KR20120012348A - 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법 - Google Patents

인쇄회로기판 및 그의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20120012348A
KR20120012348A KR1020100074439A KR20100074439A KR20120012348A KR 20120012348 A KR20120012348 A KR 20120012348A KR 1020100074439 A KR1020100074439 A KR 1020100074439A KR 20100074439 A KR20100074439 A KR 20100074439A KR 20120012348 A KR20120012348 A KR 20120012348A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
metal layer
layer
printed circuit
circuit board
circuit pattern
Prior art date
Application number
KR1020100074439A
Other languages
English (en)
Inventor
유창우
조윤경
임설희
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020100074439A priority Critical patent/KR20120012348A/ko
Publication of KR20120012348A publication Critical patent/KR20120012348A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • H05K1/053Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an inorganic insulating layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3463Solder compositions in relation to features of the printed circuit board or the mounting process
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S228/00Metal fusion bonding
    • Y10S228/904Wire bonding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

본 발명은 인쇄회로기판에 대한 것으로, 이 기판은 절연층 위에 형성되어 있는 회로 패턴 및 패드, 그리고 상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 형성되어 있으며, 은과 팔라듐을 포함하는 적어도 두 층 이상의 복수의 금속층을 포함한다. 따라서 구리를 포함하는 기저 패드 위에 은도금층을 형성하여 전기적 특성 및 솔더 친화성을 확보하면서, 은 도금층 위에 팔라듐 도금층을 형성함으로써 부식 및 은 도금층의 이온 마이그레이션을 방지하여 신뢰성이 확보된다.

Description

인쇄회로기판 및 그의 제조 방법{The printed circuit board and the method for manufacturing the same}
본 발명은 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
회로 기판은 전기 절연성 기판에 회로 패턴을 포함하는 것으로서, 전자 부품 등을 탑재하기 위한 기판이다.
도 1은 종래의 인쇄회로기판을 도시한 단면도이다.
도 1을 참고하면, 인쇄회로기판(10)의 절연층(1) 상에 회로패턴(2)과 연결되어 패드(3)가 형성된다. 상기 패드(3)는 그에 실장되거나 연결되는 부품의 종류에 따라 다양한 형상으로 될 수 있다.
이러한 패드(3)는 솔더볼이 장착되어 소자와 접착될 수 있으며, 와이어 본딩할 수도 있다.
상기 패드(3)는 일반적으로 절연층(1) 위에 형성되어 있는 동박층을 패터닝하여 회로패턴(2)과 동시에 형성된다. 따라서, 구리로 형성되어 있는 패드(3)는 시간이 경과함에 따라 산화되고 부식되어 솔더링 및 와이어 본딩이 원활하게 이루어지지 않는다.
실시예는 새로운 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.
실시예는 부식성이 양호하면서도 경제적인 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.
실시예는 절연층 위에 형성되어 있는 회로 패턴 및 패드, 그리고 상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 형성되어 있으며, 은과 팔라듐을 포함하는 적어도 두 층 이상의 복수의 금속층을 포함한다.
한편, 실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조 방법은 회로 패턴 및 패드가 형성되어 있는 절연 기판을 준비하는 단계, 그리고 상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 은과 팔라듐을 포함하는 적어도 두 층 이상의 복수의 금속층을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 구리를 포함하는 기저 패드 위에 은도금층을 형성하여 전기적 특성 및 솔더 친화성을 확보하면서, 은 도금층 위에 팔라듐 도금층을 형성함으로써 부식 및 은 도금층의 이온 마이그레이션을 방지하여 신뢰성이 확보된다.
또한, 팔라듐 도금층을 박막으로 도금함으로써 와이어 본딩 및 솔더 친화성을 확보할 수 있다. 또한, 종래의 금도금을 수행하던 것을 팔라듐 도금층으로 대체함으로써 저렴한 팔라듐을 사용하여 비용을 줄일 수 있다.
도 1은 종래의 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 3 내지 도 6은 도 2의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 제1 방법을 나타내는 단면도이다.
도 7 내지 도 9는 도 2의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 제2 방법을 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 11 내지 도 16은 도 10의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.
도 17은 본 발명을 적용한 회로 패턴의 사진이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
본 발명은 절연 기판의 회로 패턴에 대하여 구리 기저층 위에 은합금층 및 팔라듐합금층을 박막으로 형성하는 회로 기판을 제공한다.
