KR20120013770A - 표면 플라즈몬 공명을 이용하여 발광 특성이 향상된 발광 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents
표면 플라즈몬 공명을 이용하여 발광 특성이 향상된 발광 소자 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
표면 플라즈몬 공명 현상을 이용하여 발광 특성이 향상된 양자점 발광 소자 또는 유기 발광 소자 및 그의 제조 방법이 개시된다. 개시된 발광 소자는 기판, 제 1 전극, 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 수송층 내에 매립된 나노-플라즈모닉 입자, 및 제 2 전극을 포함할 수 있다. 전자 수송층 내부에 매립된 나노-플라즈모닉 입자는 발광층으로부터 입사한 광에 의해 국소 표면 플라즈몬 공명을 일으켜, 그 주위에 강한 전자기장을 발생시킨다. 나노-플라즈모닉 입자에 의해 발생한 강한 전자기장은 발광층 내부의 양자점 또는 유기발광재료를 더욱 여기시켜 발광 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 나노-플라즈모닉 입자 주위에 형성된 전기장에 의해 전극으로부터 발광층으로의 전자 주입이 더욱 강화된다. 따라서, 개시된 발광 소자는 발광 효율 및 휘도가 더욱 향상될 수 있다.
Description
개시된 발명은 양자점 발광 소자(quantum dot light-emitting device) 또는 유기 발광 소자(OLED; organic light emitting device) 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표면 플라즈몬 공명 현상을 이용하여 발광 특성이 향상된 양자점 발광 소자 또는 유기 발광 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 발광 소자는 발광층으로서 유기 재료로 이루어진 박막을 이용한다. 이러한 유기 발광 소자는 발광층으로서 사용할 수 있는 재료의 종류가 다양하며, 고 순도의 박막 형성이 용이하다. 반면, 유기 발광 소자는 유기 발광 재료의 수명이 비교적 짧으며, 복잡하고 고가의 성막 공정이 요구된다.
최근에는, 양자점(quantum dot; QD)의 발광 특성을 이용한 발광 소자에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 양자점은 보어(Bohr) 엑시톤 반경보다 더 작은 크기인 수 나노미터의 크기의 결정 구조를 가진 반도체 재료이다. 양자점 내에는 많은 수의 전자들이 존재하지만, 그 중에서 자유 전자의 수는 1 내지 100개 정도로 제한된다. 그 결과, 양자점 내의 전자들이 가지는 에너지 준위가 불연속적으로 된다. 이로 인해, 양자점은 연속적인 밴드를 형성하는 벌크(bulk) 상태의 반도체와는 다른 전기적 및 광학적 특성을 갖는다. 예를 들어, 양자점은 그 크기에 따라 에너지 준위가 달라지기 때문에 단순히 크기를 바꾸어 줌으로써 밴드갭을 조절할 수 있다. 즉, 양자점은 크기의 조절만으로도 발광 파장을 조절할 수 있다. 이는 양자점의 크기를 조절함으로써 발광색을 용이하게 조절할 수 있다는 것을 의미한다. 이러한 양자점은 자체 발광 특성, 색조절의 용이함 및 높은 색순도와 더불어 액상 프로세스(solution process)가 가능하다는 장점을 갖는다. 따라서, 양자점 발광 소자는 대면적의 고화질 차세대 디스플레이에 응용이 가능하다. 상술한 장점에도 불구하고, 양자점 발광 소자의 효율과 휘도는 디스플레이로서 적용하기에는 아직 충분하지 못하다는 문제가 있다.
표면 플라즈몬 공명을 이용하여 발광 특성이 향상된 발광 소자를 제공한다.
또한, 상기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 한 유형에 따른 발광 소자는, 기판; 상기 기판 위에 배치된 제 1 전극; 상기 제 1 전극 위에 배치된 것으로, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층; 상기 발광층 위에 배치된 전자 수송층; 상기 전자 수송층의 내부에 분산되어 매립된 다수의 나노-플라즈모닉 입자; 및 상기 전자 수송층 위에 배치된 제 2 전극;을 포함할 수 있다.
또한, 상기 발광 소자는 상기 제 1 전극과 발광층 사이에 개재된 것으로 제 1 전극 위에 배치된 정공 주입층, 및 상기 정공 주입층과 발광층 사이에 배치된 정공 수송층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자는 상기 발광층에서 방출된 광에 의해 표면 플라즈몬 공명을 일으키도록 구성될 수 있다.
이를 위해, 상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리는 상기 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생한 전자기파의 유효 거리 내에 있을 수 있다.
예를 들어, 상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리는 10~12nm일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자는 예를 들어 나노-원반의 형태를 가질 수 있다.
예를 들어, 상기 나노-플라즈모닉 입자들은 각각 5~50nm의 두께를 가질 수 있으며, 10~100nm의 직경을 가질 수 있다.
또한, 상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들 사이의 평균적인 간격은 예컨대 0nm보다 크고 10nm보다 작을 수 있다.
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들은 평균 크기를 기준으로 ±15% 범위 내의 균일한 크기를 가질 수 있다.
또한, 상기 나노-플라즈모닉 입자는 예를 들어 Ag, Au, Cu, Pb, In, Hg, Sn, Cd 중 어느 하나의 금속 재료 또는 상기 금속 재료들의 조합으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 전자 수송층은 산화무기물 반도체 재료로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 전자 수송층은 산화티타늄(TiOx) 또는 아이오노머 수지로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 전자 수송층은 예를 들어 40~60nm의 두께를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 기판은 투명 기판이며, 상기 제 1 전극은 투명 전극이고, 상기 제 2 전극은 반사 전극일 수 있다.
