에 사용된 통상적 파장 필터는 매우 넓은 파장 창를 가지며, 디스플레이 스파클을 개선시키는데 관련된 정보를 제공하지 않는다. 다른 기기에 걸쳐 RMS 거칠기 값을 정확하게 비교하기 위하여, 기기, 측정 위도우 크기, 및 적용된 파장 필터링을 구체화하는 것이 필수적이다. 더 많은 샘플 토폴로지 (topology)가 측정에 포함되기 때문에, 더 큰 측정 창는 통상적으로 더 높게 측정된 거칠기 값을 결과할 것이다.
긴 표면파는 스파클을 증가시키는 경향이 있는 반면, 단 표면파는 스파클을 감소시키는 경향이 있다. 다른 전위 표면 파장 범위는 이들이 스파클을 증가시킬 가능성이 가장 높다는 것을 확인하기 위해 분석되었다. 본 발명에 사용된 바와 같이 "1-20 microns (㎛)의 표면 파장 범위에서 RMS 거칠기"와 같은 문장은 RMS 거칠기가 명시된 범위를 벗어나는 모든 측면 공간 파장을 여과하여 계산되는 반면, 그 범위에서 RMS 거칠기를 계산하기 위해 명시된 범위 내부의 측면 공간 파장을 포함한다.
광범위하게 다른 표면 파장 범위에서 RMS 거칠기을 적당하게 측정하기 위하여, 광학 표면 프로파일러에서 다른 배율 수준을 사용하는 것이 필수적이다. 1-20㎛ 측면 파장 범위에서 표면파는 (대략 0.1 mm x 0.13 mm의 창 크기를 사용하여) 분석된다. 40㎛ - 640㎛ 파장 범위에서 표면파는 (약 2.1 mm x 2.3 mm의 창 크기를 사용하는) 약 50x 배율에서 분석된다. 640㎛보다 더 큰 표면파가 표면 거칠기를 극적으로 변화시키지 않는다는 것을 발견하였다. 따라서, 40㎛ - 640㎛ 측면 공간 파장 창에서 계산된 RMS 거칠기는 40㎛보다 더 큰 모든 표면파에 대해 계산된 RMS 거칠기와 사실상 동일하다. 유사하게, 1㎛ - 20㎛ 측면 공간 파장 창에서 계산된 RMS 거칠기는 20㎛ 미만의 표면파에 대해 계산된 RMS 거칠기와 사실상 동일하다는 것을 발견하였다. 중간 창 크기 (0.65 mm 내지 0.5 mm 창)는 장 및 단 표면파 모두를 정확하게 포획하기 위하여, 파장 필터 없이 총 RMS 거칠기를 계산하는데 선택된다. 단-파, 장-파, 및 총 RMS 거칠기의 다양한 조합을 포함하는 특별한 구체 예는 본 발명에 기술되었다.
본 발명에 기술된 바와 같이, 스파클의 근본 원인 (root cause)은 방현 표면의 거칠기 파라미터와 서로 관련된다. 특히, 방현 표면에 더 큰 (측면 공간) 파장 특성의 거칠기 진폭을 감소 또는 최소화 및/또는 작은 파장 특성의 거칠기 진폭을 증가시키는 것은 디스플레이 스파클을 감소시키는데 효과적이다. 유리 에칭 공정은 원하는 표면 거칠기 프로파일 및/또는 표면 특성의 측면 공간 또는 파장과 같은 파라미터를 얻는데 사용될 수 있다. 유리 기판 표면의 이러한 타입을 생성하기 위한 공정은, 예를 들어, 역사적으로 최적화되고 몰딩의 사용을 통해 더욱 결정적인 중합 코팅 공정 또는 유리에 대해 다소 적절하지 않지만, 중합체에 대해 적절한 다른 직접 패턴닝 기술보다 최적화하는 것이 더욱 어렵다. 특히, 유리 에칭 공정 - 최종 제품의 유리 표면상에 외부 코팅 물질을 남지 않는 공정 -은 본 발명에 기술된 디스플레이 스파클을 최소화하는데 효과적인 잘-제어된 거칠기 파라미터의 타입으로 방현 표면을 생성하는 것이 지금까지 가능하지 않았다.
본 발명에 기술된 특성을 갖는 방현 표면은 다양한 에칭 공정을 사용하여 얻어질 수 있다. 이러한 공정의 비-제한적인 실시 예는, Krista L. Carlson 등에 의해 "Glass and Display Having Antiglare Properties"이란 명칭으로 2010년 8월 18일자에 출원된 미국 특허출원 제12/858,544호; Krista L. Carlson 등에 의해 "Glass Having Antiglare Surface and Method of Making"이란 명칭으로 2010년 9월 30일자에 출원된 미국 특허출원 제12/730,502호; Diane K. Guilfoyle 등에 의해 "Antiglare Treatment Method and Articles Thereof"이란 명칭으로 2010년 4월 30일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/329,936호; Diane K. Guilfoyle 등에 의해 "Antiglare Treatment Method and Articles Thereof"이란 명칭으로 2010년 8월 11일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/372,655호; 및 Jeffrey T. Kohli 등에 의해 "Antiglare Surface and Method of Making"이란 명칭으로 2010년 4월 30일자에 출원된 미국 가 특허출원 제61/329,951호에 개시되어 있으며, 이들 특허들의 전체적인 내용은 참고문헌으로 본 발명에 포함된다.
미국 특허출원 제12/858,544호 및 제12/730,502호에 기술된 방법에서는 유리 표면이 표면 위에 결정을 형성하기 위해 제1 에칭제로 처리된다. 상기 결정의 각각에 인접한 표면의 영역은 그 다음 원하는 조도로 에칭되고, 상기 유리 표면으로부터 결정을 제거시키는 단계, 및 원하는 헤이즈 및 광택을 갖는 표면을 제공하기 위해 유리 시트의 표면의 거칠기를 감소시키는 단계가 수반된다.
하나의 비-제한적인 실시 예에 있어서, 미국 특허출원 제12/858,544호 및 제12/730,502호에 기술된 다중단계 처리는 유리 시트가 제1 욕에 침지되는 제1 거칠기 단계 또는 그렇지 않으면 5-20 wt%의 중불화암모늄 (ammonium bifluoride) (NH4HF2), 0-5 wt% 의 플루오르화 또는 비-플루오로화된 알칼리 또는 알칼리 토 염 (예를 들어, NaHF2 또는 CaCl2), 및 10-40%의 이소프로필 알코올 또는 프로필렌 글리콜과 같은 유기 용매를 포함하는 용액, 겔, 또는 페이스트를 접촉하는 단계를 포함한다. 이들 결정은 물로 헹구거나 또는 나중에 화학 처리 단계에 의해 후에 제거된다. 선택적 제2 단계는 황산, 염산, 질산, 인산, 또는 이와 유사한 것과 같은 비-플루오르화된 무기산을 포함하는 제2 용액에서 침지 또는 다른 처리를 포함할 수 있다. 선택적으로, 제2 용액은 오직 물일 수 있다. 이러한 선택적 제2 단계는 유리 표면으로부터 결정을 부분적으로 또는 완전히 제거하는 것을 제공할 수 있다. 선택적 제3 단계 (또는 만약 전술된 제2 단계가 생략된다면, 제2 단계)는, 2-10 wt%의 플루오르화 수소산 (hydrofluoric acid) 및 2-30 wt%의 염산, 황산, 질산, 인산 또는 이와 유사한 것과 같은 무기산으로 침지 또는 다른 처리를 포함할 수 있다. 이러한 선택적 제3 단계는 또한 NaOH 및 EDTA를 함유하는 용액과 같은, 산성 용액 대신에 염기성 용액으로의 처리를 포함할 수 있다.