이하에서는 도 2 내지 도 9를 참고하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 방열회로기판을 설명한다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2를 참고하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판(100)은 절연 플레이트(110), 상기 절연 플레이트(110) 위에 형성되는 회로 패턴(125)과 연결되어 있는 기저패드(120) 및 상기 회로 패턴을 덮는 솔더 레지스트(150)를 포함한다.
상기 절연 플레이트(110)는 단일 회로 패턴이 형성되는 인쇄회로기판의 지지기판일 수 있으나, 복수의 적층 구조를 가지는 인쇄회로기판 중 한 회로 패턴(도시하지 않음)이 형성되어 있는 절연층 영역을 의미할 수도 있다.
상기 절연 플레이트(110)가 복수의 적층 구조 중 한 절연층을 의미하는 경우, 상기 절연 플레이트(110)의 상부 또는 하부에 복수의 회로 패턴(도시하지 않음)이 연속적으로 형성될 수 있다.
상기 절연 플레이트(110)는 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 글라스 섬유 함침 기판일 수 있으며, 고분자 수지를 포함하는 경우, 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 폴리 이미드계 수지를 포함할 수도 있다.
상기 절연 플레이트(110) 위에 복수의 회로 패턴(125)과 연결되어 있는 복수의 기저패드(120)가 형성되어 있다. 상기 기저패드(120)는 인쇄회로기판(100) 위에 실장되는 소자를 장착하는 범프로서 솔더(160)가 부착되거나 와이어 본딩되는 기저패드(120)를 의미한다.
상기 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)는 전도성 물질로 형성되며, 절연 플레이트(110) 상에 형성되는 동박층을 동시에 패터닝하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)는 구리를 포함하는 합금으로 형성되며 표면에 조도가 형성될 수 있다.
상기 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)의 상면 및 측면에 제1 금속층(130)이 형성되어 있다.
제1 금속층(130)은 은(Ag)을 포함하는 은합금층으로서, 표면에 조도가 형성될 수 있다.
제1 금속층(130)은 두께가 0.5 내지 10μm을 충족하며, 바람직하게는 1 내지 6μm일 수 있다.
상기 제1 금속층(130)의 상면 및 측면을 감싸며 제2 금속층(140)이 형성되어 있다.
제2 금속층(140)은 팔라듐(Pd)을 포함하는 합금층으로서, 구체적으로 팔라듐을 포함하며, P(인), B(붕소), W(텅스텐) 또는 Co(코발트) 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 Pd-Co의 합금층을 형성할 수 있다.
상기 제2 금속층(140)은 제1 금속층(130)보다 얇은 두께를 가지며, 0.01 내지 0.2μm의 얇은 두께를 가지는 박막으로 형성될 수 있고, 표면에 조도를 가질 수 있다.
상기 회로 패턴(125), 상기 회로 패턴(125) 위의 제1 금속층(130) 및 제2 금속층(140)의 적층 구조가 하나의 금속회로패턴을 구성하며, 기저패드(120), 상기 기저패드(120) 위에 제1 금속층(130) 및 제2 금속층(140)의 적층 구조가 하나의 패드를 형성한다.
상기 절연 플레이트(110) 위에 회로 패턴(125)을 덮으며 솔더 레지스트(150)가 형성되어 있다.
솔더 레지스트(150)는 절연 플레이트(110)의 표면을 보호하기 위한 것으로 절연 플레이트(110)의 전면에 형성되며, 노출되어야 하는 기저패드(120) 적층 구조의 상면, 즉, 제2 금속층(140)을 개방하는 개구부(155)를 가진다.
상기 노출되어 있는 기저패드(120)의 제2 금속층(140) 위에 솔더가 형성되거나, 와이어가 본딩된다.
이와 같이, 구리를 포함하는 기저패드(120) 위에 은합금을 도금하여 제1 금속층(130)을 형성하여 전기적 특성이 우수하면서 솔더 접착력이 우수한 패드를 형성하면서, 표면에 팔라듐합금을 도금하여 제2 금속층(140)을 형성함으로써, 은 금속의 변색이나 표면 마이그레이션을 개선하고, 내열성을 강화시킬 수 있다.