또한, 상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들은 메시 구조와 같은 격자 구조의 패턴으로 정렬될 수도 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 발광층, 나노-플라즈모닉 입자 및 제 2 전극은 적색, 녹색 및 청색 화소별로 패터닝될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 유형에 따르면, 기판 위에 차례로 제 1 전극, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층, 및 제 1 전자 수송층 부분을 형성하는 단계; 소스 기판 위에 다수의 금속 나노도트들을 형성하는 단계; 소스 기판 위에 형성된 다수의 금속 나노도트들을 탄성 스탬프로 픽업하여 상기 제 1 전자 수송층 부분의 표면 위에 전사하는 단계; 열처리를 통해 상기 제 1 전자 수송층 부분 상의 금속 나노도트들을 다수의 나노-플라즈모닉 입자로 변형시키는 단계; 상기 제 1 전자 수송층 부분과 상기 나노-플라즈모닉 입자 위에 제 2 전자 수송층 부분을 형성하여, 상기 나노-플라즈모닉 입자가 내부에 매립된 전자 수송층을 형성하는 단계; 및 상기 전자 수송층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 발광 소자의 제조 방법이 제공될 수 있다.
상기 발광 소자의 제조 방법은, 상기 제 1 전극 위에 발광층을 형성하기 전에 상기 제 1 전극 위에 정공 주입층과 정공 수송층을 먼저 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 금속 나노도트들은 자기 조립 모노층(SAM)으로 표면 처리될 수 있다.
예를 들어, 상기 자기 조립 모노층은 알카네시올을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 열처리는 예를 들어 질소 분위기에서 150~250℃의 온도로 30~40분간 수행될 수 있다.
상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리가 10~12nm가 되도록, 상기 제 1 전자 수송층 부분은 예를 들어 10~12nm의 두께로 형성될 수 있다.
또한, 상기 제 2 전자 수송층 부분은 예를 들어 30~50nm의 두께로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제 1 및 제 2 전자 수송층 부분은 예를 들어 산화티타늄(TiOx) 또는 아이오노머 수지로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제 1 전자 수송층 부분 위에 형성될 나노-플라즈모닉 입자들이 격자 구조의 패턴으로 배열될 수 있도록, 상기 탄성 스탬프의 바닥면은 격자 구조의 패턴을 가질 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 유형에 따르면, 기판 위에 차례로 제 1 전극, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층, 및 제 1 전자 수송층 부분을 형성하는 단계; 소스 기판 위에 다수의 금속 나노도트들을 형성하는 단계; 열처리를 통해 상기 소스 기판 상의 금속 나노도트들을 다수의 나노-플라즈모닉 입자로 변형시키는 단계; 소스 기판 위에 형성된 다수의 나노-플라즈모닉 입자들을 탄성 스탬프로 픽업하여 상기 제 1 전자 수송층 부분의 표면 위에 전사하는 단계; 상기 제 1 전자 수송층 부분과 상기 나노-플라즈모닉 입자 위에 제 2 전자 수송층 부분을 형성하여, 상기 나노-플라즈모닉 입자가 내부에 매립된 전자 수송층을 형성하는 단계; 및 상기 전자 수송층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 발광 소자의 제조 방법이 제공될 수 있다.
개시된 발광 소자는 전자 수송층 내부에 국소 표면 플라즈몬 공명(LSPR; localized surface plasmon resonance)을 일으키기 위한 나노-플라즈모닉 입자를 갖는다. 나노-플라즈모닉(nanoplasmonic) 입자에 의해 발생한 강한 전자기장은 발광층 내부의 양자점 또는 유기발광재료를 더욱 여기시켜 발광 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 나노-플라즈모닉 입자 주위에 형성된 전기장에 의해 전극으로부터 발광층으로의 전자 주입이 더욱 강화된다. 따라서, 개시된 발광 소자는 발광 효율 및 휘도가 더욱 향상될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 개략적인 구조를 도시하는 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 동작 원리를 개략적으로 설명한다.
도 3은 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 발광 효율을 예시적으로 보이기 위한 형광현미경 사진이다.
도 4는 나노-플라즈모닉 입자와 발광층 사이의 거리에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 5는 다수의 나노-플라즈모닉 입자들의 구조에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러 디스플레이 소자의 개략적인 구조를 도시하는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7i는 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 제조 과정을 도시한다.
도 2는 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 동작 원리를 개략적으로 설명한다.
도 3은 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 발광 효율을 예시적으로 보이기 위한 형광현미경 사진이다.
