KR20110101065A - 화장료용 조성물 및 화장료 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화장료용 조성물 및 화장료에 관한 것으로서,
저점도의 실리콘유에 팽윤성을 갖고, 다른 화장품 유제와의 친화성이 좋은 화장료용 조성물 및 상기 조성물을 함유하여 이루어진 화장료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
(A) 하기 화학식 1로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산;
(화학식 1)
Figure pat00028

(상기 화학식 1에서, Rf는 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기 또는 탄소수 3~30의 퍼플루오로폴리에테르기이며, R1은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, R2는 서로 독립적으로 비닐기 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, k는 0~10의 정수이며, 단, 1 분자 중에 규소 원자에 결합한 비닐기를 적어도 2개 가지며, X는 2가의 유기기이며, m은 0~200의 정수이고, n은 0~100의 정수임)
(B) 하기 화학식 2로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산;
(화학식 2)
Figure pat00029

(상기 화학식 2에서, R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, p는 0~10의 정수이며, 단 1 분자 중에 규소 원자에 결합된 수소 원자를 적어도 2개 가지며, q는 0~200의 정수이고, r은 0~100의 정수이며, 단 화학식 1의 n 및 화학식 2의 r은 동시에 0이 되지 않고, 화학식 1 중의 규소 원자에 결합된 비닐기 또는 화학식 2 중의 규소 원자에 결합된 수소 원자의 적어도 한쪽이 3 이상이고, Rf, X, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
(C) 하기 화학식 3으로 표시되는 편말단 반응성 오르가노폴리실록산;
(화학식 3)
Figure pat00030

(상기 화학식 3에서, R4는 수소 원자 또는 비닐기이고, x는 0~100의 정수이며, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
을 부가 중합시켜 수득되고, (A)~(C) 성분의 합계 질량에 대해 10 질량% 내지 30 질량%의 불소 원자를 함유하는 것을 특징으로 하는 3차원 가교 구조를 가진 불소 함유 실리콘 중합물과,
(D) 25 ℃에서의 동점도가 50 ㎟/s 이하의 저점도 실리콘유를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 조성물.