이때, 팔라듐을 합금으로 사용하는 경우, 팔라듐만을 사용하여 제2 금속층(140)을 형성하는 것 보다 강도, 경도 및 연성 특성이 우수한 패드를 형성할 수 있으며, 순수한 팔라듐보다 더 밝고, 작은 그레인 크기를 갖도록 도금할 수 있다. 또한, 합금을 형성할 때, 수소과전압을 증가시켜 도금층 내의 수소 함유량을 감소시킴으로써 우수한 부식 저항성을 가지며, 다른 원소의 확산 방지 역할을 하므로 신뢰성이 높아진다.
또한, 팔라듐 도금층을 형성하는 경우, 확산 방지 역할을 함으로써 하부의 동박층과 은도금층의 산화를 방지하여 솔더와의 결합력이 향상될 수 있다.
이러한 팔라듐 도금층은 금 도금층보다 우수한 특성을 가지며 경제적이다.
이러한 인쇄회로기판(100)에 대하여 기저패드(120)와 상기 제1 및 제2 금속층(130,140) 사이에 접착층(도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다.
이하에서는 도 3 내지 도 12을 참고하여 도 2의 인쇄회로기판(100)을 제조하는 방법을 설명한다.
도 3 내지 도 6은 도 2의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 제1 방법을 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 3과 같이 절연 플레이트(110) 위에 도전층(126)을 적층하며, 절연 플레이트(110)가 절연층인 경우, 절연층과 도전층(126)의 적층 구조는 통상적인 CCL(copper clad laminate)일 수 있다.
절연 플레이트(110)와 도전층(126)의 적층 구조에서 상기 도전층(126)을 식각하여 도 4의 기저패드(120) 및 회로 패턴(125)을 형성한다.
다음으로, 패터닝된 기저패드(120)와 회로 패턴(125)을 씨드층으로 전해 도금을 수행하여 제1 금속층(130)을 형성한다.
이때, 제1 금속층(130)은 은을 포함하는 합금으로서, 은으로만 형성할 수도 있으며, 은과 니켈 등의 합금으로 형성할 수 있다. 상기 제1 금속층(130)은 전압을 조절하여, 두께가 0.5 내지 10μm을 충족하며, 바람직하게는 1 내지 6μm이도록 형성한다.
이때, 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)에 도금을 원활히 수행하도록 조도를 부여할 수 있으며, 조도 부여는 상기 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)을 씨드층으로 구리를 러프하게 도금함으로써 수행할 수 있다.
회로 패턴(125) 및 기저패드(120)를 씨드층으로 전해도금함으로써 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)의 상면 및 측면까지 제1 금속층(130)이 도금된다.
다음으로, 도 6과 같이 제1 금속층(130)을 씨드층으로 전해 도금을 수행하여 제2 금속층(140)을 형성한다.
이때, 도금 전압을 조절하여 제1 금속층(130)의 표면은 그레인 사이즈가 크게 형성함으로써 조도를 부여할 수 있다.
제2 금속층(140)은 팔라듐(Pd)을 포함하는 합금층으로서, 구체적으로 팔라듐을 포함하며, P(인), B(붕소), W(텅스텐) 또는 Co(코발트) 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 Pd-Co의 합금층을 형성할 수 있다.
상기 제2 금속층(140)은 전압을 조절하여 제1 금속층(130)보다 얇은 두께를 가지며, 0.01 내지 0.2μm의 얇은 두께를 가지는 박막으로 형성될 수 있으며, 표면에 조도를 갖도록 형성할 수 있다.
제2 금속층(140)도 제1 금속층(130)을 씨드층으로 형성함으로써 제1 금속층(130)의 상면 및 측면까지 형성된다.
다음으로, 도 2와 같이 회로 패턴(125)을 매립하면서 상기 패드 구조를 개방하는 개구부(155)를 갖도록 솔더 레지스트(150)를 도포함으로써 도 2의 인쇄회로기판(100)이 형성된다.
한편, 도 2의 인쇄회로기판(100)은 무전해도금을 통하여도 제조할 수 있다.
도 7 내지 도 9는 도 2의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 제2 방법을 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 4와 같이 절연 플레이트(110) 위에 패터닝된 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)를 형성한 뒤, 무전해 도금을 수행하여 도 7과 같이, 절연 플레이트(110) 전면에 제1 도금층(135)을 형성한다.