도 4는 나노-플라즈모닉 입자와 발광층 사이의 거리에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 5는 다수의 나노-플라즈모닉 입자들의 구조에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러 디스플레이 소자의 개략적인 구조를 도시하는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7i는 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자의 제조 과정을 도시한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여, 표면 플라즈몬 공명을 이용하여 발광 특성이 향상된 발광 소자 및 그 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다. 이하의 도면들에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자(100)의 개략적인 구조를 도시하는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자(100)는 기판(101), 상기 기판(101) 위에 배치된 제 1 전극(102), 상기 제 1 전극(102) 위에 배치된 정공 주입층(hole injection layer)(103), 상기 정공 주입층(103) 위에 배치된 정공 수송층(hole transport layer)(104), 상기 정공 수송층(104) 위에 배치된 발광층(105), 상기 발광층(105) 위에 배치된 전자 수송층(electron transport layer)(106), 상기 전자 수송층(106)의 내부에 분산된어 매립된 다수의 나노-플라즈모닉 입자(nanoplasmonic particle)(107), 및 상기 전자 수송층(106) 위에 배치된 제 2 전극(108)을 포함할 수 있다. 비록 도 1에 도시되지는 않았지만, 전자 수송층(106)과 제 2 전극(108) 사이에 전자 주입층(electron injection layer)이 더 배치될 수도 있다. 또한, 제 1 전극(102)과 발광층(105) 사이의 정공 주입층(103)과 정공 수송층(104)은 선택적인 것으로서, 실시예에 따라서는 사용되지 않을 수도 있다. 이 경우, 제 1 전극(102) 위에 발광층(105)이 직접적으로 배치될 수 있다.
여기서, 기판(101)은 예를 들어 유리(glass)와 같은 투명한 재료로 이루어진 투명 기판일 수 있다. 유리 이외에 투명 플라스틱 재료로 기판(101)을 형성하는 것도 가능하다. 기판(101) 위에 배치된 제 1 전극(102)은 광투과성을 갖는 투명 전극일 수 있다. 제 1 전극(102)은 또한 양극(anode)으로서 정공을 제공하기 위하여 비교적 높은 일함수를 갖는 투명 전도성 산화물(transparent conductive oxide; TCO)로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 전극(102)으로서 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indume Zinc Oxide)를 사용할 수 있다.
정공 주입층(103)은 정공의 주입 효율을 향상시켜 발광 소자(100)의 구동 전압을 낮추기 위한 것이다. 정공 주입층(103)으로서 예컨대 폴리스티렌술폰산(PSS)이 도핑된 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT:PSS)이나 CuPc(Coper Phthalocyanine)가 사용될 수 있다. 또한, 정공 수송층(104)은 정공 주입층(103)으로부터 주입된 정공을 발광층(105)으로 전달하는 역할을 한다. 정공 수송층(104)은 적절한 이온화 포텐셜과 정공 이동도를 가진 재료를 사용하는데, 예를 들어 TPD(triphenyl-diamine)나 PVK(poly-vinylcarbazole) 등을 사용할 수 있다.
발광 소자(100)가 양자점 발광 소자(quantum dot light-emitting device; QD LED)인 경우, 발광층(105)은 다수의 양자점들을 가질 수 있다. 양자점은 양자 구속 효과를 가지는 소정 크기의 입자로서, CdTe, CdSe, ZnS, CdS 등과 같은 화합물 반도체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 양자점은 발광 파장에 따라 대략 1nm 내지 10nm 정도의 직경을 가질 수 있다. 각각의 양자점은 균질한 단일 구조로 형성될 수도 있으며 또는 코어-쉘(core-shell)의 이중 구조로 형성될 수도 있다. 다양한 코어-쉘 구조의 양자점들이 제안되고 있는데, 예를 들어 CdSe/AsS, CdTe/CdSe, CdSe/ZnS 등과 같은 구조의 양자점들이 사용될 수 있다. 여기서, 쉘 재료의 에너지 밴드 갭은 코어 재료의 에너지 밴드 갭보다 클 수 있다. 한편, 발광 소자(100)는 유기 발광 소자(OLED)로도 구현될 수 있다. 이 경우에, 발광층(105)은 일반적인 유기 발광 재료로 이루어질 수 있다. 유기 발광 재료는 발광색에 따라 매우 다양한 화합물들이 개발되고 있다. 이하에서는, 편의상 상기 발광층(105)이 다수의 양자점으로 이루어지는 경우에 대해 설명한다.
발광층(105) 위에 배치된 전자 수송층(106)은 제 2 전극(108)으로부터 제공되는 전자를 발광층(105)에 전달하는 역할을 한다. 전자 수송층(106)으로는 비교적 높은 전자 이동도(electron mobility)를 갖는 산화무기물 반도체 재료나 유기물 재료를 사용할 수 있다. 예를 들어, 전자 수송층(106)으로서 산화무기물 반도체 재료인 산화티타늄(TiOx)을 사용하거나 또는 유기물 재료인 아이오노머(ionomer) 수지를 사용할 수도 있다. 산화티타늄이나 아이오노머 수지는 전자 이동도가 높기 때문에 상대적으로 두꺼운 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 일반적으로, 발광층(105) 가까이에 금속이 존재하게 되면, 발광층(105)에서 전자(electron)와 정공(hole)이 재결합(recombination)하여 발생한 엑시톤(excition)이 바닥 상태로 떨어지는 것을 금속이 방해할 수 있다. 이로 인해, 발광층(105)에서의 발광 효율이 저하되어 휘도가 낮아질 수 있는데, 이를 발광 퀀칭(luminance quenching)이라고 부른다. 산화티타늄(TiOx)이나 아이오노머 수지를 사용할 경우, 전자 수송층(106)을 약 40~60nm의 비교적 두꺼운 두께로 형성할 수 있기 때문에, 내부에 나노-플라즈모닉 입자(107)를 매립시키는 것이 가능하며, 또한 내부의 나노-플라즈모닉 입자(107)나 상부의 제 2 전극(108)에 의한 발광 퀀칭을 방지할 수 있다.