미국 가 특허출원 제61/329,936호, 제61/372,655호, 및 제61/329,951호는 산성 및 염기성 에칭 공정 및 상기 유리 표면의 에칭의 정도를 조절하기 위하여 중합체 또는 왁스 코팅, 입자 및 이의 조합을 포함하는 마스크의 사용을 기술한다. 미국 가 특허출원 제61/329,936호 및 제61/372,655호는 입자가 유리의 적어도 하나의 표면 위에 증착되는 방현 표면을 발생시키기 위한 습식 에칭 방법을 기술한다. 증착된 입자를 갖는 제품의 적어도 하나의 표면은 방현 표면을 형성하기 위해 에칭제 (예를 들어, HF 및 H2SO4를 포함하는 에칭제)와 접촉을 일으킨다. 증착된 입자는, 예를 들어, 약 0.1㎛ 내지 약 10㎛, 약 0.1㎛ 내지 약 50㎛, 약 1㎛ 내지 약 10 마이크로미터, 또는 약 1㎛ 내지 약 5㎛의 D50 직경을 가질 수 있다. 상기 입자는 예를 들어, 입자의 농축된 액체 현탁액을 형성하여, 희석제 (diluent)로 농축된 현탁액을 희석하여, 그리고 희석된 현탁액으로 표면을 접촉하여 유리의 표면 위에 증착될 수 있다. 상기 증착된 입자는 예를 들어, 유리, 복합체, 세라믹, 플라스틱 또는 수지계 물질, 이의 조합, 또는 이와 유사한 것을 포함할 수 있다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 에칭제는 증착된 입자 하부의 표면을 에칭하기 위해 적절한 적어도 하나의 산을 포함할 수 있다. 이러한 에칭제의 비-제한적인 실시 예는 상기에서 인용된 참고문헌에 기술된다 (예를 들어, HF/H2SO4 에칭제).
미국 가 출원 제 61/329,951호는 방현 표면을 갖는 제품의 제조 방법을 기술하고, 여기서 보호성 필름은 상기 제품의 적어도 하나의 표면의 적어도 일부에 형성된다. 상기 보호성 필름을 갖는 표면은 표면을 거칠게 하기 위해 액체 에칭제와 접촉을 일으키고, 상기 제품의 표면으로부터 보호성 필름은 방현 표면을 형성한다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 보호성 필름은, 예를 들어, 설폰아미드 포름알데하이드 (sulfonamide formaldehyde) 수지, 니트로셀룰오로즈, 아크릴레이트 또는 아크릴 모노머 또는 이의 염을 포함하는 중합체 또는 공중합체, 라카, 에나멜, 왁스, 이의 조합, 또는 이와 유사한 것 중 적어도 하나와 같은 기공-형성 중합체일 수 있다. 몇몇 구체 예에 있어서, 보호성 필름 또는 기공-형성 중합체는, 예를 들어, 중합체, 또는 중합체의 조합, 유사 천연 또는 합성 물질, 또는 이의 조합 중 적어도 하나와 같은 어떤 적절한 코팅 물질을 포함할 수 있다. 아직 제거가능한 다공성 코팅에 내구성을 제공할 수 있는, 적절한 기공-형성 조성은 어떤 중합체 또는 중합체 제제, 또는 TSO-3100 DOD 잉크 (Diagraph로부터 에탄올 이소프로필-계 젯트가능한 잉크)와 같은, 필름-형성 및 기공-형성 특성을 갖는, 유사 물질 또는 혼합물, 아세톤-계 o/p-톨루엔 설폰아미드 포름알데하이드 수지, 니트로셀룰로오즈, 아크릴레이트 중합체, 아크릴레이트 공중합체, 락커 (휘발성 유기 화합물에 용해된 중합체) 제제, 에나멜, 왁스, 이의 조합, 또는 이와 유사한 것을 포함할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
몇몇 구체 예에 있어서, 본 발명에 기술된 방현 표면은 전술한 인용되고 포함된 참조문헌의 기술을 조합하여 형성될 수 있다. 특정 구체 예에 있어서, 상기 방현 표면은 미국 가 특허출원 제61/329,936호 및 제61/372,655호에서 기술된 바와 같이, 투명한 유리 시트의 표면 위에 입자의 증착, 및 전술된 방현 표면 중 하나를 형성하기 위해 표면에 나중에 에칭하는, 미국 가 특허출원 제61/329,951호에 기술된 바와 같이, 보호성 중합 필름의 증착을 조합하여 형성될 수 있다.
이러한 공정은 본 발명에 기술된 바와 같이 스파클 최소화를 결과하는 장-파 및 단-파 거칠기 진폭 사이의 관계를 생성하는데 사용될 수 있다. 그러나, 비교 예에서 예시하고 있는 바와 같이, 이들 표적을 변화시키는데 사용된 목표 (target) 및 측정의 상세한 지식 없이 본 발명에 개시된 거칠기 프로파일을 생성시키는 것은 수월한 것이 아니다.
- 마스크 및 에칭 공정과 관련한 비-제한적인 실시 예가 미국 특허출원 제12/858,544호 및 미국 가 특허출원 제61/329,936호, 제61/372,655호, 및 제61/329,951호에서 기술된 - 마스크 및 에칭 공정과 관련하여, 작은 마스크 개구, 작은 마스크 특성, 및 (특히 상기 마스트 및 유리 표면 사이의 경계면에서) 마스크 특성 사이의 작은 공간은 본 발명에 기술된 바와 같이 단-파 거칠기를 증진시키고, 장-파 거칠기의 최소화를 촉진하는 요인이다. 더군다나, 균일한 마스크 두께 및 마스크 부착의 중간-내지-높은 수준은 유리 표면의 다른 에칭을 촉진하는 반면, 상기 유리 표면 위에 형성된 단-파 측면 특징을 유지시키고, 장-파 측면 특징을 최소화시키는 것을 발견하였다.
