CN101681009B - 光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法 - Google Patents

光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法 Download PDF

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Abstract

光学元件保持装置(29)具备：覆盖透镜(28)的外周侧部分的圆环状的振动衰减板(41)、由减振合金制成的用于将该振动衰减板相对于透镜(28)的表面以非接触的状态固定于框体上的连接构件(42)。由振动衰减板(41)、在该振动衰减板与透镜(28)的表面之间所形成的间隙(C)内存在的氮气构成挤压膜减震器。

Description

光学元件保持装置、镜筒及曝光装置以及器件的制造方法
技术领域
本发明涉及用于保持例如透镜、反射镜等光学元件的光学元件保持装置。另外，本发明涉及具有至少一个光学元件的镜筒。此外，本发明涉及例如在半导体元件、液晶显示元件、薄膜磁头等器件的制造工序中所使用的曝光装置以及器件的制造方法。
本申请主张于2007年4月23日申请的日本特愿2007-113049号的优先权，并在这里援引其内容。
背景技术
此种曝光装置中的光学系统具有透镜、反射镜等多个光学元件。此种曝光装置中，在光学系统的组装时、保存时、搬送时以及曝光装置的动作时，需要尽可能地减小因温度变化、来自外部的冲击等而产生的各光学元件的变形。
所以，曝光装置的光学系统当中，特别是投影光学系统的各光学元件(例如透镜)一般来说被借助保持装置收容于镜筒内。该保持装置具有透镜单元，该透镜单元被设计为，能够消除在投影光学系统的组装中产生的振动问题(例如施加在镜筒上的冲击传递到透镜)、因温度变化而产生的透镜与透镜的线膨胀系数的差异。
近年来，伴随着日益强烈的高集成度化要求，半导体元件的电路图案日渐微细化。由此，半导体元件制造用曝光装置中，提高了对曝光精度及高分辨率化的要求，增加了光学元件的光学面保持为良好的状态的技术的重要性。
作为此种保持装置，提出过如下的保持装置，其具备在透镜单元内形成的悬臂弯曲部，将例如用于粘接透镜的3个支座位置配置于该悬臂弯曲部上(参照专利文献1)。该以往构成中，将因温度变化而产生的透镜单元及透镜的伸缩及收缩利用悬臂弯曲部吸收，使得透镜不会因机械的应力而歪曲。
专利文献1：美国专利4,733,945号
但是，上述以往构成的保持装置中，由于悬臂弯曲部作为弹簧或枢轴发挥作用，因此悬臂弯曲部的振动模式频率低，从而存在例如由电机或载台等可动构件的振动激发的透镜的振动对光学系统的光学性能产生影响的问题。另外，由于悬臂弯曲部的振动衰减率也很低，因此如果在透镜中产生振动，则该透镜的振动有可能不衰减。由此，光学系统的光学性能就会变得不稳定，进而存在曝光装置的曝光精度有可能降低的问题。
发明内容
本发明提供在光学元件中产生振动时可以有效地衰减光学元件的振动的光学元件保持装置及镜筒。另外，本发明提供可以高效地制造高集成度的器件的曝光装置及器件的制造方法。
本发明的实施方式如图1～图9所示，采用以下的构成。
本发明的一个实施方式的光学元件保持装置是保持光学元件(28)的光学元件保持装置(29)，具有振动衰减构件(41)，该振动衰减构件(41)相对于上述光学元件的表面中的至少一部分的表面，以非接触的状态设置，使上述光学元件中产生的振动衰减。
根据该实施方式，即使在光学元件中产生了振动，光学元件的振动也会被相对于光学元件以非接触的状态设置的振动衰减构件所衰减。而且，由于振动衰减构件是相对于光学元件的表面以非接触的状态设置，因此光学元件的表面状态不会随着振动衰减构件的配置而变化。所以，可以良好地保持光学元件的光学性能。