전자 수송층(106) 내에 매립된 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)는 이후에 설명할 표면 플라즈몬 공명을 일으키는 역할을 한다. 나노-플라즈모닉 입자(107)는 표면 플라즈몬 공명을 일으킬 수 있도록 충분히 얇은 두께와 작은 크기를 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 나노-플라즈모닉 입자(107)는 약 5~50nm의 두께를 가질 수 있으며, 또는 10~15nm의 두께를 가질 수 있다. 또한, 나노-플라즈모닉 입자(107)의 대략적인 직경(D)은 약 10~100nm일 수 있으며, 또는 약 40~60nm 정도일 수 있다. 따라서, 나노-플라즈모닉 입자(107)는 얇은 나노-원반(nano-disc)의 형태를 가질 수 있다. 이러한 나노-플라즈모닉 입자(107)의 크기는 상술한 범위 내에서 설계에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 하나의 전자 수송층(106) 내에 매립된 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들이 대부분 균일한 크기를 가질 수도 있다. 예를 들어, 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 크기 분포는 약 15% 이하일 수 있다. 즉, 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들은 평균 크기를 기준으로 ±15% 범위 내의 비교적 균일한 크기를 가질 수 있다.
발광층(105)의 발광 효율을 더욱 향상시키기 위하여, 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들은 비교적 촘촘하게 배치될 수 있다. 예를 들어, 나노-플라즈모닉 입자(107)들 사이의 간격(d)은 평균적으로 약 0nm보다 크고 10nm보다 작을 수 있다. 표면 플라즈몬 공명을 일으키기 위하여, 이러한 나노-플라즈모닉 입자(107)는 금속 재료로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 나노-플라즈모닉 입자(107)의 재료는 Ag, Au, Cu, Pb, In, Hg, Sn, Cd 중 어느 하나 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 또한, 비록 도 1에는 도시되어 있지 않지만, 발광 소자(100)의 광추출 효율을 향상시키기 위하여, 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들은 격자 구조(예컨대, 메시(mesh) 구조)의 패턴으로 정렬될 수도 있다.
제 2 전극(108)은 음극(cathode)으로서, 전자 수송층(106)으로의 전자 주입이 용이할 수 있도록 일함수가 비교적 작은 전도성 재료로 이루어질 수 있다. 또한 제 2 전극(108)은 발광층(105)에서 발생한 빛이 기판(101)을 통해 출사될 수 있도록 빛을 반사하는 반사 전극의 역할을 할 수 있다. 이러한 제 2 전극(108)의 재료로서, 예를 들어 알루미늄을 사용할 수 있으며, 알루미늄 이외에도 예를 들어, 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 타이타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석, 납, 세슘, 바륨 등과 같은 금속이나 이들의 합금, 또는 LiF/Al, LiO2/Al, LiF/Ca, LiF/Al, 및 BaF2/Ca 등과 같은 다층 구조를 사용할 수 있다.
이하, 상술한 구조를 갖는 발광 소자(100)의 동작을 설명한다. 먼저, 제 1 전극(102)과 제 2 전극(108)에 전압을 인가하면, 제 1 전극(102)에서 발생한 정공이 정공 주입층(103)과 정공 수송층(104)을 통해 발광층(105)으로 전달된다. 또한, 제 2 전극(108)에서 발생한 전자가 전자 수송층(106)을 통해 발광층(105)으로 전달된다. 그러면, 발광층(105) 내의 양자점들에서 전자와 정공이 만나 서로 재결합하면서 엑시톤(excition)이 형성되며, 엑시톤이 방사 감쇠(radiative decay)를 통해 바닥 상태로 떨어지면서 외부로 빛이 발산된다. 빛은 모든 방향으로 방사되는데, 일부의 빛은 기판(101)을 향해 진행하여 외부로 방출된다. 또한, 다른 일부의 빛은 제 2 전극(108)을 향해 진행한 후, 제 2 전극(108)에 의해 반사되어 기판(101)을 통해 외부로 방출된다.
한편, 빛의 일부는 전자 수송층(106) 내의 나노-플라즈모닉 입자(107)에 입사하여 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonance; SPR)을 일으킨다. 표면 플라즈몬이란 얇은 금속 박막과 유전체의 계면에서 발생하는 표면 전자기파로서, 금속 박막에 특정 파장의 빛이 입사할 때 금속 박막의 표면에서 일어나는 전자들의 집단적인 진동(charge density oscillation)에 의해 발생하는 것으로 알려져 있다. 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생하는 전자기파는 세기가 매우 강하지만 유효 거리가 짧은 소산파(evanescent wave)이다. 표면 플라즈몬 공명을 일으키기 위한 빛의 파장은, 예를 들어 금속 박막의 재료에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 은(Ag)은 비교적 짧은 청색과 녹색 파장 대역에서 표면 플라즈몬 공명을 일으키며, 금(Au)은 비교적 긴 적색 파장 대역에서 표면 플라즈몬 공명을 일으킬 수 있다. 또한, 표면 플라즈몬 공명을 일으키기 위한 빛의 파장은 유전체의 굴절률과 금속 박막의 크기와 형태에 의해서도 영향을 받을 수 있다.