표 3은 본 발명에 기술된 방현 표면의 실시 예의 특성을 요약하였다. 실시 예 A-F는 본 발명에 기술된 대표적인 구체 예로서 디스플레이 스파클을 최소화하고 경면 반사의 가시성을 감소시키기 위한 특성의 조합을 포함한다. 실시 예 E 및 F는 하기에 상세히 기술하였다. 이들 샘플은 미국 특허출원 제12/858,544호 및 제12/730,502호; 미국 가 특허출원 제61/329,936호, 제61/372,655호, 및 61/329,951; 및 Charles Warren Lander 등에 의해 2010년 11월 29일에 "Antiglare Surface Treatment Method and Articles Thereof,"의 명칭으로 출원된, 미국 가 특허출원 제61/417,674호에서, 전술된 바와 같이 낮은-스파클을 결과하는 이들 거칠기 프로파일을 생성을 위하여 기술된 것과 유사한 기술을 사용하여 가공되고, 상기 특허들의 전체적인 내용은 본 발명에 참고문헌으로서 모두 포함된다.
표 3에 기재된 비교 예 A-I는 전술된-참고문헌 미국 특허출원들에 기술된 몇몇과 유사한 기술을 사용하여 제조되는 반면, 본 공정은 낮은 스파클을 결과하는 거칠기 프로파일을 생산하지 않는다. 비교 예 J 및 K는 상업적으로 시판되며, 이들은 본 발명에 기술된 방현 및 거칠기 특성의 조합을 포함하지 않는다.
관련 표면 특성 목표를 발견하고, 이들 목표를 입증하는데 요구된 상응 측정에 부가하여, - 특히, 에칭을 수반하는 입자 마스킹을 포함하는 공정과 관련한 - 반복적으로 제조될 수 있는 이러한 표면이 가능한 관련 공정 최적화 파라미터는 또한 결정된다. 이들 공정 최적화 파라미터는 마스크 입자 크기 (일반적으로 약 20㎛ 미만), (20㎛보다 더 큰 입자 사이에 갭의 발생을 최소화하는) 유리 표면에서의 마스크 입자 패킹 밀도, 마스크 두께 (5-100㎛), (초기 산 접촉 동안 마스크의 언더커팅 또는 제거에 저항하기에 반드시 충분한) 마스크 부착, 산 화학제, 및 (원하는 수준보다 더 큰 거칠기 깊이로 유리 에칭을 허용하는 시간은 반드시 마스크 언더커팅 또는 제거를 완성하기 위한 시간보다 더 짧은) 산 농도를 포함한다. 부가적으로, - 부착을 촉진하기 위한 마스크 건조 및 가열과 같은 - 다른 선택적 파라미터는 상기 마스킹 입자가 마스크 표면에서 입자들 사이에 사실상 더 큰 입자 또는 더 큰 갭의 형성을 유도 및 응집하지 않도록 최적화될 수 있다.
단파 RMS 거칠기는 1㎛ 및 20㎛ 사이의 모든 표면파를 포함하고, 이러한 범위 밖의 파를 제외하는 파장 필터를 사용하여 계산된다. 장파 RMS 거칠기는 두 개의 다른 표면 파장/필터 (40㎛ 내지 640㎛ 및 80㎛ 내지 640㎛) 범위에서 계산된다. 총 RMS 거칠기 및 장파 RMS 거칠기 사이의 비율뿐만 아니라, 이러한 두 개의 장-파 거칠기 값 및 단-파 거칠기 값 사이의 비율은 또한 계산된다. 다른 거칠기 측정에 대한 측정 창 크기는 표 3에 명확히 서술하였다.
| 방현 유리 샘플 | 1- 또는 2-거칠기 면 | 투과 헤이즈 | (보정된) 20° DOI |
총 픽셀 전력 표준 편차 (PPD) |
단파 RMS 거칠기 (1- 20um 필터, 0.13x 0.1mm 창) |
장파 RMS 거칠기 (40- 640um 필터, 2.1 x 2.3mm 창) |
장/단 RMS 비율 (40- 640 RMS/ 1-20 RMS) |
장파 RMS 거칠기 (80- 640um 필터, 2.1x 2.3mm 창) |
장/단 RMS 비율 (80-640 RMS / 1-20 RMS) |
총 RMS 거칠기 (필터 없음, 0.65x 0.5mm 창) |
총/단 RMS 비율 (총 RMS/ 80-640 RMS) |
| 실시예 A | 1 | 1.9 | 53 | 7.3 | 36 | 137 | 3.8 | 80 | 2.2 | 160 | 2.00 |
| 실시예 B | 1 | 9.2 | 42 | 6.2 | 63 | 241 | 3.8 | 164 | 2.6 | 360 | 2.20 |
| 실시예 C | 1 | 15.0 | 0 | 7.0 | 92 | 207 | 2.3 | 102 | 1.1 | 510 | 5.00 |
| 실시예 D | 2 | 15.0 | 9 | 6.6 | 60 | 228 | 3.8 | 161 | 2.7 | 214 | 1.33 |
| 실시예 E (실1) | 1 | 7.0 | 6 | 6.6 | 115 | 198 | 1.7 | 118 | 1.0 | 312 | 2.64 |
| 실시예 E (실2) | 1 | 25.0 | 19 | 6.6 | 246 | 180 | 0.7 | 120 | 0.5 | 365 | 3.04 |
| 비교예 A | 1 | 2.6 | 9 | 9.2 | 44 | 238 | 5.4 | 150 | 3.4 | 258 | 1.72 |
| 비교예 B | 1 | 0.2 | 55 | 11.8 | 10 | 164 | 16.4 | 135 | 13.5 | 176 | 1.3 |
| 비교예 C | 1 | 0.5 | 50 | 10.0 | 21 | 197 | 9.4 | 146 | 7.0 | 181 | 1.24 |
| 비교예 D | 1 | 0.5 | 35 | 9.3 | 20 | 152 | 7.6 | 108 | 5.4 | 141 | 1.31 |
| 비교예 E | 1 | 3.7 | 31 | 13.9 | 45 | 292 | 6.5 | 218 | 4.8 | 315 | 1.44 |
| 비교예 F | 1 | 0.6 | 58 | 9.7 | 21 | 139 | 6.6 | 100 | 4.8 | 136 | 1.36 |
| 비교예 G | 1 | 2.2 | 38 | 12.1 | 33 | 205 | 6.2 | 152 | 4.6 | 204 | 1.34 |
| 비교예 H | 1 | 0.2 | 59 | 10.0 | 13 | 139 | 10.7 | 119 | 9.2 | 164 | 1.38 |
| 비교예 I | 1 | 0.3 | 55 | 8.4 | 14 | 123 | 8.8 | 94 | 6.7 | 125 | 1.33 |
| 비교예 J | 1 | 1.2 | 65 | 7.2 | 27 | 108 | 4.0 | 55 | 2.0 | 118 | 2.15 |
| 비교예 K | 1 | 2.0 | 46 | 8.0 | 40 | 182 | 4.6 | 121 | 3.0 | 199 | 1.64 |
또 다른 관점에 있어서, 본 발명에 기술된 바와 같은, 적어도 하나의 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 제조방법이 제공된다. 상기 방법은 적어도 하나의 방현 표면을 형성하기 위해 투명한 유리 시트의 적어도 하나의 표면을 거칠게 하는 단계를 포함하고, 여기서 적어도 하나의 방현 표면은 약 300 nm까지의 제1 RMS 표면 높이 거칠기 Rlong, 약 20㎛ 미만의 횡방향 주기의 공간 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort, 및 표면 파장 필터링 없이 측정된 제3 RMS 거칠기 Rtotal을 갖고, 여기서 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm의 범위 내에 있다.