本发明的一个实施方式的光学元件保持装置是保持光学元件的光学元件保持装置，其具有减振机构(41，C)，该减振机构(41，C)与上述光学元件的表面中的至少一部分的表面之间产生挤压膜作用。
根据该实施方式，利用在光学元件和减振机构之间产生的挤压膜作用，可以用极为简单的构成使在光学元件中产生的振动衰减，可以良好地保持光学元件的光学性能。
而且，虽然为了容易理解地说明本发明，附加了附图的符号地进行说明，然而本发明当然并不限定于实施方式，而是由技术方案的范围规定。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施方式的曝光装置的概略构成图。
图2是表示本发明的第一实施方式的光学元件保持装置的剖面图。
图3是图2的光学元件保持装置的局部剖开分解立体图。
图4是图3的光学元件保持装置的保持部的放大图。
图5是图3的光学元件保持装置的支承面部件及支承部件的放大图。
图6是表示图2的光学元件保持装置的俯视图。
图7是表示本发明的第二实施方式的光学元件保持装置的剖面图。
图8是器件的制造例的流程图。
图9是为半导体器件的情况下的基板处理的详细的流程图。
具体实施方式
以下，依照附图对使本发明具体化了的实施方式进行说明。
(第一实施方式)
以下，本发明的曝光装置、光学元件保持装置和镜筒如图1～图6所示，例如可以作为半导体元件制造用的曝光装置、保持透镜等光学元件的光学元件保持装置、收容投影光学系统的镜筒来具体化。
图1是表示曝光装置21的概略构成的图。如图1所示，曝光装置21由光源22、照明光学系统23、保持标线片R(也可以是光掩模)的标线片载台24、投影光学系统25、保持晶片W的晶片载台26构成。
光源22例如由ArF准分子激光源构成。照明光学系统23包含各种透镜系统及孔径光阑等而构成，所述各种透镜系统包括未图示的中继透镜、复眼透镜或棒透镜等光学积分器、聚光透镜。这样，从光源22中射出的曝光光EL通过穿过该照明光学系统23，而被调整为将标线片R上的图案均匀地照明。
标线片载台24在照明光学系统23的下方，即，在后述的投影光学系统25的物体面侧，以将标线片R的安置面与投影光学系统25的光轴方向大致正交的方式配置。投影光学系统25在镜筒27内借助光学元件保持装置29收容多个光学元件(例如透镜28)。晶片载台26在投影光学系统25的像面侧，以晶片W的安置面与投影光学系统25的光轴方向交叉的方式被配置。这样，由曝光光EL照明的标线片R上的图案的像就会穿过投影光学系统25而以缩小为规定的缩小倍率的状态，向晶片载台26上的晶片W投影转印。
此外，本实施方式的曝光装置是如下的浸液型的曝光装置，即，向配置于镜筒27的最靠晶片W侧的物镜(例如平行平板)28b(参照图1)和晶片W之间，供给液体AQ，经由该液体使晶片W曝光。另外，在镜筒27上，设有未图示的气体供给机构，在镜筒27内，利用由该气体供给机构连续地供给的惰性气体(例如氮气)，形成气体气氛。
下面，对光学元件保持装置29的详细构成进行说明。
图2是表示光学元件保持装置29的剖面图。而且，图2表示了不包含后述的保持构件的部分的剖面。图2的例子中，透镜28由合成石英或萤石等玻璃材料制成，是圆形形状(参照图3)。在透镜28的周缘部形成有凸缘部28a。光学元件保持装置29具有利用金属材料的加工以圆环状形成的框体45。此外，镜筒27是将该框体45重叠多个而构成的。在框体45的内周部，固定有保持透镜28的凸缘部28a的保持部44(参照图3)。
图3是用于说明保持部44的立体图，图4是将保持部44放大后的图。光学元件保持装置29由框体45、在该框体45上以等角度间隔分割地配设用于保持透镜28的凸缘部28a的3个保持部44构成。
如图4所示，保持部44具备基台构件46、夹子构件47。在框体45的上面以等角度间隔分割地形成安装有夹子构件47的安装槽48。此外，在安装槽48的内周面，形成用于收容基台构件46的后述的支承面部件50a的收容凹部60。
