KR20100015471A - 고굴절률을 갖는 방향족 우레탄 아크릴레이트 - Google Patents

고굴절률을 갖는 방향족 우레탄 아크릴레이트 Download PDF

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니콜라스 스토켈
프리드리히-칼 브루더
얀 바이카르트
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바이엘 머티리얼사이언스 아게
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Abstract

본 발명은 고굴절률을 갖는 신규 방향족 우레탄 (메트)아크릴레이트, 그의 제조 방법 및 홀로그래픽 매체의 제조 방법에 관한 것이다.
방향족 우레탄, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 굴절률, 홀로그래픽 매체

Description

고굴절률을 갖는 방향족 우레탄 아크릴레이트 {AROMATIC URETHANE ACRYLATES HAVING A HIGH REFRACTIVE INDEX}
<관련 출원에 대한 교차-참조>
본원은 35 U.S.C. §119(e)하에 2007년 4월 11일에 출원된 미국 가출원 제60/922,988호에 대해 우선권을 주장한다.
본 발명은 고굴절률을 갖는 신규 올레핀계 불포화 우레탄 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
광학 적용 분야에서, 굴절률은 중요한 재료 특성이다. 그러므로, 이는 예를 들어 광학 성분, 예컨대 렌즈, 프리즘 및 광학 코팅의 제조 (제US 5,916,987호) 또는 홀로그래픽 재료에서의 콘트라스트의 제조 (제US 6,780,546호)를 위해 중요한 역할을 한다. 이러한 적용 및 유사한 적용을 위해, 표적화된 방법으로, 예를 들어 고굴절률을 갖는 성분들의 혼합에 의해 굴절률을 조절할 수 있는 필요성이 있다.
상기 언급된 사용 분야를 위해, 올레핀계 불포화 화합물, 예컨대 바람직하게는 (메트)아크릴레이트의 중합체가 전형적으로 사용된다. 1.5 이상의 굴절률에 도달하기 위해, 제US 6,794,471호에 기재된 할로겐-치환 방향족 (메트)아크릴레이트 또는 특정 알킬 메타크릴레이트가 사용될 수 있다. 특히, 후자는 복잡한 제조로 인해 불리하다.
우레탄 (메트)아크릴레이트로 구성된 물질의 부류는 코팅 기술 분야로부터 그 자체 익히 공지되어 있다. 그러나, 선행 기술에 따라, 이것이 데이터 매체의 제조, 특히 홀로그래픽 저장 방법을 위한 매체의 제조에 적합하다는 점은 공지되어 있지 않다.
<발명의 요약>
본 발명의 목적은 제조하기에 가능한 한 기술적으로 간단하고 광학 데이터 매체의 제조, 특히 홀로그래픽 저장 방법에 적합한, 신규 올레핀계 불포화 우레탄, 바람직하게는 우레탄 아크릴레이트 또는 우레탄 메타크릴레이트를 제공하는 것이다.
본 발명에 이르러, 1.5 이상의 λ = 532 nm에서의 굴절률을 갖는 올레핀계 불포화 우레탄, 바람직하게는 우레탄 아크릴레이트 또는 우레탄 메타크릴레이트가 상기 요구사항을 충족시킨다는 것이 밝혀졌다.
그러므로, 본 발명은 ≥ 1.5의 λ = 532 nm에서의 굴절률을 갖는 올레핀계 불포화 방향족 우레탄, 바람직하게는 우레탄 아크릴레이트 및/또는 우레탄 메타크릴레이트를 사용하는, 홀로그래픽 매체의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 하기 비제한적 도면에 의해 추가로 예시되며, 여기서
도 1은 매체의 동적 범위, M#를 측정하는 홀로그래픽 시험 셋업을 나타낸다.
달리 명확하게 한정되지 않는 한, 실시예를 포함하여 본원 명세서 및 청구항에서 사용되는 모든 숫자는 단어 "약"이 명확하게 언급되지 않더라도 그 숫자 앞에 "약"이 존재하는 것처럼 해석될 수 있다. 또한, 본원에서 인용된 임의의 수적 범위는 여기에 포함되는 모든 하위범위를 포함하는 것으로 의도된다.
본 발명의 올레핀계 불포화 방향족 우레탄, 바람직하게는 우레탄 아크릴레이트 및/또는 우레탄 메타크릴레이트는 바람직하게는 λ = 532 nm에서 ≥ 1.55, 특히 바람직하게는 ≥ 1.58의 굴절률을 갖는다.
본 발명의 올레핀계 불포화 우레탄, 바람직하게는 우레탄 아크릴레이트 및/또는 우레탄 메타크릴레이트는 그 자체 익히 공지된 방법으로 A) 방향족 폴리이소시아네이트를 B) 하나 이상의 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 갖는 이소시아네이트-반응성 화합물과 반응시킴으로써 수득가능하다.
그 자체 당업자에게 익히 공지된 방향족 디- 및/또는 트리이소시아네이트는 폴리이소시아네이트로서 사용될 수 있다.
이러한 디- 또는 트리이소시아네이트의 예는 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트이다.
1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트가 바람직하다. 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트가 특히 바람직하다.
상기 디- 또는 트리이소시아네이트를 기재로 하고 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 비우레트, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조 및 이들의 혼합물을 갖는 고분자량 이차 생성물이 또한 적합하다.
이소시아네이트에 대한 하나 이상의 반응성 기, 및 화학 방사선의 작용하에 중합으로 에틸렌계 불포화 화합물과 반응하는 하나 이상의 불포화 관능기 (방사선-경화성 기)를 갖는 모든 화합물은 성분 B)의 화합물로서 개별적으로 또는 임의의 원하는 혼합물로 사용될 수 있다.
이소시아네이트에 대한 하나 이상의 반응성 기를 갖는, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이네이트, 푸마레이트, 말레이미드, 아크릴아미드 및 비닐 에테르, 프로페닐 에테르, 알릴 에테르, 및 디시클로펜타디에닐 단위를 함유하는 화합물이 바람직하게는 화합물 B)에서 사용되고; 이들은 특히 바람직하게는 하나 이상의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트이다.
적합한 히드록시-관능성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트는 예를 들어, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리알킬렌 옥시드 모노(메트)아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 예를 들어 톤(Tone)® M100 (독일 쉬발바흐 소재의 다우(Dow)), 2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 3-히드록시-2,2-디메틸프로필 (메트)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트, 다가 알콜, 예컨대 트리메틸롤프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 에톡실화된, 프로폭실화된 또는 알콕실화된 트리메틸롤프로판, 글리세롤, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 또는 이들의 산업용 혼합물의 히드록시-관능성 모노-, 디- 또는 테트라아크릴레이트와 같은 화합물이다.
또한, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트 기를 함유하는 이소시아네이트-반응성 올리고머 또는 중합체 불포화 화합물은 단독으로 또는 상기 언급된 단량체 화합물과 조합하여 적합하다.
히드록실기를 함유하고 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 그 자체 공지된 에폭시(메트)아크릴레이트, 또는 히드록실기를 함유하고 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트, 또는 20 내지 300 mg KOH/g의 OH 함량을 갖는 아크릴화된 폴리아크릴레이트, 및 이들의 서로의 혼합물, 및 히드록실기를 함유하는 불포화 폴리에스테르와의 혼합물, 및 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트와의 혼합물, 또는 히드록실기를 함유하는 불포화 폴리에스테르와 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트의 혼합물이 마찬가지로 사용될 수 있다. 이러한 화합물은 마찬가지로 문헌 [P. K. T. Oldring (Ed.), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, Vol. 2, 1991, SITA Technology, London, pages 37-56]에 기재되어 있다. 히드록실기를 함유하고 규정된 히드록실 관능가를 갖는 에폭시아크릴레이트가 바람직하다.
히드록실기를 함유하는 에폭시(메트)아크릴레이트는 특히 단량체, 올리고머 또는 중합체 비스페놀 A, 비스페놀 F, 헥산디올 및/또는 부탄디올의 에폭시드 (글리시딜 화합물), 또는 그의 에톡실화된 및/또는 프로폭실화된 유도체와 아크릴산 및/또는 메타크릴산의 반응 생성물을 기재로 한다. 아크릴산 및/또는 메타크릴산 및 글리시딜 (메트)아크릴레이트의 공지된 반응으로부터 수득될 수 있는, 규정된 관능가를 갖는 에폭시아크릴레이트가 또한 바람직하다.
이중 결합 대 OH 기의 더 높은 관능가를 갖는, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리틸 트리아크릴레이트 및 히드록시아크릴레이트, 예컨대 글리시딜 메타크릴레이트와 아크릴산의 반응 생성물이 바람직하다.
2-히드록시에틸 아크릴레이트가 특히 바람직하다.
성분 A) 및 B) 이외에, C) 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 함유하지 않은 이소시아네이트-반응성 화합물, D) 나노미립자 충전제 및/또는 E) 안정화제가 또한 본 발명의 우레탄 아크릴레이트의 제조를 위해 동시에 사용될 수 있다.
성분 C)의 이소시아네이트-반응성 화합물은 하나 이상의 이소시아네이트-반응성 관능기를 갖고 화학 방사선에 의해 경화가능한 이중 결합을 갖지 않는, 단량체 또는 올리고머 화합물 및 하나 이상의 이들 화합물들의 혼합물이다.
성분 C)의 적합한 화합물은 저분자량 단쇄 일관능성 또는 다관능성 알콜, 티올 또는 아민, 즉 1 내지 40개의 탄소 원자를 함유하는 것이다.
적합한 알콜은 예를 들어, 지방족, 방향지방족, 방향족 또는 환식지방족 모노알콜, 디올, 트리올 및 고급 폴리올이다.
지방족 알콜의 예는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, 이성질체 펜탄올, 헥산올, 2-에틸헥산올, 옥탄올 및 노난올, n-데칸올, n-도데칸올, n-테트라데칸올, n-헥사데칸올, n-옥타데칸올, 시클로헥산올, 이성질체 메틸시클로헥산올 또는 히드록시메틸시클로헥산, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄 또는 테트라히드로푸르푸릴 알콜, 디에틸렌 글리콜 모노알킬 에테르, 예를 들어 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 모노부틸 에테르, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 4-메틸-5-티아졸릴에탄올, 2-(메틸티오)에탄올, 4-히드록시메틸-1,3-디티올란, 2-메틸-4-히드록시메틸-1,3-디티올란, 2,4-디히드록시메틸-1,3-디티올란, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-에틸-2-부틸프로판디올, 트리메틸펜탄디올, 디에틸옥탄디올의 위치 이성질체, 1,3-부틸렌 글리콜, 시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,6-헥산디올, 1,2- 및 1,4-시클로헥산디올, 수소화된 비스페놀 A (2,2-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판), 2,2-디메틸-3-히드록시프로필 2,2-디메틸-3-히드록시프로피오네이트, 2,2'-티오디에탄올, 2,2'-디티오디에탄올, 2-머캅토-에탄올, 4-머캅토-1-부탄올, 4-머캅토-2-부탄올, 6-머캅토-1-헥산올, 3-머캅토-2-프로판올, 3-머캅토-1-프로판올, 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판, 글리세롤, 디트리메틸롤프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 만니톨 또는 소르비톨이다.
방향족 알콜의 예는 페놀, 이성질체 크레솔, 메톡시페놀, 할로겐화된 페놀, 알킬페놀, 알콕시페놀, 1-나프톨, 2-나프톨, 브롬화된 나프톨, 9-히드록시페난트렌, 히드록시피렌, 아세트아미노페놀, 디히드록시나프탈렌, 히드로퀴논, 히드록시카르바졸, 히드록시퀴놀린, 5-인다놀, 인돌롤, 4,4'-이소프로필리덴디페놀, 머캅토페놀, 페녹시페놀, 및 상기 화합물들의 알킬화된 및/또는 할로겐화된 및/또는 알콕실화된 유도체이다.
