KR20120057568A - 표면의 제염 방법 - Google Patents
표면의 제염 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120057568A KR20120057568A KR1020117026921A KR20117026921A KR20120057568A KR 20120057568 A KR20120057568 A KR 20120057568A KR 1020117026921 A KR1020117026921 A KR 1020117026921A KR 20117026921 A KR20117026921 A KR 20117026921A KR 20120057568 A KR20120057568 A KR 20120057568A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- decontamination
- acid
- treated
- solution
- oxide layer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 claims abstract description 78
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 claims abstract description 72
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 16
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009390 chemical decontamination Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 13
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 II) Chemical class 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N hydroxymalonic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(O)=O ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);oxalate Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C([O-])=O DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- GOCCREQJUBABAL-UHFFFAOYSA-N 2,2-dihydroxyacetic acid Chemical compound OC(O)C(O)=O GOCCREQJUBABAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000010936 aqueous wash Methods 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/001—Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
- G21F9/002—Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes
- G21F9/004—Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes of metallic surfaces
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/04—Treating liquids
- G21F9/06—Processing
- G21F9/12—Processing by absorption; by adsorption; by ion-exchange
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/28—Treating solids
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/28—Treating solids
- G21F9/30—Processing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
본 발명은 가압 수형 원자로의 1차 회로의 금속 부품 표면을 화학적으로 제염하는 방법에 관한 것으로, 상기 표면은 산화물층을 포함한다. 상기 방법은 두 개의 공정 단계들로 나뉘며 하기와 같이 추가로 수행된다: - 제 1 공정 단계에서, 산화 단계, 환원 단계, 및 이후의 제 1 제염 단계를 포함하는 처리 사이클을 1회 이상 수행하고, 여기에서 부품은 산화 단계에서 산화제를 포함하는 수용액으로 처리되고, 상기 산화제는 산화물층에 존재하는 3가 크롬을 6가 크롬으로 전환시키며; 부품은 환원 단계에서 산화 단계로부터 나온 과량의 산화제를 환원시키기 위한 환원제를 포함하는 수용액으로 처리되고; 부품은 제 1 제염 단계에서 용액 내에 존재하는 금속 이온들, 특히 2가 금속 이온들과 함께 난용성 증착물을 형성시키는 하나 이상의 제염 산을 오로지 또는 대부분 포함하는 수용액으로 처리되며; 상기 용액은 용액 내에 존재하는 금속 이온들(부품의 산화물층 및/또는 베이스 금속에서 비롯됨)을 제거하기 위해 이온 교환기를 통해 공급되고, - 제 2 공정 단계에서, 제 2 제염 단계를 포함하는 처리 사이클을 1회 이상 수행하며, 여기에서 부품은 제염 산으로서 오로지 또는 대부분 옥살산을 포함하는 수용액으로 처리된다.
Description
본 발명은 가압 수형 원자로의 냉각재 회로 부품의 표면을 제염하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 가압 수형 원자로의 냉각재 회로 부품의 표면을 제염하는 방법에 관한 것이다. 냉각재 회로의 중요한 요소는 원자로 압력용기이며, 여기에 원자로 연료를 함유하는 연료 요소가 놓인다. 각각 냉각재 펌프 및 증기 발생기를 갖는 다중 냉각 루프(loop)는, 일반적으로 원자로 압력용기에 연결된다.
288℃ 범위 내의 온도에서 가압 수형 원자로의 온-로드(on-load) 운전 조건 하에서는, 예를 들면 냉각 루프의 배관 시스템을 구성하는 스테인리스 오스테나이트계 FeCrNi 강(steel), 예를 들면 증기 발생기의 교환기 튜브를 구성하는 Ni 합금들, 또는 예를 들면, 냉각재 펌프와 같은 요소들에 사용되는 코발트를 함유하는 다른 성분들이라 하더라도, 물에서 어느 정도의 용해도를 갖는다. 상기 언급된 합금들로부터 침출된 금속 이온들은 냉각재의 흐름에 의해 원자로 압력용기로 운반되고, 여기에서 상기 금속 이온들은 그 위치에서 일어나는 중성자 방사로 인해 부분적으로 방사성 핵종으로 전환(conversion)된다. 그 다음 핵종들은 냉각재 흐름에 의해 냉각재 시스템 전체에 걸쳐 분포되며, 운전 중에 냉각재 시스템 부품의 표면상에 형성되는 산화물층 내에 증착된다. 장기간의 운전 기간에 걸쳐, 증착된 활성화 핵종들의 양이 축적됨에 따라 냉각재 시스템 부품들의 방사능, 즉, 선량률(dose rate)이 증가한다. 부품에 사용된 합금의 유형에 따라, 산화물층은 1차 성분으로서 2가 및 3가 철을 갖는 산화철 및 전술한 강 내에 합금 성분으로서 존재하는 다른 금속들(주로 크롬과 니켈)의 산화물을 함유한다. 니켈은 항상 2가 형태(Ni2 +)로 존재하며, 크롬은 3가 형태(Cr3 +)로 존재한다.