이때, 절연 플레이트(110)의 스미어를 제거하기 위한 디스미어 공정을 수행함으로써 절연 플레이트(110)의 표면에 조도가 부여될 수 있다.
무전해 도금을 수행하여 형성되는 제1 도금층(135)은 은을 포함하는 합금으로서, 은으로만 형성할 수도 있으며, 은과 니켈 등의 합금으로 형성할 수 있다. 제1 도금층(135)은 두께가 0.5 내지 10μm을 충족하며, 바람직하게는 1 내지 6μm이도록 형성한다.
다음으로, 도 8과 같이 무전해도금을 수행하여 제1 도금층(135) 위에 제2 도금층(145)을 형성한다.
제2 도금층(145)은 팔라듐(Pd)을 포함하는 합금층으로서, 구체적으로 팔라듐을 포함하며, P(인), B(붕소), W(텅스텐) 또는 Co(코발트) 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 Pd-Co의 합금층을 형성할 수 있다.
상기 제2 도금층(145)은 제1 도금층(135)보다 얇은 두께를 가지며, 0.01 내지 0.2μm의 얇은 두께를 가지는 박막으로 형성될 수 있다.
마지막으로 도 9와 같이 제1 및 제2 도금층(135, 145)을 회로 패턴(125) 및 기저패드(120)를 덮는 영역만 남도록 식각함으로써 회로 패턴(125) 및 기저패드(120) 위에 제1 도금층(135)을 식각한 제1 금속층(130) 및 제2 도금층(145)을 식각한 제2 금속층(140)이 형성된다.
이때, 무전해도금으로 형성되는 인쇄회로기판(100)의 경우, 제1 금속층(130)은 기저패드(120) 및 회로 패턴(125)의 측면까지 둘러싸도록 형성될 수 있으나, 제2 금속층(140)은 제1 금속층(130)의 상면에만 형성됨으로써 도 2의 인쇄회로기판(100)과의 구성이 일부 상이하다.
이하에서는 도 10 내지 도 16을 참고하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판을 설명한다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 10을 참고하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판(200)은 절연 플레이트(210), 상기 절연 플레이트(210) 위에 형성되는 회로 패턴(225)과 연결되어 있는 기저패드(220) 및 상기 회로 패턴을 덮는 솔더 레지스트(250)를 포함한다.
상기 절연 플레이트(210)는 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 글라스 섬유 함침 기판일 수 있으며, 고분자 수지를 포함하는 경우, 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 폴리 이미드계 수지를 포함할 수도 있다.
상기 절연 플레이트(210) 위에 복수의 회로 패턴(225)과 연결되어 있는 복수의 기저패드(220)가 형성되어 있다. 상기 기저패드(220)는 인쇄회로기판(200) 위에 실장되는 소자를 장착하는 범프로서 솔더(260)가 부착되거나, 와이어 본딩되는 기저패드(220)를 의미한다.
상기 회로 패턴(225) 및 기저패드(220)는 전도성 물질로 형성되며, 절연 플레이트(110) 상에 형성되는 동박층을 동시에 패터닝하여 형성될 수 있으며, 구리를 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.
상기 회로 패턴(225) 및 기저패드(220)의 상면 및 측면에 제1 금속층(230)이 형성되어 있다.
제1 금속층(230)은 은(Ag)을 포함하는 은합금층으로서, 두께가 0.5 내지 10μm을 충족하며, 바람직하게는 1 내지 6μm일 수 있다.
상기 절연 플레이트(210) 위에 회로 패턴(225)을 덮으며 솔더 레지스트(250)가 형성되어 있다.
솔더 레지스트(250)는 절연 플레이트(210)의 표면을 보호하기 위한 것으로 절연 플레이트(210)의 전면에 형성되며, 노출되어야 하는 기저패드(220) 적층 구조의 상면, 제1 금속층(240)을 개방하는 개구부(255)를 가진다.
노출되어 있는 기저패드(220)의 제1 금속층(240) 위에 제2 금속층(240)이 형성되어 있다.
제2 금속층(240)은 팔라듐(Pd)을 포함하는 합금층으로서, 구체적으로 팔라듐을 포함하며, P(인), B(붕소), W(텅스텐) 또는 Co(코발트) 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 Pd-Co의 합금층을 형성할 수 있다.