基台构件46固定在与框体45上所形成的安装槽48相反一侧的表面，即固定于框体45的另一方的面上。在基台构件46中，具备：支承面部件50a，其具有与透镜28的凸缘部28a的一方的凸缘面卡合的2个支承面49；支承部件50b，其形成用于可调整地支承该支承面部件50a的姿势的接触面支承机构51。
支承面部件50a按其长度方向沿着透镜28的切线方向配置。支承面49形成于支承面部件50a的长度方向的两个端部。另外，支承面49按照从支承面部件50a的表面突出的方式形成。
图5是表示支承面部件50a及支承部件50b的立体图。如图5所示，在支承面部件50a与支承部件50b之间，以及在支承部件50b上，形成沿透镜28的径向(图4的X轴方向)贯穿的多个狭缝53。另外，利用从X方向的正方向的刻入加工、从X方向的负方向的刻入加工，在支承面部件50a与支承部件50b之间，以及在支承部件50b上，形成多个颈部55a～55d。
支承部件50b被多个狭缝53大致分割为3个部分。即，支承部件50b被分割为固定在框体45上的基台部56、第一部件57a、第二部件58a。
此外，第一部件57a由第一颈部55a及第三颈部55c固定于第二部件58a和基台部56上。第一部件57a被第一颈部55a及第三颈部55c按照能够绕Y方向(透镜28的切线方向)旋转并且向Y方向的位移受到约束的方式保持。而且，由第一部件57a、第一颈部55a及第三颈部55c构成第一连接部57。
另外，第二部件58a由第二颈部55b及第四颈部55d固定于支承面部件50a和基台部56上。第二部件58a被第二颈部55b及第四颈部55d按照能够绕Z方向(与透镜28的光轴平行的方向)旋转并且向Z方向的位移受到约束的方式保持。而且，由第二部件58a、第二颈部55b及第四颈部55d构成第二连接部58。此外，支承面部件50a利用第四颈部55d与支承部件50b连结，具体来说，是与第二部件58a连结。即，支承面部件50a相对于基台部56来说由第一连接部57和第二连接部58支承。
在如此构成的基台构件46中，接触面50a被第一连接部57及第二连接部58按照如下的方式支承，即，能够相对于基台部56绕着X方向、Y方向、Z方向旋转，并且向Y方向、Z方向的位移受到约束。
如图4所示，夹子构件47具有夹子主体62和垫构件61。夹子主体62装备有推压面部件63、和与该推压面部件63一体化地形成的而用于支承推压面部件63的支承部64。在推压面部件63的下面的两端，与支承面部件50a的支承面49相面对地形成2个推压面65。
支承部64具有臂部66和安装部67。安装部67与推压面部件63被隔开规定的间隔分离。另外，臂部66将推压面部件63和安装部67的两端连接，以可以弹性变形地制成。此外，通过将安装部67隔着垫构件61利用螺栓68连结在支承面部件50a的固定部59上，而将夹子构件47固定于支承面部件50a。
垫构件61由夹持在固定部59和安装部67之间的夹持部71、介于推压面65和透镜28的凸缘部28a之间的作用部72、将夹持部71和作用部72连结并且可以弹性变形的薄板状的薄板部73构成。
这样，通过将螺栓68紧入如此构成的夹子构件47的臂部66就会弹性变形，对推压面部件63的推压面65赋予朝向支承面部件50a侧的推压力。该推压力经由垫构件61的作用面74作用于透镜28的凸缘部28a上。这样，透镜28的凸缘部28a就由支承面部件50a的支承面49和推压面部件63的推压面65保持。
如此构成的保持部44设于透镜28的外周部的3个部位。即，透镜28被由第一连接部57和第二连接部58构成的3个连接机构动态地保持。而且，第一连接部57和第二连接部58被利用上述的挖入加工以弯曲(flexure)结构构成。
此外，本实施方式中，在光学元件保持装置29中采用了使光学元件的振动衰减的构成。