Description

화장료용 조성물 및 화장료{COSMETIC COMPOSITION AND COSMETIC MATERIAL}
본 발명은 다른 화장료 재료와의 친화성이 좋고, 매우 가벼우며 매끄러운 감촉을 부여하는 화장료를 제공하는 화장료용 조성물에 관한 것으로서, 상세하게는 저점도의 실리콘유에 대해 팽윤성을 가진 실리콘 중합물을 포함하는 화장료용 조성물 및 상기 조성물을 함유하여 이루어진 화장료에 관한 것이다.
실리콘유는 부드러운 감촉으로 펴발림이 좋고, 발수성이 좋은 우수한 특성 때문에 화장료용 유제로서 이용되고 있다. 그 중에서도 저점도 실리콘유는 끈적임이 없고 감촉이 가벼운 화장료를 구성하므로 많이 이용되고 있다.
실리콘유는 일반적인 유제와의 상용성 및 증점제와의 상성(相性)이 나쁘므로 저점도 실리콘유의 점도 조절은 비교적 어렵지만, 이들 실리콘 유제의 점도 조절을 실시하거나 막감(膜感)의 조정을 실시하기 위한 소재로서 특정의 실리콘 겔에 의해 실리콘유 등의 유제를 페이스트상으로 한 원료가 시판되고 있다. 예를 들면 이들 원료로서는 KSG-15, KSG-16, KSG-045Z 등(신에쓰 가가꾸 고교제)이 시판되고 있다. 이들 소재는 화장료의 점도 조절을 하거나 파우더 원료로는 수득할 수 없는 연속적인 독특한 막감을 연출할 수 있으므로 여러 가지 화장료에서 널리 이용되고 있다.
그러나 화장의 막감을 충분히 발휘하기 위해 이들 소재를 다량으로 첨가하면, 화장료에 약간 끈적임을 부여하므로 보다 끈적임이 적은 소재의 개발이 요구되고 있다. 또한, 저점도 실리콘유의 증점제로서 특정의 실리콘 겔을 증점제로 하고, 상기 중합물을 저점도 실리콘유와 전단력하에서 처리함으로써 균일한 페이스트상 조성물을 수득하는 방법이 제안되어 있지만(특허문헌 1~4), 화장료로의 첨가량을 많게 하면 피부에 도포했을 때의 끈적임을 수반한다. 또한, 실리콘 증점제의 제조 방법과 증점 효과에 관한 연구에 의하면(비특허문헌 1), 실리콘 중합물을 수득하는 공정에서 상기 중합물과 반응성이 없는 실리콘유를 첨가하면, 그 첨가량에 비례하여 증점 효과가 현저히 향상되는 것이 알려져 있다. 그러나 첨가량을 많게 하면 수득된 중합물을 피부에 도포했을 때의 끈적임도 증가한다.
이 끈적임을 개선하기 위해 가교 구조의 일부에 측쇄를 갖게 한 실리콘 중합물이 있지만(특허문헌 7), 충분한 대책이 되고 있지 않다. 또한, 화장료에 배합한 경우, 발유성은 매우 부족하고, 피지 등에 의해 피막의 강도가 저하되며, 충분한 색 변화(色移り) 방지 기능 등이 수득되지 않았다. 또한, 내마찰성의 점에서도 만족할 수 없었다. 특허문헌 6에서는 불소기 함유 화합물, 특히 분자량 5000~1000000의 고분자 화합물을 상기 페이스트상 실리콘 조성물과 함께 화장료에 첨가하는 방법이 제안되어 있지만, 이와 같은 고분자량의 불소 화합물은 다른 재료와의 친화성이 현저히 부족하므로 화장료에 배합해도 시간 경과에 따라 분리되거나, 화장료의 증점을 초래하거나, 배합량이나 다른 배합 재료의 선정에 제한이 발생한다.
특허문헌 5에는 불소 치환 알킬기 함유량이 높은 불소 변성 실리콘유(펜타-3,3,3-트리플루오로프로필펜타메틸시클로펜타실록산 등)에 대해 팽윤성을 갖고, 발수성, 발유성이 우수한 균일한 페이스트상 조성물이 개시되어 있다. 그러나 이 조성물은 화장품에 배합했을 때 산뜻함을 부여하지만, 불소 치환 알킬기를 포함하지 않는 실리콘 재료나 다른 화장품 재료에 대한 친화성이 부족하고, 또한 시간 경과에 따라 안정성이 좋지 않으므로 화장품으로의 배합 시에 배합량이나 다른 배합 재료의 선정에 제한이 발생한다.
일본 특허공보 평6-55897호 일본 특허공보 평8-6035호 일본 특허공보 제2582275호 일본 특허공보 제3242874호 일본 특허공보 제4341871호 일본 공개특허공보 제2000-327528호 일본 공개특허공보 제2008-115358호
J.Soc.Cosmet.Chem.Jpn., 27(3), 480-483(1993)
상기와 같은 실리콘 겔을 이용하는 것 외에 예를 들면 실리콘 고무 파우더나 소수성 실리카 등의 저점도 실리콘을 흡유(吸油)하는 파우더를 첨가하여 점도 조절이나 화장막 조절을 하는 방법이 알려져 있지만, 이들은 화장료에 뻑뻑함, 뭉침 등 불필요한 파우더감을 부여하는 경우가 있다. 따라서 화장료에 불필요한 파우더감을 부여하지 않고, 끈적임이 적은 실리콘겔 소재의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 저점도의 실리콘유에 팽윤성을 갖고, 다른 화장품 유제와의 친화성이 좋은 화장료용 조성물 및 상기 조성물을 함유하여 이루어진 화장료를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정 구조의 불소 함유 실리콘 중합물이 저점도 실리콘유에 대해 우수한 팽윤성을 갖고, 균일한 화장료용 조성물을 부여할 수 있으며, 또한 보존 안정성, 발수성, 발유성이 우수하고, 끈적임을 억제한 양호한 화장료를 제공할 수 있는 것을 발견하여 본 발명에 이르렀다.
또한, 본 발명은
(A) 하기 화학식 1로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산;
Figure pat00001
(상기 화학식 1에서, Rf는 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기 또는 탄소수 3~30의 퍼플루오로폴리에테르기이며, R1은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, R2는 서로 독립적으로 비닐기 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이며, k는 0~10의 정수이고, 단, 1 분자 중에 규소 원자에 결합한 비닐기를 적어도 2개 가지며, X는 2가의 유기기이며, m은 0~200의 정수이고, n은 0~100의 정수임)
(B) 하기 화학식 2로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산;
Figure pat00002
(상기 화학식 2에서, R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, p는 0~10의 정수이며, 단 1 분자 중에 규소 원자에 결합한 수소 원자를 적어도 2개 가지며, q는 0~200의 정수이고, r은 0~100의 정수이며, 단 화학식 1의 n 및 화학식 2의 r은 동시에 0이 되지 않으며, 화학식 1 중의 규소 원자에 결합된 비닐기 또는 화학식 2 중의 규소 원자에 결합된 수소 원자의 적어도 한쪽이 3 이상이며, Rf, X, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
(C) 하기 화학식 3으로 표시되는 편(片)말단 반응성 오르가노폴리실록산;
Figure pat00003
(상기 화학식 3에서, R4는 수소 원자 또는 비닐기이고, x는 0~100의 정수이며, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
을 부가(附加) 중합시켜 수득되고, (A)~(C) 성분의 합계 질량에 대해 10 질량% 내지 30 질량%의 불소 원자를 함유하는 것을 특징으로 하는 3차원 가교 구조를 가진 불소 함유 실리콘 중합물과,
(D) 25 ℃에서의 동점도(動粘度)가 50 ㎟/s 이하인 저점도 실리콘유
를 함유하는 화장료용 조성물, 및 상기 조성물을 함유하여 이루어진 화장료, 또는 특정의 구조를 가진 분지쇄형 실리콘 계면활성제를 함유하는 화장료에 관한 것이다.
본 발명의 화장료용 조성물은 저점도의 실리콘유에 대해 팽윤성을 가진 실리콘 중합물을 포함함으로써 다른 화장료 재료와의 친화성이 좋고, 매우 가벼우며 매끄러운 감촉을 부여하는 화장료를 제공할 수 있다.
불소 함유 실리콘 중합물
본 발명의 불소 함유 실리콘 중합물은 하기에 나타내는 (A)~(C) 성분의 오르가노폴리실록산을 부가 중합시킴으로써 수득되는 3차원 가교 구조를 가진 중합체 생성물이고, 분자 중에 소정량의 불소 원자 및 소정량의 실리콘 측쇄를 가진 것을 특징으로 한다.
(A) 성분 및 (B) 성분은 각각 상기 화학식 1 및 화학식 2에서 Rf로 나타내는 기를 가진 실록산 단위를 포함해도 포함하지 않아도 좋지만, 본 발명의 불소 함유 실리콘 중합물은 (A) 성분 및 (B) 성분 중의 불소 원자의 합계 질량은 (A)~(C) 성분의 합계 질량에 대해 10 질량% 내지 30 질량%, 바람직하게는 15 질량% 내지 27 질량%가 되는 양으로 불소 원자를 함유한다. 상기 하한값 보다 불소 함유율이 낮으면 불소 함유 치환기로 변성한 효과가 발현되기 어렵고, 불소 화합물 특유의 가벼움이나 매끄러움이 수득되기 어려워진다. 또한, 상기 상한값 보다 불소 함유율이 높으면 (D) 성분의 저점도 실리콘유와의 친화성이 저하하므로, 부가 중합 후의 3차원 가교 구조 중에 저점도 실리콘유가 포장되기 어려워지고, 저점도 실리콘유의 분리 배출이 발생하기 쉬워진다.
이하, 각 성분에 대해 상술한다.
(A) 비닐기 함유 오르가노폴리실록산
(A) 성분은 하기 화학식 1로 표시되고, 1 분자 중에 규소 원자에 결합된 비닐기를 적어도 2개를 갖는 오르가노폴리실록산이다.
(화학식 1)
Figure pat00004
(상기 화학식 1에서, Rf는 탄소수 1~10, 바람직하게는 탄소수 3~6의 퍼플루오로알킬기 또는 탄소수 3~30, 바람직하게는 탄소수 8~20의 퍼플루오로폴리에테르기이다. 퍼플루오로알킬기로서는 트리플루오로프로필기, 노나플루오로부틸기, 트리데카플루오로헥실기, 헵타데카플루오로옥틸기 등을 예로 들 수 있고, 특히 바람직하게는 노나플루오로부틸기와 트리데카플루오로헥실기를 들 수 있다. 퍼플루오로폴리에테르기로서는 하기 화학식 4 및 화학식 5에 표시되는 것을 예로 들 수 있고, 특히 하기 화학식 4로 표시되는 퍼플루오로폴리에테르기인 것이 바람직하다.
Figure pat00005
Figure pat00006
(상기 화학식 4 및 화학식 5에서, s 및 t는 각각 1~9의 정수이고, 바람직하게는 2~5의 정수임)
상기 화학식 1에서, k는 0~10, m은 0~200, n은 0~100의 정수이며, 바람직하게는 k는 1~5, m은 50~120, n은 5~30의 정수이다.
상기 화학식 1에서, X는 2가의 유기기이다. 특히, 탄소수 2~12, 바람직하게는 2~8의 산소 원자 또는 질소 원자를 갖고 있어도 좋은 2가의 유기기이고, 이와 같은 X의 구체예로서는 하기에 나타내는 것을 예로 들 수 있다.
Figure pat00007
Figure pat00008
상기 화학식 1에서, R1은 서로 독립적으로 탄소수 1~10, 바람직하게는 탄소수 1~4의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, 이와 같은 1가 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등의 저급 알킬기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기 등의 아릴기, 벤질기 등의 아랄킬기 등을 예로 들 수 있다. 바람직하게는 메틸기, n-부틸기 등을 예로 들 수 있다.
R2는 서로 독립적으로 비닐기 또는 탄소수 1~10, 바람직하게는 탄소수 1~4의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, 이와 같은 1가 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등의 저급 알킬기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크시릴기 등의 아릴기, 벤질기 등의 아랄킬기 등을 예로 들 수 있다. R2는 바람직하게는 비닐기이고, 상기 k가 0인 경우에는 R2는 모두 비닐기이고, k가 1인 경우에는 R2의 적어도 하나는 비닐기이다.
