KR20130029337A - 반도체장치 - Google Patents

반도체장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130029337A
KR20130029337A KR1020120099743A KR20120099743A KR20130029337A KR 20130029337 A KR20130029337 A KR 20130029337A KR 1020120099743 A KR1020120099743 A KR 1020120099743A KR 20120099743 A KR20120099743 A KR 20120099743A KR 20130029337 A KR20130029337 A KR 20130029337A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
switching element
voltage
low
high side
terminal
Prior art date
Application number
KR1020120099743A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101329614B1 (ko
Inventor
샤오광 리앙
Original Assignee
미쓰비시덴키 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시덴키 가부시키가이샤
Publication of KR20130029337A publication Critical patent/KR20130029337A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101329614B1 publication Critical patent/KR101329614B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/822Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
    • H01L21/8232Field-effect technology
    • H01L21/8234MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K19/00Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
    • H03K19/0175Coupling arrangements; Interface arrangements
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0063High side switches, i.e. the higher potential [DC] or life wire [AC] being directly connected to the switch and not via the load
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0072Low side switches, i.e. the lower potential [DC] or neutral wire [AC] being directly connected to the switch and not via the load
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K2217/00Indexing scheme related to electronic switching or gating, i.e. not by contact-making or -breaking covered by H03K17/00
    • H03K2217/0081Power supply means, e.g. to the switch driver

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computing Systems (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Power Conversion In General (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

하이사이드 구동회로가 부바이어스 구동을 행하면서, 부트스트랩 콘덴서에 의해 하이사이드 구동회로에 구동전압을 공급할 수 있는 반도체장치를 얻는다. 기준전압회로(3)는, 하이사이드 구동회로(1)의 고압 단자 VB의 전압과 저압 단자 VE의 전압 사이의 기준전압을 생성하여, 하이사이드 스위칭 소자 Q1과 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 접속점에 공급한다. 충전용 스위칭 소자 Q3의 드레인이 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VE에 접속되고, 소스가 접지되어 있다.