도 2를 참조하면, 나노-플라즈모닉 입자(107)에서 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생한 강한 전자기파가 점선으로 표시되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 이러한 전자기파는 발광층(105)에 있는 양자점들에까지 도달할 수 있다. 그러면, 발광층(105) 내의 양자점들은 전자기파에 의해 다시 여기되어 추가적으로 광을 방출하게 된다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 발광층(105) 내의 양자점들에서는 전자와 정공의 재결합에 의한 전계 발광(electroluminescence; EL)뿐만 아니라 강한 입사 전자기파에 의한 광발광(photoluminescence; PL)도 함께 일어나게 된다. 그 결과, 발광층(105)에서 발생하는 빛의 세기가 더욱 증가할 수 있으므로, 발광 소자(100)의 효율과 휘도가 향상될 수 있다. 또한, 전자 수송층(106) 내의 나노-플라즈모닉 입자(107)는 전도성 금속으로서 전자의 전달을 더욱 빠르게 할 수 있으므로, 전자 수송층(106)의 전자 전달 효율이 더 증가할 수 있다. 따라서, 발광층(105)에 더욱 많은 전자를 전달하여 발광층(105)의 발광 효율을 더 증대시킬 수 있다.
도 3은 상술한 발광 소자(100)의 발광 효율을 예시적으로 보이기 위한 형광현미경 사진이다. 나노-플라즈모닉 입자(107)에 의해 발광 효율이 향상된다는 점을 비교하여 보이기 위해, 전자 수송층(106) 내에 나노-플라즈모닉 입자(107)를 다수의 나란한 띠의 형태로 형성하였다. 도 3에서 영역(A)는 나노-플라즈모닉 입자(107)가 형성되어 있는 부분이고, 영역(B)는 나노-플라즈모닉 입자(107)가 형성되지 않은 부분이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 나노-플라즈모닉 입자(107)가 형성되어 있는 영역(A)이 나노-플라즈모닉 입자(107)가 형성되지 않은 영역(B)보다 더욱 밝다는 것을 알 수 있다.
한편, 앞서 설명한 바와 같이, 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생한 전자기파는 유효 거리가 매우 짧기 때문에, 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)가 너무 멀면 광발광(PL)이 거의 발생하지 않는다. 반면에, 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)가 너무 가까우면, 발광 퀀칭으로 인해 전계 발광(EL)이 방해 받게 된다. 따라서, 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생한 전자기파의 유효 거리 내에서 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)를 적절하게 선택할 필요가 있다. 도 4는 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다. 도 4를 통해 알 수 있듯이, 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)가 너무 가깝거나 또는 너무 멀어도 광세기가 감소하게 된다. 따라서, 도 4를 참조하면, 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리(L)는 약 10~12nm 정도로 선택할 수 있다.
또한, 발광층(105)에서 발생한 빛의 세기는 전자 수송층(106) 내의 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 구조에 의해서도 영향을 받을 수 있다. 도 5는 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 구조에 따른 광세기의 변화를 나타내는 그래프이다. 도 5에서, '①'로 표시된 그래프는 나노-플라즈모닉 입자(107) 없이 양자점들 위에 직접 금속(예컨대, Ag)을 배치하여 발광 퀀칭을 유발한 경우이고, '②'로 표시된 그래프는 나노-플라즈모닉 입자(107) 없이 양자점들로부터 금속을 떨어뜨려 놓은 경우이며, '③'로 표시된 그래프는 비교적 낮은 밀도로 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들을 형성한 경우이고, '④'로 표시된 그래프는 '③'의 경우보다 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 밀도를 증가시킨 경우이며, '⑤'로 표시된 그래프는 '④'의 경우보다 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 밀도를 더욱 증가시킨 경우이고, 마지막으로 '⑥'의 그래프는 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들이 지나치게 밀집하여 서로 붙어있는 경우이다. 도 5의 그래프들을 보면, 발광 퀀칭을 유발한 경우에 광세기가 가장 낮으며, 나노-플라즈모닉 입자(107)들이 존재하는 경우에 광세기가 상대적으로 증가한다는 것을 알 수 있다. 또한, 나노-플라즈모닉 입자(107)들의 밀도가 높아질수록 광세기가 증가하지만, 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들이 지나치게 밀집하여 서로 붙어있는 경우에는 광세기가 감소한다는 것을 알 수 있다. 따라서, 앞서 설명한 바와 같이, 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)들 사이의 간격(d)은 평균적으로 0nm보다 크고 약 10nm보다 작을 수 있다.
상술한 발광 소자(100)는 발광층(105) 내의 양자점들과 전자 수송층(106) 내의 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107) 및 제 2 전극(108)을 적절히 패터닝함으로써 컬러 디스플레이 소자로서 응용될 수 있다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬러 디스플레이 소자(200)를 개략적으로 도시하고 있다. 도 6을 참조하면, 컬러 디스플레이 소자(200)의 기본적인 단면 구조는 도 1에 도시된 발광 소자(100)의 단면 구조를 그대로 따른다. 다만, 발광층(105)이 적색 양자점(105R), 녹색 양자점(105G) 및 청색 양자점(105B)들로 패터닝되어 있으며, 마찬가지로 나노-플라즈모닉 입자(107)와 제 2 전극(108)도 적색, 녹색 및 청색 화소별로 패터닝될 수 있다. 비록, 도 6의 단면도에는 도시되지 않았지만, 적색, 녹색 및 청색 화소 내의 각각의 나노-플라즈모닉 입자(107)들은 광추출 효율을 향상시키기 위하여 메시 구조와 같은 격자 구조로 패터닝되어 배열될 수도 있다.