图6是光学元件保持装置29的俯视图。如图6所示，在光学元件保持装置29中，设有振动衰减构件。本实施方式的振动衰减构件例如为将透镜28的外周侧部分覆盖的圆环状的振动衰减板41。该振动衰减板41以非接触的状态配置于透镜28的曝光光EL的入射区域的外侧，即，以相对于透镜的表面隔开规定的间隔(受到控制的距离)的状态配置。曝光光EL穿过振动衰减板41的开口部41a射入到透镜28。
如图2所示，振动衰减板41借助具有减振合金的连接构件42固定于曝光光EL的入射侧的框体45的表面45a上。减振合金例如为M2052(Mn-20％Cu-5％Ni-2％Fe)、Silentalloy(12％Cr-3％Al-Fe)、Sonoston合金(Mn-37％Cu-4％Al-3％Fe-2％Ni)、Incramute(インクラミユ-ト)合金(Cu-45％Mn-2％Al)等。而且，图2中，为了容易理解，将透镜28的表面与振动衰减板41之间的间隙C强烈地强调描绘，然而间隙C实际上为数μm左右，例如为2μm～20μm、或者2μm～10μm、或者2μm～3μm的极小的间隙。而且，该间隙C可以考虑与透镜28的表面相面对的振动衰减板41的面积、或对象的振动频率而决定。
通过像这样将振动衰减板41沿着透镜28的表面并且以与该表面隔开受控制的距离的状态配置，并在振动衰减板41与透镜28之间形成间隙C。在该间隙C内，存在向投影光学系统25内供给的氮气。
振动衰减板41如图2中作为局部放大剖面图所示，由将2片薄板状的金属板43、和介于这些金属板43之间的粘弹性体43a层叠而成的减振板(叠层体)构成。而且，金属板43与粘弹性体43a分别作为减振材料发挥作用。
粘弹性体43a例如为天然或合成橡胶、树脂(例如具有粘弹性的高分子聚乙烯树脂等)、或凝胶状树脂(例如硅脂等)。这里，金属板43例如由钢(不锈钢)或不锈钢板等形成，然而在用于曝光装置21中的情况下，为了抑制污染镜筒27内的气氛的杂质的产生，最好加以清洗。另外，对于粘弹性体43a，也最好将向镜筒27内露出的部分用例如氟系的硅脂等产生漏气少的密封材料43b覆盖。
下面，对该振动衰减板41的作用进行说明。
当受到扰动的影响，在透镜28中产生振动时，透镜28的表面与振动衰减板41之间的间隙C的大小就会变化，在存在于该间隙C内的氮气中产生压力的变化。这里，存在于间隙C内的氮气利用氮气本身所具有的粘性，抵抗在间隙C内产生的压力的变化，形成抵抗向间隙C外流出的状态。由此，存在于透镜28与振动衰减板41之间的间隙C内的氮气就作为减震器发挥作用，从而产生使透镜28中产生的振动衰减的挤压膜作用。即，通过相对于透镜28的表面以非接触状态设置振动衰减板41，存在于透镜28与振动衰减板41之间的氮气就会作为挤压膜减震器发挥作用。
另外，由于振动衰减板41由使该振动衰减板本身的振动衰减的减振材料制成，因此振动衰减板41自身难以振动。即使假设因某种原因而在振动衰减板41中产生振动，该振动也会被立即衰减。此外，由于振动衰减板41由减振合金制的连接构件42固定于框体45上，因此框体45的振动不会向振动衰减板41传递。即使框体45的振动传递到振动衰减板41，该振动也不会对透镜28的光学性能造成影响。振动衰减构件、由该振动衰减构件形成的间隙及充满该间隙C的流体构成减振机构。
根据本实施方式，可以获得以下的效果。
(1)该光学元件保持装置29中，相对于透镜28的表面的一部分以非接触的状态设置振动衰减板41。由此，即使在透镜28中产生了振动，该振动也会通过振动衰减板41与透镜28之间的流体的压力变动而衰减。而且，由于振动衰减板41相对于透镜28的表面不是直接接触，而是隔开规定间隔地设置，因此也不会有透镜28的表面状态随着振动衰减板41的配置而变化的情况。所以，可以良好地保持透镜28的光学性能。
(2)在该光学元件保持装置29中，振动衰减板41被设置为，将透镜28的表面中的曝光光EL所入射的入射区域的外侧覆盖。由此，就不会有曝光光EL的一部分被振动衰减板41遮蔽的情况，可以使曝光光EL全都射入到透镜28内。由此，就可以确保透镜28中的足够的透过光量，将标线片R上的图案的像精确地转印到晶片W上。
(3)由于该振动衰减板41由包含粘弹性体43a的减振板构成，因此振动衰减板41自身难以振动，并且可以将自身中所产生的振动立即衰减。所以，就不会有振动衰减板41的振动的影响波及透镜28的情况。即使振动衰减板41自身发生了振动，该振动也不会对透镜28的光学性能造成影响。所以，振动衰减板41就会作为刚体发挥作用，该刚体用于形成挤压膜减震器。由此，就可以更可靠地使透镜28中产生的振动衰减。
(4)在该光学元件保持装置29中，利用存在于透镜28与振动衰减板41之间的氮气，产生使透镜28的振动衰减的挤压膜作用。这样，就可以利用响应透镜28的振动而产生的氮气的压力变动使透镜28的振动衰减。该氮气是构成镜筒27的内部气氛的流体(以下称作气氛流体)，可以利用极为简单的构成使透镜28的振动衰减，并且可以良好地保持透镜28的光学性能。
(5)该光学元件保持装置29中，在框体45与振动衰减板41之间，设有具有减振作用的连接构件42。由此，就可以抑制在振动衰减板41中产生的振动向框体45的传递。
(6)该光学元件保持装置29中，透镜28由具有第一连接部57及第二连接部58的3个保持部44保持。由此，该光学元件保持装置29中，由于动态地保持透镜28，因此就可以抑制透镜28的光学面的变形，然而会有振动模式频率降低而使透镜28容易受到振动的影响的情况。针对于此，通过设置振动衰减板41，就可以在透镜28与振动衰减板41之间产生挤压膜作用。利用该挤压膜作用，可以使透镜28的振动衰减。
(7)该镜筒27中，通过层叠具有振动衰减板41的光学元件保持装置29，构成投影光学系统25的镜筒27。由此，就可以使镜筒27内的各透镜28的振动衰减，可以将投影光学系统25的光学性能维持为高性能。
(8)该曝光装置21中，透镜28由具有振动衰减板41的光学元件保持装置29保持。由此，就可以确保透镜28的光学性能更高，可以使曝光装置21的曝光精度提高。
(9)该曝光装置21中，在晶片W上形成图案的投影光学系统25的透镜28由具有振动衰减板41的光学元件保持装置29保持。在曝光装置21中，投影光学系统25的光学性能是很大地左右曝光精度的要因之一，由于投影光学系统25的光学性能得到提高，因此可以使图案的转印精度进一步提高。
(第二实施方式)
下面，对于第二实施方式的光学元件保持装置29，以与上述第一实施方式不同的部分为中心，基于图8进行说明。
如图7所示，该第二实施方式的光学元件保持装置29中，在透镜28的表面与振动衰减板41的间隙C中，填充有比气氛流体(在图示的例子中为氮气)粘度更高的流体(例如纯水、氟系的硅脂等)F。
根据本实施方式，除了上述(1)～(9)的效果以外，还可以得到以下所示的效果。
(10)该光学元件保持装置29中，由于在透镜28的表面与振动衰减板41的间隙C中，填充有比氮气粘度更高的流体F，因此就可以利用间隙C内的流体F的粘性，更为有效地发挥挤压膜作用。由此，就可以使透镜28的振动衰减效果进一步提高。
而且，上述实施方式也可以变更为如下所示的其他的实施方式。
虽然在各实施方式中，将振动衰减板41用金属板和粘弹性体的叠层体构成，然而也可以用1片金属板来构成。该情况下，1片金属板只要具有存在于其与透镜28之间的间隙C内的流体使在透镜28中产生的振动衰减所需要的厚度(刚性)即可。另外，也可以将形成连接构件42的减振合金用于振动衰减板41中。
虽然在各实施方式中，将振动衰减板41以非接触的状态设于透镜28的入射面侧，然而也可以以非接触的状态设于透镜28的射出面侧、或透镜28的侧面、于透镜28的周缘部形成的凸缘部28a。
虽然各实施方式的光学元件保持装置29动态地或以6个自由度保持透镜28，然而并不限于动态或6个自由度的保持。例如也可以是以3个自由度、5个自由度保持透镜28的保持装置。
虽然各实施方式的保持部44被相对于框体45等间隔地隔开设置，然而也可以是不等间隔。
在各实施方式中，虽然将振动衰减板41的金属板43用钢铁来形成，然而为了抑制杂质的产生，也可以使用实施了清洗处理、或实施了涂覆处理的铝等轻金属。
在各实施方式中，虽然将振动衰减板41固定于框体45上，然而也可以固定于保持部44上。
在各实施方式中，虽然将振动衰减板41设置为将透镜28的表面的外周部分的全周覆盖，然而也可以在振动衰减板41上例如设置缺口部等而仅将透镜28的圆周方向的一部分覆盖。在如此构成的情况下，可以抑制由设置振动衰减板41而造成的重量的增加。
在各实施方式中，虽然仅在透镜28的一面侧设置了振动衰减板41，然而也可以与透镜28的两面相面对地设置。在如此构成的情况下，可以进一步提高透镜28的振动衰减效果。
在各实施方式中，也可以采用振动衰减板41兼作孔径光阑的构成。
在各实施方式中，虽然将振动衰减板41制成圆环状，然而也可以将振动衰减板41的开口部41a的形状与透镜28的曝光光EL的入射区域的形状对应地，例如制成近似四边形。
在各实施方式中，虽然将振动衰减板41借助连接构件42固定于框体45上，然而也可以直接固定于框体45上。
在各实施方式中，虽然将镜筒27内的气氛流体设为氮气，然而也可以将气氛流体设为例如空气、氦气、氩气、氪气、氡气、氖气或氙气等惰性气体等。
在各实施方式中，将本发明的光学元件保持装置具体化为保持透镜28的光学元件保持装置29。也可以与之不同，将本发明的光学元件保持装置具体化为例如保持反射镜、半反射镜、平行平板、棱镜、棱镜反射镜、棒透镜、复眼透镜、相位差片、光阑板等其他的光学元件的光学元件保持装置。
光学元件保持装置并不限定于实施方式的曝光装置21的投影光学系统25的横置式的透镜28的保持构成。例如也可以具体化为曝光装置21的照明光学系统23的光学元件的保持构成、竖置式的光学元件的保持构成。此外，也可以具体化为其他的光学机械，例如显微镜、干涉仪等光学系统的光学元件的保持构成。
作为本实施方式的浸液曝光装置的液体AQ，可以使用水(纯水)、氟系液体、十氢化萘(C10H18)。
另外，光学元件保持装置并不限于浸液曝光装置，也可以适用于用投影光学系统与晶片之间的规定的气体(空气、惰性气体等)充满了的曝光装置中。另外，也可以适用于不使用投影光学系统而使掩模和基板紧密粘接来将掩模的图案曝光的接触曝光装置、使掩模和基板接近而将掩模的图案曝光的近接曝光装置的光学系统中。另外，作为投影光学系统，并不限于全折射类型，也可以是反射折射类型、全反射类型。
此外，本发明的曝光装置并不限定于缩小曝光型的曝光装置，例如也可以是等倍曝光型、放大曝光型的曝光装置。
另外，为了不仅制造在半导体元件等微型器件中，而且制造在光曝光装置、EUV曝光装置、X射线曝光装置以及电子射线曝光装置等中所用的标线片或掩模，也可以将本发明应用于从母标线片向玻璃基板或硅晶片等转印电路图案的曝光装置中。这里，在使用DUV(深紫外)或VUV(真空紫外)光等的曝光装置中一般来说使用透过型标线片，作为标线片基板，使用石英玻璃、掺杂了氟的石英玻璃、萤石、氟化镁、或水晶等。另外，在近接方式的X射线曝光装置或电子射线曝光装置等中，使用透过型掩模(镂空掩模、薄膜掩模)，作为掩模基板使用硅晶片等。
当然，不仅可以应用于半导体元件的制造中所用的曝光装置中，在用于包括液晶显示元件(LCD)等的显示器的制造中而将器件图案向玻璃板上转印的曝光装置中、用于薄膜磁头等的制造中而将器件图案向陶瓷晶片等上转印的曝光装置、以及用于CCD等摄像元件的制造中的曝光装置等中，也可以应用本发明。
此外，本发明无论是步进扫描装置还是分步重复方式的扫描机都可以适用，上述的步进扫描装置在掩模和基板相对移动的状态下将掩模的图案向基板转印，使基板依次分步移动；上述的分步重复方式的扫描机在掩模和基板静止的状态下将掩模的图案向基板转印，使基板依次分步移动。
另外，作为曝光装置的光源，例如也可以使用g线(436nm)、i线(365nm)、KrF准分子激光器(248nm)、F2激光器(157nm)、Kr2激光器(146nm)、Ar2激光器(126nm)等。另外，也可以使用如下的高频波，即，将由DFB半导体激光器或光纤激光器激发的红外区域或可见区域的单一波长激光用例如掺杂了铒(或铒和镱双方)的光纤放大器放大，用非线性光学晶体将波长变换为紫外光。
而且，例如可以如下所示地制造各实施方式的曝光装置21。
即，首先，将构成照明光学系统23、投影光学系统25的多个透镜28或反射镜等光学元件的至少一部分用本实施方式的光学元件保持装置29保持，将该照明光学系统23及投影光学系统25装入曝光装置21的主体中，进行光学调整。然后，将由多个机械零件构成的晶片载台26(对于扫描型的曝光装置的情况，也包括标线片载台24)安装于曝光装置21的主体上而连接配线。此后，在连接了向曝光光EL的光路内供给气体的气体供给配管后，再进行综合调整(电气调整、动作确认等)。
这里，构成光学元件保持装置29的各零件在利用超声波清洗等冲掉加工油、金属物质等杂质后被安装好。而且，曝光装置21的制造最好在控制了温度、湿度或气压并且调整了净化等级的无尘室内进行。
作为各实施方式的玻璃材料，虽然以萤石、合成石英等为例进行了说明，然而在使用了氟化锂、氟化镁、氟化锶、锂-钙-铝-氟化物、以及锂-锶-铝-氟化物等晶体；由锆-钡-镧-铝构成的氟化玻璃；掺杂了氟的石英玻璃、除了氟以外还掺杂了氢的石英玻璃、含有OH基的石英玻璃、除了氟以外还含有OH基的石英玻璃等改良石英的情况下，也可以应用上述实施方式的光学元件保持装置。
下面，对在光刻工序中使用了上述的曝光装置21的器件的制造方法的实施方式进行说明。
图8是表示器件(IC或LSI等半导体元件、液晶显示元件、摄像元件(CCD等)、薄膜磁头、微型机器等)的制造例的流程图的图。如图9所示，首先，在步骤S101(设计步骤)中，进行器件(微型器件)的功能、性能设计(例如半导体器件的电路设计等)，进行用于实现该器件的功能的图案设计。接下来，在步骤S102(掩模制作步骤)中，制作形成了所设计的电路图案的掩模(标线片R等)。另一方面，在步骤S103(基板制造步骤)中，使用硅、玻璃板等材料制造基板(在使用硅材料的情况下就成为晶片W。)。
然后，在步骤S104(基板处理步骤)中，使用在步骤S101～S103中准备的掩模和基板，如后所述，利用光刻技术等在基板上形成实际的电路等。然后，在步骤S105(器件组装步骤)中，使用在步骤S104中处理后的基板进行器件组装。该步骤S105中，根据需要包含切割(dicing)工序、接合(bonding)工序、以及封装工序(芯片封装等)等工序。
最后，在步骤S106(检查步骤)中，进行步骤S105中制作的器件的动作确认测试、耐久性测试等检查。在经过这样的工序后器件即完成，可以将其出厂。
图9是表示半导体器件的情况下的图8的步骤S104的详细的流程的一例的图。图9中，步骤S111(氧化步骤)中，使晶片W的表面氧化。步骤S112(CVD步骤)中，在晶片W表面形成绝缘膜。在步骤S113(电极形成步骤)中，在晶片W上利用蒸镀形成电极。在步骤S114(离子注入步骤)中，向晶片W中注入离子。以上的步骤S111～S114分别构成晶片处理的各阶段的前处理工序，在各阶段与必需的处理对应地选择执行。
在晶片加工的各阶段中，一旦上述的前处理工序结束，即如下所示地执行后处理工序。该后处理工序中，首先，在步骤S115(抗蚀剂形成步骤)中，在晶片W上涂布感光剂。接着，在步骤S116(曝光步骤)中，利用前面所说明的光刻系统(曝光装置21)将掩模(标线片R)的电路图案向晶片W上转印。然后，在步骤S117(显影步骤)中将曝光了的晶片W显影，在步骤S118(蚀刻步骤)中，将残存了抗蚀剂的部分以外的部分的露出构件利用蚀刻去掉。此后，在步骤S119(抗蚀剂除去步骤)中，去除蚀刻完毕而不再需要的抗蚀剂。
通过反复进行这些前处理工序和后处理工序，在晶片W上形成多重的电路图案。