검사하기 이전에, 냉각재 시스템에 대한 유지 보수, 수리, 및 해체 과정들이 수행될 수 있으며, 상기 과정들은 사람의 방사선 노출 수준을 낮추기 위해 문제시되는 부품의 방사선을 줄이는데에 필요하다. 이는 제염 방법을 사용하여 부품 표면상에 존재하는 산화물층을 가능한 한 많이 제거함으로써 달성된다. 이러한 제염에서, 밸브에 의해 그로부터 분리된 냉각재 시스템 전체 또는 일부가, 예를 들면 수성 세척액으로 가득 채워지거나, 또는 상기 시스템의 개별 부품들이 세척액을 함유하는 별도의 용기(container) 내에서 처리된다. 크롬-함유 부품들에 있어서, 예를 들어 가압 수형 원자로의 경우, 산화물층은 먼저 산화하여 처리되고(산화 단계), 그 후에 상기 산화물층은 소위 제염 단계에서 산(하기에서 '제염 산'이라 나타냄)을 사용하여 산성 조건 하에 용해된다. 그 다음 산화물층으로부터 용액으로 통과하는 금속 이온들은 이온 교환기를 통과시킴으로써 상기 용액에서 제거될 수 있다. 환원 단계에서는, 환원제를 첨가함으로써 상기 산화 단계에서 나온 과량의 산화제가 중화, 즉 환원된다. 따라서, 제염 단계에서 산화물층의 용해 또는 금속 이온들의 침출은 산화제가 없을 때에 일어난다. 과량의 산화제의 환원은 독립적인 처리 단계일 수 있으며, 이에 따라 오로지 환원 목적으로만 사용되는 환원제(예를 들면 아스코르브산 또는 시트르산), 또는 과망간산 이온 및 이산화망간의 환원을 위한 과산화수소가 세척액에 첨가된다. 그러나, 과량의 산화제는 또한 환원제 이외에도, 산화물층의 용해를 유발하는 제염 산, 또는 과량의 산화제를 환원시킬 수 있는 산, 예를 들면 자주 사용되는 과망간산 이온과 그 결과 생성된 이산화망간을 사용하여 제염 단계의 범위 내에서 환원될 수 있다. 전술한 경우, 한편으로는 과량의 산화제를 중화시키기에 충분하고 다른 한편으로는 산화물을 용해시키기에 충분한 양의 제염 산이 용액에 첨가된다. 일반적으로, 일련의 처리 순서인 "산화 단계-환원 단계-제염 단계" 또는 "산화 단계-제염 단계(환원과 동시에 일어남)"는 원하는 결과를 얻기 위해 다양한 시간에 적용된다. 동일한 제염 산 또는 제염 산들의 혼합물은 제염 단계에 항상 사용된다.
산화물층은 산화 처리가 필요한데, 이는 3가 크롬을 함유하는, 주로 스피넬(spinel) 유형의 크롬(III) 산화물 및 혼합된 산화물이 제염하기 적합한 산 내에서 단지 조금밖에 녹지 않는다는(난용성) 사실 때문이다. 이러한 이유로, 용해도를 높이기 위해, 산화물층은 Ce4 +, HMnO4, H2S2O8, KMnO4, KMnO4를 산 또는 염기와 함께, 또는 O3과 같은 산화제의 수용액으로 우선 처리된다. 이러한 처리 결과, Cr(III)은 Cr(VI)(이는 수용액에서 CrO4 2 -가 된다)로 산화된다.
제염 단계에 환원제가 존재하기 때문에, 산화 단계에서 제조되어 세척액 내에서 크롬산염으로 존재하는 Cr(VI)은 다시 Cr(III)로 환원된다. 제염 단계의 마지막에, 상기 세척액은 Co-60과 같은 방사성 동위원소들뿐만 아니라 Cr(III), Fe(II), Fe(III), 및 Ni(II)을 함유한다. 이러한 금속 이온들은 이온 교환기를 사용하여 세척액으로부터 제거될 수 있다. 제염 단계에서 자주 사용되는 제염 산은 옥살산인데, 이는 옥살산이 산화물층을 용해시켜 이를 부품 표면들로부터 제거시킬 수 있기 때문이다.