일반적으로, 양자점의 크기 조절만으로도 발광 파장을 조절할 수 있기 때문에, 상기 적색 양자점(105R), 녹색 양자점(105G) 및 청색 양자점(105B)들은 단순히 양자점들의 크기에 따라 배열된 것일 수 있다. 또한, 녹색 양자점(105G)과 청색 양자점(105B)에 대응하는 나노-플라즈모닉 입자(107)는 예컨대 청색과 녹색 파장 대역에서 표면 플라즈몬 공명을 일으키는 은(Ag)일 수 있으며, 적색 양자점(105R)에 대응하는 나노-플라즈모닉 입자(107)는 예컨대 적색 파장 대역에서 표면 플라즈몬 공명을 일으키는 금(Au)일 수 있다. 이러한 구조에서, 도시되지 않은 구동부를 통해, 적색 양자점(105R), 녹색 양자점(105G) 및 청색 양자점(105B)들의 발광 세기를 적절히 조절함으로써 다양한 색상을 제공하는 것이 가능하다.
이하, 도 7a 내지 도 7i를 참조하여 도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 소자(100)의 제조 과정을 상세하게 설명한다.
먼저, 도 7a를 참조하면, 일반적으로 잘 알려진 방식에 따라 기판(101) 위에 차례로 제 1 전극(102), 정공 주입층(103), 정공 수송층(104), 발광층(105) 및 제 1 전자 수송층 부분(106a)을 형성한다. 제 1 전극(102)은 예를 들어 스퍼터링 등의 건식 증착법으로 기판(101) 위에 형성될 수 있다. 또한, 정공 주입층(103)과 정공 수송층(104)은 스핀 코팅 등의 방식으로 형성될 수 있다. 다수의 양자점들로 이루어진 발광층(105)은 예를 들어 탄성 스탬프(elastomer stamp)를 이용한 전사 프린팅(transfer-printing) 방식으로 정공 수송층(104) 위에 형성될 수 있다. 이때, 탄성 스탬프의 바닥면이 패터닝되어 있으면, 도 6에 도시된 바와 같이, 발광층(105)은 적색, 녹색 및 청색 화소별로 패터닝될 수 있다. 그리고, 산화티타늄(TiOx)이나 아이오노머 수지로 이루어질 수 있는 제 1 전자 수송층 부분(106a)은 발광층(105) 위에 약 10~12nm의 두께로 코팅될 수 있다. 이는, 이후에 상기 제 1 전자 수송층 부분(106a) 위에 형성될 나노-플라즈모닉 입자(107)와 발광층(105) 사이의 거리가 약 10~12nm 정도가 되도록 하기 위한 것이다. 한편, 앞서 설명한 바와 같이, 정공 주입층(103)과 정공 수송층(104)은 선택적인 것으로서, 도 7a에서 형성되지 않을 수도 있다.
또한, 도 7b를 참조하면, 도 7a에 도시된 과정과 동시에 또는 그 전후에, 액상 프로세스 방식으로 소스 기판(10) 위에 금속 나노도트(metal nanodot)(20)들을 형성한다. 금속 나노도트(20)들은 예를 들어 스핀 코팅에 의해 소스 기판(10) 위에 형성될 수 있다. 이때, 다수의 금속 나노도트(20)들이 소스 기판(10) 위에서 서로 뭉쳐서 정렬될 수 있도록, 예를 들어 알카네시올(alkanethiol)과 같은 자기 조립 모노층(Self-assembled monolayer; SAM)을 형성시키는 물질로 금속 나노도트(20)의 표면을 표면 처리할 수 있다. 이러한 금속 나노도트(20)들의 직경은 약 1~20nm 정도일 수 있다. 또한, 이후의 공정에서, 금속 나노도트(20)들이 소스 기판(10)의 표면으로부터 박리(delamination)되기 쉽도록, 소스 기판(10)의 표면에도 표면 처리를 할 수 있다. 예를 들어, 소스 기판(10)이 실리콘으로 이루어진 경우에, 소스 기판(10)의 표면을 실란처리(silanization)하거나 플루오르화(fluorination)할 수 있다. 그러면, 소스 기판(10)의 표면 에너지가 크게 낮아져서 금속 나노도트(20)들이 소스 기판(10)의 표면으로부터 쉽게 박리될 수 있다.
다음으로, 도 7c를 참조하면, 소스 기판(10)에 형성된 금속 나노도트(20)들 위로 탄성 스탬프(patterned stamp)(30)를 위치시킨다. 소스 기판(10)으로부터 탄성 스탬프(30)로의 금속 나노도트(20)들의 픽업이 용이하도록, 탄성 스탬프(30)는 예를 들어 실록산(siloxane)계, 아크릴(acryl)계, 에폭시(epoxy)계열의 탄성체 또는 이들의 복합체로 이루어지거나, 또는 상기 재료에 다른 강화 재료들을 혼합하여 이루어질 수 있다. 탄성 스탬프(30)를 사용하면, 금속 나노도트(20)들의 픽업을 위한 가압시 금속 나노도트(20)들에 가해지는 물리적인 스트레스 등을 줄일 수 있으며, 탄성 스탬프(30)를 금속 나노도트(20)들에 밀착시킬 수 있어서 픽업이 용이하게 이루어질 수 있다. 비록 도시되지는 않았지만, 금속 나노도트(20)들과 접촉하는 탄성 스탬프(30)의 바닥면은 패터닝되어 있을 수 있다. 예를 들어, 도 6에 도시된 바와 같이, 이후에 형성될 나노-플라즈모닉 입자(107)가 적색, 녹색 및 청색 화소별로 패터닝되어 있는 경우, 상기 탄성 스탬프(30)의 바닥면은 적색, 녹색 및 청색 화소에 대응하는 패턴을 가질 수 있다. 또한, 상기 탄성 스탬프(30)의 바닥면은 메시 구조와 같은 격자 구조의 패턴을 가질 수도 있다. 그러면, 이후에 제 1 전자 수송층 부분(106a) 위에 형성될 나노-플라즈모닉 입자(107)들이 격자 구조의 패턴으로 배열될 수 있다.