상기 제2 금속층(240)은 제1 금속층(230)보다 얇은 두께를 가지며, 0.01 내지 0.2μm의 얇은 두께를 가지는 박막으로 형성될 수 있으며, 솔더 레지스트(250)의 개구부(255)의 측면을 감싸며 형성될 수 있다.
이와 같이, 도 10의 인쇄회로기판(200)은 도 2의 인쇄회로기판(100)과 달리, 제2 금속층(240)이 패드 구조에만 형성되어 솔더 레지스트(250)의 개구부(255) 측면까지 확장되어 형성되는 구조를 가진다.
또한, 이와 달리 제1 및 제2 금속층(230, 240)이 기저패드(220)에만 형성되어 제1 및 제2 금속층(230, 240)이 개구부(255)의 측면까지 확장되어 형성될 수도 있으며, 기저패드(220) 및 회로 패턴(225) 위에는 접착층으로서 니켈-구리 합금층이 형성될 수도 있다.
노출되어 있는 기저패드(120)의 제2 금속층(140) 위에 솔더가 형성되거나, 와이어 본딩을 수행하여 소자와 부착할 수 있다.
이와 같이, 구리를 포함하는 기저패드(220) 위에 은합금을 도금하여 제1 금속층(230)을 형성하여 전기적 특성이 우수하면서 솔더 친화적인 패드를 형성하면서, 표면에 팔라듐합금을 도금하여 제2 금속층(240)을 형성함으로써, 은 금속의 변색이나 마이그레이션을 개선하고, 내열성을 강화시킬 수 있다.
도 11 내지 도 16은 도 10의 인쇄회로기판을 제조하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 11과 같이 절연 플레이트(210) 위에 도전층을 적층하며, 절연 플레이트(210)가 절연층인 경우, 절연층과 도전층의 적층 구조는 통상적인 CCL(copper clad laminate)일 수 있다.
절연 플레이트(210)와 도전층의 적층 구조에서 상기 도전층을 식각하여 도 11의 기저패드(220) 및 회로 패턴(225)을 형성한다.
다음으로, 도 12와 같이 패터닝된 기저패드(220)와 회로 패턴(225) 위에 무전해 도금을 수행하여 제1 도금층(235)를 형성한다.
이때, 제1 도금층(235)은 은을 포함하는 합금으로서, 은으로만 형성할 수도 있으며, 은과 니켈 등의 합금으로 형성할 수 있다. 상기 제1 금속층은 전압을 조절하여, 두께가 0.5 내지 10μm을 충족하며, 바람직하게는 1 내지 6μm이도록 형성한다.
이때, 절연 플레이트(210), 회로 패턴(225) 및 기저패드(220)에 도금을 원활히 수행하도록 조도를 부여할 수 있다.
다음으로, 도 13과 같이 제1 도금층(235)을 식각하여 제1 금속층(230)을 형성한다.
이때, 제1 금속층(230)은 회로 패턴(225) 및 기저패드(220)의 측면을 감싸도록 회로 패턴(225) 및 기저패드(220)의 폭보다 큰 폭을 가지며 식각될 수 있다.
다음으로, 도 14와 같이, 회로 패턴(225)을 매립하면서 상기 기저패드(220)위의 제1 금속층(230)을 개방하는 개구부(255)를 갖도록 솔더 레지스트(250)를 도포한다.
다음으로, 도 15와 같이 솔더 레지스트(250) 위에 마스크(260)를 형성한다.
상기 마스크(260)는 상기 솔더 레지스트(250)의 개구부(255)를 개방하는 윈도우(265)를 포함하며, 포토 레지스트 또는 드라이 필름으로 형성할 수 있다.
이때, 상기 윈도우(265)의 폭은 상기 솔더 레지스트(250)의 개구부(255)의 폭보다 더 클 수 있다.
다음으로 도 16과 같이 윈도우(265)로 노출되어 있는 제1 금속층(230) 위에 도금을 수행하여 제2 금속층(240)을 형성한다.
이때, 제2 금속층(240)을 형성하기 전에 상기 솔더 레지스트(250)의 개구부(255)의 측면 및 상면의 일부에 조도를 부여하도록 디스미어 공정을 수행할 수 있다.
제2 금속층(240)은 팔라듐(Pd)을 포함하는 합금층으로서, 구체적으로 팔라듐을 포함하며, P(인), B(붕소), W(텅스텐) 또는 Co(코발트) 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 Pd-Co의 합금층을 형성할 수 있다.