그러나, 옥살산은 Ni2 +, Fe2 +, Co2 +, 및 Cu2 +와 같은 2가 금속 이온들과 함께 난용성 옥살레이트 침전물을 형성시킨다는 점(이는 냉각재 시스템 전체에 걸쳐 분포하게 되며 부품(예를 들면 증기 발생기)의 안쪽 표면 및 파이프의 안쪽 표면상에 증착된다)에서 불리하다. 그 결과, 상기 침전물은 상기 전체 방법을 수행하는 것을 복잡하게 만든다. 이러한 이유로, 용액의 유기 성분들은 산화제와 UV 방사로 처리함에 따라 종종 이산화탄소 및 물로 전환되며, 따라서 용액으로부터 제거된다. 그러나, 침전물은 용액의 혼탁을 일으키며, 이는 UV 방사의 효과를 상당히 감소시킨다. 또한, 이로 인해 방사성 핵종의 공-침전(co-precipitation)이 생기고, 따라서, 부품 표면의 재오염(recontamination)이 발생한다. 재오염의 위험은 큰 표면-대-부피 비율을 갖는 부품들에게 있어서 특히 높다. 이는 증기 발생기의 경우, 특히, 매우 많은 수의 작은-직경 교환기 튜브를 갖는 증기 발생기의 경우에서이다. 옥살산의 사용에 따른 또 다른 단점은, 옥살레이트 침전물들이 이온 교환기로부터 상류에 제공된 필터와 체판(sieve plate)과 같은 필터 유닛들, 또는 순환 펌프의 보호 필터를 틀어막을 수 있다는 점이다. 마지막으로, 추가의 단점은 산화 단계 및 제염 단계로 이루어진 전술한 처리 사이클이 반복되는 경우, 즉, 제염 단계에 이어 또 다른 산화 단계가 있는 경우 발생한다. 옥살레이트 침전물들이 이전의 제염 단계에서 생성된 경우, 해당 금속 이온들(예를 들면 니켈 옥살레이트 침전물의 경우에는 Ni)은 이온 교환기의 사용에 의해 용액으로부터 제거될 수 없다. 그 결과, 이후의 산화 단계에서 침전물의 옥살레이트 잔여물은 산화되어 이산화탄소와 물을 형성하고, 이에 따라 산화제는 불필요하게 소모된다. 반면, 옥살레이트가 용액 내에 존재하면, 즉, 침전물의 형태로 굳어있지 않으면, 예를 들어 세척액이 이온 교환기 내로 들어가기 이전에, 옥살레이트가 자외선에 의해 쉽게 그리고 비용-효율적으로 분해될 수 있다(예를 들면, 즉, 이산화탄소와 물로 변환됨). 마지막으로, 추가의 단점은, 옥살레이트 침전물에 의해 생긴 혼탁함으로 인해, 예를 들면 광도측정법을 사용한 공정의 모니터링이 방해된다는 점이다.
이러한 점들에 기초하여, 본 발명의 목적은 상기 기술된 단점들과 관련하여 개선된 제염 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은 청구항 제 1항에 따른 두 개의 공정 단계들로 나누어진 제염 방법에 의해 달성된다.
제 1 공정 단계에서, 산화 단계, 환원 단계, 및 이후의 제 1 제염 단계를 포함하는 처리 사이클이 1회 이상 수행된다. 부품 표면상에 산화물이 형성되는 정도와 유형에 따라, 이러한 처리 사이클이 오직 한 번, 또는 여러 번으로도 수행될 수 있다. 상기 산화 단계에서, 부품은 산화물층 내에 함유된 3가 크롬을 6가 크롬으로 전환시키기에 충분한 산화력을 갖는 산화제를 함유하는 수성 세척액으로 처리된다. 상기에 기술한 바와 같이, 본 단계로 인해 부품상에 존재하는 산화물층의 용해도가 증가한다. 상기 환원 단계에서, 부품은 상기 산화 단계로부터 나온 과량의 산화제를 환원시키기 위해 환원제를 함유하는 용액으로 처리된다. 상기 제 1 제염 단계에서, 부품은, 예를 들면 옥살산의 경우와 같이, 상기 용액 내에 존재하는 금속 이온들(특히, Ni(II), Fe(II), Co(II), 및 Mn(II)와 같은 2가 금속 이온들)과 함께 난용성 침전물을 형성하지 않는 하나 이상의 제염 산을 오로지 또는 대부분(즉, 50몰%를 초과하는 비율로) 함유하는 수용액으로 처리된다. 3염기(tribasic) 이상의 염기 산(basic acid)과 함께 난용성 침전물을 형성시키지 않는 제염 산을 사용하는 것이 실용적이지만, 이는, 그러나, 예를 들면 포름산과 글리옥실산과 같은 본 유형의 제염에 사용되는 전형적인 산의 경우이다. 난용성 니켈 옥살레이트 침전물들의 형성은 특히 이러한 방식으로 예방된다. 제염 단계 동안 혹은 제염 단계의 마지막에는, 용액 내에 함유된 금속 이온(부품의 산화물층 및/또는 베이스 금속에서 비롯됨)을 제거하기 위해 용액을 이온 교환기에 통과시켰다.