그런 다음, 도 7d에 도시된 바와 같이, 탄성 스탬프(30)를 이용하여 소스 기판(10)으로부터 금속 나노도트(20)들을 픽업한다. 그런 후, 도 7e에 도시된 바와 같이, 바닥에 금속 나노도트(20)들이 부착되어 있는 탄성 스탬프(30)를 도 7a에 도시된 제 1 전자 수송층 부분(106a)의 표면에 밀착시켜, 상기 제 1 전자 수송층 부분(106a) 위에 금속 나노드트(20)들을 전사한다. 이때, 탄성 스탬프(30)의 바닥면에 붙어 있는 금속 나노도트(20)들이 제 1 전자 수송층 부분(106a) 위에 쉽게 전사될 수 있도록, 탄성 스탬프(30)를 약하게 가열하거나 또는 압전효과나 음파를 통해 탄성 스탬프(30)에 미세한 진동을 줄 수 있다.
제 1 전자 수송층 부분(106a) 위에 금속 나노도트(20)들이 완전히 전사된 후에는, 도 7f에 도시된 바와 같이, 나노-플라즈모닉 입자(107)를 형성하기 위하여 열처리(thermal annealing)를 수행한다. 예를 들어, 질소 분위기에서 약 150~250℃의 온도로 약 30~40분간 열처리를 수행할 수 있다. 그러면, 도 7g에 도시된 바와 같이, 다수의 금속 나노도트(20)들이 부분적으로 용융되고 서로 달라붙어서, 표면 플라즈몬 공명을 잘 일으킬 수 있는 금속 나노-원반 형태의 다수의 나노-플라즈모닉 입자(107)로 변형될 수 있다. 그와 동시에, 금속 나노도트(20)들의 표면에 있는 알카네시올과 같은 유기 리간드(organic ligand)가 열에 의해 제거될 수 있다.
만약 제 1 전자 수송층 부분(106a)이 열에 의해 손상되기 쉬운 경우에는, 금속 나노도트(20)들을 소스 기판(10)으로부터 박리하기 전에 미리 열처리 공정이 수행될 수도 있다. 예를 들어, 도 7b에 도시된 바와 같이 소스 기판(10) 위에 다수의 금속 나노도트(20)들을 자기 조립시킨 상태에서, 상술한 열처리를 수행함으로써 소스 기판(10) 위에 직접 나노-플라즈모닉 입자(107)들을 형성할 수도 있다. 그런 후, 도 7c 내지 도 7e에 도시된 과정과 유사하게, 소스 기판(10) 위의 나노-플라즈모닉 입자(107)들을 탄성 스탬프(30)로 제 1 전자 수송층 부분(106a) 위로 전사할 수 있다.
이어서, 도 7h에 도시된 바와 같이, 제 1 전자 수송층 부분(106a)과 나노-플라즈모닉 입자(107) 위에 제 2 전자 수송층 부분(106b)을 코팅한다. 제 1 전자 수송층 부분(106a)과 마찬가지로, 산화티타늄(TiOx)이나 아이오노머 수지로 이루어질 수 있는 제 2 전자 수송층 부분(106b)은 예를 들어 약 30~50nm의 두께로 형성될 수 있다. 이에 따라, 나노-플라즈모닉 입자(107)가 내부에 균일하게 매립되어 있는 전자 수송층(106)이 완성될 수 있다. 마지막으로, 도 7i를 참조하면, 스퍼터링 등의 건식 증착법을 통해 전자 수송층(106) 위에 제 2 전극(108)을 형성함으로써, 발광 소자(100)가 완성될 수 있다. 도 7i에는 하나의 제 2 전극(108)이 도시되어 있지만, 도 6에 도시된 바와 같이, 제 2 전극(108)도 역시 적색, 녹색 및 청색 화소 별로 패터닝될 수도 있다.
지금까지, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 표면 플라즈몬 공명을 이용하여 발광 특성이 향상된 발광 소자 및 그 제조 방법에 대한 예시적인 실시예가 설명되고 첨부된 도면에 도시되었다. 그러나, 이러한 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이고 이를 제한하지 않는다는 점이 이해되어야 할 것이다. 그리고 본 발명은 도시되고 설명된 설명에 국한되지 않는다는 점이 이해되어야 할 것이다. 이는 다양한 다른 변형이 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일어날 수 있기 때문이다.