Description

반도체장치{SEMICONDUCTOR DEVICE}
본 발명은, 하이사이드(high-side) 구동회로가 부바이어스(negative-bias) 구동을 행하면서, 부트스트랩 콘덴서에 의해 하이사이드 구동회로에 구동전압을 공급할 수 있는 반도체장치에 관한 것이다.
하프브릿지 회로에 있어서, 하이사이드 스위칭 소자를 구동하는 하이사이드 구동회로에는, 주전원보다 높은 구동전압이 필요하다. 또한, 하이사이드 구동회로의 기준 전위(저압 단자의 전위)는 로우사이드(low-side) 스위칭 소자의 구동에 따라 하프브릿지 회로의 고압측 전위와 저압측 전위 사이를 변동한다. 그 때문에, 하이사이드 구동회로의 구동전압원으로서, 저압측 전위에 대해 부유한 플로팅 전원을 사용할 필요가 있다. 따라서, 하이사이드 구동회로의 고압 단자와 저압 단자 사이에 접속된 부트스트랩 콘덴서를 로우사이드 구동전원에 의해 충전하여, 하이사이드 구동회로의 구동전압을 얻는 것이 알려져 있다 (예를 들면, 특허문헌 1 참조).
부트스트랩 회로를 사용한 반도체 장치에서는, 하이사이드 구동회로의 저압 단자가 하이사이드 스위칭 소자와 로우사이드 스위칭 소자의 접속점에 접속되어 있다. 따라서, 로우사이드 스위칭 소자가 턴온하여 하이사이드 구동회로의 저압 단자가 GND 전위로 되면, 부트스트랩 콘덴서가 충전된다.
또한, 하이사이드 구동회로가 부바이어스 구동을 행하는 반도체장치가 알려져 있다. 이 반도체장치는, 하이사이드 구동회로의 고압 단자의 전압과 저압 단자의 전압 사이의 기준전압을 생성하여, 하이사이드 스위칭 소자의 소스에 공급하는 기준전압회로를 구비한다. 이에 따라, 하이사이드 구동회로는, 오프시에 하이사이드 스위칭 소자의 게이트에 소스에 대해 부전압을 줄 수 있다.
일본국 특개평 11-205112호 공보
하이사이드 구동회로가 부바이어스 구동을 행하는 반도체 장치에서는, 하이사이드 구동회로의 저압 단자가 하이사이드 스위칭 소자와 로우사이드 스위칭 소자의 접속점에 접속되어 있지 않아, 로우사이드 스위칭 소자를 경유해서 부트스트랩 콘덴서를 충전하는 경로가 존재하지 않는다. 따라서, 로우사이드 스위칭 소자가 턴온해도 하이사이드 구동회로의 저압 단자가 GND 전위로 되지 않아, 부트스트랩 콘덴서가 충전되지 않는다. 이 때문에, 부트스트랩 콘덴서에 의해 하이사이드 구동회로에 구동전압을 공급할 수 없다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은, 전술한 것과 같은 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 그것의 목적은 하이사이드 구동회로가 부바이어스 구동을 행하면서, 부트스트랩 콘덴서에 의해 하이사이드 구동회로에 구동전압을 공급할 수 있는 반도체장치를 얻는 것이다.
본 발명에 관한 반도체장치는, 고압측 전위와 저압측 전위 사이에 고압측으로부터 순서대로 토템폴(totem-pole) 접속된 하이사이드 스위칭 소자 및 로우사이드 스위칭 소자와, 플로팅 전원이 접속되는 고압 단자와 저압 단자를 갖고, 상기 고압 단자의 전압과 상기 저압 단자의 전압의 한쪽을 상기 하이사이드 스위칭 소자에 공급해서 상기 하이사이드 스위칭 소자를 구동하는 하이사이드 구동회로와, 상기 로우사이드 스위칭 소자를 구동하는 로우사이드 구동회로와, 상기 하이사이드 구동회로의 상기 고압 단자의 전압과 상기 저압 단자의 전압 사이의 기준전압을 생성해서 상기 하이사이드 스위칭 소자와 상기 로우사이드 스위칭 소자의 접속점에 공급하는 기준전압회로와, 제어 단자와, 상기 하이사이드 구동회로의 상기 저압 단자에 접속된 제1단자와, 접지된 제2단자를 갖는 충전용 스위칭 소자를 구비한다.
본 발명에 의해, 하이사이드 구동회로가 부바이어스 구동을 행하면서, 부트스트랩 콘덴서에 의해 하이사이드 구동회로에 구동전압을 공급할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시형태 1에 관한 반도체장치의 동작을 나타낸 타이밍 차트다.
도 3은 비교예 1에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 4는 비교예 2에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시형태 2에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시형태 3에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시형태 4에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시형태 5에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다.
본 발명의 실시형태에 관한 반도체장치에 대해 도면을 참조해서 설명한다. 동일 또는 대응하는 구성요소에는 동일한 부호를 붙이고, 설명의 반복을 생략하는 경우가 있다.