또한 상기 환원 단계 및 제염 단계는, 전술한 바와 같이 함께, 즉 동시에 수행될 수 있다.
따라서, 제안된 방법으로, 제 1 공정 단계에서, 난용성 침전물들의 형성에 결정적인 역할을 하는 금속 이온들(주로 Ni(II), Fe(II), 및 Co(II))의 상당 부분이 세척액으로부터 제거될 수 있고, 이에 따라, 난용성 침전물들을 형성하는 위험 없이 부품 표면으로부터 제거되어 제염된다. 제 2 공정 단계에서, 제 2 제염 단계의 수행에는 주로 산화물층에 존재하는 Fe(III) 및 Fe(II)를 침출하기 위해 매우 효과적인 옥살산이 용이하게 사용될 수 있다는 선택사항이 있는데, 이는 결정적인 2가 이온들(주로 Ni(II))이 더 이상 존재하지 않거나 세척액 내에 농축되어 존재하여 더 이상 침전물을 생성시키지 않기 때문이다. 따라서, 본 발명에 따른 방법에서, 두 개의 상이한 제염 형태들이 사용되며, 이에 따라 제 1 형태 또는 제 1 제염 단계에서는, 난용성 옥살레이트 침전물들을 형성하는 이온들이 제거되고, Fe(III) 및 Fe(II)와 같이 남아있는 이온들은 이후에 산화물의 용해와 관련해서 매우 효과적인 옥살산을 사용하여 용액 내로 가져올 수 있다. 이는 제 1 공정 단계에 사용되는 "결정적이지 않은" 제염 산에 의해 생겨난 산화물층으로부터 Fe(II) 또는 Fe(III)를 용해시키는 것이 효과적인지 그렇지 않은지 그 자체와는 관계가 없는데, 이는 제 2 공정 단계에서 옥살산을 이용하여 효과적으로 수행될 수 있기 때문이다.
바람직하게는, 오직 옥살산만 제 2 제염 단계에 사용된다. 그러나, 혼합물 내에 옥살산이 지배적인, 즉, 옥살산이 50몰%가 넘는 비율로 존재하는, 하나 이상의 다른 제염 산들의 혼합물도 생각해볼 수 있다.
요약하면, 본 발명에 따른 방법은 제염의 효과를 감소시키지 않으면서 난용성 침전물들의 형성을 예방하는 것 또는 적어도 많이 줄이는 것의 선택 사항을 제공한다.
상기 방법은 제 1 공정 단계에서, 1회 이상의 처리 사이클이 우선 수행되고, 그 후에 제 2 공정 단계에서, 부품 표면이 제 2 제염 단계에서 선행하는 산화 없이 처리되는(즉, 부품의 산화물층이 옥살산으로 처리된다) 방식으로 수행될 수 있다. 그러나, 제 2 공정 단계에서, 산화물층이 예를 들면 전술한 산화제들을 사용하여 우선 처리되고, 그 다음에 오직 옥살산을 이용한 산화물층의 용해가 수행되는 것도 생각해볼 수 있다. 이러한 경우, 물론, 전술한 바와 같이 환원 단계도 필요하다.
유기산은 바람직하게는 제 1 제염 단계에서 사용되는데, 이는 이의 유기 성분이?상기 산이 탄소, 수소, 및 산소로 이루어진 경우?이산화탄소와 물로 전환됨에 따라 실제로 잔여물 없이 제거될 수 있기 때문이다(이는 이산화탄소가 기체로서 용액에서 빠져나가기 때문임). 상기 유기 성분들은, 과산화수소와 같은 산화제가 첨가되어 있는 용액을 자외선으로 방사하는 공지된 방법 그 자체로 제거된다. 바람직하게, 오로지 탄소, 수소, 및 산소로만 이루어진 산이 사용되고, 따라서 이온 교환기의 도움으로만 제거할 수 있어서 2차 폐기물(처분되어야 하는 추가의 교환기 재료)의 발생을 초래하는 잔여물들(질소와 같은 구성요소들에 기인함)이 남아있지 않게된다.
일본과 같은 몇몇 국가에서, 본 유형의 제염을 측정(measure)하는 동안 착물을 형성하는 산 또는 이러한 산들의 착물들을 이온 교환기에 적재하는 것은 허용되지 않는다. 따라서, 이러한 경우에, 금속 이온들과 함께 착물을 형성하지 않는 산을 사용하는 것이 유리하다.
바람직하게, 최대 2개의 탄소 원자들을 함유하는 산은 제 1 제염 단계에 사용된다. 이산화탄소와 물을 형성시키기 위한 이러한 산의 분해는 3개 이상의 탄소 원자들을 함유하는 산의 분해보다 더 신속하게 일어남에 따라 시간, 에너지, 및 산화제, 그리고 또한 궁극적인 비용이 절약될 수 있다.
제 1 공정 단계의 제염 단계에 적합한 산의 예에는 HNO3, HBF4, 및 H2SO4와 같은 무기산; 포름산, 아세트산, 모노하이드록시아세트산, 및 디하이드록시아세트산과 같이 비-착물(noncomplex)을 형성하는 모노카복실산; 및 EDTA, 니트릴로트리아세트산, 및 타르트론산과 같이 착물을 형성하는 산이 포함된다. 포름산 및 글리옥실산은 폐기물 방지에 적합한 것으로 증명되었으며, 최고의 제염 계수(decontamination factor)들은 제 1 공정 단계에 오직 글리옥실산만 사용된 경우에 얻어진다. 이러한 산들은 금속 이온들과 함께, 특히 산화물층의 니켈과 함께 가용성 염을 형성한다. 이러한 염-함유 용액이 양이온 교환기를 통과하게 되는 경우, 금속 이온은 그대로 있고 산 음이온들은 용액 내에 남아있으며, 전술한 바와 같이, 이후에 무-잔여물(residue-free) 방법으로 산화에 의해 분해될 수 있다. 이는, 예를 들어 질소 원자를 함유하는 글리신의 경우, 또는 무기산의 경우는 아니다.
대표적인
구현예
:
제안된 방법의 효과를 증명하기 위해, 가압 수형 원자로의 1차 회로로부터 얻은 시료들을 사용하여 시험을 수행하였다(표 1 참조). 상기 시료들을 약 90℃의 온도에서 세척액을 함유하는 1ℓ짜리 용기에 침지시켰다. 전술한 바와 같이, 제염 방법에서, 산화물층으로부터 침출된 금속 이온들은 이온 교환기를 사용하여 세척액으로부터 제거된다. 간소화하기 위해, 시험에서 이온 교환은 수행하지 않았으며; 대신에, 처리 사이클(산화 단계 및 제염 단계)의 마지막에 상술한 세척액을 버리고 새로운 세척액으로 대체하였다. 하기에 기술된 모든 시험은 대략 pH 2의 산성 범위 내에서 수행하였다.
표 1 내지 3에 따른 시료들을 사용하여 각각 3회의 처리 사이클로 이루어진 세 개의 상이한 방법 형태들을 수행하였다. 각각의 처리 사이클은 산화 단계 및 제염 단계를 포함하였다. 산화물층의 산화를 위해, 상기 시료들을 함유하는 용기를 HMnO4 용액(농도 = 240ppm)으로 채웠다. 노출 시간은 각각의 경우 16시간이었다. 처음의 2회의 사이클에서, 제염 단계를 위해 포름산 및/또는 글리옥실산을 사용하였으며 옥살산은 사용하지 않았다(표 1-3 참조). 각각의 산화 단계 이후에, 적당한 양의 환원제를 첨가하고, 이어서 제염 단계에 사용된 상술한 산을 첨가함으로써 과량의 산화제(HMnO4)를 중화시켰다. 제염 단계에서 산에 대한 노출 시간은 각각의 경우에 5시간이었다.
표 1
시료 TA-03-2를 사용한 형태 1
표 2
시료 TA-03-3을 사용한 형태 2
표 3
시료 TA-03-1을 사용한 형태 3
시료들에 대해, 각각의 경우 초기 및 제염 단계 이후에 존재하는 Co-60 감마 활성(베크렐 또는 Bq)을 측정하였으며, 전체적인 제염 계수(DF), 즉, 초기 활성 대 사이클 후에 존재하는 시료의 활성의 비율을 측정하였다. 그 결과를 표 4에 요약하였다.
표 4
처리 이전/이후의 시료에 대한 Co-60 활성(Bq), 및 제염 계수
결과의 평가에서, 약 10의 제염 계수는 일반적으로 충분하다는 것을 알아야 한다. 이러한 계수는 두 번째 사이클 후에 이미 얻어진다. 글리옥실산이 제염, 즉, 산화물층의 용해, 특히 상기 산이 제 1 공정 단계에서 제염 사이클에 여러 번, 바람직하게는 모두 사용되는 경우 가장 효과적이라는 것 또한 알아야 한다.