제1 RMS 표면 높이 거칠기 Rlong은 약 40㎛ 및 약 640 nm 사이의 파장에서 표면 공간파의 측정으로부터 유도된다. 몇몇 구체 예에 있어서, Rlong은 약 275 nm 미만; 다른 구체 예에 있어서, 약 250 nm 미만; 다른 구체 예에 있어서, 약 175 nm; 다른 구체 예에 있어서, 약 140 nm 미만; 및 다른 구체 예에 있어서, 약 115 nm 미만이다. 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort는 약 20 nm 미만의 횡방향 주기를 갖는 표면 공간파의 측정으로부터 유도된다. 몇몇 구체 예에 있어서, Rshort는 적어도 약 30 nm; 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 40 nm; 또 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 45 nm; 및 다른 구체 예에 있어서, 적어도 약 50 nm이다.
상기 투명한 유리 시트의 방현 표면에 대한 제1 거칠기 Rlong 대 제2 Rshort의 비 (Rlong/Rshort)는 약 4.9 미만이다. 몇몇 구체 예에 있어서, Rlong/Rshort의 비는 약 3.9 미만, 다른 구체 예에 있어서, 약 2.9 미만이다.
몇몇 구체 예에 있어서, 본 발명에 방법은 적어도 하나의 방현 표면의 형성 전 또는 후에 상기 투명한 유리 시트를 강화시키는 단계를 더욱 포함한다. 몇몇 구체 예에 있어서, 상기 방법은 이전에 전술된 바와 같이, 이온 교환에 의해 상기 투명한 유리 시트를 강화시키는 단계를 포함한다.
몇몇 구체 예에 있어서, 상기 투명한 유리 시트의 적어도 하나의 표면을 거칠게하는 단계는 적어도 하나의 표면을 에칭하는 단계를 포함한다. 몇몇 구체 예에 있어서, 다수의 입자는 이전에 전술한 바와 같이, 에칭 전에 적어도 하나의 표면 위에 증착된다. 다수의 입자는 표면 위에 입자 층을 형성한다. 상기 에칭제는 입자의 층에 적용되고, 상기 표면을 에칭 - 및 따라서 거칠게하기 - 위해 적어도 하나의 표면에 층을 통해 이동한다. 다른 구체 예에 있어서, 보호층은 전술된 바와 같이, 적어도 하나의 표면에 적용된다. 에칭제는 그 다음 표면을 거칠게 하기 위해 보호층에 적용되고 -보호층을 통해 이동 - 한다. 다른 구체 예에 있어서, 상기 입자 및 보호층의 조합은 적어도 하나의 표면에 적용되고, 에칭제의 적용을 수반한다.
실시 예
하기 실시 예는 본 발명에 의해 제공된 다양한 특징 및 장점을 설명하지만, 본 발명 및 여기에 첨부된 청구항을 제한하는 것은 아니다. 실시 예 1 및 2는 본 발명에서 기술된 원리에 따라 방현 유리 시트의 제조의 예시적인 실시 예들이다.
실시 예 1 (표 3에서 본 발명의 실시 예 E)
69.49 mol% SiO2; 8.45 mol% Al2O3; 14.01 mol% Na2O; 1.16 mol% K2O; 6.2 mol% MgO; 0.51 mol% CaO; 0.185 mol% SnO2; 0.01 mol% ZrO2; 및 0.008 mol% Fe2O3의 명목상 조성 및 6 인치 x 6 인치의 치수를 갖는 유리 시트는 탈이온수에 약 4% 반-세정 (semi-clean) KG을 사용하는 초음파 세정기에서 먼저 세척된다.
33.33 wt%의 Deurex ME 1515 저-분자량 폴리에틸렌 ("폴리에틸렌 왁스") 입자를 함유하는 액체 현탁액은 용기에서 측량되고, 66.64 wt%의 2-프로판올은 첨가된다. 상기 용기는 60% 수준에서 Resodyn™ Acoustic Mixer에서 5분 동안 처리된다. 상기 현탁액에서 거의 모든 입자는 2㎛ 내지 20㎛의 범위이고, 19 ㎛ 이하의 크기를 갖는 입자가 대략 99%이고 6㎛ 이하의 크기를 갖는 입자가 50%이다. 이러한 현탁액의 소량 (1 ㎖)을 유리 샘플의 일 측면에 붓고, 25㎛ 갭 블레이드 (blade)로 유리의 표면을 가로질러 쓸어버리면, 습식 두께 25㎛를 갖는 상기 현탁액의 박막이 유리 상에 형성된다. 상기 유리에 입자의 부착을 증진하기 위하여, 상기 유리는 코팅된 면이 위를 향하도록 뜨거운 플레이트에 위치되고, 30초 동안 100℃에서 굽는다.
열 처리 후에, 상기 코팅된 샘플은 그 다음 30초 동안 실온에서 6 몰 플루오르화수소/7 몰 황산을 함유하는 산 에칭 용액에 함침된다. 상기 에칭된 샘플은 그 다음 마스크 잔여물을 제거하기 위해, 아세톤 또는 기술분야에서 알려진 다른 유기 용매를 사용하는, 선택적 유기 용매 헹굼을 포함할 수 있는, 헹굼으로 제거된다. 상기 에칭된 유리는 건조되고, 그 다음 선택적으로 6시간 동안 410℃에서 용융된 KNO3 욕에서 이온교환되어, 350 MPa 초과의 표면 압축 응력 및 유리 샘플에서 15㎛를 초과하는 이온 교환 층의 깊이를 발생한다.
본 실시 예에서 기술된 바와 같이 제조된 유리 샘플은 7.0%의 투과 헤이즈, 51의 (보정된) 20°DOI, 및 6.6의 (상기에서 특정하게 측정된) PPD를 갖는다. 본 샘플에 대한 RMS 거칠기 값은 표 3에 기재되었다.
실시 예 2 (표 3에서 본 발명의 실시 예 F)
동일한 조성 및 치수를 갖는 유리 샘플은 실시 예 1에 기술된 바와 같은 입자인 폴리에틸렌의 분산액으로 코팅 및 세정된다. 코팅 다음에, 상기 유리는 코팅된 면을 위로하여 뜨거운 플레이트 상에 위치되고, 30초 동안 104℃에서 굽는다. 상기 코팅된 샘플은 그 다음 20초 동안 실온에서 6 몰 플루오르화수소/7 몰 황산을 함유하는 산 에칭 용액에 함침된다. 상기 에칭된 샘플은 그 다음 마스크 잔여물을 제거하기 위해, 아세톤 또는 기술분야에서 알려진 다른 유기 용매를 사용하는, 선택적 유기 용매 헹굼을 포함할 수 있는, 헹굼으로 제거된다. 상기 에칭된 유리는 건조되고, 그 다음 6시간 동안 410℃에서 용융된 KNO3 욕에서 선택적으로 이온 교환되어, 350 MPa를 초과하는 표면 압축 응력 및 유리 샘플에서 15㎛를 초과하는 이온-교환 층의 깊이를 발생시킨다.