(B) 오르가노하이드로겐폴리실록산
(B) 성분은 하기 화학식 2로 표시되고, 1 분자 중에 규소 원자에 결합된 수소 원자를 적어도 2개 갖는 화합물이고, (A) 성분과 부가 중합 반응함으로써 가교 구조를 형성한다.
(화학식 2)
Figure pat00009
상기 화학식 2에서, p는 0~10의 정수, q는 0~200의 정수, r은 0~100의 정수이며, 바람직하게는 p는 2~5의 정수, q는 1~50의 정수, r은 0~20의 정수이다. 단, 상기 화학식 1의 n 및 상기 화학식 2의 r은 동시에 0이 되지 않는다. R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~10, 바람직하게는 탄소수 1~4의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, 바람직하게는 메틸기이다. 단, p가 0일 때, R3은 모두 수소 원자이고, p가 1일 때는 R3의 적어도 하나는 수소 원자이다. 단, 화학식 1 중의 규소 원자에 결합된 비닐기 또는 화학식 2 중의 규소 원자에 결합된 수소 원자의 적어도 한쪽은 3 이상이다. R1, X 및 Rf는 (A) 성분 때문에 상술한 것과 동일한 기를 의미한다.
(C) 편말단 반응성 오르가노폴리실록산
(C) 성분은 측쇄 형성용 오르가노폴리실록산이고, (A) 성분 및/또는 (B) 성분에 결합하여 실리콘 측쇄를 형성한다. 불소 함유 실리콘 중합물이 실리콘 측쇄를 갖는 것에 의해 저점도 실리콘유에 대한 실리콘 중합물의 팽윤성(증점성)을 향상시키고, 화장료용 조성물의 안정성을 향상시킬 수 있다. 본 발명의 (C) 성분은 하기 화학식 3으로 표시되고, 규소 원자에 결합한 수소 원자 또는 비닐기 중 어느 한쪽을 가진 편말단 반응성 오르가노폴리실록산이다.
(화학식 3)
Figure pat00010
화학식 3에서, R4는 수소 원자 또는 비닐기이다. R1은 서로 독립적으로 탄소수 1~10, 바람직하게는 탄소수 1~4의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, 이와 같은 1가 탄화수소기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등의 저급 알킬기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 톨릴기, 크시릴기 등의 아릴기, 벤질기 등의 아랄킬기 등을 예로 들 수 있다. 바람직하게는 메틸기, n-부틸기 등을 예로 들 수 있다. x는 0~100, 바람직하게는 5~30의 정수이다.
실리콘 측쇄는 (A) 성분 또는 (B) 성분 중, 불소 함유량이 높은 쪽의 오르가노폴리실록산에 도입하는 것이 바람직하다. 이에 의해 (D) 저점도 실리콘유에 불용(不溶)이지만 충분히 팽윤하는 성질을 가진 실리콘 중합물이 되고, (D) 저점도 실리콘유를 양호하게 포장한 화장료용 조성물을 수득할 수 있다. 실리콘 측쇄를 (A) 성분에 도입할 경우는 상기 화학식 3에서 R4가 수소 원자인 (C) 성분을 (A) 성분 중의 비닐기 1몰에 대해 (C) 성분 중의 SiH기가 0.1~0.4 몰, 바람직하게는 0.15~0.3 몰이 되는 양으로 사용한다. 또한, 실리콘 측쇄를 (B) 성분에 도입할 경우는 상기 화학식 3에서 R4가 비닐기인 (C) 성분을 (B) 성분 중의 SiH기 1몰에 대해 (C) 성분 중의 비닐기가 0.1~0.4 몰, 바람직하게는 0.15~0.3 몰이 되는 양으로 사용한다. (C) 성분 중의 반응성기의 양이 상기 하한값 미만에서는 저점도 실리콘유에 대한 실리콘 중합물의 팽윤성이 떨어지고, 보존 안정성이 내려간다. 또한, 상기 상한값 초과에서는 실리콘 측쇄를 도입한 후의 (A) 성분 또는 (B) 성분에 충분한 양의 반응성기가 남지 않고, 3차원 가교 구조의 형성이 불충분해지며, (D) 저점도 실리콘유가 3차원 가교 구조 중에 포장되기 어려워진다. 이에 의해 (D) 저점도 실리콘유의 사용량이 비교적 많은 경우나 화장료용 조성물을 전단력하에서 처리하는 데에 (D) 저점도 실리콘유와 함께 이용하는 경우에 화장료용 조성물이 (D) 저점도 실리콘유에 용해되기 쉬워지고, 수득되는 화장료용 조성물이 충분한 증점성을 획득할 수 없어지기 때문에 바람직하지 않다.
(A) 성분과 (B) 성분은 실리콘 측쇄를 도입한 후의 (A) 성분 및/또는 (B) 성분에 있어서, (A) 성분이 가진 비닐기 1몰에 대해 (B) 성분이 가진 SiH기가 0.7~1.3 몰, 바람직하게는 0.8~1.1 몰이 되는 양으로 반응시키는 것이 좋다. 이에 의해 원하는 3차원 가교 구조를 취할 수 있다. (A) 성분 또는 (B) 성분은 각 성분 중에 비닐기 또는 SiH기를 0.5~50 몰%로 함유하는 것이 바람직하다. 반응성기의 함유량이 상기 상한값 보다 많으면 중합 생성물의 3차원 가교 구조의 가교 밀도가 너무 높아지기 때문에 (D) 저점도 실리콘유가 3차원 가교 구조 중에 포장되기 어려워지고, 표면에 브리드하기 쉬워 안정성이 저하되므로 바람직하지 않다.
화장료용 조성물
(A)~(C) 성분의 부가 중합 반응은 하기에 나타내는 (D) 저점도 실리콘유의 존재하에서 실시할 수 있다. 본 발명의 화장료용 조성물은 (A)~(C) 성분을 부가 중합 반응하여 수득되는 실리콘 중합물과 상기 (D) 저점도 실리콘유로 이루어진 조성물이다. 또한, 본 발명의 화장료용 조성물은 반응에 사용한 (D) 저점도 실리콘유와는 별도의 (D) 저점도 실리콘유를 부가 중합 반응 후에 수득되는 조성물에 추가로 첨가하여 수득되는 조성물이라도 좋다.
(D) 저점도 실리콘유
(D) 성분은 25 ℃에서의 동점도가 50 ㎟/s 이하, 바람직하게는 50 ㎟/s 내지 0.65 ㎟/s, 더 바람직하게는 10 ㎟/s 내지 0.65 ㎟/s의 저점도 실리콘유이다. 상기 동점도가 50 ㎟/s를 초과하면 표면에 브리드하기 쉬운 안정성이 낮은 조성물이 되고, 또 끈적임이 나타나 산뜻함이 저하하므로 바람직하지 않다. 저점도 실리콘유는 무관능성의(즉, 히드로실릴화 부가 반응에 관여할 수 있는 규소 원자 결합 알케닐기 및 SiH기를 분자 중에 함유하지 않음) 오르가노폴리실록산이고, 이와 같은 저점도 실리콘유로서는 저중합도의 사슬형 또는 분지쇄형 메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 에틸폴리실록산, 에틸메틸폴리실록산, 에틸페닐폴리실록산, 환형 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산 등을 들 수 있고, 필요에 따라서 이들의 1종 또는 2종 이상을 적절이 선택하여 이용한다.
(D) 성분은 (A)~(C) 성분의 합계량 100 질량부에 대해 10~1000 질량부, 바람직하게는 20~700 질량부, 보다 바람직하게는 50~500 질량부로 사용하는 것이 좋다. 저점도 실리콘유의 배합량이 10 질량부보다 적으면 저점도 실리콘유를 공존시킨 효과가 작아져 수득되는 조성물의 증점성이 낮아진다. 또한, 고무, 플라스틱에 배합하는 경우에 유연성 부여 효과, 윤활성 부여 효과가 저하하므로 바람직하지 않다. 또한, 수득되는 페이스트상 조성물의 투명성을 잃기 쉬워진다. 또한, (D) 저점도 실리콘유의 비율이 1000 질량부 보다 많으면, (A)~(C) 성분의 반응률이 저하하여 충분한 증점성을 가진 조성물이 수득되기 어려워진다. 특히 (A)~(C) 성분의 합계 중량 100 질량부에 대해 10~200 질량부, 특히 20~100 질량부를 이용하여 부가 중합 반응하는 것이 바람직하고, (D) 저점도 실리콘유를 상기 범위의 양으로 이용함으로써 중합 반응이 진행함에 따라서 반응 생성물은 점점 액상에서 부드러운 괴상을 거쳐 분말상이 된다.
(D) 저점도 실리콘유 존재하에서의 (A)~(C) 성분의 부가 중합 반응은 종래 공지된 방법을 이용하면 좋고, 예를 들면 유기 용제에 가용성 백금 화합물(예를 들면, 염화백금산, 알콜 변성 염화백금산, 염화백금산-비닐실록산 착체 등) 또는 로듐 화합물의 존재 하, 실온 또는 가온하(약 50~150 ℃)에서 반응시키면 좋다. 유기 용제로서는 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 부탄올 등의 지방족 알콜, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, n-펜탄, n-헥산, 시클로헥산 등의 지방족 또는 지환식 탄화수소, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 불화 염화 탄화수소 등의 할로겐화 탄화수소를 사용할 수 있다.
촉매로서 특히 바람직하게는 염화백금산, 미국 특허 제3,159,601호, 미국 특허 제3,159,662호, 미국 특허 제3,775,452호 명세서 등에 기재되어 있는 히드로실릴화 반응에 이용되는 백금 화합물, 예를 들면 [Pt(PPh3)3] 등이 예시되지만, 이는 예를 들면 비닐실록산과 백금 화합물의 착화합물, 또한 이를 알콜 변성화한 것이 좋다. 그 중에서 특히 일본 특허공보 소33-9969호에 기재된 염화백금산 또는 비닐실록산과 염화백금산의 착화합물이 더 바람직하다.
부가 중합의 구체적인 방법으로서는 예를 들면 교반 장치를 구비한 플래니터리 믹서 등의 반응기를 이용하여 소요량의 (A)~(D) 성분을 배합한 후, 추가로 촉매를 첨가하고, 약 50~150 ℃ 정도의 적당한 온도로 교반하면 좋다. 이 때, 우선 (A) 성분 및 (B) 성분 중 불소 함유율이 높은 쪽의 성분과, (C) 성분을 부가 반응시켜 어느쪽이든 한쪽의 오르가노폴리실록산 사슬에 실리콘 측쇄를 도입한 후에 상기 오르가노폴리실록산을 다른 한쪽의 오르가노폴리실록산과 부가 중합시키는 것이 바람직하다. 이와 같은 2 단계의 방법을 채택함으로써 (A)~(C) 성분의 상용성을 손상시키지 않고, 부가 중합 반응을 원활하게 진행할 수 있다. (A) 성분과 (B) 성분을 먼저 부가 중합하면 실리콘 측쇄 형성의 반응성이 현저히 저하하고, (A)~(C) 성분을 동시에 넣어 일괄적으로 반응을 실시하면, 주쇄가 되는 오르가노폴리실록산 골격에 원하는 양의 실리콘 측쇄가 도입되기 전에 가교 결합이 형성되므로 실리콘 측쇄의 특성이 충분히 발휘할 수 없게 되는 경향이 있다.
본 발명의 조성물은 중합 반응이 진행함에 따라서 점점 액상에서 부드러운 괴상을 거쳐 분말상이 된다. 미세 분말상 조성물을 수득할 경우에는 분말상으로 수득된 조성물을 전단력하에서 처리하면 좋다. 이 처리에 의해 분말상 조성물은 더 분쇄되어 미세 분말상 조성물을 수득할 수 있다. 이 미세 분말상 조성물은 표면에 브리드가 인식되지 않고 균일한 조성으로 이루어지며, 감촉이 매끄럽고 적절한 유연성을 구비한 백색의 분체가 된다.
또한, 페이스트상 조성물 또는 그리스상 조성물을 수득하는 경우에는 괴상 또는 분말상으로 수득된 조성물에 추가로 (D) 저점도 실리콘유를 첨가하여 전단력하에서 처리하면 좋다. 상기 저점도 실리콘유는 화장료용 조성물에 포함되는 저점도 실리콘유의 합계량이 (A)~(C) 성분의 합계 중량 100 질량부에 대해 10~1000 질량부, 바람직하게는 20~500 질량부가 되는 양으로 첨가한다. 상기 처리에 의해 혼련된 균일한 화장료용 조성물이 수득된다. 저점도 실리콘유가 10 질량부 미만이면 균일한 페이스트상이 되지 않고, 또한 1000 질량부를 초과하면 최종 생성물은 충분한 증점성을 획득할 수 없으며, 양호한 페이스트상 내지 그리스상이 되지 않는다.
조성물을 상기 전단력하에서 처리함으로써 비교적 고점도로 균일하고, 또 외관이 매끄러운 페이스트상의 조성물을 수득할 수 있다. 전단력이 가해지지 않거나 또는 불충분하면 저점도 실리콘유로의 용해가 불충분해지고, 불소 함유 실리콘 중합물과 저점도 실리콘유가 혼화되지 않아 불균일한 조성물이 되므로 저점도가 되어 충분한 증점성을 획득할 수 없다. 또한, 팽윤이 불충분한 불소 함유 실리콘 중합물이 최종 조성물 중에 잔류하므로 껄끄러운 감촉이 되고, 외관에 매끄러움이 없어진다. 전단력하에서 실시하는 처리는 예를 들면 3개 롤밀, 2개 롤밀, 샌드그라인더, 콜로이드밀, 가우린호모디나이저 등으로 실시할 수 있고, 피처리물의 성상(性狀) 등에 따라서 선택하면 좋다. 그 중에서도 통상 3개 롤밀에 의한 방법이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 화장료용 조성물을 배합하여 이루어진 화장료이다. 본 발명의 화장료용 조성물은 저점도 실리콘유에 대해 팽윤성을 갖고, 다른 재료와의 친화성이 좋으며, 끈적임이 없는 화장료용 조성물이므로 화장료에 배합함으로써 가벼운 감촉으로 끈적임이 적은 화장료의 제공이 가능해진다. 본 발명의 화장료 중의 화장료용 조성물의 함유율은 0.1~70 질량%, 바람직하게는 1.0~50 질량%이다. 0.1 질량% 미만에서는 이들을 이용한 화장료에 보존 안정성이 수득되지 않고, 70 질량%를 초과하면 피부에 도포했을 때 산뜻함이 수득되기 어려워진다.
분지쇄형 실리콘 활성제
본 발명의 화장료는 특정의 분지쇄형 실리콘 활성제를 추가로 함유함으로써 유화에 따른 끈적임을 저감한다. 분지쇄형 실리콘 활성제라는 것은 소수기로서 분지쇄형 실리콘 골격을 친수기로서 폴리옥시알킬렌기 또는 폴리글리세린기의 골격을 가진 계면활성제이다. 이들은 PEG-9폴리실록시에틸디메티콘, 라우릴PEG-9폴리디메틸실록시에틸디메티콘, 폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘, 라우릴폴리글리세릴-3폴리디메틸실록시에틸디메티콘, 폴리글리세릴-3디실록산디메티콘의 명칭으로 알려져 있고 시판품을 사용할 수 있다. 시판품의 예로서는 KF-6028, KF-6028P, KF-6038, KF-6100, KF-6104, KF-6105(모두 신에쓰 가가꾸 고교(주)제)가 있다. 또한, 상기 활성제로 폴리글리세린 사슬을 가진 활성제는 안료의 분산성도 우수한 것이 알려져 있다. 배합량은 제작하는 화장료에도 따르지만 화장료 중에 0.05~6 질량%, 더 바람직하게는 0.05~4 질량%가 되는 양으로 함유하는 것이 좋다.
화장료에 배합해야 하는 다른 성분으로서는 화장품에 통상 이용되는 성분, 예를 들면 유제, 분체 성분, 계면활성제, 증점제, 피막제, 자외선흡수제, 약제 등을 이용할 수 있다. 이들의 배합량은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋다. 또한, 본 발명의 화장료의 구성 성분으로서는 추가로 필요에 따라서 물을 첨가할 수 있다. 본 발명 중의 화장료 중의 물의 함유율은 0.1~90 질량%이고, 화장료 형태에 따라 증감하여 배합된다. 물을 함유하는 화장료는 수용액, 수중유형 에멀젼(O/W형), 유중수형 에멀젼(W/O) 외에 O/W/O형, W/O/W형 에멀젼의 형태를 취할 수 있다.
(a) 유제
유제로서는 특별히 한정되지 않고 널리 화장료에 이용되는 실온에서 액체상, 반고체상 또는 고체상의 유제를 예를 들 수 있다. 상기 유제로서는 예를 들면 탄화수소유, 고급 지방산, 고급 알콜, 에스테르유, 동식물유, 불소계유, 실리콘유를 들 수 있다. 또한, 본 명세서에서 「실온」은 25±5 ℃를 의미한다. 본 발명의 화장료 중의 (a) 유제의 함유율은 화장료의 제형에 따라서 다르고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋지만, 바람직하게는 0.1~50 질량%, 더 바람직하게는 1~30 질량%인 것이 좋다. 0.1 질량% 미만에서는 유제의 슬라이딩성(滑り性), 보습성 등의 효과를 발휘할 수 없을 수 있고, 50 질량%를 초과하면 보존 안정성이 저하되는 경향이 있다.
탄화수소유로서는 오조케라이트, α-올레핀올리고머, 파라핀, 이소파라핀, 이소도데칸, 스쿠알란, 세레신, 파라핀 왁스, 폴리에틸렌 왁스, 폴리이소부틸렌, 수첨(水添) 폴리이소부텐, 마이크로크리스탈린 왁스, 바세린 등을 들 수 있다. 이들 탄화수소유 중 실온에서 휘발성인 것은 그 휘발 후에 피부 상에 피막을 형성시키기거나 또는 산뜻한 감촉을 부여한다. 비휘발성 액상유는 감촉이나 윤기의 향상을 위해 사용되고, 고형유는 다른 유제를 증점이나 고화시키는 목적 등으로 사용된다.
고급 지방산으로서는 직쇄형, 분지쇄형, 포화, 불포화 중 어느 것이라도 좋고, 예를 들면 라우린산, 미리스틴산, 팔미틴산, 스테아린산, 베헨산, 올레인산, 이소스테아린산, 12-히드록시스테아린산 등을 들 수 있다. 이들은 유화, 유화의 보조제나 유성분(油)의 증점제 등 화장료의 안정화의 목적 등으로 사용된다. 특히 분기(分岐) 지방산인 이소스테아린산은 유화의 보조제로서 유용하다.
고급 알콜로서는 미리스틸알콜, 팔미틸알콜, 스테아릴알콜, 베헤닐알콜, 올레일알콜, 이소스테아릴알콜, 헥실도데칸올, 옥틸도데칸올, 세틸알콜, 콜레스테롤, 피토스테롤, 바틸알콜, 세라킬알콜 등을 들 수 있다. 이들은 유화의 보조제로서 유용하다.
에스테르유로서는 2-에틸헥산산세틸, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실팔미틴산2-에틸헥실, 미리스틴산옥틸도데실, 디옥탄산네오펜틸글리콜, 디카프린산네오펜틸글리콜 등의 모노에스테르; 세바신산디이소프로필, 말산디이소스테아릴 등의 이염기산 에스테르; 트리에틸헥사노인 등의 트리글리세라이드; 트리이소스테아린산폴리글리세릴-2 등의 폴리글리세린에스테르; 트리이소스테아린산트리메틸올프로판, 트리-2-에틸헥산산트리메틸올프로판 등의 트리메틸올프로판 유도체; 12-히드록시스테아린산피토스테릴, 이소스테아린산피토스테릴 등의 피토스테롤에스테르; N-라우로일-L-글루타민산-2-옥틸도데실 등의 아미노산계 에스테르; (히드록시스테아린산·스테아린산·로진산)디펜타에리스리톨 등의 히드록시스테아린산이나 로진산 등의 지방산 펜타에리스리톨에스테르 등을 들 수 있고, 감촉 조정, 성분의 상용화, 안료 분산성의 향상, 윤기의 향상, 에몰리언트·보습성의 향상 등의 효과를 갖는다.
동식물유로서는 아보가드유, 아마인유, 아몬드유, 올리브유, 백랍, 카카오 기름, 카르나우바 왁스, 칸데릴라 왁스, 소맥 배아유, 참깨유, 쌀 배아유, 쌀겨유, 샤플라워유, 시아버터, 호호바유, 스쿠알란, 대두유, 동백나무유, 월견초유, 옥수수유, 유채씨유, 쌀겨 왁스, 팜핵유, 피마자유, 해바라기유, 마카데미아너트유, 밀랍, 메도폼유, 면실유, 목랍, 몬탄로우, 낙화생유, 라놀린, 액상 라놀린, 난황유를 정제하여 수득되는 동식물유를 들 수 있다. 또한 이들을 수소 첨가품으로서 호호바 왁스, 경화 피마자유, 경화 유채씨유, 환원 라놀린 등을 들 수 있다.
불소계유(油)로서는 퍼플루오로폴리옥시알킬렌, 퍼플루오로데칼린, 퍼플루오로옥탄 등을 예로 들 수 있다.
실리콘유로서는 디메틸폴리실록산, 카프릴릴메티콘, 세틸디메티콘, 페닐트리메티콘, 디페닐실록시페닐트리메티콘, 메틸페닐폴리실록산, 메틸헥실폴리실록산 등의 직쇄 실리콘유; 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 테트라메틸테트라페닐시클로테트라실록산 등의 환형 오르가노폴리실록산; 트리스트리메틸실록시메틸실란, 테트라키스트리메틸실록시실란 등의 분지쇄형 오르가노폴리실록산; 고중합도의 캠형 디메틸폴리실록산, 캠형 아미노변성 오르가노폴리실록산, 캠형 디메틸실록산·메틸페닐실록산 공중합체 등의 실리콘 고무 및 고급 지방산 변성 오르가노폴리실록산, 알킬 변성 오르가노폴리실록산, 장쇄 알킬 변성 오르가노폴리실록산, 아미노 변성 오르가노폴리실록산, 불소 변성 오르가노폴리실록산을 들 수 있다. 그 중에서도 트리에틸헥사노인, 디에틸헥산산네오펜틸글리콜, 이소노난산이소트리데실 등의 분지쇄 구조를 가진 에스테르유 및 실온에서의 동점도가 1.5~10 ㎟/s인 실리콘유는 끈적임이 적고 부드러운 감촉이므로 바람직하다.
(b) 분체 성분
분체 성분으로서는 화장료에 통상 이용되는 것이면 그 형상(구상, 침상, 판상, 수상(樹狀), 섬유상, 부정형 등)이나 입자경, 입자 구조(다공질, 무공질, 중공, 중공 다공질 등)에 상관없이 사용할 수 있다. 이와 같은 분체로서는 예를 들면 무기 분체, 유기 분체, 금속 비누, 착색용 분체 등을 들 수 있다. 이들의 분체 성분은 표면 활성을 억제하기 위해 분산성을 향상시키므로 화장료 도포 시의 감촉의 개선 등의 목적으로 금속 비누, 실리카, 산화알루미늄, 수산화알루미늄 그외의 공지된 방법에 의해 표면 처리된 것이라도 좋고 복합화 분체로해도 좋다. 분체 성분을 이용하는 경우의 배합량으로서는 화장료의 제형에 따라서 다르고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋지만, 화장료의 총량에 대해 0.1~99 질량%, 바람직하게는 0.1~50 질량%, 더 바람직하게는 0.5~40 질량%인 것이 좋다.
무기 분체의 예로서는 미립자 산화티탄, 미립자 산화아연, 미립자 산화세륨 등의 자외선 흡수 산란제, 황산바륨, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탈크, 마이카, 카올린, 세리사이트, 합성 금운모, 실리카, 히드록시아파타이트, 질화붕소 등의 체질(體質) 안료를 들 수 있다. 상기 자외선 흡수 산란제는 미리 유제에 분산시킨 분산물을 이용할 수도 있다. 이들 시판품으로서는 SPD-T5, SPD-Z5(모두 신에쓰 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다.
유기 분체의 예로서는 폴리에스테르 파우더, 폴리에틸렌 파우더, 폴리스티렌 파우더, 폴리우레탄 파우더, 폴리메틸메타크릴레이트 파우더, 메틸메타크릴레이트 크로스폴리머, 셀룰로스 파우더, 실크 파우더, 12 나일론이나 6 나일론 등의 나일론 파우더 또는 이들의 섬유상 파우더, 디메틸폴리실록산을 가교한 구조를 갖는 가교형 실리콘 미세 분말, 가교형 구상 폴리메틸실세스퀴옥산 미세 분말, 가교형 구상 오르가노폴리실록산 고무 표면을 폴리메틸실세스퀴옥산 입자로 피복하여 이루어진 미세 분말, 수지의 적층 말(末), 전분 말(末), 지방산 전분 유도체 말(末), 라우로일리딘 등을 들 수 있다.
특히, 분체의 일부에(비닐디메티콘/메티콘실세스퀴옥산)크로스폴리머, (디페닐디메티콘/비닐디페닐디메티콘/실세스퀴옥산)크로스폴리머와 같은 가교형 구상 오르가노폴리실록산 고무 표면을 폴리메틸실세스퀴옥산 입자로 피복한 분말을 이용함으로써 분산성이 좋고 질척거리지 않는 부드러운 우수한 감촉을 화장료에 부여할 수 있다. 이들의 시판품으로서는 KSP-100, KSP-101, KSP-102, KSP-105, KSP-300(모두 신에쓰 가가꾸 고교(주)제) 등이 있다.
금속 비누(계면활성제 금속염 분체)로서는 스테아린산 아연, 스테아린산 알루미늄 등을 들 수 있다.
착색용 분체로서는 산화티탄, 산화철, 티탄블랙, 카본블랙, 수산화크롬, 산화크롬, 감청, 군청, 알루미늄 파우더 등의 무기 착색 안료나 적색 226호, 황색 4호 등의 타르 색소, 카르민 등의 천연 색소, 운모 티탄, 산화철 피복 운모 티탄, 산화티탄 피복 합성 금운모 등의 펄 안료 등이 있다.
이들 분체는 본 발명의 효과를 방해하지 않는 범위에서 시판의 피막 형성제나 표면 처리제를 필요에 따라서 1종 또는 2종 이상 이용하여 표면 처리하여 사용할 수 있다. 표면 처리제로서는 예를 들면 KF-9908, KF-9909, KP-574(모두 신에쓰 가가꾸 고교(주)제) 등을 목적에 따라서 우수한 분산성을 나타낸다.
(c) 계면활성제
화장료 성분 중 계면활성제로서는 통상의 화장료에 사용되는 것이면 특별히 제한되지 않고 어느 것이나 사용할 수 있다. 이와 같은 계면활성제로서는 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양성(兩性) 활성제가 있다. 계면활성제를 이용하는 경우의 배합량은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋지만, 화장료의 총량에 대해 바람직하게는 0.1~20 질량%, 더 바람직하게는 0.1~10 질량%이다.
음이온성 계면활성제로서는 예를 들면 스테아린산 Na 등의 지방산 비누는 O/W형 유화제로서 알려져 있고, 또한, 이소스테아린산 Na 등 분지쇄형 지방산 비누는 W/O형의 안정성 향상에 사용되는 경우가 있다. 양성(兩性) 계면활성제로서는 베타인, 포스파티딜콜린, 아미노카르본산염, 이미다졸린 유도체, 아미드아민형 등을 들 수 있다.
비(非)이온성 계면활성제로서는 소르비탄 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리글리세린 지방산 에스테르, 프로필렌글리콜 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 메틸글루코시드 지방산 에스테르, 알킬 폴리글루코시드, 폴리옥시알킬렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 경화 피마자유 등 소수기가 탄화수소계 활성제나 본 발명의 실리콘 화합물 이외의 실리콘계 활성제가 잘 알려져 있다.
(d) 증점제
증점제는 화장품에 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 증점제는 수성 타입, 유성 타입으로 나눌 수 있다. 증점제를 이용하는 경우의 배합량은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋지만, 화장료의 총량에 대해 바람직하게는 0.1~30 질량%, 더 바람직하게는 0.1~10 질량%이다.
수성 타입의 증점제로서는 미립자 실리카; 벤토나이트, 헥토라이트 등의 무기 분체; 아라비아 고무, 구아검, 카라기난, 한천, 쿠인스시드, 로커스트빈검, 크산탄검, 플루란, 카르복시메틸셀룰로스나트륨, 히드록시에틸셀룰로스, 카르복시비닐폴리머 등의 비닐계 고분자, (아크로일디메틸타우린암모늄/VP) 코폴리머, (아크릴산 Na/아크릴로일디메틸타우린Na) 코폴리머, (아크릴산히드록시에틸/아크릴로일디메틸타우린Na)코폴리머, 폴리아크릴아미드 등의 아크릴계 고분자 등의 수용성 고분자를 사용할 수 있다. 상기 아크릴계 고분자를 이용함으로써 비교적 용이하게 O/W형 유화의 안정화를 도모하는 것이 가능하다.
유성 타입의 증점제로서는 실릴화 실리카 등의 소수화 미립자 실리카, 디스테아르디모늄헥토라이트 등의 유기 변성 점토 광물, 알루미늄스테아레이트 등의 금속 비누, (팔미틴산/2-에틸헥산산)덱스트린, 스테아린산이눌린 등의 다당 지방산 에스테르, 아세트산 스테아린산 수크로스 등의 자당 지방산 에스테르, 가교형 오르가노폴리실록산 등을 예로 들 수 있다.
소수화 미립자 실리카는 소량으로 다량의 유성 성분을 흡수하므로, 또한 유기 변성 점토 광물은 계면활성제와의 병용에 의해 유화 안정성을 향상하거나 극성의 첨가물 예를 들면 탄산프로필렌 등의 첨가에 의해 증점시킬 수 있으므로 추가로 (팔미틴산/2-에틸헥산산)덱스트린은 이장(離漿, syneresis)을 억제한 증점 겔을 형성할 수 있으므로 각각 유성 또는 W/O형 화장료의 증점, 안정화에 유용하다.
가교형 오르가노폴리실록산으로서는 액상유에 대해, 자중(自重) 이상의 상기 액상유를 포함하여 팽윤하는 것으로 분자 중에 친수기를 함유해도 함유하지 않아도 좋다. 이들의 시판품으로서는 유제로 페이스트상으로 한 KSG 시리즈(신에쓰 가가꾸 고교(주)제) 등이 있다. 이들의 가교형 오르가노폴리실록산은 본 발명의 화장료용 조성물과 병용할 수 있다.
(e) 피막제
피막제는 화장료에 통상 이용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 피막제로서는 수성 타입과 유성 타입으로 구분할 수 있다. 수성 타입의 피막제로서는 폴리비닐알콜, 폴리비닐피롤리돈, 아세트산비닐·비닐피롤리돈 공중합체, 아크릴산계 공중합체의 에멀젼 등을 사용할 수 있다. 피막제를 이용하는 경우의 배합량은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위의 양이면 좋지만, 화장료의 총량에 대해 바람직하게는 0.1~30 질량%, 더 바람직하게는 0.5~20 질량%이다.
유성 타입의 피막제로서는 에이코센·비닐피롤리돈 공중합체 등의 α-올레핀·비닐 피롤리돈 공중합체, 아크릴산/알킬아크릴레이트 공중합체, 트리메틸실록시규산 등의 실리콘 망상 수지, (아크릴산 알킬/디메티콘)폴리머 등의 아크릴/실리콘 그래프트 또는 블럭 공중합체의 아크릴실리콘 수지, 또 아크릴실리콘 수지 및 실리콘 망상 수지는 그 분자 내에 추가로 피롤리돈 부분, 장쇄 알킬 부분, 폴리옥시알킬렌 부분 및 플루오로알킬 부분, 카르본산 등의 음이온 부분을 함유하고 있는 것도 사용할 수 있다. 이들의 피막제의 시판품으로서는 KP-543, KP-545, KP-550(모두 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제) 등을 들 수 있다.
(f) 자외선 흡수제
자외선 흡수제는 통상의 화장료에 사용되는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 자외선 흡수제로서는 예를 들면 폴리실리콘-15, 옥토크릴렌, 메톡시 신남산 에틸헥실, t-부틸메톡시디벤조일메탄, 메틸렌비스벤조트리아졸릴테트라메틸부틸페놀, 살리실산 옥틸, 호모살레이트(homosalate), 페닐벤즈이미다졸설폰산, 히드록시메톡시벤조페논설폰산, 디메틸PABA옥틸(파라디메틸아미노안식향산2-에틸헥실) 등을 들 수 있다.
(g) 약제
약제는 예를 들면 알루미늄클로로하이드레이트 등의 제한제(制汗劑); 토코페롤 등의 산화방지제; 글리신, 세린, 아르기닌, 글루타민산 등의 아미노산류 및 그 유도체; 비타민 A유(油), 레티놀 등의 비타민 A류(類), 피리독신 염산염, 판테놀, 판토테닐에틸에테르, 니코틴산아미드, 시아노코발라민 등의 비타민 B류, 아스코르빈산 팔미테이트, 아스코르빈산 글루코시드 등의 비타민 C류, α-토코페롤 등의 비타민 E류 등의 니코틴산류 그 외의 비타민류 및 그 유도체; 글리틸리틴산K2염 등의 항염증제 등을 들 수 있다.
본 발명의 화장료용 조성물은 스킨케어 제품, 메이크업 제품, 두발 제품, 제한제 제품, 자외선 방어 제품 등의 여러 가지 화장료에 배합할 수 있다. 화장료의 형태로서는 특별히 한정되지 않고, 고체, 분체, 액체, 유중수형 에멀젼, 수중유형 에멀젼, 비수(非水) 에멀젼 등의 에멀젼 등이라도 좋다. 본 발명의 화장료의 구체적인 용도로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 화장수, 유액, 크림, 클렌징, 팩, 마사지재(材), 미용액, 미용 오일, 세정제, 핸드크림, 립크림, 주름 개선(감추기) 화장료, 메이크업 기초, 컨실러, 백분, 파우더 파운데이션, 리퀴드 파운데이션, 크림 파운데이션, 유성 파운데이션, 볼터치, 아이새도우, 마스카라, 아이라이너, 아이브로우, 립스틱, 메니큐어료(料), 샴푸, 린스, 트리트먼트, 헤어 세팅제, 제한제 화장료, 자외선 차단 유액, 자외선 차단 크림 등을 들 수 있다.
(실시예)
이하, 실시예 및 비교예를 나타내고, 본 발명을 상세히 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예에 한정되지 않는다.
[실시예 1]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 6으로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 25.5 질량%, 비닐기 함유량 2.96×10-2 mol/100 g)과, 하기 화학식 7로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 5.27 g(SiH기 함유량 5.64×10-3 mol/5.27 g) 및 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 165.8 g을 첨가한다. 백금/비닐 실록산 착체 톨루엔 용액 0.017 g(Pt:0.17 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 1 시간 교반했다.
Figure pat00011
Figure pat00012
계속해서 상기 반응 생성물에 하기 화학식 8로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 5.26 g(불소 함유율 18.4 질량%, SiH기 함유량 2.26×10-2 mol/5.26 g)과 상기와 동일한 백금 착체 0.017 g을 첨가하고, 80 ℃에서 추가로 1 시간 교반하여 실리콘 중합물의 디메틸폴리실록산 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 1, 디메틸폴리실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 23.9 질량%).
Figure pat00013
상기 실리콘 중합물 1을 100.0 질량부 및 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 150.0 질량부를 분산 혼합하고, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 디메틸폴리실록산에 팽윤시켜 무색 투명한 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[실시예 2]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 9로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 20.6 질량%, 비닐기 함유량 3.61×10-2 mol/100 g)과 상기 화학식 7로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 6.43 g(SiH기 함유량 6.88×10-3 mol/6.43 g), 데카메틸시클로펜타실록산(동점도 4 ㎟/s) 110.3g을 넣고, 백금/비닐실록산 착체 톨루엔 용액 0.017 g(Pt:0.17 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 1 시간 교반했다.
Figure pat00014
계속해서 상기 반응 생성물에 하기 화학식 10으로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 3.83 g(SiH기 함유량 2.75×10-2 mol/3.83 g)과 상기 백금 착체 0.017 g을 첨가하여 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 데카메틸시클로펜타실록산 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 2, 데카메틸시클로펜타실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 18.7 질량%).
Figure pat00015
실리콘 중합물 2를 100.0 질량부와, 데카메틸시클로펜타실록산 200.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 데카메틸시클로펜타실록산에 팽윤시켜 무색 투명한 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[실시예 3]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 11로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 24.9 질량%, SiH기 함유량 6.03×10-2 mol/100 g)과 하기 화학식 12로 표시되는 오르가노폴리실록산 8.90 g(비닐기 함유량 1.09×10-2 mol/8.90 g) 및 트리스트리메틸실록시메틸실란(동점도 1.5 ㎟/s) 188.4 g을 첨가한다. 백금/비닐실록산 착체 톨루엔 용액 0.028 g(Pt:0.28 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 1시간 교반했다.
Figure pat00016
Figure pat00017
계속해서 상기 반응 생성물에 하기 화학식 13으로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 79.5 g(불소 함유율 20.4 질량%, 비닐기 함유량 4.38×10-2 mol/79.5 g)과 상기 백금 착체 0.028 g을 추가하고, 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 트리스트리메틸실록시메틸실란 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 3, 트리스트리메틸실록시메틸실란을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 21.8 질량%).
Figure pat00018
상기 실리콘 중합물 3을 100.0 질량부와, 트리스트리메틸실록시메틸실란 250.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하여 실리콘 중합물을 트리스트리메틸실록시메틸실란에 팽윤시켜 무색 투명한 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[실시예 4]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 14로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 25.9 질량%, 비닐기 함유량 3.25×10-2 mol/100.0 g)과 상기 화학식 7로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 6.57 g(SiH기 함유량 6.88×10-3 mol/6.57 g), 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 109.9 g을 넣고, 백금/비닐실록산 착체 톨루엔 용액 0.017 g(Pt:0.17 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 1시간 교반했다.
Figure pat00019
계속해서 상기 반응 생성물에 상기 화학식 10으로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 3.36 g(SiH기 함유량 2.42×10-2 mol/3.36 g)과 상기 백금 착체 0.017 g을 첨가하고, 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 디메틸폴리실록산 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 4, 디메틸폴리실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 23.6 질량%).
실리콘 중합물 4를 100.0 질량부와, 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 185.7 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하여 실리콘 중합물을 디메틸폴리실록산에 팽윤시켜 무색 투명한 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[비교예 1]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 15로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 20.6 질량%, 비닐기 함유량 2.41×10-2 mol/100.0 g)과, 상기 화학식 10으로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 3.19 g(SiH기 함유량 2.29×10-2 mol/3.19 g), 데카메틸시클로펜타실록산(동점도 4 ㎟/s) 113.2 g을 첨가한다. 백금/비닐실록산 착체 톨루엔 용액 0.034 g(Pt:0.34 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 데카메틸시클로펜탄 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 5, 데카메틸시클로펜타실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 20.0 질량%).
Figure pat00020
실리콘 중합물 5를 100.0 질량부와, 데카메틸시클로펜타실록산 200.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 데카메틸시클로펜타실록산에 팽윤시켜 무색 투명한 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[비교예 2]
플래니터리 믹서에 하기 화학식 16으로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 35.4 질량%, 비닐기 함유량 2.19×10-2 mol/100 g)과, 상기 화학식 7로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 3.90 g(SiH기 함유량 4.17×10-3 mol/3.90 g), 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 159.3 g을 첨가한다. 백금/비닐실록산 착체 톨루엔 용액 0.016 g(Pt:0.16 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 1시간 교반했다. 계속해서 상기 화학식 10으로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 2.32 g(SiH기 함유량 1.67×10-2 mol/2.32 g)과 상기 백금 착체 0.016 g을 추가하여 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 디메틸폴리실록산 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 6, 디메틸폴리실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물 중의 불소기 함유량 33.3 질량%).
Figure pat00021
실리콘 중합물 6을 100.0 질량부와, 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 150.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 디메틸폴리실록산으로 팽윤시켜 무색 반투명의 페이스트상 화장료용 조성물을 수득했다.
[비교예 3]
디메틸폴리실록산 중합물과 데카메틸시클로펜타실록산을 혼련·팽윤시킨 실리콘 조성물(신에쓰 가가꾸 고교제, 상품명:KSG-15).
[비교예 4]
플래니터리 믹서에 상기 화학식 16으로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산 100.0 g(불소 함유율 35.4 질량%, 비닐기 함유량 2.19×10-2 mol/100 g)과 상기 화학식 10으로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산 3.05 g(SiH기 함유량 2.19×10-2 mol/3.05 g), 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 102.9 g을 넣고, 상기 백금 착체 0.012 g(Pt:0.12 mg 상당)을 첨가하여 80 ℃에서 추가로 1시간 교반하여 실리콘 중합물의 디메틸폴리실록산 분산물을 수득했다. 수득된 상기 실리콘 중합물의 분산물은 백색의 유연성을 구비한 분체였다(실리콘 중합물 7, 디메틸폴리실록산을 제외한 상기 실리콘 중합물의 불소기 함유량 34.4 질량%).
실리콘 중합물 7을 100.0 질량부와, 디메틸폴리실록산(동점도 2 ㎟/s) 150.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 디메틸폴리실록산으로 팽윤시키려고 했지만, 상기 중합물은 팽윤하지 않고 디메틸폴리실록산에 분체가 분산된 상태였다. 이 때문에 이하의 평가의 대상에서는 제외했다.
[발수성·발유성]
슬라이드 글래스(26 mm×76 mm)에 상기 화장료용 조성물 0.20 g을 균일하게 도포하고, 150 ℃에서 1시간 가열 건조시킨다. 건조 후, 실온까지 방냉(放冷)하여 접촉각계를 이용하여 물에 대한 접촉각을 측정하여 발수성의 평가로 했다. 또한, 물 대신에 n-헥사데칸을 이용하여 동일하게 접촉각을 측정하여 발유성의 평가로 했다.
[분산성]
상기 화장료용 조성물 20.0 g과 데카메틸시클로펜타실록산 80.0 g을 200 cc 비이커에 넣는다. 15 분간 호모디스퍼(프라이믹스사제 2.5형)로 분산시키고, 그 후 30분간 비이커를 정치하여 분산 상태를 육안으로 관찰하여 분산성의 평가로 했다.
[보존 안정성]
화장료용 조성물을 밀폐한 용기에 넣고, 40 ℃에서 1주간 보관 후의 조성물의 외관을 육안으로 관찰하여 보존 안정성의 평가로 했다.
[감촉]
가벼움 및 끈적임에 대해 패널 20명에 의해 상기 화장료용 조성물을 손등에 도포했을 때의 감촉을 이하의 지표로 평가했다.
·가벼움: 도포 시의 도포의 가벼움을 1(무겁다)~5(가볍다) 단계로 평가하여 패널의 평균에 대해 4점 이상을 ◎, 3~4점 미만을 ○, 2~3점 미만을 △, 2점 미만을 ×로 했다.
·끈적임: 도포 시의 끈적임을 1(끈적인다)~5(끈적이지 않는다)의 5단계로 평가하여 패널의 평균에 대해 4점 이상을 ◎, 3~4점 미만을 ○, 2~3점 미만을 △, 2점 미만을 ×로 했다.
Figure pat00022
상기 표 1로부터 본 발명의 화장료용 조성물은 보존 안정성이 양호하고, 또한 균일한 페이스트상 조성물이며, 매우 가볍고 매끄러운 감촉을 부여하는 것을 알 수 있다.
[실시예 5]
상기에서 조제한 실리콘 중합물 2를 100.0 질량부와 데카메틸시클로펜타실록산 100.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 데카메틸시클로펜타실록산으로 팽윤시켜 화장료용 조성물을 조제했다.
[실시예 6]
실시예 2에서 데카메틸시클로펜타실록산을 디메틸폴리실록산(KF-96L-2cs)으로 바꿔 실리콘 중합물을 제조하고, 상기 실리콘 중합물 100 질량부와 KF-96L-2cs 100.0 질량부를 분산 혼합한 후, 3개 롤밀에 의해 전단력하에서 충분히 혼련하고, 실리콘 중합물을 KF-96L-2cs로 팽윤시켜 화장료 조성물을 조제했다. 화장료는 KF-96L-2cs를 사용함으로써 데카메틸시클로펜타실록산을 이용했을 때 이상으로 더 가볍고 끈적임이 적은 페이스트상 화장료용 조성물이 되었다.
본 발명의 화장료용 조성물은 저점도 실리콘유와 팽윤하고, 끈적임이 없는 화장료용 조성물이 된다. 이 때문에 본 발명의 화장료용 조성물을 화장료에 첨가함으로써 더 끈적임이 없고, 가벼운 감촉의 비수계(非水系) 화장료를 제공할 수 있다.
또한, 화장료의 유성 원료 중에 첨가했을 때, 물과의 상호 작용, 예를 들면 유화 등에 의해 끈적임이 발생하는 경우가 있다. 따라서 유화했을 때의 끈적임에 대해 실시예 7~9에서 평가했다.
[실시예 7, 8, 비교예 5, 6]
하기의 배합에 의해 성분 1~6을 혼합하여 균일하게 분산한 후, 성분 7~10으로 이루어진 용액을 디스퍼로 교반하면서 첨가하여 W/O 에멀젼을 수득했다. 실시예 7 및 비교예 5는 W/O 유액이 되고, 실시예 8 및 비교예 6은 W/O 크림이 되었다.
Figure pat00023
(주 1) KSG-16(데카메틸시클로펜타실록산으로 팽윤시킨 페이스트상 실리콘 조성물)(신에쓰 가가꾸 고교(주)제)
(주 2) 디메티콘/(PEG-10/15)크로스폴리머(신에쓰 가가꾸 고교(주)제)
(주 3) PEG-9 폴리디메틸실록시에틸디메티콘(신에쓰 가가꾸 고교(주)제)
(주 4) 메틸폴리실록산(6cs): 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
[실시예 9]
상기 표 2 중의 성분 4(KF-6028)를 KF-6017(PEG-10 디메티콘)로 치환한 것 이외에는 실시예 7과 동일한 조성 및 방법으로 조제하여 W/O 유액을 수득했다.
[실시예 10]
상기 표 2 중의 성분 4(KF-6028)를 KF-6017(PEG-10 디메티콘)으로 치환한 것 이외에는 실시예 8과 동일한 조성 및 방법으로 조제하여 W/O 크림을 수득했다.
상기 실시예 7~10 및 비교예 5, 6에 대해 조정한 유액 및 크림의 사용 시의 끈적임에 대해 패널 20인에 대해 관능 평가를 실시했다. 실시예 7 및 실시예 9는 비교예 5를 기준으로 하고, 실시예 8 및 실시예 10은 비교예 6을 기준으로 하여 끈적임의 개선의 유무에 대해 평가했다. 결과를 하기 표 3에 나타낸다.
Figure pat00024
상기 표 3으로부터 본 발명의 화장료용 조성물로 이루어진 화장료는 종래의 화장료용 조성물로 이루어진 화장료에 비해 물을 함유한 유화 처방에 의해서도 끈적임이 저감되는 것이 확인되었다.
이하에 본 발명의 화장료용 조성물을 포함하는 화장료의 실시예를 나타낸다. 각 실시예에서 각 표에 나타내는 처방으로 화장료를 조제했다.
[실시예 11]
주름 개선 크림
하기 성분 1~8을 혼합하여 균일한 분산물을 형성한 후, 별도로 균일한 혼합물로 한 하기 성분 9~13을 고속 교반기로 교반하면서 첨가하고, 목적으로 하는 주름 개선 크림을 수득했다. 수득된 주름 개선 크림은 화장 지속성이 좋고, 끈적임이 없으며, 펴발림성이 좋았다.
(성분) 질량%
1 실시예 5의 화장료용 조성물 22.0
2 KSG-210(주2) 3.0
3 KF-6028(주3) 1.0
4 데카메틸시클로펜타실록산 23.0
5 KF-96A-6cs(주4) 1.0
6 KSG-15(주5) 9.0
7 KSP-101(주6) 7.0
8 트리에틸헥사노인 3.0
9 1,3-부틸렌글리콜 3.0
10 구연산Na 0.2
11 염화나트륨 0.5
12 정제수 28.0
13 방부제 적량
(주 5) 가교형 디메틸폴리실록산의 팽윤물: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 6) 하이브리드 실리콘 파우더: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
[실시예 12]
파우더 파운데이션
하기 성분 4~10을 분쇄하여 균일한 혼합물로 하고, 미리 실온에서 혼합한 하기 성분 1~3을 첨가하여 균일한 분산물을 형성한 후, 금형에 프레스 성형하여 파우더 파운데이션을 수득했다. 수득된 파우더 파운데이션은 부드럽고 펴발림성이 좋고, 화장 지속성이 양호했다.
(성분) 질량%
1 스쿠알란 1.0
2 실시예 3의 화장료용 조성물 4.0
3 KF-96A-6cs(주4) 2.0
4 폴리에틸렌 분체 1.5
5 KMF-590(주7) 4.5
6 KSP-300(주8) 3.0
7 황산바륨 10.0
8 소수화 처리 세리사이트(주9) 40.0
9 소수화 처리 탈크(주9) 23.2
10 소수화 처리 착색제(주9) 10.8
(주 7) 폴리메틸실세스퀴옥산: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 8) 페닐 변성 하이브리드 실리콘 복합 분체: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 9) 신에쓰 가가꾸 고교(주)제: KF-9909 처리
[실시예 13]
트리트먼트 크림
하기 성분 1~6을 혼합하여 균일한 분산물을 형성한 후, 별도로 균일한 혼합물로 한 하기 성분 7~13을 고속 교반기로 교반하면서 첨가하고, 목적으로 하는 트리트먼트 크림을 수득했다. 트리트먼트 크림은 촉촉하고 끈적임이 없으며, 펴발림성이 좋았다.
(성분) 질량%
1 실시예 5의 화장료용 조성물 4.0
2 KSG-210(주2) 4.0
3 KF-6028(주3) 0.2
4 스쿠알란 5.0
5 디에틸헥산산네오펜틸글리콜 7.6
6 디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 1.0
7 KSG-15(주5) 3.0
8 크산탄검 2% 수용액 4.0
9 1,3-부틸렌글리콜 5.0
10 구연산 Na 0.2
11 염화나트륨 0.5
12 정제수 65.2
13 방부제 적량
[실시예 14]
선컷 유액
하기 성분 1~6을 균일한 혼합물로 한 후, 하기 성분 9~12를 혼합하여 수득된 용액을 첨가하여 유화하고, 수득된 유화물에 하기 성분 7~8을 첨가하여 선컷 유액을 수득했다. 수득된 선컷 유액은 끈적임이나 유분기가 없고, 펴발림이 가벼우며 피부상에서의 내수성이 양호했다.
(성분) 질량%
1 KSG-210(주2) 3.0
2 KSG-15(주5) 2.0
3 KF-6028(주3) 1.0
4 실시예 5의 화장료용 조성물 6.0
5 데카메틸시클로펜타실록산 4.0
6 이소노난산이소트리데실 4.0
7 SPD-T5(주10) 25.0
8 SPD-Z5(주11) 35.0
9 디프로필렌글리콜 2.0
10 구연산나트륨 0.2
11 염화나트륨 1.0
12 정제수 16.8
(주 10) 미립자 산화티탄 분산물: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제:
(주 11) 미립자 산화아연 분산물: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
[실시예 15]
선컷 크림
하기 성분 1~8을 균일한 혼합물로 한 후, 하기 성분 9~12를 혼합하여 수득된 용액을 첨가하여 유화하고, 선컷 크림을 수득했다. 수득된 선컷 크림은 끈적임이나 번들거림이 없고, 펴발림성이 가벼우며, 피부상에서의 내수성이 양호하고, 번들거림이 없어 지속성이 좋았다.
(성분) 질량%
1 KSG-210(주2) 2.0
2 KSG-15(주5) 3.0
3 KF-6028(주3) 1.5
4 실시예 1의 화장료용 조성물 4.0
5 데카메틸시클로펜타실록산 6.3
6 디메틸디스테아릴암모늄헥토라이트 1.2
7 SPD-T5(주10) 20.0
8 SPD-Z5(주11) 15.0
9 1,3-부틸렌글리콜 5.0
10 구연산나트륨 0.2
11 염화나트륨 0.5
12 정제수 41.3
[실시예 16]
립스틱
하기 성분 1~11을 가열하고, 균일하게 혼합 후, 하기 성분 12~13을 첨가하여 균일한 혼합물을 수득하고, 기밀성이 높은 소정의 용기에 충전하여 립스틱을 수득했다. 수득된 립스틱은 끈적임이나 번들거림이 없고, 입술상에 시여했을 때 번짐 등도 없고, 화장 지속성도 좋은 것이 확인되었다.
(성분) 질량%
1 칸데릴라로우 4.0
2 폴리에틸렌 2.0
3 마이크로크리스탈린 왁스 3.0
4 실시예 2의 화장료용 조성물 8.5
5 KP-561P(주12) 13.5
6 KF-54(주13) 20.0
7 KF-545(주14) 10.0
8 KF-6105(주15) 3.0
9 마카데미아너트유 20.0
10 수첨 폴리이소부텐 10.0
11 이소노난산이소트리데실 6.0
12 착색제 적량
13 마이카 적량
(주 12) 스테아릴 변성 아크릴 실리콘 수지: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 13) 디페닐디메티콘: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 14) 아크릴실리콘의 D5 용해품: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 15) 알킬 변성 분지쇄형 폴리글리세린 변성 실리콘: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
[실시예 17]
W/O 리퀴드 파운데이션
하기 성분 1~10을 균일한 혼합물로 한 후, 하기 성분 11~16을 혼합하여 수득된 용액을 첨가하여 유화하고, 리퀴드 파운데이션을 수득했다. 수득된 W/O 리퀴드 파운데이션은 끈적임이나 번들거림이 없고, 펴발림성이 가벼우며 화장 지속성이 좋았다.
(성분) 질량%
1 KSG-210(주2) 3.5
2 KSG-15(주5) 3.0
3 KF-6028(주3) 3.0
4 데카메틸시클로펜타실록산 9.0
5 실시예 2의 화장료용 조성물 4.0
6 KF-96A-6cs(주4) 1.0
7 트리옥타노인 7.0
8 KSP-100(주16) 2.0
9 KF-7312J(주17) 2.0
10 소수화 처리 착색제(주9) 10.0
11 1,3-부틸렌글리콜 5.0
12 크산탄검 0.1
13 구연산나트륨 0.2
14 염화나트륨 0.5
15 방부제 적량
16 정제수 49.4
(주 16) 하이브리드 실리콘 파우더: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 17) 트리메틸실록시규산의 D5 용해품: 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
[실시예 18]
O/W 크림
하기 성분 1~3을 균일하게 혼합하고, 균일하게 분산한 하기 성분 4~10을 교반하면서 서서히 첨가하여 유화 후, O/W 크림을 수득했다. 수득된 O/W 크림은 끈적임이나 번들거림이 없고, 부드러운 사용감을 부여했다.
(성분) 질량%
1 KSG-15(주5) 8.0
2 데카메틸시클로펜타실록산 10.0
3 실시예 6의 화장료용 조성물 30.0
4 1,3-부틸렌글리콜 3.0
5 KF-6100(주18) 0.6
6 KF-6104(주19) 0.3
7 SIMULGEL600(주20) 0.6
8 염화나트륨 1% 수용액 8.0
9 정제수 26.5
10 AristoflexAVC(주21)의 5% 수용액 13.0
(주 18) 분지쇄형 폴리글리세린 변성 실리콘 HLB 중(中): 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 19) 분지쇄형 폴리글리세린 변성 실리콘 HLB 고(高): 신에쓰 가가꾸 고교(주)제
(주 20) 아크릴계 증점제 혼합물: 세픽사제
(주 21) 아크릴계 수용성 고분자: 클라이언트사제
본 발명은 저점도 실리콘유에 대해 팽윤성을 갖는 실리콘 중합물과 저점도 실리콘유로 이루어진 화장료용 조성물이다. 본 발명의 화장료용 조성물은 끈적임을 억제한 화장료를 조제할 수 있고, 상기 화장료용 조성물을 함유함으로써 화장 지속성의 향상이 우수하고, 펴발림성, 매끄러움 등의 감촉이 우수하며, 또한 제품의 제조가 용이하고, 보존 안정성이 우수한 화장료를 제공할 수 있다.

Claims (4)

  1. (A) 하기 화학식 1로 표시되는 비닐기 함유 오르가노폴리실록산;
    (화학식 1)
    Figure pat00025

    (상기 화학식 1에서, Rf는 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기 또는 탄소수 3~30의 퍼플루오로폴리에테르기이며, R1은 서로 독립적으로 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, R2는 서로 독립적으로 비닐기 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이며, k는 0~10의 정수이고, 단, 1 분자 중에 규소 원자에 결합된 비닐기를 2개 이상 가지며, X는 2가의 유기기이고, m은 0~200의 정수이며, n은 0~100의 정수임)
    (B) 하기 화학식 2로 표시되는 오르가노하이드로겐폴리실록산;
    (화학식 2)
    Figure pat00026

    (상기 화학식 2에서, R3은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 지방족 불포화 결합을 갖지 않는 1가 탄화수소기이고, p는 0~10의 정수이며, 단 1 분자 중에 규소 원자에 결합된 수소 원자를 2개 이상 가지며, q는 0~200의 정수이고, r은 0~100의 정수이며, 단 화학식 1의 n 및 화학식 2의 r은 동시에 0이 되지 않으며, 화학식 1 중의 규소 원자에 결합된 비닐기 또는 화학식 2 중의 규소 원자에 결합된 수소 원자의 한쪽 이상이 3 이상이고, Rf, X, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
    (C) 하기 화학식 3으로 표시되는 편말단 반응성 오르가노폴리실록산;
    (화학식 3)
    Figure pat00027

    (상기 화학식 3에서, R4는 수소 원자 또는 비닐기이고, x는 0~100의 정수이며, R1은 상기와 동일한 기를 의미함)
    을 부가 중합시켜 수득하고, (A)~(C) 성분의 합계 질량에 대해 10 질량% 내지 30 질량%의 불소 원자를 함유하는 것을 특징으로 하는 3차원 가교 구조를 갖는 불소 함유 실리콘 중합물과,
    (D) 25 ℃에서의 동점도(動粘度)가 50 ㎟/s 이하인 저점도 실리콘유를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    미세 분말상, 페이스트상 또는 그리스상인 것을 특징으로 하는 화장료용 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화장료용 조성물을 배합하여 이루어진 것을 특징으로 하는 화장료.
  4. 제 3 항에 있어서,
    추가로 분지쇄형 실리콘 활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150088194A (ko) * 2014-01-23 2015-07-31 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 화장료
KR20180125480A (ko) * 2016-03-30 2018-11-23 가부시키가이샤 코세 메이크업 보호료

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3360600B1 (en) * 2011-11-14 2021-08-11 Inolex Investment Corporation Natural silicone replacements for silicone fluids in personal care formulations
JP6184711B2 (ja) * 2012-03-30 2017-08-23 株式会社コーセー 油性化粧料
JP6054709B2 (ja) * 2012-11-06 2016-12-27 花王株式会社 日焼け止め化粧料
JP6285196B2 (ja) * 2013-02-13 2018-02-28 株式会社コーセー 油性メークアップ化粧料
CN103992479A (zh) * 2014-05-19 2014-08-20 华东理工大学 含氟烷基的改性硅油
CN106336514B (zh) * 2016-08-29 2019-05-17 太仓中化环保化工有限公司 一种多乙烯基全氟聚醚氟硅油及其制备方法
CN106832294B (zh) * 2017-01-21 2019-10-29 苏州逸微光电科技有限公司 一种新型氟硅聚合物以及表面处理剂
CN110234312B (zh) * 2017-02-02 2023-01-03 信越化学工业株式会社 凹凸修补化妆料
EP3766478A4 (en) * 2018-03-16 2022-01-19 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. COSMETIC PRODUCT
CN108542802B (zh) * 2018-04-16 2019-07-19 广州市宝琳化妆品有限公司 一种化妆用透明粉饼及其制备方法
JP2020111542A (ja) * 2019-01-15 2020-07-27 株式会社 資生堂 日焼け止め化粧料

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3159662A (en) 1962-07-02 1964-12-01 Gen Electric Addition reaction
US3159601A (en) 1962-07-02 1964-12-01 Gen Electric Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes
US3775452A (en) 1971-04-28 1973-11-27 Gen Electric Platinum complexes of unsaturated siloxanes and platinum containing organopolysiloxanes
US4340709A (en) * 1980-07-16 1982-07-20 General Electric Company Addition curing silicone compositions
JPS5888119A (ja) 1981-11-19 1983-05-26 Toa Nenryo Kogyo Kk 合成結晶性アルミノ珪酸塩
JP2582275B2 (ja) 1987-10-15 1997-02-19 株式会社コーセー シリコーンゲル組成物並びにこれを含有する化粧料
JPH086035B2 (ja) 1988-01-26 1996-01-24 株式会社コーセー シリコーンゲル組成物並びにこれを含有する化粧料
US5266321A (en) * 1988-03-31 1993-11-30 Kobayashi Kose Co., Ltd. Oily make-up cosmetic comprising oil base and silicone gel composition
JPH0655897B2 (ja) * 1988-04-22 1994-07-27 信越化学工業株式会社 シリコーン組成物の製造方法
JPH0655897A (ja) 1992-08-06 1994-03-01 Sekisui Chem Co Ltd アプリケーションテープ及びそれを用いた装飾用粘着シートの保護方法
FR2757380B1 (fr) 1996-12-24 1999-01-29 Oreal Composition de maquillage ou de soin, sans transfert, contenant un organopolysiloxane et une phase grasse
JP3875439B2 (ja) * 1999-01-25 2007-01-31 花王株式会社 フッ素変性シリコーン重合体
JP2000327528A (ja) 1999-05-17 2000-11-28 Kao Corp 化粧料
JP3850202B2 (ja) 1999-06-11 2006-11-29 信越化学工業株式会社 化粧料
JP4341871B2 (ja) 2000-05-31 2009-10-14 信越化学工業株式会社 シリコーン重合物及びシリコーン組成物並びにそれを用いた化粧料
GB0112525D0 (en) * 2001-05-23 2001-07-11 Dow Corning Polysiloxanes and gels and pastes containing them
JP2005314372A (ja) * 2004-03-31 2005-11-10 Kose Corp 水中油型メイクアップ化粧料
JP4907884B2 (ja) 2004-03-31 2012-04-04 株式会社コーセー 化粧料
JP2008115358A (ja) 2007-06-18 2008-05-22 Shin Etsu Chem Co Ltd オルガノポリシロキサン及びその製法ならびに該オルガノポリシロキサンを含む化粧料組成物
JP5233507B2 (ja) 2008-08-25 2013-07-10 沖電気工業株式会社 媒体検知装置
JP5046405B2 (ja) 2010-03-05 2012-10-10 信越化学工業株式会社 含フッ素オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150088194A (ko) * 2014-01-23 2015-07-31 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 화장료
KR20180125480A (ko) * 2016-03-30 2018-11-23 가부시키가이샤 코세 메이크업 보호료

Also Published As

Publication number Publication date
JP5273743B2 (ja) 2013-08-28
JP2011184334A (ja) 2011-09-22
US20110217250A1 (en) 2011-09-08
EP2431022A3 (en) 2012-12-12
KR101806546B1 (ko) 2018-01-10
EP2431022B1 (en) 2017-02-22
US8574557B2 (en) 2013-11-05
CN102188337A (zh) 2011-09-21
EP2431022A2 (en) 2012-03-21
CN102188337B (zh) 2014-03-12

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