본 발명에 따른 방법을 모의 실험한 전술한 시험들에서, 유기산인 글리옥실산 및 포름산은 예로써 사용되었다. 그러나, 무기산 또한 제 1 공정 단계의 제염 단계에 적합하다. 이들의 효과를 증명하기 위해 시험을 수행하였으며, 본 시험에서는 전술한 시료들에 상응하는 크기를 갖는 가압 수형 원자로의 1차 회로로부터 얻은 시료에 대해 산화 단계 및 제염 단계로 이루어진 사이클을 실시하였다. 600㎖의 세척액 부피 및 약 95℃의 온도에서, 산화는 우선 시료 상에 존재하는 산화물층 상에서 HMnO4(300pm)를 사용하여 20시간의 기간 동안 수행하였다. 상기 단계 이후에 존재하는 잔여 산화제는 과산화수소와 질산의 혼합물로 중화시켰는데, 상기 첫 번째 성분은 산화 단계에서 HMnO4로부터 형성된 이산화망간(MnO2)를 용해시키기 위해 필요하다. 그 후에 5-시간의 제염 단계를 수행하였으며, 여기에서 이미 용액 내에 함유되어 있는 질산(HNO3)은 제염 산으로서의 역할, 즉 시료 상에 존재하는 산화물층을 용해시키기 위한 역할을 하였다. 시료의 감마 활성은 제염 단계 이후에 2.18E+4 Bq의 값으로 떨어졌다. 시료의 초기 활성인 6.88E+4 Bq와 비교했을 때, 이는 3.16의 제염 계수에 상응한다.
Claims (10)
- 산화물층을 갖는, 가압 수형 원자로의 1차 회로의 금속성 부품의 표면들의 화학적 제염 방법으로서, 상기 방법이 하기에 따라 두 개의 공정 단계들로 나누어지며 추가로 설계되는 방법:
? 제 1 공정 단계에서, 산화 단계, 환원 단계, 및 이후의 제 1 제염 단계를 포함하는 처리 사이클이 1회 이상 수행되며, 여기에서
- 상기 산화 단계에서, 상기 부품이 산화물층에 존재하는 3가 크롬을 6가 크롬으로 전환시키는 산화제를 함유하는 수용액으로 처리되고;
- 상기 환원 단계에서, 상기 부품이 산화 단계에서 나온 과량의 산화제를 환원시키기 위해 환원제를 함유하는 수용액으로 처리되며;
- 상기 제 1 제염 단계에서, 상기 부품이 용액 내에 존재하는 금속 이온들, 특히 2가 금속 이온들과 함께 난용성 증착물들을 형성하지 않는 하나 이상의 제염 산을 오로지 또는 대부분 함유하는 수용액으로 처리되고;
- 상기 용액이 상기 부품의 산화물층 및/또는 베이스 금속(base metal)에서 비롯된 상기 용액 내에 존재하는 금속 이온들을 제거하기 위해, 이온 교환기를 통과하게 되며;
? 제 2 공정 단계에서, 제 2 제염 단계를 포함하는 처리 사이클이 1회 이상 수행되고, 여기에서 상기 부품이 제염 산으로서 옥살산을 오로지 또는 대부분 함유하는 수용액으로 처리되는 방법. - 제 1항에 있어서, 상기 제 2 공정 단계의 처리 사이클이 상기 제 2 제염 단계 이전에 산화 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 제 1 제염 단계에서 유기산이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 3항에 있어서, 오로지 탄소, 산소, 및 수소로 이루어진 제염 산이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 1 제염 단계에서 금속 이온들과 함께 착물을 형성하지 않는 유기산이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 제 1 제염 단계에서 분자 내에 최대 두 개의 탄소 원자들을 함유하는 하나 이상의 제염 산이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 6항에 있어서, 포름산 및/또는 글리옥실산이 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 글리옥실산이 각각의 제 1 제염 단계에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 산화 단계의 마지막에 세척액 내에 존재하는 산화제의 잔여물이 상기 용액에 첨가되는 환원제로 중화되고, 이러한 방식으로 처리된 상기 용액이 이후의 제염 단계에서 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 제염 단계에서 사용되는 제염 산이 환원제로서 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009047524.9 | 2009-12-04 | ||
| DE102009047524A DE102009047524A1 (de) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | Verfahren zur Oberflächen-Dekontamination |
| PCT/EP2010/068602 WO2011067271A1 (de) | 2009-12-04 | 2010-12-01 | Verfahren zur oberflächen-dekontamination |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120057568A true KR20120057568A (ko) | 2012-06-05 |
| KR101309609B1 KR101309609B1 (ko) | 2013-09-17 |
Family
ID=43867196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020117026921A KR101309609B1 (ko) | 2009-12-04 | 2010-12-01 | 표면의 제염 방법 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20120138086A1 (ko) |
| EP (1) | EP2417606B1 (ko) |
| JP (1) | JP5602241B2 (ko) |
| KR (1) | KR101309609B1 (ko) |
| CN (1) | CN102405500A (ko) |
| CA (1) | CA2755288A1 (ko) |
| DE (1) | DE102009047524A1 (ko) |
| ES (1) | ES2404895T3 (ko) |
| TW (1) | TW201131581A (ko) |
| WO (1) | WO2011067271A1 (ko) |
| ZA (1) | ZA201106436B (ko) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014018787A1 (en) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | Dominion Engineering, Inc. | Methods of reusing a cleaning solution |
| JP2014041100A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-03-06 | Shimizu Corp | コンクリート構造体の表層除染方法 |