상기 제2 금속층(240)은 전압을 조절하여 제1 금속층(230)보다 얇은 두께를 가지며, 0.01 내지 0.2μm의 얇은 두께를 가지는 박막으로 형성한다.
마지막으로 마스크(260)를 제거함으로써 도 10의 인쇄회로기판(200)을 완성할 수 있다.
이와 같이 본 발명에 따라 형성되어 있는 인쇄회로기판은 패드가 구리층-은합금도금층-팔라듐합금도금층의 적층 구조를 가짐으로써 뒤에 형성되는 와이어 본딩 또는 솔더링에 향상된 접착성 및 부식저항성을 가진다.
도 17은 본 발명의 제1 실시예에 따라 형성된 인쇄회로기판의 사진이다.
도 17은 도 2의 인쇄회로기판을 형성한 것으로서, 도 17의 인쇄회로기판을 실험군으로 형성하여 와이어 본딩 부착성, 솔더 부착성 및 표면 마이그레이션 정도를 측정하였다.
이때, 대조군은 구리 기저패드 위에 은도금층만을 형성한 것이고, 본 발명의 실험군 1은 구리 기저패드 위에 제1 금속층으로 은도금층을 형성하고, 제2 금속층으로 팔라듐도금층을 형성한 것이며, 실험군 2는 구리 기저패드 위에 제1 금속층으로 은도금층을 형성하고, 제2 금속층으로 팔라듐-코발트 합금층을 도금하여 형성한 것이다.
와이어 본딩 접착력은 와이어를 패드에 접착한 뒤, 접착되어 있는 와이어를 다시 제거하는데 사용되는 힘을 측정한 것이다.
와이어 제거는 Dage series 4000 장비를 이용하였으며, 5번의 리플로우 후에 실시한 것이다.
솔더의 부착력은 솔더볼을 동일한 힘을 이용하여 대조군 및 실험군1, 2의 패드와 부착한 뒤, 솔더볼을 제거하는데 소요되는 힘을 측정한 것이다.
솔더볼의 제거는 Dage series 4000 장비를 이용하였으며, 3 내지 5번의 리플로우 후에 2000μm의 속도로 제거하였다.
표면 마이그레이션은 대조군 및 실험군 1, 2에 대하여 도 17의 인쇄회로기판을 형성한 뒤, 물을 떨어뜨린 뒤 동일 면적에 대하여 물방울의 수를 측정한 것이다.
각각의 결과는 표 1과 같다.
특성 대조군 (Ag) 실험군1 (Ag/Pd) 실험군2 (Ag/Pd-Co)
Thickness
(㎛)
Ag > 3 Ag > 3
Pd < 0.03
Ag > 3
Pd-Co > 0.03
Wire Bondability
(Min. 3gf/ x5 reflow)
6.73 6.78 6.55
Ball Share
(g/ x5 reflow, Spec. > 630)
725 670 695
Ball Pull
(gf/ x5 reflow, Spec. > 630)
1087 923 1104
Migration/ water Drop test (sec) 7 74 85
대조군 및 실험군 1, 2의 적층 구조의 두께가 표 1과 같을 때, 대조군 및 실험군 1, 2의 와이어 본딩 접착력은 유사한 것으로 측정되었으며, 이는 본 발명과 같이 은도금층 위에 팔라듐합금층을 더 형성하더라도 와이어 접착력이 떨어지지 않음을 의미한다.
또한, 동일한 힘으로 솔더볼을 접착한 뒤, 솔더볼을 제거하는데 소요되는 힘이 대조군과 실험군 1, 2가 유사하게 측정됨으로서 솔더 접착력 또한 떨어지지 않음을 알수 있다.