실시 예 2에서 제조된 유리 샘플은 28%의 투과 헤이즈, 19의 (보정된) 20°DOI, 및 5.6의 (상기에서 특정하게 측정된) PPD를 갖는다. 본 샘플에 대한 RMS 거칠기 값은 표 3에 기재하였다.
통상적인 구체 예가 설명을 목적으로 기술되지만, 전술한 상세한 설명은 개시 또는 첨부된 청구항의 범주에 제한되는 것으로 간주되지 않는다. 따라서, 본 발명 또는 첨부된 청구항의 사상 및 범주를 벗어나지 않고, 다양한 변형, 적용 및 변경은 기술 분야의 당업자에 의해 일어날 수 있다.
110: 픽셀 이미지 200: 투명한 유리 시트
210: 제1 방현 표면 215: 반사방지층
220: 제2 표면 300: 픽셀화된 디스플레이
305: 다수의 픽셀 310: 이미지 평면
210: 제1 방현 표면 215: 반사방지층
220: 제2 표면 300: 픽셀화된 디스플레이
305: 다수의 픽셀 310: 이미지 평면
Claims (25)
- 적어도 하나의 방현 표면을 구비하며, 여기서 상기 방현 표면은:
약 40㎛ 내지 약 640㎛의 횡방향 주기의 범위에서 측정된 약 300 nm까지의 제1 RMS 표면 거칠기 Rlong;
약 20㎛ 미만의 횡방향 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort, 여기서 비율 (Rlong/Rshort)은 약 3.9 미만이고;
표면 파장 필터링없이 측정된, 제3 RMS 거칠기 Rtotal를 가지며, 여기서 상기 제3 RMS 거칠기 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm 범위인 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 약 85 미만의 20°선영성을 갖는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
Rshort는 적어도 약 30 nm인 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 이온 교환에 의해 강화되고, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 적어도 약 350 MPa의 압축 응력 하의 영역을 갖는 적어도 하나의 표면을 가지며, 상기 영역은 상기 투명한 유리 시트 내에 표면으로부터 적어도 15㎛의 층의 깊이로 확장하는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 중 하나를 포함하는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 상기 방현 표면이 픽셀화된 디스플레이로부터 멀리 떨어지고, 미리 결정된 거리 만큼 결상면으로부터 분리되도록, 상기 결상면 및 다수의 픽셀을 갖는 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치된 경우, 약 7.5% 미만의 픽셀 출력 편차를 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 80 미만의 20°선영성을 갖는 투명한 유리 시트. - 청구항 7에 있어서,
상기 픽셀화된 디스플레이는 단독으로 제2 픽셀 출력 편차를 가지며, 여기서 상기 픽셀화된 디스플레이와 결합된 투명한 유리 시트의 픽셀 출력 편차는 제2 픽셀 출력 편차보다 약 4%를 초과하지 않는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 상기 방현 표면 위에 배치된 반사 방지층을 더욱 포함하는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 상기 방현 표면에 대립하는 제2 표면을 포함하며, 여기서 상기 제2 표면은 20 nm 미만의 RMS 거칠기를 갖는 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 RMS 표면 거칠기 Rlong은 80㎛ 내지 640㎛의 횡방향 주기의 범위에서 측정되며, 상기 비율 Rtotal/Rlong은 2.20 이상인 투명한 유리 시트. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 RMS 표면 거칠기 Rlong은 80㎛ 내지 640㎛의 횡방향 주기의 범위에서 측정되며, 상기 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort는 30 nm를 초과하고, 상기 비율 Rtotal/Rlong은 1.80 이상이며, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 60 미만의 20°선영성을 갖는 투명한 유리 시트. - 결상면 및 다수의 픽셀을 갖는 픽셀화된 디스플레이; 및
방현 표면, 40㎛ 내지 640㎛의 횡방향 주기의 범위에서 측정된 300 nm까지의 제1 RMS 표면 거칠기 Rlong, 및 20㎛ 미만의 횡방향 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort를 갖는 투명한 유리 시트를 포함하며, 여기서 상기 비율 (Rlong/Rshort)은 3.9 미만이고, 여기서 상기 투명한 유리 디스플레이는 상기 방현 표면이 픽셀화된 디스플레이로부터 멀리 떨어지고, 광학 거리 만큼 결상면으로부터 분리되도록 픽셀화된 디스플레이의 전면에 배치되며, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 7.5% 미만의 픽셀 출력 편차를 가지며, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 60 미만의 20°선영성을 갖는 디스플레이 시스템. - 청구항 13에 있어서,
상기 픽셀화된 디스플레이는 단독으로 제2 픽셀 출력 편차를 가지며, 여기서 상기 픽셀화된 디스플레이와 결합된 투명한 유리 시트의 픽셀 출력 편차는 제2 픽셀 출력 편차보다 약 4%를 초과하지 않는 디스플레이 시스템. - 청구항 13에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 이온 교환에 의해 강화되고, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 적어도 약 350 MPa의 압축 응력 하의 영역을 갖는 적어도 하나의 표면을 가지며, 상기 영역은 상기 투명한 유리 시트 내에 표면으로부터 적어도 15㎛의 층의 깊이로 확장하는 디스플레이 시스템. - 청구항 13에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 중 하나를 포함하는 디스플레이 시스템. - 청구항 13에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 적어도 약 30 nm의 Rshort 및 약 20% 미만의 투과 헤이즈를 갖는 디스플레이 시스템. - 청구항 13에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 60 nm 내지 약 600 nm 범위에서, 표면 파장 필터링없이 측정된, 제3 RMS 거칠기 Rtotal를 갖는 디스플레이 시스템. - 적어도 하나의 방현 표면을 형성하기 위해 투명한 유리 시트의 적어도 하나의 표면을 거칠게 하는 단계를 포함하며, 여기서 적어도 하나의 방현 표면은 300 nm까지의 제1 RMS 표면 높이 거칠기 Rlong, 약 20㎛ 미만의 횡방향 주기에서 측정된 제2 RMS 표면 거칠기 Rshort, 및 표면 파장 필터링없이 측정된, 제3 RMS 거칠기 Rtotal를 가지며, 여기서 비율 (Rlong/Rshort)은 약 3.9 미만이고, 여기서 Rtotal은 약 60 nm 내지 약 600 nm 범위인 적어도 하나의 방현 표면을 갖는 투명한 유리 시트의 제조방법.
- 청구항 19에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 약 85 미만의 20°선영성을 갖는 투명한 유리 시트의 제조방법. - 청구항 19에 있어서,
Rshort는 적어도 약 30 nm인 투명한 유리 시트의 제조방법. - 청구항 19에 있어서,
상기 방법은 이온 교환에 의해 투명한 유리 시트를 강화시키는 단계를 더욱 포함하고, 여기서 상기 투명한 유리 시트는 적어도 약 350 MPa의 압축 응력 하의 영역을 갖는 적어도 하나의 표면을 가지며, 상기 영역은 상기 투명한 유리 시트 내에 표면으로부터 적어도 15㎛의 층의 깊이로 확장하는 투명한 유리 시트의 제조방법. - 청구항 19에 있어서,
상기 투명한 유리 시트는 소다 라임 유리, 알칼리 알루미노실리케이트 유리, 및 알칼리 알루미노보로실리케이트 유리 중 하나를 포함하는 투명한 유리 시트의 제조방법. - 청구항 19에 있어서,
상기 투명한 유리 시트의 적어도 하나의 표면을 거칠게 하는 단계는 적어도 하나의 표면을 에칭시키는 단계를 포함하는 투명한 유리 시트의 제조방법. - 청구항 24에 있어서,
적어도 하나의 표면을 에칭시키는 단계는:
입자의 층을 형성하기 위해 적어도 하나의 표면상에 다수의 입자를 증착시키는 단계; 및
상기 표면을 거칠게 하기 위해 상기 입자의 층을 통하여 적어도 하나의 표면을 에칭시키는 단계를 포함하는 투명한 유리 시트의 제조방법.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (86)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8598771B2 (en) * | 2009-09-15 | 2013-12-03 | Corning Incorporated | Glass and display having anti-glare properties |
| US8992786B2 (en) * | 2010-04-30 | 2015-03-31 | Corning Incorporated | Anti-glare surface and method of making |
| US9446979B2 (en) * | 2011-11-02 | 2016-09-20 | Corning Incorporated | Method for sparkle control and articles thereof |
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| CN104995535B (zh) * | 2012-10-08 | 2019-03-08 | 康宁股份有限公司 | 用于提供改善的显示器部件的方法和设备 |
| JP2015532467A (ja) | 2012-10-10 | 2015-11-09 | コーニング インコーポレイテッド | 燦光発現を減じる防眩層を有するディスプレイデバイス |
| KR102161958B1 (ko) * | 2013-02-19 | 2020-10-06 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 투명 기체의 광학 특성을 평가하는 방법 |
| US9366784B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-14 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US9880328B2 (en) | 2013-12-12 | 2018-01-30 | Corning Incorporated | Transparent diffusers for lightguides and luminaires |
| JP5767357B1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-08-19 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスク、並びにそれらの製造方法 |
| US9335444B2 (en) | 2014-05-12 | 2016-05-10 | Corning Incorporated | Durable and scratch-resistant anti-reflective articles |
| US11267973B2 (en) | 2014-05-12 | 2022-03-08 | Corning Incorporated | Durable anti-reflective articles |
| US10358382B2 (en) * | 2014-06-27 | 2019-07-23 | Vidrio Plano De Mexico, S.A. De C.V. | Production method for sheets of glass with a diffuse finish, and resulting sheet of glass |
| CN104118996B (zh) * | 2014-07-11 | 2016-08-17 | 中国南玻集团股份有限公司 | 防眩玻璃的制备方法 |
| US9790593B2 (en) | 2014-08-01 | 2017-10-17 | Corning Incorporated | Scratch-resistant materials and articles including the same |
| US9707592B2 (en) | 2014-08-08 | 2017-07-18 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of forming an anti-glare coating on a substrate |
| WO2016040151A1 (en) | 2014-09-08 | 2016-03-17 | Corning Incorporated | Anti-glare substrates with low sparkle, doi and transmission haze |
| KR20170076779A (ko) * | 2014-10-31 | 2017-07-04 | 코닝 인코포레이티드 | 균일한 텍스쳐된 표면 및 저 스파클을 갖는 기판 및 이의 제조 방법 |
| PL3224216T3 (pl) | 2014-11-25 | 2022-03-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Utwardzalne kompozycje zol-żel tworzące powłokę oraz wytworzone z nich wyroby z powłoką antyodblaskową |
| JP6652696B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2020-02-26 | セントラル硝子株式会社 | 表示装置用の防眩性ガラス板物品及びその製法 |
| WO2016113970A1 (ja) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | セントラル硝子株式会社 | 表示装置用の防眩性ガラス板物品及びその製法 |
| WO2016125713A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | 旭硝子株式会社 | 曲面カバーガラス及びその製造方法、並びに車載用表示部材 |
| JP6389567B2 (ja) * | 2015-03-20 | 2018-09-12 | 歐浦登（順昌）光學有限公司 | 一体型全密閉液晶スクリーンとその製造方法 |
| EP3770649A1 (en) | 2015-09-14 | 2021-01-27 | Corning Incorporated | High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles |
| WO2017094736A1 (ja) * | 2015-12-02 | 2017-06-08 | 旭硝子株式会社 | ガラス製造方法 |
| JP6809482B2 (ja) * | 2015-12-02 | 2021-01-06 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス製造方法 |
| EP3426614B1 (en) | 2016-03-09 | 2024-11-20 | Corning Incorporated | Cold forming of complexly curved glass articles |
| CN115570743A (zh) | 2016-06-28 | 2023-01-06 | 康宁公司 | 将薄强化玻璃层压到用于装饰和显示器盖应用的曲面成型塑料表面 |
| KR102597034B1 (ko) | 2016-07-05 | 2023-11-01 | 코닝 인코포레이티드 | 냉간-형성 유리 물품 및 그의 조립 방법 |
| JPWO2018030063A1 (ja) * | 2016-08-09 | 2019-06-06 | 株式会社エンプラス | マーカ |
| US11384001B2 (en) | 2016-10-25 | 2022-07-12 | Corning Incorporated | Cold-form glass lamination to a display |
| DE112017006229T5 (de) | 2016-12-12 | 2019-09-05 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Durchsichtiger Gegenstand |
| US11016590B2 (en) | 2017-01-03 | 2021-05-25 | Corning Incorporated | Vehicle interior systems having a curved cover glass and display or touch panel and methods for forming the same |
| TWI771357B (zh) | 2017-01-03 | 2022-07-21 | 美商康寧公司 | 具有彎曲的覆蓋玻璃以及顯示器或觸控面板的車輛內部系統及其形成方法 |
| US10712850B2 (en) | 2017-01-03 | 2020-07-14 | Corning Incorporated | Vehicle interior systems having a curved cover glass and a display or touch panel and methods for forming the same |
| JP7220660B2 (ja) * | 2017-01-30 | 2023-02-10 | コーニング インコーポレイテッド | 低光輝性テクスチャ形成済みガラス表面及びその作製方法 |
| US11208344B2 (en) | 2017-03-28 | 2021-12-28 | Corning Incorporated | Textured glass articles and methods of making the same |
| WO2018190274A1 (ja) * | 2017-04-11 | 2018-10-18 | 日本電気硝子株式会社 | 透明物品 |
| JP7124299B2 (ja) * | 2017-04-11 | 2022-08-24 | 日本電気硝子株式会社 | 透明物品 |
| US20200197978A1 (en) * | 2017-05-15 | 2020-06-25 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Transparent product and method for producing transparent product |
| US11685684B2 (en) | 2017-05-15 | 2023-06-27 | Corning Incorporated | Contoured glass articles and methods of making the same |
| US11428847B2 (en) | 2017-05-15 | 2022-08-30 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Transparent product and method for producing transparent product |