방향지방족 알콜의 예는 벤질 알콜, p-클로로벤질 알콜, p-브로모벤질 알콜, p-요오도벤질 알콜, 2,3,4,5,6-펜타브로모벤질 알콜, 2,4,6-트리클로로벤질 알콜, 2,4,6-트리브로모벤질 알콜, 아니실 알콜, 신나밀 알콜, 2-페닐에탄올, 1-페닐에탄올, 1-히드록시메틸나프탈렌, 2-히드록시메틸나프탈렌, 1-나프탈렌에탄올, 2-나프틸에탄올, 9-히드록시플루오렌, 1,8-나프탈렌디메탄올, 2-티오펜메탄올, N-(2-히드록시-에틸)프탈이미드, 4-(메틸티오)벤질 알콜, 1-아세나프테놀, 9-안트라센메탄올, 2-벤즈이미다졸메탄올, 벤조인, 벤젠디메탄올, 1-벤조티오펜술포-2-메탄올, N-벤질히드록시피페리딘, N-벤질피롤리디놀, 바이페닐디메탄올, 바이페닐메탄올, 5H-디벤조[a,d]시클로헵텐-5-올, 플루오레닐메탄올, 플루오레닐에탄올, 플루오렌디메탄올, 2-(p-클로로페닐)에탄올, 디페닐에탄올, 디페닐메탄올, 디페닐프로판올, 트리페닐메탄올, 디페닐-4-피리딜카르비놀, 1,4-디티안-2,5-디올, 3,6-디티아-1,8-옥탄디올, 디티오디에탄올, 디티오디나프톨, 히드록시메틸디티올란, 푸르푸릴 알콜, 히드린단틴, 히드로벤조인, 히드록시벤조티아졸, 히드록시벤즈이미다졸, 히드록시쿠마린, 2-(2-히드록시에톡시)페놀, 9-(2-히드록시에틸)-9H-카르바졸, N-(2-히드록시에틸)아닐린, 3-(2-히드록시에틸)인돌, N-(2-히드록시에틸)프탈이미드, 2-히드록시메틸안트라퀴논, N-(히드록시메틸)니코틴아미드, N-(히드록시메틸)프탈이미드, N-(3-히드록시프로필)프탈이미드, 2-(3-히드록시프로필)피리딘, 2-피리딘메탄올, 9-히드록시-9-페닐플루오렌, 1-인다놀, 2-인다놀, 인돌메탄올, 에틸 만델레이트, 벤질 만델레이트, 만델로니트릴, 2-머캅토벤질 알콜, 1-(2-나프틸)에탄올, 1-(1-나프틸)에탄올, 4,4-이소프로필리덴비스[2-페녹시에탄올], 4,4-이소프로필리덴비스[2-(2,6-디브로모페녹시)에탄올], 9,9-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌, 비스페놀 A 에톡실레이트, 비스페놀 F 에톡실레이트, 벤즈히드롤, 페녹시에탄올, 페녹시프로판올, 1-페닐-2-프로판올, 2-페닐-1-프로판올, 3-페닐-1-프로판올, 9-페닐-9-크산테놀, 9-히드록시크산텐, 피리딘에탄올, 피리딘메탄올, 피리딘디메탄올, 티오펜메탄올, 티오펜에탄올, 및 상기 화합물들의 알킬화된 및/또는 할로겐화된 및/또는 알콕실화된 유도체이다.
적합한 티올의 예는 메탄티올, 에탄티올, 프로판디올, 부탄티올, 펜탄티올, 헥산티올, 헵탄티올, 옥탄티올, 노난티올, 도데칸티올, 옥타데칸티올, 2-나프탈렌메탄티올, 티오페놀, 벤젠디메탄티올, 벤젠디티올, 디페닐메탄티올, 트리페닐메탄티올, 디티오에리트리톨, 디티오트레이톨, 에탄디티올, 2,2'-티오디에탄티올, 푸란메탄티올, 2-머캅토벤즈이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤즈옥사졸, 비스(2-머캅토에틸) 에테르, 메틸 3-머캅토프로피오네이트, 이소옥틸 3-머캅토프로피오네이트, 부틸 3-머캅토프로피오네이트, 머캅토피리딘, 머캅토피리미딘, 2-머캅토-2-티아졸린, 메티마졸, 나프탈렌티올, 펜타에리트리틸 테트라키스(3-머캅토-프로피오네이트), 펜타에리트리틸 테트라키스(3-머캅토아세테이트), 페녹시에탄티올, 2-페닐에탄티올, 4-머캅토메틸-1,3-디티올란, 4-(2-머캅토에틸)-1,3-디티올란, 2,4-디머캅토메틸-1,3-디티올란 및 1,3-프로판디티올, 및 상기 화합물들의 알킬화된 및/또는 할로겐화된 및/또는 알콕실화된 유도체이다.
적합한 아민의 예는 아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, 2-아미노티아졸, 2-아미노벤조티아졸, 1-아미노-4-브로모나프탈렌, 2-아미노벤즈이미다졸, 아미노크리센, α-아미노디페닐메탄, 2-(2-아미노에틸)티오펜, 2-아미노-5-(에틸티오)-1,3,4-티아디아졸, 아미노인단, (아미노메틸)피리딘, 아미노메틸티아졸, 1-(아미노메틸)나프탈렌, 아미노나프톨, 아미노페난트렌, 아미노페놀, 아미노피렌, 아미노피라진, 아미노피리딘, 아미노피리미딘, 아미노메틸피리딘, 벤질아민, 2-벤질아미노피리딘, 바이페닐에틸아민, 비스(2-아미노페닐) 술피드, 카르바졸, 디아미노나프탈렌, 디아미노톨루엔, 디페닐에틸아민, 디티오디나프틸아민, 푸르푸릴아민, 히드라진, 1-(1-나프틸)에틸아민, 1-(2-나프틸)에틸아민, 페노티아진, 페녹사진, 페녹시아닐린, 페녹시에틸아민, 2-페닐에틸아민, n-페닐-1-나프틸아민, 1-페닐프로필아민, 2-페닐프로필아민, 3-페닐프로필아민, 피리딘에틸아민, 티오펜메틸아민, 및 상기 화합물들의 알킬화된 및/또는 할로겐화된 및/또는 알콕실화된 유도체이다.
황-함유 화합물 및 9-(2-히드록시에틸)-9H-카르바졸, 히드록시메틸나프탈렌, N-(2-히드록시에틸)프탈이미드, 2-페닐에탄올, (p-클로로)페닐에탄올, 2-(p-클로로페닐)에탄올, 나프탈렌티오메탄올 및 트리페닐메탄올이 바람직하다.
9-(2-히드록시에틸)-9H-카르바졸,히드록시메틸나프탈렌, N-(2-히드록시에틸)프탈이미드 및 나프탈렌티오메탄올이 특히 바람직하다.
바람직한 실시양태에서, 우레탄 아크릴레이트는 상기 언급된 성분들로 구성되고, 하기 이상적 화학 구조를 갖는다:
Figure 112009061907613-PCT00001
상기 식들에서, X는 산소, 아미노 또는 황이고,
R은 헤테로원자를 임의로 함유하는 올레핀계 불포화 탄화수소 라디칼 30 mol％ 이상, 및 헤테로원자를 임의로 함유하고 올레핀계 불포화기를 함유하지 않은 탄화수소 라디칼 70 mol％ 이하를 포함한다.
헤테로원자를 임의로 함유하는 바람직한 올레핀계 불포화 탄화수소 라디칼은 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트 및/또는 부틸 아크릴레이트 라디칼이다.
헤테로원자를 임의로 함유하고 올레핀계 불포화기를 함유하지 않은 바람직한 탄화수소 라디칼은 9H-카르바졸, 9-에틸-9H-카르바졸, 나프탈렌, 메틸나프탈렌, N-에틸프탈이미드, 벤젠, 에틸벤젠, (p-클로로)에틸벤젠 및/또는 트리페닐메탄 라디칼이다.
나노미립자 충전제 D)는 임의로 또한 본 발명의 우레탄 아크릴레이트에 첨가될 수 있다. 비관능성 중합체 및 광물 충전제 둘 모두가 이 목적에 적합하다.
비관능성 중합체 및 충전제는 통상적으로 기계 특성 및 광학 특성을 확립하기 위해 사용된다. 본 발명에 따른 우레탄 아크릴레이트와 상용성이 있고 균질하게 혼화될 수 있는 모든 중합체 및 충전제가 이 목적에 적합하다.
충전제는 벌크 재료로서, 또는 1 내지 1000 나노미터, 바람직하게는 1 내지 500 나노미터, 특히 바람직하게는 2 내지 200 나노미터 범위의 평균 직경을 갖는 입자 형태로서 사용될 수 있다.
적합한 비관능성 중합체는 예를 들어, 폴리아크릴레이트, 폴리카르보네이트, 폴리우레탄, 폴리올레핀, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드 및 폴리우레아와 같은 중합체이다.
금속 염, 유리 섬유 및/또는 금속성 충전제가 광물 충전제로서 사용될 수 있다. 금속 산화물, 예컨대 이산화규소, 이산화세륨, 산화이트륨(III), 이산화지르코늄, 산화안티몬(III), 산화아연 또는 산화탄탈이 바람직하게 사용된다.
사용될 수 있는 안정화제 E)는 화학 방사선에 의해 경화될 수 있는 이중 결합을 안정화시키는 화합물이다. 산소-함유 기체 이외에, 화학적 안정화제가 불포화 화합물의 양으로 기준으로 0.01 내지 1 중량％, 바람직하게는 0.1 내지 0.5 중량％의 양으로 조기 중합의 회피에 적합하다. 이러한 안정화제는 예를 들어 문헌 [Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], 4th edition, volume XIV/1, Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1961, pages 433 et seq]에 기재되어 있다. 하기 물질이 예로서 언급될 수 있다: 차아황산나트륨, 황화수소나트륨, 황, 히드라진, 페닐히드라진, 히드라조벤젠, N-페닐-β-나프틸아민, N-페닐에탄올디아민, 디니트로벤젠, 피크르산, p-니트로소디메틸아닐린, 디페닐니트로사민, 페놀, 예컨대 파라메톡시-페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, p-tert-부틸-피로카테콜 또는 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 테트라메틸티우람 디술피드, 2-머캅토벤즈티아졸, 디메틸디티오카르밤산 나트륨 염, 페노티아진, N-옥실 화합물, 예를 들어 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 N-옥시드 (TEMPO) 또는 이들의 유도체 중 하나. 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 및 파라-메톡시페놀 및 이들의 혼합물이 바람직하다.
본 발명에 따른 우레탄 아크릴레이트가 0.5 중량％ 미만, 바람직하게는 0.2 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.1 중량％ 미만의 이소시아네이트기 (M = 42) 함량을 갖도록, 본 발명에 따른 우레탄 아크릴레이트는 이소시아네이트-반응성 화합물 B 또는 B 및 C와 이소시아네이트 A의 당량 반응에 의해 제조된다. 또한, 본 발명에 따른 우레탄 아크릴레이트는 1 중량％ 미만, 바람직하게는 0.5 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.2 중량％ 미만의 미전환된 성분 B의 함량을 갖는다.
A와 B의 반응 또는 A와 B 및 임의로 C의 반응은 우레탄화 또는 티오우레탄화 또는 우레아 형성이다.