如果使用以上所说明的本实施方式的器件制造方法，则可以在曝光工序(步骤S116)中使用上述的曝光装置21，利用真空紫外区域的曝光光EL可以实现分辨率的提高，而且可以高精度地进行曝光量控制。所以，其结果是，可以以优良的材料利用率生产最小线宽为0.1μm左右的高集成度的器件。

Claims (15)

1.一种光学元件保持装置，用于保持光学元件，其特征在于，具有：
保持部，其保持所述光学元件；
振动衰减构件，其相对于被保持于所述保持部的所述光学元件的表面中的与光所入射的入射区域不同的区域的至少一部分表面以非接触的状态设置，使所述光学元件中产生的振动衰减，
利用所述光学元件的所述至少一部分表面与所述振动衰减构件之间的流体的压力变动，使所述光学元件中产生的振动衰减。
2.根据权利要求1所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述振动衰减构件相对于所述光学元件的侧面以非接触的状态设置。
3.根据权利要求1所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述振动衰减构件沿着所述光学元件的所述至少一部分表面延伸，并且与所述至少一部分表面隔开规定距离。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述振动衰减构件具备使该振动衰减构件自身的振动衰减的减振材料。
5.根据权利要求4所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述减振材料具备叠层体或金属板，该叠层体包括金属和粘弹性体。
6.根据权利要求1所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述流体具有比构成所述光学元件暴露于其中的气氛的流体更高的粘性。
7.根据权利要求1～3、5、6中任意一项所述的光学元件保持装置，其特征在于，在所述光学元件与所述振动衰减构件之间，形成挤压膜减震器。
8.根据权利要求1～3、5、6中任意一项所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述振动衰减构件安装于保持所述光学元件的保持构件上。
9.根据权利要求8所述的光学元件保持装置，其特征在于，在所述保持构件与所述振动衰减构件之间，设置有具有减振作用的连接构件。
10.一种光学元件保持装置，用于保持光学元件，其特征在于，具有：
保持部，其保持所述光学元件；
减振机构，所述减振机构具有振动衰减构件，并在所述振动衰减构件与所述光学元件的表面中的与光所入射的入射区域不同的区域的至少一部分表面之间产生挤压膜作用，所述振动衰减构件相对于由所述保持部保持的所述光学元件的表面中的所述至少一部分表面相面对并以非接触的状态设置，
所述减振机构，响应所述光学元件中产生的振动，使在所述振动衰减构件与所述光学元件的表面之间的间隙中所存在的流体产生压力变化。
11.根据权利要求10所述的光学元件保持装置，其特征在于，所述减振机构利用所述流体的压力变化，使所述光学元件中产生的振动衰减。
12.一种镜筒，保持有多个光学元件，其特征在于，借助权利要求1～11中任意一项所述的光学元件保持装置保持所述光学元件的至少1个。
13.一种曝光装置，利用透过多个光学元件的曝光光使基板曝光，其特征在于，借助权利要求1～11中任意一项所述的光学元件保持装置保持所述多个光学元件的至少1个。
14.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，所述多个光学元件构成在所述基板上形成图案的光学系统。
15.一种器件的制造方法，包括光刻工序，其特征在于，所述光刻工序使用权利要求13或14所述的曝光装置。
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