| KR20200030094A (ko) | 2017-07-18 | 2020-03-19 | 코닝 인코포레이티드 | 복잡한 곡선 모양 유리 물품의 냉간 성형 |
| WO2019055581A1 (en) | 2017-09-12 | 2019-03-21 | Corning Incorporated | TOUCH-SENSITIVE GLASS ELEMENTS WITH INSULATED FACE AND METHODS OF MAKING SAME |
| TWI806897B (zh) | 2017-09-13 | 2023-07-01 | 美商康寧公司 | 用於顯示器的基於光導器的無電面板、相關的方法及載具內部系統 |
| US11065960B2 (en) | 2017-09-13 | 2021-07-20 | Corning Incorporated | Curved vehicle displays |
| TWI844520B (zh) | 2017-10-10 | 2024-06-11 | 美商康寧公司 | 具有改善可靠性的彎曲的覆蓋玻璃的車輛內部系統及其形成方法 |
| CN111758063B (zh) | 2017-11-21 | 2022-08-09 | 康宁公司 | 用于抬头显示器系统的非球面镜及其形成方法 |
| CN111741935B (zh) | 2017-11-30 | 2022-10-14 | 康宁股份有限公司 | 图案化的玻璃制品及其制造方法 |
| EP3717958A4 (en) | 2017-11-30 | 2021-08-04 | Corning Incorporated | SYSTEMS AND METHODS FOR ASPHERIC VACUUM MIRRORS |
| WO2019108015A2 (en) | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Corning Precision Materials Co., Ltd. | Vacuum mold apparatus, systems, and methods for forming curved mirrors |
| FR3074091B1 (fr) * | 2017-11-30 | 2019-11-15 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage fonctionnel muni d'un film protecteur permanent |
| TWI821234B (zh) | 2018-01-09 | 2023-11-11 | 美商康寧公司 | 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 |
| CN111936891B (zh) | 2018-03-02 | 2023-03-24 | 康宁公司 | 抗反射涂层及制品与形成抗反射涂层及制品的方法 |
| US11718071B2 (en) | 2018-03-13 | 2023-08-08 | Corning Incorporated | Vehicle interior systems having a crack resistant curved cover glass and methods for forming the same |
| JP7040234B2 (ja) | 2018-04-04 | 2022-03-23 | 日本電気硝子株式会社 | 物品 |
| US11402669B2 (en) | 2018-04-27 | 2022-08-02 | Apple Inc. | Housing surface with tactile friction features |
| CN112368248B (zh) * | 2018-07-04 | 2022-07-08 | Ａｇｃ株式会社 | 玻璃板、带有减反射层的玻璃板以及玻璃板的制造方法 |
| KR20210032979A (ko) | 2018-07-12 | 2021-03-25 | 코닝 인코포레이티드 | 색상 매칭을 위해 구성된 데드프론트 |
| CN112566782A (zh) | 2018-07-16 | 2021-03-26 | 康宁公司 | 具冷弯玻璃基板的车辆内部系统及其形成方法 |
| US11112827B2 (en) | 2018-07-20 | 2021-09-07 | Apple Inc. | Electronic device with glass housing member |
| EP3837223A1 (en) | 2018-08-17 | 2021-06-23 | Corning Incorporated | Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures |
| DE112019004800T5 (de) | 2018-09-25 | 2021-06-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Durchsichtiger gegenstand |
| US11454748B2 (en) * | 2018-11-13 | 2022-09-27 | Europtec USA, Inc. | Low sparkle articles and display system stacks |
| US11691912B2 (en) | 2018-12-18 | 2023-07-04 | Apple Inc. | Chemically strengthened and textured glass housing member |
| US11199929B2 (en) | 2019-03-21 | 2021-12-14 | Apple Inc. | Antireflective treatment for textured enclosure components |
| WO2020198285A2 (en) | 2019-03-27 | 2020-10-01 | Corning Incorporated | Optical coatings of non-planar substrates and methods for the production thereof |
| EP3719565B1 (en) * | 2019-04-01 | 2021-07-14 | C.R.F. Società Consortile per Azioni | Device for detecting the sparkle effect of a transparent sample |
| CN113795468B (zh) * | 2019-04-04 | 2023-10-10 | 康宁公司 | 具有印刷墨水层的装饰玻璃 |
| US11372137B2 (en) | 2019-05-29 | 2022-06-28 | Apple Inc. | Textured cover assemblies for display applications |
| CN113891866B (zh) | 2019-05-30 | 2024-03-08 | 康宁股份有限公司 | 纹理化玻璃制品及其制造方法 |
| US11109500B2 (en) | 2019-06-05 | 2021-08-31 | Apple Inc. | Textured glass component for an electronic device enclosure |
| US11192823B2 (en) | 2019-06-05 | 2021-12-07 | Apple Inc. | Electronic devices including laser-textured glass cover members |
| US10827635B1 (en) | 2019-06-05 | 2020-11-03 | Apple Inc. | Electronic device enclosure having a textured glass component |
| WO2021021586A1 (en) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | Corning Incorporated | Low reflectance, anti-reflective film structures with controlled color and articles with the same |
| EP3771695A1 (en) | 2019-07-31 | 2021-02-03 | Corning Incorporated | Method and system for cold-forming glass |
| WO2021050493A1 (en) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | Corning Incorporated | Textured, antiglare glass articles and methods of making the same |
| KR102111138B1 (ko) * | 2019-10-15 | 2020-05-15 | (주)유티아이 | 플렉시블 커버 윈도우의 제조방법 |
| US11772361B2 (en) | 2020-04-02 | 2023-10-03 | Corning Incorporated | Curved glass constructions and methods for forming same |
| JP7135029B2 (ja) * | 2020-06-30 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | 表示装置、モジュールおよび機器 |
| US20220009824A1 (en) | 2020-07-09 | 2022-01-13 | Corning Incorporated | Anti-glare substrate for a display article including a textured region with primary surface features and secondary surface features imparting a surface roughness that increases surface scattering |
| US11897809B2 (en) | 2020-09-02 | 2024-02-13 | Apple Inc. | Electronic devices with textured glass and glass ceramic components |
| KR20220121306A (ko) * | 2021-02-24 | 2022-09-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 커버 윈도우, 커버 윈도우의 제조방법, 및 표시 장치 |
| CN216902115U (zh) * | 2022-02-09 | 2022-07-05 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 显示屏及电子设备 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513021A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Hitachi Ltd | 反射防止体及びその利用装置 |
| JPH0687632A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-29 | Asahi Glass Co Ltd | 防眩効果を有する低反射導電膜及びその製造方法 |
| JP2003221256A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基板 |
| KR20100070516A (ko) * | 2008-12-18 | 2010-06-28 | 한국기계연구원 | 무반사 표면 및 초발수 표면의 제조방법 |
| US20100246016A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Carlson Krista L | Glass having anti-glare surface and method of making |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2381479A (en) * | 1943-03-13 | 1945-08-07 | Pittsburgh Plate Glass Co | Method of providing matte surfaces upon glass |