10......소스 기판 20......금속 나노도트
30......탄성 스탬프 100.....발광 소자
101.....기판 102.....제 1 전극
103.....정공 주입층 104.....정공 수송층
105.....발광층 106.....전자 수송층
107.....나노-플라즈모닉 입자 108.....제 2 전극
200.....컬러 디스플레이 소자
30......탄성 스탬프 100.....발광 소자
101.....기판 102.....제 1 전극
103.....정공 주입층 104.....정공 수송층
105.....발광층 106.....전자 수송층
107.....나노-플라즈모닉 입자 108.....제 2 전극
200.....컬러 디스플레이 소자
Claims (32)
- 기판;
상기 기판 위에 배치된 제 1 전극;
상기 제 1 전극 위에 배치된 것으로, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층;
상기 발광층 위에 배치된 전자 수송층;
상기 전자 수송층의 내부에 분산되어 매립된 다수의 나노-플라즈모닉 입자; 및
상기 전자 수송층 위에 배치된 제 2 전극;을 포함하는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 전극과 발광층 사이에 개재된 것으로 제 1 전극 위에 배치된 정공 주입층, 및 상기 정공 주입층과 발광층 사이에 배치된 정공 수송층을 더 포함하는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자는 상기 발광층에서 방출된 광에 의해 표면 플라즈몬 공명을 일으키도록 구성되어 있는 발광 소자. - 제 3 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리는 상기 표면 플라즈몬 공명에 의해 발생한 전자기파의 유효 거리 내에 있는 발광 소자. - 제 4 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리는 10~12nm인 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자는 나노-원반의 형태를 갖는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자들은 각각 5~50nm의 두께를 갖는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자들은 각각 10~100nm의 직경을 갖는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들 사이의 평균적인 간격은 0nm보다 크고 10nm보다 작은 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들의 크기는 평균 크기를 기준으로 ±15%의 범위 내에 있는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자는 Ag, Au, Cu, Pb, In, Hg, Sn, Cd 중 어느 하나의 금속 재료 또는 상기 금속 재료들의 조합으로 이루어지는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 전자 수송층은 산화무기물 반도체 재료로 이루어지는 발광 소자. - 제 12 항에 있어서,
상기 전자 수송층은 산화티타늄(TiOx) 또는 아이오노머 수지로 이루어지는 발광 소자. - 제 12 항에 있어서,
상기 전자 수송층은 40~60nm의 두께를 갖는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 기판은 투명 기판이며, 상기 제 1 전극은 투명 전극이고, 상기 제 2 전극은 반사 전극인 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들은 격자 구조의 패턴으로 정렬되어 있는 발광 소자. - 제 1 항에 있어서,
상기 발광층, 나노-플라즈모닉 입자 및 제 2 전극은 적색, 녹색 및 청색 화소별로 패터닝되어 있는 발광 소자. - 기판 위에 차례로 제 1 전극, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층, 및 제 1 전자 수송층 부분을 형성하는 단계;
소스 기판 위에 다수의 금속 나노도트들을 형성하는 단계;
소스 기판 위에 형성된 다수의 금속 나노도트들을 탄성 스탬프로 픽업하여 상기 제 1 전자 수송층 부분의 표면 위에 전사하는 단계;
열처리를 통해 상기 제 1 전자 수송층 부분 상의 금속 나노도트들을 다수의 나노-플라즈모닉 입자로 변형시키는 단계;
상기 제 1 전자 수송층 부분과 상기 나노-플라즈모닉 입자 위에 제 2 전자 수송층 부분을 형성하여, 상기 나노-플라즈모닉 입자가 내부에 매립된 전자 수송층을 형성하는 단계; 및
상기 전자 수송층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 제 1 전극 위에 발광층을 형성하기 전에 상기 제 1 전극 위에 정공 주입층과 정공 수송층을 먼저 형성하는 단계를 더 포함하는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 금속 나노도트들은 자기 조립 모노층(SAM)으로 표면 처리되어 있는 발광 소자의 제조 방법. - 제 20 항에 있어서,
상기 자기 조립 모노층은 알카네시올을 포함하는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 열처리는 질소 분위기에서 150~250℃의 온도로 30~40분간 수행되는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자와 상기 발광층 사이의 거리가 10~12nm가 되도록, 상기 제 1 전자 수송층 부분은 10~12nm의 두께로 형성되는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 제 2 전자 수송층 부분은 30~50nm의 두께로 형성되는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자들은 각각 5~50nm의 두께를 갖는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자들은 각각 10~100nm의 직경을 갖는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들 사이의 평균적인 간격은 0nm보다 크고 10nm보다 작은 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 다수의 나노-플라즈모닉 입자들의 크기는 평균 크기를 기준으로 ±15%의 범위 내에 있는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 나노-플라즈모닉 입자는 Ag, Au, Cu, Pb, In, Hg, Sn, Cd 중 어느 하나의 금속 재료 또는 상기 금속 재료들의 조합으로 이루어지는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 전자 수송층 부분은 산화티타늄(TiOx) 또는 아이오노머 수지로 이루어지는 발광 소자의 제조 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 제 1 전자 수송층 부분 위에 형성될 나노-플라즈모닉 입자들이 격자 구조의 패턴으로 배열될 수 있도록, 상기 탄성 스탬프의 바닥면은 격자 구조의 패턴을 갖는 발광 소자의 제조 방법. - 기판 위에 차례로 제 1 전극, 유기 발광 재료 또는 다수의 양자점을 포함하는 발광층, 및 제 1 전자 수송층 부분을 형성하는 단계;
소스 기판 위에 다수의 금속 나노도트들을 형성하는 단계;
열처리를 통해 상기 소스 기판 상의 금속 나노도트들을 다수의 나노-플라즈모닉 입자로 변형시키는 단계;
소스 기판 위에 형성된 다수의 나노-플라즈모닉 입자들을 탄성 스탬프로 픽업하여 상기 제 1 전자 수송층 부분의 표면 위에 전사하는 단계;
상기 제 1 전자 수송층 부분과 상기 나노-플라즈모닉 입자 위에 제 2 전자 수송층 부분을 형성하여, 상기 나노-플라즈모닉 입자가 내부에 매립된 전자 수송층을 형성하는 단계; 및
상기 전자 수송층 위에 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 발광 소자의 제조 방법.
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