A와 B의 반응 또는 A와 B 및 C의 반응후, 디- 및 폴리이소시아네이트의 화학으로부터 공지된 추가 반응, 예를 들어 추가 우레탄화 및/또는 티오우레탄화, 알로파네이트화, 비우레트화, 삼량체화, 우레아 형성 및/또는 우레트디온화 (임의로 이소시아네이트와 반응성인 화합물, 예컨대 히드록시, 머캅토 또는 아미노 화합물의 추가 첨가와 함께)가 가능하다. 또한, A하에 언급된 디- 또는 트리이소시아네이트의 추가량이 가능한 추가 반응을 위해 첨가될 수 있다. 또한, 분리 방법, 예를 들어 증류에 의해 미전환된 디- 또는 트리이소시아네이트를 제거할 수 있다.
A와 B의 반응 및 A와 B 및 C의 반응은 이소시아네이트 부가 반응을 가속화시키기 위한 공지된 촉매, 예를 들어 삼차 아민, 주석, 아연, 철 또는 비스무스 화합물, 특히, 트리에틸아민, 1,4-디아자바이시클로[2,2,2]옥탄, 비스무스 옥타노에이트 또는 디부틸주석 디라우레이트의 도움으로 수행될 수 있으며, 상기 촉매는 초기에 도입되거나 나중에 계량될 수 있다.
A와 B의 반응은 바람직하게는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 위한 안정화제의 존재하에 수행된다. 안정화제 E로서 상기 기재된 화합물이 이 목적에 적합하다. 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 페노티아진 및 파라-메톡시페놀 및 이들의 혼합물이 바람직하다. 안정화제의 첨가는 반응 전에, 중에 및/또는 후에 수행될 수 있다.
이소시아네이트기를 여전히 함유하는, A와 B의 반응의 반응 생성물의 안정화를 위해, 원하는 반응 이외에 추가 반응으로부터 이소시아네이트를 안정화시키는 화합물이 또한 적합하다. 후자의 예는 구체적으로 산 또는 산 유도체, 예를 들어 벤조일 클로라이드, 프탈로일 클로라이드, 아포스핀산, 아포스폰산 및/또는 아인산, 포스핀산, 포스폰산 및/또는 인산 및 마지막에 언급된 6개의 산 유형의 산 에스테르, 황산 및 그의 산 에스테르 및/또는 술폰산이다. 안정화제의 첨가는 반응 전에, 중에 및/또는 후에 수행될 수 있다.
반응은 출발 재료 및 생성물에 대해 불활성이고 바람직하게는 또한 이소시아네이트에 대해 불활성인 유기 용매의 존재하에 수행될 수 있다. 예는 코팅 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 용매 나프타, 메톡시프로필 아세테이트, 아세톤, 부타논 또는 탄화수소, 예컨대 시클로헥산, 메틸시클로헥산 또는 이소옥탄이다.
반응후, 용매는 예를 들어 증류에 의해 생성물로부터 제거될 수 있거나, 생성물에 남아있을 수 있거나, 다른 용매와 교환될 수 있다. 바람직한 실시양태에서, 용매는 반응후 증류에 의해 제거된다. 추가 바람직한 실시양태에서, 제2 용매가 반응후 첨가되고, 반응이 일어나는 용매는 증류에 의해 제거된다. 제2 용매는 바람직하게는 소위 폴리올, 히드록시-관능성 중합체이다. 적합한 폴리올은 500 내지 13000 g/mol, 바람직하게는 700 내지 4000 g/mol 범위의 수평균 분자량을 갖는 디- 또는 폴리올이다. 1.5 내지 3.5, 바람직하게는 1.8 내지 3.2, 특히 바람직하게는 1.9 내지 3.1의 평균 히드록실 관능가를 갖는 중합체가 바람직하다. 이에는 예를 들어, 디-, 트리- 및/또는 폴리올 및 락톤을 기재로 하는 폴리에스테르 알콜과 지방족, 환식지방족 및/또는 방향족 디-, 트리- 및/또는 폴리카르복실산을 기재로 하는 폴리에스테르 알콜이 포함된다. 바람직한 폴리에스테르 알콜은 예를 들어 500 내지 4000, 특히 바람직하게는 650 내지 2500의 분자량을 갖는, 헥산디올, 부탄디올 또는 네오펜틸글리콜 또는 상기 디올들의 혼합물과 아디프산의 반응 생성물이다. 시클릭 에테르의 중합에 의해 또는 개시제 분자와 알킬렌 옥시드의 반응에 의해 수득가능한 폴리에테롤이 또한 적합하다. 폴리에틸렌 및/또는 폴리프로필렌 글리콜은 500 내지 13000의 평균 분자량을 갖고, 또한 500 내지 8000, 바람직하게는 650 내지 3000의 평균 분자량을 갖는 폴리테트라히드로푸란이 예로서 언급될 수 있다. 락톤과 폴리에테르 폴리올의 반응에 의해 수득될 수 있는 폴리에스테르-폴리에테르-폴리에스테르 블록 폴리올이 또한 적합하다. 디올 또는 락톤-변형 디올 또는 비스페놀, 예를 들어 비스페놀 A를 포스겐 또는 카르복실산 디에스테르, 예컨대 디페닐 카르보네이트 또는 디메틸 카르보네이트와 반응시킴으로써 수득가능한 히드록실-말단 폴리카르보네이트가 또한 적합하다. 500 내지 8000의 평균 분자량을 갖는 1,6-헥산디올의 중합체 카르보네이트, 및 1 내지 0.1 몰비의 ε-카프로락탐과 1,6-헥산디올의 반응 생성물의 카르보네이트가 예로서 언급될 수 있다. 650 내지 3000의 평균 분자량을 갖고 1,6-헥산디올을 기재로 하는 상기 언급된 폴리카르보네이트디올, 및/또는 1 내지 0.33 몰비의 ε-카프로락탐과 1,6-헥산디올의 반응 생성물의 카르보네이트가 바람직하다. 히드록실-말단 폴리아미드 알콜 및 히드록실-말단 폴리아크릴레이트디올, 예를 들어 테고머(Tegomer)® BD 1000 (독일 에쎈 소재의 테고 게엠베하(Tego GmbH)로부터)가 마찬가지로 사용될 수 있다. 에스테르기를 함유하는 폴리올이 특히 바람직하다.
추가 바람직한 실시양태에서, 반응성 희석제가 반응후에 첨가되고, 이어서 반응이 일어나는 용매는 증류에 의해 제거된다. 이러한 반응성 희석제는 예를 들어 방사선 경화 기술에 공지된 화합물 (문헌 [Rompp Lexikon Chemie [Rompp Lexikon Chemistry], page 491, 10th edition, 1998, Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart] 참조), 특히 30 mg KOH/g 미만, 바람직하게는 10 mg KOH/g 미만의 낮은 히드록실 함량을 갖는 화합물이다. 아크릴산 또는 메타크릴산의 에스테르, 바람직하게는 다음 알콜, 일가 알콜, 예컨대 이성질체 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 헵탄올, 옥탄올, 노난올 및 데칸올, 및 또한 환식지방족 알콜, 예컨대 이소보르놀, 시클로헥산올 및 알킬화된 시클로헥산올, 디시클로펜탄올, 아릴지방족 알콜, 예컨대 페녹시에탄올 및 노닐페닐에탄올, 및 테트라히드로푸르푸릴 알콜과 아크릴산의 에스테르가 예로서 언급될 수 있다. 또한, 이들 알콜, 이가 알콜, 예를 들어 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 디에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 이성질체 부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,6-헥산디올, 2-에틸헥산디올 및 트리프로필렌 글리콜의 알콕실화된 유도체, 또는 이들 알콜의 알콕실화된 유도체를 사용할 수 있다. 바람직한 이가 알콜은 1,6-헥산디올, 디프로필렌 글리콜 및 트리프로필렌 글리콜이다. 더 높은 관능가를 갖는 알콜, 예컨대 글리세롤, 트리메틸롤프로판, 디트리메틸롤프로판, 펜타에리트리톨 또는 디펜타에리트리톨 및 이들의 알콕실화된 유도체의 에스테르가 마찬가지로 사용될 수 있다. 트리메틸롤프로판, 펜타에리트리톨 및 디펜타에리트리톨과 아크릴산의 에스테르가 바람직하다.
A와 B의 반응 또는 A와 B 및 C의 반응은 연속적으로 (예를 들어, 정적 혼합기에서) 또는 배치식으로 (예를 들어, 적합한 교반되는 용기에서) 수행된다. 배치식 방법의 경우, A 및 B 둘 모두 뿐만 아니라 C는 초기에 도입되고, 각각의 다른 성분은 실온 또는 승온에서 계량될 수 있다. 반응은 바람직하게는 A를 초기에 도입하고 B 및 C를 계량함으로써 수행된다.
A와 B 및 C의 반응은 성분 B 및 C의 혼합 첨가에 의해 수행될 수 있다. 그러나, A와 B 및 C의 반응은 바람직하게는 먼저 A를 B와 반응시키는 방법으로 수행되고, 이렇게 얻어진 반응 생성물은 0.5 내지 10 중량％, 바람직하게는 0.6 내지 6 중량％, 특히 바람직하게는 0.7 내지 4.5 중량％의 이소시아네이트기의 함량을 갖는다. A와 B를 반응시킴으로써 수득된 반응 생성물을 이어서 C와 반응시켜, 본 발명에 따른 우레탄 아크릴레이트를 수득한다.
다수의 성분 B의 사용의 경우, 이들은 A와의 혼합물로서 또는 A 및 B 및 C의 반응에 대해 먼저 기재된 방법과 유사하게 잇달아 반응될 수 있다. 이소시아네이트에 대한 상이한 반응성을 갖는 다수의 성분 B의 사용의 경우, 성분 B는 바람직하게는 A와 잇달아 반응되며, 특히 바람직하게는 가장 낮은 반응성을 갖는 성분 B로 시작하여 이들의 반응성의 순서대로 A와 반응된다.
다수의 성분 C의 사용의 경우, 이들은 A 및 B의 반응 생성물과의 혼합물로서 또는 A와 B 및 C의 반응에 대해 기재된 방법과 유사하게 잇달아 반응될 수 있다. 이소시아네이트에 대한 상이한 반응성을 갖는 다수의 성분 C의 사용의 경우, 성분 C는 바람직하게는 A 및 B의 반응 생성물과 잇달아 반응되며, 특히 바람직하게는 가장 낮은 반응성을 갖는 성분 C로 시작하여 이들의 반응성의 순서대로 반응된다.
가열 및/또는 발열 반응에 의해, 반응은 바람직하게는 40℃ 내지 130℃, 특히 바람직하게는 50℃ 내지 80℃의 온도 범위에서 유지된다. 전환은 분석에 의해 결정된다. 이는 분광학적으로, 예를 들어 적외선 또는 근적외선 스펙트럼을 기록함으로써 수행될 수 있으나, 또한 취한 샘플의 화학적 분석에 의해 수행될 수 있다. 예를 들어, 이소시아네이트 함량, 임의로 또한 히드록실 함량은 반응 전환의 측정으로서 특히 적합하다. A와 B의 반응 또는 A와 B 및 C의 반응에 이어서 임의로 폴리우레탄 화학으로부터 그 자체 공지된 추가 상기 언급된 반응이 뒤따라 올 수 있다.
바람직한 실시양태에서, A), B) 및 임의로 C)의 양은 용매-비함유 형태의 반응 생성물이 (비휘발성 분율을 기준으로) 1 kg 당 ≥ 0.5, 바람직하게는 ≥ 0.8의 C=C 몰의 이중 결합 밀도 (아크릴레이트 및/또는 메타크릴)를 갖게 하는 양이다.
본 발명에서, 본 발명의 우레탄 (메트)아크릴레이트가 트리스 (p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 또는 트리페닐-메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트를 기재로 하는 경우가 유리한 것으로 증명되었다. 그의 제조를 위해 히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트 또는 히드록시부틸 아크릴레이트가 성분 B)로서 단독으로, 또는 성분 C)로서 사용되는 9-(2-히드록시에틸)-9H-카르바졸, 히드록시메틸나프탈렌, N-(2-히드록시에틸)프탈이미드 또는 나프탈렌티오메탄올과 조합하여 사용되는 경우가 매우 특히 유리하다.
그러므로, 본 발명은 또한 하나 이상의 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 갖는 이소시아네이트-반응성 화합물과 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 또는 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트를 반응시킴으로써 수득가능한 우레탄 (메트)아크릴레이트에 관한 것이다.
히드록시 에틸 아크릴레이트는 바람직하게는 하나 이상의 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 갖는 이소시아네이트-반응성 화합물로서 사용된다.
상기 언급된 2종의 성분 이외에, C) 내지 E)하에 언급된 성분이 또한 이들 우레탄 (메트)아크릴레이트의 제조에서 동시에 사용될 수 있다.
상기 언급된 우레탄 (메트)아크릴레이트 a)로부터의 홀로그래픽 매체의 제조를 위해, 이소시아네이트 성분 b), 이소시아네이트-반응성 성분 c) 및 하나 이상의 광개시제 d)가 바람직하게는 또한 사용된다.
이소시아네이트 성분 b)는 바람직하게는 폴리이소시아네이트를 포함한다. 사용될 폴리이소시아네이트는 분자당 평균 2개 이상의 NCO 관능기를 갖는, 당업자에게 그 자체 익히 공지된 모든 화합물 또는 이들의 혼합물이다. 이는 방향족, 방향지방족, 지방족 또는 환식지방족일 수 있다. 불포화기를 함유하는 모노이소시아네이트 및/또는 폴리이소시아네이트는 또한 동시에 미량으로 사용될 수 있다.
예를 들어, 부틸렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트 (HDI), 이소포론 디이소시아네이트 (IPDI), 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄, 2,2,4- 및/또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이성질체 비스(4,4'-이소시아네이토시클로헥실)-메탄 및 이들의 혼합물 (임의의 원하는 이성질체 함량을 갖음), 이소시아네이토메틸-1,8-옥탄 디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌 디이소시아네이트, 이성질체 시클로헥산디메틸렌 디이소시아네이트, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨루엔 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트 및/또는 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트가 적합하다.
우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 비우레트, 옥사디아진트리온, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 단량체 디- 또는 트리이소시아네이트의 유도체의 사용이 마찬가지로 가능하다.
지방족 및/또는 환식지방족 디- 또는 트리이소시아네이트를 기재로 하는 폴리이소시아네이트의 사용이 바람직하다.
성분 A)의 폴리이소시아네이트는 특히 바람직하게는 이량체화된 또는 올리고머화된 지방족 및/또는 환식지방족 디- 또는 트리이소시아네이트이다.
HDI, 1,8-디이소시아네이토-4-(이소시아네이토메틸)옥탄을 기재로 하는 이소시아누레이트, 우레트디온 및/또는 이미노옥사디아진디온 또는 이들의 혼합물이 매우 특히 바람직하다.
성분 b)의 폴리이소시아네이트의 NCO 기는 또한 산업에서 그 자체 통상적인 블록킹제에 의해 완전히 또는 부분적으로 블록킹될 수 있다. 이는 예를 들어, 알콜, 락탐, 옥심, 말론산 에스테르, 알킬 아세토아세테이트, 트리아졸, 페놀, 이미다졸, 피라졸 및 아민, 예를 들어 부타논 옥심, 디이소프로필아민, 1,2,4-트리아졸, 디메틸-1,2,4-트리아졸, 이미다졸, 디에틸 말로네이트, 에틸 아세테이트, 아세톤 옥심, 3,5-디메틸피라졸, 엡실론-카프로락탐, N-tert-부틸벤질아민, 시클로펜타논 카르복시에틸 에스테르 또는 이들 블록킹제의 임의의 바람직한 혼합물이다.
분자당 평균 1.5개 이상의 이소시아네이트-반응성 기를 갖는 모든 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물은 그 자체 성분 c)로서 사용될 수 있다.
본 발명의 문맥에서 이소시아네이트-반응성 기는 바람직하게는 히드록실, 아미노 또는 티오 기이다.
적합한 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물은 예를 들어, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카르보네이트폴리올, 폴리(메트)아크릴레이트폴리올 및/또는 폴리우레탄폴리올이다.
적합한 폴리에스테르폴리올은 예를 들어, 선형 폴리에스테르디올 또는 분지된 폴리에스테르폴리올이며, 이는 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜과 지방족, 환식지방족 또는 방향족 디- 또는 폴리카르복실산 또는 이들의 무수물로부터 공지된 방법으로 수득된다.
이러한 디- 또는 폴리카르복실산 또는 무수물의 예는 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바크산, 노난디카르복실산, 데칸디카르복실산, 테레프탈산, 이소프탈산, o-프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산 또는 트리멜리트산 및 산 무수물, 예컨대 o-프탈산, 트리멜리트산 또는 숙신산 무수물, 또는 다른 것과의 이들의 임의의 원하는 혼합물이다.
적합한 알콜의 예는 에탄디올, 디-, 트리- 또는 테트라에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 디-, 트리- 또는 테트라프로필렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,3-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,4-디히드록시시클로헥산, 1,4-디메틸롤시클로헥산, 1,8-옥탄디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올, 트리메틸롤프로판, 글리세롤 또는 다른 것과의 이들의 임의의 원하는 혼합물이다.
폴리에스테르폴리올은 또한 천연 원료, 예컨대 피마자유를 기재로 할 수 있다. 또한, 폴리에스테르폴리올은 락톤의 단독중합체 또는 공중합체를 기재로 할 수 있으며, 이는 바람직하게는 히드록실-관능성 화합물, 예컨대 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 예를 들어 상기 언급된 유형의 화합물과 락톤 또는 락톤 혼합물, 예컨대 부티로락톤, ε-카프로락톤 및/또는 메틸-ε-카프로락톤의 부가 반응에 의해 수득될 수 있다.
이러한 폴리에스테르폴리올은 바람직하게는 400 내지 4000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 2000 g/mol의 수평균 몰질량을 갖는다. 그의 OH 관능가는 바람직하게는 1.5 내지 3.5, 특히 바람직하게는 1.8 내지 3.0이다.
적합한 폴리카르보네이트폴리올은 그 자체 공지된 방법으로 유기 카르보네이트 또는 포스겐을 디올 또는 디올 혼합물과 반응시킴으로써 수득가능하다.
적합한 유기 카르보네이트는 디메틸, 디에틸 및 디페닐 카르보네이트이다.
적합한 디올 또는 디올 혼합물은 폴리에스테르 세그먼트에 관하여 그 자체 언급되고 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 바람직하게는 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올 및/또는 3-메틸펜탄디올을 포함한다.
이러한 폴리카르보네이트폴리올은 바람직하게는 400 내지 4000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 2000 g/mol의 수평균 몰질량을 갖는다. 이들 폴리올의 OH 관능가는 바람직하게는 1.8 내지 3.2, 특히 바람직하게는 1.9 내지 3.0이다.
적합한 폴리에테르폴리올은 OH- 또는 NH-관능성 개시제 분자와 시클릭 에테르의 중부가물이며, 상기 중부가물은 임의로 블록 구조를 갖는다.
적합한 시클릭 에테르는 예를 들어, 스티렌 옥시드, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 테트라히드로푸란, 부틸렌 옥시드, 에피클로로히드린 및 이들의 임의의 원하는 혼합물이다.
사용될 수 있는 개시제는 폴리에스테르폴리올에 관련하여 언급되고 ≥ 2의 OH 관능가를 갖는 다가 알콜, 및 일차 또는 이차 아민 및 아미노 알콜이다.
이러한 폴리에테르폴리올은 바람직하게는 250 내지 10000 g/mol, 특히 바람직하게는 500 내지 4000 g/mol, 매우 특히 바람직하게는 600 내지 2000 g/mol의 수평균 몰질량을 갖는다. OH 관능가는 바람직하게는 1.5 내지 4.0, 특히 바람직하게는 1.8 내지 3.0이다.
또한, 저분자량 (즉, 500 g/mol 미만의 분자량)을 갖고 단쇄 (즉, 2 내지 20개의 탄소 원자를 함유함)인, 지방족, 방향지방족 또는 환식지방족 디-, 트리- 또는 다관능성 알콜은 성분 G2)의 구성요소로서 다관능성 이소시아네이트-반응성 화합물로서 또한 적합하다.
이는 예를 들어, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 트리프로필렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-에틸-2-부틸프로판디올, 트리메틸펜탄디올, 디에틸옥탄디올 위치 이성질체, 1,3-부틸렌 글리콜, 시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,6-헥산디올, 1,2- 및 1,4-시클로헥산디올, 수소화된 비스페놀 A (2,2-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판), 2,2-디메틸-3-히드록시프로피온산 (2,2-디메틸-3-히드록시프로필에스테르)일 수 있다. 적합한 트리올의 예는 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판 또는 글리세롤이다. 더 높은 관능가를 갖는 적합한 알콜은 디트리메틸롤프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 또는 소르비톨이다.
아미노 알콜, 예를 들어 에탄올아민, 디에탄올아민, 2-(N,N-디메틸-아미노)에틸아민, N-메틸디에탄올아민, N-메틸디이소프로판올아민, N-에틸디에탄올아민, N-에틸디이소프로판올아민, N,N'-비스(2-히드록시에틸)퍼히드로피라진, N-메틸비스(3-아미노프로필)아민, N-메틸비스(2-아미노에틸)아민, N,N',N"-트리메틸디에틸렌트리아민, N,N-디메틸아미노에탄올, N,N-디에틸아미노에탄올, 1-N,N-디에틸아미노-2-아미노에탄, 1-N,N-디에틸아미노-3-아미노프로판, 2-디메틸아미노메틸-2-메틸-1,3-프로판디올, N-이소프로필디에탄올아민, N-부틸디에탄올아민, N-이소부틸디에탄올아민, N-올레일-디에탄올아민, N-스테아릴디에탄올아민, 옥세틸화된 코코넛 지방 아민, N-알릴디에탄올아민, N-메틸디이소프로판올아민, N,N-프로필디이소프로판올아민, N-부틸디이소프로판올아민 및/또는 N-시클로헥실디이소프로판올아민이다.
하나 이상의 광개시제가 성분 d)로서 사용된다. 이는 통상적으로 화학 방사선에 의해 활성화되고 상응하는 중합가능한 기의 자유 라디칼 중합을 개시할 수 있는 개시제이다. 광개시제는 시판되는 화합물 (그 자체 공지됨)이고, 일분자 (유형 I) 및 이분자 (유형 II) 개시제로 나뉜다. (유형 I) 시스템은 예를 들어, 방향족 케톤 화합물, 예를 들어 벤조페논 (삼차 아민과 조합함), 알킬벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 (미클러(Michler) 케톤), 안트론 및 할로겐화된 벤조페논 또는 상기 유형들의 혼합물이다. (유형 II) 개시제, 예컨대 벤조인 및 그의 유도체, 벤질 케탈, 아실포스핀 옥시드, 예를 들어 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드, 비스아실로포스핀 옥시드, 페닐글리옥실산 에스테르, 캄포어퀴논, α-아미노알킬페논, α,α-디알콕시아세토페논, 1-[4-(페닐티오)페닐]옥탄-1,2-디온-2-(O-벤조일옥심) 및 α-히드록시알킬페논이 또한 적합하다. 제EP-A 0223587호에 기재되고 암모늄 아릴보레이트 및 하나 이상의 염료의 혼합물로 구성된 광개시제 시스템이 또한 광개시제로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 테트라부틸암모늄 트리페닐헥실보레이트, 테트라부틸암모늄 트리스-(3-플루오로페닐)헥실보레이트 및 테트라메틸암모늄 트리스-(3-클로로-4-메틸페닐)헥실보레이트가 암모늄 아릴보레이트로서 적합하다. 적합한 염료는 예를 들어, 뉴 메틸렌 블루, 티오닌, 베이직 옐로우, 피나시아놀 클로라이드, 로다민 6G, 갈로시아닌, 에틸 바이올렛, 빅토리아 블루 R, 셀레스틴 블루, 퀴날딘 레드, 크리스탈 바이올렛, 브릴리언트 그린, 아스트라존 오렌지 G, 다로우 레드, 피로닌 Y, 베이직 레드 29, 피릴륨 I, 시아닌, 메틸렌 블루 및 아주르 A이다.
이들 화합물의 혼합물을 사용하는 것이 또한 유리할 수 있다. 경화를 위해 사용되는 방사선 공급원에 의존하여, 유형 및 농도는 당업자에게 공지된 방법으로 광개시제에 대해 적합하게 되어야 한다. 추가 세부사항은 예를 들어 문헌 [P. K. T. Oldring (Ed.), Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings, Inks & Paints, vol. 3, 1991, SITA Technology, London, pages 61-328]에 기재되어 있다.
바람직한 광개시제 d)는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드, 1-[4-(페닐티오)페닐]옥탄-1,2-디온-2-(O-벤조일옥심), 및 염료, 예를 들어 메틸렌 블루, 뉴 메틸렌 블루, 아주르 A, 피릴륨 I, 시아닌, 갈로시아닌, 브릴리언트 그린, 크리스탈 바이올렛 및 티오닌과 테트라부틸암모늄 트리스(3-플루오로페닐)헥실보레이트, 테트라메틸암모늄 트리스-(3-클로로-4-메틸페닐)헥실보레이트의 혼합물이다.
성분 a) 내지 d) 이외에, 자유 라디칼 안정화제, 촉매 및 추가 첨가제를 또한 사용할 수 있다.
적합한 자유 라디칼 안정화제는 문헌 ["Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry]" (Houben-Weyl), 4th edition, volume XIV/1, page 433 et seq., Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1961]에 기재된 억제제 및 항산화제이다. 적합한 부류의 물질은 예를 들어, 페놀, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 크레솔, 히드로퀴논, 벤질 알콜, 예를 들어 벤즈히드롤, 및 임의로 또한 퀴논, 예를 들어 2,5-디-tert-부틸퀴논, 및 임의로 또한 방향족 아민, 예컨대 디이소프로필아민 또는 페노티아진이다.
바람직한 자유 라디칼 안정화제는 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 페노티아진 및 벤즈히드롤이다.
또한, 하나 이상의 촉매가 사용될 수 있다. 이들은 바람직하게는 우레탄 형성을 촉매한다. 금속 주석, 아연, 철, 비스무스, 몰리브덴, 코발트, 칼슘, 마그네슘 및 지르코늄의 금속 화합물 및 아민이 바람직하게는 이 목적에 적합하다. 주석 옥타노에이트, 아연 옥타노에이트, 디부틸주석 디라우레이트, 디메틸주석 디카르복실레이트, 철(III) 아세틸아세토네이트, 철(II) 클로라이드, 아연 클로라이드, 테트라알킬암모늄 히드록사이드, 알칼리 금속 히드록사이드, 알칼리 금속 알콜레이트, 10 내지 20개의 탄소 원자 및 임의로 OH 측기를 갖는 장쇄 지방산의 알칼리 금속 염, 납 옥타노에이트 또는 삼차 아민, 예컨대 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디메틸벤질아민, 디시클로헥실메틸아민, 디메틸시클로헥실아민, N,N,N',N'-테트라메틸디아미노디에틸 에테르, 비스(디메틸아미노프로필)우레아, N-메틸- 또는 N-에틸모르폴린, N,N'-디모르폴리노-디에틸 에테르 (DMDEE), N-시클로헥실모르폴린, N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민, N,N,N',N'-테트라메틸부탄디아민, N,N,N',N'-테트라메틸-1,6-헥산디아민, 펜타메틸디에틸렌트리아민, 디메틸피페라진, N-디메틸아미노에틸피페리딘, 1,2-디메틸이미다졸, N-히드록시프로필이미다졸, 1-아자바이시클로[2.2.0]옥탄, 1,4-디아자바이시클로[2.2.2]옥탄 (답코(DABCO)), 또는 알칸올아민 화합물, 예컨대 트리에탄올아민, 트리이소프로판올아민, N-메틸- 및 N-에틸디에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 2-(N,N-디메틸아미노에톡시)에탄올, 또는 N-트리스(디알킬아미노알킬)헥사히드로트리아진, 예를 들어 N,N',N-트리스(디메틸아미노프로필)-s-헥사히드로트리아진, 1,4-디아자바이시클로[2.2.2]옥탄, 디아자바이시클로노난, 디아자바이시클로운데칸, 1,1,3,3-테트라메틸구아니딘, 1,3,4,6,7,8-헥사히드로-1-메틸-2H-피리미도(1,2-a)피리미딘이 이 목적을 위해 바람직하다.
특히 바람직한 촉매는 디부틸주석 디라우레이트, 디메틸주석 디카르복실레이트, 철(III) 아세틸아세토네이트, 1,4-디아자바이시클로[2.2.2]옥탄, 디아자바이시클로노난, 디아자바이시클로운데칸, 1,1,3,3-테트라메틸구아니딘 및 1,3,4,6,7,8-헥사히드로-1-메틸-2H-피리미도(1,2-a)피리미딘이다.
예를 들어, 용매, 가소제, 평탄화제, 소포제 또는 접착 촉진제가 추가 보조제 및 첨가제로서 존재할 수 있으나, 또한 폴리우레탄, 열가소성 중합체, 올리고머, 및 관능기, 예컨대 아세탈, 에폭시드, 옥세탄, 옥사졸린, 디옥솔란 및/또는 친수성기를 갖는 추가 화합물, 예를 들어 염 및/또는 폴리에틸렌 옥시드가 존재할 수 있다.
바람직하게 사용되는 용매는 본 발명에 따른 2-성분 제제와 양호한 상용성을 갖는 쉽게 휘발하는 용매, 예를 들어 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 또는 아세톤이다.
바람직하게 사용되는 가소제는 양호한 용해 특성, 저휘발성 및 고비점을 갖는 액체이고; 이들은 예를 들어 디이소부틸 아디페이트, 디-n-부틸 아디페이트, 디부틸 프탈레이트, 비-히드록시-관능성 폴리에테르, 예를 들어 250 g/mol 내지 2000 g/mol의 수평균 몰질량을 갖는 폴리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 또는 폴리프로필렌 글리콜 또는 상기 화합물들의 혼합물일 수 있다.
한 유형의 다수의 첨가제를 동시에 사용하는 것이 또한 유리할 수 있다. 물론, 다수의 유형의 다수의 첨가제를 사용하는 것이 또한 유리할 수 있다.
홀로그래픽 매체의 제조의 경우,
0.1 내지 75 중량％의 우레탄 아크릴레이트 성분 a),
24.999 내지 99.899 중량％의 이소시아네이트-반응성 성분 c),
0.001 내지 5 중량％의 광개시제 d),
0 내지 3 중량％의 자유 라디칼 안정화제,
0 내지 4 중량％의 촉매,
0 내지 50 중량％의 보조제 및 첨가제
의 혼합물이 바람직하게는 폴리이소시아네이트 성분 b)와의 반응을 위해 사용된다.
2 내지 13 중량％의 우레탄 아크릴레이트 성분 a),
86.998 내지 97.998 중량％의 이소시아네이트-반응성 성분 c),
0.001 내지 1 중량％의 광개시제 d),
0.001 내지 1 중량％의 자유 라디칼 안정화제,
0 내지 2 중량％의 촉매,
0 내지 15 중량％의 보조제 및 첨가제
의 혼합물이 특히 바람직하게 사용된다.
다른 마찬가지로 바람직한 실시양태에서,
12.5 내지 55 중량％의 우레탄 아크릴레이트 성분 a),
44.8 내지 87.8 중량％의 이소시아네이트-반응성 성분 c),
0.1 내지 3 중량％의 B3 광개시제 d),
0.1 내지 3 중량％의 라디칼 안정화제,
0 내지 3 중량％의 촉매,
0 내지 50 중량％의 보조제 및 첨가제
의 혼합물이 사용된다.
상기 언급된 바람직한 실시양태의 홀로그래픽 매체의 제조에서 NCO 대 OH의 몰비는 전형적으로 0.5 내지 2.0, 바람직하게는 0.90 내지 1.25이다.
홀로그래픽 매체는 통상적으로 모든 성분 G1) 내지 G6)을 먼저 서로 혼합함으로써 수득된다. 이는 당업자에게 그 자체 공지된 모든 방법 및 장치에 의해 혼합 기술, 예를 들어 교반되는 용기 또는 동적 및 정적 혼합기 둘 모두로부터 달성될 수 있다. 온도는 0 내지 100℃, 바람직하게는 10 내지 80℃, 특히 바람직하게는 20 내지 60℃이다. 이 혼합물은 즉시 추가로 가공될 수 있거나, 긴 저장 수명을 갖는 중간체로서 임의로 수개월 동안 저장될 수 있다.
필요에 따라, 탈기가 또한 진공하에, 예를 들어 1 mbar하에 수행될 수 있다.
그 후, 폴리이소시아네이트 성분 b)와의 혼합은 적용 직전에 수행되며, 또한 통상적인 혼합 기술을 사용하는 것이 가능하다. 그러나, 어떠한 소용없는 공간도 갖지 않거나 소용없는 공간이 거의 없는 장치가 바람직하다. 또한, 매우 짧은 시간내에 2종의 혼합된 성분의 매우 격렬한 혼합으로 혼합을 수행하는 방법이 바람직하다. 동적 혼합기, 특히 성분들을 혼합기에서만 서로 접촉하게 하는 혼합기가 이 목적을 위해 특히 적합하다. 이 혼합은 0 내지 80℃, 바람직하게는 5 내지 50℃, 특히 바람직하게는 10 내지 40℃의 온도에서 수행될 수 있다. 2종의 성분 A 및 B의 혼합물은 임의로 또한 잔류 기체를 제거하고 코팅에서 기포의 형성을 방지하기 위해 혼합후 진공하에, 예를 들어 1 mbar하에 탈기될 수 있다. 혼합후, 조성물에 의존하여 수초 내지 수시간내에 실온에서 경화하는 투명한 액체 제제가 수득된다.
폴리우레탄 시스템은 바람직하게는 경화가 실온에서 수분 내지 1시간 내에 일어나도록 조절된다. 바람직한 실시양태에서, 경화는 제제를 혼합후 30 내지 180℃, 바람직하게는 40 내지 120℃, 특히 바람직하게는 50 내지 100℃의 온도로 가열함으로써 가속화된다.
모든 성분들의 혼합 직후, 폴리우레탄 시스템은 전형적으로 10 내지 100000 mPas, 바람직하게는 100 내지 20000 mPas, 특히 바람직하게는 200 내지 10000 mPas, 특히 바람직하게는 500 내지 1500 mPas의 실온에서의 점도를 가지므로, 용매-비함유 형태에서도 매우 양호한 가공 특성을 갖는다. 적합한 용매와의 용액에서, 10000 mPas 미만, 바람직하게는 2000 mPas 미만, 특히 바람직하게는 500 mPas 미만의 실온에서의 점도가 확립될 수 있다.
4시간 미만 내에 15 g의 양으로 0.004％의 촉매 함량으로 경화하거나 0.02％의 촉매 함량의 경우에 10분 내에 경화하는 시스템이 유리한 것으로 증명되었다.
바람직한 방법에 따라, 기재된 제제는 혼합후 직접 기판에 적용되고, 코팅 기술의 당업자에게 공지된 모든 통상적인 방법을 사용하는 것이 가능하고; 특히, 코팅물은 나이프 코팅, 캐스팅, 프린팅, 스크린 프린팅, 분무 또는 잉크젯 프린팅에 의해 적용될 수 있다.
기판은 플라스틱, 금속, 목재, 종이, 유리, 세라믹, 및 다수의 이들 재료를 포함하는 복합체 재료일 수 있고, 바람직한 실시양태에서 기판은 시트 형태를 갖는다.
바람직한 실시양태에서, 제제에 의한 기판의 코팅은 연속적인 방법으로 수행된다. 일반적으로, 본 발명에 따른 제제는 5 mm 내지 1 ㎛, 바람직하게는 500 ㎛ 내지 5 ㎛, 특히 바람직하게는 50 ㎛ 내지 8 ㎛, 매우 특히 바람직하게는 25 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께를 갖는 필름으로서 기판에 적용된다.
기판으로서 시트의 경우, 연속적인 방법의 경우 경화후 감길 수 있고 이 방법으로 수개월에 걸쳐 저장될 수 있는 가요성 코팅된 시트가 수득된다.
추가 바람직한 실시양태에서, 제제는 투명한 기판, 특히 플라스틱 또는 유리에 의해 양 측면 상에 커버되도록 적용되며, 이 목적을 위해 1 내지 2 mm, 바람직하게는 1.2 내지 1.8 mm, 특히 바람직하게는 1.4 내지 1.6 mm, 특히 1.5 mm의 정확한 간격으로 유지된 기판 사이에 제제를 붓고, 제제가 완전히 고체화되고 더이상 유동할 수 없을 때까지 기판을 정확한 간격으로 유지한다.
기판으로서 사용되는 재료는 물론 또한 다수의 층을 가질 수 있다. 기판은 다수의 상이한 재료의 층으로 구성될 수 있고, 예를 들어 기판은 또한 개선된 접착성, 더 큰 방수성 또는 친수성, 개선된 내긁힘성, 특정 파장 범위에서의 항반사 특성, 표면의 개선된 평탄성 등과 같은 추가 특성을 갖는 코팅물을 가질 수 있다.
그 후, 기재된 방법 중 하나에 의해 수득된 재료는 홀로그램의 기록을 위해 사용될 수 있다. 이 목적을 위해, 2개의 광 빔은 홀로그램이 형성되도록 홀로그래피 분야의 숙련자에게 공지된 방법 (문헌 [P. Hariharan, Optical Holography 2nd Edition, Cambridge University Press, 1996])에 의해 재료에서 간섭하도록 유발된다. 홀로그램의 노출은 연속적인 방사선조사 및 펄스화된 방사선조사에 의해 수행될 수 있다. 임의로, 하나 초과의 홀로그램은 또한 동일한 재료에서 동일한 점에서 노출될 수 있고, 예를 들어 홀로그래피 분야의 숙련자에게 공지된 각 다중화 방법을 사용할 수 있다. 홀로그램의 노출후, 재료는 임의로 또한 강한 광대역 광원에 노출되고, 이어서 홀로그램은 추가 필요한 가공 단계 없이 사용될 수 있다. 홀로그램은 임의로 또한 추가 가공 단계에 의해 추가로 가공될 수 있으며, 예를 들어 다른 기판으로 이동되고, 변형되고, 삽입-성형되고, 다른 표면에 접착적으로 결합하거나 내긁힘성 코팅물로 커버될 수 있다.
기재된 방법 중 하나에 의해 생성된 홀로그램은 데이터 저장, 사람 또는 사물의 삼차원 표시 및 사람 또는 물품의 인증을 위해 작용하는 영상의 표시를 위해 작용할 수 있고, 렌즈, 거울, 필터, 확산 스크린, 회절 소자, 광 도파관 및/또는 마스크의 기능을 갖는 광학 소자의 제조를 위해 사용될 수 있다.
달리 언급되지 않는 한, 모든 언급된 백분율은 중량을 기준으로 한다.
532 nm의 파장에서 굴절률을 측정하였다. 샘플의 파장에 의존하여, 굴절률 n을 투과 및 반사 스펙트럼으로부터 얻었다. 이 목적을 위해, 약 100 내지 300 nm 두께의 샘플 필름을 부틸 아세테이트 중 희석 용액으로부터 석영 유리 지지체에 스핀 코팅에 의해 적용하였다. 이 층 패킷의 투과 및 반사 스펙트럼을 STEAG ETA-Optik으로부터의 분광계, CD-측정 시스템 ETA-RT에 의해 측정하고, n의 층 두께 및 스펙트럼 곡선을 측정된 투과 및 반사 스펙트럼에 대해 조절하였다. 분광계의 내부 소프트웨어를 사용하여 이를 수행하였으며, 블랭크 측정 전에 및 블랭크 측정에서 결정된 석영 유리 기판의 n 데이터를 추가로 필요로 하였다.
실시예 1:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.1 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게(Bayer MaterialScience AG)의 제품) 213.07 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 42.37 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 2:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.05 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.015 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 98.88 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 9.83 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 3.3％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2-나프탈렌메탄올 13.41 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까 지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 3:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.15 g, 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 257.47 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 34.30 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 2.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 4,4-이소프로필리덴비스[2-(2,6-디브로모페녹시)에탄올] 46.03 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 4:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.03 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.01 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 150.34 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 14.95 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 3.3％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 폴리(ε-카프로락톤) 모노아크릴레이트 (톤(Tone) M100, 다우 케미칼스 인크.(Dow Chemicals Inc.)의 제품) 44.33 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 점성 액체로서 수득하였다.
실시예 5:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.05 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.015 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 90.71 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 9.02 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 3.3％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 9H-카르바졸릴-9-에탄올 16.43 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 6:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.15 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.15 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 356.19 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 47.22 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 2.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 1,2-에탄디올 6.31 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 7:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.15 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.15 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 349.69 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 46.36 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 2.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 트리메틸롤프로판 8.93 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 8:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.05 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.015 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 76.71 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트 29.22 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각 을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 9:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.06 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.02 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 127.80 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 25.41 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에스테르기를 함유하는 폴리올 40 g을 첨가하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 투명한 용액으로서 수득하였다.
실시예 10:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.05 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.015 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 82.35 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 5.46 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 4.5％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2-(파라-클로로페닐)에탄올 7.37 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 2.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 4,4-이소프로필리덴비 스[2-(2,6-디브로모페녹시)에탄올] 14.87 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 11:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.01 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.004 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 28.88 g을 초기에 50 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 2.87 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 3.3％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2-나프탈렌메탄티올 4.31 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 12:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.25 g 및 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트 135.97 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 3-메틸펜탄디올 12.84 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 24.5％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 100.94 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때 까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 13:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.15 g 및 2-이소시아네이토-1,3-디이소프로필벤젠 95.41 g을 초기에 250 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 60℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 54.44 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 60℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 14:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.1 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.05 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 189.52 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 65℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 48.68 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 65℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 15:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.10 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.05 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용 액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 213.68 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 65℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 21.25 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 3.3％ 미만으로 감소될 때까지 65℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2-티오펜메탄올 20.91 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 65℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
실시예 16:
2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 0.10 g, 디부틸주석 디라우레이트 0.05 g, 및 에틸 아세테이트 중 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트의 27％ 농도 용액 (데스모듀어® RFE, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 제품) 223.31 g을 초기에 500 ml 둥근 바닥 플라스크에 도입하고, 65℃로 가열하였다. 그 후, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 34.16 g을 적가하고, 혼합물을 이소시아네이트 함량이 1.4％ 미만으로 감소될 때까지 65℃에서 더 유지하였다. 그 후, 2,2'-티오디에탄올 5.40 g을 적가하고, 이소시아네이트 함량이 0.1％ 미만으로 감소될 때까지 65℃에서 더 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 에틸 아세테이트를 진공에서 완전히 제거하였다. 생성물을 반결정질 고체로서 수득하였다.
비교예 1: 데스모룩스(Desmolux) VP LS 2308 (저점도 헥산 디이소시아네이트 삼량체 및 히드록시알킬 아크릴레이트를 기재로 하는 우레탄 아크릴레이트, 20％ 헥산디올 디아크릴레이트에 용해됨, 독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언 스 아게의 실험 제품)
Figure 112009061907613-PCT00002
광학 특성을 시험하기 위해, 매체를 제조하고, 하기 기재된 바와 같이 광학적으로 측정하였다:
폴리올 성분의 제조:
아연 옥토에이트 0.18 g, ε- 카프로락톤 374.81 g 및 이관능성 폴리테트라히드로푸란 폴리에테르 폴리올 374.81 g (당량 중량 500 g/mol OH)을 초기에 1 l 플라스크에 도입하고, 120℃로 가열하고, 고체 함량 (비휘발성 구성요소의 비율)이 99.5 중량％ 이상이 될 때까지 이 온도에서 유지하였다. 그 후, 냉각을 수행하고, 생성물을 왁스성 고체로서 수득하였다.
매체 1:
상기 기재된 바와 같이 제조된 폴리올 성분 7.913 g을 실시예 1로부터의 우레탄 아크릴레이트 0.500 g, 다로큐어(Darocur) TPO 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 (스위스 바젤 소재의 시바 스페셜티 케미칼스(Ciba Specialty Chemicals)로부터의 시판 제품) 0.015 g 및 벤즈히드롤 0.050 g과 50℃에서 혼합하여, 투명한 용액을 수득하였다. 그 후, 30℃로 냉각하고, 데스모듀어® XP 2410 (독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 실험 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 30％ 이상의 이미노옥사디아진디온의 비율, NCO 함량: 23.5％) 1.522 g을 첨가하고, 다시 혼합하였다. 최종적으로, 폼레즈(Fomrez) UL 28 (우레탄화 촉매, 미국 코네티컷주 윌턴 소재의 지이 실리콘스(GE Silicones)로부터의 시판 제품) 0.004 g을 첨가하고, 다시 간단하게 혼합하였다. 그 후, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트 상에 붓고, 진열된 스페이서에 의해 250 ㎛의 거리로 유지된 제2 유리 플레이트로 커버하였다. 이 시험 표본을 먼저 30분 동안 실온에서 방치한 후, 2시간 동안 50℃에서 경화하였다.
매체 2:
상기 기재된 바와 같이 제조된 폴리올 성분 7.982 g을 실시예 5로부터의 우레탄 아크릴레이트 0.500 g, 다로큐어 TPO 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 (스위스 바젤 소재의 시바 스페셜티 케미칼스로부터의 시판 제품) 0.015 g 및 벤즈히드롤 0.050 g과 50℃에서 혼합하여, 투명한 용액을 수득하였다. 그 후, 30℃로 냉각하고, 데스모듀어® XP 2410 (독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이 언스 아게의 실험 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 30％ 이상의 이미노옥사디아진디온의 비율, NCO 함량: 23.5％) 1.453 g을 첨가하고, 다시 혼합하였다. 최종적으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 미국 코네티컷주 윌턴 소재의 지이 실리콘스로부터의 시판 제품) 0.004 g을 첨가하고, 다시 간단하게 혼합하였다. 그 후, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트 상에 붓고, 진열된 스페이서에 의해 250 ㎛의 거리로 유지된 제2 유리 플레이트로 커버하였다. 이 시험 표본을 먼저 30분 동안 실온에서 방치한 후, 2시간 동안 50℃에서 경화하였다.
매체 3:
상기 기재된 바와 같이 제조된 폴리올 성분 7.982 g을 실시예 14로부터의 우레탄 아크릴레이트 0.500 g, 다로큐어 TPO 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 (스위스 바젤 소재의 시바 스페셜티 케미칼스로부터의 시판 제품) 0.015 g 및 벤즈히드롤 0.050 g과 50℃에서 혼합하여, 투명한 용액을 수득하였다. 그 후, 30℃로 냉각하고, 데스모듀어® XP 2410 (독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 실험 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 30％ 이상의 이미노옥사디아진디온의 비율, NCO 함량: 23.5％) 1.453 g을 첨가하고, 다시 혼합하였다. 최종적으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 미국 코네티컷주 윌턴 소재의 지이 실리콘스로부터의 시판 제품) 0.004 g을 첨가하고, 다시 간단하게 혼합하였다. 그 후, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트 상에 붓고, 진열된 스페이서에 의해 250 ㎛의 거리로 유지된 제2 유리 플레이트로 커버하였다. 이 시험 표본을 먼저 30분 동안 실온에서 방치한 후, 2시간 동안 50℃에서 경화하였다.
비교 매체:
상기 기재된 바와 같이 제조된 폴리올 성분 7.913 g을 데스모룩스 VP LS 2308 (독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게로부터의 실험 제품, 헥산 디이소시아네이트 폴리이소시아네이트를 기재로 함, 굴절률 (532 nm) = 1.496) 0.500 g, 다로큐어 TPO 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 (스위스 바젤 소재의 시바 스페셜티 케미칼스로부터의 시판 제품) 0.015 g 및 벤즈히드롤 0.050 g과 50℃에서 혼합하여, 투명한 용액을 수득하였다. 그 후, 30℃로 냉각하고, 데스모듀어® XP 2410 (독일 레버쿠센 소재의 바이엘 머티리얼사이언스 아게의 실험 제품, 헥산 디이소시아네이트-기재 폴리이소시아네이트, 30％ 이상의 이미노옥사디아진디온의 비율, NCO 함량: 23.5％) 1.522 g을 첨가하고, 다시 혼합하였다. 최종적으로, 폼레즈 UL 28 (우레탄화 촉매, 미국 코네티컷주 윌턴 소재의 지이 실리콘스로부터의 시판 제품) 0.004 g을 첨가하고, 다시 간단하게 혼합하였다. 그 후, 수득된 액체 물질을 유리 플레이트 상에 붓고, 진열된 스페이서에 의해 250 ㎛의 거리로 유지된 제2 유리 플레이트로 커버하였다. 이 시험 표본을 먼저 30분 동안 실온에서 방치한 후, 2시간 동안 50℃에서 경화하였다.
그 후, 기재된 바와 같이 제조된 매체들을 이들의 홀로그래픽 특성에 대해 다음과 같이 시험하였다:
도 1은 매체의 동적 범위, 소위 M#을 측정하는 홀로그래픽 시험 셋업을 나타낸다.
GaN 레이저 다이오드 (방출 파장 405 nm)의 레이저 빔의 타원형 빔 횡단면을 무정형 프리즘 쌍 AP의 도움으로 원형으로 만들었다. 레이저 다이오드는 충분히 큰 간섭 길이를 생성하기 위한 외부 공진기를 가졌다. 공간 필터 (R)는 시준 렌즈 (L)와 함께 조리개 (I1)에 의해 횡단면이 확립된 평행 균일 빔을 생성하였다. 편광-의존성 광 분리기 (P1 및 P2)는 레이저 빔을 2개의 간섭성 균등 편광 빔으로 분리하였다. 2개의 빔의 파워를 λ/2 플레이트 (W1 및 W2)에 의해 1 mW로 조절하였다. 제거된 샘플과 반도체 검출기 (D1 및 D2)의 도움으로 파워를 결정하였다. 조리개 (I3 및 I4)를 4 mm의 직경으로 조절하였다. 반각 (θ)은 21.72°였다. 샘플 (매체)의 위치에서, 2개의 중첩 빔의 간섭장은 샘플 상에 2개의 입사광의 각 이등분선에 대해 평행한 밝은 스트립 및 어두운 스트립의 격자를 생성하였다. 매체에서의 스트립 간격은 약 550 nm였다 (매체의 굴절률은 약 1.49라고 추정됨).
61개의 홀로그램을 하기 방법으로 회전대 (DT)의 회전의 상이한 각 (W)에서 매체에 작성하였다:
셔터 2 (S2)는 항상 개방하였다.
Ω를 -30°로 설정하였다. 셔터 1 (S1)을 t1 시간 동안 개방하였다.
Ω를 -29°로 설정하였다. 셔터 1 (S1)을 t2 시간 동안 개방하였다.
Ω를 +30°로 설정하였다. 셔터 1 (S1)을 t61 시간 동안 개방하였다.
그 후, 셔터 (S1 및 S2)가 폐쇄된 상태에서, 매체는 아직 중합되지 않은 기록 단량체의 확산을 위해 매체에 5분의 시간을 허용하였다.
기록된 홀로그램을 하기 방법으로 판독하였다. 셔터 2 (S2)를 폐쇄된 상태로 유지하였다. 셔터 1 (S1)을 개방하였다. < 1 mm의 직경으로 조리개 (I2)를 폐 쇄하였다. 이는 빔이 항상 회전의 모든 각 (Ω)에 대해 미리 기록된 홀로그램에 완전히 놓였음을 확실하게 하였다. 회전대는 이제 컴퓨터 제어하에 0.02°의 각 단계 너비로 Ω = -32° 내지 Ω = 32°의 각 범위를 커버하였다. 도달된 각 Ω 각각에서, 0차로 투과된 빔의 파워는 검출기 D1에 의해 측정하였고, 1차로 회절된 빔의 파워는 검출기 D2에 의해 측정하였다. 도달된 각 W 각각에서,
D2에서의 파워/(D2에서의 파워 + D1에서의 파워)
의 몫으로서 회절 효율을 얻었다.
Ω에 대한 회절 효율의 플롯팅시, 재구성된 홀로그램을 이 도표에서 피크로서 회수하였다. 홀로그램의 i의 최대 회절 효율, 즉 그의 피크 값을 εi라고 하였다. 그러므로, 동적 범위 M#은 다음와 같이 밝혀졌다:
M# = (ε1)0.5 + (ε2)0.5 ... (ε61)0.5 (1)
개별 홀로그램의 기록 시간 ti는 유효한 M#에 대한 하기 추가 조건이 충족되도록 연속적인 최적화에 의해 선택해야 했다. 모든 εi은 < 0.1이어야 하고, 홀로그램 1, 2 내지 j의 기록 시간 ti에 대해 플롯팅된 부분 합 M# = (ε1)0.5 + (ε2)0.5 ... (εj)0.5는 j로서의 포화 값을 61로 의도하도록 하는 경향이 있어야 하였다. 그 후, 이 포화 값은 상기 식 (1)에 따라 유효한 M#이었다.
61개의 홀로그램의 경우, 19.28의 최대 M#를 주어진 경계 조건하에 결정하였 다. 매체의 동적 범위가 더 큰 경우, 홀로그램의 수를 증가시킬 수 있어야 하였다. 동시에, 2개의 연속적으로 기록된 홀로그램 간의 각 증가분은 1°로부터 상응하는 더 작은 값으로 감소해야 하였다.
M#은 매체의 두께와 선형으로 비례하였다. 상기 언급된 실시예에서 매체의 두께는 매체의 제조에서 사용된 스페이서로 인해 250 ㎛였다. 다른 두께 d를 갖는 매체와의 비교를 확실하게 하기 위해, M#을 다음 식에 의해 200 ㎛의 매체 두께로 스케일링하였다.
M#/200 ㎛ = M#·200 ㎛/d.
매체가 매우 얇은 경우, 61개의 홀로그램이 서로 개별적으로 기록되고 판독되지 못하도록, 홀로그램의 수를 감소시킬 수 있었다. 동시에, 2개의 연속적으로 기록된 홀로그램 간의 각 증가분은 1°로부터 상응하는 더 큰 값으로 증가되어야 하였다.
M#/200 ㎛에 대해 하기 측정된 값을 수득하였다:
실시예 동적 범위 (M#/200 ㎛)
매체 1 6.73
매체 2 6.98
매체 3 7.33
비교 매체 2.09
동적 범위에서 발견된 값은, 비교 매체에서 사용되고 < 1.5의 굴절률을 갖는 우레탄 아크릴레이트는 홀로그래픽 매체에서 사용하기에 적합하지 않으나, ≥ 1.5의 굴절률을 갖는 매체 1 내지 3에서의 우레탄 아크릴레이트는 홀로그래픽 매체의 제조에 매우 적합하다는 것을 나타낸다.

Claims (12)

  1. ≥ 1.5의 λ = 532 nm에서의 굴절률을 갖는 올레핀계 불포화 방향족 우레탄으로부터 제조된 홀로그래픽 매체.
  2. 제1항에 있어서, 올레핀계 불포화 방향족 우레탄이 우레탄 아크릴레이트 및/또는 우레탄 메타크릴레이트인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 매체.
  3. A) 하나 이상의 방향족 폴리이소시아네이트를
    B) 하나 이상의 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 갖는 하나 이상의 이소시아네이트-반응성 화합물,
    C) 임의로, 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 함유하지 않은 하나 이상의 이소시아네이트-반응성 화합물,
    D) 임의로, 하나 이상의 나노미립자 충전제, 및
    E) 임의로, 하나 이상의 안정화제
    와 반응시키는 단계를 포함하며, 여기서 올레핀계 불포화 방향족 우레탄은 ≥ 1.5의 λ = 532 nm에서의 굴절률을 갖는 것인, 올레핀계 불포화 방향족 우레탄의 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 1,4-페닐렌 디이소시아네이트, 2,4- 및/또는 2,6-톨루일렌 디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌 디이소시아네이트, 2,4'- 또는 4,4'-디페닐메탄 디이소시아네이트, 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트 및 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트, 우레탄, 우레아, 카르보디이미드, 아실우레아, 이소시아누레이트, 알로파네이트, 비우레트, 옥사디아진트리온, 우레트디온 또는 이미노옥사디아진디온 구조를 갖는 상기 언급된 단량체 이소시아네이트의 하나 이상의 이차 생성물, 및 상기 언급된 화합물들의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 화합물이 A)에서 사용되는 것인 방법.
  5. 제3항에 있어서, 분자당 이소시아네이트에 대한 하나 이상의 반응성 기를 갖는, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레이네이트, 푸마레이트, 말레이미드, 아크릴아미드, 비닐 에테르, 프로페닐 에테르, 알릴 에테르, 및 디시클로펜타디에닐 단위를 함유하는 화합물로 구성된 군의 하나 이상의 화합물이 B)에서 사용되는 것인 방법.
  6. 제3항에 있어서, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시프로필 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 폴리(ε-카프로락톤) 모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리틸 트리아크릴레이트, 및 글리시딜 메타크릴레이트와 아크릴산의 반응 생성물로 구성된 군의 하나 이상의 화합물이 B)에서 사용되는 것인 방법.
  7. 제3항에 있어서, 9-(2-히드록시에틸)-9H-카르바졸, 히드록시메틸나프탈렌, N-(2-히드록시에틸)프탈이미드, 2-페닐에탄올, (p-클로로)페닐에탄올, 2-(p-클로로페닐)에탄올, 트리페닐메탄올 및/또는 나프탈렌티오메탄올에서 선택된 하나 이상의 화합물이 C)에서 사용되는 것인 방법.
  8. 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따라 수득가능한 올레핀계 불포화 방향족 우레탄.
  9. 하기 화학식
    Figure 112009061907613-PCT00003
    및
    Figure 112009061907613-PCT00004
    (상기 식들에서, X는 산소, 아미노 또는 황이고,
    R은 헤테로원자를 임의로 함유하는 올레핀계 불포화 탄화수소 라디칼 30 mol ％ 이상, 및 헤테로원자를 임의로 함유하고 올레핀계 불포화기를 함유하지 않은 탄화수소 라디칼 70 mol％ 이하를 포함함)
    의 하나 이상의 구조 단위를 포함하는 우레탄 (메트)아크릴레이트.
  10. 제9항에 있어서, 헤테로원자를 임의로 함유하는 올레핀계 불포화 탄화수소 라디칼이 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트 및/또는 부틸 아크릴레이트 라디칼이고, 헤테로원자를 임의로 함유하고 올레핀계 불포화기를 함유하지 않은 탄화수소 라디칼이 9H-카르바졸, 9-에틸-9H-카르바졸, 나프탈렌, 메틸나프탈렌, N-에틸프탈이미드, 벤젠, 에틸벤젠, (p-클로로)에틸벤젠 및/또는 트리페닐메탄 라디칼인 우레탄 (메트)아크릴레이트.
  11. 제9항에 있어서, 하나 이상의 방사선-경화성 올레핀계 불포화 이중 결합을 갖는 이소시아네이트-반응성 화합물과 트리스(p-이소시아네이토페닐) 티오포스페이트 및/또는 트리페닐메탄 4,4',4"-트리이소시아네이트를 반응시킴으로써 제조되는 우레탄 (메트)아크릴레이트.
  12. a) 제8항에 따른 올레핀계 불포화 우레탄 또는 제9항에 따른 우레탄 (메트)아크릴레이트, b) 이소시아네이트 성분, c) 이소시아네이트-반응성 성분, 및 d) 광개시제로부터 제조된 홀로그래픽 매체.
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WO (1) WO2008125199A1 (ko)

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2683886A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Radiation-crosslinking and thermally crosslinking pu systems based on isocyanate-reactive block copolymers
EP2144942A1 (en) * 2007-04-11 2010-01-20 Bayer MaterialScience AG Radiation-crosslinking and thermally crosslinking pu systems comprising iminooxadiazinedione
CN101711410B (zh) * 2007-04-11 2012-12-12 拜尔材料科学股份公司 用于全息应用的有利记录介质
US20100206262A1 (en) * 2007-10-04 2010-08-19 Morph Technologies, Inc. Internal combustion engine covers
US8367170B2 (en) 2007-10-04 2013-02-05 Integran Technologies, Inc. Vehicular electrical and electronic housings
EP2193294B1 (en) 2007-10-04 2013-01-02 Integran Technologies Vehicular transmission parts
WO2009045428A1 (en) * 2007-10-04 2009-04-09 E.I.Du Pont De Nemours And Company Vehicular turbocharger components
US20100270767A1 (en) * 2007-10-04 2010-10-28 Morph Technologies, Inc. Vehicular suspension components
KR20100086480A (ko) * 2007-11-19 2010-07-30 사이텍 설패이스 스페셜티즈, 에스.에이. 방사선 경화성 조성물
DE502008002161D1 (de) 2008-08-08 2011-02-10 Bayer Materialscience Ag Phenylisocyanat-basierte Urethanacrylate mit hohem Brechungsindex
US20110207029A1 (en) * 2008-10-01 2011-08-25 Bayer Materialscience Ag Media for volume-holographic recording based on self-developing polymer
IL200997A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Special polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
IL200722A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer compositions for optical elements and visual displays
EP2342249B1 (de) * 2008-10-01 2017-10-25 Covestro Deutschland AG Prepolymerbasierte polyurethanformulierungen zur herstellung holografischer medien
IL200996A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer formulations having a low crosslinking density
IL200995A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
EP2218744A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Methode zur Herstellung von holografischen Photopolymeren auf Polymerfolien
EP2218742A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare Formulierungen
EP2218743A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme
US8284234B2 (en) 2009-03-20 2012-10-09 Absolute Imaging LLC Endoscopic imaging using reflection holographic optical element for autostereoscopic 3-D viewing
US8323854B2 (en) * 2009-04-23 2012-12-04 Akonia Holographics, Llc Photopolymer media with enhanced dynamic range
JP5483065B2 (ja) * 2009-09-28 2014-05-07 川崎化成工業株式会社 アントラセン骨格を有するエポキシアクリレート及びその製造法
EP2496620B1 (en) * 2009-11-02 2014-06-25 Ocutec Limited Polymers for contact lenses
BR112012010472A2 (pt) 2009-11-03 2016-03-15 Bayer Materialscience Ag processo para a produção de um filme holográfico
PL2496617T3 (pl) 2009-11-03 2015-07-31 Bayer Ip Gmbh Uretany jako dodatki w formulacji fotopolimerowej
EP2496549B1 (de) 2009-11-03 2014-10-08 Bayer Intellectual Property GmbH Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung
WO2011054797A1 (de) * 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung mit verschiedenen schreibcomonomeren
PL2497082T3 (pl) 2009-11-03 2013-12-31 Bayer Ip Gmbh Fluorouretany jako dodatek w formulacji fotopolimerowej
EP2317511B1 (de) * 2009-11-03 2012-03-07 Bayer MaterialScience AG Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem Modul Guv
TWI488908B (zh) 2009-11-03 2015-06-21 Bayer Materialscience Ag 製造全像膜的方法
EP2497081B1 (de) * 2009-11-03 2013-10-16 Bayer Intellectual Property GmbH Verfahren zur herstellung von holographischen medien
TWI506049B (zh) * 2009-11-03 2015-11-01 Bayer Materialscience Ag 具有高折射率和降低之雙鍵密度的丙烯酸胺基甲酸酯
WO2011091550A1 (en) * 2010-01-28 2011-08-04 Bayer Materialscience Ag High speed dvds
CN102947885A (zh) * 2010-01-28 2013-02-27 拜耳材料科技股份有限公司 高速dvd
US9366957B2 (en) * 2010-02-02 2016-06-14 Covestro Deutschland Ag Photopolymer formulation having triazine-based writing monomers
US9057950B2 (en) * 2010-02-02 2015-06-16 Bayer Intellectual Property Gmbh Photopolymer formulation having ester-based writing monomers
EP2368934A1 (de) * 2010-03-26 2011-09-28 Bayer MaterialScience AG Polymerschichtenverbund mit verbesserter Haftung der Schichten
EP2372454A1 (de) * 2010-03-29 2011-10-05 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung sichtbarer Hologramme
AU2011248124B2 (en) 2010-05-05 2016-07-21 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Compounds and methods of treating brain disorders
CN103153948B (zh) * 2010-08-11 2014-12-03 拜耳知识产权有限责任公司 双官能（甲基）丙烯酸酯书写单体
JP2012077278A (ja) * 2010-10-04 2012-04-19 Pelnox Ltd 光学材料用樹脂組成物およびその硬化物
JP5859280B2 (ja) * 2011-11-14 2016-02-10 新日鉄住金化学株式会社 感光性材料、ホログラフィック記録媒体、及びホログラフィック記録方法
JP6062732B2 (ja) * 2012-12-19 2017-01-18 株式会社Adeka 新規化合物及び着色感光性組成物
US10001703B2 (en) * 2013-10-17 2018-06-19 Covestro Deutschland Ag Photopolymer formulation for production of holographic media comprising borates with low TG
KR102382218B1 (ko) 2014-04-25 2022-04-05 코베스트로 도이칠란트 아게 홀로그래픽 광중합체 배합물에서의 기록 단량체로서의 방향족 글리콜 에테르
TWI576666B (zh) * 2014-09-24 2017-04-01 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組合物、感光性樹脂積層體、樹脂圖案之製造方法、硬化膜及顯示裝置
TWI579839B (zh) * 2015-02-17 2017-04-21 駿康科技有限公司 資訊記錄媒體記錄層之形成方法
US10662355B2 (en) * 2015-09-10 2020-05-26 Mitsui Chemicals Tohcello, Inc. Pressure-sensitive adhesive composition, process for producing same, and pressure-sensitive adhesive film
CN105418674A (zh) * 2015-11-10 2016-03-23 中国乐凯集团有限公司 一种高折射率树脂及其应用
US11718580B2 (en) 2019-05-08 2023-08-08 Meta Platforms Technologies, Llc Fluorene derivatized monomers and polymers for volume Bragg gratings
US20210155584A1 (en) * 2019-11-27 2021-05-27 Facebook Technologies, Llc Aromatic substituted methane-core monomers and polymers thereof for volume bragg gratings
US11780819B2 (en) 2019-11-27 2023-10-10 Meta Platforms Technologies, Llc Aromatic substituted alkane-core monomers and polymers thereof for volume Bragg gratings
US11879024B1 (en) 2020-07-14 2024-01-23 Meta Platforms Technologies, Llc Soft mold formulations for surface relief grating fabrication with imprinting lithography
CN113621121B (zh) * 2021-07-15 2022-08-23 中联重科股份有限公司 聚氨酯组合物和聚氨酯材料的制备方法及应用
CN114213626B (zh) * 2021-12-09 2023-04-28 江苏三木化工股份有限公司 一种植物油基光固化聚氨酯丙烯酸酯的制备方法
CN114231163A (zh) * 2021-12-22 2022-03-25 武汉工程大学 一种聚氨酯类有机无机复合材料及其制备方法和应用
CN115785756B (zh) * 2022-12-12 2023-07-28 江苏视科新材料股份有限公司 一种折光指数可调节的防蓝光涂层材料的制备方法
CN115785811B (zh) * 2022-12-12 2023-07-28 江苏视科新材料股份有限公司 一种高折射率防蓝光材料和防蓝光滤光片

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5916987A (en) * 1996-05-29 1999-06-29 Mitsui Chemicals, Inc. Thiol and Sulfur-containing O-(meth) acrylate compounds and use thereof
US6232038B1 (en) * 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
ATE265481T1 (de) * 1998-11-17 2004-05-15 Showa Denko Kk Photohärtbare zusammensetzung
EP1014113A3 (en) * 1998-12-21 2001-05-09 Dsm N.V. Photo curable resin composition and optical parts
BR0015757A (pt) * 1999-11-18 2003-06-24 Ppg Ind Ohio Inc Composição orgânica polimerizável, artigo polimerizado e artigo fotocrÈmico
KR100453344B1 (ko) * 2000-09-22 2004-10-20 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 아크릴산 에스테르화합물 및 그 용도
US6780546B2 (en) * 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
JP4164493B2 (ja) * 2002-07-29 2008-10-15 三井化学株式会社 光重合性組成物およびその用途
JP3852613B2 (ja) * 2003-02-12 2006-12-06 三菱化学株式会社 感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
JP2004295058A (ja) * 2003-02-14 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物
JP3896098B2 (ja) * 2003-06-27 2007-03-22 株式会社東芝 ホログラム記録媒体およびその作製方法
JP2006307159A (ja) * 2005-03-28 2006-11-09 Toyo Ink Mfg Co Ltd 硬化性高屈折率材料及び該硬化性高屈折率材料を用いてなる積層体
JP4675197B2 (ja) * 2005-09-20 2011-04-20 富士フイルム株式会社 溶媒非含有の光記録用組成物及びその製造方法、並びに光記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
EP2137220B1 (en) 2017-10-18
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US20080312403A1 (en) 2008-12-18

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