| US3616098A (en) | 1968-03-18 | 1971-10-26 | Dearborn Glass Co | Method of producing glare-reducing glass surface |
| US4921626A (en) | 1989-08-23 | 1990-05-01 | Automark Corporation | Glass etching composition and method of making |
| JPH09318929A (ja) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Toshiba Corp | 液晶表示装置および表示ムラ補正方法 |
| AU4314600A (en) | 1999-04-27 | 2000-11-10 | Hiroshi Miwa | Glass etching composition and method for frosting using the same |
| US6778240B2 (en) * | 2000-03-28 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device |
| TWI230002B (en) * | 2000-10-17 | 2005-03-21 | Nissha Printing | Antireflective molded product and its manufacture method, mold for antireflective molded product |
| JP2002189107A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Nissha Printing Co Ltd | 反射防止部材 |
| US7005079B2 (en) * | 2003-04-07 | 2006-02-28 | Chungwha Picture Tubes, Ltd. | Manufacturing method of light-guiding apparatus for using in backlight of liquid crystal display |
| US20080142477A1 (en) * | 2005-02-18 | 2008-06-19 | Glaverrbel-Centre R & D | Process for the Selective Etching of a Glass Article Surface |
| US7771781B2 (en) * | 2005-03-09 | 2010-08-10 | Konica Minolta Opto, Inc. | Anti-glare film, manufacturing method of anti-glare film, anti glaring anti-reflection film, polarizing plate, and display |
| JP2007187952A (ja) | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、その製造方法、そのための金型の製造方法、及び表示装置 |
| JP2009031720A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | ディスプレイ用複合フィルタ |
| WO2009023169A1 (en) * | 2007-08-10 | 2009-02-19 | Nano Terra Inc. | Structured smudge-resistant coatings and methods of making and using the same |
| JP2009047915A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Central Glass Co Ltd | 防眩性基板を有する表示装置 |
| US20090071537A1 (en) * | 2007-09-17 | 2009-03-19 | Ozgur Yavuzcetin | Index tuned antireflective coating using a nanostructured metamaterial |
| US7902266B2 (en) * | 2007-11-30 | 2011-03-08 | Taiflex Scientific Co., Ltd. | Composition of anti-glare coating |
| JP5237658B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2013-07-17 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 基板上に規則的に二次元配置した構造体、及びその形成方法 |
| CN102016650B (zh) * | 2008-05-27 | 2014-10-15 | 夏普株式会社 | 防反射膜和显示装置 |
| KR20100020906A (ko) | 2008-08-13 | 2010-02-23 | 소니 가부시끼가이샤 | 광학 필름 및 그 제조 방법, 눈부심방지성 필름, 광학층이 부착된 편광자 및 표시 장치 |
| US20100279068A1 (en) * | 2009-05-04 | 2010-11-04 | Glen Bennett Cook | Embossed glass articles for anti-fingerprinting applications and methods of making |
| JP5669126B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2015-02-12 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光線反射防止用シボの形成方法および該方法によってシボが形成されたレンズ鏡筒 |
| US8598771B2 (en) | 2009-09-15 | 2013-12-03 | Corning Incorporated | Glass and display having anti-glare properties |
| US8992786B2 (en) | 2010-04-30 | 2015-03-31 | Corning Incorporated | Anti-glare surface and method of making |
| US9017566B2 (en) * | 2010-04-30 | 2015-04-28 | Corning Incorporated | Anti-glare surface treatment method and articles thereof |
| US9085484B2 (en) * | 2010-04-30 | 2015-07-21 | Corning Incorporated | Anti-glare surface treatment method and articles thereof |
| US9411180B2 (en) | 2011-02-28 | 2016-08-09 | Corning Incorporated | Apparatus and method for determining sparkle |
-
2012
- 2012-02-02 KR KR1020197015047A patent/KR102101944B1/ko active Active
- 2012-02-02 KR KR1020137025268A patent/KR101984806B1/ko active Active
- 2012-02-02 CN CN201280010627.4A patent/CN103502166B/zh active Active
- 2012-02-02 EP EP12703221.7A patent/EP2681163A1/en not_active Withdrawn
- 2012-02-02 JP JP2013556633A patent/JP6013378B2/ja active Active
- 2012-02-02 WO PCT/US2012/023563 patent/WO2012118594A1/en unknown
- 2012-02-15 TW TW101104925A patent/TWI562969B/zh active
- 2012-02-27 US US13/405,787 patent/US9701579B2/en active Active
-
2016
- 2016-09-21 JP JP2016183891A patent/JP6550026B2/ja active Active
-
2017
- 2017-06-08 US US15/617,138 patent/US10183889B2/en active Active
-
2018
- 2018-12-11 US US16/216,318 patent/US10899661B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513021A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Hitachi Ltd | 反射防止体及びその利用装置 |
| JPH0687632A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-03-29 | Asahi Glass Co Ltd | 防眩効果を有する低反射導電膜及びその製造方法 |
| JP2003221256A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基板 |
| KR20100070516A (ko) * | 2008-12-18 | 2010-06-28 | 한국기계연구원 | 무반사 표면 및 초발수 표면의 제조방법 |
| US20100246016A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Carlson Krista L | Glass having anti-glare surface and method of making |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170035890A (ko) * | 2014-07-16 | 2017-03-31 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 커버 유리 |
| US12054419B2 (en) | 2014-07-16 | 2024-08-06 | AGC Inc. | Cover glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20170327418A1 (en) | 2017-11-16 |
| TWI562969B (en) | 2016-12-21 |
| EP2681163A1 (en) | 2014-01-08 |
| CN103502166B (zh) | 2016-11-09 |
| US10899661B2 (en) | 2021-01-26 |
| KR20190061097A (ko) | 2019-06-04 |
| US10183889B2 (en) | 2019-01-22 |
| KR101984806B1 (ko) | 2019-05-31 |
| WO2012118594A1 (en) | 2012-09-07 |
| JP2014513029A (ja) | 2014-05-29 |
| KR102101944B1 (ko) | 2020-04-21 |
| US20190248703A1 (en) | 2019-08-15 |
| US9701579B2 (en) | 2017-07-11 |
| JP6550026B2 (ja) | 2019-07-24 |
| CN103502166A (zh) | 2014-01-08 |
| TW201236991A (en) | 2012-09-16 |
| JP2017016147A (ja) | 2017-01-19 |
| US20120218640A1 (en) | 2012-08-30 |
| JP6013378B2 (ja) | 2016-10-25 |
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| JP7657400B2 (ja) | ガラス基板、表示装置、及びガラス基板の製造方法 |
Legal Events
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