| DE102013100933B3 (de) * | 2013-01-30 | 2014-03-27 | Areva Gmbh | Verfahren zur Oberflächen-Dekontamination von Bauteilen des Kühlmittelkreislaufs eines Kernreaktors |
| TWI489489B (zh) * | 2013-04-08 | 2015-06-21 | Yi Hsing Huang | 放射性廢料除污劑及其製造處理方法 |
| KR101523763B1 (ko) * | 2013-06-19 | 2015-06-01 | 한국원자력연구원 | 금속 표면 고착성 방사능 오염 산화막 제거를 위한 산화 제염제 및 이를 이용한 산화 제염방법 |
| DE102015120722B4 (de) * | 2015-11-30 | 2017-07-27 | Areva Gmbh | Kernkraftwerk und Verfahren zum Betreiben eines Kernkraftwerks |
| DE102016104846B3 (de) * | 2016-03-16 | 2017-08-24 | Areva Gmbh | Verfahren zur Behandlung von Abwasser aus der Dekontamination einer Metalloberfläche, Abwasserbehandlungsvorrichtung und Verwendung der Abwasserbehandlungsvorrichtung |
| DE102017107584A1 (de) * | 2017-04-07 | 2018-10-11 | Rwe Power Aktiengesellschaft | Zinkdosierung zur Dekontamination von Leichtwasserreaktoren |
| CN107170503B (zh) * | 2017-06-02 | 2019-04-02 | 苏州热工研究院有限公司 | 一种降低在役压水堆核电厂集体剂量的化学清洗方法 |
| CN107240429B (zh) * | 2017-06-28 | 2019-09-06 | 洛阳市琦安科技有限公司 | 一种放射性核污染物扩散迁移的压制材料及压制方法 |
| DE102017115122B4 (de) * | 2017-07-06 | 2019-03-07 | Framatome Gmbh | Verfahren zum Dekontaminieren einer Metalloberfläche in einem Kernkraftwerk |
| CN108242273A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-07-03 | 中核四0四有限公司 | 一种用于放射性混凝土构筑物浅层剥离的装置 |
| JP7475171B2 (ja) * | 2020-03-17 | 2024-04-26 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 化学除染方法および化学除染装置 |
| CN112700900A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-23 | 中国辐射防护研究院 | 一种注锌反应堆部件放射性沉积氧化物的清洗方法 |
| CN113105955A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-13 | 山东核电有限公司 | 一种用于ap1000反应堆一回路部件放射性污染沉积氧化物的去污配方和去污方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD118956A1 (ko) * | 1975-03-11 | 1976-03-20 | ||
| DE2847780C2 (de) * | 1978-11-03 | 1984-08-30 | Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim | Verfahren zur chemischen Dekontamination von metallischen Bauteilen von Kernreaktoranlagen |
| ATE18822T1 (de) * | 1981-06-17 | 1986-04-15 | Central Electr Generat Board | Verfahren zur chemischen zersetzung von oxydniederschlaegen. |
| DE3413868A1 (de) * | 1984-04-12 | 1985-10-17 | Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim | Verfahren zur chemischen dekontamination von metallischen bauteilen von kernreaktoranlagen |
| CH673545A5 (ko) * | 1987-10-02 | 1990-03-15 | Industrieorientierte Forsch | |
| EP0355628B1 (de) * | 1988-08-24 | 1993-11-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur chemischen Dekontamination der Oberfläche eines metallischen Bauteils einer Kernreaktoranlage |
| FR2699936B1 (fr) * | 1992-12-24 | 1995-01-27 | Electricite De France | Procédé de dissolution d'oxydes déposés sur un substrat métallique. |
| US5305360A (en) * | 1993-02-16 | 1994-04-19 | Westinghouse Electric Corp. | Process for decontaminating a nuclear reactor coolant system |
| JP3417296B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2003-06-16 | 栗田エンジニアリング株式会社 | 除染方法 |
| FR2817492B1 (fr) * | 2000-12-04 | 2003-07-18 | Commissariat Energie Atomique | Procede de dissolution des solides formes dans une installation nucleaire |
| KR100724710B1 (ko) * | 2002-11-21 | 2007-06-04 | 가부시끼가이샤 도시바 | 방사화 부품의 화학적 오염제거 시스템 및 방법 |
| JP4083607B2 (ja) * | 2003-03-19 | 2008-04-30 | 株式会社東芝 | 放射能の化学除染方法および装置 |
| JP4551843B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2010-09-29 | 株式会社東芝 | 化学除染方法 |
| CN101199026B (zh) * | 2005-11-29 | 2012-02-22 | 阿利发Np有限公司 | 对核技术设施的部件或系统的含氧化层表面去污的方法 |
| US20130251086A1 (en) * | 2010-07-21 | 2013-09-26 | Atomic Energy Of Canada Limited | Reactor decontamination process and reagent |
-
2009
- 2009-12-04 DE DE102009047524A patent/DE102009047524A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-12-01 CN CN2010800170411A patent/CN102405500A/zh active Pending
- 2010-12-01 ES ES10795259T patent/ES2404895T3/es active Active
- 2010-12-01 WO PCT/EP2010/068602 patent/WO2011067271A1/de active Application Filing
- 2010-12-01 EP EP10795259A patent/EP2417606B1/de not_active Not-in-force
- 2010-12-01 CA CA2755288A patent/CA2755288A1/en not_active Abandoned
- 2010-12-01 JP JP2012541479A patent/JP5602241B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-01 KR KR1020117026921A patent/KR101309609B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-12-02 TW TW099141882A patent/TW201131581A/zh unknown
-
2011
- 2011-09-02 ZA ZA2011/06436A patent/ZA201106436B/en unknown
-
2012
- 2012-02-13 US US13/371,891 patent/US20120138086A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2417606A1 (de) | 2012-02-15 |
| CA2755288A1 (en) | 2011-06-09 |
| JP5602241B2 (ja) | 2014-10-08 |
| DE102009047524A1 (de) | 2011-06-09 |
| EP2417606B1 (de) | 2013-02-20 |
| TW201131581A (en) | 2011-09-16 |
| US20120138086A1 (en) | 2012-06-07 |
| WO2011067271A1 (de) | 2011-06-09 |
| ZA201106436B (en) | 2012-08-29 |
| ES2404895T3 (es) | 2013-05-29 |
| CN102405500A (zh) | 2012-04-04 |
| JP2013513098A (ja) | 2013-04-18 |
| KR101309609B1 (ko) | 2013-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101309609B1 (ko) | 표면의 제염 방법 | |
| KR102122164B1 (ko) | 원자력 발전소의 금속면을 제염하는 방법 | |
| US20130220366A1 (en) | Method for surface decontamination | |
| EP2596502B1 (en) | Reactor decontamination system and process | |
| US6549603B1 (en) | Method of chemical decontamination | |
| CA3003488C (en) | Method of decontaminating metal surfaces in a heavy water cooled and moderated nuclear reactor | |
| JP5651754B2 (ja) | 金属表面固着性放射能汚染酸化膜除去のための錯化剤非含有化学除染剤及びそれを用いた化学除染方法 | |
| US20150364226A1 (en) | Method for the surface decontamination of component parts of the coolant cycle of a nuclear reactor | |
| US11443863B2 (en) | Method for decontaminating metal surfaces of a nuclear facility | |
| ES2767087T3 (es) | Método de descontaminación de superficies metálicas en un sistema de refrigeración de un reactor nuclear | |
| KR20190023972A (ko) | 산화환원과 침전반응을 이용한 원자력시설 화학제염 공정 폐기물의 처리방법 | |
| CN108780669B (zh) | 用于处理来自金属表面的净化的废水的方法、废水处理装置和废水处理装置的用途 | |
| Rufus et al. | Dissolution of synthetic uranium dibutyl phosphate deposits in oxidizing and reducing chemical formulations | |
| Velmurugan et al. | Cleaning the magnesium oxide contaminated stainless steel system using a high temperature decontamination process | |
| Pick | Decontamination of PWR structural surfaces |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
Patent event date: 20111111 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20111228 Comment text: Request for Examination of Application |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20130122 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20130829 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20130911 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20130912 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160912 Year of fee payment: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160912 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20180622 |