실시형태 1.
도 1은, 본 발명의 실시형태 1에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 이 장치는, 고압측 전위와 저압측 전위 사이에 고압측으로부터 순서대로 토템폴 접속된 하이사이드 스위칭 소자 Q1 및 로우사이드 스위칭 소자 Q2를 갖는 하프브릿지회로이다.
하이사이드 구동회로(1)는, HIN 단자로부터 입력한 제어신호에 따라, 고압 단자 VB의 전압과 저압 단자 VE의 전압의 한쪽을, 출력 단자 HO를 거쳐 하이사이드 스위칭 소자 Q1의 게이트에 공급하여, 하이사이드 스위칭 소자 Q1을 구동한다.
로우사이드 구동회로(2)는, LIN 단자로부터 입력한 제어신호에 따라, 고압 단자 VCC의 전압과 저압 단자 GND의 전압의 한쪽을, 출력 단자 LO를 거쳐 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 게이트에 공급하여, 로우사이드 스위칭 소자 Q2를 구동한다.
기준전압회로 3은, 하이사이드 구동회로(1)의 고압 단자 VB의 전압과 저압 단자 VE의 전압 사이의 기준전압을 생성하고, 출력 단자 VS를 거쳐 하이사이드 스위칭 소자 Q1과 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 접속점에 공급한다.
기준전압회로 4는, 로우사이드 구동회로(2)의 고압 단자 VCC의 전압과 저압 단자 GND의 전압 사이의 기준전압을 생성하고, 출력 단자 N을 거쳐 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 소스에 공급한다.
하이사이드 구동회로(1)의 기준 전위(저압 단자 VE의 전위)는 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 구동에 따라 하프브릿지회로의 고압측 전위와 저압측 전위 사이를 변동한다. 그 때문에, 하이사이드 구동회로(1)의 구동전압원으로서, 저압측 전위에 대해 부유한 플로팅 전원을 사용할 필요가 있다. 따라서, 부트스트랩 콘덴서 C1을 사용한다. 부트스트랩 콘덴서 C1의 일단이 하이사이드 구동회로(1)의 고압 단자 VB에 접속되고, 타단이 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VE에 접속되어 있다.
부트스트랩 다이오드 D1의 애노드가 저항 R1을 거쳐 로우사이드 구동전원에 접속되고, 캐소드가 부트스트랩 콘덴서 C1의 일단에 접속되어 있다. 부트스트랩 다 이오드 D1은, 로우사이드 구동전원으로부터의 전류를 부트스트랩 콘덴서 C1의 일단에 공급한다.
충전용 스위칭 소자 Q3의 드레인이 부트스트랩 콘덴서 C1의 타단에 접속되고, 소스가 접지되어 있다. 충전용 스위칭 소자 Q3의 게이트 VG에는, 외부에서 게이트 전압이 입력된다.
도 2는, 본 발명의 실시형태 1에 관한 반도체장치의 동작을 나타낸 타이밍 차트다. 하이사이드 스위칭 소자 Q1이 턴오프, 로우사이드 스위칭 소자 Q2이 턴온하면, 약간 지연되어 충전용 스위칭 소자 Q3이 턴온한다. 이에 따라, VE 단자가 GND 전위가 되고, 부트스트랩 다이오드 D1이 순바이어스되기 때문에, 부트스트랩 콘덴서 C1은 충전된다.
한편, 하이사이드 스위칭 소자 Q1이 턴온, 로우사이드 스위칭 소자 Q2가 턴오프하면, 충전용 스위칭 소자 Q3이 턴오프한다. 이에 따라, VE 단자가 고전위로 되고, 부트스트랩 다이오드 D1이 역바이어스되기 때문에, 부트스트랩 콘덴서 C1은 방전된다.
이어서 본 실시형태의 효과를 비교예 1, 2와 비교해서 설명한다. 도 3은, 비교예 1에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 이 장치는, 부트스트랩 회로를 사용한 일반적인 반도체장치로서, 부바이어스 구동을 행하지 않는다. 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VS가 하이사이드 스위칭 소자 Q1과 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 접속점에 접속되어 있다. 따라서, 로우사이드 스위칭 소자 Q2가 턴온해서 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VS가 GND 전위가 되면, 부트스트랩 콘덴서 C1이 충전된다.
도 4는, 비교예 2에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 이 장치는, 부트스트랩 회로를 사용하면서, 또한 부바이어스 구동을 행한다. 단, 본 실시형태의 충전용 스위칭 소자 Q3은 존재하지 않는다. 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VE가 하이사이드 스위칭 소자 Q1과 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 접속점에 접속되고 있지 않아, 로우사이드 스위칭 소자 Q2를 경유해서 부트스트랩 콘덴서 C1을 충전하는 경로가 존재하지 않는다. 따라서, 로우사이드 스위칭 소자 Q2가 턴온해도 하이사이드 구동회로(1)의 저압 단자 VE가 GND 전위로 되지 않아, 부트스트랩 콘덴서 C1이 충전되지 않는다. 이 때문에, 부트스트랩 콘덴서 C1에 의해 하이사이드 구동회로(1)에 구동전압을 공급할 수 없다.
본 실시형태에서는, 부트스트랩 콘덴서 C1의 타단과 접지점 사이에 충전용 스위칭 소자 Q3을 설치하고 있다. 이 충전용 스위칭 소자 Q3이 턴온해서 단자 VE의 전위가 GND로 되면, 부트스트랩 콘덴서 C1은 다이오드 D1과 충전용 스위칭 소자 Q3을 거쳐 충전된다. 따라서, 하이사이드 구동회로(1)가 부바이어스 구동을 행하면서, 부트스트랩 콘덴서 C1에 의해 하이사이드 구동회로(1)에 구동전압을 공급할 수 있다.
또한, 외부에서 입력하는 충전용 스위칭 소자 Q3의 게이트 전압을 제어하여, 충전용 스위칭 소자 Q3의 턴온을 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 턴온보다 늦추는 것이 바람직하다. 이에 따라, 충전용 스위칭 소자 Q3을 저전압 상태에서 스위칭시킬 수 있기 때문에, 신뢰성이 향상된다.
실시형태 2.
도 5는, 본 발명의 실시형태 2에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 충전용 스위칭 소자 Q3의 제어 단자가 로우사이드 구동회로(2)의 출력 단자에 접속되어 있다. 그 밖의 구성은 실시형태 1과 동일하다. 이에 따라, 충전용 스위칭 소자 Q3의 게이트 전압을 외부에서 개별적으로 공급할 필요가 없어져, 회로 구성을 간략화할 수 있다.
실시형태 3.
도 6은, 본 발명의 실시형태 3에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 충전용 스위칭 소자 Q3의 제어 단자와 로우사이드 구동회로(2)의 출력 단자 사이에 지연회로(5)가 접속되어 있다. 그 밖의 구성은 실시형태 2와 같다. 이 지연회로(5)는, 충전용 스위칭 소자 Q3의 턴온을 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 턴온보다 늦춘다. 이에 따라, 충전용 스위칭 소자 Q3을 저전압 상태에서 스위칭시킬 수 있기 때문에, 신뢰성이 향상된다.
실시형태 4.
도 7은, 본 발명의 실시형태 4에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 부트스트랩 콘덴서 C1과 충전용 스위칭 소자 Q3 사이에 역류 방지용 다이오드 D2가 접속되어 있다. 그 밖의 구성은 실시형태 1과 같다.
이 역류 방지용 다이오드 D2에 의해, 하이사이드 스위칭 소자 Q1 및 로우사이드 스위칭 소자 Q2의 환류 등에 의한 충전용 스위칭 소자 Q3의 역전류를 방지하여, 신뢰성을 높일 수 있다. 이때, 실시형태 2, 3의 구성에 역류 방지용 다이오드 D2를 설치해도 된다.
실시형태 5.
도 8은, 본 발명의 실시형태 5에 관한 반도체장치를 도시한 도면이다. 충전용 스위칭 소자 Q3이 드라이버 IC에 집적되어 있다. 그 밖의 구성은 실시형태 1과 같다. 이에 따라, 회로 구성을 간략화할 수 있다.
이때, 상기한 실시형태 1~5에 있어서, 하이사이드 스위칭 소자 Q1 및 로우사이드 스위칭 소자 Q2는 n채널 MOSFET이지만, 이것에 한정되지 않고 MOSFET, IGBT, SiC-MOSFET 등의 파워 스위칭 소자이어도 된다.
또한, 하이사이드 스위칭 소자 Q1 및 로우사이드 스위칭 소자 Q2는, 규소에 의해 형성된 것에 한정되지 않고, 규소에 비해 밴드갭이 큰 와이드 밴드갭 반도체에 의해 형성된 것이라도 된다. 와이드 밴드갭 반도체는, 예를 들면, 탄화 규소, 질화 갈륨계 재료, 또는 다이아몬드이다. 이와 같은 와이드 밴드갭 반도체에 의해 형성된 파워 반도체소자는, 내전압성이나 허용 전류밀도가 높기 때문에, 소형화할 수 있다. 이 소형화된 소자를 사용함으로써, 이 소자를 짜넣은 반도체 모듈도 소형화할 수 있다. 또한, 소자의 내열성이 높기 때문에, 히트싱크의 방열 핀을 소형화할 수 있고, 수냉부를 공냉화할 수 있으므로, 반도체 모듈을 더욱 소형화할 수 있다. 또한, 소자의 전력 손실이 낮고 고효율이기 때문에, 반도체 모듈을 고효율화할 수 있다. 이때, 스위칭 소자와 다이오드 소자의 양쪽이 와이드 밴드갭 반도체에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하지만, 어느 한쪽의 소자가 와이드 밴드갭 반도체에 의해 형성되어 있어도 되고, 본 실시형태에 기재된 효과를 얻을 수 있다.
1 하이사이드 구동회로
2 로우사이드 구동회로
3 기준전압회로
5 지연회로
C1 부트스트랩 콘덴서
D1 부트스트랩 다이오드
D2 역류 방지용 다이오드
Q1 하이사이드 스위칭 소자
Q2 로우사이드 스위칭 소자
Q3 충전용 스위칭 소자

