KR20090131911A - 평면디스플레이용 면취기 - Google Patents

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KR20090131911A KR1020080057908A KR20080057908A KR20090131911A KR 20090131911 A KR20090131911 A KR 20090131911A KR 1020080057908 A KR1020080057908 A KR 1020080057908A KR 20080057908 A KR20080057908 A KR 20080057908A KR 20090131911 A KR20090131911 A KR 20090131911A
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Abstract

평면디스플레이용 면취기가 개시된다. 본 발명의 평면디스플레이용 면취기는, 기판이 로딩되는 기판 로딩유닛(loading unit); 기판이 안착 지지되는 적어도 하나의 스테이지와, 기판에 대한 면취 가공을 진행하는 그라인더를 구비하는 면취 가공유닛; 면취 가공유닛에 의해 면취 가공이 완료된 기판이 언로딩되는 기판 언로딩유닛(unloading unit); 및 면취 가공유닛의 인접한 영역에 마련되며, 새로운 기판을 로딩하기 위하여 기판 로딩유닛 방향으로 이동하는 스테이지의 표면으로 스테이지의 세정을 위한 세정유체를 분사하는 스테이지 세정유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 면취 가공된 기판을 기판 언로딩유닛으로 이송시킨 후 새로운 기판이 안착되기 전에 스테이지의 안착 부분을 세정할 수 있어 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 이러한 세정 작업이 공정 중에 진행되어 작업 효율을 향상시킬 수 있다.

Description

평면디스플레이용 면취기{GRINDING APPARATUS FOR GLASS}
본 발명은, 평면디스플레이용 면취기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판이 안착되는 스테이지의 상부를 공정 중에 효율적으로 세정할 수 있어 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 이로 인해 작업 효율을 향상시킬 수 있는 평면디스플레이용 면취기에 관한 것이다.
최근 들어 반도체 산업 중 전자 디스플레이 산업이 급속도로 발전하면서 평면디스플레이(Flat Panel Display, FPD)가 등장하기 시작하였다.
평면디스플레이(FPD)는, 종전에 TV나 컴퓨터 모니터 등에 디스플레이(Display)로 주로 사용된 음극선관(CRT, Cathode Ray Tube)보다 두께가 얇고 가벼운 영상표시장치로서, 이에는 액정표시장치(LCD, liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등이 있다.
이하, LCD, PDP 및 OLED 등을 포함하는 평면디스플레이(FPD)의 패널을 기판이라 하여 설명하기로 한다.
기판은 보통, 직사각형의 형태를 가지며 글라스(glass) 재질로 제작된다. 따 라서 기판의 4군데 코너(모서리)에 대한 코너 가공(Corner Cut), 그리고 기판의 단변 및 장변의 에지에 대한 단변 에지 가공(Edge Cut) 및 장변 에지 가공(Edge Cut), 즉 기판의 코너 및 변에 대한 모따기 식의 면취 가공을 해야만 글라스 자체의 날카로움이 제거되어 공정간 이송 및 조작이 수월해지게 되고 안전사고를 미연에 예방할 수 있는데, 이러한 면취 가공을 위해 면취기가 사용된다.
도 1은 종래의 일 실시 예에 따른 면취기의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다. 이에 도시된 바와 같이, 종래의 일 실시 예에 따른 면취기는 기판에 대한 면취 가공이 진행되는 면취 가공유닛(20)을 사이에 두고 양측에 배치되는 기판 로딩유닛(10)과, 기판 언로딩유닛(80)을 구비한다.
면취 가공유닛(20)은, 기판(G)이 안착되되 기판 로딩유닛(10)과 기판 언로딩유닛(80)을 연결하는 가상의 작업 라인을 따라 이동하는 스테이지(70)와, 스테이지(70)에 안착된 기판(G)을 면취 가공하는 면취 가공용 휠(25)을 구비한다.
스테이지(70)에 안착된 기판(G)은 면취 가공용 휠(25)에 의해 4군데 코너, 단변 에지 및 장변 에지가 면취 가공되고, 면취 가공된 기판(G)은 기판 언로딩유닛(80)으로 이송된 후 다음 작업 공간으로 이송된다. 이 때 기판 로딩유닛(10)과 스테이지(70) 사이에는 별도의 픽업 로봇(미도시)이 마련되어 기판 로딩유닛(10) 상의 기판(G)을 스테이지(70) 상면으로 이송시킬 수 있으며, 마찬가지로 스테이지(70)와 기판 언로딩유닛(80) 사이에도 역시 또 다른 픽업 로봇이 마련되어 면취 가공된 기판(G)을 기판 언로딩유닛(80) 상으로 이송시킬 수 있다.
한편, 스테이지(70)에 안착된 기판(G)이 면취 가공용 휠(25)에 의해 면취 가 공될 때, 면취 가공에 의해 발생되는 이물질이 스테이지(70) 상에 잔존하게 된다. 따라서, 픽업 로봇에 의해 면취 가공된 기판(G)을 스테이지(70)로부터 기판 언로딩유닛(80)으로 이송시킨 후, 스테이지(70)는 그 상면에 기판(G)을 다시 로딩하기 위하여 기판(G)이 로딩되는 부분을 세정해주어야 한다. 이는, 기판(G)이 로딩되는 스테이지(70)의 상부를 세정해주지 않는 경우, 추후에 스테이지(70)의 상부에 로딩되는 기판(G)이 스테이지(70)에 잔존하는 이물질에 의해 오염될 수 있기 때문이다.
그런데, 종래의 일 실시 예에 따른 면취기에 있어서는, 이물질이 잔존하는 스테이지(70)로부터 이물을 제거하기 위한 세정 장치가 구비되어 있지 않으며, 따라서 스테이지(70)로부터 이물질을 제거하기 위해서는 공정을 중단시킨 후 작업자가 직접 스테이지(70)를 세정해야 하는 번거로움이 있으며, 이로 인해 작업 효율이 저하되는 문제점이 있다.
따라서, 면취 가공이 계속적으로 진행되는 가운에 스테이지에 대한 세정 작업을 실행할 수 있으며, 스테이지에 잔존하는 이물질을 확실히 제거함으로써 추후에 로딩되는 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있는 세정 장치를 구비한 면취기의 개발이 필요한 실정이다.
본 발명의 목적은, 면취 가공된 기판을 기판 언로딩유닛으로 이송시킨 후 새로운 기판이 안착되기 전에 스테이지의 안착 부분을 세정할 수 있어 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 이러한 세정 작업이 공정 중에 진행되어 작업 효율을 향상시킬 수 있는 평면디스플레이용 면취기를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 기판이 로딩되는 기판 로딩유닛(loading unit); 상기 기판이 안착 지지되는 적어도 하나의 스테이지와, 상기 기판에 대한 면취 가공을 진행하는 그라인더를 구비하는 면취 가공유닛; 상기 면취 가공유닛에 의해 면취 가공이 완료된 상기 기판이 언로딩되는 기판 언로딩유닛(unloading unit); 및 상기 면취 가공유닛의 인접한 영역에 마련되어 새로운 기판을 로딩하기 위하여 상기 기판 로딩유닛 방향으로 이동하는 상기 스테이지의 표면으로 상기 스테이지의 세정을 위한 세정유체를 분사하는 스테이지 세정유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기에 의해서 달성된다.
여기서, 상기 스테이지 세정유닛은, 상기 스테이지의 이동 방향의 가로 방향을 따라 마련되는 유닛프레임; 및 상기 스테이지의 상부 영역에서 상기 유닛프레임에 착탈 가능하게 결합되어 상기 스테이지의 표면으로 상기 세정유체를 분사하는 적어도 하나의 단위 세정부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 단위 세정부로부터 상기 스테이지의 표면으로 분사되는 상기 세정유체가 상기 스테이지의 내측에서 외측 방향으로 분사될 수 있도록, 상기 단위 세정부는 유닛프레임에 경사지게 결합되는 것이 바람직하다.
상기 단위 세정부는 상기 스테이지 하나당 한 쌍씩 마련되도록 상기 유닛프레임에 결합되며, 상기 스테이지에 각각 마련되는 한 쌍의 상기 단위 세정부는 상호간 대칭되는 경사도를 갖도록 상기 유닛프레임에 경사지게 결합되는 것이 바람직 하다.
상기 단위 세정부는, 상기 스테이지의 표면으로 상기 세정유체를 분사하는 분사구가 마련되어 있는 분사 몸체부; 및 상기 분사 몸체부가 상기 유닛프레임에 대해 회동 가능하도록 상기 분사 몸체부를 상기 유닛프레임에 결합시키는 회동 결합부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 분사 몸체부는, 상기 회동 결합부에 대해 회동 가능하게 결합되는 회동부재; 및 상기 회동부재와 실질적으로 나란한 방향을 갖도록 상기 회동부재에 결합되며, 상단부로부터 내측 방향으로 상기 세정유체가 이동하는 이동공간이 함몰 형성되어 있는 분사부재를 포함할 수 있다.
상기 분사 몸체부는, 상기 분사부재의 상단부에 결합되어 상기 분사부재의 내부를 외부와 차폐하는 차폐부재를 더 포함하며, 상기 분사구는 상기 분사부재의 선단부와 상기 차폐부재의 선단부가 상호 이격되게 결합되어 슬릿(slit) 형상으로 마련되는 것이 바람직하다.
상기 회동 결합부는, 상기 유닛프레임에 결합되는 프레임 체결부재; 상기 회동부재가 축 중심으로 회동 가능하도록 상기 회동부재에 결합되는 회동 결합부재; 및 상기 회동부재의 길이 방향의 가로 방향으로 마련되며, 상기 회동 결합부재를 상기 프레임 체결부재에 대해 상대 회동 가능하게 상기 프레임 체결부재 및 상기 회동 결합부재 간을 연결시키는 연결부재를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 스테이지 세정유닛은 상기 면취 가공유닛과 상기 기판 언로딩 유닛 사이에 마련되는 것이 바람직하다.
상기 평면디스플레이용 면취기는, 면취 가공이 완료된 상기 기판이 상기 기판 언로딩유닛으로 이송되고 상기 스테이지가 상기 기판 로딩유닛 방향으로 이동될 때, 상기 스테이지 세정유닛으로부터 상기 세정유체가 분사되도록 상기 스테이지 세정유닛의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 면취 가공된 기판을 기판 언로딩유닛으로 이송시킨 후 새로운 기판이 안착되기 전에 스테이지의 안착 부분을 세정할 수 있어 기판이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 이러한 세정 작업이 공정 중에 진행되어 작업 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 2는 면취 가공되는 부분을 설명하기 위한 기판의 사시도이다.
도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 기판이라 함은 TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) 기판을 의미하지만, 본 발명의 권리범위가 이제 제한되는 것은 아니므로 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등의 평면디스플레이(Flat Panel Display, FPD)에도 적용될 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해 TFT-LCD 기판을 그 예로 하여 설명하기로 한다.
참고로, TFT-LCD 기판(G)은, 액정을 사이에 두고 상판과 하판이 합착된 상태의 두 겹으로 제작되며, 하판의 상면에는 상판이 중첩되지 않은 구간이 존재하는 것이 보통이다. 하지만, 도 2에서는 도시 및 설명의 편의를 위해 TFT-LCD 기판(G)을 대략 사각 판 형태로 개략적으로 도시하고 있다.
이 도면을 참조할 때, 본 실시예의 면취기를 통해 기판(G)은 4군데 코너, 즉 전면 양측 코너(확대 A 참조) 및 후면 양측 코너(확대 B 참조), 그리고 양측 단변 에지(확대 C 참조) 및 양측 장변 에지(확대 D 참조)가 면취 가공된다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면디스플레이용 면취기에 대한 개략적인 평면도이고, 도 4 및 도 5는 각각 도 3의 부분 확대 사시도이고, 도 6은 스테이지의 상부에 마련된 스테이지 세정유닛의 장착 상태를 도시한 사시도이고, 도 7은 도 6에 도시된 단위 세정부의 사시도이고, 도 8은 도 7의 'Ⅷ-Ⅷ'선에 따른 단면도이다.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면디스플레이용 면취기는, 면취 가공 대상인 기판이 로딩되는 기판 로딩유닛(210)과, 면취 가공이 완료된 기판(G)이 언로딩되는 기판 언로딩유닛(290)과, 기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280) 사이에 마련되어 기판(G)에 대한 면취 가공이 진행되며 작업을 위한 이동형의 스테이지(270a, 270b)를 갖는 면취 가공유닛(220)과, 기판 언로 딩유닛(280)으로 기판(G)을 이송시키고 새로운 기판을 로딩시키기 위하여 기판 로딩유닛(210)으로 이동하는 스테이지(270a, 270b)의 기판(G) 안착 부분을 세정하는 스테이지 세정유닛(230)과, 스테이지 세정유닛(230)의 동작을 제어하는 제어부(미도시)를 포함한다.
기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280) 모두는, 기판(G)을 이송시키는 역할을 하기 때문에 도시된 바와 같이, 롤러(roller) 타입으로 적용될 수 있다. 즉, 기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280)은, 다수의 회전축(211, 281) 각각에 기판(G)을 회전 가능하게 지지하는 다수의 롤러(212, 282)가 결합된 구조로 마련될 수 있다.
하지만, 본 발명의 권리범위가 이에 제한되는 것은 아니므로 기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280)은, 통상의 컨베이어 타입(conveyor type)이나 스테이지 타입(stage type)으로 대체되어도 무방하다. 이처럼 기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280)이 컨베이어 타입이나 스테이지 타입으로 적용되는 경우에는 기판(G)을 업(up)시키기 위한 공기부상모듈(미도시)이 함께 적용되는 것이 유리할 것이다.
다수의 롤러(212, 282)는 기판(G)에 스크래치가 발생되지 않도록 유연한 재질로 제작되는 것이 바람직하다. 그리고 다수의 회전축(211, 281)은 그 회전 속도의 제어가 용이하도록 단일의 모터에 의해 일괄적으로 함께 회전될 수 있지만, 반드시 그러한 것은 아니므로 개별모터에 의해 다수의 회전축(211, 281) 각각이 개별적으로 회전되도록 할 수도 있다.
기판 로딩유닛(210)에는 진입되는 기판(G)에 대해 얼라인(align) 작업을 진행하는 얼라인부(215)가 마련되어 있다. 얼라인부(215)는 상호간 접근 및 이격되는 동작에 의해 기판(G)의 양측면을 가압함으로써 기판(G)을 바르게 정렬시키는 역할을 한다.
이러한 기판 로딩유닛(210)에는 기판 언로딩유닛(280)과는 달리 기판(G)이 진입되는 방향을 따라 다수의 진입감지센서(214)가 더 마련되어 있다. 다수의 진입감지센서(214)는 기판(G)의 진입 위치에 기초하여 회전축(211)의 속도를 줄이거나 정지시키기 위한 감지 신호를 발생시킨다.
기판 언로딩유닛(280)에는 면취량 측정유닛(290)이 더 마련되어 있다. 면취량 측정유닛(290)은 면취 가공유닛(220)을 통해 면취 가공이 완료된 기판(G)에 대한 면취량을 측정하는 역할을 한다.
면취량 측정유닛(290)에 의해 면취량이 측정된 기판(G)에 대하여, 만약 잘못 면취된 경우이거나 면취량이 기준치 미만인 경우라면, 면취 가공유닛(220)에 의해 실시간으로 보정 작업이 진행될 수 있다.
기판 로딩유닛(210)과 기판 언로딩유닛(280)에는, 다수의 롤러(212, 282)에 대하여 기판(G)을 소정 높이 업(up)시키는 다수의 리프트 핀(213, 283)이 다수의 롤러(212, 282) 사이사이에 더 마련되어 있다.
이러한 리프트 핀(213, 283)들은, 기판 로딩유닛(210)과 면취 가공유닛(220) 사이 영역, 그리고 면취 가공유닛(220)과 기판 언로딩유닛(280) 사이 영역에 마련되어 해당 위치에서 기판(G)을 이송시키는 트랜스퍼(260a, 260b)의 동작에 연동하 여 동작된다. 즉, 리프트 핀(213, 283)들은 트랜스퍼(260a, 260b)가 기판 로딩유닛(210)에서 면취 가공유닛(220)으로, 혹은 면취 가공유닛(220)에서 기판 언로딩유닛(280)으로 기판(G)을 이송시킬 때 업(up)되는 동작을 보인다.
면취 가공유닛(220)의 설명에 앞서, 트랜스퍼(260a, 260b)에 대해 먼저 설명하도록 한다.
전술한 바와 같이, 트랜스퍼(260a, 260b)는 기판 로딩유닛(210)과 면취 가공유닛(220) 사이 영역, 그리고 스테이지 세정유닛(230)과 기판 언로딩유닛(280) 사이 영역에 마련되어, 기판 로딩유닛(210) 상의 기판(G)을 제1 스테이지(270a) 및 제2 스테이지(270b)로, 제1 스테이지(270a) 및 제2 스테이지(270b) 상의 기판(G)을 기판 언로딩유닛(280)으로 이송시키는 역할을 담당한다. 본 실시 예에서는, 기판 로딩유닛(210)과 면취 가공유닛(220) 사이 영역, 그리고 스테이지 세정유닛(230)과 기판 언로딩유닛(280) 사이 영역에 각각 배치되는 트랜스퍼(260a, 260b)의 구조 및 동작은 실질적으로 동일하다.
한편, 면취 가공유닛(220)은, 실질적으로 기판 로딩유닛(210)으로부터 제공된 기판(G)의 4군데 코너, 기판(G)의 단변 에지 및 기판(G)의 장변 에지에 대한 면취 가공을 진행하는 부분이다(도 2 참조).
이를 위해, 본 실시 예의 면취 가공유닛(220)은, 상면으로 기판(G)이 안착 지지되는 2개의 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)와, 면취 가공용 휠(225)을 구비한 그라인더(221)를 구비한다.
본 실시 예에서 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)는 Y축을 따라 2개 마련된 다. 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)는 면취 가공 작업을 각각 병렬적으로 진행하기 때문에 그만큼 택트타임이 감소되어 생산성이 향상될 수 있다. 하지만, 본 발명의 권리범위가 이에 제한되는 것은 아니므로 하나의 스테이지만이 구비될 수도 있고, 혹은 3개 이상의 스테이지가 구비될 수도 있다.
제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)는, 전술한 트랜스퍼(260a, 260b)와 마찬가지로 위치만이 상이할 뿐 구조 및 동작으로 실질적으로 동일하다. 이에, 도시 및 설명의 편의를 위해 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)의 세부 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하도록 한다.
제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)는, 다양한 사이즈의 기판(G)에 혼용을 적용될 수 있는 구조를 갖고 있다. 즉, 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b) 각각은, 기판(G)을 흡착하여 회전시키는 하나의 턴테이블(271)과, 턴테이블(271)의 외곽에 배치되어 턴테이블(271)과 함께 기판(G)을 흡착하여 지지하며 다양한 사이즈의 기판(G) 모두에 대응할 수 있도록 턴테이블(271)에 대해 접근 및 이격 가능한 4개의 가변테이블(273)을 구비한다.
상면이 대략 원 형상을 가지며 중앙에 1개 마련되는 턴테이블(271)에 대해, 가변테이블(273)은 턴테이블(271)의 외곽에서 상호간 대칭되게 4개 마련된다. 만약, 가공 대상의 기판(G) 사이즈가 클 경우에는 턴테이블(271)과 가변테이블(273)의 전체 흡착 면적이 넓어질 수 있도록 턴테이블(271)에 대해 4개의 가변테이블(273)이 이격된 상태를 유지하여야 하고, 면취 가공 대상인 기판(G)의 사이즈가 작은 경우 턴테이블(271)에 대해 4개의 가변테이블(273)이 접근되어야 한다.
그리고 턴테이블(271)과 가변테이블(273)의 상면에는 기판(G)의 진공 흡착을 위한 진공홀(미도시)이 형성되어 있다. 이러한 진공홀은, 턴테이블(271)과 가변테이블(273)의 상면으로부터 하방으로 일정 깊이 함몰된 상태에서 일정한 형상의 라인을 이루어 기판(G)에 대한 진공 흡착 면적으로 배가시키는 진공 흡착 라인홈(미도시)에 하나씩 형성되어 있다.
한편, 그라인더(221)는, 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)에 흡착 지지된 기판(G)에 대해 실질적인 면취 가공을 진행하는 부분이다.
본 실시 예의 경우, Y축을 따라 2개의 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)가 마련되어 있으므로, 장비의 간소화를 위해 그라인더(221)는 공유 그라인더로서 적용된다. 이처럼 그라인더(221)가 공유 그라인더로 마련됨으로써, 그라인더(221)에 마련된 한 쌍의 얼라인 카메라(223), 면취 가공용 휠(225)은 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b) 쪽으로 선택적으로 이동되면서 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)와 함께 기판(G)에 대한 면취 가공 작업을 진행하게 된다.
그라인더(221)는, 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)에 안착된 기판(G)의 얼라인(align) 작업을 위한 한 쌍의 얼라인 카메라(223)와, 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공을 진행하기 위하여 X축 방향으로 이동 가능하게 마련되는 면취 가공용 휠(225)과, 한 쌍의 얼라인 카메라(223)가 길이 방향으로 이동할 수 있도록 스테이지(270a, 270b)의 이동 방향과 가로 방향으로 배치되는 카메라 지지프레임(224)과, 면취 가공용 휠이 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공을 모두 실행할 수 있도록 면취 가공용 휠(225)이 이동 가능하게 배치되는 휠 지지프레임(226)을 구비한다.
얼라인 카메라(223)는 기판(G)의 꼭지점 부분에 형성된 2개의 얼라인 마크(align mark)를 촬영하기 위해 한 쌍으로 마련된다.
면취 가공용 휠(225)은 X축 방향으로 이동하며 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공을 실행한다. 즉, 면취 가공용 휠(225)이 먼저 제1 스테이지(270a)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공을 실행한 후, 면취 가공용 휠(225)은 제2 스테이지(270b) 방향으로 이동하여 제2 스테이지(270b)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공을 실행한다. 다만, 면취 가공 효율을 보다 향상시키기 위하여 면취 가공용 휠(225)은 스테이지의 수에 대응되게 마련되어도 무방하다 할 것이다.
면취 가공용 휠(225)에 의해 기판(G)이 면취 가공되는 동작에 대해 개략적으로 설명하되 제1 스테이지(270a)에 안착된 기판(G)에 대한 면취 가공 동작에 대해 설명하면, 제1 스테이지(270a)가 면취 가공용 휠(225) 방향으로 이동할 때 면취 가공용 휠(225)이 업(up)되어 기판(G)의 전면 코너 가공이 이루어지고, 이어서 기판(G)이 면취 가공용 휠(225) 사이를 통과할 때 기판(G)의 양측 단변 에지에 대한 면취 가공이 진행된다. 이후 제1 스테이지(270a)가 후방으로 이동하여 면취 가공용 휠(225)에 의해 기판(G)의 후면 코너 가공이 이루어지고, 이어서 제1 스테이지(270a)가 기판(G)의 양측 단변 에지가 면취 가공될 때의 방향과 역방향으로 이동함으로써 기판(G)의 양측 장변 에지에 대한 면취 가공이 이루어진다.
이 때, 제1 스테이지(270a)는 면취 가공이 진행되는 동안 턴테이블(271)의 회전에 의해 기판(G)의 위치를 변환할 수 있으며, 턴테이블(271)의 회전과 실질적으로 동시에 가변테이블(273)의 위치 또한 변환되어 기판(G)이 안정적으로 지지될 수 있다.
카메라 지지프레임(224) 및 휠 지지프레임(226)은 리니어 모터(Linear Motor)에 의해 구동되어 얼라인 카메라(223) 및 면취 가공용 휠(225)을 리니어 모션으로 슬라이딩 이동시킬 수 있다. 또한, 도 3 및 도 5에는 카메라 지지프레임(224) 및 휠 지지프레임(226)이 개별적으로 도시되어 있지만, 이들은 한 몸체로 상호 연결될 수도 있다.
한편, 면취 가공이 완료된 기판(G)을 기판 언로딩유닛(280)에 이송시킨 후, 스테이지(270a, 270b)는 전술한 작업을 다시 반복하기 위하여 기판 로딩유닛(210) 방향으로 이동한다. 그런데 기판(G)이 안착되는 스테이지(270a, 270b)의 상부에는 기판(G)의 면취 가공 시 발생된 이물질이 잔존할 수 있기 때문에 기판(G)이 안착되는 스테이지(270a, 270b)의 상부를 세정한 후 다음 기판(G)을 로딩하여야 한다. 이는, 세정을 하지 않고 새로운 기판(G)이 스테이지(270a, 270b)에 로딩되는 경우 스테이지(270a, 270b)에 잔존하는 이물질에 의해 기판(G)이 오염될 수 있기 때문이다.
따라서, 본 실시 예의 면취기는, 면취 가공유닛(220)과 기판 언로딩유닛(280) 사이에 마련되어 스테이지(270a, 270b)의 표면을 세정하는 스테이지 세정유닛(230)과, 스테이지(270a, 270b)의 표면으로 세정유체를 분사하는 스테이지 세 정유닛(230)의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함하며, 이로 인해 추후 면취 가공될 기판(G)이 스테이지(270a, 270b)에 잔존하는 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다.
여기서, 제어부는, 면취 가공이 완료된 기판(G)을 기판 언로딩유닛(280)으로 이송시키고 그리하여 기판(G)을 지지하고 있지 않은 스테이지(270a, 270b)가 다시 새로운 기판(G)을 로딩하기 위하여 기판 로딩유닛(210)으로 이동할 때 스테이지 세정유닛(230)을 작동시켜 스테이지(270a, 270b)의 표면에 잔존 가능한 이물을 제거하도록 하고, 또한 스테이지(270a, 270b)가 스테이지 세정유닛(230)의 분사 영역을 통과하면 스테이지 세정유닛(230)의 작동을 정지시키도록 스테이지 세정유닛(230)의 작동을 제어한다.
본 실시 예의 스테이지 세정유닛(230)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 스테이지(270a, 270b)의 이동 라인에 각각 배치되는 두 쌍의 단위 세정부(231a, 231b)와, 스테이지(270a, 270b)의 이동 방향의 가로 방향으로 배치되며 두 쌍의 단위 세정부(231a, 231b)가 결합되는 유닛프레임(245)을 구비한다. 단, 두 쌍의 단위 세정부(231a, 231b)는 실질적으로 동일한 구성을 갖기 때문에, 이하에서는 제1 스테이지(270a) 상부에 배치되는 한 쌍의 단위 세정부(231a)에 대해서만 설명하기로 한다.
한 쌍의 단위 세정부(231a)는, 도 5 및 도 6에 자세히 도시된 바와 같이, 이동 라인을 따라 이동 가능하게 배치되는 제1 스테이지(270a)의 상부에 배치되어 제1 스테이지(270a)의 상면 방향으로 세정을 위한 세정유체를 분사한다. 이 때 한 쌍 의 단위 세정부(231a)는 편평하게 마련되는 제1 스테이지(270a)의 상면에 잔존하는 이물질이 외측으로 이탈될 수 있도록 상호 대칭되는 각도로 경사지게 마련된다.
다시 말해, 세정유체의 분사 방향이 제1 스테이지(270a)의 상면의 면 방향과 경사지도록 함으로써 제1 스테이지(270a)의 상면에 잔존하는 이물질이 세정유체의 미는 힘에 의해 외측으로 이탈될 수 있도록 하는 것이다.
따라서, 단위 세정부(231a)가 세정유체의 분사 방향을 조절하여 스테이지(270a)에 잔존하는 이물질을 최대한 효율적으로 제거할 수 있도록 단위 세정부(231a)는 유닛프레임(245)에 대해 다방향으로 회동 가능하게 마련된다.
이러한 단위 세정부(231a)의 구체적인 구성에 대해서 설명하면, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본 실시 예의 단위 세정부(231a)는, 제1 스테이지(270a)로 세정유체를 분사하는 분사구가 마련되어 있는 분사 몸체부(232)와, 분사 몸체부(232)가 유닛프레임(245)에 대해 다방향으로 회동 가능하도록 분사 몸체부(232)를 유닛프레임(245)에 결합시키는 회동 결합부(240)를 구비한다.
분사 몸체부(232)는, 회동 결합부(240)에 대해 회동 가능하게 결합되는 회동부재(233)와, 회동부재(233)와 실질적으로 나란하게 회동부재(233)에 결합되며 상단부로부터 내측 방향으로 세정유체가 이동하는 이동공간(234s)이 함몰 형성되어 있는 분사부재(234)와, 분사부재(234)의 상면에 결합되어 분사부재(234)의 내부를 외부와 차폐하는 차폐부재(235)를 구비한다.
여기서, 분사부재(234)와 차폐부재(235)를 결합시키면, 도 8에 도시된 바와 같이, 그 선단부에 이동공간(234s)과 연통되는 슬릿(slit) 형상의 분사구(234h)가 마련되는데, 이러한 분사구(234h)를 통해 세정유체가 제1 스테이지(270a)의 상면으로 비스듬하게 분사되어 제1 스테이지(270a)의 이물질을 깨끗하게 제거할 수 있다.
먼저 회동부재(233)는, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 회동 결합부(240)에 대해 'θ1'방향으로 회동 가능하게 결합된다. 따라서, 분사부재(234)의 분사구(234h)를 통해 분사되는 세정유체의 분사 방향을 조절할 수 있다. 즉, 세정유체가 제1 스테이지(270a)에 잔존하는 이물질을 외측으로 밀어낼 수 있도록 제1 스테이지(270a)에 대한 분사부재(234)의 경사 각도를 용이하게 조절할 수 있는 것이다.
차폐부재(235)는, 분사부재(234)의 내측 부분을 보호하기 위해, 즉 외부의 이물질이 세정유체가 이동하는 분사부재(234)의 내측으로 침투하는 것을 방지하기 위해, 분사부재(234)의 상면에 결합된다. 또한, 차폐부재(235)는 분사부재(234)의 내측에 마련되는 구조들을 보호하면서도, 결합 및 분리가 용이하여 분사부재(234)의 내측 구조들에 대한 유지보수를 용이하게 할 수 있는 장점이 있다.
한편, 이러한 분사 몸체부(232)가 결합되는 회동 결합부(240)는, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 유닛프레임(245)에 체결되는 프레임 체결부재(241)와, 회동부재(233)가 축 중심으로 회동 가능하도록 회동부재(233)에 결합되는 회동 결합부재(242)와, 프레임 체결부재(241) 및 회동 결합부재(242) 사이에 결합되며 회동 결합부재(242)를 프레임 체결부재(241)에 대해 상대 회동시키는 연결부재(243)를 구비한다.
이러한 회동 결합부(240)의 구조에 의해, 전술한 바와 같이 분사 몸체 부(232)는 'θ1'방향으로 회동할 수 있을 뿐만 아니라, 프레임 체결부재(241)에 대해 회동 결합부재(242)가 'θ2'방향으로 상대 회동함으로써 분사 몸체부(232) 전체가 회동 결합부(240)에 대해 'θ2'방향으로 상대 회동할 수 있다. 따라서, 제1 스테이지(270a)에 대한 단위 세정부(231a)의 경사 각도를 적절히 조절함으로써 제1 스테이지(270a) 상에 잔존하는 이물질을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.
한편, 전술한 제1 스테이지(270a)의 세정 작업은 공정을 일시적으로 중단시키고 진행하는 것이 아니라 공정 중에 진행된다. 즉, 면취 가공된 기판(G)이 기판 언로딩유닛(280)으로 이송되어 기판(G)이 적재되지 않은 제1 스테이지(270a)는 추후 작업을 위해 이동 라인을 따라 다시 기판 로딩유닛(210) 방향으로 이동하게 되는데, 이 때 스테이지 세정유닛(230)이 동작하여 제1 스테이지(270a) 상에 잔존하는 이물질을 제거하는 것이다. 따라서, 기판(G)에 대한 면취 가공 공정의 택트타임(tact time)을 단축시킬 수 있으며, 이로 인해 전체적인 생산성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
한편, 본 실시 예에서는, 스테이지(270a, 270b)의 수에 대응되는 쌍 만큼의 단위 세정부(231a, 231b)가 유닛프레임(245)에 결합된다고 상술하였으나, 유닛프레임에 한 쌍의 단위 세정부가 이동 가능하도록 결합됨으로써 교번적으로 이동하는 복수의 스테이지에 대한 세정 작업을 진행할 수도 있을 것이다.
이하에서는 이러한 구성을 갖는 평면디스플레이용 면취기의 작동 과정에 대해 설명하기로 한다.
우선, 면취 가공 대상인 기판(G)이 기판 로딩유닛(210) 상의 롤러(212)를 통해 이송된 후 트랜스퍼(260a)에 의해 면취 가공유닛(220)의 제1 스테이지(270a)의 상면으로 안착된다. 제1 스테이지(270a)의 상면에 안착된 기판(G)은 제1 스테이지(270a)를 이루는 턴테이블(271) 및 가변테이블(273)의 표면에 형성된 진공홀을 통해 진공 흡입력이 제공됨에 따라 턴테이블(271) 및 가변테이블(273)의 표면에서 흡착 지지된다.
이와 같이 기판(G)이 제1 스테이지(270a)의 상면에 흡착 지지되고 나면 제1 스테이지(270a)는 X축 방향으로 이동한다(도 4 및 도 5 참조). 제1 스테이지(270a)의 상면에 안착된 상태로 X축 방향으로 이송되는 기판(G)은 얼라인 카메라(223)에 의해 얼라인 마크가 촬상되면서 얼라인 작업이 진행된다. 얼라인 작업이 진행되는 동안 휠 지지프레임(226)을 따라 슬라이딩 이동하는 면취 가공용 휠(225)은 기판(G)의 양측 전면 양 코너 부분 및 양측 단변 에지 가공을 위한 작업 위치로 이동하여 대기한다.
얼라인 작업이 완료된 후, 제1 스테이지(270a)는 면취 가공용 휠(225) 방향으로 이동하여 기판(G)의 양측 전면 양 코너 부분을 면취 가공하고 이어서 약간 후퇴한 후 다시 전진하여 양측 단변 에지 가공을 실행한다. 이후, 제1 스테이지(270a)는 후퇴하여 기판(G)의 양측 후면 양 코너 부분을 가공하고 이어서 양측 장변 에지 부분을 가공한다. 단, 기판(G)의 양측 장변 에지 가공을 위해 턴테이블(271) 및 가변테이블(273)을 동작시켜 기판(G)을 90도 회전시켜야 하며, 또한 면취 가공용 휠(225)의 폭을 조정해주어야 한다.
다음으로, 면취 가공이 완료된 기판(G)이 안착된 제1 스테이지(270a)는 기판 언로딩유닛(280) 방향으로 이동하고, 기판 언로딩유닛(280)의 전방에 설치되는 트랜스퍼(270b)에 의해 기판(G)은 기판 언로딩유닛(280)으로 이송된다. 기판(G)은 기판 언로딩유닛(280)의 롤러(282)를 따라 일방향으로 이송되고, 최종적으로 외부로 반출된다.
한편, 기판 언로딩유닛(280)으로 기판(G)이 이송되어 기판(G)을 적재하지 않은 제1 스테이지(270a)는 전술한 공정을 재수행하기 위해 기판 로딩유닛(210) 방향으로 이동한다. 그런데, 이 때 면취 가공 작업에 의해 발생된 이물질이 제1 스테이지(270a)의 상면에 잔존할 수 있기 때문에 기판(G)이 안착되는 제1 스테이지(270a)의 상면을 세정해주어야 한다.
따라서, 본 실시 예에서는 면취 가공유닛(220)과 기판 언로딩유닛(280) 사이에 스테이지 세정유닛(230)이 마련되어 기판 로딩유닛(210) 방향으로 이동하는 제1 스테이지(270a)의 표면에 세정을 위한 세정유체를 고르게 분사할 수 있으며 이로 인해 제1 스테이지(270a)의 표면에 잔존하는 이물을 제거할 수 있다. 이 때 스테이지 세정유닛(230)의 작동은 제어부에 의해 제어된다.
여기서 스테이지 세정유닛(230)의 한 쌍의 단위 세정부(231a)는 유닛프레임(245)에 대해 경사지게 마련되어 제1 스테이지(270a) 상에 잔존하는 이물질을 효과적으로 용이하게 제거할 수 있다. 또한, 이러한 세정 작업이 면취 가공 공정 중에 이루어지기 때문에 전체적인 작업 효율이 향상될 수 있다.
이와 같이, 본 실시 예에 의하면, 스테이지 세정유닛(230)에 의해 스테이 지(270a, 270b) 상부를 깨끗하게 세정함으로써 추후 로딩되는 기판(G)이 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 또한 기판 언로딩유닛(280)으로부터 기판 로딩유닛(210) 방향으로 스테이지(270a, 270b)가 이동할 때 세정 작업이 이루어짐으로써 세정 작업을 위한 별도의 시간이 소요되지 않아 택트타임(tact time)을 단축할 수 있고, 이로 인해 기판(G)에 대한 면취 가공 작업을 효율적으로 할 수 있는 효과가 있다.
전술한 실시 예에서는, 스테이지 세정유닛이 면취 가공유닛과 기판 언로딩 유닛 사이에 배치된다고 상술하였으나, 스테이지에 기판을 다시 로딩하기 전에 스테이지에 대한 세정 작업을 실행하면 되기 때문에 다른 위치, 가령 예를 들면 기판 로딩유닛과 면취 가공유닛 사이에 스테이지 세정유닛이 배치되어도 무방하다 할 것이다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정 예 또는 변형 예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
도 1은 종래의 일 실시 예에 따른 면취기의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 면취 가공되는 부분을 설명하기 위한 기판의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면디스플레이용 면취기에 대한 개략적인 평면도이다.
도 4 및 도 5는 각각 도 3의 부분 확대 사시도이다.
도 6은 스테이지의 상부에 마련된 스테이지 세정유닛의 장착 상태를 도시한 사시도이다.
도 7은 도 6에 도시된 단위 세정부의 사시도이다.
도 8은 도 7의 'Ⅷ-Ⅷ'선에 따른 단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
210 : 기판 로딩유닛 220 : 면취 가공유닛
230 : 스테이지 세정유닛 231a, 231b : 단위 세정부
245 : 유닛프레임 260a, 260b : 트랜스퍼
270a, 270b : 스테이지 280 : 기판 언로딩유닛
290 :면취량 측정유닛

Claims (10)

  1. 기판이 로딩되는 기판 로딩유닛(loading unit);
    상기 기판이 안착 지지되는 적어도 하나의 스테이지와, 상기 기판에 대한 면취 가공을 진행하는 그라인더를 구비하는 면취 가공유닛;
    상기 면취 가공유닛에 의해 면취 가공이 완료된 상기 기판이 언로딩되는 기판 언로딩유닛(unloading unit); 및
    상기 면취 가공유닛의 인접한 영역에 마련되며, 새로운 기판을 로딩하기 위하여 상기 기판 로딩유닛 방향으로 이동하는 상기 스테이지의 표면으로 상기 스테이지의 세정을 위한 세정유체를 분사하는 스테이지 세정유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지 세정유닛은,
    상기 스테이지의 이동 방향의 가로 방향을 따라 마련되는 유닛프레임; 및
    상기 스테이지의 상부 영역에서 상기 유닛프레임에 착탈 가능하게 결합되어 상기 스테이지의 표면으로 상기 세정유체를 분사하는 적어도 하나의 단위 세정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 단위 세정부로부터 상기 스테이지의 표면으로 분사되는 상기 세정유체가 상기 스테이지의 내측에서 외측 방향으로 분사될 수 있도록, 상기 단위 세정부는 유닛프레임에 경사지게 결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 단위 세정부는 상기 스테이지 하나당 한 쌍씩 마련되도록 상기 유닛프레임에 결합되며,
    상기 스테이지에 각각 마련되는 한 쌍의 상기 단위 세정부는 상호간 대칭되는 경사도를 갖도록 상기 유닛프레임에 경사지게 결합되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 단위 세정부는,
    상기 스테이지의 표면으로 상기 세정유체를 분사하는 분사구가 마련되어 있는 분사 몸체부; 및
    상기 분사 몸체부가 상기 유닛프레임에 대해 회동 가능하도록 상기 분사 몸체부를 상기 유닛프레임에 결합시키는 회동 결합부를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 분사 몸체부는,
    상기 회동 결합부에 대해 회동 가능하게 결합되는 회동부재; 및
    상기 회동부재와 실질적으로 나란한 방향을 갖도록 상기 회동부재에 결합되며, 상단부로부터 내측 방향으로 상기 세정유체가 이동하는 이동공간이 함몰 형성되어 있는 분사부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 분사 몸체부는,
    상기 분사부재의 상단부에 결합되어 상기 분사부재의 내부를 외부와 차폐하는 차폐부재를 더 포함하며,
    상기 분사구는 상기 분사부재의 선단부와 상기 차폐부재의 선단부가 상호 이격되게 결합되어 슬릿(slit) 형상으로 마련되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 회동 결합부는,
    상기 유닛프레임에 결합되는 프레임 체결부재;
    상기 회동부재가 축 중심으로 회동 가능하도록 상기 회동부재에 결합되는 회동 결합부재; 및
    상기 회동부재의 길이 방향의 가로 방향으로 마련되며, 상기 회동 결합부재 를 상기 프레임 체결부재에 대해 상대 회동 가능하게 상기 프레임 체결부재 및 상기 회동 결합부재 간을 연결시키는 연결부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지 세정유닛은 상기 면취 가공유닛과 상기 기판 언로딩 유닛 사이에 마련되는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
  10. 제1항에 있어서,
    면취 가공이 완료된 상기 기판이 상기 기판 언로딩유닛으로 이송되고 상기 스테이지가 상기 기판 로딩유닛 방향으로 이동될 때, 상기 스테이지 세정유닛으로부터 상기 세정유체가 분사되도록 상기 스테이지 세정유닛의 동작을 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평면디스플레이용 면취기.
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CN109048634B (zh) * 2018-10-10 2019-09-03 东旭集团有限公司 上下料设备以及曲面玻璃抛光机
CN111993206B (zh) * 2020-08-19 2022-06-14 安徽荣程玻璃制品有限公司 一种用于玻璃加工的边角打磨装置
CN116619055B (zh) * 2023-07-25 2023-09-29 无锡普莱赛斯实业有限公司 一种数控机床多功能机架

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3784887B2 (ja) 1996-07-03 2006-06-14 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送装置
KR100493766B1 (ko) * 1998-04-30 2005-08-01 삼성전자주식회사 액정표시장치 제조용 식각설비의 기판 이송 툴 및 이의 기판이송방법
KR100832293B1 (ko) * 2002-03-20 2008-05-26 엘지디스플레이 주식회사 액정 패널의 연마대 및 이를 이용한 연마장치
JP4013778B2 (ja) * 2003-02-04 2007-11-28 坂東機工株式会社 ガラス板の加工装置
KR20060004804A (ko) * 2004-07-08 2006-01-16 한국항공우주산업 주식회사 항공기 동체 비상 운반장치
JP2006110642A (ja) * 2004-10-12 2006-04-27 Shiraitekku:Kk 研磨装置

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