한편, 표면 마이그레이션의 경우, 은도금층만을 형성하는 대조군은 표면의 뭉침이 매우 현저히 발생하나, 은도금층의 표면에 박막의 팔라듐층을 형성하는 경우, 물방울이 균일하게 형성되어 마이그레이션이 완화됨을 알 수 있으며, 팔라듐-코발트 합금층의 경우, 효과가 더 향상됨을 알 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
인쇄회로기판 100, 200
절연 플레이트 110, 210
회로 패턴 125
패드 120, 220

Claims (13)

  1. 절연층 위에 형성되어 있는 회로 패턴 및 패드, 그리고
    상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 형성되어 있으며, 은과 팔라듐을 포함하는 적어도 두 층 이상의 복수의 금속층
    을 포함하는 인쇄회로기판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 금속층은
    상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 형서되어 있으며, 은을 포함하는 제1 금속층, 그리고
    상기 제1 금속층 위에 형성되어 있으며, 팔라듐을 포함하는 제2 금속층
    을 포함하는 인쇄회로기판.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회로 패턴, 패드 및 상기 제1 금속층은 상면에 조도를 가지는 인쇄회로기판.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1 금속층의 두께는 상기 제2 금속층의 두께보다 두꺼운 인쇄회로기판.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제1 금속층 및 제2 금속층은 도금층인 인쇄회로기판.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제2 금속층은 팔라듐과 코발트의 합금인 인쇄회로기판.
  7. 회로 패턴 및 패드가 형성되어 있는 절연 기판을 준비하는 단계, 그리고
    상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 은과 팔라듐을 포함하는 적어도 2 층 이상의 복수의 금속층을 차례로 형성하는 단계
    를 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 복수의 금속층을 형성하는 단계는,
    상기 회로 패턴 또는 상기 패드 위에 은을 포함하는 합금을 도금하여 제1 금속층을 형성하는 단계, 그리고
    상기 제1 금속층 위에 팔라듐을 포함하는 합금을 도금하여 제2 금속층을 형성하는 단계
    를 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 금속층을 형성하는 단계는,
    상기 패드의 표면에 조도를 부여하는 단계, 그리고
    상기 패드를 씨드층으로 은을 포함하는 합금을 전해도금하여 상기 제1 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제2 금속층을 형성하는 단계는,
    상기 제1 금속층의 표면에 조도를 부여하는 단계, 그리고
    상기 제1 금속층을 씨드층으로 팔라듐을 포함하는 합금을 전해도금하여 상기 제2 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 제1 금속층은 상기 제2 금속층보다 두껍게 형성하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 제2 금속층은 팔라듐과 코발트의 합금으로 형성하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 제1 금속층 및 상기 제2 금속층은 무전해도금하여 형성하는 인쇄회로기판의 제조 방법.
KR1020100074439A 2010-07-30 2010-07-30 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법 KR20120012348A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100074439A KR20120012348A (ko) 2010-07-30 2010-07-30 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100074439A KR20120012348A (ko) 2010-07-30 2010-07-30 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120012348A true KR20120012348A (ko) 2012-02-09

Family

ID=45836309

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100074439A KR20120012348A (ko) 2010-07-30 2010-07-30 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20120012348A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104486900A (zh) * 2014-11-07 2015-04-01 广东风华高新科技股份有限公司 用于电路板的支撑件及其制备方法
CN109041449A (zh) * 2017-06-12 2018-12-18 宁波舜宇光电信息有限公司 回流焊载具
WO2021235877A1 (ko) * 2020-05-21 2021-11-25 엘지이노텍 주식회사 회로 기판

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104486900A (zh) * 2014-11-07 2015-04-01 广东风华高新科技股份有限公司 用于电路板的支撑件及其制备方法
CN109041449A (zh) * 2017-06-12 2018-12-18 宁波舜宇光电信息有限公司 回流焊载具
WO2021235877A1 (ko) * 2020-05-21 2021-11-25 엘지이노텍 주식회사 회로 기판

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106165554B (zh) 印刷电路板、封装基板及其制造方法
US20150357277A1 (en) Wiring substrate
KR20160002069A (ko) 인쇄회로기판, 패키지 기판 및 이의 제조 방법
WO2007126090A1 (ja) 回路基板、電子デバイス装置及び回路基板の製造方法
WO2013146931A1 (ja) 多層配線板
JP2014053604A (ja) プリント回路基板
US20140001637A1 (en) Wiring board
KR101897013B1 (ko) 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법
KR20120012348A (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101980666B1 (ko) 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법
KR101926565B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101199184B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101125463B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101219929B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101305570B1 (ko) 인쇄회로기판의 제조 방법
KR101283747B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101262473B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101154562B1 (ko) 솔더, 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
KR20130021027A (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101251802B1 (ko) 메모리카드, 메모리 카드용 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법
KR101836218B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR20130070472A (ko) 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법
KR101241639B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101154783B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법
KR101231443B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment