KR20100017162A - 광학 소자 유지 장치, 렌즈 배럴 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 - Google Patents

광학 소자 유지 장치, 렌즈 배럴 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

광학 소자 유지 장치(29)는, 렌즈(28)의 외주측 부분을 덮는 원 환상의 진동 감쇠판(41)과, 그 진동 감쇠판을 렌즈(28)의 표면에 대하여 비접촉의 상태로 프레임체 상에 고정하는 제진 합금으로 이루어지는 접속 부재(42)를 구비한다. 진동 감쇠판(41)과, 그 진동 감쇠판과 렌즈(28)의 표면 사이에 형성된 간극(C) 내에 존재하는 질소 가스와 스퀴즈 필름 댐퍼를 구성한다.

Description

광학 소자 유지 장치, 렌즈 배럴 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법{OPTICAL ELEMENT HOLDING DEVICE, LENS BARREL, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은, 예컨대, 렌즈, 미러 등의 광학 소자를 유지(holding)하기 위한 광학 소자 유지 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 적어도 하나의 광학 소자를 갖는 렌즈 배럴에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 예컨대 반도체 소자, 액정 표시 소자, 박막 자기 헤드 등의 디바이스의 제조 공정에서 사용되는 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.
본원은, 2007년 4월 23일에 출원된 일본 특허 출원 제 2007-113049 호에 근거하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
이 종류의 노광 장치에 있어서의 광학계는, 렌즈, 미러 등의 복수의 광학 소자를 갖는다. 이 종류의 노광 장치에서는, 광학계의 조립시, 보존시, 반송시 또한 노광 장치의 동작시에 있어서, 온도 변화나, 외부로부터의 충격 등에 의해서 생기는 각 광학 소자의 변형을 될 수 있는 한 작게 해야 한다.
그래서, 노광 장치의 광학계 중, 특히, 투영 광학계의 각 광학 소자(예컨대, 렌즈)는, 일반적으로 유지 장치를 거쳐서 렌즈 배럴 내에 수용되어 있다. 이 유지 장치는, 렌즈 셀을 갖고, 그 렌즈 셀은, 투영 광학계의 조립중에 생기는 진동 문제(예컨대 렌즈 배럴에 가해진 충격의 렌즈에의 전달)나, 온도 변화에 의해 생기는 렌즈와 렌즈 셀의 선 팽창 계수의 차이를 해소하도록 설계되어 있다.
최근, 현저한 고집적도화 요구에 따라, 반도체 소자의 회로 패턴이 점점 더 미세화되고 있다. 이 때문에, 반도체 소자 제조용 노광 장치에서는, 한층 더 노광 정밀도의 향상 및 고해상도화의 요구가 높아지고 있고, 광학 소자의 광학면을 양호한 상태로 유지하는 기술의 중요성이 늘어나고 있다.
이러한 유지 장치로서는, 렌즈 셀 내에 형성된 캔틸레버(cantilever) 굴곡부를 구비한 유지 장치로서, 예컨대 렌즈를 접착하기 위한 3개의 수용 위치가 그 캔틸레버 굴곡부의 위에 배치된 유지 장치가 제안되어 있다(특허 문헌 1 참조). 이 종래 구성에서는, 온도 변화에 의해 생기는 렌즈 셀 및 렌즈의 신축 및 수축을, 캔틸레버 굴곡부에 의해서 흡수하여, 렌즈가 기계적 응력에 의해 왜곡되지 않도록 되어 있다.
특허 문헌 1 : 미국 특허 제 4,733,945 호
그러나, 상기 종래 구성의 유지 장치에서는, 캔틸레버 굴곡부가 스프링이나 피벗으로서 작용하기 때문에, 캔틸레버 굴곡부의 진동 모드 주파수가 낮아, 예컨대 모터나 스테이지 등의 가동 부재의 진동에 의해서 여기되는 렌즈의 진동이 광학계의 광학 성능에 영향을 준다고 하는 문제가 있었다. 또한, 캔틸레버 굴곡부는, 진동 감쇠율도 낮기 때문에, 렌즈에 진동이 발생하면, 그 렌즈의 진동이 감쇠되지 않을 우려가 있다. 이 때문에, 광학계의 광학 성능이 불안정하게 되어, 나아가서는 노광 장치의 노광 정밀도가 저하될 우려가 있다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은, 광학 소자에 진동이 생겼을 때에, 광학 소자의 진동을 효과적으로 감쇠할 수 있는 광학 소자 유지 장치 및 렌즈 배럴을 제공한다. 또한, 본 발명은, 고집적도의 디바이스를 효율적으로 제조할 수 있는 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 실시예는, 도 1 ~ 도 9에 나타낸 바와 같이 이하의 구성을 채용하고 있다.
본 발명의 1 실시예의 광학 소자 유지 장치는, 광학 소자(28)를 유지하는 광학 소자 유지 장치(29)로서, 상기 광학 소자의 표면 중, 적어도 일부의 표면에 대하여, 비접촉의 상태로 설치되어, 상기 광학 소자에 생긴 진동을 감쇠시키는 진동 감쇠 부재(41)를 갖는다.
이 실시예에 의하면, 광학 소자에 진동이 생겼다고 해도, 광학 소자의 진동은, 광학 소자에 대하여 비접촉의 상태로 설치된 진동 감쇠 부재에 의해서, 감쇠된다. 더구나, 진동 감쇠 부재는, 광학 소자의 표면에 대하여 비접촉의 상태로 설치되어 있기 때문에, 진동 감쇠 부재의 배치에 의해서 광학 소자의 표면 상태가 변화되는 일이 없다. 따라서, 광학 소자의 광학 성능을 양호하게 유지할 수 있다.
본 발명의 1 실시예의 광학 소자 유지 장치는, 광학 소자를 유지하는 광학 소자 유지 장치로서, 상기 광학 소자의 표면 중, 적어도 일부의 표면과의 사이에, 스퀴즈(squeeze) 필름 작용을 발생시키는 제진(制振) 기구(41, C)를 갖는다.
이 실시예에 의하면, 광학 소자와 제진 기구 사이에 발생하는 스퀴즈 필름 작용에 의해 매우 간단한 구성으로 광학 소자에 생기는 진동을 감쇠시킬 수 있어, 광학 소자의 광학 성능을 양호하게 유지할 수 있다.
한편, 본 발명을 알기 쉽게 설명하기 위해서 도면의 부호를 병기하여 설명했지만, 본 발명이 실시예에 한정되는 것이 아니라, 특허청구의 범위에 규정되는 것은 말할 필요도 없다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예의 노광 장치를 나타내는 개략 구성도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예의 광학 소자 유지 장치를 나타내는 단면도.
도 3은 도 2의 광학 소자 유지 장치의 일부 절단 분해 사시도.
도 4는 도 3의 광학 소자 유지 장치의 유지부의 확대도.
도 5는 도 3의 광학 소자 유지 장치의 장착면(seating surface) 블록 및 지지 블록의 확대도.
도 6은 도 2의 광학 소자 유지 장치를 나타내는 평면도.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예의 광학 소자 유지 장치를 나타내는 단면도.
도 8은 디바이스의 제조예의 흐름도.
도 9는 반도체 디바이스인 경우의 기판 처리에 관한 상세한 흐름도.
이하, 본 발명을 구체화한 실시예를 도면에 따라 설명한다.
(제 1 실시예)
이하에, 본 발명의 노광 장치와 광학 소자 유지 장치와 렌즈 배럴은, 도 1 ~ 도 6에 나타낸 바와 같이, 예컨대 반도체 소자 제조용의 노광 장치, 렌즈 등의 광학 소자를 유지하는 광학 소자 유지 장치, 투영 광학계를 수용하는 렌즈 배럴으로서 구체화할 수 있다.
도 1은, 노광 장치(21)의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 노광 장치(21)는, 광원(22)과, 조명 광학계(23)와, 레티클(R)(포토 마스크라도 좋다)을 유지하는 레티클 스테이지(24)와, 투영 광학계(25)와, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 스테이지(26)로 구성되어 있다.
광원(22)은, 예컨대 ArF 엑시머 레이저 광원으로 이루어져 있다. 조명 광학계(23)는, 도시하지 않는 릴레이 렌즈와, 플라이아이 렌즈 또는 로드 렌즈 등의 광학 적분기(optical integrator)와, 콘덴서 렌즈를 포함하는 각종 렌즈계 및 개구 조리개 등을 포함하여 구성되어 있다. 그리고, 광원(22)으로부터 출사되는 노광광(EL)이, 이 조명 광학계(23)를 통과함으로써, 레티클(R) 상의 패턴을 균일하게 조명하도록 조정된다.
레티클 스테이지(24)는, 조명 광학계(23)의 아래쪽, 즉, 후술하는 투영 광학 계(25)의 물체면 측에서, 레티클(R)의 탑재면이 투영 광학계(25)의 광축 방향과 거의 직교하도록 배치되어 있다. 투영 광학계(25)는, 렌즈 배럴(27) 내에 복수의 광학 소자(예컨대, 렌즈(28))를, 광학 소자 유지 장치(29)를 거쳐서 수용하고 있다. 웨이퍼 스테이지(26)는, 투영 광학계(25)의 상면측에서, 웨이퍼(W)의 탑재면이 투영 광학계(25)의 광축 방향과 교차하도록 배치되어 있다. 그리고, 노광광(EL)으로 조명된 레티클(R) 상의 패턴의 상이, 투영 광학계(25)를 통해서 소정의 축소 배율로 축소된 상태에서, 웨이퍼 스테이지(26) 상의 웨이퍼(W)에 투영 전사되도록 되어 있다.
또한, 본 실시예에 있어서의 노광 장치는, 렌즈 배럴(27)의 가장 웨이퍼(W) 측에 배치되는 대물 렌즈(예컨대, 평행 평판)(28b)(도 1 참조)와 웨이퍼(W) 사이에, 액체(AQ)를 공급하고, 이 액체를 통해서 웨이퍼(W)를 노광하는 액침형의 노광 장치이다. 또한, 렌즈 배럴(27)에는, 도시하지 않은 가스 공급 기구가 설치되고, 렌즈 배럴(27) 내에는, 이 가스 공급 기구로부터 연속적으로 공급되는 불활성 가스(예컨대, 질소 가스)에 의해서, 가스 분위기가 형성되어 있다.
다음에, 광학 소자 유지 장치(29)의 상세 구성에 대하여 설명한다.
도 2는, 광학 소자 유지 장치(29)를 나타내는 단면도이다. 한편, 도 2는, 후술하는 유지 부재를 포함하지 않는 부분의 단면을 나타내고 있다. 도 2의 예로서는, 렌즈(28)는, 합성 석영이나 형석 등의 초재(硝材)로 이루어지고, 원 형상(도 3 참조)이다. 렌즈(28)의 주연부에는 플랜지부(28a)가 형성되어 있다. 광학 소자 유지 장치(29)는, 금속 재료의 가공에 의해서 원 환상으로 형성된 프레임체(45)를 갖고 있다. 그리고, 렌즈 배럴(27)은, 이 프레임체(45)가 복수 겹쳐 구성된다. 프레임체(45)의 내주부에는, 렌즈(28)의 플랜지부(28a)를 유지하는 유지부(44)(도 3 참조)가 고정되어 있다.
도 3은, 유지부(44)를 설명하기 위한 사시도이며, 도 4는, 유지부(44)를 확대한 도면이다. 광학 소자 유지 장치(29)는, 프레임체(45)와, 그 프레임체(45) 상에 등각도 간격을 두고 배열되고, 또한 렌즈(28)의 플랜지부(28a)를 유지하는 3개의 유지부(44)로 구성되어 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 유지부(44)는, 기반 부재(46)와, 클램프 부재(47)를 구비한다. 프레임체(45)의 상면에는 클램프 부재(47)가 부착되는 부착홈(48)이 등각도 간격을 두고 형성되어 있다. 또한, 부착홈(48)의 내주면에는, 기반 부재(46)의 후술하는 장착면 블록(50a)을 수용하기 위한 수용 오목부(60)가 형성되어 있다.
기반 부재(46)는, 프레임체(45)에 형성된 부착홈(48)와는 반대측의 표면, 즉 프레임체(45)의 다른 쪽의 면에 고정되어 있다. 기반 부재(46)에는, 렌즈(28)의 플랜지부(28a)의 한쪽의 플랜지면에 맞물리는 2개의 장착면(49)을 갖는 장착면 블록(50a)과, 그 장착면 블록(50a)의 자세를 조정가능하게 지지하는 장착면 블록 지지 기구(51)가 형성되는 지지 블록(50b)을 구비하고 있다.
장착면 블록(50a)은, 그 긴 방향이 렌즈(28)의 접선 방향을 따라 배치된다. 장착면(49)은 장착면 블록(50a)의 긴 방향의 양단부에 형성되어 있다. 또한, 장착면(49)은, 장착면 블록(50a)의 표면으로부터 돌출하도록 형성되어 있다.
도 5는, 장착면 블록(50a) 및 지지 블록(50b)을 나타내는 사시도이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 장착면 블록(50a)과 지지 블록(50b) 사이, 및 지지 블록(50b)에는, 렌즈(28)의 직경 방향(도 4의 X축 방향)으로 관통하는 복수의 슬릿(53)이 형성되어 있다. 또한, X 방향의 + 방향으로부터의 음각 가공과, X 방향의 - 방향으로부터의 음각 가공에 의해 장착면 블록(50a)과 지지 블록(50b)의 사이, 및 지지 블록(50b)에는, 복수의 목부(55a ~ 55d)가 형성된다.
지지 블록(50b)은, 복수의 슬릿(53)에 의해, 크게 3개의 부분으로 분할되어 있다. 즉, 지지 블록(50b)은, 프레임체(45)에 고착되는 기반부(56)와, 제 1 블록(57a), 제 2 블록(58a)으로 분할된다.
그리고, 제 1 블록(57a)은, 제 1 목부(55a) 및 제 3 목부(55c)에 의해서, 제 2 블록(58a)과 기반부(56)에 고정된다. 제 1 블록(57a)은, 제 1 목부(55a) 및 제 3 목부(55c)에 의해, Y 방향(렌즈(28)의 접선 방향) 주위에 회전가능하고, 또한 Y 방향으로의 변위는 구속되도록 유지된다. 한편, 제 1 블록(57a), 제 1 목부(55a) 및 제 3 목부(55c)에 의해, 제 1 링크부(57)를 구성하고 있다.
또한, 제 2 블록(58a)은, 제 2 목부(55b) 및 제 4 목부(55d)에 의해서, 장착면 블록(50a)과 기반부(56)에 고정된다. 제 2 블록(58a)은, 제 2 목부(55b) 및 제 4 목부(55d)에 의해, Z 방향(렌즈(28)의 광축과 평행한 방향) 주위에 회전가능하고, 또한 Z 방향으로의 변위는 구속되도록 유지된다. 한편, 제 2 블록(58a), 제 2 목부(55b) 및 제 4 목부(55d)에 의해, 제 2 링크부(58)를 구성하고 있다. 그리고, 장착면 블록(50a)은, 제 4 목부(55d)에 의해서, 지지 블록(50b), 구체적으로는, 제 2 블록(58a)에 연결되어 있다. 즉, 장착면 블록(50a)은, 기반부(56)에 대하여, 제 1 링크부(57)와 제 2 링크부(58)에 의해 지지된다.
이와 같이 구성된 기반 부재(46)에 있어서, 장착면 블록(50a)은, 제 1 링크부(57) 및 제 2 링크부(58)에 의해, 기반부(56)에 대하여, X 방향, Y 방향, Z 방향 주위에 회전가능하게, 또한 Y 방향, Z 방향으로의 변위가 억제되도록 지지되어 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 클램프 부재(47)는, 클램프 본체(62)와 패드 부재(61)를 갖는다. 클램프 본체(62)는, 가압면 블록(63)과, 그 가압면 블록(63)과 일체로 형성되어, 가압면 블록(63)을 지지하기 위한 지지부(64)가 갖추어져 있다. 가압면 블록(63)의 하면의 양단에는, 장착면 블록(50a)의 장착면(49)에 대향하도록 2개의 가압면(65)이 형성되어 있다.
지지부(64)는, 아암부(66)와 부착부(67)를 갖는다. 부착부(67)와 가압면 블록(63)은 소정의 간격을 두고 떨어져 있다. 또한, 아암부(66)는, 가압면 블록(63)과 부착부(67)의 양단을 접속하고, 탄성 변형 가능하게 형성되어 있다. 그리고, 장착면 블록(50a)의 고정부(59)에, 부착부(67)를 패드 부재(61)를 거쳐서, 볼트(68)에 의해 체결함으로써, 클램프 부재(47)가 장착면 블록(50a)에 대하여 고정된다.
패드 부재(61)는, 고정부(59)와 부착부(67) 사이에 협지되는 협지부(71)와, 가압면(65)과 렌즈(28)의 플랜지부(28a) 사이에 장착되는 작용부(72)와, 협지부(71)와 작용부(72)를 연결함과 아울러 탄성 변형가능한 박판 형상의 박판부(73) 로 이루어져 있다.
그리고, 이와 같이 구성된 클램프 부재(47)는, 볼트(68)를 단단히 조이는 것에 의해, 아암부(66)가 탄성 변형하고, 가압면 블록(63)의 가압면(65)에 장착면 블록(50a) 측으로의 가압력을 부여한다. 이 가압력은, 패드 부재(61)의 작용면(74)을 거쳐서, 렌즈(28)의 플랜지부(28a)에 작용한다. 이것에 의해, 렌즈(28)의 플랜지부(28a)는, 장착면 블록(50a)의 장착면(49)과, 가압면 블록(63)의 가압면(65)에 의해 유지된다.
이와 같이 구성된 유지부(44)가, 렌즈(28)의 외주부의 3개소에 설치되어 있다. 즉, 렌즈(28)는, 제 1 링크부(57)와 제 2 링크부(58)에 의해 구성되는 3개의 링크 기구에 의해서, 운동학적으로 유지되어 있다. 한편, 제 1 링크부(57)와 제 2 링크부(58)는, 상술한 음각 가공에 의해, 굴곡부 구조로 구성되어 있다.
그리고, 본 실시예에서는, 광학 소자 유지 장치(29)에 광학 소자의 진동을 감쇠시키는 구성을 채용했다.
도 6은 광학 소자 유지 장치(29)의 평면도이다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 광학 소자 유지 장치(29)에는 진동 감쇠 부재가 설치되어 있다. 본 실시예의 진동 감쇠 부재는, 예컨대 렌즈(28)의 외주측 부분을 덮는 원 환상의 진동 감쇠판(41)이다. 이 진동 감쇠판(41)은, 렌즈(28)에 있어서의 노광광(EL)의 입사 영역의 외측에, 비접촉의 상태, 즉, 렌즈의 표면에 대하여, 소정의 간격(제어된 거리)을 두고 떨어진 상태로 배치되어 있다. 노광광(EL)은, 진동 감쇠판(41)의 개구부(41a)를 통과하여 렌즈(28)에 입사한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 진동 감쇠판(41)은, 노광광(EL)의 입사측에서의 프레임체(45)의 표면(45a)에, 제진 합금(制振合金)을 갖는 접속 부재(42)를 거쳐서 고정되어 있다. 제진 합금은, 예컨대, M2052(Mn-20%Cu-5%Ni-2%Fe), 사이렌탈로이(12%Cr-3%Al-Fe), 소노스톤 합금(Mn-37%Cu-4%Al-3%Fe-2%Ni), 인크라무트 합금(Cu-45%Mn-2%Al) 등이다. 한편, 도 2에 있어서는, 이해를 쉽게 하기 위해서, 렌즈(28)의 표면과 진동 감쇠판(41) 사이의 간극(C)을 크게 강조하여 도시하고 있지만, 간극(C)은 실제로는 수 ㎛ 정도, 예컨대, 2㎛ ~ 20㎛, 또는 2㎛ ~ 10㎛, 또는 2㎛ ~ 3㎛의 매우 작은 간극이다. 한편, 이 간극(C)은, 렌즈(28)의 표면에 대향하는 진동 감쇠판(41)의 면적이나, 대상으로 하는 진동 주파수를 고려하여 정할 수 있다.
이와 같이 진동 감쇠판(41)을 렌즈(28)의 표면을 따라 또한 그 표면으로부터 제어된 거리만큼 떨어진 상태로 배치함으로써, 진동 감쇠판(41)과 렌즈(28) 사이에 간극(C)이 형성된다. 그 간극(C) 내에는, 투영 광학계(25) 내에 공급된 질소 가스가 존재한다.
진동 감쇠판(41)은, 도 2에 일부 확대 단면도로서 나타낸 바와 같이, 2장의 박판 형상의 금속판(43)과, 그들의 금속판(43)의 사이에 개재되는 점탄성체(43a)가 적층된 제진판(적층체)으로 구성되어 있다. 한편, 금속판(43)과 점탄성체(43a)는, 각각 제진 재료로서 작용한다.
점탄성체(43a)는, 예컨대, 천연 또는 합성 고무, 수지(예컨대, 점탄성을 갖는 고분자 폴리에틸렌 수지 등), 또는, 겔(gel) 형상 수지(예컨대, 실리콘 그리스 등)이다. 여기서, 금속판(43)은, 예컨대, 강철(Steel), 또는 스테인레스 강판 등으로 형성하고 있지만, 노광 장치(21)에서 사용하는 경우에는, 렌즈 배럴(27) 내의 분위기를 오염시키는 불순물의 발생이 억제되도록, 세정하는 것이 바람직하다. 또한, 점탄성체(43a)에 관해서도, 렌즈 배럴(27) 내에 표출하는 부분은, 예컨대 불소계의 실리콘 그리스 등의 아웃 가스 발생이 적은 시일재(43b)로 덮는 것이 바람직하다.
다음에, 이 진동 감쇠판(41)의 작용에 대하여 설명한다.
외부 요동의 영향을 받아, 렌즈(28)에 진동이 생기면, 렌즈(28)의 표면과 진동 감쇠판(41) 사이의 간극(C)의 크기가 변화되어, 그 간극(C) 내에 존재하는 질소 가스에 압력의 변화가 발생한다. 여기서, 간극(C) 내에 존재하는 질소 가스는, 질소 가스 자체가 가지는 점성에 의해서, 간극(C) 내에 발생한 압력의 변화에 저항하고, 간극(C) 밖으로의 유출에 저항한 상태가 생긴다. 이 때문에, 렌즈(28)와 진동 감쇠판(41) 사이의 간극(C) 내에 존재하는 질소 가스가 댐퍼로서 동작하고, 렌즈(28)에 생긴 진동을 감쇠시키는 스퀴즈 필름 작용이 발생하게 된다. 즉, 렌즈(28)의 표면에 대하여, 비접촉 상태로 진동 감쇠판(41)을 설치하는 것에 의해, 렌즈(28)와 진동 감쇠판(41) 사이에 존재하는 질소 가스가, 스퀴즈 필름 댐퍼로서 기능하게 된다.
또한, 진동 감쇠판(41)이, 상기 진동 감쇠판 자체의 진동을 감쇠하는 제진 재료로 형성되어 있기 때문에, 진동 감쇠판(41) 자체가 진동하기 어렵다. 가령 어떠한 원인으로 진동 감쇠판(41)에 진동이 생겼다고 해도, 그 진동은 즉시 감쇠되도 록 되어 있다. 또한, 진동 감쇠판(41)은, 제진 합금제의 접속 부재(42)에 의해 프레임체(45)에 고정되어 있기 때문에, 프레임체(45)의 진동이 진동 감쇠판(41)에 전달되지 않는다. 만약에 프레임체(45)의 진동이 진동 감쇠판(41)에 전해졌다고 해도, 그 진동은, 렌즈(28)의 광학 성능에 영향을 주지 않는다． 진동 감쇠 부재와, 그 진동 감쇠 부재에 의해서 형성되는 간극(C)과, 그 간극(C)을 채우는 유체는, 제진 기구를 구성한다.
본 실시예에 의하면, 이하의 효과를 얻을 수 있다.
(1) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)의 표면의 일부에 대하여, 비접촉의 상태로 진동 감쇠판(41)이 설치되어 있다. 이 때문에, 렌즈(28)에 진동이 생겼다고 해도, 그 진동은, 진동 감쇠판(41)과 렌즈(28) 사이의 유체의 압력 변동에 의해 감쇠된다. 더구나, 진동 감쇠판(41)은, 렌즈(28)의 표면에 대하여 직접 접촉하는 일없이 소정 간격 떨어져 설치되어 있기 때문에, 진동 감쇠판(41)의 배치에 의해서 렌즈(28)의 표면 상태가 변화되는 것도 없다. 따라서, 렌즈(28)의 광학 성능을 양호하게 유지할 수 있다.
(2) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 진동 감쇠판(41)이 렌즈(28)의 표면 중, 노광광(EL)이 입사하는 입사 영역의 외측을 덮도록 설치되어 있다. 이 때문에, 노광광(EL)의 일부가 진동 감쇠판(41)에 의해 차폐되는 일없이, 노광광(EL)이 모두 렌즈(28) 내에 입사될 수 있다. 이 때문에, 렌즈(28)에 있어서의 충분한 투과 광량을 확보하여, 레티클(R) 상의 패턴의 상을 웨이퍼(W) 상에 정밀도 높게 전사할 수 있다.
(3) 이 진동 감쇠판(41)은, 점탄성체(43a)를 포함하는 제진판에 의해 구성되어 있기 때문에, 진동 감쇠판(41) 자체가 진동하기 어려움과 아울러, 자체에 발생한 진동도 즉시 감쇠되도록 되어 있다. 따라서, 진동 감쇠판(41)의 진동의 영향이 렌즈(28)에 미치는 일이 없다. 만약에 진동 감쇠판(41) 자체가 진동했다고 해도, 그 진동은, 렌즈(28)의 광학 성능에 영향을 주는 것이 아니다. 따라서, 진동 감쇠판(41)은 스퀴즈 필름 댐퍼를 형성하기 위한 강체로서의 역할을 하게 된다. 이 때문에, 렌즈(28)에 생긴 진동을 더 확실히 감쇠시킬 수 있다.
(4) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)와 진동 감쇠판(41) 사이에 존재하는 질소 가스에 의해, 렌즈(28)의 진동을 감쇠시키는 스퀴즈 필름 작용이 발생한다. 그리고, 렌즈(28)의 진동에 응답하여 발생하는 질소 가스의 압력 변동에 의해 렌즈(28)의 진동을 감쇠시킬 수 있다. 이 질소 가스는 렌즈 배럴(27)의 내부 분위기를 구성하는 유체(이하, 분위기 유체)이며, 매우 간단한 구성으로 렌즈(28)의 진동을 감쇠시킬 수 있음과 아울러, 렌즈(28)의 광학 성능을 양호하게 유지할 수 있다.
(5) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 프레임체(45)와 진동 감쇠판(41) 사이에, 제진 작용을 갖는 접속 부재(42)가 설치되어 있다. 이 때문에, 진동 감쇠판(41)에 생긴 진동이 프레임체(45)에 전달되는 것이 억제된다.
(6) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)가 제 1 링크부(57) 및 제 2 링크부(58)를 갖는 3개의 유지부(44)에 의해 유지되어 있다. 이 때문에, 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)를 운동학적으로 유지하고 있기 때문에, 렌 즈(28)의 광학면의 변형을 억제할 수 있지만, 진동 모드 주파수가 저하되어, 렌즈(28)가 진동의 영향을 쉽게 받게 되는 경우가 있다. 이것에 비해, 진동 감쇠판(41)을 설치하는 것에 의해, 렌즈(28)와 진동 감쇠판(41) 사이의 간극에 스퀴즈 필름 작용이 생긴다. 이 스퀴즈 필름 작용에 의해, 렌즈(28)의 진동을 감쇠시킬 수 있다.
(7) 이 렌즈 배럴(27)에서는, 진동 감쇠판(41)을 갖는 광학 소자 유지 장치(29)를 적층하는 것으로 투영 광학계(25)의 렌즈 배럴(27)이 구성되어 있다. 이 때문에, 렌즈 배럴(27) 내의 각 렌즈(28)의 진동을 감쇠시킬 수 있어, 투영 광학계(25)의 광학 성능을 높게 유지할 수 있다.
(8) 이 노광 장치(21)에서는, 렌즈(28)가 진동 감쇠판(41)을 갖는 광학 소자 유지 장치(29)에 유지되어 있다. 이 때문에, 렌즈(28)의 광학 성능을 더 높게 유지할 수 있어, 노광 장치(21)의 노광 정밀도를 향상시킬 수 있다.
(9) 이 노광 장치(21)에서는, 웨이퍼(W) 상에 패턴을 형성하는 투영 광학계(25)의 렌즈(28)가 진동 감쇠판(41)을 갖는 광학 소자 유지 장치(29)로 유지되어 있다. 노광 장치(21)에 있어서는, 투영 광학계(25)의 광학 성능이 노광 정밀도를 크게 좌우하는 요인의 하나이며, 투영 광학계(25)의 광학 성능이 향상되기 때문에, 패턴의 전사 정밀도를 더 향상시킬 수 있다.
(제 2 실시예)
다음에, 제 2 실시예의 광학 소자 유지 장치(29)에 대하여, 상기 제 1 실시예와 다른 부분을 중심으로 도 8에 근거하여 설명한다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 이 제 2 실시예의 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)의 표면과 진동 감쇠판(41) 사이의 간극(C)에, 분위기 유체(도시한 예에서는 질소 가스)보다 점도가 높은 유체(예컨대, 순수, 불소계의 실리콘 그리스등)(F)가 충전되어 있다.
본 실시예에 의하면, 상기 (1) ~ (9)의 효과에 더하여 이하에 나타내는 효과를 얻을 수 있다.
(10) 이 광학 소자 유지 장치(29)에서는, 렌즈(28)의 표면과 진동 감쇠판(41) 사이의 간극(C)에, 질소 가스보다 고점도의 유체(F)가 충전되어 있기 때문에, 간극(C) 내의 유체(F)의 점성에 의해서, 스퀴즈 필름 작용이 더 효과적으로 발휘된다. 이 때문에, 렌즈(28)의 진동 감쇠 효과를 더 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 실시예는 이하와 같은 별도의 실시예로 변경할 수도 있다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 금속판과 점탄성체의 적층체로 구성했지만, 1장의 금속판으로 구성할 수도 있다. 이 경우, 1장의 금속판은, 렌즈(28)와의 사이의 간극(C) 내에 존재하는 유체가, 렌즈(28)에 생긴 진동을 감쇠하기 위해서 필요한 두께(강성)를 갖고 있으면 좋다. 또한, 접속 부재(42)를 형성하는 제진 합금을 진동 감쇠판(41)에 사용할 수 있다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 렌즈(28)의 입사면측에 비접촉의 상태로 설치했지만, 렌즈(28)의 사출면측, 또는 렌즈(28)의 측면, 렌즈(28)의 주연부에 형성된 플랜지부(28a)에 비접촉의 상태로 설치하더라도 좋다.
각 실시예에 있어서의 광학 소자 유지 장치(29)는, 렌즈(28)를 운동학적, 또 는 6 자유도로 유지하고 있지만, 운동학적, 또는 6 자유도의 유지에 한정되는 것이 아니다. 예컨대, 렌즈(28)를 3 자유도나, 5 자유도로 유지하는 유지 장치이더라도 좋다.
각 실시예의 유지부(44)는, 프레임체(45)에 대하여 등간격을 두고 설치되어 있지만, 부등 간격이더라도 좋다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)의 금속판(43)을 강철로 형성했지만, 불순물의 발생이 억제되도록 세정 처리를 실시하거나, 코팅 처리를 실시한 알루미늄 등의 경금속을 사용할 수도 있다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 프레임체(45)에 고정했지만, 유지부(44)에 고정하더라도 좋다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 렌즈(28)의 표면의 외주 부분에 있어서의 모든 가장자리를 덮도록 설치했지만, 진동 감쇠판(41)에, 예컨대 노치부를 설치하는 것 등에 의해 렌즈(28)의 원주 방향의 일부만을 덮도록 할 수도 있다. 이와 같이 구성한 경우, 진동 감쇠판(41)을 설치하는 것에 의한 중량의 증가를 억제할 수 있다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 렌즈(28)의 1면측에만 설치했지만, 렌즈(28)의 양면에 대향하도록 설치하더라도 좋다. 이와 같이 구성한 경우, 렌즈(28)의 진동 감쇠 효과를 더 높일 수 있다.
각 실시예에 있어서, 진동 감쇠판(41)이 개구 조리개을 겸하는 구성으로 하여도 좋다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 원 환상으로 형성했지만, 진동 감쇠판(41)의 개구부(41a)의 형상을, 렌즈(28)에 있어서의 노광광(EL)의 입사 영역의 형상에 대응하여, 예컨대 대략 사각형상을 이루도록 할 수도 있다.
각 실시예에서는, 진동 감쇠판(41)을 접속 부재(42)를 거쳐서 프레임체(45)에 고정했지만, 직접, 프레임체(45)에 고정할 수도 있다.
각 실시예에서는, 렌즈 배럴(27) 내의 분위기 유체를 질소 가스로 했지만, 분위기 유체를, 예컨대 공기나, 헬륨, 아르곤, 크립톤, 라돈, 네온, 제논 등의 불활성 가스 등으로 하여도 좋다.
각 실시예에서는, 본 발명의 광학 소자 유지 장치를, 렌즈(28)를 유지하는 광학 소자 유지 장치(29)로 구체화했다. 이것에 대하여, 본 발명의 광학 소자 유지 장치는, 예컨대 미러, 하프 미러, 평행 평판, 프리즘, 프리즘 미러, 로드 렌즈, 플라이아이 렌즈, 위상차판, 조리개판 등의 다른 광학 소자를 유지하는 광학 소자 유지 장치로 구체화할 수도 있다.
광학 소자 유지 장치는, 실시예의 노광 장치(21)의 투영 광학계(25)에 있어서의 횡 설치 타입의 렌즈(28)의 유지 구성에 한정되지 않는다. 예컨대 노광 장치(21)의 조명 광학계(23)에 있어서의 광학 소자의 유지 구성, 종 설치 타입의 광학 소자의 유지 구성으로 구체화할 수도 있다. 또한, 다른 광학 기계, 예컨대 현미경, 간섭계 등의 광학계에서의 광학 소자의 유지 구성으로 구체화할 수도 있다.
본 실시예의 액침 노광 장치에 있어서의 액체(AQ)로서는, 물(순수), 불소계 액체, 데카린(C10H18)을 이용할 수 있다.
또, 광학 소자 유지 장치는, 액침 노광 장치에 한정되지 않고, 투영 광학계와 웨이퍼 사이의 소정의 기체(공기, 불활성 가스 등)로 채워진 노광 장치에도 적용하는 것이 가능하다. 또한, 투영 광학계를 이용하는 일없이, 마스크와 기판을 밀접시켜 마스크의 패턴을 노광하는 콘택트 노광 장치, 마스크와 기판을 근접시켜 마스크의 패턴을 노광하는 근접성(Proximity) 노광 장치의 광학계에도 적용할 수 있다. 또한, 투영 광학계로서는, 전굴절 타입에 한정되지 않고, 반사 굴절 타입, 전반사 타입이더라도 좋다.
또한, 본 발명의 노광 장치는, 축소 노광형의 노광 장치에 한정되는 것이 아니라, 예컨대 등배 노광형, 확대 노광형의 노광 장치이더라도 좋다.
또한, 반도체 소자 등의 마이크로 디바이스뿐만 아니라, 광노광 장치, EUV 노광 장치, X선 노광 장치, 및 전자선 노광 장치 등에서 사용되는 레티클 또는 마스크를 제조하기 위해서, 마더 레티클로부터 유리 기판이나 실리콘 웨이퍼 등에 회로 패턴을 전사하는 노광 장치에도 본 발명을 적용할 수 있다. 여기서, DUV(심 자외)나 VUV(진공 자외) 광 등을 이용하는 노광 장치에서는 일반적으로 투과형 레티클이 사용되고, 레티클 기판으로서는, 석영 유리, 불소가 도핑된 석영 유리, 형석, 불화마그네슘, 또는 수정 등이 사용된다. 또한, 근접성 방식의 X선 노광 장치나 전자선 노광 장치 등에서는, 투과형 마스크(스텐실 마스크, 멤브레인 마스크)가 사용되고, 마스크 기판으로서는 실리콘 웨이퍼 등이 사용된다.
물론, 반도체 소자의 제조에 사용되는 노광 장치뿐만 아니라, 액정 표시 소자(LCD) 등을 포함하는 디스플레이의 제조에 사용되어 디바이스 패턴을 유리 플레이트 상에 전사하는 노광 장치, 박막 자기 헤드 등의 제조에 사용되어, 디바이스 패턴을 세라믹 웨이퍼 등에 전사하는 노광 장치, 및 CCD 등의 촬상 소자의 제조에 사용되는 노광 장치 등에도 본 발명을 적용할 수 있다.
또한, 본 발명은, 마스크와 기판이 상대적으로 이동한 상태에서 마스크의 패턴을 기판에 전사하여, 기판을 순차적으로 스텝 이동시키는 스캐닝·스테퍼, 마스크와 기판이 정지한 상태에서 마스크의 패턴을 기판에 전사하여, 기판을 순차적으로 스텝 이동시키는 스텝·앤드·리피트 방식의 스테퍼를 물론 적용할 수 있다.
또한, 노광 장치의 광원으로서는, 예컨대 g 선(436㎚), i 선(365㎚), KrF 엑시머 레이저(248㎚), F2 레이저(157㎚), Kr2 레이저(146㎚), Ar2 레이저(126㎚) 등을 사용할 수 있다. 또한, DFB 반도체 레이저 또는 파이버 레이저로부터 발진되는 적외역, 또는 가시역의 단일 파장 레이저광을, 예컨대 에르륨(또는 에르륨과 이에르븀(yttErbium)의 양쪽)이 도핑된 파이버 증폭기로 증폭하여, 비선형 광학 결정을 이용하여 자외광으로 파장 변환한 고조파를 사용할 수 있다.
한편, 각 실시예의 노광 장치(21)는, 예컨대 다음과 같이 제조된다.
즉, 우선, 조명 광학계(23), 투영 광학계(25)를 구성하는 복수의 렌즈(28) 또는 미러 등의 광학 소자의 적어도 일부를 본 실시예의 광학 소자 유지 장치(29)로 유지하고, 이 조명 광학계(23) 및 투영 광학계(25)를 노광 장치(21)의 본체에 조립하여, 광학 조정을 행한다. 이어서, 다수의 기계 부품으로 이루어지는 웨이퍼 스테이지(26)(스캔 타입의 노광 장치의 경우는, 레티클 스테이지(24)도 포함한다)를 노광 장치(21)의 본체에 부착하여 배선을 접속한다. 그리고, 노광광(EL)의 광로 내에 가스를 공급하는 가스 공급 배관을 접속한 뒤에, 또한 종합 조정(전기 조정, 동작 확인 등)을 행한다.
여기서, 광학 소자 유지 장치(29)를 구성하는 각 부품은, 초음파 세정 등에 의해, 가공유나, 금속 물질 등의 불순물을 제거한 뒤에, 조립된다. 한편, 노광 장치(21)의 제조는, 온도, 습도나 기압이 제어되고, 또한 청정도가 조정된 클린룸 내에서 행하는 것이 바람직하다.
각 실시예에 있어서의 초재로서, 형석, 합성 석영 등을 예로 설명했지만, 불화리튬, 불화마그네슘, 불화스트론튬, 리튬-칼슘-알루미늄-플루오르화물, 및 리튬-스트론튬-알루미늄-플루오르화물 등의 결정이나, 지르코늄-바륨-란타늄-알루미늄으로 이루어지는 불화유리나, 불소를 도핑한 석영 유리, 불소에 더해서 수소도 도핑된 석영 유리, OH기를 함유시킨 석영 유리, 불소에 더해서 OH기를 함유한 석영 유리 등의 개량 석영을 이용한 경우에도, 상기 실시예의 광학 소자 유지 장치를 적용할 수 있다.
다음에, 상술한 노광 장치(21)를 리소그래피 공정에서 사용한 디바이스의 제조 방법의 실시예에 대하여 설명한다.
도 8은, 디바이스(IC나 LSI 등의 반도체 소자, 액정 표시 소자, 촬상 소자(CCD 등), 박막 자기 헤드, 마이크로 머신 등)의 제조예의 흐름도를 나타내는 도 면이다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 우선, 단계 S101(설계 단계)에 있어서, 디바이스(마이크로 디바이스)의 기능·성능 설계(예컨대, 반도체 디바이스의 회로 설계 등)를 행하고, 그 디바이스의 기능을 실현하기 위한 패턴 설계를 행한다. 계속해서, 단계 S102(마스크 제작 단계)에 있어서, 설계한 회로 패턴을 형성한 마스크(레티클(R) 등)를 제작한다. 한편, 단계 S103(기판 제조 단계)에 있어서, 실리콘, 유리 플레이트 등의 재료를 이용하여 기판(실리콘 재료를 이용한 경우에는 웨이퍼(W)로 된다. )을 제조한다.
다음에, 단계 S104(기판 처리 단계)에 있어서, 단계 S101 ~ S103에서 준비한 마스크와 기판을 사용하여, 후술하는 바와 같이, 리소그래피 기술 등에 의해서 기판 상에 실제의 회로 등을 형성한다. 이어서, 단계 S105(디바이스 조립 단계)에 있어서, 단계 S104에서 처리된 기판을 이용하여 디바이스 조립을 행한다. 이 단계 S105에는, 다이싱 공정, 본딩 공정, 및 패키징 공정(칩 봉입 등) 등의 공정이 필요에 따라 포함된다.
최후에, 단계 S106(검사 단계)에 있어서, 단계 S105에 제작된 디바이스의 동작 확인 테스트, 내구성 테스트 등의 검사를 행한다. 이러한 공정을 거친 후에 디바이스가 완성되고, 이것이 출하된다.
도 9는, 반도체 디바이스의 경우에 있어서의, 도 8의 단계 S104의 상세한 흐름의 일례를 나타내는 도면이다. 도 9에 있어서, 단계 S111(산화 단계)에서는, 웨이퍼(W)의 표면을 산화시킨다. 단계 S112(CVD 단계)에서는, 웨이퍼(W) 표면에 절연막을 형성한다. 단계 S113(전극 형성 단계)에서는, 웨이퍼(W) 상에 전극을 증착 에 의해서 형성한다. 단계 S114(이온 주입 단계)에서는, 웨이퍼(W)에 이온을 주입한다. 이상의 단계 S111 ~ S114의 각각은, 웨이퍼 처리의 각 단계의 전처리 공정을 구성하고 있고, 각 단계에서 필요한 처리에 따라 선택되어 실행된다.
웨이퍼 프로세스의 각 단계에서, 상술의 전처리 공정이 종료하면, 아래와 같이 하여 후처리 공정이 실행된다. 이 후처리 공정에서는, 우선, 단계 S115(레지스트 형성 단계)에 있어서, 웨이퍼(W)에 감광제를 도포한다. 계속해서, 단계 S116(노광 단계)에 있어서, 먼저 설명한 리소그래피 시스템(노광 장치(21))에 의해서 마스크(레티클(R))의 회로 패턴을 웨이퍼(W) 상에 전사한다. 다음에, 단계 S117(현상 단계)에서는 노광된 웨이퍼(W)를 현상하고, 단계 S118(에칭 단계)에 있어서, 레지스트가 잔존하고 있는 부분 이외의 부분의 노출 부재를 에칭에 의해 제거한다. 그리고, 단계 S119(레지스트 제거 단계)에 있어서, 에칭이 끝나고 불필요해진 레지스트를 제거한다.
이들의 전처리 공정과 후처리 공정을 반복하는 것에 의해, 웨이퍼(W) 상에 다중으로 회로 패턴이 형성된다.
이상 설명한 본 실시예의 디바이스 제조 방법을 이용하면, 노광 공정(단계 S116)에 있어서 상기의 노광 장치(21)가 사용되고, 진공 자외역의 노광광(EL)에 의해 해상력의 향상이 가능해지고, 더구나 노광량 제어를 고정밀도로 할 수 있다. 따라서, 결과적으로 최소 선폭이 O.1㎛정도인 고집적도의 디바이스를 수율좋게 생산할 수 있다.

Claims (19)

  1. 광학 소자를 유지하는 광학 소자 유지 장치로서,
    상기 광학 소자의 표면 중, 적어도 일부의 표면에 대하여, 비접촉의 상태로 설치되고, 상기 광학 소자에 생긴 진동을 감쇠시키는 진동 감쇠 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 진동 감쇠 부재는, 상기 광학 소자의 표면 중, 광이 입사하는 입사 영역과는 다른 영역의 적어도 일부를 덮도록 설치된 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 진동 감쇠 부재는, 상기 광학 소자의 측면에 대하여, 비접촉의 상태로 설치되는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 진동 감쇠 부재는, 상기 광학 소자의 상기 적어도 일부의 표면을 따라 연장됨과 아울러, 상기 적어도 일부의 표면으로부터, 소정 거리만큼 떨어져 있는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동 감쇠 부재는, 상기 진동 감쇠 부재 자체의 진동을 감쇠하는 제진 재료를 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제진 재료는, 금속과 점탄성체(viscoelastic body)를 포함하는 적층체, 또는, 금속판을 구비하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 소자와 상기 진동 감쇠 부재 사이의 유체에 의해, 상기 광학 소자에 생긴 진동을 감쇠시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 유체는, 상기 광학 소자가 노출되는 분위기를 구성하는 유체보다도 높은 점성을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 소자와 상기 진동 감쇠 부재 사이에, 스퀴즈 필름 댐퍼를 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동 감쇠 부재는, 상기 광학 소자를 유지하는 유지 부재에 부착되는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 유지 부재와 상기 진동 감쇠 부재 사이에, 제진 작용을 갖는 접속 부재를 설치한 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  12. 광학 소자를 유지하는 광학 소자 유지 장치로서,
    상기 광학 소자의 표면 중, 적어도 일부의 표면과의 사이에, 스퀴즈 필름 작용을 발생시키는 제진 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제진 기구는, 상기 광학 소자의 표면 중, 적어도 일부의 표면에 대하여, 비접촉의 상태로 설치되는 진동 감쇠 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제진 기구는, 상기 광학 소자에 생긴 진동에 응답하여, 상기 진동 감쇠 부재와 상기 광학 소자의 표면 사이의 간극에 존재하는 유체에 압력 변화를 발생시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제진 기구는, 상기 유체의 압력 변화에 의해서, 상기 광학 소자에 생긴 진동을 감쇠시키는 것을 특징으로 하는 광학 소자 유지 장치.
  16. 복수의 광학 소자를 유지하는 렌즈 배럴으로서,
    상기 광학 소자의 적어도 하나를 청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 광학 소자 유지 장치를 통해서 유지한 것을 특징으로 하는 렌즈 배럴.
  17. 복수의 광학 소자를 거친 노광광으로 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 복수의 광학 소자의 적어도 하나를 청구항 1 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 광학 소자 유지 장치를 통해서 유지한 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 복수의 광학 소자는, 상기 기판상에 패턴을 형성하는 광학계를 구성하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  19. 리소그래피 공정을 포함하는 디바이스의 제조 방법으로서,
    상기 리소그래피 공정은, 청구항 17 또는 청구항 18에 기재된 노광 장치를 이용하는 것을 특징으로 하는 디바이스의 제조 방법.
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