Claims (4)

  1. 고압측 전위와 저압측 전위 사이에 고압측으로부터 순서대로 토템폴 접속된 하이사이드 스위칭 소자 및 로우사이드 스위칭 소자와,
    플로팅 전원이 접속되는 고압 단자와 저압 단자를 갖고, 상기 고압 단자의 전압과 상기 저압 단자의 전압의 한쪽을 상기 하이사이드 스위칭 소자에 공급해서 상기 하이사이드 스위칭 소자를 구동하는 하이사이드 구동회로와,
    상기 로우사이드 스위칭 소자를 구동하는 로우사이드 구동회로와,
    상기 하이사이드 구동회로의 상기 고압 단자의 전압과 상기 저압 단자의 전압 사이의 기준전압을 생성해서 상기 하이사이드 스위칭 소자와 상기 로우사이드 스위칭 소자의 접속점에 공급하는 기준전압회로와,
    제어 단자와, 상기 하이사이드 구동회로의 상기 저압 단자에 접속된 제1단자와, 접지된 제2단자를 갖는 충전용 스위칭 소자를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 충전용 스위칭 소자의 상기 제어 단자는 상기 로우사이드 구동회로의 출력 단자에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 충전용 스위칭 소자의 상기 제어 단자와 상기 로우사이드 구동회로의 상기 출력 단자 사이에 접속된 지연회로를 더 구비한 것을 특징으로 하는 반도체장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하이사이드 구동회로의 상기 저압 단자와 상기 충전용 스위칭 소자 사이에 접속된 역류 방지용 다이오드를 더 구비한 것을 특징으로 하는 반도체장치.
KR1020120099743A 2011-09-14 2012-09-10 반도체장치 KR101329614B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011200487A JP2013062717A (ja) 2011-09-14 2011-09-14 半導体装置
JPJP-P-2011-200487 2011-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130029337A true KR20130029337A (ko) 2013-03-22
KR101329614B1 KR101329614B1 (ko) 2013-11-15

Family

ID=47740383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120099743A KR101329614B1 (ko) 2011-09-14 2012-09-10 반도체장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8536847B2 (ko)
JP (1) JP2013062717A (ko)
KR (1) KR101329614B1 (ko)
CN (1) CN103001616A (ko)
DE (1) DE102012215837A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140116807A (ko) * 2013-03-25 2014-10-06 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 디바이스 구동회로 및 반도체 디바이스 구동장치

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014119307A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 パナソニック株式会社 Dc/dcコンバータ
US9571093B2 (en) 2014-09-16 2017-02-14 Navitas Semiconductor, Inc. Half bridge driver circuits
US9859732B2 (en) 2014-09-16 2018-01-02 Navitas Semiconductor, Inc. Half bridge power conversion circuits using GaN devices
US9667245B2 (en) * 2014-10-10 2017-05-30 Efficient Power Conversion Corporation High voltage zero QRR bootstrap supply
JP6387888B2 (ja) * 2015-04-09 2018-09-12 株式会社デンソー 誘導性負荷駆動装置
JP6428939B2 (ja) * 2015-06-16 2018-11-28 富士電機株式会社 半導体装置
JP6370279B2 (ja) * 2015-09-09 2018-08-08 三菱電機株式会社 ブートストラップ補償回路およびパワーモジュール
JP6607068B2 (ja) * 2016-02-12 2019-11-20 沖電気工業株式会社 電源装置の電源駆動回路
KR102236287B1 (ko) 2016-12-01 2021-04-07 이피션트 파워 컨버젼 코퍼레이션 GaN 트랜지스터 기반 파워 컨버터를 위한 부트스트랩 커패시터 과전압 관리 회로
JP2018022922A (ja) * 2017-10-13 2018-02-08 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US10491023B2 (en) * 2017-12-30 2019-11-26 Texas Instruments Incorporated Capacitor balanced driver circuit for dual input charger
US11923833B2 (en) * 2018-04-02 2024-03-05 Rohm Co., Ltd. Switch driving device
DE102019206751B4 (de) * 2019-05-09 2021-03-25 Schmidhauser Ag Frequenzumrichter
JP2023068926A (ja) * 2021-11-04 2023-05-18 三菱電機株式会社 半導体装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3025715B2 (ja) * 1991-07-31 2000-03-27 三洋電機株式会社 インバータ回路
JP2571963Y2 (ja) * 1991-11-21 1998-05-20 株式会社東芝 インバータ装置
JPH11205112A (ja) 1998-01-20 1999-07-30 Toshiba Microelectronics Corp 高耐圧パワー集積回路
US6529034B1 (en) 2001-11-07 2003-03-04 International Rectifier Corporation Integrated series schottky and FET to allow negative drain voltage
JP2004222485A (ja) * 2002-12-27 2004-08-05 Sony Corp スイッチング電源回路
JP3799341B2 (ja) * 2003-07-25 2006-07-19 株式会社東芝 ゲート駆動回路及び半導体装置
JP4091590B2 (ja) * 2004-10-28 2008-05-28 山洋電気株式会社 スイッチング回路
KR100687936B1 (ko) * 2005-11-29 2007-02-27 삼성전자주식회사 전자기기 및 전원회로
JP2008016365A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Sanken Electric Co Ltd 放電管点灯装置
US7893638B2 (en) * 2006-11-30 2011-02-22 Denso Corporation Apparatus and method for driving rotary machine
JP4734390B2 (ja) * 2008-09-19 2011-07-27 株式会社東芝 コンバータの制御回路
JP5251391B2 (ja) * 2008-09-19 2013-07-31 サンケン電気株式会社 Dc/acコンバータ
JP5359918B2 (ja) * 2010-02-16 2013-12-04 三菱電機株式会社 半導体装置
CN201699675U (zh) * 2010-07-02 2011-01-05 日银Imp微电子有限公司 一种用于控制桥式驱动电路的栅极驱动电路
JP5656072B2 (ja) * 2011-01-25 2015-01-21 サンケン電気株式会社 Dc−dcコンバータ
JP5582123B2 (ja) 2011-10-05 2014-09-03 三菱電機株式会社 半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140116807A (ko) * 2013-03-25 2014-10-06 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 반도체 디바이스 구동회로 및 반도체 디바이스 구동장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20130063123A1 (en) 2013-03-14
CN103001616A (zh) 2013-03-27
JP2013062717A (ja) 2013-04-04
KR101329614B1 (ko) 2013-11-15
US8536847B2 (en) 2013-09-17
DE102012215837A1 (de) 2013-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101329614B1 (ko) 반도체장치
US10454472B2 (en) Bootstrap capacitor over-voltage management circuit for GaN transistor based power converters
TWI641218B (zh) 增強模式fet閘極驅動器ic
JP5629386B2 (ja) 半導体駆動回路およびそれを用いた電力変換装置
US8952730B2 (en) Driver circuit
US8723564B2 (en) Driving circuit
KR100986851B1 (ko) 구동 회로
US20110210340A1 (en) High temperature gate drivers for wide bandgap semiconductor power jfets and integrated circuits including the same
JP2013070263A (ja) 電力変換回路、多相ボルテージレギュレータ、及び電力変換方法
US9954519B2 (en) Electronic switch, and corresponding device and method
JP2008306731A (ja) 供給電圧のオン/オフを目的とするハイサイド半導体スイッチのスイッチ制御回路
CN106911250A (zh) 电力转换系统、功率模块及半导体器件
JP2023016898A (ja) スイッチング回路
KR101297460B1 (ko) 게이트 구동 장치
JP6048929B2 (ja) ゲート駆動回路、インバータ回路、電力変換装置および電気機器
JP2016040967A (ja) ゲート駆動回路
JP6458552B2 (ja) スイッチング方式の降圧型dc−dcコンバータ、及び電力変換回路
CN111917403A (zh) 用于降低死区时间效率低下的栅极驱动器电路
KR101329610B1 (ko) 반도체장치
US10367501B1 (en) Semiconductor device
US10707870B2 (en) High-side driver circuit
KR102026929B1 (ko) 전력 스위치용 게이트 구동회로
JP4821394B2 (ja) 半導体素子駆動回路
JP2012244215A (ja) 半導体集積回路
US7102416B2 (en) High side switching circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161020

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee